KR20140006804A - 필름 노광 방법 - Google Patents
필름 노광 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140006804A KR20140006804A KR1020137014751A KR20137014751A KR20140006804A KR 20140006804 A KR20140006804 A KR 20140006804A KR 1020137014751 A KR1020137014751 A KR 1020137014751A KR 20137014751 A KR20137014751 A KR 20137014751A KR 20140006804 A KR20140006804 A KR 20140006804A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- film
- exposure
- mask
- alignment mark
- downstream
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/10—Copying apparatus with a relative movement between the original and the light source during exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
필름 기재(20) 상의 노광 패턴 형성용 영역에 노광 재료막(21)이 형성된 필름(2)에 있어서, 그 폭 방향의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에, 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크를 도포하여 측부 도포막(22)을 형성하고, 얼라인먼트 마크 형성부(14)에 의해, 레이저광을 조사하여 얼라인먼트 마크(2a)를 형성하고, 이 얼라인먼트 마크(2a)를 사용하여 필름 사행을 검출하고, 마스크(12)의 위치를 조정한다. 이에 의해, 필름 기재 상의 노광 패턴 형성 영역에 노광 재료막이 형성된 필름을 연속 노광할 때에, 얼라인먼트 마크의 형성 및 형성한 얼라인먼트 마크의 검출이 용이해서, 필름의 사행을 고정밀도로 보정하여, 안정적으로 노광할 수 있다.
Description
본 발명은 필름 노광 방법에 관한 것으로, 특히, 필름 기재 상의 노광 패턴 형성용 영역에 노광 재료막이 형성된 필름을 연속 노광할 때에, 필름의 사행을 고정밀도로 보정하여, 안정적으로 노광할 수 있는 필름 노광 방법에 관한 것이다.
종래, 예를 들어 평판 형상의 기판 등의 부재를 노광할 때에는, 그 노광 위치를 고정밀도로 관리하기 위해서, 예를 들어 표면 상에 소정의 마킹을 실시한 기판을 사용하고, 이 마킹에 의해, 노광에 사용하는 마스크의 위치를 결정하거나(예를 들어, 특허문헌 1 내지 3), 기판을 적재하는 팔레트에 위치 정렬용의 핀을 설치하는 것이 행해지고 있다(예를 들어, 특허문헌 4).
그러나, 롤투롤 방식과 같이 노광 대상이 필름이며, 이 필름이 연속적으로 노광 장치 내에 공급되어 오는 경우에는, 상기와 같은 평판 형상 부재의 노광에 있어서의 위치 정렬 기술을 적용하는 것이 어렵다. 즉, 롤투롤 방식의 필름의 제조 라인에 있어서는, 노광 대상으로 되는 필름은, 예를 들어 도 9에 도시한 바와 같은 공정에서, 노광 장치(1) 내에 공급되어, 평판 형상의 기판 등을 노광하는 경우와는 달리, 반송 중의 필름(1)에는, 그 유연성에 의해 쉽게 리플링이 발생한다.
또한, 도 9에 도시한 바와 같은 롤투롤 방식의 필름의 제조 라인에 있어서는, 모든 가공 공정에 있어서, 필름의 유연성을 이용한 처리가 행해지고 있다. 즉, 필름(2)은 공급 릴(80)로부터 풀어져서 라인에 공급되고, 전처리부(3)에서 예를 들어 드라이 세정 및 표면 개질 등의 전처리가 실시되고, 슬릿 코터(4)로 표면에 소정의 노광 재료가 도포된 후, 도포된 노광 재료가 건조 장치(5)로 건조된다. 그리고, 표면 상에 노광 재료막이 형성된 필름(2)은 노광 장치(1)에 공급되어, 노광 재료막이 노광 장치(1)로 노광된다. 이때, 필름(2)은 각 장치 간을 예를 들어 롤러(9)에 의해 지지되어서, 그 회전에 의해 반송된다. 따라서, 특허문헌 1 내지 4에 개시된 기술을 롤투롤 방식의 필름(2)의 노광에 적용하는 것은 곤란하다.
롤투롤 방식으로 필름을 노광하는 경우에 있어서는, 그 노광 정밀도를 높이기 위해서, 필름과 마스크의 상대적 위치 관계를 유지하는 것이 중요하다. 예를 들어, 특허문헌 5에는, 필름에 대한 마스크의 위치 정렬 기술이 개시되어 있다. 즉, 특허문헌 5의 기술은, 1매의 필름에 노광을 2번으로 나누어서 행하는 경우에 있어서, 필름에 1회째의 노광을 실시하여 패턴을 형성한 후, 2회째의 노광 시에는, 1회째의 노광에 의해 형성된 패턴을 라인 CCD로 검출함으로써 마스크의 위치를 조절하는 것이다. 또한, 이 특허문헌 5의 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 필름의 폭 방향의 양쪽 테두리부는 노광 영역이 아니다.
도 10은, 노광광을 출사하는 노광 광원(11)이 1개의 마스크(12)에 대응해서 1대씩 대향하여 배치되고, 서로 상이한 방향으로부터 노광광을 조사하는 형식의 종래의 노광 장치를 일례로서 도시하는 도면이다. 이러한 형식의 노광 장치는, 예를 들어 액정 디스플레이 등의 유리 기판 상 또는 편광 필름 등의 필름 기재 상에 무색 투명의 배향막을 형성할 때에 배향 재료막의 노광에 사용되고 있다. 즉, 이 노광 장치에 의한 노광에 의해 배향막을 형성하는 경우에는, 표면에 무색 투명의 배향 재료막이 형성된 노광 대상 부재를 노광 장치 내에 공급하고, 소정의 영역마다 노광광을 상이한 방향으로부터 조사하여, 상이한 방향으로 배향한 배향막을 형성하는 것이 행해지고 있다. 이 노광 장치에 의하면, 예를 들어 필름의 1 회소에 대응하는 영역을 그 폭 방향으로 2 분할하여 노광하거나, 화소에 대응하는 영역마다 필름을 그 폭 방향으로 분할하여 노광하여, 각 분할 영역마다 배향 방향이 상이한 배향막을 형성할 수 있다. 이 배향막의 배향 방향의 특징에 의해, 유리 기판 사이에 끼움 지지하는 액정 분자의 전압 인가 시의 동작을 배향막의 배향 방향에 따라서 상이하게 하고, 이에 의해, 표시 장치의 시야각을 확장할 수 있고, 또한, 제조한 필름을 3D(Three Dimensional) 디스플레이 등의 편광 필름으로서도 사용할 수 있어, 최근 들어, 이러한 필름의 노광 기술은 주목을 모으고 있다.
이러한 노광 장치에 의해 필름을 노광할 때에는, 필름에는 반송 중에 리플링이 발생하기 쉽고, 이에 의해, 노광 위치의 어긋남이 발생한다는 문제점이 있다. 이 노광 위치의 어긋남의 영향을 저감하기 위해서, 예를 들어 상기와 같은 필름의 이동 방향으로 복수의 광원을 병치한 노광 장치에 있어서는, 예를 들어 도 10 및 도 11에 도시한 바와 같이, 1개의 마스크를 사용하여 노광하는 것이 아니라, 복수개의 마스크(12)를 사용하여, 각 마스크(12)를 노광 대상 부재의 이동 방향 및 이것에 수직의 폭 방향으로 배열하도록 지그재그 형상으로 배치하고, 노광 광원(11)을 각 마스크마다 설치하여 노광하는 것이 행해지고 있다. 그리고, 각 마스크(121 내지 124)에 노광 광원(11)으로부터의 노광광을 투과시켜, 도 11에 도시한 바와 같이, 필름이 공급되어 오는 상류측에서, 서로 이격하여 배치된 마스크(121 및 122)에 의해 필름(2)을 노광 영역 A 및 C에서 노광하고, 하류측에서, 노광 영역 A 및 C 사이의 영역 B를 마스크(123)에 의해 노광하고, 노광 영역 C에 인접하는 영역 D를 마스크(124)에 의해 노광하는 것이 행해지고 있다. 이에 의해, 필름(2)의 거의 전체면에 배향 분할한 패턴을 고정밀도로 형성할 수 있다.
그러나, 상기 종래 기술에는 이하와 같은 문제점이 있다. 즉, 특허문헌 5의 기술은, 1매의 필름에 노광 조작을 2번으로 나누어서 행할 필요가 있어, 생산성이 나쁘다.
또한, 복수개의 마스크(12)가 배치되고, 각 마스크(12)마다 노광 광원(11)이 1대씩 설치된 종래의 노광 장치에 있어서는, 도 10에 도시한 바와 같이, 노광 광원(11)을 내장하고 있는 부분(노광 광원(11)의 하우징 부분)은 1 광원에 대해서, 예를 들어 필름의 이동 방향으로 약 2 m 정도의 길이를 갖고 있으며, 도 11에 도시하는 것과 같은 노광 영역 A 및 C와 노광 영역 B 및 D와의 사이의 거리는 적어도 4 m 정도로 길어진다. 따라서, 상류측의 노광 영역 A 및 C로부터 하류측의 노광 영역 B 및 D로의 반송 중에, 필름이 쉽게 리플링하여, 그 이동 방향에 수직의 폭 방향으로 어긋나기 쉽다라고 하는 문제점이 있다. 따라서, 필름의 이동 방향 하류측의 노광 영역에서, 필름의 폭 방향의 위치 어긋남에 의해, 이미 노광된 영역이 노광되어버리거나, 또한, 미노광의 영역도 발생해 버린다는 문제점도 있다.
이 문제점을 해결하기 위해서, 본원 출원인은 일본 특허 출원 제2010-089608호에 있어서, 종래에는 예를 들어 필름 송급용의 영역으로서 사용되어 노광 재료가 도포되어 있지 않은 필름 기재 상의 측부에 얼라인먼트 마크를 형성하고, 필름의 이동 방향 하류측에서 얼라인먼트 마크의 필름 폭 방향의 어긋남을 CCD 카메라에 의해 검출하고, 이 검출 신호에 기초하여, 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 필름의 폭 방향으로 조절하여 노광 영역의 어긋남을 보정하는 기술을 제안하였다.
