JP7205423B2 - ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 - Google Patents
ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7205423B2 JP7205423B2 JP2019160519A JP2019160519A JP7205423B2 JP 7205423 B2 JP7205423 B2 JP 7205423B2 JP 2019160519 A JP2019160519 A JP 2019160519A JP 2019160519 A JP2019160519 A JP 2019160519A JP 7205423 B2 JP7205423 B2 JP 7205423B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- glass substrate
- holding
- self
- adhesive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/27—Work carriers
- B24B37/30—Work carriers for single side lapping of plane surfaces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
自己吸着型シートとしては、例えば特許文献2に記載されるポリウレタンシートのような、多孔質のシートが使用される。多孔質の自己吸着型シートの表面に水等の液体を含ませ、当該表面をガラス基板に密着させると、表面の細孔に侵入した液体の表面張力により、ガラス基板が自己吸着型シートに吸着される。
保持用膜体は、両面接着シートの自己吸着型シートと反対側の面がバックプレートに貼り付けられ、バックプレートとともに研磨ヘッドに取り付けられる。
しかし、G11と呼ばれるサイズ(2940mm×3370mm)のガラス基板より大きいサイズの自己吸着型シートの製造は困難である。したがって、G11サイズのガラス基板の研磨を行う際には、ガラス基板より小さいサイズの自己吸着型シートを用いて保持用膜体を構成する必要がある。このような保持用膜体の構成としては、以下のような構成が挙げられる。
第2の構成としては、図2に示すように、小さいサイズの保持用膜体2を引き延ばしてバックプレート1に取り付ける構成が挙げられる。
このような隙間が生じると、研磨時にガラス基板を研磨定盤に押し付ける力に偏りが生じ、ガラス基板の研磨後の平滑度が悪化する。また、このような隙間には、研磨剤(酸化セリウム等)のスラリがしみ込んで固着しやすいが、このような固着が生じると、ガラス基板の吸着力が低下し、また、ガラス基板に傷をつける恐れもある為、保持用膜体を交換する必要が生じる。
このように、上記の第1の構成では、ガラス基板の研磨後の平滑度が悪化し、また、保持用膜体を頻繁に交換する必要がある(保持用膜体の寿命が短い)という問題点があった。
第1面と、第1面の反対側の第2面とを有し、第1面にガラス基板を吸着保持する第1自己吸着型シートと、第1自己吸着型シートの第2面に備えられた第1粘着層と、第1粘着層の第1自己吸着型シートと反対側の面に備えられた第1シート状基材と、第1シート状基材の第1粘着層と反対側の面に備えられた第2粘着層と、を有する第1部材と、
第1面と、第1面の反対側の第2面とを有し、第1面にガラス基板を吸着保持する第2自己吸着型シートと、第2自己吸着型シートの第2面に備えられた第3粘着層と、第3粘着層の第2自己吸着型シートと反対側の面に備えられた第2シート状基材と、第2シート状基材の第3粘着層と反対側の面に備えられた第4粘着層と、を有する第2部材とを備え、
第1自己吸着型シートの第1面と第2自己吸着型シートの第1面が接続されている。
保持用膜体100を介して研磨ヘッド14に保持されたガラス基板Gは、被研磨面Aが研磨パッド18に押し付けられて、必要な平坦度に研磨される。なお、保持用膜体100の詳細構造については後述する。
本実施形態の保持用膜体100は、小さなサイズの保持用膜体である第1部材110及び第2部材111が、ガラス基板Gを吸着保持する側の面で接続された構成を有する。第1部材110は第1自己吸着型シート101と、第1粘着層102と、第1シート状基材103と、第2粘着層104とを備え、第2部材111は第2自己吸着型シート105と、第3粘着層106と、第2シート状基材107と、第4粘着層108とを備える。
第1粘着層102は、第1自己吸着型シート101の第2面に備えられる。
第1シート状基材103は、第1粘着層102の第1自己吸着型シート101と反対側の面に備えられる。
第2粘着層104は、第1シート状基材103の第1粘着層102と反対側の面に備えられる。
第3粘着層106は、第2自己吸着型シート105の第2面に備えられる。
第2シート状基材107は、第3粘着層106の第2自己吸着型シート105と反対側の面に備えられる。
第4粘着層108は、第2シート状基材107の第3粘着層106と反対側の面に備えられる。
第1に、本実施形態の保持用膜体100は、ガラス基板Gを保持する面において、スラリの染み込み及び固着による劣化が発生しにくく、寿命が長い。
