WO2012046552A1 - 硬化物の製造方法及び硬化物 - Google Patents

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WO2012046552A1
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curing
cured product
epoxy resin
resin composition
curable
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PCT/JP2011/070989
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平川裕之
巽淳郎
佐藤篤志
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Daicel Corp
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Daicel Chemical Industries Ltd
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C08G59/24Di-epoxy compounds carbocyclic
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    • HELECTRICITY
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    • H10W74/40Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a cured product, a cured product, a sealing material including the cured product, and an optical semiconductor device including the sealing material.
  • a resin used for an optical semiconductor device is required to have high light transmittance, luminous intensity retention, and excellent crack resistance in a heat cycle test.
  • a curing catalyst is used to divide the curing temperature into several stages and the curing proceeds in stages, or an alicyclic epoxy resin and a bisphenol A type epoxy resin having an aromatic ring are mixed. The method is taken.
  • workability is poor and sufficient crack resistance cannot be obtained
  • the latter method there is a drawback in that the luminous intensity retention is reduced due to the aromatic ring.
  • Patent Document 1 includes an alicyclic epoxy resin containing 2,4-bis (hydroxymethyl) and a curing catalyst, which comprises 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate as an epoxy resin.
  • a curing catalyst which comprises 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate as an epoxy resin.
  • Including both cycloaliphatic epoxy resins composed of 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 1-butanol and at least one of the compounds represented by the following formula (A) or (B) Is a cured product obtained by curing a composition containing 0.01% by mass to 1% by mass with respect to the total mass of the translucent sealing material. This cured product is cured at 120 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 1 hour, and has poor crack resistance
  • Patent Document 2 describes an epoxy resin obtained by thermosetting bisphenol A diglycidyl ether as an epoxy resin using an acid anhydride curing agent and a curing accelerator.
  • Patent Document 2 when it is desired to reduce the internal stress of the cured product, it is precured at about 80 ° C. to 130 ° C. for about 0.5 hours to 5 hours, and then at about 130 ° C. to 180 ° C. for about 0.1 hour.
  • post-curing under conditions of about 1 to 15 hours.
  • a cured product is prepared by pre-curing at 120 ° C. for 1 hour and then post-curing at 150 ° C. for 3 hours.
  • the obtained cured product has poor crack resistance.
  • the yellow index after heat treatment at 150 ° C. for 5 days is increased by 15.2, and thermal yellowing is observed.
  • An object of the present invention is a cured product that is excellent in transparency, light resistance (lightness retention, etc.) and excellent in crack resistance in a heat cycle test, and is suitable for, for example, a sealing material for an optical semiconductor device. It is to provide a method for curing an object. Another object of the present invention is to provide a cured product which is cured by the curing method and has excellent transparency and light resistance and excellent crack resistance in a heat cycle test. Another object of the present invention is to provide a sealing material and an optical semiconductor device, which contain the cured product, which are excellent in transparency and light resistance and excellent in crack resistance in a heat cycle test.
  • the present inventors have determined that the alicyclic epoxy compound is 60% by weight or more based on the total amount of the curable component, a curing agent such as an acid anhydride, and a curing accelerator.
  • a curing agent such as an acid anhydride
  • a curing accelerator such as an acid anhydride
  • this invention contains an alicyclic epoxy compound (A), a hardening
  • a method for producing a cured product comprising curing a curable epoxy resin composition that is 60% by weight or more based on the total amount of the curable component under a curing condition of a temperature of 95 ° C. or higher and 135 ° C. or lower and 4.5 hours or longer. I will provide a.
  • this invention provides the hardened
  • this invention provides the sealing material containing the said hardened
  • the transparency is excellent, for example, when used as a sealing material for an optical semiconductor device, light resistance, heat cycle test A cured product, a sealing material, and a semiconductor device excellent in crack resistance can be obtained.
  • cured material of this invention contains an alicyclic epoxy compound (A), a hardening
  • a curable epoxy resin composition having a content of 60% by weight or more based on the total amount of the curable component is cured under curing conditions of a temperature of 95 ° C. or more and 135 ° C. or less and 4.5 hours or more.
  • the curable epoxy resin composition is cured under curing conditions of a temperature of 95 ° C. or more and 135 ° C. or less and 4.5 hours or more.
  • curing can be performed by placing the curable epoxy resin composition at a predetermined temperature for a predetermined time, for example, without putting it in a predetermined mold. Curing may be performed continuously for a predetermined time without an interval, or may be taken in the middle. When taking an interval, the curing time indicates a total time of curing times processed at a predetermined temperature before and after the interval.
  • the curing temperature is 95 ° C or higher and 135 ° C or lower, preferably 100 ° C or higher and lower than 130 ° C, and more preferably 100 ° C or higher and 120 ° C or lower.
  • the curing temperature may be in the above temperature range, and may be constant or several different temperatures.
  • the interval refers to the time when the temperature is lower than 95 ° C., and may be near room temperature (for example, about 25 ° C.). In this interval, the curable epoxy resin composition may be removed from the mold, and the curable epoxy resin composition removed from the mold may be further cured at the curing temperature.
  • the curing temperature may be constant or may vary within a temperature range of 95 ° C to 135 ° C. In particular, the curing temperature is preferably constant regardless of the presence or absence of an interval.
  • Curing time is 4.5 hours or more (for example, 4.5 hours or more and 24 hours or less), preferably 5 hours or more and 20 hours or less, more preferably 5 hours or more and 16 hours or less.
  • the interval can be 30 minutes or longer (for example, 30 minutes to 30 days).
  • the interval is preferably 30 minutes to 10 days, more preferably 30 minutes to 3 days.
  • the curable epoxy resin composition is put into a predetermined mold, cured at a predetermined temperature for 1 to 2 hours, and then the curable epoxy resin composition is allowed to cool to near room temperature, and then is removed from the mold. Removal and subsequent curing at the predetermined temperature for the remaining time.
  • cured material excellent in the crack resistance in a heat cycle test is obtained by hardening
  • the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention includes an alicyclic epoxy compound (A), a curing agent (B), and a curing accelerator (C) as a curable component, Content of this alicyclic epoxy compound (A) is 60 weight% or more with respect to curable component whole quantity.
