WO2011122454A1 - ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 - Google Patents

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film body
holding film
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polishing
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充 古田
横田　稔
孝 笹森
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旭硝子株式会社
富士紡ホールディングス株式会社
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    • C09J2301/124—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers the adhesive layer being present on both sides of the carrier, e.g. double-sided adhesive tape

Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate holding film body that holds a glass substrate when the glass substrate is processed, and a glass substrate polishing method.
  • a glass substrate used for a liquid crystal display causes distortion on an image due to minute irregularities and waviness on the surface. For this reason, it is processed into the glass substrate which has desired flatness by removing the micro unevenness
  • the glass substrate held by the polishing head is pressed against the polishing pad attached to the polishing surface plate, and the glass substrate is polished by relatively rotating the polishing surface plate and the polishing head.
  • the present applicant discloses a polishing apparatus in Patent Document 1. Further, in the polishing apparatus of Patent Document 1, the glass substrate is attached to the polishing head by adsorbing and holding the glass substrate to a self-adsorptive holding film body attached to the polishing head.
  • This holding film body is configured by attaching a porous self-adsorptive sheet to a back plate via a double-sided adhesive sheet, and the glass substrate is adsorbed and held on the self-adsorptive sheet.
  • the self-adsorptive sheet or the back plate is a size corresponding to the manufacturing of the holding film body that holds the glass substrate of that size.
  • double-sided adhesive sheets that adhere self-adsorptive sheets to the back plate cannot be manufactured as a single product in existing manufacturing equipment, and when they are manufactured, new equipment investment is required and manufacturing costs increase. There was a problem to do.
  • the double-sided adhesive sheet includes an adhesive layer in which an adhesive is applied to both sides of a base material such as polyethylene terephthalate.
  • a base material such as polyethylene terephthalate.
  • the thing of the said G10 size can be manufactured also in the existing manufacturing equipment.
  • the adhesive applicator cannot cope with existing equipment because the application area is too wide.
  • a polyurethane sheet as a soft plastic sheet formed of a polyurethane resin can be exemplified.
  • the polyurethane sheet of Patent Document 2 has a microporous layer formed on the surface layer, and a liquid such as water is included in the surface layer, so that the polishing pad is placed on the polishing platen by the surface tension of the liquid that has entered the microporous layer of the surface layer. Are to be bonded. Since this polyurethane sheet can also hold the glass substrate by self-adsorption, it is used as a self-adsorption sheet.
  • FIG. 8 shows a holding film body 6 in which a self-adsorbing sheet 1 is adhered to a back plate 3 via two double-sided adhesive sheets 2A and 2B, and a glass substrate G is adsorbed and held on the self-adsorbing sheet 1.
  • a cross-sectional view is shown.
  • the overlapped portions become convex, which is self-adsorbing
  • the convex portion 4 is transferred to the glass substrate G through the mold sheet 1.
  • the polished glass substrate G appears as a concave portion 4A on the contrary, as shown in FIG. Therefore, there is a problem that the flatness of the processed surface is impaired and the quality (flatness) of the glass substrate G is lowered.
  • a gap (A) in the thickness direction and a gap (B) in the plane direction are used as a holding film. It is necessary for the body 6 to have it.
  • a holding film body having gaps (A, B) As a holding film body having gaps (A, B), a holding film body having the following configuration is conceivable.
  • the self-adsorptive sheet 1 is a single product, and a plurality of double-sided adhesive sheets 2C and 2D are used in the same plane with a predetermined gap (A ′′, B ′′).
  • the self-adsorptive sheet 1 is used as a single product, and a plurality of double-sided adhesive sheets 2E and 2F are used in the same plane with a predetermined gap (A ′ ′′, B ′ ′′), and A large size is achieved by stacking two sheets and forming the gaps (A ′ ′′, B ′ ′′) between the two upper and lower double-sided adhesive sheets 2E and 2F in the stacking direction of the double-sided adhesive sheets.
  • the holding film body 7 shown in FIG. 11 it is difficult to reduce the gap (B ′) in view of manufacturing errors. Therefore, in the holding film body 7, there are large gaps (A ′) and gaps (B ′) corresponding to the thickness of the holding film body 7, and therefore correspond to the positions of the gaps (A ′, B ′). As shown in FIG. 14, the convex portion 4B appears large on the glass substrate. Therefore, with this holding film body 7, it is difficult to improve the quality of the polished glass substrate.
  • the gap (A ′′) of the holding film body 8 shown in FIG. 12 is smaller than the gap (A ′) of the holding film body 7 shown in FIG. 11 by the thickness of the self-adsorptive sheet 1.
  • the self-adsorptive sheet 1 extends in the surface direction due to the frictional resistance between the glass substrate and the polishing pad, so that the gap (B ′′) is increased. Therefore, even in the holding film body 8, the convex portion 4B (see FIG. 14) appears greatly on the glass substrate, so it is difficult to improve the quality of the polished glass substrate.
  • the holding film body 9 shown in FIG. 13 shows the elongation in the surface direction of the self-adsorptive sheet 1 due to the strength of the base materials 2G and 2H of the double-sided adhesive sheets 2E and 2F arranged in two layers.
  • the holding film body 8 shown in FIG. if two double-sided adhesive sheets 2E and 2F are overlapped as shown in FIG. 13, the added value of the two gaps (A ′ ′′) is equal to the gap (A ′′) of the holding film body in FIG.