第2に、本実施形態の保持用膜体100を用いてガラス基板Gを保持して研磨すると、ガラス基板を研磨定盤に押し付ける力に偏りが生じにくいため、平滑度の高いガラス基板が得られる。
なお、上記の接続の態様は特に限定されないが、後述するように溶接により接続されていることが好ましい。溶接によれば接続部分が異質材料にならないので、得られる保持用膜体100は、ガラス基板Gを保持する面において接続部分と接続部分以外の部分で硬度や構造が変化せず、ガラス基板Gを特に均一に押圧することができるものとなる。
バックプレート109は特に限定されないが、例えばアルミ製のプレートである。バックプレート109は、係合部材(図示せず)を備え、当該係合部材により研磨ヘッド14に装着される。
第1粘着層102、第2粘着層104、第3粘着層106、及び第4粘着層108は、粘着剤からなる層であり、特に、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤から選ばれる少なくとも1種からなる層であることが好ましい。
第1シート状基材103及び第2シート状基材107の厚みは約50μm~100μmであることが好ましく、第1粘着層102、第2粘着層104、第3粘着層106、及び第4粘着層108の厚みは約50μmであることが好ましい。
なお、ガラス基板Gの研磨後の平坦度を向上させるためには、第1粘着層102及び第3粘着層106よりも第2粘着層104及び第4粘着層108を薄くすることが好ましい。
また、第2粘着層104の第1シート状基材103と反対側の面、及び第4粘着層108の第2シート状基材107と反対側の面、即ち、バックプレート109に貼り付けられる面は保護シート(図示せず)を備え、バックプレート109に貼り付けられる際まで保護されていることが好ましい。
また、本実施形態の保持用膜体100は、サイズが大きい場合、特に、複数の自己吸着型シートを使用する必要があるようなサイズである場合においても、上記の効果、即ち、長寿命化及びガラスの平滑度の向上の効果を奏する点において優れる。
したがって、本実施形態の保持用膜体100は、矩形であり、短辺の長さが2700mm以上であることが好ましい。本実施形態の保持用膜体100の短辺の長さの上限は特には限定されないが、例えば5000mm以下である。また、特に本実施形態の保護用膜体は、矩形であり、短辺の長さが3100mm以上、長辺の長さが3530mm以上であることが好ましい。このようなサイズであれば、G11サイズ(2940mm×3370mm)のガラス基板を効率よく保持し、研磨することができる。
また、第2部材111も上記と同様にして製造する。
当該溶接の際に、半田ごて112を第1自己吸着型シート101と第2自己吸着型シート105との間に挿入しすぎると、得られる保持用膜体100の表面平滑性が劣化する。したがって、半田ごて112を第1自己吸着型シート101と第2自己吸着型シート105との間に0.1mm程度挿入して溶接することが好ましい。
なお、溶接は半田ごて112を用いた溶接に限定されず、例えばレーザ溶接などでもよい。
接続部分の厚みTが大きすぎると、このへこみが大きくなり、研磨後のガラス基板の平滑性が低下する恐れがあるため、好ましくない。また、第1自己吸着型シート101の第1面と、第2自己吸着型シート105の第1面とが接続部分に引っ張られることにより、接続部分周辺(接続部分から1mm程度の領域)では表面の細孔の開口径が若干大きくなるが、接続部分の厚みTが大きすぎると開口径が大きくなりすぎ、細孔内に研磨剤のスラリがしみ込んで固着しやすくなるため、好ましくない。
一方、接続部分の厚みTが小さすぎると、接続部分の一部分、又は全体が破断する恐れがある。接続部分の一部分、又は全体が破断すると、当該破断部分にスラリが染み込みやすくなり、研磨後のガラス基板に研磨スジが発生しやすくなる。
上記観点より、第1自己吸着型シート101の第1面と第2自己吸着型シート105の第1面の接続部分の厚みTは2~500μmであることが好ましい。
この観点からは、面取り部213の幅Wは、5mm以下が好ましく、0.5mm以下がより好ましい。
すなわち、図13Aに示すようにバックプレート409に貼り付けられた保持用膜体400Aの一部分のみが消耗、汚損等した場合において、当該消耗、汚損部413を含む部分を切除し(図13B)、残存する保持用膜体400Aに新たな保持用膜体400Bを溶接して接続し(図13C)、新たな保持用膜体400Bを開いてバックプレート409に貼付する(図13D)ことにより、消耗、汚損等した部分のみを交換することができる。
このようにすることにより、保持用膜体の一部分のみが消耗、汚損等した場合に保持用膜体を全て交換する必要がなくなるため好ましい。
本実施形態のガラス基板の保持用膜体は、大型化された場合においても上記の効果を奏する。したがって、本実施形態のガラス基板の保持用膜体は、G11サイズ等の大型のガラス基板の研磨装置における保持用膜体として有用である。
Claims (7)
- 第1面と、前記第1面の反対側の第2面とを有し、前記第1面にガラス基板を吸着保持する第1自己吸着型シートと、
前記第1自己吸着型シートの第2面に備えられた第1粘着層と、
前記第1粘着層の前記第1自己吸着型シートと反対側の面に備えられた第1シート状基材と、
前記第1シート状基材の前記第1粘着層と反対側の面に備えられた第2粘着層と、を有する第1部材と、
第1面と、前記第1面の反対側の第2面とを有し、前記第1面にガラス基板を吸着保持する第2自己吸着型シートと、
前記第2自己吸着型シートの第2面に備えられた第3粘着層と、
前記第3粘着層の前記第2自己吸着型シートと反対側の面に備えられた第2シート状基材と、
前記第2シート状基材の前記第3粘着層と反対側の面に備えられた第4粘着層と、を有する第2部材とを備え、
前記第1自己吸着型シートの第1面と前記第2自己吸着型シートの第1面が接続されている、ガラス基板の保持用膜体。 - 前記第1自己吸着型シートの第1面と前記第2自己吸着型シートの第1面の接続部分の厚みが2~500μmである、請求項1に記載のガラス基板の保持用膜体。
- 前記第1部材の前記第2部材側の端面と前記第2粘着層側の主面の間、及び/又は前記第2部材の前記第1部材側の端面と前記第4粘着層側の主面の間に面取り部を有する請求項1又は2に記載のガラス基板の保持用膜体。
- 前記第1粘着層、前記第2粘着層、前記第3粘着層、及び前記第4粘着層はアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤から選ばれる少なくとも1種からなる、請求項1~3のいずれか1項に記載のガラス基板の保持用膜体。
- 前記第2粘着層の前記第1シート状基材と反対側の面、及び前記第4粘着層の前記第2シート状基材と反対側の面が保護シートを備える、請求項1~4のいずれか1項に記載のガラス基板の保持用膜体。
- 矩形状であり、短辺の長さが2700mm~5000mmである、請求項1~5のいずれか1項に記載のガラス基板の保持用膜体。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載のガラス基板の保持用膜体の前記第1自己吸着型シートの第1面及び前記第2自己吸着型シートの第1面にガラス基板を吸着保持し、該ガラス基板を研磨パッドに押し付けて研磨する、ガラス基板の研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911281348.1A CN111318958B (zh) | 2018-12-17 | 2019-12-13 | 玻璃基板的保持用膜体和玻璃基板的研磨方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018235702 | 2018-12-17 | ||
JP2018235702 | 2018-12-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020097094A JP2020097094A (ja) | 2020-06-25 |
JP7205423B2 true JP7205423B2 (ja) | 2023-01-17 |
Family
ID=71106731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019160519A Active JP7205423B2 (ja) | 2018-12-17 | 2019-09-03 | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7205423B2 (ja) |
CN (1) | CN111318958B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7518716B2 (ja) | 2020-09-29 | 2024-07-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118010A1 (ja) | 2010-03-25 | 2011-09-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 |
JP2011212807A (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Fujibo Holdings Inc | 保持材および保持材の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6179950B1 (en) * | 1999-02-18 | 2001-01-30 | Memc Electronic Materials, Inc. | Polishing pad and process for forming same |
JP2003115468A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-04-18 | T & T:Kk | 研摩マット |
JP2003060014A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状被加工物のための保持具 |
JP5297133B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-09-25 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 装着材 |
US8475231B2 (en) * | 2008-12-12 | 2013-07-02 | Applied Materials, Inc. | Carrier head membrane |
CN102844152B (zh) * | 2010-03-30 | 2015-09-09 | 旭硝子株式会社 | 玻璃基板保持用膜体及玻璃基板的研磨方法 |
US20130017765A1 (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-17 | 3M Innovative Properties Company | Lapping carrier and method of using the same |
US20170252893A1 (en) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | P.R. Hoffman Machine Products Inc. | Polishing machine work piece holder |
CN105820769A (zh) * | 2016-04-22 | 2016-08-03 | 合肥宝亿自动化科技有限公司 | 一种硅胶带无缝连接端结构 |
-
2019
- 2019-09-03 JP JP2019160519A patent/JP7205423B2/ja active Active
- 2019-12-13 CN CN201911281348.1A patent/CN111318958B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118010A1 (ja) | 2010-03-25 | 2011-09-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 |
JP2011212807A (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Fujibo Holdings Inc | 保持材および保持材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111318958B (zh) | 2023-07-14 |
CN111318958A (zh) | 2020-06-23 |
JP2020097094A (ja) | 2020-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7205423B2 (ja) | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 | |
JP7321893B2 (ja) | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 | |
JP5640076B2 (ja) | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 | |
JP5529258B2 (ja) | ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法 | |
JP6247254B2 (ja) | 研磨パッド及びその製造方法 | |
JP2015069674A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び研磨処理用キャリア | |
JP6674813B2 (ja) | 保持具 | |
JP2008000823A (ja) | 研磨キャリア | |
JP4273444B2 (ja) | 研磨用被加工物保持具及びこれを用いた研磨方法 | |
JP6635249B2 (ja) | 被研磨物の保持具および研磨装置 | |
KR20100026620A (ko) | 평판 유리용 벨트형 엣지 폴리싱 장치 | |
JP5587636B2 (ja) | 研磨パッド | |
JP2016159384A (ja) | 研磨装置及び研磨方法 | |
JP2008006555A (ja) | 研磨装置 | |
JP2006068882A (ja) | 被加工物保持部材 | |
TWI485038B (zh) | A glass substrate holding film body and a glass substrate | |
JP2019055474A (ja) | ガラス基板の保持用膜体及びガラス基板の研磨方法 | |
JP2018122430A (ja) | ガラス基板の保持用膜体及びガラス基板の研磨方法 | |
JPH1148131A (ja) | 基板を平坦化するための研磨工具および研磨方法 | |
JP5992258B2 (ja) | 被研磨物保持材 | |
CN113714928A (zh) | 一种研磨盘及基板清洁装置 | |
JP2006156653A (ja) | ウェーハ保持体 | |
JP2015205389A (ja) | 研磨パッド及び研磨装置 | |
JP2007007771A (ja) | 研磨パット及び研磨機 | |
JP2004090121A (ja) | 板状体の片面研磨装置、該装置に用いるバックパッドおよびその作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7205423 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |