JP2010026369A - 近接露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被露光体Wを載置して、搬送する搬送ステージ4と、被露光体Wに露光すべき露光パターンが配設された露光マスク31と、搬送ステージ4の上方に配設されて、露光マスク31を少なくとも1つ以上を保持するマスクホルダ30と、マスクホルダ30を被露光体Wの搬送方向に傾斜して保持するマスクスホルダ駆動装置32と、マスクスホルダ32の上方に配設された露光用の光源2aと、を有する。
【選択図】図1
Description
そこで、前記盛り上がりを防止する方法として、露光マスクと被露光体である基板との間隙(以下「プロキシミティギャップ」という。)を調整して、デフォーカス露光をすることにより、前記重なり部分に対する露光量を低減させて該重なり部分を現像により溶解除去され易くして、前記盛り上がり量を低減する方法(特許文献1)や、露光マスクの露光光の透過部(以下、単に「透光孔)という。」の形状がブラックマトリックスの開口部(上記、絵素部予定箇所)(以下、単に「ピクセル」という。)周縁より数μm内側にあるものを用いて、各絵素部をブラックマトリックスのピクセルの内側に島状に設ける方法(特許文献2)等が知られている。
また、出願人は、所定のピッチで配設された、同一形状の複数の透光孔から構成される領域と、それに続き、前記所定のピッチで配設された、前記透光孔の形状と相似形状の複数の透光部から構成される領域と、を有する露光マスクを用いて、複数の相似形の露光光を、被露光体に重ねて照射することによって、前記盛り上がり量を低減する方法を提案している(特許文献3)
また、相似形の複数の露光パターンを用いる方法では、露光光の強度、前記ネガ型感光性組成物被露光体の露光特性によって、相似形の露光パターンの形状別の個数比率が異なる場合がある。
即ち、請求項1に係る近接露光装置は、平板状の被露光体を載置して、一定の方向に搬送する搬送ステージと、前記被露光体に露光すべき露光パターンが配設された露光マスクと、
前記搬送ステージの上方に配設されて、前記露光マスクを少なくとも1つ以上を保持するマスクホルダと、前記マスクホルダを前記被露光体の搬送方向に傾斜して保持するマスクスホルダ駆動装置と、前記マスクスホルダの上方に配設された露光用の光源と、を有することを特徴としている。
前記露光マスクが前記露光対象基板と前記搬送方向に角度を有するため、前記露光パターンを順にデフォーカス状態にでき、前記重なり部分に対する露光光量を低減させることができる。
また、前記露光マスクと前記露光対象基板とがX軸方向に角度をもっているため、露光マスクと露光対象基板との間における気体が一方向に流れやすくなり、その流れによって、露光マスク周囲の気体が、同じ方向に誘引される。
これによって、露光生成ガスが露光マスクと露光対象基板との間に滞留しにくくなり、露光マスクの汚れが軽減される。
近接露光装置1は、露光用光源ユニット2と、露光マスクユニット3と、露光対象基板を搬送するワーク搬送装置4と、ワーク搬送装置4を跨ぐビーム5と、照明用光源6と、撮像手段7と、これらを制御する制御装置(図示せず。)と、を備えている。
以下の説明では、前記露光対象基板が、感光性樹脂としてのカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板(以下、単に「ワークW」という。)(図11)の場合について述べる。
また、照明用光源6は、平行な白色光を、後述の露光マスク31の覗き窓31c部分(図3)に照射するものである。
また、β軸駆動手段32βは、マスクホルダ30をβ軸で回動するためのものであって、マスクホルダ30上の露光マスク31とワークWとの成すY軸方向の角度を平行にセットするものである。
さらに、θ軸駆動手段32θは、マスクホルダ30をθ軸で回動するためのものであって、マスクホルダ30上の露光マスク31の露光パターン31cのX軸方向の並びを後述のワークWの搬送方向と平行にするものである。
なお、各θ軸の回転中心はマスクホルダ30の平面視の中心に位置し、また、β軸の回転中心はマスクホルダ30のY軸方向中心線上に位置し、さらに、α軸の回転中心はマスクホルダ30のY軸方向に平行な一方の辺上に位置している。
これによって、露光マスク31に照射された露光光は、遮光膜31bで反射されて、マスクパターン31e以外の面を通ってワークWを照射することがないようになっている。
なお、露光マスク31は、マスク側覗き窓31cがワークWの搬送方向Aの上流側(図1の右側)になるようにマスクホルダ30にセットされる。
また、図3のように、例えば中央部に位置するマスクパターン31eのY軸方向のエッジS2が基準位置として予め設定されている。
ステージ40は、上面に、図示しない、気体を噴出する多数の噴出孔と気体を吸引する多数の吸引口を有し、図示しない圧縮気体供給装置及び気体吸引装置に接続されて、気体の噴出、吸引のバランスによりワークWをステージ40の上に浮上させるようになっており、露光マスク31に対向する部分は、開口しており、この開口部分40aには、フォトマスク31による露光位置のワークWの搬送方向(矢印A)手前側の位置(図4)で、且つ、フォトマスク31のマスク側覗き窓31cの直下に、ワークWを下側から撮像するための撮像手段7が、フォトマスク31に向かって設けられている。
そして、図9のように、光学部材駆動装置72bは、光学部材72aを保持するホルダー72b1と、ホルダー72b1の対向する2辺を支持し前記矢印Bの方向に移動可能にする一対のガイド72b2、72b2と、前記一方のガイド72b2に沿って設けられたボールスクリュー図示せず)と、このボールスクリューに勘合し、ホルダー72b1に取り付けられたボールナット(図示せず)と、前記ボールスクリューの一端に取り付けられて、このボールスクリューを回転させる駆動用モータ72b3と、駆動用モータ72b3に取り付けられたロータリーエンコーダ(図示せず)を有している。
そして、ラインセンサ70は、ラインセンサ70を構成する一列の受光素子70a群のうちの所定の受光素子70aが、露光マスク31のマスク側アライメントマーク31dのエッジS1に対応するように、配置されている。
そして、前記複数の階段状の平面(以下、単に「階段部」という)(72a2〜72a7)の基準面72a1からの厚みは夫々t1〜t6になっている。
そして、この厚みt1〜t6は、レンズ系71の倍率、焦点深度、必要とする光路長差、光学部材72aの材質によって異なるが、例えば、レンズ系51の倍率が5倍、光学部材72aの材質の屈折率が1.5168、焦点深度が±20μmであって、必要とする光路長差が150μm〜350μmの範囲で、この光路長差の補正を1μm単位で設定する場合、t1からt6は、夫々7.3mm、9.4mm、11.6mm、13.7mm、15.8mm、18mmになる。
なお、上記光路長差は以下の式によって求められるものである。
光路長差=T×(N−1)/(N×M2)
但し、T:光学部材の厚さ、N:光学部材の屈折率、M:レンズ系倍率
したがって、前記レンズ系の焦点位置を各光学部材の平面部の表面に一致させた状態にすると、各光学部材の平面部(前記t1からt6)の光路長調整可能範囲は、夫々117〜157μm、157〜197μm、197〜237μm、237〜277μm、277〜317μm、317〜357μmとなる。
即ち、図6のように、撮像手段7によりワークWの基板側アライメントマークWBを撮像している状態(集光点Fがラインセンサ70上に一致している状態)においては、撮像手段7のレンズ系71からの光学的距離がワークWの基板側アライメントマークWBよりも遠い露光マスク31のマスク側アライメントマーク31dから発した光イは、そのままでは、撮像素子70aの手前側に結像してしまうが、光路長補正手段72の光学部材72aを通過することにより、光路長が長くなり、光イをラインセンサ70上に集光させることができる。これにより、マスク側アライメントマーク31dと基板側アライメントマークWBを同時にラインセンサ50上に結像させることができる。
ここで、使用されるワークWは、図10のように、透明なガラス基板の一面にCr等からなる不透明膜が形成され、その不透明膜上の露光領域内に複数のピクセルWPがマトリクス状に形成された面に紫外線硬化性のカラーレジスト(赤、青、緑)が塗布されている。
なお、露光作業の前に、露光マスク31とワークWのX軸方向の角度α1(図4)、露光光の強度、フラッシュ回数をパラメータとする試験結果から最適露光条件(前記重なり部分の厚みが最小になる条件。)が決定されている。
この初期状態とは、各露光マスク31間のピッチ、各露光マスク31とワークWとのY軸方向の平行度、各露光マスク31とワークWとのX軸方向の成す角度α1、各露光マスク31とワークWとの最小ギャップが所定の状態になっている状態を意味する。
なお、露光マスク31とワークWとのX軸方向の成す角度α1は、ワークWの搬送方向Aの下流側にしたがって、開くようにセットされる。
これによって、露光パターン31eのワークW上への投影図は、図13のように順に大きくなっていく。但し、露光パターン31eの投影図の幅が、Y軸方向に隣接するピクセルWPとの間の中間線LNを越えないように、角度α1は決められている。
また、露光作業中に、露光マスク31とワークWとの間の気体が露光光で加熱されて、膨張する際に、ワークWの搬送方向下流側に向かって膨張し、露光マスク31とワークW1との間に気体の流れが生じやすくなる(図4の矢印ロ)。
次に、ワークWと露光マスク31の夫々の撮像手段7からの光学的距離(L1、L2)の差を算出して、光学的距離の差を補正するに見合った、光学部材72aの厚み部(例えば、72a3)を、光学部材駆動装72bの駆動用モータ72b3を作動させることによって、ラインセンサ70のマスク側アライメントマーク31dの撮像を分担する部分の光軸上に位置させる。
これによって、ワークWの基板側アライメントマークWBと、露光マスク31のマスク側アライメントマーク31dとが、同時にラインセンサ70に結像できる状態になる。
このとき、ワークWの基板側アライメントマークWBのエッジS5を、検出したラインセンサ70の受光素子70aのセル番号と、露光マスク31のマスク側アライメントマーク31dのエッジS1を検出したラインセンサ70の受光素子70aのセル番号とが読み取られ、その距離Lyが演算される。そして、予め設定して記憶された所定の距離L0と比較される。
なお、距離Lyが所定の許容範囲内(L0±β)である状態ということは、露光光によって露光パターン31eがピクセルWP上にズレなく転写される状態に位置決めされている状態でもある。
そして、上記距離Lyが所定の許容範囲内で不一致の場合には、例えばワークWが別種類のもの、又は前記ワークWの不透明膜の形成不良品と判断し、この場合には露光が停止されて警報が出される。
詳しくは、ラインセンサ70によって基板側アライメントマークW2のエッジS5Bが検出された時点からラインセンサ70と露光パターン31e(ワークWの搬送方向の第一番目の露光パターン31e)のY軸と平行なエッジのワークWの搬送方向下流側のエッジとのX軸方向間隔Lx1(図4)に、基板側アライメントマークWBのエッジS5BとピクセルWPのエッジS7とのX軸方向の間隔Lx2(図12)を加えた長さを、ワークWの搬送速度Wvで除して得られる時間(T1)に達した時点から光源2aの点滅が開始され、ピクセルWPのピッチPx間隔(ピッチPxをワークWの搬送速度Wvで除して得られる時間(T2)間隔)で点滅が継続される。
その結果、各ピクセルWPに対する露光パターン31eの投影面積は図13のようになるため、前記重なり部分の露光光量がピクセルWP内より順に減少し、この部分の厚みが薄くなだらかになる(図14(b))。
これにより、ワークWが矢印Aで示す搬送方向と直交する方向に蛇行しながら搬送されても露光マスク31はそれに追従して動かされて、目標とする位置に露光マスク31のマスクパターン31eの像が精度よく転写されることになる。
2:露光用光源ユニット
2a:露光用光源
2b:光学系
3:露光マスクユニット
4:ワーク搬送装置
5:ビーム
6:照明ユニット
6a:照明用光源
7:撮像手段
30:マスクホルダ
31:露光マスク
31d:マスク側アライメントマーク
31e:マスク側覗き窓
32:マスクホルダ駆動手段
40:ステージ
70:ラインセンサ
70a:受光素子
71:レンズ系
72:光路長補正手段
72a:光学部材
W:ワーク
WB:基板側アライメントマーク
WP:ピクセル
Claims (2)
- 平板状の被露光体を載置して、一定の方向に搬送する搬送ステージと、前記被露光体に露光すべき露光パターンが配設された露光マスクと、前記搬送ステージの上方に配設されて、前記露光マスクを少なくとも1つ以上を保持するマスクホルダと、前記マスクホルダを前記被露光体の搬送方向に傾斜して保持するマスクスホルダ駆動装置と前記マスクスホルダの上方に配設された露光用の光源と、を有することを特徴とする近接露光装置。
- 前記マスクステージの四隅に前記平板状の被露光体との間隙を検知するためのギャップセンサが配設されていることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
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