  • This invention is made in view of such a situation, and it aims at providing the film body for glass substrate holding
  • the present invention comprises a self-adsorptive sheet bonded to a back plate via a double-sided adhesive sheet, and a glass substrate holding film body in which a glass substrate is adsorbed and held on the self-adsorptive sheet
  • the double-sided adhesive sheet is composed of a sheet-like base material and an adhesive layer provided on both surfaces of the base material, and the adhesive layer is provided with a predetermined gap in the same surface of the base material.
  • a glass substrate holding film body is provided in which gaps between adhesive layers provided on both sides of the glass substrate do not overlap in the stacking direction of the adhesive layers.
  • the holding film body of the present invention the elongation in the surface direction of the self-adsorptive sheet during polishing can be suppressed by the base material of the double-sided adhesive sheet having the same size as the self-adsorptive sheet.
  • the gap (B ′ ′′ ′) of the holding film body of the present invention is substantially the same as the gaps (B ′′, B ′ ′′) of the holding film bodies 8 and 9 shown in FIGS. It is.
  • the gap (A ′ ′′ ′) of the holding film body of the present invention is only the thickness of the adhesive layer provided on both surfaces of the base material, the holding film bodies 7 to 9 in FIGS.
  • the gaps (A ′) to (A ′ ′′) are much smaller. Therefore, according to the holding film body of the present invention, the quality of the polished glass substrate can be improved as compared with the holding film bodies 7 to 9.
  • the glass substrate held and polished by such a holding film body is polished by transferring the gaps, whereby a convex portion is formed on the surface thereof.
  • the gap between the adhesive layers provided on both surfaces of the base material does not overlap in the stacking direction of the adhesive layer, so that the transfer amount due to the gap can be suppressed. Therefore, according to this invention, since the height of the convex part formed in the surface of a glass substrate can be restrained low, the quality of the glass substrate after grinding
  • the present invention is directed to a holding film body that holds a large glass substrate by suction.
  • seat of this invention and a double-sided adhesive sheet is a thing of the dimension which can respond to a large sized glass substrate.
  • the adhesive layer of a double-sided adhesive sheet is below the maximum dimension which can be apply
  • the size of the glass substrate is preferably 3130 (mm) ⁇ 2880 (mm) or more. That is, the holding film body of the present invention holds a glass substrate having a size equal to or larger than a size called G10 size and polishes the glass substrate.
  • the size of the holding film body is 3200 (mm) ⁇ 3000 (mm) or more.
  • the present invention achieves the object by adsorbing and holding a glass substrate by the glass substrate holding film body of the present invention, pressing the polished surface of the glass substrate against a polishing pad, and polishing the surface of the glass substrate.
  • a method for polishing a glass substrate comprising polishing the substrate to a required flatness is provided. Thereby, according to this invention, the quality of the glass substrate after grinding
  • the quality of the polished glass substrate can be improved.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate polishing apparatus to which the glass substrate holding film body of the embodiment is applied.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main structure of the polishing apparatus according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a perspective view of the holding film body according to the first embodiment.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the holding film body according to the embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view in which a glass substrate is adsorbed and held on the holding film body according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of a self-adhesive sheet attached to a back plate by two double-sided adhesive sheets attached with a gap.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate polishing apparatus to which the glass substrate holding film body of the embodiment is applied.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a main structure of the polishing apparatus according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a perspective view of the
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of a convex portion formed on the surface of the glass substrate.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view in which the end portions of two double-sided adhesive sheets are overlapped and a self-adsorptive sheet is adhered to the back plate.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of a concave portion formed on the surface of the glass substrate.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view used to explain the gap between the holding film bodies.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing a first comparative example of the holding film body.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a second comparative example of the holding film body.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing a third comparative example of the holding film body.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of a convex portion formed on the surface of the glass substrate.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate polishing apparatus 10 to which the glass substrate holding film body of the embodiment is applied.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the main structure of the polishing apparatus 10.
  • the polishing apparatus 10 has a flatness necessary for a glass substrate for a liquid crystal display with a polished surface A of a mother glass substrate (for example, one side of 3130 mm ⁇ 2880 mm (G10 size) or more, thickness 0.7 mm) manufactured in a rectangular shape. It is a polishing apparatus for polishing.
  • the polishing apparatus 10 includes a polishing head 14 that holds a glass substrate G on its lower surface via a holding film body 12, and a polishing table 20 that holds a polishing pad 18 on its upper surface via an aluminum plate 16. It is configured.
  • a mother glass substrate (hereinafter referred to as a glass substrate) G is held by a holding film body 12 made of a self-adsorbing backing material or the like, and the surface to be polished A is pressed against the polishing pad 18 by the polishing head 14. .
  • the glass substrate G is polished to a flatness that requires the surface A to be polished.
  • the holding film body 12 preferably has a size of 3200 (mm) ⁇ 3000 (mm) or more in order to suck and hold the large glass substrate G having the above size. The detailed structure of the holding film body 12 will be described later.
  • a polishing slurry such as an aqueous solution of cerium oxide is supplied from the lower surface side of the polishing pad 18 through a number of slurry supply holes 22A, 22B,.
  • a polishing pad 18 is immersed in the polishing slurry.
  • the slurry supply holes 22A, 22B... Are formed densely and uniformly in the polishing table 20 and the plate 16. For this reason, the polishing slurry is uniformly supplied to the polishing pad 18.
  • the polishing pad 18 for example, a foamed polyurethane type or a suede type is used and is adhered to the plate 16.