필름의 테두리부에 얼라인먼트 마크를 형성하는 방법으로서는, 필름에 기계적으로 구멍을 형성하거나, 또는 레이저 등에 의한 마킹을 행하는 것을 생각할 수 있는데, 기계적인 마킹에 대해서는, 그 가공 시에 필름에 진동이 가해져서 가공 정밀도가 저하하기 때문에, 실용에는 적합하지 않다. 또한, 마킹을 실시하는 대상의 필름 기재는 무색 투명으로서, 레이저 등에 의한 마킹에 있어서는 레이저광이 필름을 투과하기 쉽다. 따라서, 마킹에 예를 들어 파장이 266 nm인 자외광을 사용한 경우에 있어서는, 레이저광의 조사 에너지를 예를 들어 8 J/㎠ 정도까지 매우 크게 하지 않으면 얼라인먼트 마크의 형성이 어렵다는 문제점이 있다.
본 발명은 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 필름 기재 상의 노광 패턴 형성 영역에 노광 재료막이 형성된 필름을 연속 노광할 때에, 얼라인먼트 마크의 형성 및 형성한 얼라인먼트 마크의 검출이 용이해서, 필름의 사행을 고정밀도로 보정하여, 안정적으로 노광할 수 있는 필름 노광 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 필름 노광 방법은, 필름 기재 상의 노광 패턴 형성용 영역에 노광 재료막이 형성된 필름의 상기 노광 재료막에, 마스크를 통하여 노광광을 조사함으로써, 상기 노광 재료막에 상기 마스크의 패턴을 노광하는 필름 노광 방법에 있어서, 상기 필름 기재의 폭 방향의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에, 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 측부 도포막이 형성된 필름을 공급하고, 이 측부 도포막에 얼라인먼트 마크용 레이저광을 조사하여 얼라인먼트 마크를 형성하고, 이 얼라인먼트 마크를 사용하여 필름 사행을 검출하고, 상기 마스크의 위치를 조정하는 것을 특징으로 한다. 예를 들어, 상기 노광 재료막 및/또는 상기 측부 도포막은, 공급 릴에 권회된 필름 기재를, 상기 공급 릴로부터 권취 릴까지 이동시키는 동안에 있어서의 상기 얼라인먼트 마크용 레이저광의 조사 전에, 상기 필름 기재 상에 형성된다.
본 발명에 따른 필름 노광 방법에 있어서, 예를 들어 상기 마스크는, 상기 필름의 이동 방향의 상류측 및 하류측에 각각 배치되어 있고, 상기 필름의 이동 방향의 상류측 및 하류측에서 상기 노광 재료막에 각각 상기 상류측 마스크와 하류측 마스크의 패턴을 노광하는 것이며, 상기 필름의 이동 방향에 있어서의 상기 상류측 마스크의 위치에 대응하는 위치에서 상기 측부 도포막에 상기 얼라인먼트 마크를 형성하고, 상기 필름의 이동 방향에 있어서의 상기 하류측 마스크의 위치에 대응하는 위치에서 상기 얼라인먼트 마크를 검출함으로써, 상기 필름이 상기 상류측 마스크에 의한 노광 영역으로부터 상기 하류측 마스크에 의한 노광 영역까지 이동할 때까지 발생한 필름 사행을 검출하고, 상기 필름에 대한 하류측 마스크의 상대적 위치를 상기 필름 사행에 의해 어긋난 양만큼 보정한다.
본 발명에 있어서는, 필름 기재 상의 노광 패턴 형성용 영역에 노광 재료막이 형성된 필름을 마스크의 패턴에 의해 노광하는 필름 노광 방법에 있어서, 필름 기재의 폭 방향의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에, 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 측부 도포막이 형성된 필름을 공급하고, 이 측부 도포막에 레이저광을 조사하여 얼라인먼트 마크를 형성한다. 이 유색의 측부 도포막은 레이저광의 흡수율이 높아, 얼라인먼트 마크의 형성이 용이하다.
또한, 얼라인먼트 마크용 레이저광의 조사에 의해 측부 도포막을 제거하여 얼라인먼트 마크를 형성하는 경우에 있어서도, 얼라인먼트 마크의 주위에는 유색의 도포막이 남기 때문에, 얼라인먼트 마크를 명료하게 또한 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따르면, 필름 사행의 검출 및 마스크 위치의 조정을 고정밀도로 행할 수 있어, 안정적으로 필름을 노광할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 얼라인먼트 마크에 의한 필름의 폭 방향의 어긋남의 보정을 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 필름의 반송에 의한 인입 마크의 이동을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 상류측 마스크에 의한 패턴과 하류측 마스크에 의한 패턴의 상대적 위치 관계를 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 마스크를 도시하는 평면도이다.
도 5는 마스크 위치의 제어부를 일례로서 도시하는 도면이다.
도 6은 인입 마크 형성부를 일례로서 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 상류측의 마스크에 의한 노광 공정을 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 인입 마크에 의한 마스크 위치의 보정을 도시하는 도면이다.
도 9는 롤투롤 방식의 필름 제조 라인의 일례를 도시하는 도면이다.
도 10은 배향 분할 방식의 노광 장치를 일례로서 도시하는 사시도이다.
도 11은 필름의 이동 방향에 복수의 광원을 배치한 구성의 노광 장치를 일례로서 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 필름의 반송에 의한 인입 마크의 이동을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 상류측 마스크에 의한 패턴과 하류측 마스크에 의한 패턴의 상대적 위치 관계를 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 마스크를 도시하는 평면도이다.
도 5는 마스크 위치의 제어부를 일례로서 도시하는 도면이다.
도 6은 인입 마크 형성부를 일례로서 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 상류측의 마스크에 의한 노광 공정을 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 인입 마크에 의한 마스크 위치의 보정을 도시하는 도면이다.
도 9는 롤투롤 방식의 필름 제조 라인의 일례를 도시하는 도면이다.
도 10은 배향 분할 방식의 노광 장치를 일례로서 도시하는 사시도이다.
도 11은 필름의 이동 방향에 복수의 광원을 배치한 구성의 노광 장치를 일례로서 도시하는 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대하여 구체적으로 설명한다. 우선, 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치의 구성에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 얼라인먼트 마크에 의한 필름의 폭 방향의 어긋남의 보정을 도시하는 도면, 도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 필름의 반송에 의한 인입 마크의 이동을 도시하는 도면, 도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 필름의 노광 장치에 있어서, 상류측 마스크에 의한 패턴과 하류측 마스크에 의한 패턴의 상대적 위치 관계를 도시하는 도면이다. 본 실시 형태에 따른 노광 장치(1)는 도 10 및 도 11에 도시하는 종래의 노광 장치와 마찬가지로, 노광광을 출사하는 노광 광원(11)과, 마스크(12)와, 노광 광원(11)으로부터 출사한 노광광을 마스크(12)를 통하여 필름(2)에 조사하는 광학계와, 필름(2)을 반송하는 예를 들어 반송 롤러 등의 필름 반송부를 갖고 있으며, 예를 들어 콜리메이터 렌즈 및/또는 반사경 등의 광학계에 의해, 노광 광원(11)으로부터 출사한 노광광을 마스크(12)를 통하여 필름(2)에 조사하고, 필름의 폭 방향 중앙의 영역에서, 필름 기재(20) 상에 형성된 노광 재료막(21)을 노광한다.
노광 장치(1)는 도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 필름(2)의 측부에 얼라인먼트 마크(2a)를 형성하는 얼라인먼트용 레이저 마커(14)(얼라인먼트 마크용 레이저 광원)를 갖고 있다. 본 발명에 있어서는, 노광 장치(1)에는, 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 측부 도포막(22)이 형성된 필름(2)을 공급한다. 즉, 이 필름(2)은 도 1에 도시한 바와 같이, 필름 기재(20) 상의 배향막을 형성하는 영역(본 발명에 있어서의 노광 패턴 형성용 영역)에는, 종래와 마찬가지로 노광 재료막(21)이 형성되어 있다. 이 노광 재료막(21)은 예를 들어 무색 투명이다. 그리고, 종래이면 노광 재료가 도포되어 있지 않은 필름 기재(20)의 측부에는 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 측부 도포막(22)이 형성되어 있다. 그리고, 이 측부 도포막(22) 상에 얼라인먼트용 레이저 마커(14)로부터 레이저광을 조사하고, 노광 또는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 얼라인먼트 마크(2a)를 형성한다.
본 실시 형태에 있어서는, 노광 장치(1)는 예를 들어 도 2 내지 도 4에 도시한 바와 같이, 반송 롤러 등의 필름 공급부에 근접하여 배치된 레이저 마커(13)(인입 마크 형성부)와, 예를 들어 마스크(12)의 하방에서 필름(2)의 폭 방향으로 연장되도록 배치된 예를 들어 라인 CCD(15)(필름 인입 위치 검출부)를 갖는다. 이에 의해, 필름 공급부로부터 공급되어 오는 필름(2)에 대하여 레이저 마커(13)에 의해, 마스크(12)의 위치 결정의 기준이 되는 인입 마크(2b)를 형성하고, 라인 CCD(15)에 의해 인입 마크(2b)를 검출함으로써, 필름(2)에 대한 마스크(12)의 위치를 조정 가능하도록 구성되어 있다.
