JP4269258B2 - 露光マスクと内層基板の位置合わせ方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、プリント基板の露光装置において、露光工程に先立って行なわれる基板と露光マスクとの位置合わせ技術に関し,詳しくは,内層基板と露光マスクとの位置合わせ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
表面と裏面とに回路パターンが形成された内層基板を複数重ねた多層基板が知られている。こうした内層基板では、その表面と裏面とに形成される回路パターンは、表、裏面間の配線接続や重ねあわされる表側あるいは裏側の基板の回路パターンとの接続を正確に行なう必要があるので、表、裏面に形成される回路パターンの位相(位置合わせ)は正確に一致している必要がある。
特許文献1には、基板の一辺に対応して,マスクマークとして第1,第2の位置合わせマークを、残りの3辺に対して第3〜第5の位置合わせマークを設けておいて,プリント基板の縦辺、横辺の夫々振り分け中心線を基準とした位置合わせを行なっている。また、特許文献2では、X線を用いて,基板マークとマスクマークを位置合わせしている。
【0003】
【特許文献1】
特開平11−153854号公報
【特許文献2】
特開2002−333721号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献1のように,基板の縦、横辺の振り分け中心線を基準とした位置合わせをおこなうと、回路パターンが、基板において対向する2辺の片方に偏ってしまわずに中心線の両側に按分して配置されるので,回路パターンの位置精度が低下しにくいという利点があるが、特許文献1のものでは位置合わせマークが5つと多く,このように多くのマークを露光マスクに設けなければならない手間がある。また、これらを検出するために、各マークごとに撮像手段(CCDカメラ等)を配置すればカメラ数が多くなって高価な装置となり、また、それを避けるためにカメラ数をマーク数より少なくすれば,カメラをマーク位置まで移動させる時間が必要となり,マーク数が多いためにそうした移動時間も長くなるおそれがあって露光前の準備時間が長くなる問題がある。
この発明は,少ない位置合わせマークを用いて,矩形形状の内層基板の縦,横辺の中心線の両側に回路パターンを按分配置可能で、しかも、表裏面に形成される回路パターンの位相を一致させることのできる位置合わせ方法を提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記課題解決のため、本願露光マスクと内層基板の位置合わせ方法では、矩形形状の内層基板と露光マスクを位置合わせする位置合わせ方法において、露光マスクには、内層基板の4つの角隅のうちの少なくとも3つの角隅と対応して夫々位置合わせマークを設け,それらの位置合わせマークを撮像手段で検出してその検出された座標値に基づいて露光マスクの中心座標と傾きを求め,位置合わせマークと対応する内層基板の角隅を検出してその検出された座標値に基づいて内層基板の中心座標と傾きとを求め,算出された露光マスク、内層基板の中心座標、傾きが一致するように露光マスクを移動して露光マスクと内層基板の相対位置を変更し、露光マスクの位置合わせマーク、内層基板の角隅の座標を読み取り、露光マスク、内層基板の中心座標、傾きを算出して中心座標と傾きの一致度合いを求めてそれぞれ所定の許容値内にあるかを判別し、許容値内にない場合には,再度、移動量を演算して露光マスクを移動し、所望の許容値に入ると、対応する位置合わせマークと角隅との相対位置が、許容範囲内にあるかどうかを確認し、許容範囲内にあれば露光して回路パターンを内層基板の表面に焼き付け、許容範囲内に無ければ、マスク側の伸びと判断して露光作業を中断することを特徴とする。
位置合わせマークは、マスク中央位置を通って互いに直交するX方向中心線、Y方向中心線に対して、位置合わせされた状態の内層基板の横辺、縦辺方向に夫々振り分け位置に設けられると中心位置を求める演算が容易であるが、位置合わせマークのX、Y座標からマスクの中心位置を割り出しできるように、マスク中心位置に対する位置合わせマークのX、Y方向の位置が予め所定の関係に定められていてもよい。
位置合わせマークは、マスク中央位置を通って互いに直交するX方向中心線、Y方向中心線に対して、位置合わせされた状態の内層基板の横辺、縦辺方向に夫々振り分け位置に設けられると中心位置を求める演算が容易であるが、位置合わせマークのX、Y座標からマスクの中心位置を割り出しできるように、マスク中心位置に対する位置合わせマークのX、Y方向の位置が予め所定の関係に定められていてもよい。
位置合わせマークは、内層基板の角隅より外方で角隅近傍に配置されているマークでもよいし、光透過性マークであって、位置合わせされた時に、その内側に内層基板の角隅が位置されて内層基板の角隅が光透過性マークを通して透けて見えるようになっていてもよい。
【0006】
これらの構成では、中心座標と傾きを一致させることにより露光マスクと内層基板とを位置合わせするため、内層基板の表裏面に形成される回路パターンは、内層基板の縦,横辺の中心線に対してX、Y方向に夫々振り分け(按分)配置され、また、表裏面に形成される回路パターンの位相が正確に一致する。また、そのように位相が一致するものであっても露光マスク側に設ける位置合わせマーク数は、多くても内層基板の4つの角隅と対応した4つであるから、従来より少ない数の位置合わせマークとなり、マークを露光マスクに設ける手間が少なくなる。また、検出される位置合わせマークの数が少なくなる結果,撮像手段の設置数が少なくでき、あるいは、撮像手段の移動時間が短くなる。
【0007】
【発明の実施の形態】
実施の形態について図面を参照して説明する。図1において、(a)に示す光透過性の表面用露光マスク1A、裏面用露光マスク1Bには夫々回路パターン2a,2bが形成されている。露光マスク1A,1Bは同一の縦横サイズであり、各マスク1A,1Bには、図1(b)に示す内層基板3と露光マスク1A(1B)とを図1(c)のように重ねた時に,内層基板3の4つの角隅3a〜3dの内の3つの角隅(ここでは3a〜3c)の夫々対角線の外方となる位置に、撮像手段(CCDカメラ)で認識できる形状の不透明な第1〜第3の3つの位置合わせマーク1a〜1c、1a’〜1c’が設けてある。位置合わせマークはここで示す小さな丸形状に限らず,中心座標を演算できる十字形状等でもよし、内層基板3の角隅3a〜3cの直角部分外側に沿う形状のかぎカッコ形状でもよい。これらの位置合わせマーク1a〜1c、1a’〜1c’は、露光マスク1A,1Bの中心位置A1,B1を通って互いに直交するX方向中心線XLとY方向中心線YLに対して,図1(c)のように、正確に位置合わせされた状態の内層基板3の横辺、縦辺に沿う方向(露光マスク1Aの横,縦方向)において夫々振り分け位置となるように設けてある。内層基板3は露光マスク1A(1B)より一回り小さい矩形形状をなしており、その表裏両面に、感光剤が塗布されている。なお、図1(c)の左図は内層基板3の表面の上に表面用露光マスク1Aを重ねて表面用露光マスク1A側から見た図,図1(c)の右図は内層基板3の裏面の下に裏面用露光マスク1Bを重ねて内層基板3側から見た図である。
【0008】
図2に示すように,上記した3つの位置合わせマーク1a〜1c、1a’〜1c’、それらに対応する内層基板3の角隅3a〜3cを撮像するCCDカメラ4a〜4c、4a’〜4c’が、各マーク1a〜1c、1a’〜1c’に対応して表側と裏側とに3台づつ設けてある。露光マスク1A、1Bは、夫々図示しない保持枠に保持されており,その保持枠は、露光マスク1の横、縦辺方向(X、Y方向)に移動可能で、かつ、マスク平面と垂直なZ軸線回りに回転可能となっている。
【0009】
次に動作を説明する。先ず,内層基板3の表面に露光する場合,内層基板3表面を表面用露光マスク1Aに密着させ、図3に示すフローチャートにおいて、表側用のCCDカメラ4a〜4cにより、3つの位置合わせマーク1a〜1cのX、Y座標を読み取る(ステップS1)。得られた座標値から露光マスク1Aの中心A1のX、Y座標(P1、Q1)と、露光マスク1Aの傾きθ1を算出する(ステップS2)。露光マスク1Aの中心座標(P1、Q1)は、図4に示すように,位置合わせマーク1a,1bを繋ぐ直線L1を演算し、その中点を通って前記直線L1に対する法線L1’(X方向中心線XLに一致)を求め,一方,位置合わせマーク1b,1cを繋ぐ直線L2を演算し、その中点を通って前記直線L2に対する法線L2’ (Y方向中心線YLに一致)を求めて、これらの法線L1’、L2’の交点を求めることで演算できる。また、傾きθ1は,位置合わせマーク1a,1bのX、Y座標値から求めることができる。
【0010】
次に、内層基板3の3つの角隅3a〜3cを表側用のCCDカメラ4a〜4cにより撮像して,その角隅3a〜3cのX、Y座標を読み取る(ステップS3)。得られたX、Y座標値から内層基板3の中心C1の座標(P2、Q2)と、内層基板3の傾きθ2を算出する(ステップS4)。内層基板3の中心座標(P2、Q2)は、図5に示すように,位置合わせマーク1a,1bと対応する角隅3a,3bを繋ぐ直線LL1(内層基板3の横辺に一致)を演算し、その中点を通って前記直線LL1に対する法線LL1’(内層基板3の横辺の中心線X3と一致)を求め,一方,位置合わせマーク1b,1cと対応する角隅3b,3cを繋ぐ直線LL2(内層基板3の縦辺に一致)を演算し、その中点を通って前記直線LL2に対する法線LL2’(内層基板3の縦辺の中心線Y3と一致)を求めて、これらの法線LL1’、LL2’の交点を求めることで演算できる。また、傾きθ2は,位置合わせマーク1a,1bに対応する角隅3a、3bのX、Y座標値から求めることができる。
【0011】
次にステップS5では、ステップS2、S4で求めた露光マスク1Aの中心座標(P1、Q1)、傾きθ1,内層基板3の中心座標(P2、Q2)、傾きθ2に基づき,それらのずれを解消するように、露光マスク1Aを移動させるためのX,Y方向及び,回転θ(傾き)方向の移動量(アライメント量)を求め,ステップ6で露光マスク1Aと内層基板3の密着を離して、露光マスク1AをX、Y、θ方向に移動させる。移動後,ステップS7、S8で再度マスク1Aと内層基板3とを密着させ、露光マスク1Aの位置合わせマーク1a〜1c、内層基板3の隅角3a〜3cのX、Y座標を読み取り,ステップS2、S4と同様の処理を行なって露光マスク1A,内層基板3の中心座標(P1、Q1)(P2、Q2),傾きθ1、θ2を算出して中心座標と傾きの一致度合いを求めてそれぞれ所定の許容値内にあるかを判別し,許容値内にない場合には,再度、アライメント量を演算して露光マスク1AをX、Y、θ方向に移動させる。ステップS8で所望の許容値に入ると、ステップS9で、対応する位置合わせマーク1a〜1cと角隅3a〜3cとの相対位置が、許容範囲内にあるかどうかを確認する。許容範囲内にあればステップS10で露光マスク1A側から露光して回路パターン2aを内層基板3の表面に焼き付け、許容範囲内に無ければ、マスク側の伸びと判断して露光作業を中断する(ステップS11)。
【0012】
露光マスク1Aと内層基板3の夫々中心座標(P1、Q1)(P2、Q2)を一致させるようにしてX、Y方向の位置決めが行なわれ、その状態で傾きθ1、θ2を一致させているため,内層基板3の縦,横辺の中心線X3、Y3に対して夫々両側に振り分けて(按分して)回路パターン2aが位置決めされることになって回路パターン2aの位置精度が良い。
次に,内層基板3の裏面に露光処理する場合は、内層基板3の裏面と裏面用露光マスク1Bを密着させ、今度は裏面側のCCDカメラ4a’〜4c’を用いて位置合わせマーク1a’〜1C’、内層基板3の角隅3a〜3cを検出して上記ステップS1〜S11と同様の処理を行なう。これにより、裏面側の位置合わせ作業でも、内層基板中心C1と露光マスク1Bの中心B1とが一致されてしかも、回転方向に一致するようにアライメントされ、その後、回路パターン2bが内層基板3の裏面に焼き付けられる。その結果、表裏面に形成された回路パターン2a,2bは位相ずれが少ないものとなる。
【0013】
位置合わせマークとしては、図5に示すように、内層基板3と露光マスク1Aとを位置合わせした状態で内層基板3の対応した角隅3a〜3cと重なる位置に設けられた円形の光透過性マーク11a〜11cであって、対応する角隅3a〜3cがマーク11a〜11c内側に位置してマーク11a〜11cを通して透けて見えるようにしてあってもよい。この場合,CCDカメラで3つの光透過性マーク11a〜11cを撮像して各マーク11a〜11cの中心位置を求め、それらの中心位置座標から、露光マスク1Aの中心座標と傾きとを求めることになる。光透過性マークの形状は、ここで示した円形には限られず,矩形その他の形状であってもよい。
なお、4つの角隅に対応して、露光マスクにX方向中心線XL、Y方向中心線YLに対して夫々振り分け位置に4つの位置合わせマークを設けた場合には,その中心座標の演算は対角に位置する各2つの位置合わせマークをつなぐ直線の交点で求めることができる。
【0014】
【発明の効果】
以上のように本願では、中心座標と傾きを一致させて露光マスクと内層基板とを位置合わせするため、表裏面に形成される回路パターンは、内層基板の縦,横辺の中心線に対して按分配置されるとともに位相が正確に一致する。また、露光マスク側に設ける位置合わせマーク数は、多くても内層基板の4つの角隅と対応した4つであるから、従来より少ない数の位置合わせマークとなり、マークを露光マスクに設ける手間が少なくなる。また、検出される位置合わせマークの数が少なくなる結果,撮像手段の設置数が少なくでき、あるいは、撮像手段の移動時間が短くなる、などの利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 露光マスク、内層基板を示す平面図である。
【図2】 露光マスク、内層基板、CCDカメラの位置関係を示す斜視図である。
【図3】 位置合わせ方法を説明するフローチャートである。
【図4】 露光マスクの中心座標,傾き演算を説明する図である。
【図5】 内層基板の中心座標,傾き演算を説明する図である。
【図6】 位置合わせマークの他の例である。
【符号の説明】
1A 表面用露光マスク
1B 裏面用露光マスク
1a〜1c・1a’〜1c’位置合わせマーク
3 内層基板
3a〜3c 角隅
4a〜4c・4a’〜4c’ CCDカメラ(撮像手段)
11a〜11c 光透過性マーク(位置合わせマーク)
XL X方向中心線
YL Y方向中心線
Claims (4)
- 矩形形状の内層基板と露光マスクを位置合わせする位置合わせ方法において、露光マスクには、内層基板の4つの角隅のうちの少なくとも3つの角隅と対応して夫々位置合わせマークを設け、それらの位置合わせマークを撮像手段で検出してその検出された座標値に基づいて露光マスクの中心座標と傾きを求め,位置合わせマークと対応する内層基板の角隅を検出してその検出された座標値に基づいて内層基板の中心座標と傾きとを求め,算出された露光マスク、内層基板の中心座標、傾きが一致するように露光マスクを移動して露光マスクと内層基板の相対位置を変更し、露光マスクの位置合わせマーク、内層基板の角隅の座標を読み取り、露光マスク、内層基板の中心座標、傾きを算出して中心座標と傾きの一致度合いを求めてそれぞれ所定の許容値内にあるかを判別し、許容値内にない場合には,再度、移動量を演算して露光マスクを移動し、所望の許容値に入ると、対応する位置合わせマークと角隅との相対位置が、許容範囲内にあるかどうかを確認し、許容範囲内にあれば露光して回路パターンを内層基板の表面に焼き付け、許容範囲内に無ければ、マスク側の伸びと判断して露光作業を中断することを特徴とする露光マスクと内層基板の位置合わせ方法。
- 位置合わせマークは、マスク中央位置を通って互いに直交するX方向中心線、Y方向中心線に対して、位置合わせされた状態の内層基板の横辺、縦辺方向に夫々振り分け位置に設けられることを特徴とする請求項1記載の露光マスクと内層基板の位置合わせ方法。
- 位置合わせマークは、内層基板の角隅より外方で角隅近傍に配置されているマークであることを特徴とする請求項1または2記載の露光マスクと内層基板の位置合わせ方法。
- 位置合わせマークは光透過性マークであって、位置合わせされた時に、その内側に内層基板の角隅が位置されるようになっていることを特徴とする請求項1または2記載の露光マスクと内層基板の位置合わせ方法。
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