  • the alicyclic epoxy compound (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having an aliphatic ring.
  • the compound having an epoxy group and (ii) a compound in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond are preferable.
  • the compound having an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring can be arbitrarily selected from known ones.
  • As the alicyclic epoxy group a cyclohexene oxide group is preferable.
  • X represents a linking group (a divalent group having one or more atoms), for example, a single bond, a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide. A group and a group in which a plurality of these groups are linked.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group.
  • Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, ethylene, propylene, and trimethylene groups.
  • Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene, 1,3-cyclopentylene, cyclopentylidene, 1,2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, 1, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as 4-cyclohexylene and cyclohexylidene groups.
  • the linking group X is preferably a linking group containing an oxygen atom, specifically, —CO—, —O—CO—O—, —COO—, —O—, —CONH—; A group in which one or two of these groups are linked to one or more of divalent hydrocarbon groups, and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group include the aforementioned groups.
  • Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-8).
  • commercially available products such as Celoxide 2021P and Celoxide 2081 (manufactured by Daicel Chemical Industries) can also be used.
  • l and m represent an integer of 1 to 30.
  • R is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is a linear or branched alkylene group such as methylene, ethylene, propylene, isopropylene, butylene, isobutylene, s-butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene group or the like.
  • linear or branched alkylene groups having 1 to 3 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene and isopropylene groups are preferred.
  • Examples of the compound in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (II).
  • R ′ is a group obtained by removing p —OH from a p-valent alcohol; p and n represent natural numbers.
  • the p-valent alcohol [R ′-(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms, etc.).
  • p is preferably 1 to 6
  • n is preferably 1 to 30.
  • n in each () group may be the same or different.
  • the compound examples include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol, EHPE 3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries), and the like. Is mentioned.
  • the above-exemplified compounds can be used singly or in combination of two or more kinds, for example, Celoxide 2021P, Celoxide 2081, EHPE 3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries), etc. Commercial products can be preferably used.
  • the content of the alicyclic epoxy compound (A) is 60% by weight or more (for example, 60 to 100% by weight) with respect to the total amount of the curable component contained in the curable epoxy resin composition.
  • the curable component is a curable compound that is cured by heat or radiation.
  • the content of the alicyclic epoxy compound (A) is preferably 70% by weight (70 to 100% by weight), more preferably 80% by weight or more (80 to 100% by weight) with respect to the total amount of the curable component. can do.
  • the said content is content of the sum total, when using 2 or more types of alicyclic epoxy compounds (A).
  • the total content of curable components in the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention is, for example, 30 to 90% by weight, preferably 40 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight. It is. By setting the content of the curable component in the curable epoxy resin composition within the above range, a resin composition having excellent curability can be obtained.
  • the curable epoxy resin composition used in the present invention may contain an epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound (A).
  • the epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound (A) include dioctyl epoxyhexahydrophthalate, bis (2-ethylhexyl) epoxyhexahydrophthalate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol.
  • an oligomer type radiation curable resin having an epoxy group inside can also be used.
  • examples thereof include epoxidized polybutadiene (product names: Epolide PB3600, PB4700, Daicel Chemical Industries, Ltd.), epoxidized styrene butadiene teleblock copolymer (product names: Epofriend AT501, Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.
  • novolak-type epoxy resins such as phenols, cresols, halogenated phenols and alkylphenols
  • novolaks obtained by reacting formaldehyde with an acidic catalyst and epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin.
  • a bisphenol type epoxy resin obtained by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S and tetrabromobisphenol A with epichlorohydrin, or a condensate of diglycidyl ether of bisphenol A with the bisphenols and epichlorohydrin And bisphenol type epoxy resins (product names: Epicoat 1004, Epicoat 1002, Yuka Shell Co., Ltd., product names: DER-330, DER-337, Dow Chemical Co.).
  • an epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound (A) the above-exemplified compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • an epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound (A) an epoxy compound having an aromatic ring such as a bisphenol A type epoxy resin can be preferably used. Epoxy compounds other than the alicyclic epoxy compound (A) may not be used.
  • the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention contains a curing agent (B).
  • the curing agent (B) has a function of curing the compound having an epoxy group.
  • a conventionally known curing agent can be used as a curing agent for epoxy resin.
  • the curing agent (B) in the present invention is preferably an acid anhydride that is liquid at 25 ° C., and examples thereof include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, and methyl endo. And methylenetetrahydrophthalic anhydride.
  • acid anhydrides that are solid at room temperature (25 ° C.) such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, are liquid acid anhydrides at room temperature (25 ° C.)
  • the curing agent (B) can be used as the curing agent (B) in the present invention by dissolving in a product to form a liquid mixture.
  • commercially available products such as Colombiacid MH-700 (manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.) and HN-5500 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) can also be used.
  • the curing agent (B) may be used singly or as a mixture of two or more kinds in an arbitrary ratio.
  • the amount used thereof is, for example, 50 to 150 parts by weight, preferably 100 to 145 parts by weight, more specifically with respect to 100 parts by weight of the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. Is preferably used in a ratio of 0.5 to 1.5 equivalents per 1 equivalent of epoxy groups in all the compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition.
  • the amount of the curing agent (B) used is less than 50 parts by weight, the effect becomes insufficient and the toughness of the cured product tends to be reduced, while the amount of the curing agent (B) used exceeds 150 parts by weight.
  • the said usage-amount is the usage-amount of the sum total, when using 2 or more types of hardening
  • the curing agent (B) is preferably used at a ratio of 0.5 to 1.5 equivalents per equivalent of epoxy group in the compound having all epoxy groups contained in the curable epoxy resin composition. Because it is used, there are many reaction points at the time of curing, and since the curable epoxy resin composition is cured at a low temperature of 95 ° C. or more and 135 ° C. or less, the curing proceeds gently and uniformly, and the heat cycle test It is considered that a cured product having excellent crack resistance is produced.
  • the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention contains a curing accelerator (C).
  • a hardening accelerator (C) is a compound which has a function which accelerates
  • a well-known and commonly used curing accelerator can be used as the curing accelerator (C) which may be contained in the curable epoxy resin composition of the present invention. For example, 1,8-diazabicyclo [5.4.
  • DBU undecene-7
  • DBN Nonene-5
  • salts for example, phosphonium salt, sulfonium salt, quaternary ammonium salt, iodonium salt
  • benzyldimethylamine, 2,4,6-tris dimethylaminomethyl
  • phenol octylate
  • p-toluenesulfonate formate
  • tetraphenylborate salt 1,5-diazabicyclo [4.3.0]
  • Nonene-5 (DBN) and its salts for example, phosphonium salt, sulfonium salt, quaternary ammonium salt, iodonium salt
  • benzyldimethylamine, 2,4,6-tris dimethylaminomethyl
  • benzyldimethylamine 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N— Tertiary amines such as dimethylcyclohexylamine
  • U-CAT SA 506, U-CAT SA 102, U-CAT 5003, U-CAT 18X, 12XD are used as the curing accelerator (C).
  • Commercial products such as -K, TPP-MK (all manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) and PX-4ET (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) can also be used.
  • the curing accelerator (C) may be used singly or in combination of two or more in any ratio.
  • the amount used thereof is, for example, 0.05 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 3 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition.
  • the amount is particularly preferably 0.2 to 3 parts by weight, and most preferably about 0.25 to 2.5 parts by weight.
  • the amount of the curing accelerator (C) used is less than 0.05 parts by weight, the curing acceleration effect may be insufficient.
  • the amount of the curing accelerator (C) used exceeds 5 parts by weight, The cured product may be colored to deteriorate the hue.
  • the said usage-amount is the usage-amount of the sum total, when using 2 or more types of hardening accelerators (C).
  • the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention may further contain an inorganic filler.
  • the inorganic filler is not particularly limited, but silica, alumina, mica, synthetic mica, talc, calcium oxide, calcium carbonate, zirconium oxide, titanium oxide, barium titanate, kaolin, bentonite, diatomaceous earth, boron nitride, nitriding
  • One or more kinds of aluminum, silicon carbide, zinc oxide, cerium oxide, cesium oxide, magnesium oxide, glass beads, glass fiber, graphite, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, cellulose and the like can be used.
  • Examples of the inorganic filler include nano silica, nano titania, nano zirconia, and carbon nanotube.
  • inorganic fillers can be produced by a known method such as a flame hydrolysis method, a flame pyrolysis method, or a plasma method described in, for example, International Publication No. 96/31572.
  • a flame hydrolysis method a flame pyrolysis method
  • a plasma method described in, for example, International Publication No. 96/31572.
  • stabilized colloidal inorganic particle nano-dispersed sols and the like can be used, and commercially available products include BAYER silica sol, Goldschmidt SnO 2 sol, MERCK
  • Commercially available products such as TiO 2 sols, SiO 2 , ZrO 2 , A1 2 O 3 and Sb 2 O 3 sols from Nissan Chemicals or Aerosil dispersions from DEGUSSA are available.
  • Inorganic fillers can change their viscosity behavior by surface modification.
  • the surface modification of the particles can be performed using a known surface modifier.
  • a surface modifier for example, a compound capable of interacting with a functional group present on the surface of the inorganic filler such as a covalent bond or complex formation, or a compound capable of interacting with a polymer matrix may be used. it can.
  • Examples of such surface modifiers include carboxyl groups, (primary, secondary, and tertiary) amino groups, quaternary ammonium groups, carbonyl groups, glycidyl groups, vinyl groups, )
  • a compound having a functional group such as acryloxy group or mercapto group can be used.
  • Such a surface modifier is usually a liquid under standard temperature and pressure conditions, and is composed of a low molecular organic compound having a carbon number in the molecule of, for example, 15 or less, preferably 10 or less, particularly preferably 8 or less. Is done.
  • the molecular weight of the low molecular weight organic compound is, for example, 500 or less, preferably 350 or less, particularly 200 or less.
  • Preferred surface modifiers include, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pentanoic acid, hexanoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citric acid, adipic acid, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid, malein C1-C12 saturated or unsaturated mono- and polycarboxylic acids (preferably monocarboxylic acids) such as acids and fumaric acids; and their esters (preferably C 1 -C 4 alkyl esters such as methyl methacrylate) Amides; ⁇ -dicarbonyl compounds such as acetylacetone, 2,4-hexanedione, 3,5-heptanedione, acetoacetic acid and C 1 -C 4 alkylacetoacetic acids.
  • a well-known and usual silane coupling agent can also be used as a surface modifier.
  • the particle size of the inorganic filler is usually about 0.01 nm to 200 ⁇ m, preferably about 0.1 nm to 100 ⁇ m, particularly about 0.1 nm to 50 ⁇ m.
  • the content of the inorganic filler is preferably 1 to 2000 parts by weight, more preferably 10 to 1000 parts by weight, where the total content of the curable components is 100 parts by weight. Further, the content of the inorganic filler with respect to the total amount of the curable epoxy resin composition is, for example, 5 to 95 wt%, preferably 10 to 90 wt%. In addition, the said content is content of the sum total, when using 2 or more types of inorganic fillers.
  • the curable epoxy resin composition used in the present invention may contain rubber particles.
  • rubber particles include particulate NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), reactive terminal carboxyl group NBR (CTBN), metal-free NBR, particulate SBR (styrene-butadiene rubber), and the like.
  • the rubber particle has a multilayer structure (core-shell structure) composed of a core portion having rubber elasticity and at least one shell layer covering the core portion, and a functional group capable of reacting with an alicyclic epoxy resin on the surface.
  • the rubber particles may be used singly or in combination of two or more in any ratio.
  • the content of the rubber particles is, for example, 0.5 to 30 parts by weight, preferably 1 to 20 parts by weight, and more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight as the total of the curable components.
  • the blending amount is less than 0.5 parts by weight, the crack resistance tends to decrease, and if it exceeds 30 parts by weight, the heat resistance and transparency tend to decrease.
  • the said content is content of the sum total, when using 2 or more types of rubber particles.
  • the curable epoxy resin composition according to the present invention can use various additives within a range not impairing the effects of the present invention.
  • a compound having a hydroxyl group such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, or glycerin
  • the reaction can be allowed to proceed slowly.
  • silicone and fluorine antifoaming agents, leveling agents, silane coupling agents such as ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, surfactants, flame retardants, as long as the viscosity and transparency are not impaired.
  • Conventional additives such as a colorant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an ion adsorbent, a pigment, a phosphor, and a release agent can be used.
  • the curable epoxy resin composition used in the method for producing a cured product of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components.
  • each component is made as uniform as possible by using generally known mixing equipment such as a revolving type stirring and defoaming device, a homogenizer, a planetary mixer, a three-roll mill, and a bead mill. It is desirable to perform stirring, dissolution, mixing, dispersion, etc.
  • ⁇ Hardened product> by curing the curable epoxy resin composition under the above-mentioned curing conditions, it is excellent in transparency and light resistance (such as light intensity retention) and various physical properties such as crack resistance in a heat cycle test. Cured product is obtained.
  • the encapsulant of the present invention uses the curable epoxy resin composition as an encapsulant and is cured under the above-mentioned curing conditions, so that it has excellent transparency and light resistance (such as light intensity retention) and a heat cycle. Excellent physical properties such as crack resistance in the test.
  • the optical semiconductor device of the present invention is obtained by sealing an optical semiconductor element with the curable epoxy resin composition and curing it under the curing conditions described above.
  • the optical semiconductor element is sealed by injecting the curable epoxy resin composition prepared by the above-described method into a predetermined mold and heat-curing under the above-described curing conditions.
  • the optical semiconductor device of the present invention is excellent in transparency and light resistance (such as light intensity retention), and is excellent in various physical properties such as crack resistance in a heat cycle test.
  • an optical semiconductor encapsulant an adhesive, excellent in transparency, light resistance (such as light intensity retention), and various physical properties such as crack resistance in a heat cycle test, Electrical insulating material, laminated board, coating, ink, paint, sealant, resist, composite material, transparent substrate, transparent sheet, transparent film, optical element, optical lens, optical member, stereolithography, electronic paper, touch panel, solar cell base
  • An optical waveguide, a light guide plate, a holographic memory, and the like can be obtained.
  • Curing conditions (1) The resin composition obtained in Examples 1 and 3 was poured into a mold (shape: lamp shape, size: ⁇ 3), a lead frame mounted with a blue light emitting diode element was inserted, and then an oven (GPH- manufactured by ESPEC CORP. 201) was cured by heating at 100 ° C. for 15 hours to obtain an optical semiconductor device in which the element was sealed with resin.
  • Curing conditions (2) The resin compositions obtained in Examples 2 and 4 to 7 were poured into a mold (shape: lamp shape, size: ⁇ 3), a lead frame mounted with a blue light emitting diode element was inserted, and then an oven (manufactured by Espec Corp.) GPHH-201) was cured by heating at 120 ° C. for 7 hours to obtain an optical semiconductor device in which the element was sealed with resin.
  • Curing conditions (3) The resin composition obtained in Comparative Examples 1 and 4 was poured into a mold (shape: lamp shape, size: ⁇ 3), a lead frame mounted with a blue light emitting diode element was inserted, and then an oven (GPH- manufactured by ESPEC CORP. 201) was cured by heating at 120 ° C. for 4 hours to obtain an optical semiconductor device in which the element was sealed with resin.
  • Curing conditions (4) The resin compositions obtained in Comparative Examples 2 and 5 to 7 were poured into a mold (shape: lamp shape, size: ⁇ 3), a lead frame mounted with a blue light-emitting diode element was inserted, and then an oven (manufactured by Espec) GPHH-201) was heat-cured at 100 ° C. for 2 hours and then heat-cured at 140 ° C. for 3 hours to obtain an optical semiconductor device in which the element was sealed with the cured resin.
  • a mold shape: lamp shape, size: ⁇ 3
  • an oven manufactured by Espec
  • Curing conditions (5) The resin composition obtained in Comparative Example 3 was poured into a mold (shape: lamp shape, size: ⁇ 3), a lead frame on which a blue light-emitting diode element was mounted was inserted, and then an oven (GPHH-201 manufactured by Espec Corp.) The optical semiconductor device in which the element was sealed with a cured resin was obtained by heat curing at 150 ° C. for 7 hours.
  • the transparency is excellent.
  • the light resistance and the heat resistance in a heat cycle test are excellent.
  • a cured product having excellent cracking properties can be formed.

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Abstract

 硬化性成分として脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)とを含み、該脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が硬化性成分全量に対して60重量%以上である硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下かつ4.5時間以上の硬化条件で硬化することを特徴とする硬化物の製造方法を提供する。この製造法によれば、硬化条件における温度、時間を最適化することにより、透明性に優れ、例えば、光半導体装置の封止材として用いた場合に、耐光性、ヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物を形成することができる。

Description

硬化物の製造方法及び硬化物
 本発明は、硬化物の製造方法及び硬化物、その硬化物を含む封止材、ならびにその封止材を含む光半導体装置に関する。
 光半導体装置に用いられる樹脂、特に光半導体の封止材には、高い光線透過率、光度保持率、ならびにヒートサイクル試験における優れた耐クラック性が要求される。従来、脂環式エポキシ樹脂によれば高い光線透過率、光度保持率が実現されるが、ヒートサイクル試験においてクラックが生じやすいという問題があった。この問題を解決するため、硬化触媒を用い硬化温度を何段階にも分けて段階的に硬化を進める方法や、脂環式エポキシ樹脂に芳香族環を有するビスフェノールA型のエポキシ樹脂などを混合する方法が採られている。しかしながら、前者の方法では作業性が悪く、十分な耐クラック性が得られず、後者の方法では、芳香族環に起因して光度保持率が低下するという欠点があった。
 特許文献1には、硬化触媒を含み、エポキシ樹脂として3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキセンカルボキシレートからなる脂環式エポキシ樹脂及び2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物からなる脂環式エポキシ樹脂の両方を含むとともに、下記式(A)又は(B)で示される化合物の少なくとも一方を、上記透光性封止材料全質量に対して0.01質量%~1質量%含有してなる組成物を硬化させた硬化物が記載されている。この硬化物は、120℃で1時間の後、150℃で1時間の条件で硬化されており、耐クラック性が劣っている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 特許文献2には、エポキシ樹脂としてビスフェノールAジグリシジルエーテルを、酸無水物系硬化剤と硬化促進剤を用いて熱硬化したエポキシ樹脂が記載されている。特許文献2には、硬化物の内部応力を低減したい場合には、80℃~130℃程度で0.5時間~5時間程度の条件で前硬化した後、130℃~180℃程度で0.1時間~15時間程度の条件で後硬化することが好ましいとの記載があり、実施例では、120℃で1時間の前硬化後、150℃で3時間の後硬化により硬化物を作成しているが、このような条件では、得られた硬化物の耐クラック性は劣っている。また、上記エポキシ樹脂では、5mm厚の場合、150℃5日間熱処理後のイエローインデックスは15.2増加しており、熱黄変が観られる。
特許第4366934号公報 特開2008-179733号公報
 本発明の目的は、透明性、耐光性(光度保持性など)に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物であり、例えば、光半導体装置の封止材などとして適した硬化物の硬化方法を提供することにある。
 本発明の他の目的は、該硬化方法により硬化した、透明性、耐光性に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物を提供することにある。
 また、本発明の他の目的は、該硬化物を含む、透明性、耐光性に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた封止材、及び光半導体装置を提供することにある。
 本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ化合物を硬化性成分全量に対して60重量%以上と、酸無水物などの硬化剤と、硬化促進剤とを含む硬化性樹脂組成物を、特定の硬化方法で硬化した場合に、透明性、耐光性に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物、封止材、並びに光半導体装置が得られることを見出し、本発明に至った。
 すなわち、本発明は、硬化性成分として脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)とを含み、該脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が硬化性成分全量に対して60重量%以上である硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下かつ4.5時間以上の硬化条件で硬化することを特徴とする硬化物の製造方法を提供する。
 また、本発明は、上記硬化物の製造方法で製造された硬化物を提供する。
 また、本発明は、上記硬化物を含む封止材を提供する。
 さらに、本発明は、上記封止材を含む光半導体装置を提供する。
 本発明の硬化物の製造方法によれば、硬化条件における温度、時間を最適化することで、透明性に優れ、例えば光半導体装置の封止材として用いた場合に、耐光性、ヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物、封止材、ならびに半導体装置を得ることができる。
 <硬化物の製造方法>
 本発明の硬化物の製造方法は、硬化性成分として脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)とを含み、該脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が硬化性成分全量に対して60重量%以上である硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下かつ4.5時間以上の硬化条件で硬化することを特徴とする。
 <硬化条件>
 本発明の硬化物の製造方法では、上記硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下かつ4.5時間以上の硬化条件で硬化する。本明細書において硬化は、硬化性エポキシ樹脂組成物を、例えば、所定の型に入れ、又は入れずに、所定温度で所定時間載置することにより行うことができる。硬化は、インターバルを置かずに続けて所定時間行ってもよいし、途中でインターバルを取ってもよい。インターバルを取る場合、硬化時間としては、インターバル前後で所定温度で処理した硬化時間の総合計の時間を指す。
 硬化温度は温度95℃以上135℃以下であり、好ましくは100℃以上130℃未満、さらに好ましくは100℃以上120℃以下である。硬化温度は上記温度範囲内であればよく、一定であっても、異なる数種類の温度でも良い。上記インターバルは、温度が95℃を下回る温度となった時間を指し、室温付近(例えば25℃程度)となってもよい。このインターバルにおいて、硬化性エポキシ樹脂組成物を型から外し、この型から外した硬化性エポキシ樹脂組成物をさらに上記硬化温度で硬化してもよい。硬化温度は、一定でもよく、温度95℃以上135℃以下の範囲で変動してもよい。なかでも、硬化温度は、インターバルの有無に拘わらず一定であることが好ましい。
 硬化時間は4.5時間以上(例えば4.5時間以上24時間以下)であり、好ましくは5時間以上20時間以下、さらに好ましくは5時間以上16時間以下である。インターバルは、30分以上(例えば30分以上~30日)取ることができる。インターバルとしては、30分~10日が好ましく、30分~3日がさらに好ましい。インターバルを取る場合、例えば、硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の型に入れ、所定の温度で1時間~2時間硬化し、続いて硬化性エポキシ樹脂組成物を室温付近まで放冷後、型から取り出し、続いて所定の温度で残りの時間を硬化することができる。本発明の硬化物の製造方法では、硬化性エポキシ樹脂組成物を上記の硬化条件で硬化することにより、ヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物が得られる。
 <硬化性エポキシ樹脂組成物>
 本発明の硬化物の製造方法に使用する硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化性成分として脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)とを含み、該脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が硬化性成分全量に対して60重量%以上である。
 <脂環式エポキシ化合物(A)>
 本発明で用いられる脂環式エポキシ化合物(A)としては、脂肪族環を有する化合物であれば特に限定されないが、(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物、及び(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物であることが好ましい。
 (i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物としては、周知慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。脂環エポキシ基としては、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。
 (i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物としては、特に、透明性、耐熱性の点で下記式(I)で表される脂環式エポキシ樹脂が望ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式(I)中、Xは連結基(1以上の原子を有する2価の基)を示し、例えば、単結合、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。
 2価の炭化水素基としては、炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、2価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン基等が挙げられる。2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン、1,3-シクロペンチレン、シクロペンチリデン、1,2-シクロヘキシレン、1,3-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等の2価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)などが挙げられる。
 連結基Xとしては、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、-CO-,-O-CO-O-,-COO-,-O-,-CONH-;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と2価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基などが挙げられる。2価の炭化水素基としては前記の基が挙げられる。
 式(I)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、下記式(I-1)~(I-8)で表される化合物などが挙げられる。例えば、セロキサイド2021P、セロキサイド2081(ダイセル化学工業製)等の市販品を使用することもできる。なお、下記式中、l、mは、1~30の整数を表す。Rは炭素数1~8のアルキレン基であり、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、イソブチレン、s-ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン基等の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が挙げられる。これらのなかでも、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン基等の炭素数1~3の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 (ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば下記式(II)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式(II)中、R’はp価のアルコールからp個の-OHを除した基;p、nは自然数を表す。p価のアルコール[R’-(OH)p]としては、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノール等の多価アルコールなど(炭素数1~15のアルコール等)が挙げられる。pは1~6が好ましく、nは1~30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記化合物としては、具体的には、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物、EHPE 3150(ダイセル化学工業製)などが挙げられる。
 脂環式エポキシ化合物(A)としては、上記例示の化合物を、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができ、例えば、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、EHPE 3150(ダイセル化学工業製)等の市販品を好ましく使用できる。
 脂環式エポキシ化合物(A)の含有量は、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる硬化性成分全量に対して60重量%以上(例えば60~100重量%)である。硬化性成分とは、熱または放射線により硬化する硬化性化合物である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量は、好ましくは、硬化性成分の全量に対して70重量%(70~100重量%)、さらに好ましくは80重量%以上(80~100重量%)とすることができる。なお、上記含有量は、脂環式エポキシ化合物(A)を2種以上使用する場合には、その合計の含有量である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量を上記範囲とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化した場合に、光線透過率及び光度保持率に優れた硬化物が得られる。
 本発明の硬化物の製造方法で用いる硬化性エポキシ樹脂組成物中の硬化性成分の合計含有量は、例えば30~90重量%、好ましくは40~80重量%、さらに好ましくは40~70重量%である。硬化性エポキシ樹脂組成物中の硬化性成分の含有量を上記範囲とすることにより、硬化性に優れた樹脂組成物を得ることができる。
 <脂環式エポキシ化合物(A)以外の硬化性成分>
 本発明で用いられる硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物を含んでいても良い。脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物としては、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ビス(2-エチルヘキシル)、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、またこれらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオキサイド、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシジルフェニルエーテル、エチレングリコールベンジルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールグリシジルテトラヒドロピラニルエーテル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアセテート等、または、これらのエポキシ化合物の水素原子の一部又は全てがフッ素で置換されたものも使用できる。
 また、上記に加えて、内部にエポキシ基を持つオリゴマータイプの放射線硬化性樹脂を使用することもできる。例えば、エポキシ化ポリブタジエン(製品名:エポリードPB3600、PB4700、ダイセル化学工業株式会社)、エポキシ化スチレンブタジエンテレブロック共重合体(製品名 エポフレンドAT501、ダイセル化学工業株式会社)等が挙げられる。また、ノボラック型エポキシ樹脂、例えば、フェノール、クレゾール、ハロゲン化フェノールおよびアルキルフェノール等のフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応して得られるノボラック類とエピクロルヒドリンおよび/またはメチルエピクロルヒドリンとを反応して得られるもの(製品名:EOCN-103、EOCN-104S、EOCN-1020、EOCN-1027、EPPN-201、BREN-S、日本化薬株式会社、製品名:DEN-431、DEN-439、ダウ・ケミカル社、および製品名:N-73,VH-4150、大日本インキ化学工業株式会社)等がある。また、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS及びテトラブロムビスフェノールA等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させて得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、或いは、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルと前記ビスフェノール類の縮合物とエピクロルヒドリンとを反応させ得られるビスフェノール型エポキシ樹脂(製品名:エピコート1004、エピコート1002、油化シェル株式会社、製品名:DER-330,DER-337、ダウ・ケミカル社)等がある。
 脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物としては、上記例示の化合物を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂などの芳香族環を有するエポキシ化合物が好ましく使用できる。脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物は使用しなくても良い。
 <硬化剤(B)>
 本発明の硬化物の製造方法で使用される硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化剤(B)を含有する。硬化剤(B)は、エポキシ基を有する化合物を硬化させる働きを有する。本発明における硬化剤(B)としては、エポキシ樹脂用硬化剤として周知慣用の硬化剤を使用することができる。本発明における硬化剤(B)としては、なかでも、25℃で液状の酸無水物であることが好ましく、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などを挙げることができる。また、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの常温(25℃)で固体状の酸無水物は、常温(25℃)で液状の酸無水物に溶解させて液状の混合物とすることで、本発明における硬化剤(B)として使用することができる。また、本発明においては、硬化剤(B)として、リカシッド MH-700(新日本理化製)、HN-5500(日立化成製)等の市販品を使用することもできる。
 硬化剤(B)は、一種でも、二種以上任意の割合で混合使用してもかまわない。その使用量としては、例えば、硬化性エポキシ樹脂組成物中に含有するエポキシ基を有する化合物の総量100重量部に対して、50~150重量部、好ましくは100~145重量部、より具体的には、上記硬化性エポキシ樹脂組成物中に含有する全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量当たり、0.5~1.5当量となる割合で使用することが好ましい。硬化剤(B)の使用量が50重量部を下回ると、効果が不十分となり、硬化物の強靱性が低下する傾向があり、一方、硬化剤(B)の使用量が150重量部を上回ると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。なお、上記使用量は、硬化剤(B)を2種以上使用する場合には、その合計の使用量である。
 本発明においては、硬化剤(B)を、好ましくは硬化性エポキシ樹脂組成物中に含有する全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量当たり、0.5~1.5当量となる割合で使用するため、硬化の際の反応点が多く、また、硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下という低温で硬化するため、穏やかに且つ均一に硬化が進行し、ヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物が製造されると考えられる。
 <硬化促進剤(C)>
 本発明の硬化物の製造方法で使用される硬化性エポキシ樹脂組成物は硬化促進剤(C)を含有する。硬化促進剤(C)は、エポキシ基を有する化合物が硬化剤により硬化する際に、硬化速度を促進する機能を有する化合物である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれていてもよい硬化促進剤(C)としては、周知慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)、及びその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩);1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、及びその塩(例えば、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、4級アンモニウム塩、ヨードニウム塩);ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミンなどの3級アミン;2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾールなどのイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p-トリル)ボレートなどのホスホニウム化合物;オクチル酸スズ、オクチル酸亜鉛などの有機金属塩;金属キレートなどが挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
 また、本発明においては、硬化促進剤(C)として、U-CAT SA 506、U-CAT SA 102、U-CAT 5003、U-CAT 18X、12XD(開発品)(いずれもサンアプロ製)、TPP-K、TPP-MK(いずれも北興化学工業製)、PX-4ET(日本化学工業製)等の市販品を使用することもできる。
 硬化促進剤(C)は、一種でも、二種以上任意の割合で混合使用してもかまわない。その使用量としては、例えば、硬化性エポキシ樹脂組成物中に含有するエポキシ基を有する化合物の総量100重量部に対して、0.05~5重量部、好ましくは0.1~3重量部、特に好ましくは0.2~3重量部、最も好ましくは0.25~2.5重量部程度である。硬化促進剤(C)の使用量が0.05重量部を下回ると、硬化促進効果が不十分となる場合があり、一方、硬化促進剤(C)の使用量が5重量部を上回ると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。なお、上記使用量は、硬化促進剤(C)を2種以上使用する場合には、その合計の使用量である。
 <無機フィラー>
 本発明の硬化物の製造方法で使用される硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、無機フィラーを含んでいてもよい。無機フィラーとしては、特に限定するものではないが、シリカ、アルミナ、マイカ、合成マイカ、タルク、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸バリウム、カオリン、ベントナイト、珪藻土、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化セシウム、酸化マグネシウム、ガラスビーズ、ガラス繊維、グラファイト、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、セルロースなどを1種類以上使用することができる。また、無機フィラーとしては、ナノシリカ、ナノチタニア、ナノジルコニア、カーボンナノチューブ等を挙げることができる。
 これらの無機フィラーは、例えば国際公開第96/31572号に記載されている火炎加水分解法や、火炎熱分解法、プラズマ法等の公知の方法で製造することができる。好ましい無機フィラーとしては、安定化されたコロイド状無機粒子のナノ分散ゾル類等を用いることができ、市販品としては、BAYER社製のシリカゾル、Goldschmidt社製のSnO2ゾル類、MERCK社製のTiO2ゾル類、Nissan Chemicals社製のSiO2、ZrO2、A123およびSb23ゾルまたはDEGUSSA社製のAerosil分散物類などの市販品が入手可能である。
 無機フィラーは、表面の改質によりこれらの粘度挙動を変化させることができる。粒子の表面改質は、公知の表面改質剤を用いて行うことができる。このような表面改質剤としては、例えば、無機フィラーの表面に存在する官能基と共有結合や錯形成等の相互作用が可能な化合物や、重合体マトリックスと相互作用可能な化合物を用いることができる。このような表面改質剤としては、例えば、分子内にカルボキシル基、(第1級、第2級、第3級)アミノ基、4級アンモニウム基、カルボニル基、グリシジル基、ビニル基、(メタ)アクリロキシ基、メルカプト基等の官能基を有する化合物等を用いることができる。このような表面改質剤としては、通常、標準温度および圧力条件下で液体であり、分子内の炭素数が例えば15以下、好ましくは10以下、特に好ましくは8以下の低分子有機化合物で構成される。前記低分子有機化合物の分子量は、例えば500以下、好ましくは350以下、特に200以下である。
 好ましい表面改質剤としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸およびフマル酸などの炭素数1~12の飽和または不飽和モノおよびポリカルボン酸類(好ましくは、モノカルボン酸類);及びこれらのエステル類(好ましくはメタクリル酸メチル等のC1~C4アルキルエステル類);アミド類;アセチルアセトン、2,4-ヘキサンジオン、3,5-ヘプタンジオン、アセト酢酸およびC1~C4アルキルアセト酢酸類などのβ-ジカルボニル化合物等が挙げられる。また、特に限定されないが、公知慣用のシランカップリング剤を表面改質剤として使用することもできる。
 無機フィラーの粒径は、通常0.01nm~200μm程度、好ましくは0.1nm~100μm、特に0.1nm~50μm程度である。
 無機フィラーの含有量は、硬化性成分の合計含有量を100重量部とすると、1~2000重量部であることが好ましく、さらに好ましくは10~1000重量部である。また、硬化性エポキシ樹脂組成物の全量に対する、無機フィラーの含有量は、例えば、5~95wt%、好ましくは10~90wt%である。なお、上記含有量は、無機フィラーを2種以上使用する場合には、その合計の含有量である。
 <ゴム粒子>
 本発明で使用する硬化性エポキシ樹脂組成物にはゴム粒子が含まれていても良い。ゴム粒子としては、例えば、粒子状NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、反応性末端カルボキシル基NBR(CTBN)、メタルフリーNBR、粒子状SBR(スチレン-ブタジエンゴム)等が挙げられる。ゴム粒子は、ゴム弾性を有するコア部分と、該コア部分を被覆する少なくとも1層のシェル層とから成る多層構造(コアシェル構造)を有し、表面に脂環式エポキシ樹脂と反応し得る官能基としてヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を有し、平均粒子径が10nm~500nm、最大粒子径が50nm~1000nmであるゴム粒子であって、該ゴム粒子の屈折率と当該硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物の屈折率との差が±0.02以内であるゴム粒子で有っても良い。ゴム粒子は、一種でも、二種以上任意の割合で混合使用してもかまわない。ゴム粒子の含有量は、硬化性成分の合計100重量部に対して、例えば、0.5~30重量部であり、好ましくは1~20重量部、さらに好ましくは1~10重量部である。配合量が0.5重量部を下回ると、耐クラック性が低下する傾向があり、30重量部を上回ると、耐熱性及び透明性が低下する傾向がある。なお、上記含有量は、ゴム粒子を2種以上使用する場合には、その合計の含有量である。
 <添加剤>
 本発明にかかる硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を使用することができる。添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの水酸基を有する化合物を使用すると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、シリコーン系やフッ素系消泡剤、レベリング剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、界面活性剤、難燃剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体、離型剤などの慣用の添加剤を使用することができる。
 本発明の硬化物の製造方法で使用される硬化性エポキシ樹脂組成物は上記各成分を均一に混合することにより得られる。上記硬化性エポキシ樹脂組成物を得るには、各成分を自公転式攪拌脱泡装置、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー、3本ロールミル、ビーズミル等の一般的に知られる混合用機器を使用してなるべく均一になるように、攪拌、溶解、混合、分散等を行うことが望ましい。
 <硬化物>
 本発明では、上記硬化性エポキシ樹脂組成物を上記の硬化条件で硬化させることにより、透明性、耐光性(光度保持性など)に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性などの諸物性に優れた硬化物が得られる。
 <封止材>
 本発明の封止材は、上記硬化性エポキシ樹脂組成物を封止剤として使用し、上記の硬化条件で硬化させることにより、透明性、耐光性(光度保持性など)に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性などの諸物性に優れる。
 <光半導体装置>
 本発明の光半導体装置は、上記硬化性エポキシ樹脂組成物で光半導体素子を封止し、上記の硬化条件で硬化させることにより得られる。光半導体素子の封止は、前述の方法で調製された硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の成形型内に注入し、上記の硬化条件で加熱硬化して行う。本発明の光半導体装置は、透明性、耐光性(光度保持性など)に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性などの諸物性に優れている。
 本発明の硬化物の製造方法によれば、透明性、耐光性(光度保持性など)に優れ、かつヒートサイクル試験における耐クラック性などの諸物性に優れた光半導体封止材、接着材、電気絶縁材、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基盤、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリなどが得られる。
 以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
 製造例1
 (エポキシ樹脂A剤)
 2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラル)シクロヘキサン付加物(ダイセル化学工業製 EHPE3150)と3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル化学工業製 セロキサイド2021P)もしくはビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学製 YD-128)を表1に示す配合処方(単位:重量部)に従って混合し、80℃、1時間攪拌することで2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物を溶解させ、エポキシ樹脂(混合物)を得た。
 製造例2
 (硬化剤と硬化促進剤と添加剤、可とう性付与剤の混合物、以下B剤と記載する)
 B剤として、硬化剤(新日本理化製 リカシッド MH-700;4-メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30):100重量部、硬化促進剤(サンアプロ製 18X):0.5重量部、添加剤(和光純薬工業製 エチレングリコール):1重量部、可とう性付与剤(新日本理化製 リカシッド HF-08):3重量部を、自公転式攪拌装置(あわとり練太郎AR-250 シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡してB剤を得た。
 実施例1~7、比較例1~7
 製造例1にて得たエポキシ樹脂A剤と製造例2にて得たB剤を表1に示す配合処方(単位:重量部)に従って、各成分を自公転式攪拌装置(あわとり練太郎AR-250 シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
 硬化条件(1)
 実施例1、3で得た樹脂組成物を型(形状:ランプ形状、大きさ:φ3)に注入し、青色の発光ダイオード素子を実装したリードフレームを挿した後、オーブン(エスペック社製 GPHH-201)で100℃で15時間加熱硬化させ、樹脂で素子を封止した光半導体装置を得た。
 硬化条件(2)
 実施例2、4~7で得た樹脂組成物を型(形状:ランプ形状、大きさ:φ3)に注入し、青色の発光ダイオード素子を実装したリードフレームを挿した後、オーブン(エスペック社製 GPHH-201)で120℃で7時間加熱硬化させ、樹脂で素子を封止した光半導体装置を得た。
 硬化条件(3)
 比較例1、4で得た樹脂組成物を型(形状:ランプ形状、大きさ:φ3)に注入し、青色の発光ダイオード素子を実装したリードフレームを挿した後、オーブン(エスペック社製 GPHH-201)で120℃で4時間加熱硬化させ、樹脂で素子を封止した光半導体装置を得た。
 硬化条件(4)
 比較例2、5~7で得た樹脂組成物を型(形状:ランプ形状、大きさ:φ3)に注入し、青色の発光ダイオード素子を実装したリードフレームを挿した後、オーブン(エスペック社製 GPHH-201)で100℃で2時間加熱硬化した後、140℃で3時間加熱硬化することで、硬化した樹脂で素子を封止した光半導体装置を得た。
 硬化条件(5)
 比較例3で得た樹脂組成物を型(形状:ランプ形状、大きさ:φ3)に注入し、青色の発光ダイオード素子を実装したリードフレームを挿した後、オーブン(エスペック社製 GPHH-201)で150℃で7時間加熱硬化することで、硬化した樹脂で素子を封止した光半導体装置を得た。
 光線透過率
 実施例及び比較例の配合処方による硬化前の硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の型に注型し、上記硬化条件にて熱硬化して、厚さ3mmのプレートを作製した。分光光度計(島津製作所製 分光光度計 UV-2450)を用いて450nmの光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
 光度保持率
 実施例及び比較例から得られた光半導体装置の全光束を全光束測定機(米国オプトロニックラボラトリーズ社製 マルチ分光放射測定システム OL771)を用いて測定した。さらに、23℃、60%RHの恒温恒湿槽内で300時間、光半導体装置に100mAの電流を流した後の全光束を測定した。次式から、光度保持率を算出した。結果を表1に示す。
 {光度保持率(%)}={300時間後の全光束(lm)}/{0時間の全光束(lm)}×100
 耐クラック性試験
 実施例及び比較例から得た光半導体装置に、-40℃・15分及び120℃・15分を1サイクルとした熱衝撃を、熱衝撃試験機(小型冷熱衝撃装置 TSE-11-A エスペック社製)を用いて400サイクルの試験を行った。その後、クラックの長さをデジタルマイクロスコープ(VHX-900 キーエンス製)を使用して観察し、光半導体装置5個のうち、発生したクラックの長さが90μm以上のものを有する光半導体装置の個数を計測した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 本発明の製造方法によれば、硬化条件における温度、時間を最適化することにより、透明性に優れ、例えば、光半導体装置の封止材として用いた場合に、耐光性、ヒートサイクル試験における耐クラック性に優れた硬化物を形成することができる。

Claims (4)

  1.  硬化性成分として脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)とを含み、該脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が硬化性成分全量に対して60重量%以上である硬化性エポキシ樹脂組成物を、温度95℃以上135℃以下かつ4.5時間以上の硬化条件で硬化することを特徴とする硬化物の製造方法。
  2.  請求項1記載の製造方法で製造された硬化物。
  3.  請求項2記載の硬化物を含む封止材。
  4.  請求項3記載の封止材を含む光半導体装置。
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