노광 대상의 필름(2)은 예를 들어 도 9에 도시한 바와 같이, 필름(2)의 기재(20)가 롤투롤 방식의 공급 릴(80)로부터 풀어져서 슬릿 코터(4)에 공급되어, 슬릿 코터(4)로 표면에 소정의 재료가 막 형상으로 도포된다. 본 실시 형태에 있어서는, 슬릿 코터(4)는 필름 기재(20)의 중앙에 노광 재료를 도포하는 것에 추가로, 예를 들어 필름 기재(20)의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에 유색의 소성 재료 또는 유색의 광경화성 재료를 도포 가능하도록 구성되어 있다. 즉, 슬릿 코터(4)는 필름 기재(20)의 폭 방향 중앙에 배향 재료막(노광 재료막(21))이 되는 예를 들어 무색 투명의 노광 재료를 도포하고, 필름 기재(20)의 측부에 얼라인먼트 마크 형성용의 측부 도포막(22)이 되는 유색의 소성 재료 또는 광경화성 재료를 액상 또는 페이스트상의 상태에서 도포 가능하도록 구성되어 있다. 이 경우에는, 노광 재료, 및 유색의 소성 재료 또는 유색의 광경화성 재료는, 1대의 슬릿 코터(4)에 의해 도포되어도, 2대의 슬릿 코터(4)에 의해 각각 도포되어도 된다. 측부 도포막(22)이 되는 소성 재료로서는, 소성(베이크)함으로써 필름 기재(20) 상에 소성막을 형성할 수 있는 유색의 재료, 예를 들어 일반적으로 사용되고 있는 광학 컬러 필터용의 적색, 녹색, 청색 및/또는 흑색의 레지스트 재료를 적절하게 사용할 수 있다. 단, 본 발명에 있어서의 측부 도포막은, 필름 사행의 검출용의 얼라인먼트 마크의 형성에만 사용되는 것이기 때문에, 레지스트 재료에 의해 측부 도포막을 형성하는 경우에 있어서는, 현상 등의 공정은 특별히 필요로 하지 않는다. 또한, 광경화성 재료로서는, 예를 들어 유색의 광경화성 수지를 사용할 수 있다.
또는, 측부 도포막(22)의 재료로서 유색의 잉크를 사용하여, 필름 기재의 측부에 잉크를 도포하는 경우에는, 슬릿 코터(4)는 필름 기재(20)의 중앙에 노광 재료만을 도포한다. 그리고, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 슬릿 코터(4)의 상류측 또는 하류측, 즉, 건조 장치(5)보다도 상류측에 설치된 도포 장치에 의해, 필름 기재(20)의 측부에 유색의 잉크를 도포한다. 유색의 잉크로서는, 안료 및/또는 염료 등을 함유하는 액상 또는 페이스트상의 잉크 전반을 사용할 수 있고, 건조 장치(5)로 용매 성분을 휘발시켜서 유색의 막을 형성할 수 있는 잉크, 예를 들어 유성 잉크를 적절하게 사용할 수 있다. 도포 장치로서는, 예를 들어 적당한 유연성을 갖는 소재, 예를 들어 펠트질의 섬유 등에 의해 형성된 도포부에 잉크를 침투시키고, 이 도포부를 송급되어 오는 필름 기재(20)의 측부의 노광 재료를 도포하지 않는 영역에 접촉시킴으로써, 잉크를 막 형상으로 도포하는 구성의 것을 사용한다.
슬릿 코터(4)만, 또는 슬릿 코터(4) 및 도포 장치에 의해 소정의 재료가 도포된 필름(2)은 건조 장치(5)에 공급된다. 그리고, 필름의 중앙에 도포된 노광 재료 및 필름 측부의 도포막이 되는 재료가 각 재료의 특성에 따라서 소성(베이크), 건조(용매 성분의 휘발), 및/또는 광경화되어서, 필름 기재(20) 상에 각각 노광 재료막(21) 및 측부 도포막(22)이 형성된다. 그리고, 필름(2)은 반송 롤러 등의 반송 장치에 의해 노광 장치(1) 내에 공급된다. 본 발명에 있어서는, 노광 장치(1) 내에 공급되는 필름(2)에는 종래와 마찬가지로, 필름 폭 방향 중앙의 노광 재료막(21)을 광 배향시킴으로써 소정의 방향으로 배향한 배향막을 형성하고, 필름(2)의 측부 도포막(22)에는, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)로부터 레이저광을 조사하고, 노광 또는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 얼라인먼트 마크(2a)를 형성한다. 이 측부 도포막(22)이 형성되어 있는 영역은 예를 들어 필름의 테두리부로부터 예를 들어 25 mm 이하, 예를 들어 10 mm의 영역이며, 종래에는 재료막 등이 형성되지 않고 필름 기재(20)가 노출되어 있었던 영역이다. 본 발명에 있어서는, 측부 도포막(22)에 형성한 얼라인먼트 마크(2a)를 사용하여 필름(2)의 사행을 검출하고, 마스크(12)의 위치를 조정한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서는, 측부 도포막(22)의 재료로서 유색의 유성 잉크가 도포되고, 그 용매 성분이 건조(휘발)에 의해 소실함으로써, 잉크에 의한 막이 형성되어 있는 경우에 대하여 설명한다.
노광 광원(11)은 예를 들어 배향 분할 방식의 노광 장치에 있어서는, 자외광을 출사하는 광원이며, 예를 들어 수은 램프, 크세논 램프, 엑시머 램프 및 자외 LED 등이며, 연속광 또는 펄스 레이저광을 출사하는 광원이 사용된다. 본 실시 형태에 있어서는, 노광 광원(11)으로부터 출사한 노광광의 광로 상에는, 예를 들어 콜리메이터 렌즈 및/또는 반사경 등의 광학계가 배치되어 있고, 예를 들어 필름(2) 상의 패턴 형성용 영역에 형성된 배향 재료막(노광 재료막(21))에 소정의 광량으로 노광광이 조사되도록 구성되어 있다. 노광 광원(11)은 예를 들어 도시하지 않은 제어 장치에 의해 노광광의 출사 방향을 조정할 수 있고, 이에 의해, 필름(2)에 대한 노광광의 입사각을 조정 가능하도록 구성되어 있다. 본 실시 형태의 노광 장치(1)는 1개의 노광 영역에 대하여 각각 2개의 노광 광원(11)이 서로 마주 대하고, 필름(2)의 이동 방향으로 배열하도록 배치되어 있다. 이에 의해, 각 노광 광원(11)으로부터 출사한 각각 프리틸트각이 상이한 2개의 노광광을 마스크(12)를 통하여 배향 재료막(노광 재료막(21))에 조사하고, 배향 재료막을 그 이동 방향에 수직의 폭 방향으로 분할하여 노광하여, 필름 기재(20) 상에, 배향 방향이 인접하는 분할 영역에서 서로 다른 배향막을 형성한다. 이에 의해, 예를 들어 1 회소가 되는 영역이 그 폭 방향으로 2 분할된 배향막을 사용하고, 배향막 사이에 액정을 끼움 지지한 표시 장치에 전압을 인가하면, 전압 인가 시의 액정 분자의 방향은, 배향막의 배향 방향에 따라서 1 회소 내에서 2 방향이 되어, 액정 디스플레이 등의 시야각을 넓게 할 수 있다. 또한, 폭 방향으로 인접하는 화소가 되는 영역마다 배향 방향이 상이한 배향막이 형성된 필름은, 예를 들어 3D(Three Dimensional) 디스플레이 등의 편광 필름으로서 사용할 수 있다. 또한, 노광 광원(11)은 1군데의 노광 영역에 대해서 2개에 한하지 않고, 3개 이상 형성해도 되고, 서로 상이한 방향으로부터의 노광광에 의해, 예를 들어 배향막 재료를 3 방향 이상으로 배향시켜도 된다. 또한, 예를 들어 1군데의 노광 영역에 대해서, 노광 광원(11)을 1개 설치하고, 노광 광원(11)으로부터 출사된 노광광을 편광판 등에 의해 2 이상으로 분할하고, 분할한 노광광을 서로 상이한 방향으로부터 조사하도록 구성해도 된다. 예를 들어, 편광판에 의해, 노광광을 P 편광의 직선 편광의 노광광과 S 편광의 직선 편광의 노광광으로 분할하고, 각각 상이한 방향으로부터 조사할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 마스크(12)는 필름(2)의 이동 방향의 상류측 및 하류측에 각각 복수개 서로 이격하여 배치되어 있고, 예를 들어 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 상류측(마스크(121, 122)) 및 하류측(마스크(123, 124))에 각각 2개씩 설치되어 있다. 복수개의 마스크(12)는 상류측의 마스크(121, 122)에 의한 노광 영역과 하류측의 마스크(123, 124)에 의한 노광 영역이, 필름의 이동 방향을 따라서 인접하도록, 즉, 지그재그 형상으로 배치되어 있고, 각각의 마스크(12)에 대해서, 상기의 1대의 노광 광원(11)이 설치되어 있다. 그리고, 도 3에 도시한 바와 같이, 필름(2)의 이동 방향의 상류측의 마스크(121 및 122)에 노광 광원(11)으로부터의 노광광을 투과시켜서, 필름(2) 상의 배향막 재료를 노광 영역 A 및 C에서 노광한다. 또한, 하류측의 마스크(123 및 124)에 노광 광원(11)으로부터의 노광광을 투과시켜서, 필름(2) 상의 배향막 재료를 노광 영역 B 및 D에서 노광한다.
본 실시 형태에 있어서는, 마스크(12)는 도 4에 도시한 바와 같이, 예를 들어 프레임체(120)와 그 중앙의 패턴 형성부(125)에 의해 구성되어 있고, 패턴 형성부(125)에는, 소정의 광투과 영역의 패턴(125a)이 형성되어 있다. 즉, 패턴 형성부(125)에는, 필름(2)에 형성하는 패턴 형상에 대응하여, 노광광을 투과하는 개구가 형성되어 있거나, 또는 광투과성의 부재가 설치되어 있다. 그리고, 예를 들어 배향 분할 방식의 노광 장치에 있어서는, 패턴 형성부(121)의 투과광에 의해 스테이지(10) 상에 배치된 필름(2)의 표면의 배향 재료막을 노광한다. 본 실시 형태에 있어서는, 마스크(12)마다 1대의 노광 광원(11)을 배치하고, 각각 입사각이 상이한 노광광을 출사한다. 따라서, 본 실시 형태에 있어서는, 패턴(125a)은 입사 각도가 상이한 2개의 노광광에 대응하여, 필름의 이동 방향의 상류측 및 하류측에 2열로 배열되도록, 직사각형의 개구 패턴이 각각 복수개 설치되어 있다. 그리고, 이들 상류측 및 하류측의 광투과 영역군은, 노광광의 조사 영역끼리가 서로 중첩하지 않도록, 서로 이격하여 형성되어 있다. 또한, 예를 들어 상류측의 패턴과 하류측의 패턴에 의한 노광 영역이 서로 인접하도록, 상류측 패턴과 하류측 패턴은 그 폭 방향을 따라서 지그재그 형상으로 형성되어 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 마스크(12)에는, 패턴(125a)보다도 상류(도 4에 있어서의 상)측에, 필름(2)의 이동 방향에 대하여 수직의 폭 방향으로 연장되도록, 폭이 300 ㎛ 정도, 길이가 250 mm 정도인 라인 CCD용의 관찰창(12a)이 설치되어 있고, 이 관찰창(12a)의 길이 방향의 중간에 노광광을 차광하는 예를 들어 폭이 15 ㎛ 정도인 라인 형상의 차광 패턴(12b)이 설치되어 있다. 그리고, 후술하는 라인 CCD(15)에 의해 차광 패턴(12b)의 위치를 검출하여 마스크(12)의 위치 결정에 사용한다. 또한, 본 실시 형태에 있어서의 관찰창(12a) 및 차광 패턴(12b)의 위치 및 형상은 일례이며, 마스크(12)의 위치 결정을 고정밀도로 행하는 것이 가능한 한, 본 발명은 이들 위치 및 형상에 의해 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 관찰창(12a) 및 차광 패턴(12b)의 위치는, 2열로 배열되도록 형성된 패턴(125a) 사이의 영역 등에 설치되어 있어도 되고, 예를 들어 차광 패턴(12b) 대신에 서로(예를 들어 N형으로) 교차하는 복수개의 슬릿이 설치되어 있어도 된다.
마스크(12)의 각각은, 예를 들어 프레임체(120)의 부분이 마스크 스테이지(17)에 의해 지지되어 있고, 마스크 스테이지(17)의 이동에 의해 마스크(12)의 전체가 이동 가능하도록 구성되어 있다. 마스크 스테이지(17)는 예를 들어 도 5에 도시한 바와 같은 마스크 위치 제어부(30)에 접속되어 있고, 마스크 위치 제어부(30)에 의한 제어에 의해, 그 위치를, 예를 들어 수평 방향(필름의 폭 방향, 또는 필름의 폭 방향 및 필름의 길이 방향)으로 이동 가능하도록 구성되어 있다. 이에 의해, 마스크(12)에 의한 필름(2)의 노광 위치를 수평 방향으로 조정할 수 있다. 마스크 스테이지(17)는 예를 들어 연직 방향으로도 이동 가능하고, 이에 의해, 필름(2) 상의 예를 들어 배향막 재료가 소정의 크기로 노광되도록 조정 가능하도록 구성되어 있다.
필름 반송부는, 예를 들어 노광 장치(1)외 및 노광 장치(1) 내에 설치된 예를 들어 반송 롤러(9) 등이며, 모터 등에 의해 구동되고, 공급 릴(80)로부터 풀어진 필름(2)을 그 회전에 의해 노광 장치(1) 내에 반송하고, 노광 장치(1) 내에서 노광된 필름(2)을 권취 릴(81)까지 이동시킨다.
얼라인먼트용 레이저 마커(14)(얼라인먼트 마크용 광원)는 측부 도포막(22)에 노광광을 조사하여 노광하는 레이저 광원이거나, 또는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 측부 도포막(22)에 마킹을 실시하는 레이저 광원이며, 예를 들어 Nd:YAG 레이저 또는 자외광 등을 조사하는 레이저 광원, 예를 들어 크세논 플래시 램프 등이다. 얼라인먼트용 레이저 마커(14)가 펄스 광원인 경우에 있어서는, 필름(2)의 측부에 형성된 유색의 측부 도포막(22) 상에 노광광을 조사하여 노광 또는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 마킹을 실시하고, 필름(2)의 이동에 의해 이 마킹을 선 형상으로 연장되도록 형성하여, 측부 도포막(22) 상에 폭이 10 내지 50 ㎛, 길이가 150 ㎛ 내지 50 mm(특히, 폭: 20 ㎛ 정도, 길이: 300 ㎛ 정도가 바람직함)인 얼라인먼트 마크(2a)를 일정 간격으로 형성한다. 또는, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)가 연속광을 출사하는 광원일 경우에는, 측부 도포막(22) 상에 필름(1)의 이동 방향으로 연장되도록 얼라인먼트 마크(2a)를 연속적으로 형성한다. 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)로서 펄스 레이저 광원을 사용한 경우에 대하여 설명한다. 레이저광의 조사에 의해, 측부 도포막(22)의 잉크는, 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 마킹이 실시되나, 필름(2) 자체에 변질 등의 영향은 없다. 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)는 예를 들어 필름(2)의 이동 방향 상류측의 마스크(121, 122)에 대하여 필름의 폭 방향으로 배열하도록 설치되어 있고, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(121, 122)의 관찰창(12a)(및 차광 패턴(12b))에 대응하는 위치에서, 측부 도포막(22) 상에 얼라인먼트 마크(2a)를 형성한다. 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트 마크(2a)를 형성하는 영역은, 예를 들어 필름의 테두리부로부터 25 mm 이내의 영역이며, 종래에는 재료막 등이 형성되지 않고 필름 기재(20)가 노출되어 있었던 부분이다. 얼라인먼트 마크(2a)를 상류측 마스크(121, 122)의 관찰창(12a)의 위치에 대응하는 필름의 테두리부에 형성함으로써, 필름(2)의 이동 방향 상류측의 각각 영역 A 및 영역 C에서 형성되는 패턴과 필름(2)의 테두리부에 있어서의 얼라인먼트 마크(2a)와의 거리는 항상 일정 간격이 된다.
본 실시 형태에 있어서는, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(121, 122)의 위치에 대응하는 위치에서 필름의 측부 도포막(22)에 형성한 얼라인먼트 마크(2a)를 필름(2)의 사행의 검출에 사용한다. 즉, 얼라인먼트 마크 검출부(16)는 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 하류측의 마스크(123, 124)의 위치에 대응하는 위치에서, 하류측 마스크(123, 124)와 필름(2)의 폭 방향으로 배열하도록, 필름(2)의 상방 또는 하방에 배치되어 있고, 하류측 마스크(123, 124)의 위치에 대응하는 위치에서 얼라인먼트 마크(16a)의 위치를 검출하도록 구성되어 있다. 얼라인먼트 마크 검출부(16)는 예를 들어 CCD 카메라이며, 도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 예를 들어 하류측 마스크(123, 124)의 관찰창(12a)에 대응하는 위치에서, 얼라인먼트 마크(2a)의 필름 폭 방향에 있어서의 위치를 검출한다. 예를 들어, 필름(2)이 이동하는 동안에 그 폭 방향으로 사행된 경우, 그것에 수반하여, 얼라인먼트 마크(2a)도 동일한 사행량만큼 필름(2)의 폭 방향으로 어긋나는데, 얼라인먼트 마크 검출부(16)는 사행에 의해 폭 방향으로 어긋난 얼라인먼트 마크(2a)의 위치를 검출한다.
얼라인먼트 마크 검출부(16)는 예를 들어 도 5에 도시한 바와 같은 마스크 위치 제어부(30)에 접속되어 있다. 그리고, 검출한 얼라인먼트 마크(2a)의 필름 폭 방향에 있어서의 위치를 마스크 위치 제어부(30)에 송신한다. 마스크 위치 제어부(30)는 얼라인먼트 마크 검출부(16)로부터 송신된 얼라인먼트 마크(2a)의 위치에 기초하여, 필름의 이동 방향 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 조정하도록 구성되어 있다. 즉, 본 실시 형태에 따른 노광 장치(1)는 얼라인먼트 마크(2a)를 형성하고, 이것을 필름(2)의 사행의 검출에 사용함으로써, 검출한 사행량에 의해 하류측 마스크(123, 124)의 위치를 조정할 수 있다.
도 5는 마스크 위치 제어부(30)의 구성을 일례로서 도시하는 도면이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 마스크 위치 제어부(30)는 예를 들어 마스크 스테이지 구동부, 노광 광원(11) 및 필름 권취 릴(81)(도 9 참조)에 설치된 모터의 제어부에 접속되어 있다. 도 5에 도시한 바와 같이, 마스크 위치 제어부(30)는 화상 처리부(31)와, 연산부(32)와, 메모리(33)와, 모터 구동 제어부(34)와, 광원 구동부(35)와, 마스크 스테이지 구동 제어부(36)와, 제어부(37)를 구비하고 있다.
화상 처리부(31)는 얼라인먼트 마크 검출부(16)(CCD 카메라)에 의해 촬상된 얼라인먼트 마크(2a)의 화상 처리를 행하고, 예를 들어 얼라인먼트 마크(2a)의 필름 폭 방향에 있어서의 중심 위치를 검출하는 것이다. 연산부(32)는 예를 들어 설정해야 할 얼라인먼트 마크(2a)의 중심 위치와 실제의 얼라인먼트 마크(2a)의 중심 위치와의 필름의 폭 방향의 어긋남을 연산한다. 또한, 연산부(32)는 후술하는 라인 CCD(15)가 검출한 필름의 인입 마크(2b)의 위치와 마스크(12) 상의 차광 패턴(12b)의 위치와의 거리에 의해, 노광을 개시할 때에 설정해야 할 마스크(12)의 위치와 실제의 마스크(12)의 위치와의 필름 폭 방향의 어긋남도 연산한다. 메모리(33)는 예를 들어 화상 처리부(31)가 검출한 얼라인먼트 마크(2a)의 중심 위치 및 연산부(32)가 연산한 어긋남량을 기억한다. 모터 구동 제어부(34)는 예를 들어 필름 권취 릴(81)의 모터의 구동 또는 정지, 또는 구동되어 있을 때의 회전 속도를 제어한다.
광원 구동부(35)는 노광 광원(11)의 점등 또는 소등, 출력, 또는 발진 주파수를 제어하는 것이다. 마스크 스테이지 구동 제어부(36)는 마스크 스테이지(17)의 구동을 제어하는 것이며, 예를 들어 마스크 스테이지(17)의 이동 방향 및 이동량을 제어한다. 제어부(37)는 이들 화상 처리부(31), 연산부(32), 메모리(33), 모터 구동 제어부(34), 광원 구동부(35) 및 마스크 스테이지 구동 제어부(36)의 구동을 제어한다. 이에 의해, 필름의 노광 장치(1)는 예를 들어 마스크(12)의 위치를 조정하거나, 노광 광원(11)에 의한 노광광의 조사의 온/오프를 전환하거나, 또는 필름(2)을 권취 릴(81)에 설치된 모터의 회전 속도 등을 제어할 수 있도록 구성되어 있다.
이에 의해, 본 실시 형태에 있어서는, 예를 들어 도 1에 도시한 바와 같이, 사행에 의해 얼라인먼트 마크(2a)의 위치가 필름의 폭 방향 외측으로 어긋난 경우, 마스크 위치 제어부(30)는 그 어긋난 양을 연산하고, 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 얼라인먼트 마크(2a)가 어긋난 양만큼 필름의 폭 방향 외측으로 이동시킨다. 얼라인먼트 마크(2a)의 위치가 필름의 폭 방향 내측으로 어긋난 경우에 있어서도, 마스크 위치 제어부(30)는 그 어긋남량을 연산하고, 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 얼라인먼트 마크(2a)가 어긋난 양만큼 필름의 폭 방향 내측에 이동시킨다.
레이저 마커(13)는 도 6에 도시한 바와 같이, 갠트리 스테이지(13a), 반송부(13b) 및 마킹부(13c)에 의해 구성되어 있고, 갠트리 스테이지(13a)는 필름이 공급되어 오는 부분의 상방에서 필름의 이동 방향에 대하여 수직의 필름 폭 방향으로 연장되도록 배치되어 있다. 반송부(13b)는 갠트리 스테이지(13a)에 의해 지지되어 있음과 함께, 갠트리 스테이지(13a) 상을 그 길이 방향을 따라서 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 반송부(13b)는 도시하지 않은 제어 장치에 의해 그 위치가 제어되고 있고, 이에 의해 마킹부(13c)의 위치가 조정 가능하다.
마킹부(13c)는 예를 들어 Nd:YAG 레이저 등의 레이저 광원으로부터 레이저광을 출사하고, 도 6에 도시한 바와 같이, 필름 공급부로부터 공급되어 오는 필름(2)의 선단부에 소정 형상, 예를 들어 십자 형상의 인입 마크(2b)를 형성하는 것이다. 마킹부(13c)는 반송부(13b)에 고정되어 있고, 제어 장치에 의해 반송부(13b)의 위치가 제어됨으로써, 필름(2) 상으로의 인입 마크(2b)의 형성 위치를 조정할 수 있도록 구성되어 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 도 7에 도시한 바와 같이, 마킹부(13c)는 4개의 마스크(12)의 각각에 대응하도록, 필름(2)의 선단부에 4개의 인입 마크(2b)를 예를 들어 일정한 간격으로 형성하도록 구성되어 있다.
도 8에 도시한 바와 같이, 라인 CCD(15)(필름 인입 위치 검출부)는 각각의 마스크(12)에 설치된 관찰창(12a) 및 차광 패턴(12b)의 하방에서 필름(2)의 폭 방향으로 연장되도록 배치되어 있고, 필름(2)의 선단부가 라인 CCD(15)의 상방(라인 CCD(15)와 마스크(12)의 사이)에 위치할 때까지 반송되어 왔을 때에, 필름(2)의 선단부에 형성된 인입 마크(2b)의 위치를 검출한다. 또한, 라인 CCD(15)는 마스크(12)의 관찰창(12a)의 중간에 설치된 차광 패턴(12b)을 마스크(12)의 실제의 위치로서 검출한다. 라인 CCD(15)는 마스크 위치 제어부(30)에 접속되어 있고, 검출한 인입 마크(2b) 및 차광 패턴(12b)의 위치를 마스크 위치 제어부(30)에 송신하도록 구성되어 있다.
마스크 위치 제어부(30)는 라인 CCD(15)로부터 송신되어 온 인입 마크(2b) 및 차광 패턴(12b)의 위치로부터 연산된 필름면에 평행한 면에 있어서의 양자간의 거리에 따라, 필름에 최초로 노광을 행할 때의 마스크(12)의 위치도 조정한다. 즉, 마스크 위치 제어부(30)에는, 미리, 인입 마크(2b)의 위치를 기준으로 하여, 설정해야 할 마스크(차광 패턴(12b))의 위치의 데이터가 저장되어 있고, 도 8에 도시한 바와 같이, 마스크 위치 제어부(30)는 라인 CCD(15)에 의해 검출한 인입 마크(2b)의 위치를 기준 위치로 하여, 검출한 차광 패턴(12b)의 위치에 의해 정해지는 마스크 위치가 소정의 위치가 될 때까지 마스크 스테이지(17)의 위치를 이동시킨다. 이에 의해, 본 실시 형태의 노광 장치에 있어서는, 노광을 개시할 때에 있어서도, 필름(2)에 미리 높은 정밀도로 형성한 인입 마크(2b)의 위치를 기준으로 하여 마스크(12)의 위치를 조정할 수 있고, 필름의 노광해야 할 위치를 고정밀도로 정할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 노광 장치(1)에 공급되는 필름(2)은 종래에는 재료막 등이 형성되지 않고 필름 기재(20)가 노출되어 있었던 측부에 측부 도포막(22)이 형성되어 있다. 그리고, 이 측부 도포막(22)은 유색의 유성 잉크가 도포 장치에 의해 도포된 후, 건조 장치(5) 등에서 용매 성분이 휘발에 의해 소실하여 형성된 것이다. 유색의 잉크 또는 컬러 필터용의 레지스트 재료 등에 의해 형성된 측부 도포막(22)은 예를 들어 파장이 532 nm인 레이저광을 조사한 경우에, 레이저광의 흡수율이 90 내지 98%이며, 필름 기재 및 배향막 재료(필름 기재 및 배향막 재료 모두 레이저광의 흡수율은 거의 0%)에 비하여 매우 높고, 또한, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)로부터의 레이저광의 조사에 의해, 용이하게 노광 또는 레이저 가공에 의해 마킹된다. 따라서, 무색 투명의 필름 기재에 레이저광을 조사하여 마킹하는 경우에 비하여 레이저광에 의한 마킹이 용이해서, 얼라인먼트 마크(2a)의 형성이 용이하다. 예를 들어, 필름 기재(20)에 마킹을 행하는 경우에 있어서는, 예를 들어 사용하는 레이저광을 파장이 266 nm인 자외광으로 한 경우에, 레이저광의 조사 에너지를 예를 들어 8 J/㎠로 매우 크게 하지 않으면 얼라인먼트 마크(2a)의 형성이 어렵다. 또한, 배향 재료막에 레이저 마킹을 행하는 경우에 있어서는, 필름 기재(20)만의 경우에 비하여 레이저광의 조사 에너지를 작게 할 수 있지만, 얼라인먼트 마크(2a)의 주위의 배향 재료막도 무색 투명인 것으로부터, 예를 들어 SEM 등의 고가이고 대형의 검출 장치를 사용할 필요가 있어, 노광 장치의 비용이 증대하고, 대형화한다는 문제점이 있다. 그러나, 본 실시 형태와 같이, 측부 도포막(22)을 유색의 잉크에 의해 형성한 경우, 예를 들어 사용하는 레이저광을 파장이 532 nm인 자외광으로 한 경우에, 레이저광의 조사 에너지를 0.6 J/㎠ 정도까지 작게 할 수 있다. 또한, 예를 들어 측부 도포막(22)을 컬러 필터용의 레지스트 재료로 형성한 경우에 있어서는, 레이저광의 조사 에너지는 1.0 J/㎠ 정도까지 작게 할 수 있다. 따라서, 측부 도포막(22)을 상기와 같은 유색 재료로 형성함으로써, 레이저광에 의한 마킹이 용이함과 함께, 형성한 얼라인먼트 마크(2a)의 주위에는 유색의 도포막이 남아있기 때문에, CCD 카메라 등의 저렴하고 소형의 검출 장치를 사용한 경우에 있어서도, 형성한 얼라인먼트 마크(2a)를 용이하게 또한 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 고정밀도로 형성된 얼라인먼트 마크(2a)에 의해, 필름(2)의 사행을 검출하여 마스크(12)의 위치를 고정밀도로 조정할 수 있기 때문에 안정적으로 필름을 노광할 수 있다.
또한, 필름(2)의 선단부에 인입 마크(2b)를 형성하고, 이 인입 마크(2b)의 위치에 따라 마스크(12)의 위치를 조정함으로써, 본 실시 형태에 있어서는, 노광 영역을 상류측과 하류측으로 나눈 경우에, 필름(2)의 리플링 및 폭 방향의 어긋남에 의해, 노광 영역이 중첩되어버리거나, 미노광의 영역이 발생할 일은 없다. 그리고, 마스크(12)의 초기 위치를, 필름(2)의 선단에 형성한 인입 마크(2b)를 기준으로 하여 결정하고 있기 때문에, 상류측의 패턴에 추가로, 하류측의 패턴도 고정밀도로 형성할 수 있다. 이에 의해, 필름을 안정적으로 노광할 수 있다.
또한, 예를 들어 노광광을 출사하는 노광 광원(11)과 얼라인먼트 마크(2a)를 형성하는 레이저 마커(14)는 동일한 레이저광을 겸용함으로써, 노광 장치의 구성을 간략화할 수도 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 필름의 선단부에 인입 마크(2b)를 형성하고, 이것을 라인 CCD(15)로 검출함으로써, 노광을 개시할 때의 마스크(12)의 초기 위치를 조정하고 있지만, 본 발명에 있어서는, 이들 구성은 설치되어 있지 않아도 된다.
이어서, 본 실시 형태의 필름 노광에 있어서의 동작에 대하여 설명한다. 우선, 필름(2)은 노광 장치(1)에 공급되기 전에, 도 9에 도시하는 슬릿 코터(4)에 의해, 필름 기재(20)의 중앙에는 배향막(노광 재료막(21))이 되는 노광 재료가 도포된다. 또한, 필름의 이동 방향에 있어서의 슬릿 코터(4)의 상류측 또는 하류측(건조 장치(5)의 상류측)에 설치된 도포 장치에 의해, 필름 기재(20)의 양쪽 테두리부(테두리부로부터 25 mm까지의 영역)의 적어도 한쪽에는 유색의 잉크가 도포된다. 잉크의 도포 시에는, 예를 들어 펠트질의 섬유 등에 의해 형성된 도포부에 잉크가 침투된 것을 필름 기재(20)의 표면에 접촉시킴으로써, 필름 기재(20)의 표면에 잉크를 막 형상으로 도포한다. 이에 의해, 필름 기재(20)의 표면에는 액상 또는 페이스트상의 노광 재료 및 유색의 잉크가 막 형상으로 도포된다.
이어서, 필름(2)은 건조 장치(5)에 반송되어, 표면의 액상 또는 페이스트상의 노광 재료 및 유색의 도포막 재료(잉크)가 각 재료의 특성에 따라서 건조(용매 성분의 휘발), 광경화, 및/또는 소성(베이크)된다. 이에 의해, 필름 기재(20)의 표면에는 노광 재료막(21)(배향 재료막) 및 측부 도포막(22)이 형성된다. 즉, 필름 기재(20)의 폭 방향의 중앙에는 소정의 배향 재료막이 형성되지만, 필름 기재(20)의 테두리부로부터 25 mm까지의 측부에는 얼라인먼트 마크 형성용의 측부 도포막(22)으로서, 용매 성분이 휘발한 잉크에 의한 막이 형성된다. 그리고, 이 2 종류의 막이 형성된 필름(2)이 예를 들어 반송 롤러(9)에 의해 그 선단부로부터 노광 장치(1) 내에 공급된다. 노광 장치(1) 내에 공급된 필름(2)은 예를 들어 반송 롤러 등의 필름 공급부에 의해, 선단부로부터 레이저 마커(13)의 하방으로 공급되어 간다.
필름(2)의 선단부가 레이저 마커(13)의 하방에 공급되면, 예를 들어 반송 롤러 등의 반송 장치에 의한 필름(2)의 공급을 일단 정지한다. 그리고, 제어 장치에 의한 제어에 의해, 레이저 마커(13)의 반송부(13b)를 갠트리 스테이지(13a) 상에서 이동시킴으로써, 마킹부(13c)를 소정의 위치까지 반송한다. 이에 의해, 마킹부(13c)는 예를 들어 4개의 마스크(12)의 각각에 설치된 관찰창(12a)의 상류측의 어느 한 위치에 배치된다.
마킹부(13c)의 위치가 확정되면, 마킹부(13c)로부터 레이저광을 출사하여 필름(2)의 선단부에, 예를 들어 십자 형상의 인입 마크(2b)를 형성한다. 이때, 필름(2)은 필름 공급부측의 반송 롤러 등에 의해 지지된 상태이기 때문에, 필름(2)의 선단부가 진동하거나 리플링할 일은 없어, 인입 마크(2b)를 고정밀도로 형성할 수 있다. 1군데의 인입 마크(2b)의 형성이 종료하면, 제어 장치는, 예를 들어 반송부(13b)를 갠트리 스테이지(13a) 상에서 이동시킴으로써, 마킹부(13c)를 이동시킨 후, 마찬가지로, 레이저광을 조사하고, 필름의 선단부에 인입 마크(2b)를 형성한다. 그리고, 도 7에 도시한 바와 같이, 필름의 선단부에 4개의 인입 마크(2b)의 형성이 종료하면, 레이저 마커(13)의 동작을 정지하고, 반송 롤러 등에 의한 필름(2)의 반송을 재개한다.
필름(2)은 반송 롤러 등에 의한 반송에 의해, 도 8에 도시한 바와 같이, 선단부가 노광 영역 A 및 C에 대응하여 배치된 마스크(12)(마스크(121, 122))의 하방에 도달한다. 각각의 마스크(12)의 하방의 관찰창(12a)(및 차광 패턴(12b))에 대응하는 위치에는, 필름(2)의 폭 방향으로 연장되도록 라인 CCD(15)가 배치되어 있고, 라인 CCD(15)는 인입 마크(2b)가 라인 CCD(15)의 상방에 위치할 때까지 반송되어 왔을 때에, 인입 마크(2b)의 위치를 검출한다. 또한, 라인 CCD(15)는 마스크(12)의 관찰창(12a)의 중간에 설치된 차광 패턴(12b)의 위치를 검출한다. 이에 의해, 인입 마크(2b)와 마스크(12)의 차광 패턴(12b)과의 사이의 거리를 측정한다. 그리고, 라인 CCD(15)는 검출한 인입 마크(2b)와 차광 패턴(12b) 사이의 거리의 신호를 마스크 위치 제어부(30)에 송신한다. 또한, 라인 CCD(15)에 의한 검출 공정부터 마스크 위치의 조정이 종료될 때까지는, 예를 들어 필름(2)의 반송을 정지해 둔다.
라인 CCD(15)로부터 인입 마크(2b)와 차광 패턴(12b) 사이의 거리의 신호가 입력되면, 마스크 위치 제어부(30)는 우선, 필름면에 평행한 면에 있어서의 양자간의 거리를 미리 저장된 데이터(인입 마크(2b)의 위치를 기준으로 한 마스크(12)의 설정해야 할 초기 위치의 데이터)와 비교한다. 그리고, 차광 패턴(12b)의 위치에 의해 정해지는 마스크 위치가 소정의 초기 위치가 될 때까지 마스크 스테이지(17)를 이동시킨다. 이에 의해, 노광 영역 A 및 C에 있어서의 노광의 개시 전에, 필름(2)을 기준으로 하여, 마스크(12)(마스크(121, 122))의 초기 위치가 고정밀도로 정해진다.
상류측의 마스크(121, 122)의 초기 위치가 정해지면, 필름(2)의 측부에 형성된 측부 도포막(22)에 대하여 얼라인먼트용 레이저 마커(14)에 의한 레이저광의 조사를 개시하고, 레이저광이 조사된 영역을 노광에 의해 마킹하거나, 또는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 마킹한다. 이때, 측부 도포막(22)은 레이저광이 조사된 영역에서 잉크가 제거되어, 필름 기재(20)가 마킹 영역에서 노출되는 경우도 있다. 그러나, 본 실시 형태에 있어서는, 레이저광의 조사 에너지는 작아, 필름 기재 자체가 변질 등의 영향을 받을 일은 없다. 또한, 레이저광의 조사 에너지가 큰 경우에 있어서도, 무색 투명의 필름 기재(20)에는 약간의 흠집이 생기지만, 이 측부 도포막(22)이 형성된 영역은, 표시 장치의 화상 표시 영역에는 사용되지 않는 영역이기 때문에, 문제는 없다.
필름 측부에 형성된 유색 잉크로 이루어지는 측부 도포막은, 레이저광의 흡수율이 필름 기재 및 배향막 재료의 광의 흡수율에 비하여 매우 높다. 따라서, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)로부터 조사하는 레이저광의 조사 에너지가 예를 들어 0.6 J/㎠ 정도까지 작은 경우에 있어서도, 조사 영역의 잉크는 레이저광의 조사에 의한 열에 의해 용이하게 마킹된다. 따라서, 무색 투명의 필름 기재에 레이저광을 조사하여 마킹하는 경우에 비하여 얼라인먼트 마크(2a)의 형성이 용이하고, 그 주위에 남는 도포막도 유색이기 때문에, 얼라인먼트 마크(2a)를 명료하게 또한 고정밀도로 형성할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)의 위치는, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(12)(마스크(121, 122))의 관찰창(12a)(및 차광 패턴(12b))에 대응하는 위치이다. 따라서, 얼라인먼트 마크(2a)는 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(121, 122)에 대한 상대적 거리가 일정해지도록 측부 도포막(22) 상에 형성된다.
얼라인먼트 마크(2a)의 형성을 개시하면, 노광을 개시시키지 않은 상태에서, 필름(2)을 반송 롤러 등에 의해 반송한다. 그렇다면, 도 2에 도시한 바와 같이, 필름(2)은 반송에 의해, 선단부가 하류의 노광 영역 B 및 D에 대응하여 배치된 마스크(12)(마스크(123, 124))의 하방에 도달한다. 각각의 마스크(12)의 하방의 관찰창(12a)(및 차광 패턴(12b))에 대응하는 위치에는, 상류의 경우와 마찬가지로, 필름(2)의 폭 방향으로 연장되도록 라인 CCD(15)가 배치되어 있고, 라인 CCD(15)는 필름의 선단부가 라인 CCD(15)의 상방(라인 CCD(15)와 마스크(12)의 사이)에 위치할 때까지 반송되어 왔을 때에, 필름(2)의 선단부에 형성된 인입 마크(2b)의 위치를 검출한다. 그리고, 상류측의 경우와 마찬가지로, 라인 CCD(15)는 마스크(12)의 관찰창(12a)의 중간에 설치된 차광 패턴(12b)을 마스크(12)의 실제의 위치로서 검출하고, 이에 의해, 인입 마크(2b)와 마스크(12)의 차광 패턴(12b)과의 사이의 거리를 측정한다. 그리고, 검출한 인입 마크(2b)와 차광 패턴(12b) 사이의 거리의 신호를 마스크 위치 제어부(30)에 송신한다. 또한, 하류측의 마스크(12)의 위치에 대응하여 설치된 라인 CCD(15)에 의한 검출 공정부터 하류측의 마스크 위치의 조정이 종료될 때까지는, 예를 들어 필름(2)의 반송을 정지한다. 이때, 얼라인먼트 마크(2a)의 형성을 일시정지시켜도 된다.