  • the polishing pad 18 may have a single structure, but since the size thereof is large corresponding to the size of the glass substrate G, a plurality of divided pads may be combined to form one polishing pad 18. Further, a large number of suction holes 24A, 24B... Are formed through the polishing table 20, and these suction holes 24A, 24B... Are connected to a suction pump (not shown) via a valve. Therefore, by opening the valve, the suction force of the suction pump is transmitted to the suction holes 24A, 24B..., So that the plate 16 is adsorbed and held on the upper surface of the polishing table 20. Since the suction force of the suction pump is released by closing the valve, the polishing pad 18 can be removed from the polishing table 20 together with the plate 16 during maintenance and replacement of the polishing pad 18.
  • a spindle 26 is fixed to the upper center of the polishing head 14, and a rotation / lifting device 28 is connected to the spindle 26.
  • the rotation / lifting device 28 is controlled by a control unit 30 that performs overall control of the entire polishing apparatus 10, and the rotation speed and lowering operation (pressing force) suitable for polishing the glass substrate G are controlled.
  • FIG. 3 is a perspective view of the holding film body 12 according to the embodiment
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the holding film body 12 according to the embodiment excluding the back plate 36.
  • FIG. 5 shows a sectional view in which the glass substrate G is sucked and held on the holding film body 12 of the embodiment.
  • the holding film body 12 is attached to the aluminum back plate 36 shown in FIG. 3 through a single-sided adhesive sheet 34 in which a single self-adsorbing sheet 32 is arranged in the same plane. Pasted and configured.
  • the glass substrate G is sucked and held on the self-sucking sheet 32.
  • the self-adsorbing sheet 32 is a polyurethane sheet formed of a polyurethane resin as disclosed in Patent Document 2, and the thickness thereof is preferably about 1.1 to 1.5 mm.
  • a microporous layer is formed on the surface layer, and when the surface layer contains a liquid such as water, the glass substrate G can be adsorbed and held by the surface tension of the liquid that has entered the microporous layer of the surface layer. it can.
  • the double-sided adhesive sheet 34 is composed of a base material 38 such as polyethylene terephthalate (PET), and adhesive layers 40 and 42 formed by applying an adhesive to both surfaces of the base material 38.
  • the thickness of the substrate 38 is preferably about 75 ⁇ m, and the thickness of the adhesive layer 40 is preferably about 50 ⁇ m.
  • the thickness of the adhesive layer 42 on the back plate 36 side thinner than the adhesive layer 40 on the self-adsorptive sheet 32 side, it is possible to contribute to improving the flatness of the glass substrate G.
  • one self-adhesive sheet 32 is provided with one double-sided adhesive sheet 34 in the same plane, and the adhesive layer 40 of the double-sided adhesive sheet 34 has a predetermined structure.
  • the adhesive layer 42 is also applied to the substrate 38 with a predetermined clearance (S 2) as well.
  • these gaps (S 1, S 2) is adapted not to overlap in the stacking direction of the pressure-sensitive adhesive layer.
  • These adhesion layers 40 and 42 are below the maximum dimension which can be apply
  • the concave portion 32b is generated in the suction surface of the self-suction type sheet 32 corresponding to the gap S 1.
  • deformed portion G 1 of the glass substrate G which is held by suction to the recessed portion 32b is a convex
  • concave portion 5a is caused on the polished surface of the glass substrate G.
  • the concave portion 5a is not polished. For this reason, the part which became the recessed part 5a turns into the convex part 5A as shown in FIG. 7 in the glass substrate G after grinding
  • the height a of the convex portion 5A formed on the surface of the glass substrate G is equal to the depth b of the conventional concave portion 4A shown in FIG. 9 and the height c of the convex portion 4B shown in FIG. Therefore, the flatness of the glass substrate G is not impaired.
  • Portion 32c of self-suction type sheet 32 located in the gap S 2, as shown in FIG. 6 is deformed in a direction entering into the gap S 2 by the pressing force or the like during polishing.
  • the concave portion 32d is generated in the suction surface of the self-suction type sheet 32 corresponding to the gap S 2.
  • deformed portion G 2 of the glass substrate G which is attracted and held to the concave portion 32d is a convex
  • concave portion 5b is generated on the polished surface of the glass substrate G.
  • the concave portion 5b is not polished. For this reason, the part which became the concave part 5b turns into the convex part 5B as shown in FIG. 7 in the glass substrate G after grinding
  • the deformation amount of the part 32 a of the self-adsorptive sheet 32 is smaller than the deformation amount of the part 32 c of the self-adsorption sheet 32.
  • the gap S 1 of the adhesive layer 40 is in direct contact with the micropores of the foam structure part of the self-adsorption type sheet 32 and the size of the foam structure part is close to the size of the gap S 1. effect on the deformation of the self-suction type sheet 32 compared to the gap S 2 which are in contact via the wood 38 because less.
  • the height b of the convex portion 5B formed on the surface of the glass substrate G is compared with the height a of the convex portion 5A and the depth b of the conventional concave portion 4A shown in FIG.
  • the absolute amount is greatly reduced.
  • the amount of deformation of 32a does not impair the flatness of the glass substrate G.
  • the quality of the polished glass substrate G can be improved.
  • a sheet-like elastic sheet material 44 is attached to the back plate 36 of the holding film body 12, and a plurality of engaging members 46A, 46B,. It is fixed.
  • the holding film body 12 is attached to the polishing head 14 by stretching the elastic sheet material 44 and engaging these engaging members 46A, 46B... With the hook portion (not shown) of the polishing head 14 in FIG. Is done.
  • the predetermined gaps S 1 and S 2 shown in FIGS. 4 to 6 are preferably set to 1.5 ⁇ 1.5 mm, and preferably set to 1.5 ⁇ 1.4 mm. That is, the predetermined gaps S 1 and S 2 defined in these embodiments include 0 and are preferably 0 to 3.0 mm.
  • the gap is 0, convex portions 5A and 5B (see FIG. 7) due to transfer do not occur on the polished glass substrate G, and when the gap is 3.0 mm, transfer to the glass substrate G is performed.
  • the formed convex portions 5A and 5B do not affect the quality of the display glass substrate G.
  • each of the adhesive layers 40 and 42 is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less, and particularly preferably 30 ⁇ m or less.
  • the holding film body 12 shown in FIGS. 4 to 6 suppresses the elongation in the surface direction of the self-adsorptive sheet 32 during polishing by the strength of the base material 38 having the same size as the self-adsorptive sheet 32. Can do.
  • the holding film body is provided with a gap (A) in the thickness direction and a gap (B) in the surface direction as described with reference to FIG. It will be necessary.
  • the gap (B ′ ′′ ′) of the holding film body 12 of the embodiment is the gap (B ′′, B ′ ′, 9) of the holding film bodies 8 and 9 shown in FIGS. B ′′ ′), but the gap (A ′ ′′ ′) of the holding film body 12 according to the embodiment is equal to the thickness of the adhesive layers 40 and 42 provided on both surfaces of the substrate 38. Therefore, the gaps (A ′) to (A ′ ′′) between the holding film bodies 7, 8 and 9 in FIGS. 11 to 13 are significantly smaller.
  • the quality of the polished glass substrate can be improved as compared with the holding film bodies 7, 8, and 9 shown in FIGS. It becomes.
  • the quality of the polished glass substrate can be improved.

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Abstract

　本発明は、自己吸着型シート（３２）が両面接着シート（３４）を介してバックプレートに貼り付けられて構成されるとともに、前記自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持されるガラス基板の保持用膜体において、前記両面接着シートは、シート状の基材（３８）と該基材の両面に備えられた粘着層（４０，４２）とから構成され、前記粘着層は、前記基材の同一面内においてそれぞれ所定の隙間（Ｂ"",Ｂ""）をもって備えられ、前記基材の両面に備えられた粘着層間の隙間が粘着層の積層方向において重ならないガラス基板の保持用膜体に関する。

Description

ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法
　本発明は、ガラス基板を加工する際に、ガラス基板を保持するガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法に関する。
　液晶ディスプレイ用に適用されるガラス基板は、その表面の微小な凹凸やうねりが画像に歪みを与える原因となる。このため、その微小な凹凸やうねりを研磨装置によって除去することにより、所望の平坦度を有するガラス基板に加工される。このような研磨装置として、研磨定盤に貼り付けられた研磨パッドに、研磨ヘッドに保持されたガラス基板を押し当てるとともに、研磨定盤及び研磨ヘッドを相対的に回転させてガラス基板を研磨する研磨装置を、本願出願人が特許文献１において開示している。また、特許文献１の研磨装置では、研磨ヘッドに取り付けられる自己吸着型の保持用膜体にガラス基板を吸着保持させることにより、ガラス基板を研磨ヘッドに取り付ける。
　最近では、液晶ディスプレイ用のガラス基板の大型化に伴い、このガラス基板を研磨ヘッドに吸着保持させるための保持用膜体のサイズも大型化している。この保持用膜体は、多孔質性の自己吸着型シートが両面接着シートを介してバックプレートに貼り付けられることにより構成され、この自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持される。
　Ｇ１０と称されるサイズ（３１３０ｍｍ×２８８０ｍｍ）のマザーガラス基板を研磨加工する場合、そのサイズのガラス基板を保持する保持用膜体の製造において、自己吸着型シートやバックプレートは、それに対応したサイズの製品を既存の製造設備で製造することができる。しかしながら、自己吸着型シートをバックプレートに接着する両面接着シートは、既存の製造設備では単一の製品として製造することができず、製造する場合には新規設備投資が必要となり、製造コストが増大するという問題があった。
　両面接着シートは、ポリエチレンテレフタレート等の基材の両面に接着剤が塗布された粘着層を備えている。前記基材については、既存の製造設備でも前記Ｇ１０サイズのものを製造することができる。しかし、接着剤の塗布装置は、塗布エリアがあまりにも広いことに起因して既存の設備では対応することができなかった。
　そこで、従来では、既存のサイズの両面接着シートを少なくとも２枚使用して、自己吸着型シートをバックプレートに接着保持していた。
　自己吸着型シートとしては特許文献２に示されるように、ポリウレタン樹脂で形成された軟質プラスチックシートとしてのポリウレタンシートを例示できる。特許文献２のポリウレタンシートは、その表面層に微多孔が形成され、表面層に水等の液体を含ませることで、表面層の微多孔に浸入した液体の表面張力により研磨定盤に研磨パッドを接着するものである。このポリウレタンシートによってガラス基板を自己吸着保持することもできるため、自己吸着型シートとして使用されている。
　ところで、複数枚の両面接着シートを使用する従来の保持用膜体において、隣接する両面接着シートの端部同士を隙間無く貼り付けることは難しい。
　図８は、自己吸着型シート１が２枚の両面接着シート２Ａ、２Ｂを介してバックプレート３に貼着され、自己吸着型シート１にガラス基板Ｇが吸着保持された保持用膜体６の断面図が示されている。隣接する両面接着シート２Ａ、２Ｂの端部同士を隙間無く貼り付けるために、両面接着シート２Ａ、２Ｂの端部同士を若干量重なるように接着するとその重なった部分が凸状となり、これが自己吸着型シート１を介してガラス基板Ｇに凸状部４となって転写される。凸状部４が転写された状態でガラス基板Ｇを研磨すると、研磨後のガラス基板Ｇは、この凸状部４となった部分が図９に示すように逆に凹状部４Ａとなって現れるので、加工表面の平坦性が損なわれ、ガラス基板Ｇの品質（平坦度）が低下するという問題があった。
　以上の問題を解決するため、大型のガラス基板を所望の平坦度に研磨するためには、図１０に示すように厚さ方向の隙間（Ａ）と面方向の隙間（Ｂ）を保持用膜体６に持たせることが必要となる。
　隙間（Ａ、Ｂ）を有する保持用膜体として、下記の構成の保持用膜体が考えられる。
　図１１に示すように、小サイズの保持用膜体６、６を同一面内で所定の隙間（Ａ′、Ｂ′）をもって複数枚使用することにより大サイズとした保持用膜体７。
　図１２に示すように、自己吸着型シート１を単一製品とし、両面接着シート２Ｃ、２Ｄを同一面内で所定の隙間（Ａ′′、Ｂ′′）をもって複数枚使用することにより大サイズとした保持用膜体８。
　図１３に示すように、自己吸着型シート１を単一製品とし、両面接着シート２Ｅ、２Ｆを同一面内で所定の隙間（Ａ′′′、Ｂ′′′）をもって複数枚使用し、かつ、２枚重ねとするとともに上下２枚の各々の両面接着シート２Ｅ、２Ｆ間の隙間（Ａ′′′、Ｂ′′′）を両面接着シートの積層方向において重ならない構成とすることにより大サイズとした保持用膜体９。
日本国特開２００４－１２２３５１号公報 日本国特開２００７－７８２４号公報
　しかしながら、図１１に示した保持用膜体７では、製作誤差を鑑みると隙間（Ｂ′）を小さくすることは困難である。よって、保持用膜体７では、保持用膜体７の厚さ分の大きな隙間（Ａ′）と隙間（Ｂ′）とが存在するため、その隙間（Ａ′、Ｂ′）の位置に対応するガラス基板に、図１４に示すように凸状部４Ｂが大きく現れる。よって、この保持用膜体７では、研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。
　また、図１２に示した保持用膜体８の隙間（Ａ′′）は、図１１に示した保持用膜体７の隙間（Ａ′）よりも自己吸着型シート１の厚さ分だけ小さくなる製作誤差に鑑みると隙間（Ｂ′′）を小さくすることも困難である。また、研磨時にはガラス基板と研磨パッドとの摩擦抵抗によって、自己吸着型シート１が面方向に伸びるため、隙間（Ｂ′′）が大きくなる。よって、この保持用膜体８でも、ガラス基板に前記凸状部４Ｂ（図１４参照）が大きく現れるため、研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。
　図１３に示した保持用膜体９は、２枚重ねに配置された両面接着シート２Ｅ、２Ｆの各々の基材２Ｇ、２Ｈの強度により、自己吸着型シート１の面方向の伸びを、図１２に示した保持用膜体８よりも小さく抑えることができる。しかしながら、図１３に示すように両面接着シート２Ｅ、２Ｆを２枚重ねれば、２つの隙間（Ａ′′′）の加算値が、図１２の保持用膜体の隙間（Ａ′′）の２倍となり、また、製作誤差に鑑みると隙間（Ｂ′′′）を小さくすることも困難である。したがって、この保持用膜体９でも研磨後のガラス基板の品質を向上させることは難しい。
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができるガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法を提供することを目的とする。
　本発明は、自己吸着型シートが両面接着シートを介してバックプレートに貼り付けられて構成されるとともに、前記自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持されるガラス基板の保持用膜体において、前記両面接着シートは、シート状の基材と該基材の両面に備えられた粘着層とから構成され、前記粘着層は、前記基材の同一面内において所定の隙間をもって備えられ、前記基材の両面に備えられた粘着層間の隙間が粘着層の積層方向において重ならないことガラス基板の保持用膜体を提供する。
　本発明の保持用膜体によれば、研磨加工時の自己吸着型シートの面方向の伸びを、自己吸着型シートと同サイズの両面接着シートの基材によって抑えることができる。また、本発明の保持用膜体の隙間（Ｂ′′′′）は、前述した図１２、図１３の保持用膜体８、９の隙間（Ｂ′′、Ｂ′′′）と略同一である。しかしながら、本発明の保持用膜体の隙間（Ａ′′′′）は、基材の両面に備えられた粘着層の厚さ分だけなので、図１１～図１３の保持用膜体７～９の隙間（Ａ′）～（Ａ′′′）よりも大幅に小さくなる。よって、本発明の保持用膜体によれば、保持用膜体７～９と比較して、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。
　このような保持用膜体によって保持されて研磨されたガラス基板は、前記隙間が転写されて研磨されることで、その表面に凸状部が形成される。しかしながら、本発明の保持用膜体によれば、前記基材の両面に備えられた粘着層間の前記隙間は、粘着層の積層方向において重ならないため、隙間による転写量を抑えることができる。よって、本発明によれば、ガラス基板の表面に形成される凸状部の高さを低く抑えることができるので、研磨後のガラス基板の品質がより一層向上する。
　本発明は、大型のガラス基板を吸着保持する保持用膜体を対象としている。このため、本発明の１枚の自己吸着型シート及び両面接着シートの基材は、大型のガラス基板に対応し得る寸法のものである。また、両面接着シートの粘着層は、既存の塗布装置で塗布することができる最大寸法以下である。
　また、本発明によれば、前記ガラス基板のサイズは、３１３０（ｍｍ）×２８８０（ｍｍ）以上であることが好ましい。すなわち、本発明の保持用膜体は、Ｇ１０サイズと称されるサイズ以上のサイズのガラス基板を保持し、そのガラス基板を研磨する。
　また、本発明によれば、前記保持用膜体のサイズは、３２００（ｍｍ）×３０００（ｍｍ）以上であることが好ましい。上述したＧ１０サイズ以上のガラス基板を保持するには、３２００（ｍｍ）×３０００（ｍｍ）以上のサイズを有する保持用膜体を使用することが好ましい。
　本発明は、前記目的を達成するために、本発明のガラス基板の保持用膜体によってガラス基板を吸着保持し、該ガラス基板の被研磨面を研磨パッドに押し付けて、ガラス基板の被研磨面を必要な平坦度に研磨することを含むガラス基板の研磨方法を提供する。これにより、本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。
　本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。
図１は、実施の形態のガラス基板の保持用膜体が適用されたガラス基板の研磨装置の斜視図である。 図２は、実施の形態の研磨装置の要部構造を示す拡大断面図である。 図３は、第１の実施の形態の保持用膜体の斜視図である。 図４は、実施の形態の保持用膜体の断面図である。 図５は、実施の形態の保持用膜体にガラス基板が吸着保持された断面図である。 図６は、隙間をもって貼着した２枚の両面接着シートによって自己吸着型シートをバックプレートに貼着した断面図である。 図７は、ガラス基板の表面に形成された凸状部の説明図である。 図８は、２枚の両面接着シートの端部を重ねて自己吸着型シートをバックプレートに貼着した断面図である。 図９は、ガラス基板の表面に形成された凹状部の説明図である。 図１０は、保持用膜体の隙間を説明するために用いた断面図である。 図１１は、保持用膜体の第１の比較例を示した断面図である。 図１２は、保持用膜体の第２の比較例を示した断面図である。 図１３は、保持用膜体の第３の比較例を示した断面図である。 図１４は、ガラス基板の表面に形成された凸状部の説明図である。
　以下、添付図面に従って本発明に係るガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法の好ましい実施の形態について説明する。
　図１は、実施の形態のガラス基板の保持用膜体が適用されたガラス基板の研磨装置１０の斜視図が示されている。また、図２には、研磨装置１０の要部構造を示す拡大断面図が示されている。
　研磨装置１０は、矩形状に製造されたマザーガラス基板（例えば、一辺が３１３０ｍｍ×２８８０ｍｍ（Ｇ１０サイズ）以上、厚み０．７ｍｍ）Ｇの被研磨面Ａを液晶ディスプレイ用ガラス基板に必要な平坦度に研磨する研磨装置である。研磨装置１０は、ガラス基板Ｇを、保持用膜体１２を介してその下面で保持する研磨ヘッド１４と、アルミニウム製のプレート１６を介して研磨パッド１８をその上面で保持する研磨テーブル２０とから構成されている。マザーガラス基板（以下、ガラス基板と称する）Ｇは、自己吸着作用のあるバッキング材等からなる保持用膜体１２に保持されるとともに、研磨ヘッド１４によって被研磨面Ａが研磨パッド１８に押し付けられる。その結果、ガラス基板Ｇは、被研磨面Ａが必要な平坦度に研磨される。保持用膜体１２は、上記サイズの大型のガラス基板Ｇを吸着保持するために、３２００（ｍｍ）×３０００（ｍｍ）以上のサイズを有していることが好ましい。なお、保持用膜体１２の詳細構造については後述する。
　研磨中においては図２に示すように、研磨テーブル２０とプレート１６とに貫通形成された多数のスラリ供給孔２２Ａ、２２Ｂ…から、酸化セリウム水溶液等の研磨スラリが研磨パッド１８の下面側から供給されている。これにより、研磨パッド１８が研磨スラリによって浸された状態となる。この状態でガラス基板Ｇが研磨される。スラリ供給孔２２Ａ、２２Ｂ…は、研磨テーブル２０とプレート１６とにおいて密にかつ均一に形成されている。このため、研磨パッド１８に研磨スラリが均一に供給されている。なお、研磨パッド１８としては、例えば発泡ポリウレタンタイプやスウェードタイプのものが使用され、プレート１６に貼着されている。研磨パッド１８は単一構成でもよいが、ガラス基板Ｇのサイズに対応してそのサイズも大きいことから、複数枚の分割パッドを組み合わせて１枚の研磨パッド１８としてもよい。更に、研磨テーブル２０には多数の吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…が貫通形成されており、これらの吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…は不図示のサクションポンプにバルブを介して接続されている。したがって、前記バルブを開放することにより、サクションポンプの吸引力が吸引孔２４Ａ、２４Ｂ…に伝達されるので、プレート１６が研磨テーブル２０の上面に吸着保持される。前記バルブを閉鎖することにより、サクションポンプの吸引力が解除されるので、研磨パッド１８のメンテナンス、交換の際に研磨テーブル２０から研磨パッド１８をプレート１６とともに取り外すことができる。
　図１に示すように研磨ヘッド１４の上部中央には、スピンドル２６が固定され、このスピンドル２６には回転／昇降装置２８が連結されている。回転／昇降装置２８は、研磨装置１０全体を統括制御する制御部３０によって、ガラス基板Ｇの研磨に好適な回転数及び下降動作（押圧力）が制御されている。
　図３には、実施の形態の保持用膜体１２の斜視図が示され、図４には、バックプレート３６を除く実施の形態の保持用膜体１２の断面図が示されている。また、図５は、実施の形態の保持用膜体１２にガラス基板Ｇが吸着保持された断面図が示されている。
　図４に示すように保持用膜体１２は、１枚の自己吸着型シート３２が同一面内に配された１枚の両面接着シート３４を介して、図３のアルミニウム製のバックプレート３６に貼り付けられて構成される。この自己吸着型シート３２に図５に示すようにガラス基板Ｇが吸着保持される。
　自己吸着型シート３２は、特許文献２に開示されているようなポリウレタン樹脂で形成されたポリウレタンシートであり、その厚さは約１．１～１．５ｍｍであることが好ましい。このポリウレタンシートは、その表面層に微多孔が形成され、表面層に水等の液体を含ませることにより、表面層の微多孔に浸入した液体の表面張力によってガラス基板Ｇを吸着保持することができる。
　両面接着シート３４は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の基材３８と、基材３８の両面に接着剤が塗布されることにより形成された粘着層４０、４２とから構成される。基材３８の厚さは約７５μｍであることが好ましく、粘着層４０の厚さは約５０μｍであることが好ましい。なお、自己吸着型シート３２側の粘着層４０よりもバックプレート３６側の粘着層４２の厚さを薄くすることにより、ガラス基板Ｇの平坦度向上に寄与することができる。
　図３～図５に示す保持用膜体１２は、１枚の自己吸着型シート３２に、同一面内に両面接着シート３４が１枚配され、両面接着シート３４の粘着層４０は、所定の隙間（Ｓ１）をもって基材３８に塗布されるとともに、粘着層４２も同様に所定の隙間（Ｓ２）をもって基材３８に塗布される。そして、これらの隙間（Ｓ１、Ｓ２）は粘着層の積層方向において重ならないようにされている。これらの粘着層４０、４２は、既存の塗布装置で塗布することができる最大寸法以下である。
　上記のように構成された保持用膜体１２によれば、図６に示すように隙間Ｓ１に位置する自己吸着型シート３２の一部分３２ａが、研磨時の押圧力等により隙間Ｓ１に入り込む。その結果、隙間Ｓ１に対応する自己吸着型シート３２の吸着面に凹状部３２ｂが生じる。したがって、その凹状部３２ｂに吸着保持されているガラス基板Ｇの一部分Ｇ１が凸状に変形し、ガラス基板Ｇの被研磨面に凹状部５ａが生じる。凹状部５ａが生じた状態でガラス基板Ｇを研磨すると、その凹状部５ａが研磨されない。このため、凹状部５ａとなった部分が研磨後のガラス基板Ｇにおいて図７に示すように凸状部５Ａとなる。
　しかし、ガラス基板Ｇの表面に形成される凸状部５Ａの高さａは、図９に示した従来の凹状部４Ａの深さｂ、及び図１４に示した凸状部４Ｂの高さｃと比較してその絶対量が小さくなるので、ガラス基板Ｇの平坦性を損なうものではない。
　図６に示すように隙間Ｓ２に位置する自己吸着型シート３２の一部分３２ｃが、研磨時の押圧力等により隙間Ｓ２に入り込む方向に変形する。その結果、隙間Ｓ２に対応する自己吸着型シート３２の吸着面に凹状部３２ｄが生じる。したがって、その凹状部３２ｄに吸着保持されているガラス基板Ｇの一部分Ｇ２が凸状に変形し、ガラス基板Ｇの被研磨面に凹状部５ｂが生じる。凹状部５ｂが生じた状態でガラス基板Ｇを研磨すると、凹状部５ｂが研磨されない。このため、凹状部５ｂとなった部分が研磨後のガラス基板Ｇにおいて図７に示すように凸状部５Ｂとなる。
　しかし、自己吸着型シート３２の一部分３２ａの変形量は、自己吸着型シート３２の一部分３２ｃの変形量よりも小さい。粘着層４０の隙間Ｓ１は、直接、自己吸着型シート３２の発泡構造部の微孔と接していること、及びその発泡構造部サイズが隙間Ｓ１のサイズに近いため、粘着層４０や基材３８を介して接している隙間Ｓ２に比べ自己吸着型シート３２の変形に与える影響が少ないからである。
　よって、ガラス基板Ｇの表面に形成される凸状部５Ｂの高さｂは、凸状部５Ａの高さａ、及び図９に示した従来の凹状部４Ａの深さｂと比較してその絶対量が大幅に小さくなる。３２ａの変形量は、ガラス基板Ｇの平坦性を損なうものではない。
　実施の形態の保持用膜体１２によれば、研磨後のガラス基板Ｇの品質を向上させることができる。
　なお、保持用膜体１２のバックプレート３６には、図５に示すようにシート形状の弾性シート材４４が取り付けられ、この弾性シート材４４の外周には複数の係合部材４６Ａ、４６Ｂ…が固定されている。保持用膜体１２は、弾性シート材４４を張設してこれらの係合部材４６Ａ、４６Ｂ…を図１の研磨ヘッド１４のフック部（不図示）に係合させることにより研磨ヘッド１４に装着される。
　図４～図６に示した所定の隙間Ｓ１、Ｓ２は、１．５±１．５ｍｍに設定されることが好ましく、１．５±１．４ｍｍに設定されることが好ましい。すなわち、これらの実施の形態で規定する所定の隙間Ｓ１、Ｓ２は０を含み、０～３．０ｍｍであることが好ましい。隙間が０の場合には、研磨後のガラス基板Ｇに転写による凸状部５Ａ、５Ｂ（図７参照）が発生せず、また、隙間が３．０ｍｍであれば、ガラス基板Ｇに転写によって形成された凸状部５Ａ、５Ｂは、ディスプレイ用ガラス基板Ｇの品質に影響を与えない。
　粘着層４０、４２の厚さはそれぞれ５０μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以下であることが特に好ましい。
　更に、図４～図６に示した保持用膜体１２は、研磨加工時の自己吸着型シート３２の面方向の伸びを、自己吸着型シート３２と同サイズの基材３８の強度によって抑えることができる。
　一方、大型のガラス基板を所望の平坦度に研磨加工するためには、図１０で説明したように厚さ方向の隙間（Ａ）と面方向の隙間（Ｂ）を保持用膜体に持たせることが必要となる。
　そこで、図４に示すように実施の形態の保持用膜体１２の隙間（Ｂ′′′′）は、図１２、図１３に示した保持用膜体８、９の隙間（Ｂ′′、Ｂ′′′）と略同一であるが、実施の形態の保持用膜体１２の隙間（Ａ′′′′）は、基材３８の両面に備えられた粘着層４０、４２の厚さ分だけなので、図１１～図１３の保持用膜体７、８、９の隙間（Ａ′）～（Ａ′′′）よりも大幅に小さくなる。
　よって、実施の形態の保持用膜体１２によれば、図１１～図１３に示した保持用膜体７、８、９と比較して、研磨後のガラス基板の品質を向上させることが可能となる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１０年３月３０日出願の日本特許出願２０１０－０７７９３４に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　本発明によれば、研磨後のガラス基板の品質を向上させることができる。
　１…自己吸着型シート、２Ａ～２Ｈ…両面接着シート、３…バックプレート、４…凸状部、４Ａ…凹状部、５…凹状部、５Ａ…凸状部、６、７、８、９…保持用膜体、１０…研磨装置、１２、１１２、２１２…保持用膜体、１４…研磨ヘッド、１６…プレート、１８…研磨パッド、２０…研磨テーブル、２２…スラリ供給孔、２４…吸引孔、２６…スピンドル、２８…回転／昇降装置、３０…制御部、３２…自己吸着型シート、３４、３４Ａ、３４Ｂ…両面接着シート、３６…バックプレート、３８…基材、４０、４２…粘着層、４４…弾性シート材、４６…係合部材、Ｇ…ガラス基板

Claims (4)

  1. 　自己吸着型シートが両面接着シートを介してバックプレートに貼り付けられて構成されるとともに、前記自己吸着型シートにガラス基板が吸着保持されるガラス基板の保持用膜体において、
    　前記両面接着シートは、シート状の基材と該基材の両面に備えられた粘着層とから構成され、
    　前記粘着層は、前記基材の同一面内においてそれぞれ所定の隙間をもって備えられ、
    　前記基材の両面に備えられた粘着層間の隙間が粘着層の積層方向において重ならないガラス基板の保持用膜体。
  2. 　前記ガラス基板のサイズが、３１３０ｍｍ×２８８０ｍｍ以上である請求項１に記載のガラス基板の保持用膜体。
  3. 　前記保持用膜体のサイズが、３２００ｍｍ×３０００ｍｍ以上である請求項２に記載のガラス基板の保持用膜体。
  4. 　請求項１、２又は３に記載のガラス基板の保持用膜体によってガラス基板を吸着保持し、該ガラス基板の被研磨面を研磨パッドに押し付けて、ガラス基板の被研磨面を必要な平坦度に研磨することを含むガラス基板の研磨方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101612928B1 (ko) * 2013-01-04 2016-04-15 주식회사 엘지화학 연마용 백패드에 유리판을 마운팅하는 장치 및 방법
CN111318958A (zh) * 2018-12-17 2020-06-23 Ａｇｃ株式会社 玻璃基板的保持用膜体和玻璃基板的研磨方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7046539B2 (ja) * 2017-09-21 2022-04-04 富士紡ホールディングス株式会社 保持パッド及びその搬送又は保管方法
KR102607586B1 (ko) * 2018-11-05 2023-11-30 삼성디스플레이 주식회사 기판 지지 장치 및 이를 이용한 기판 연마 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02220838A (ja) * 1989-02-22 1990-09-04 Rodeele Nitta Kk 積層体、並びに該積層体を用いた被研磨部材の保持材及び研磨布
US20080200105A1 (en) * 2007-02-15 2008-08-21 San Fang Chemical Industry Co., Ltd. Carrier film for mounting polishing workpiece and method for making the same
JP2009119533A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Fujibo Holdings Inc 保持パッド

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001353663A (ja) * 2000-06-13 2001-12-25 Torataro Yoshida 家庭用包丁研ぎ、仕上用研摩板
JP2002001647A (ja) * 2000-06-19 2002-01-08 Rodel Nitta Co 研磨パッド
JP4693024B2 (ja) * 2002-04-26 2011-06-01 東洋ゴム工業株式会社 研磨材
JP2006294742A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Nitto Denko Corp 被着体の加工方法、該方法により得られる電子素子、及び該方法に用いる両面粘着シート
JP5078527B2 (ja) * 2007-09-28 2012-11-21 富士紡ホールディングス株式会社 研磨布

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02220838A (ja) * 1989-02-22 1990-09-04 Rodeele Nitta Kk 積層体、並びに該積層体を用いた被研磨部材の保持材及び研磨布
US20080200105A1 (en) * 2007-02-15 2008-08-21 San Fang Chemical Industry Co., Ltd. Carrier film for mounting polishing workpiece and method for making the same
JP2009119533A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Fujibo Holdings Inc 保持パッド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101612928B1 (ko) * 2013-01-04 2016-04-15 주식회사 엘지화학 연마용 백패드에 유리판을 마운팅하는 장치 및 방법
CN111318958A (zh) * 2018-12-17 2020-06-23 Ａｇｃ株式会社 玻璃基板的保持用膜体和玻璃基板的研磨方法

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