JP2004252313A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004252313A JP2004252313A JP2003044414A JP2003044414A JP2004252313A JP 2004252313 A JP2004252313 A JP 2004252313A JP 2003044414 A JP2003044414 A JP 2003044414A JP 2003044414 A JP2003044414 A JP 2003044414A JP 2004252313 A JP2004252313 A JP 2004252313A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin plate
- mask
- exposure
- holes
- marks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】感光性レジストが形成された薄板の表面に、マスクパターンを光照射にて転写する際、薄板の露光範囲の全領域にわたり、露光範囲とマスクパターンとの位置合わせが好適に行えるようにした露光装置を提供すること。
【解決手段】薄板1の露光範囲に孔1a,1bが設けられ、マスク2にマーク2a,2bが設けられている。孔1a,1bの重心とマーク2a,2bの重心が一致し、孔1a,1bとマーク2a,2bが一直線上になると、露光範囲とマスクパターンとの完全な位置合わせ状態となる。この状態が得られないときは、先ず、CCDカメラで孔1aとマーク2a間、及び孔1bとマーク2b間の位置ずれを読み取り、それらの位置ずれ値から露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、その4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値,位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内となるように、薄板1とマスク2の位置合わせを行ってから、露光するようになっている。
【選択図】 図2
【解決手段】薄板1の露光範囲に孔1a,1bが設けられ、マスク2にマーク2a,2bが設けられている。孔1a,1bの重心とマーク2a,2bの重心が一致し、孔1a,1bとマーク2a,2bが一直線上になると、露光範囲とマスクパターンとの完全な位置合わせ状態となる。この状態が得られないときは、先ず、CCDカメラで孔1aとマーク2a間、及び孔1bとマーク2b間の位置ずれを読み取り、それらの位置ずれ値から露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、その4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値,位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内となるように、薄板1とマスク2の位置合わせを行ってから、露光するようになっている。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リードフレームやプリント基板等の製造工程において、薄板材料にマスクパターンを転写することで、微細加工を可能にする露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子部品用のリードフレームやプリント基板等の製作に用いられる薄板は、長尺状態で加工され、複数の電子部品と一体化した後、個々の部品単位で切断される場合が多い。また、その場合、加工工程において、薄板の感光レジスト面にマスクパターンを転写するときは、長さ方向に間欠的に搬送される薄板に対し、同一マスクを用いて、順に露光していくことになるが、その場合における一回の露光領域(以下、露光範囲という)は、全体として略方形であることが多い。そのため、その露光範囲において方向を示す場合は、横方向,縦方向と称するのが適当であるが、以下の説明では、便宜的に、上記の横方向を、搬送方向やx方向と称したり、それと直交する上記の縦方向を、幅方向やy方向と称したりするようにする。
【0003】
ところで、上記のように、加工材料である薄板にマスクパターンを光照射にて転写する場合、露光範囲とマスクパターンとの位置合わせ、言い換えれば薄板とマスクとの位置合わせをする必要がある。なぜならば、上記したように、薄板が搬送される場合、搬送装置から受ける振動などによって、露光ステージにおける薄板の停止状態が一定せず、送りすぎ,送り不足,傾きなどがまちまちに生じてしまい、そのままの状態で転写すると、以後の電子部品との一体化工程に支障を来たしてしまうことがあるからである。そのため、従来から露光装置には、露光範囲とマスクパターンとの位置合わせを行える機能が備えられている。
【0004】
このように、露光に先だって、薄板の露光範囲とマスクの転写パターンとを位置合わせする場合、従来の露光装置では、次のようにして行っている。先ず、
a 予め薄板の一回の露光範囲に2箇所の位置合わせ孔を設け、
b マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークを設けておき、
c CCDカメラで上記孔と上記マーク間の位置ずれ(x1,y1)、(x2,y2)を読み取る。
ここで、上記のx1,y1は、第1の孔における薄板横方向と薄板幅方向の位置ずれ値であり、x2,y2は、第2の孔における同様の位置ずれ値である。
【0005】
そして、次に、これらの値から、マスクと薄板の露光範囲の中心におけるずれ量が計算される。例えば、第1の孔,第2の孔が、露光範囲の横方向中央で、幅方向両端にある場合は、(x1+x2)/2、(y1+y2)/2、(y1−y2)が、それぞれマスクと薄板の露光中心における横方向ずれ、幅方向ずれ、傾きに相当することになる。そして、これら3つの値が規定値以内になるように、マスクと薄板の位置合わせを行っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、微細パターンを一回の露光範囲の全領域にわたって形成するためには、その全領域において、位置ずれ量が規定値以内となることが必要である。しかしながら、従来の露光装置では、上記のように、露光範囲の中央領域での位置ずれ量と傾き量で評価していたため、露光範囲の隅の領域における実際の位置ずれ量は、規定値以内となる場合もあるが、規定値外になってしまう場合もある。そこで、上記のように、微細パターンを露光範囲の全領域にわたって形成する場合には、露光範囲の中央領域での位置ずれ量の規定値を出来るだけ小さく設定することによって、結果として露光範囲の全領域での位置ずれ量が規定値以内に納まるようにしている。しかしながら、このような従来の方法では、露光範囲の全領域での位置ずれ量を確認した上で位置合わせを行っていないため、依然として、隅領域での位置ずれ量が規定値以内となっているかどうかが不明確であるし、位置ずれ量の許容範囲を非常に狭く設定することから、位置合わせにかなり時間が掛かってしまう等の問題点がある。
【0007】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、感光性レジストが形成された薄板の表面に、マスクパターンを光照射にて転写する露光装置であって、露光範囲の全領域での位置ずれ量、特に最も位置ずれの大きくなる4隅での位置ずれ量を、規定値以内に確実に位置合わせすることの可能な露光装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の露光装置は、薄板に1枚のマスクで片面露光する場合は、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c CCDカメラで上記孔と上記位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
d その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
この4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値及び位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように薄板とマスクの位置合わせを行って露光するようにする。
【0009】
また、2枚のマスクを使用して、薄板の両面に同時に露光する場合は、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b 第1マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c 両マスクの相対する2箇所の位置にそれぞれ相互に位置合わせするマークがあり、
d CCDカメラで上記孔と上記第1マスクの位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
e その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
f CCDカメラで上記両マスクの相互に位置合わせするマーク間の位置ずれを読み取り、
g 上記e,fの位置ずれにより薄板と第2マスクの4隅の位置ずれを計算し、
上記e,f,gの各4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値、位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように両マスクの位置合わせを行って露光するようにする。その場合、第2マスクと薄板の位置ずれは、第1マスクと薄板の位置ずれと、第1マスクと第2マスクの位置ずれとの和で計算される。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、図1及び図2を用いて説明する。尚、図1は、薄板とマスクとが、位置ずれのない完全な位置合わせ状態にある場合を示した説明図であり、図2は、薄板とマスクとが、位置ずれ状態にある場合の一例を示した説明図である。尚、図2は、薄板の両面に、二つのマスクを用いて同時に露光するようにしたときの、三者の位置合わ方法を説明する場合にも用いるが、図面が煩雑になることと、説明を理解するのに支障がないことから、図2には一つのマスクしか示されていない。
【0011】
図1及び図2において、ドットで示した長尺の薄板1は、実際には露光範囲ごとに二つの貫通した略円形の孔を有しているが、各図においては、それらのうちの一つの露光範囲に設けられた孔1a,1bだけを示している。そして、それらの孔1a,1bは、その中心を位置合わせのための基準位置としている。また、白抜きで示した長方形のマスク2は、上記の二つの孔1a,1bにそれぞれ対応させる十字形の二つの位置合わせマーク2a,2bを有しており、その交差位置を位置合わせのための基準位置としている。更に、この実施の態様の説明には、座標や数式を用いるが、座標は、図1におけるマスク2の中心(マーク2a,2bの重心)を原点とし、各図において、原点の右方向が+x、上方向が+yである。また、記号M及びNは、それぞれ、マスク2の位置合わせマーク2a,2b間のx方向の距離及びy方向の距離である。
【0012】
先ず、図1は、薄板1に設けられている孔1a,1bとマスク2のマーク2a,2bとを、位置ずれなしで位置合わせした場合を示している。このように、薄板1とマスク2の位置が完全に一致したときは、二つの孔1a,1bの重心と二つのマーク2a,2bの重心は一致し、且つそれらの孔位置とマーク位置の4点は一直線上に配列される。このとき、孔位置とマーク位置が完全に同位置で重ならないのは、孔間距離とマーク間距離の違いに起因している。そして、このような位置ずれのない状態が、CCDカメラで撮影された画像によって確認された場合は、この状態で露光が行われる。
【0013】
次に、図2は、薄板1とマスク2の位置がずれたときの一例を示している。このような配置関係にある孔1a,1bとマーク2a,2bが、CCDカメラによって同一画面に撮影されると、これを画像処理することによって、マーク位置での位置ずれ(dx1,dy1),(dx2,dy2)を読み取る。そして、それらの値から、マスク上の任意の点(u,v)の位置ずれ量を計算すると、δx=−v×sinθ+α、δy=u×sinθ+βが得られる。ここで、αは、(dx1+dx2)/2であって、マスク中心(原点)でのx方向の位置ずれに相当し、βは、(dy1+dy2)/2であって、マスク中心でのy方向の位置ずれに相当し、sinθは、−[M×(dy1−dy2)+N(dx1−dx2)]/(M×M+N×N)であって、傾きに相当する。そして、δx、δyの式は、位置ずれ評価位置座標に比例する項である−v×sinθ、u×sinθを有しているので、位置ずれは、u,vの絶対値が最も大きい場合すなわち露光範囲の4隅で、最大値または最小値をもつことになる。
【0014】
また、露光範囲のx方向の距離をS、y方向の距離をTとすると、露光範囲の4隅における位置座標は、(±S/2,±T/2)であるから、最大あるいは最小の位置ずれ量は、x方向が(±S/2)×sinθ+α、y方向は(±T/2)×sinθ+βで与えられる。両式ともに、第1項が回転、第2項がx方向あるいはy方向の平行移動となっている。そして、位置ずれ距離は、δx×δx+δy×δyの平方根で与えられるので、これを位置ずれ距離の判定式として使用する。
【0015】
これまでは、薄板1の片面に露光する場合を前提にし、薄板1とマスク2の位置合わせに用いる判定式を説明したが、このような式は、薄板1の片面に露光した後に、他方の面に露光する場合にも適用することができることは言うまでもない。さらに、これらの算定式は、二つのマスクを用いて薄板1の両面に同時に露光する場合にも適用することができる。その場合、薄板と第1マスクとの間の位置ずれには、上記と同様に、孔1a,1bとマーク2a,2bを使用するが、第1マスクと第2マスクとの間の位置ずれには、両方のマスクに設けられた相互の位置合わせマークを使用して位置合わせをすることになる。そして、その場合には、薄板と第2マスクとの位置ずれ量は、(薄板と第1マスクの位置ずれ量)−(第1マスクと第2マスクの位置ずれ量)の算出値で評価することができる。
【0016】
【実施例】
次に、上記の方法で実際に試験してみた例を実施例として説明する。先ず、片面露光の場合の実施例を説明する。露光する薄板材料としては、薄いポリイミドの両面に形成した厚さ18μmの銅箔に感光性のドライフィルムをラミネートした、幅250mm、厚さ0.15mmの長尺材を用いた。薄板材料には、図1,図2に示した配置で、直径0.5mmの二つの孔を開口した。二つの孔の幅方向の間隔は230mmであり、搬送方向については同じ位置である。
【0017】
また、マスクには、それらの孔に対応させる位置に、図1,図2に示されているようにして十字形の位置合わせマークを描画した。したがって、この場合には、上記の一般式で、N=230mm、M=0mmの場合に相当する。その場合、4隅における位置ずれ量は、x方向がAX=±(dx1−dx2)+(dx1+dx2)/2、y方向が、AY=±(dx1−dx2)/2+(dy1+dy2)/2となる。したがって、位置ずれ規定値をaμmとすると、−a<AX<a、−a<AY<aが判定式となる。
【0018】
そこで、a=3μmとして、薄板材料の片面に所定のパターンを50ショット露光した。露光後、5ショットの試料について、露光範囲の4隅を、上記の位置合わせ孔との位置関係で測定した結果、x方向とy方向の位置ずれの最大量は、いずれも2.9μmであった。また、これと比較するため、上記の従来方法で、すなわち、−a<(dx1+dx2)/2<a、−a<(dy1+dy2)/2<a、−a<(dx1−dx2)/2<aを判定式として露光を行い、露光されたパターンを同様の方法で評価した。その結果、最大の位置ずれ量は、4.3μmであった。
【0019】
次に、二つのマスクを用い、両面に同時に露光した場合の実施例を説明する。露光する薄板材料としては、上記の片面露光の場合と全く同じものを用いた。また、この場合には、薄板材料の表側に第1マスクを配置し、裏側に第2マスクを配置したが、第1マスクは、上記の片面露光の場合におけるマスクの特徴を全て備えいているほか、図2に例示されているように、右上隅と左下隅には黒丸の位置合わせマーク2c,2dが描画されている。さらに、図示されていない第2マスクにも、第1マスクの位置合わせマーク2c,2dと対応する右上隅と左下隅に、前述の黒丸よりも直径が大きい白丸の位置合わせマークが描画されている。
【0020】
そして、薄板材料と第1マスクの位置合わせには、片面露光の場合と同じ判定式を用いた。他方、第1マスクと第2マスクの位置合わせの場合は、計算式は、BX=(±S′/2)×sinθ′+(dx1′+dx2′)/2、BY=(±T′/2)×sinθ′+(dy1′+dy2′)/2,sinθ′=−[M′×(dy1′−dy2′)+N′(dx1′−dx2′)]/(M′×M′+N′×N′)となり、x方向は−a<BX<a、y方向は−a<BY<a、が判定式となる。ここで、M′=200mm、N′=260mm、S′=230mm、T′=230mmである。被露光材料とマスク2の露光範囲4隅における位置ずれは、x方向位置ずれにはCX=AX−BX、y方向位置ずれはCY=AY−BYで得られる。従って、−a<AX−BX<a、−a<AY−BY<aが判定式となる。
【0021】
位置ずれに対してより厳しく任意の方向に対する位置ずれ量を規定値以内にするために、AX2+AY2,BX2+BY2,CX2+CY2のそれぞれの平方根が位置ずれ距離になるので、これらの値がa未満になるように位置合わせをする。以上述べた判定式で、a=3μmにて両面露光を行った。露光されたパターンと被露光材料の位置合わせ孔との位置ずれを、露光5ショットのそれぞれの4隅で測定したところ、位置ずれ距離の最大値は2.9μmであった。
【0022】
尚、これまでの説明では、被露光材料である薄板が長尺材料であって、その長さ方向に、マスクを介して転写パターンが一列に露光されていく場合を前提にして説明したが、本発明は、そのような場合に限定されず、方形をした大きな薄板をx,y方向に移動させ、その表面に、網の目状に転写パターンを順に露光する場合にも適用することが可能である。
【0023】
【発明の効果】
以上のように、本発明の露光装置は、露光範囲内で最大の位置ずれを発生させる4隅の位置ずれ量を評価対象にして、薄板材料とマスクとの露光位置合わせを行うので、露光される全領域で、高精度な位置合わせが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】薄板とマスクとが、完全な位置合わせ状態にある場合を示した説明図である。
【図2】薄板とマスクとが、位置ずれ状態にある場合の一例を示した説明図である。
【符号の説明】
1 薄板
1a,1b 孔
2 マスク
2a,2b,2c,2d マーク
【発明の属する技術分野】
本発明は、リードフレームやプリント基板等の製造工程において、薄板材料にマスクパターンを転写することで、微細加工を可能にする露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子部品用のリードフレームやプリント基板等の製作に用いられる薄板は、長尺状態で加工され、複数の電子部品と一体化した後、個々の部品単位で切断される場合が多い。また、その場合、加工工程において、薄板の感光レジスト面にマスクパターンを転写するときは、長さ方向に間欠的に搬送される薄板に対し、同一マスクを用いて、順に露光していくことになるが、その場合における一回の露光領域(以下、露光範囲という)は、全体として略方形であることが多い。そのため、その露光範囲において方向を示す場合は、横方向,縦方向と称するのが適当であるが、以下の説明では、便宜的に、上記の横方向を、搬送方向やx方向と称したり、それと直交する上記の縦方向を、幅方向やy方向と称したりするようにする。
【0003】
ところで、上記のように、加工材料である薄板にマスクパターンを光照射にて転写する場合、露光範囲とマスクパターンとの位置合わせ、言い換えれば薄板とマスクとの位置合わせをする必要がある。なぜならば、上記したように、薄板が搬送される場合、搬送装置から受ける振動などによって、露光ステージにおける薄板の停止状態が一定せず、送りすぎ,送り不足,傾きなどがまちまちに生じてしまい、そのままの状態で転写すると、以後の電子部品との一体化工程に支障を来たしてしまうことがあるからである。そのため、従来から露光装置には、露光範囲とマスクパターンとの位置合わせを行える機能が備えられている。
【0004】
このように、露光に先だって、薄板の露光範囲とマスクの転写パターンとを位置合わせする場合、従来の露光装置では、次のようにして行っている。先ず、
a 予め薄板の一回の露光範囲に2箇所の位置合わせ孔を設け、
b マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークを設けておき、
c CCDカメラで上記孔と上記マーク間の位置ずれ(x1,y1)、(x2,y2)を読み取る。
ここで、上記のx1,y1は、第1の孔における薄板横方向と薄板幅方向の位置ずれ値であり、x2,y2は、第2の孔における同様の位置ずれ値である。
【0005】
そして、次に、これらの値から、マスクと薄板の露光範囲の中心におけるずれ量が計算される。例えば、第1の孔,第2の孔が、露光範囲の横方向中央で、幅方向両端にある場合は、(x1+x2)/2、(y1+y2)/2、(y1−y2)が、それぞれマスクと薄板の露光中心における横方向ずれ、幅方向ずれ、傾きに相当することになる。そして、これら3つの値が規定値以内になるように、マスクと薄板の位置合わせを行っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、微細パターンを一回の露光範囲の全領域にわたって形成するためには、その全領域において、位置ずれ量が規定値以内となることが必要である。しかしながら、従来の露光装置では、上記のように、露光範囲の中央領域での位置ずれ量と傾き量で評価していたため、露光範囲の隅の領域における実際の位置ずれ量は、規定値以内となる場合もあるが、規定値外になってしまう場合もある。そこで、上記のように、微細パターンを露光範囲の全領域にわたって形成する場合には、露光範囲の中央領域での位置ずれ量の規定値を出来るだけ小さく設定することによって、結果として露光範囲の全領域での位置ずれ量が規定値以内に納まるようにしている。しかしながら、このような従来の方法では、露光範囲の全領域での位置ずれ量を確認した上で位置合わせを行っていないため、依然として、隅領域での位置ずれ量が規定値以内となっているかどうかが不明確であるし、位置ずれ量の許容範囲を非常に狭く設定することから、位置合わせにかなり時間が掛かってしまう等の問題点がある。
【0007】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、感光性レジストが形成された薄板の表面に、マスクパターンを光照射にて転写する露光装置であって、露光範囲の全領域での位置ずれ量、特に最も位置ずれの大きくなる4隅での位置ずれ量を、規定値以内に確実に位置合わせすることの可能な露光装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の露光装置は、薄板に1枚のマスクで片面露光する場合は、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c CCDカメラで上記孔と上記位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
d その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
この4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値及び位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように薄板とマスクの位置合わせを行って露光するようにする。
【0009】
また、2枚のマスクを使用して、薄板の両面に同時に露光する場合は、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b 第1マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c 両マスクの相対する2箇所の位置にそれぞれ相互に位置合わせするマークがあり、
d CCDカメラで上記孔と上記第1マスクの位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
e その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
f CCDカメラで上記両マスクの相互に位置合わせするマーク間の位置ずれを読み取り、
g 上記e,fの位置ずれにより薄板と第2マスクの4隅の位置ずれを計算し、
上記e,f,gの各4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値、位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように両マスクの位置合わせを行って露光するようにする。その場合、第2マスクと薄板の位置ずれは、第1マスクと薄板の位置ずれと、第1マスクと第2マスクの位置ずれとの和で計算される。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、図1及び図2を用いて説明する。尚、図1は、薄板とマスクとが、位置ずれのない完全な位置合わせ状態にある場合を示した説明図であり、図2は、薄板とマスクとが、位置ずれ状態にある場合の一例を示した説明図である。尚、図2は、薄板の両面に、二つのマスクを用いて同時に露光するようにしたときの、三者の位置合わ方法を説明する場合にも用いるが、図面が煩雑になることと、説明を理解するのに支障がないことから、図2には一つのマスクしか示されていない。
【0011】
図1及び図2において、ドットで示した長尺の薄板1は、実際には露光範囲ごとに二つの貫通した略円形の孔を有しているが、各図においては、それらのうちの一つの露光範囲に設けられた孔1a,1bだけを示している。そして、それらの孔1a,1bは、その中心を位置合わせのための基準位置としている。また、白抜きで示した長方形のマスク2は、上記の二つの孔1a,1bにそれぞれ対応させる十字形の二つの位置合わせマーク2a,2bを有しており、その交差位置を位置合わせのための基準位置としている。更に、この実施の態様の説明には、座標や数式を用いるが、座標は、図1におけるマスク2の中心(マーク2a,2bの重心)を原点とし、各図において、原点の右方向が+x、上方向が+yである。また、記号M及びNは、それぞれ、マスク2の位置合わせマーク2a,2b間のx方向の距離及びy方向の距離である。
【0012】
先ず、図1は、薄板1に設けられている孔1a,1bとマスク2のマーク2a,2bとを、位置ずれなしで位置合わせした場合を示している。このように、薄板1とマスク2の位置が完全に一致したときは、二つの孔1a,1bの重心と二つのマーク2a,2bの重心は一致し、且つそれらの孔位置とマーク位置の4点は一直線上に配列される。このとき、孔位置とマーク位置が完全に同位置で重ならないのは、孔間距離とマーク間距離の違いに起因している。そして、このような位置ずれのない状態が、CCDカメラで撮影された画像によって確認された場合は、この状態で露光が行われる。
【0013】
次に、図2は、薄板1とマスク2の位置がずれたときの一例を示している。このような配置関係にある孔1a,1bとマーク2a,2bが、CCDカメラによって同一画面に撮影されると、これを画像処理することによって、マーク位置での位置ずれ(dx1,dy1),(dx2,dy2)を読み取る。そして、それらの値から、マスク上の任意の点(u,v)の位置ずれ量を計算すると、δx=−v×sinθ+α、δy=u×sinθ+βが得られる。ここで、αは、(dx1+dx2)/2であって、マスク中心(原点)でのx方向の位置ずれに相当し、βは、(dy1+dy2)/2であって、マスク中心でのy方向の位置ずれに相当し、sinθは、−[M×(dy1−dy2)+N(dx1−dx2)]/(M×M+N×N)であって、傾きに相当する。そして、δx、δyの式は、位置ずれ評価位置座標に比例する項である−v×sinθ、u×sinθを有しているので、位置ずれは、u,vの絶対値が最も大きい場合すなわち露光範囲の4隅で、最大値または最小値をもつことになる。
【0014】
また、露光範囲のx方向の距離をS、y方向の距離をTとすると、露光範囲の4隅における位置座標は、(±S/2,±T/2)であるから、最大あるいは最小の位置ずれ量は、x方向が(±S/2)×sinθ+α、y方向は(±T/2)×sinθ+βで与えられる。両式ともに、第1項が回転、第2項がx方向あるいはy方向の平行移動となっている。そして、位置ずれ距離は、δx×δx+δy×δyの平方根で与えられるので、これを位置ずれ距離の判定式として使用する。
【0015】
これまでは、薄板1の片面に露光する場合を前提にし、薄板1とマスク2の位置合わせに用いる判定式を説明したが、このような式は、薄板1の片面に露光した後に、他方の面に露光する場合にも適用することができることは言うまでもない。さらに、これらの算定式は、二つのマスクを用いて薄板1の両面に同時に露光する場合にも適用することができる。その場合、薄板と第1マスクとの間の位置ずれには、上記と同様に、孔1a,1bとマーク2a,2bを使用するが、第1マスクと第2マスクとの間の位置ずれには、両方のマスクに設けられた相互の位置合わせマークを使用して位置合わせをすることになる。そして、その場合には、薄板と第2マスクとの位置ずれ量は、(薄板と第1マスクの位置ずれ量)−(第1マスクと第2マスクの位置ずれ量)の算出値で評価することができる。
【0016】
【実施例】
次に、上記の方法で実際に試験してみた例を実施例として説明する。先ず、片面露光の場合の実施例を説明する。露光する薄板材料としては、薄いポリイミドの両面に形成した厚さ18μmの銅箔に感光性のドライフィルムをラミネートした、幅250mm、厚さ0.15mmの長尺材を用いた。薄板材料には、図1,図2に示した配置で、直径0.5mmの二つの孔を開口した。二つの孔の幅方向の間隔は230mmであり、搬送方向については同じ位置である。
【0017】
また、マスクには、それらの孔に対応させる位置に、図1,図2に示されているようにして十字形の位置合わせマークを描画した。したがって、この場合には、上記の一般式で、N=230mm、M=0mmの場合に相当する。その場合、4隅における位置ずれ量は、x方向がAX=±(dx1−dx2)+(dx1+dx2)/2、y方向が、AY=±(dx1−dx2)/2+(dy1+dy2)/2となる。したがって、位置ずれ規定値をaμmとすると、−a<AX<a、−a<AY<aが判定式となる。
【0018】
そこで、a=3μmとして、薄板材料の片面に所定のパターンを50ショット露光した。露光後、5ショットの試料について、露光範囲の4隅を、上記の位置合わせ孔との位置関係で測定した結果、x方向とy方向の位置ずれの最大量は、いずれも2.9μmであった。また、これと比較するため、上記の従来方法で、すなわち、−a<(dx1+dx2)/2<a、−a<(dy1+dy2)/2<a、−a<(dx1−dx2)/2<aを判定式として露光を行い、露光されたパターンを同様の方法で評価した。その結果、最大の位置ずれ量は、4.3μmであった。
【0019】
次に、二つのマスクを用い、両面に同時に露光した場合の実施例を説明する。露光する薄板材料としては、上記の片面露光の場合と全く同じものを用いた。また、この場合には、薄板材料の表側に第1マスクを配置し、裏側に第2マスクを配置したが、第1マスクは、上記の片面露光の場合におけるマスクの特徴を全て備えいているほか、図2に例示されているように、右上隅と左下隅には黒丸の位置合わせマーク2c,2dが描画されている。さらに、図示されていない第2マスクにも、第1マスクの位置合わせマーク2c,2dと対応する右上隅と左下隅に、前述の黒丸よりも直径が大きい白丸の位置合わせマークが描画されている。
【0020】
そして、薄板材料と第1マスクの位置合わせには、片面露光の場合と同じ判定式を用いた。他方、第1マスクと第2マスクの位置合わせの場合は、計算式は、BX=(±S′/2)×sinθ′+(dx1′+dx2′)/2、BY=(±T′/2)×sinθ′+(dy1′+dy2′)/2,sinθ′=−[M′×(dy1′−dy2′)+N′(dx1′−dx2′)]/(M′×M′+N′×N′)となり、x方向は−a<BX<a、y方向は−a<BY<a、が判定式となる。ここで、M′=200mm、N′=260mm、S′=230mm、T′=230mmである。被露光材料とマスク2の露光範囲4隅における位置ずれは、x方向位置ずれにはCX=AX−BX、y方向位置ずれはCY=AY−BYで得られる。従って、−a<AX−BX<a、−a<AY−BY<aが判定式となる。
【0021】
位置ずれに対してより厳しく任意の方向に対する位置ずれ量を規定値以内にするために、AX2+AY2,BX2+BY2,CX2+CY2のそれぞれの平方根が位置ずれ距離になるので、これらの値がa未満になるように位置合わせをする。以上述べた判定式で、a=3μmにて両面露光を行った。露光されたパターンと被露光材料の位置合わせ孔との位置ずれを、露光5ショットのそれぞれの4隅で測定したところ、位置ずれ距離の最大値は2.9μmであった。
【0022】
尚、これまでの説明では、被露光材料である薄板が長尺材料であって、その長さ方向に、マスクを介して転写パターンが一列に露光されていく場合を前提にして説明したが、本発明は、そのような場合に限定されず、方形をした大きな薄板をx,y方向に移動させ、その表面に、網の目状に転写パターンを順に露光する場合にも適用することが可能である。
【0023】
【発明の効果】
以上のように、本発明の露光装置は、露光範囲内で最大の位置ずれを発生させる4隅の位置ずれ量を評価対象にして、薄板材料とマスクとの露光位置合わせを行うので、露光される全領域で、高精度な位置合わせが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】薄板とマスクとが、完全な位置合わせ状態にある場合を示した説明図である。
【図2】薄板とマスクとが、位置ずれ状態にある場合の一例を示した説明図である。
【符号の説明】
1 薄板
1a,1b 孔
2 マスク
2a,2b,2c,2d マーク
Claims (2)
- 感光性レジストが形成された薄板の表面に、マスクパターンを光照射にて転写する露光装置において、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c CCDカメラで上記孔と上記位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
d その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
この4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値及び位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように薄板とマスクの位置合わせを行って露光することを特徴とする露光装置。 - 感光性レジストが形成された薄板の両面に、それぞれのマスクパターンを同時に光照射にて転写する露光装置において、
a 薄板の一回の露光範囲に2箇所の孔があり、
b 第1マスクの上記孔に対応させる位置にそれぞれ位置合わせマークがあり、
c 両マスクの相対する2箇所の位置にそれぞれ相互に位置合わせするマークがあり、
d CCDカメラで上記孔と上記第1マスクの位置合わせマーク間の位置ずれを読み取り、
e その2箇所における位置ずれ値から上記露光範囲の4隅の位置ずれを計算し、
f CCDカメラで上記両マスクの相互に位置合わせするマーク間の位置ずれを読み取り、
g 上記e,fの位置ずれにより薄板と第2マスクの4隅の位置ずれを計算し、
上記e,f,gの各4隅の位置ずれの、薄板横方向値、薄板縦方向値、位置ずれ距離が、それぞれ規定値以内になるように両マスクの位置合わせを行って露光することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003044414A JP2004252313A (ja) | 2003-02-21 | 2003-02-21 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003044414A JP2004252313A (ja) | 2003-02-21 | 2003-02-21 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004252313A true JP2004252313A (ja) | 2004-09-09 |
Family
ID=33027118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003044414A Pending JP2004252313A (ja) | 2003-02-21 | 2003-02-21 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004252313A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007024121A1 (de) * | 2007-05-24 | 2008-11-27 | Süss Micro Tec Lithography GmbH | Ausrichten zweier Substrate mit jeweils zwei Justiermarken |
DE102007046850A1 (de) * | 2007-09-29 | 2009-04-09 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Struktur und Verfahren zum Bestimmen einer Überlagerungsgenauigkeit |
JP2012103500A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | V Technology Co Ltd | フィルム露光方法 |
CN107525477A (zh) * | 2016-06-22 | 2017-12-29 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种五点识别ccd方法 |
CN115119409A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 苏州东山精密制造股份有限公司 | 精细柔性线路板及其制作方法 |
-
2003
- 2003-02-21 JP JP2003044414A patent/JP2004252313A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007024121A1 (de) * | 2007-05-24 | 2008-11-27 | Süss Micro Tec Lithography GmbH | Ausrichten zweier Substrate mit jeweils zwei Justiermarken |
DE102007046850A1 (de) * | 2007-09-29 | 2009-04-09 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Struktur und Verfahren zum Bestimmen einer Überlagerungsgenauigkeit |
US7666559B2 (en) | 2007-09-29 | 2010-02-23 | GlobalFoundries, Inc. | Structure and method for determining an overlay accuracy |
DE102007046850B4 (de) * | 2007-09-29 | 2014-05-22 | Globalfoundries Dresden Module One Limited Liability Company & Co. Kg | Verfahren zum Bestimmen einer Überlagerungsgenauigkeit |
JP2012103500A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | V Technology Co Ltd | フィルム露光方法 |
CN107525477A (zh) * | 2016-06-22 | 2017-12-29 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种五点识别ccd方法 |
CN107525477B (zh) * | 2016-06-22 | 2019-09-20 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种五点识别ccd方法 |
CN115119409A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-09-27 | 苏州东山精密制造股份有限公司 | 精细柔性线路板及其制作方法 |
CN115119409B (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-11 | 苏州东山精密制造股份有限公司 | 精细柔性线路板及其制作方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6165658A (en) | Nonlinear image distortion correction in printed circuit board manufacturing | |
JP4646661B2 (ja) | プリント配線基板印刷方法と実装方法ならびにプログラム | |
TWI386124B (zh) | 多層電路基板製造用之標記裝置 | |
US8271919B2 (en) | Method for correcting image rendering data, method for rendering image, method for manufacturing wiring board, and image rendering system | |
KR100890133B1 (ko) | 노광장치 | |
JP2006278648A (ja) | 両面露光方法 | |
JP2013071455A (ja) | 印刷回路基板及びその製造方法 | |
JP2007102093A (ja) | フォトマスク及びそれを用いた露光方法 | |
JP2004252313A (ja) | 露光装置 | |
JP2006231527A (ja) | 位置決め機能を備えたクリーム半田印刷用メタルマスク及びその位置決め方法 | |
JP4348474B2 (ja) | 基板方向検出方法および描画システム | |
EP1252554A1 (en) | Nonlinear image distortion correction in printed circuit board manufacturing | |
JP3180004B2 (ja) | 露光フィルムの整合方法及び整合装置 | |
KR20160108792A (ko) | Ldi 노광장치의 스테이지 보정장치 및 이를 이용한 보정방법 | |
JP5538049B2 (ja) | フォトマスクと基材との位置合わせ方法および配線回路基板の製造方法 | |
JP2000250232A (ja) | パターン形成装置 | |
TWI620999B (zh) | 描繪裝置、曝光描繪裝置、描繪方法及記錄媒體 | |
JP2001022098A (ja) | 露光装置におけるアライメント装置、被露光基板、及びアライメントマーク | |
JP4401834B2 (ja) | 露光装置及び位置合わせ方法 | |
JP4269258B2 (ja) | 露光マスクと内層基板の位置合わせ方法 | |
JP4250448B2 (ja) | 両面露光方法 | |
JP3963520B2 (ja) | 基板マーク検出方法 | |
TWI715492B (zh) | 線路板 | |
JP2003094613A (ja) | 半田印刷装置 | |
KR100545208B1 (ko) | 반도체 소자 제조장치 및 제조 방법 |