라인 CCD(15)로부터 인입 마크(2b)와 하류측 마스크(12)(123, 124)의 차광 패턴(12b)과의 사이의 거리의 신호가 입력되면, 마스크 위치 제어부(30)는 필름면에 평행한 면에 있어서의 양자간의 거리를 미리 저장된 데이터(인입 마크(2b)의 위치를 기준으로 한 마스크(12)의 설정해야 할 초기 위치의 데이터)와 비교한다. 그리고, 차광 패턴(12b)의 위치에 의해 정해지는 마스크 위치가 소정의 초기 위치가 될 때까지 마스크 스테이지(17)를 이동시켜서 하류측 마스크(12)(123, 124)의 위치를 조정한다. 이에 의해, 노광 영역 B 및 D에 있어서의 노광의 개시 전에, 필름(2)을 기준으로 하여, 하류측 마스크(12)(마스크(123, 124))의 초기 위치가 고정밀도로 정해진다.
이상과 같이 하여, 상류측 마스크(121, 122) 및 하류측 마스크(123, 124)의 초기 위치가 정해지면, 반송 롤러 등에 의한 필름(2)의 반송을 재개한다. 그리고, 노광 대상 부위가 각 마스크(12)를 투과한 노광광의 조사 영역에 위치할 때까지 필름(2)을 반송하고, 노광 광원(11)으로부터의 노광광을 마스크(12)에 투과시켜서, 필름(2)의 노광을 개시한다. 이에 의해, 필름(2) 상의 배향막 재료(노광 재료막(21))이 노광광의 조사 각도에 따라서 소정의 방향으로 배향한다. 그리고, 필름(2)을 반송 롤러 등에 의해 공급하면서, 노광 광원(11)으로부터 출사한 노광광을 필름 상의 배향 재료막에 연속적으로 조사하여, 노광 대상 부위를 연속 노광한다. 이에 의해, 필름(2)은 노광 영역 A 및 C에서, 상류측 마스크(121, 122)에 대응하는 패턴(2c)이 형성되고, 노광 영역 B 및 D에서, 하류측 마스크(123, 124)에 대응하는 패턴(2c)이 형성되어, 도 3에 도시한 바와 같이, 각 패턴(2c)이 필름(2)의 반송 방향을 따라서 띠 형상으로 형성되어 간다. 노광 개시 시의 각 마스크(12)의 위치는, 필름(2)에 대하여 일정한 위치에 형성된 인입 마크(2b)에 의해 조정되고 있다. 따라서, 상류측의 2개의 마스크(121, 122)의 위치와 하류측의 2개의 마스크(123, 124)는 필름에 대한 상대적 위치가 고정밀도로 설정되어, 예를 들어 상류측의 마스크(121, 122)에 의한 패턴(2c)과 하류측 마스크(123, 124)에 의한 패턴(2c)이 서로 중첩될 일 없고, 또한, 상호 간에 간극이 형성되지 않고 인접하도록 각 마스크 위치가 설정된다.
반송에 의해, 노광 영역 A 및 C에서 형성된 패턴(2c)은, 이윽고, 하류측 마스크(123, 124)에 대응하는 위치에 가까이 간다. 그러나, 필름의 이동 방향의 하류측의 마스크(12)(123, 124)의 위치는, 상류측의 마스크(12)(121, 122)의 위치로부터 필름의 이동 방향으로 4 m 정도 이격하고 있고, 따라서, 필름에의 노광을 연속적으로 행하여 가는 동안에, 필름의 이동 방향의 하류측에 있어서는, 필름(2)의 사행에 의해, 필름(2)이 마스크(12)에 대하여 그 폭 방향으로 어긋나버린다. 따라서, 상류측 마스크(121, 122)에 의해 형성된 패턴(2c)도 필름(2)의 사행 방향으로 어긋나버려, 하류측 마스크(123, 124)에 의한 노광 영역 B, D에 공급되어버린다.
그러나, 본 실시 형태에 있어서는, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 하류측 마스크(12)(마스크(123, 124))의 관찰창(12a)(및 차광 패턴(12b))에 대응하는 위치에는, 예를 들어 CCD 카메라 등의 얼라인먼트 마크 검출부(16)가 설치되어 있고, 필름(2)의 테두리부로부터 소정의 영역에는, 측부 도포막(22)으로서 유색 잉크에 의한 막이 형성되어 있고, 이 측부 도포막(22)에는, 얼라인먼트 마크(2a)가 명료하게 또한 고정밀도로 형성되어 있다. 이 얼라인먼트 마크(2a)는 상류측 마스크(121, 122)에 대하여 필름의 이동 방향에 수직한 폭 방향에 있어서의 상대적인 위치가 일정해지도록 형성되어 있다. 따라서, 하류측 마스크(123, 124)에 대응하는 위치에서 얼라인먼트 마크(2a)를 검출하고, 필름(2)의 이동 방향의 하류측에 있어서, 얼라인먼트 마크(2a)와 하류측 마스크(123, 124)와의 거리가 일정 간격이 되도록 하류측 마스크(123, 124)의 위치를 조정한다. 즉, 도 1에 도시한 바와 같이, 예를 들어 얼라인먼트 마크(2a)의 위치가 필름의 폭 방향 외측으로 어긋난 경우, 마스크 위치 제어부(30)는 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 얼라인먼트 마크(2a)가 어긋난 양만큼 필름의 폭 방향 외측으로 이동시킨다. 반대로, 얼라인먼트 마크(2a)의 위치가 필름의 폭 방향 내측으로 어긋난 경우에 있어서도, 마스크 위치 제어부(30)는 하류측의 마스크(123 및 124)의 위치를 얼라인먼트 마크(2a)가 어긋난 양만큼 필름의 폭 방향 내측에 이동시킨다. 이와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트 마크(2a)를 기준으로 하여 하류측 마스크(123, 124)의 위치를 조정함으로써, 하류측 마스크에 의한 노광 영역을 상류측 마스크에 의해 형성된 패턴(2c)에 대하여 고정밀도로 조정할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 마스크 위치의 조정에 사용하는 얼라인먼트 마크(2a)의 주위에는 유색 잉크에 의한 도포막이 형성되어 있어, CCD 카메라 등의 저렴하고 소형의 검출 장치를 사용한 경우에 있어서도, 얼라인먼트 마크(2a)를 명료하게 또한 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트 마크(2a)의 검출에 고가이면서 대형의 검출 장치를 사용하지 않고, 필름(2)의 사행을 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 있어서는, 연속 노광 시에, 도 1에 도시한 바와 같이, 필름(2)이 그 폭 방향으로 어긋난 경우에 있어서도, 필름(2)의 이동 방향 하류측의 마스크(12)(123, 124)의 위치를 보정함으로써, 필름(2)에 대한 노광 위치가 어긋나는 일 없이, 안정된 노광을 행할 수 있다. 이에 의해, 필름(2)에는 노광 영역 A 및 C 사이에 의해 형성된 패턴 사이가 노광 영역 B에 의해 노광된 패턴에 의해 매립되고, 노광 영역 C에 의해 형성된 패턴에 인접하도록 노광 영역 D에 의한 패턴이 형성된다. 그리고, 이미 노광 영역 A 및 C에 의해 형성된 패턴과 노광 영역 B 및 D에 의해 형성된 패턴은, 중첩되거나, 미노광의 부분이 남거나 하는 일은 없이, 고정밀도로, 필름의 전체면에 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 공급 릴(80)에 권회된 필름 기재(20)를 권취 릴(81)까지 이동시키는 동안에, 필름 기재(20)의 표면 상에 노광 재료막(21) 및 측부 도포막(22)을 형성하고, 2종류의 재료막이 형성된 필름(2)을 노광 장치에 공급하는 경우에 대하여 설명했지만, 노광 재료막(21) 및 측부 도포막(22)은 노광 장치의 라인과는 다른 라인에서 형성되어도 된다. 예를 들어, 다른 롤투롤의 라인에 있어서, 필름 기재(20)의 표면 상에 노광 재료막(21) 및 측부 도포막(22)의 양쪽 또는 어느 한쪽을 형성하고, 일단, 권취 릴에 권취한다. 노광 재료막(21) 및 측부 도포막(22) 중 어느 한쪽을 필름 기재(20) 상에 형성하는 경우에는, 다른 쪽의 재료막의 형성은, 노광 장치와 같은 라인에서 행해지거나, 또는 다른 롤투롤의 라인에서 행해진다. 그리고, 재료막이 형성된 필름(2)의 롤을 노광 장치(1)의 라인에 있어서의 공급 릴(80)에 설치하고, 2종류의 재료막이 형성된 필름(2)을 노광 장치(1)에 공급한다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 얼라인먼트 마크(2a) 형성용의 레이저 마커(14)는 필름 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(121, 122)에 대응하는 위치에 설치되어 있는 경우에 대하여 설명했지만, 얼라인먼트용 레이저 마커(14)는 예를 들어 상류측 마스크(121, 122)보다도 필름 이동 방향의 상류에 설치되어 있어도 된다. 이 경우에 있어서는, 필름(2)의 이동 방향에 있어서의 상류측 마스크(121, 122)의 위치에 대응시켜서, 상류측 마스크(121, 122)와 필름(2)의 폭 방향으로 배열되도록 새로운 얼라인먼트 마크 검출부(16)를 설치하면 된다. 그리고, 하류측과 마찬가지로, 새롭게 배치한 얼라인먼트 마크 검출부(16)에 의해, 상류측 마스크(121, 122)의 위치에 대응하는 위치에서 얼라인먼트 마크(16a)의 위치를 검출하도록 구성하면 된다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 상류측 및 하류측에 각각 마스크가 2개 배치되어 있는 노광 장치에 의한 노광 방법을 설명했지만, 본 발명은 얼라인먼트 마크의 형성에 의해 필름의 사행을 검출하여 마스크 위치를 조정하는 것이며, 마스크의 수 및 배치 등에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서는, 필름 기재의 폭 방향의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 레이저광의 흡수율을 높인 측부 도포막이 형성된 필름을 공급하고, 이 측부 도포막에 레이저광을 조사하여 얼라인먼트 마크를 형성하므로, 얼라인먼트 마크의 형성이 용이하다. 따라서, 본 발명은 특히, 필름을 연속 노광하는 노광 장치에 있어서, 필름의 사행의 보정에 유익하다.
1: 노광 장치
10: 스테이지
11: 노광 광원
12: 마스크
12a: 관찰창
12b: 차광 패턴
120: 프레임체
121: (제1) 마스크
122: 제2 마스크
123: (제3) 마스크
124: (제4) 마스크
125: 패턴 형성부
125a: (마스크) 패턴
13: 레이저 마커
13a: 갠트리 스테이지
13b: 반송부
13c: 마킹부
14: 얼라인먼트용 레이저 마커
15: 필름 인입 위치 검출부
16: 얼라인먼트 마크 검출부
17: 마스크 스테이지
2: 필름
2a: 얼라인먼트 마크
2b: 인입 마크
2c: 패턴
20: 필름 기재
21: 노광 재료막
22: 측부 도포막
30: 마스크 위치 제어부
31: 화상 처리부
32: 연산부
33: 메모리
34: 모터 구동 제어부
35: 광원 구동부
36: 마스크 스테이지 구동 제어부
37: 제어부
10: 스테이지
11: 노광 광원
12: 마스크
12a: 관찰창
12b: 차광 패턴
120: 프레임체
121: (제1) 마스크
122: 제2 마스크
123: (제3) 마스크
124: (제4) 마스크
125: 패턴 형성부
125a: (마스크) 패턴
13: 레이저 마커
13a: 갠트리 스테이지
13b: 반송부
13c: 마킹부
14: 얼라인먼트용 레이저 마커
15: 필름 인입 위치 검출부
16: 얼라인먼트 마크 검출부
17: 마스크 스테이지
2: 필름
2a: 얼라인먼트 마크
2b: 인입 마크
2c: 패턴
20: 필름 기재
21: 노광 재료막
22: 측부 도포막
30: 마스크 위치 제어부
31: 화상 처리부
32: 연산부
33: 메모리
34: 모터 구동 제어부
35: 광원 구동부
36: 마스크 스테이지 구동 제어부
37: 제어부
Claims (3)
- 필름 기재 상의 노광 패턴 형성용 영역에 노광 재료막이 형성된 필름의 상기 노광 재료막에, 마스크를 통하여 노광광을 조사함으로써, 상기 노광 재료막에 상기 마스크의 패턴을 노광하는 필름 노광 방법에 있어서, 상기 필름 기재의 폭 방향의 양쪽 테두리부의 적어도 한쪽에, 유색의 소성 재료, 유색의 광경화성 재료 또는 유색의 잉크가 도포되어서 측부 도포막이 형성된 필름을 공급하고, 이 측부 도포막에 얼라인먼트 마크용 레이저광을 조사하여 얼라인먼트 마크를 형성하고, 이 얼라인먼트 마크를 사용하여 필름 사행을 검출하고, 상기 마스크의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는 필름 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 노광 재료막 및/또는 상기 측부 도포막은, 공급 릴에 권회된 필름 기재를, 상기 공급 릴로부터 권취 릴까지 이동시키는 동안에 있어서의 상기 얼라인먼트 마크용 레이저광의 조사 전에, 상기 필름 기재 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 필름 노광 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 마스크는, 상기 필름의 이동 방향의 상류측 및 하류측에 각각 배치되어 있고, 상기 필름의 이동 방향의 상류측 및 하류측에서 상기 노광 재료막에 각각 상기 상류측 마스크와 하류측 마스크의 패턴을 노광하는 것이며,
상기 필름의 이동 방향에 있어서의 상기 상류측 마스크의 위치에 대응하는 위치에서 상기 측부 도포막에 상기 얼라인먼트 마크를 형성하고, 상기 필름의 이동 방향에 있어서의 상기 하류측 마스크의 위치에 대응하는 위치에서 상기 얼라인먼트 마크를 검출함으로써, 상기 필름이 상기 상류측 마스크에 의한 노광 영역으로부터 상기 하류측 마스크에 의한 노광 영역까지 이동할 때까지 발생한 필름 사행을 검출하고, 상기 필름에 대한 하류측 마스크의 상대적 위치를 상기 필름 사행에 의해 어긋난 양만큼 보정하는 것을 특징으로 하는 필름 노광 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010252206A JP5685756B2 (ja) | 2010-11-10 | 2010-11-10 | フィルム露光方法 |
JPJP-P-2010-252206 | 2010-11-10 | ||
PCT/JP2011/074455 WO2012063632A1 (ja) | 2010-11-10 | 2011-10-24 | フィルム露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140006804A true KR20140006804A (ko) | 2014-01-16 |
KR101781245B1 KR101781245B1 (ko) | 2017-09-22 |
Family
ID=46050784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020137014751A KR101781245B1 (ko) | 2010-11-10 | 2011-10-24 | 필름 노광 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8883380B2 (ko) |
JP (1) | JP5685756B2 (ko) |
KR (1) | KR101781245B1 (ko) |
CN (1) | CN103314328B (ko) |
TW (1) | TWI515704B (ko) |
WO (1) | WO2012063632A1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201314374A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Chimei Innolux Corp | 配向膜之光配向裝置及配向膜製造方法及液晶顯示裝置製造方法 |
FI124325B (fi) * | 2012-06-08 | 2014-06-30 | Tecnomar Oy | Laserprosessin kohdistuksen mittausmenetelmä |
JP5963194B2 (ja) * | 2012-07-17 | 2016-08-03 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
CN107077080B (zh) * | 2015-01-15 | 2019-04-26 | 株式会社村田制作所 | 曝光装置 |
JP6729954B1 (ja) * | 2019-10-18 | 2020-07-29 | 株式会社 ベアック | 露光装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62294252A (ja) | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | 露光機 |
JP2682002B2 (ja) * | 1988-02-22 | 1997-11-26 | 日本精工株式会社 | 露光装置の位置合わせ方法及び装置 |
JPH10339954A (ja) * | 1997-06-09 | 1998-12-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | リードフレーム露光装置 |
JP3417313B2 (ja) * | 1998-09-28 | 2003-06-16 | ウシオ電機株式会社 | 帯状ワークの露光装置 |
JP2001060008A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 露光方法およびこれを用いた電子部品の製造方法 |
JP3409769B2 (ja) * | 2000-03-17 | 2003-05-26 | ウシオ電機株式会社 | 帯状ワークの露光装置 |
TWI246382B (en) | 2000-11-08 | 2005-12-21 | Orbotech Ltd | Multi-layer printed circuit board fabrication system and method |
JP2004252313A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 露光装置 |
JP4328301B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2009-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
JP4472403B2 (ja) | 2004-03-29 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
JP2006235533A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Nikon Corp | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP4304165B2 (ja) | 2005-04-08 | 2009-07-29 | 株式会社 インテグレイテッド ソリューションズ | 露光方法および露光装置 |
CN100570492C (zh) * | 2005-11-04 | 2009-12-16 | 株式会社Orc制作所 | 周边曝光装置及其方法 |
JP2007310209A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Nsk Ltd | 露光装置 |
KR101118854B1 (ko) | 2007-05-10 | 2012-03-22 | 상에이 기켄 가부시키가이샤 | 노광방법 및 노광장치 |
JP5076233B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2012-11-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 |
JP2009265313A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Nsk Ltd | スキャン露光装置並びにスキャン露光方法 |
JP5424271B2 (ja) * | 2010-11-08 | 2014-02-26 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
-
2010
- 2010-11-10 JP JP2010252206A patent/JP5685756B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-10-24 KR KR1020137014751A patent/KR101781245B1/ko active IP Right Grant
- 2011-10-24 CN CN201180064668.7A patent/CN103314328B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-24 WO PCT/JP2011/074455 patent/WO2012063632A1/ja active Application Filing
- 2011-10-24 US US13/884,192 patent/US8883380B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-04 TW TW100140367A patent/TWI515704B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201227644A (en) | 2012-07-01 |
CN103314328B (zh) | 2015-08-26 |
US20130230799A1 (en) | 2013-09-05 |
KR101781245B1 (ko) | 2017-09-22 |
WO2012063632A1 (ja) | 2012-05-18 |
JP5685756B2 (ja) | 2015-03-18 |
CN103314328A (zh) | 2013-09-18 |
JP2012103500A (ja) | 2012-05-31 |
US8883380B2 (en) | 2014-11-11 |
TWI515704B (zh) | 2016-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5424271B2 (ja) | 露光装置 | |
TWI712867B (zh) | 直接描繪曝光裝置 | |
KR101787137B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
KR20140006804A (ko) | 필름 노광 방법 | |
CN104620178A (zh) | 基板处理装置及元件制造方法 | |
JP5678334B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5477862B2 (ja) | フィルム露光装置及びフィルム露光方法 | |
JP2010026369A (ja) | 近接露光装置 | |
JP5817564B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5895422B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5963194B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5688637B2 (ja) | 露光方法及び露光位置の確認方法 | |
TWI536115B (zh) | 膜片之曝光裝置 | |
JP2013064872A (ja) | 露光装置 | |
JP2006323188A (ja) | 露光方法および露光装置 | |
JP2013097276A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |