WO2011096081A1 - エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク - Google Patents

エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to an ionizing radiation curable protective solution for an emulsion mask, and can reduce the time for forming a protective film, and in particular, an emulsion excellent in the adhesion between the emulsion mask and the protective film and the surface hardness of the protective film.
  • the present invention relates to an ionizing radiation curable protective liquid for a mask and an emulsion mask.
  • an emulsion mask in which a silver salt emulsion (emulsion) is patterned as a light-shielding film on a substrate such as soda glass, quartz glass, or optical glass is easy to be damaged due to the softness of the light-shielding film. Impossible. Further, as the glass mask size is increased, the accuracy is reduced due to deflection due to its own weight, and therefore, when the contact exposure is performed in order to increase the mask accuracy, there arises a problem that the light shielding film is worn.
  • Patent Document 2 a protective film directly on the surface of the emulsion mask facing the photoresist
  • the present invention is capable of forming a protective film in a short time, an ionizing radiation curable protective liquid for an emulsion mask that is excellent in the adhesion between the emulsion mask and the protective film, and the surface hardness of the protective film, and an emulsion using the same.
  • the object is to provide a mask.
  • the formation time of the protective film depends on the curing time of the thermosetting resin contained in the protective film, and in order to form the protective film in a short time, the curing time is long. It has been found that the above problem can be solved by using an ionizing radiation curable resin having a short curing time instead of a thermosetting resin. However, it has been found that simply changing from a thermosetting resin to an ionizing radiation curable resin results in inadequate adhesion between the emulsion mask and the protective film, resulting in poor durability of the protective film. And it discovered that the adhesiveness of an emulsion mask and a protective film and the surface hardness of a protective film could be improved by adding a reactive hydrophilic substance to a protective liquid, and came to solve this.
  • the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention comprises a first component containing a (meth) acrylate oligomer and / or a (meth) acrylic monomer, and a reactive hydrophilic property copolymerizable with the first component. It has the 2nd component containing a substance, It is characterized by the above-mentioned.
  • the reactive hydrophilic substance is a (meth) acryl-modified hydrophilic substance.
  • the (meth) acryl-modified hydrophilic substance is a (meth) acryl-modified phosphate ester and / or a (meth) acryl-modified quaternary ammonium salt.
  • the second component is contained in an amount of 10 to 30% by weight based on the total solid content of the protective liquid.
  • the first component includes 50 to 89% by weight of the total solid content of the protective liquid.
  • it further has a third component including a reactive silicone oil having a group that reacts with at least one of the first component and the second component.
  • the reactive silicone oil having a (meth) acryl group is used.
  • the third component includes 0.5 to 20% by weight of the total solid content of the protective liquid.
  • the emulsion mask of the present invention has a protective film, and this protective film is formed using the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask.
  • the protective film is formed with a thickness of 0.1 to 10 ⁇ m.
  • the protective film does not cause scratches when steel wool # 0000 with a 1 kg load is reciprocated 10 times.
  • the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention can form a protective film in a short time, and can provide an emulsion mask that is excellent in adhesion between the emulsion mask and the protective film and excellent in surface hardness of the protective film. Can do.
  • the emulsion mask in which the protective film is formed using the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention can form the protective film in a short time, so that the production cost can be reduced and the emulsion mask and the protective film can be protected. It can be set as the emulsion mask which is excellent in adhesiveness with a film
  • the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention is a co-polymer with (meth) acrylate oligomer and / or (meth) acrylic monomer as the first component and the oligomer and / or monomer as the second component. It contains a polymerizable reactive hydrophilic substance.
  • the (meth) acrylate oligomer and the (meth) acrylic monomer are used as a resin component for imparting surface hardness to the protective film when used as a protective film.
  • Such (meth) acrylate oligomers and (meth) acrylic monomers have two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and are crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams). It becomes a dimensional network structure.
  • thermosetting resin having a three-dimensional network structure when used, it takes about 30 to 80 minutes to form a film, but it is a (meth) acrylate oligomer that is crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams).
  • ionizing radiation ultraviolet rays or electron beams.
  • (Meth) acrylate oligomers include ester (meth) acrylate, ether (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, amino resin (meth) acrylate, acrylic resin (meth) acrylate, and melamine (meth). Acrylate, polyfluoroalkyl (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, or the like can be used. These (meth) acrylate oligomers can be used alone, but in order to impart various performances such as improvement of cross-linking curability and adjustment of curing shrinkage, a mixture of two or more types may be used. preferable.
  • (Meth) acrylic monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and hydroxypivalate ester neo Multifunctional (meth) acrylic monomers such as bifunctional (meth) acrylic monomers such as pentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylpropanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate 1 type, or 2 or more types are used.
  • the (meth) acrylate oligomer and (meth) acrylic monomer are preferably contained in an amount of 50 to 89% by weight of the total solid content of the protective liquid.
  • By setting it to 50% by weight or more it is possible to prevent the surface hardness of the protective film from being lowered, and by setting it to 89% by weight or less, it is possible to form a protective film such as adhesiveness and releasability between the emulsion mask and the protective film. The required performance can be fully exhibited.
  • additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator are used in addition to the (meth) acrylate oligomer and the (meth) acrylic monomer. It is preferable.
  • photopolymerization initiator examples include acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, ⁇ -acyloxime ester, thioxanthone and the like.
  • the photopolymerization accelerator can reduce the polymerization obstacle due to air at the time of curing and increase the curing speed.
  • examples thereof include p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester. can give.
  • the reactive hydrophilic substance as the second component can be copolymerized with a (meth) acrylate oligomer and / or a (meth) acrylic monomer.
  • a (meth) acrylate oligomer and / or a (meth) acrylic monomer By copolymerizing with (meth) acrylate oligomer and / or (meth) acrylic monomer, the hydrophilic substance does not bleed out from the protective film, and the adhesion between the emulsion mask and the protective film changes over time. This can be prevented and the durability of the emulsion mask can be improved.
  • the crosslinking density in the protective film can be sufficiently increased, and a protective film by adding a reactive hydrophilic substance The hardness can be prevented from decreasing.
  • Examples of such a reactive hydrophilic substance include a hydrophilic substance having a hydroxyl group, a (meth) acryl group, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a (meth) acryloxy group, an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, and the like. Can be used.
  • the (meth) acryl-modified hydrophilic substance having a (meth) acryl group can be easily copolymerized with the (meth) acrylate oligomer and the (meth) acrylic monomer, and the (meth) acrylate oligomer and It is preferable because it is compatible with (meth) acrylic monomers.
  • (meth) acryl-modified hydrophilic substance since it has good adhesion to the emulsion mask, (meth) acryl-modified phosphate ester, (meth) acryl-modified quaternary ammonium salt, and the like can be used. Since the storage stability of the liquid is good, it is more preferable to use a (meth) acryl-modified quaternary ammonium salt.
  • (meth) acrylic modified phosphate ester trisacryloyloxyethyl phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, etc. can be used, and (meth) acrylic modified quaternary
  • ammonium salt dimethylaminoethyl acrylate methyl chloride quaternary salt, dimethylaminopropylacrylamide methyl chloride quaternary salt, dimethylaminoethyl methacrylate methyl chloride quaternary salt and the like can be used.
  • the reactive hydrophilic substance is preferably contained in an amount of 10 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 20% by weight, based on the total solid content of the protective liquid.
  • the reason why it is 10% by weight or more is to obtain adhesion between the emulsion mask and the protective film, and the reason why it is 30% by weight or less is that the surface hardness of the protective film is not lowered.
  • the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention may contain a release agent as a third component in order to prevent the photoresist from adhering to the protective film.
  • a release agent silicone oil such as dimethyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, methylphenyl silicone oil, and cyclic dimethyl silicone oil, and modified silicone oil in which an organic group is introduced into silicone oil can be used.
  • modified silicone oils such as alkyl modification, polyether modification, fluorine modification, mercapto modification, epoxy modification, carboxyl modification, higher fatty acid ester modification, (meth) acryl modification, carbinol modification and the like can be used.
  • a reactive silicone oil having a group that reacts with at least one of a (meth) acrylate oligomer and a (meth) acrylic monomer or a reactive hydrophilic substance makes it possible to release and prevent soiling. It is preferable for maintaining the sex. By doing so, deposits such as photoresist on the surface of the protective film can be easily removed.
  • reactive silicone oil for example, those having hydroxyl group, (meth) acryl group, vinyl group, epoxy group, styryl group, (meth) acryloxy group, amino group, mercapto group, isocyanate group, etc. should be used. Can do. In particular, it can be easily copolymerized with (meth) acrylate oligomers and (meth) acrylic monomers and reactive hydrophilic substances, and is compatible with the (meth) acrylate oligomers and (meth) acrylic monomers. Those having a (meth) acryl group are preferred.
  • the silicone oil as the third component is preferably 0.5 to 20% by weight based on the total solid content of the protective liquid.
  • the reason why it is 0.5% by weight or more is to obtain sufficient releasability and antifouling property, and the reason why it is 20% by weight or less is that the surface hardness is not lowered.
  • the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention comprises the (meth) acrylate oligomer and (meth) acrylic monomer (first component), reactive hydrophilic substance (second component), silicone oil (first component) described above. 3 components) and other components as necessary, and can be adjusted by dissolving in an appropriate solvent.
  • the components are compatible with each other because whitening of the protective film can be prevented.
  • the protective film obtained with the ionizing radiation curable protective liquid for emulsion masks of the present invention is such that the surface of the cured protective film is rubbed 10 times with steel wool # 0000 at a load of 1 kg, and then the surface of the protective film is scratched. It is preferable that it is not.
  • the emulsion mask of the present invention is obtained by forming a protective film using the above-mentioned ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask on the emulsion mask body.
  • the emulsion mask body used in the present invention is a glass substrate on which a pattern is formed, for example, for forming a fine pattern on a printed wiring board or a resin relief plate, and gelatin and silver halide are mixed on the glass substrate.
  • a silver salt emulsion (emulsion) is applied.
  • the emulsion mask of the present invention is a resin component of a protective liquid by applying the above-mentioned ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of the present invention on the emulsion mask body on which a fine pattern is formed and irradiating with ionizing radiation. Is cured by crosslinking to form a protective film having hard coat properties and releasability.
  • This protective film is preferably formed with a thickness of 0.1 to 10 ⁇ m. When the thickness of the protective film is 0.1 ⁇ m or more, sufficient surface hardness can be obtained, and when the thickness is 10 ⁇ m or less, the exposure accuracy can be maintained precisely.
  • the protective film can be formed in a short time, thereby reducing the production cost. It is possible to obtain an emulsion mask having excellent adhesion between the emulsion mask and the protective film and excellent surface hardness of the protective film.
  • a method for forming a protective film on the emulsion mask known methods such as spin coating, die coating, cap coating, and bar coating can be used.
  • Example 1 The ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of Example 1 having the following composition was applied onto the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 1 was produced.
  • Example 2 The ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of Example 2 having the following composition was applied onto the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 2 was produced.
  • Example 3 The ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of Example 3 having the following composition was applied onto the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 3 was produced.
  • Example 4 The ionizing radiation curable protective solution for emulsion mask of Example 4 having the following composition was applied on the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 4 was produced.
  • Example 5 The ionizing radiation curable protective solution for emulsion mask of Example 5 having the following composition was applied onto the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 5 was produced.
  • Example 6 The ionizing radiation curable protective liquid for emulsion mask of Example 6 having the following composition was applied on the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 6 was produced.
  • Example 7 The ionizing radiation curable protective solution for emulsion mask of Example 7 having the following composition was applied on the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 7 was produced.
  • Example 8 The ionizing radiation curable protective solution for emulsion mask of Example 8 having the following composition was applied on the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds (1000 mJ). / Cm 2 ) to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Example 8 was produced.
  • Comparative Example 1 The emulsion mask thermosetting protective solution of Comparative Example 1 having the following composition was applied onto the patterned emulsion mask body by spin coating, dried at 120 ° C. for 3 minutes, and then heated at 150 ° C. for 30 minutes. Thus, the curing reaction was promoted to form a protective film having a thickness of about 3 ⁇ m, and the emulsion mask of Comparative Example 1 was produced.
  • the emulsion masks of Examples 1 to 3 contain a urethane acrylate oligomer and an acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective liquid, and the ratio of the acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective liquid is 10 to 30% by weight. Since it was within the range, the adhesion between the protective film and the emulsion mask main body and the surface hardness of the protective film were excellent, and the protective film was free from problems such as whitening. Further, since an acrylic-modified quaternary ammonium salt was used as the reactive hydrophilic substance, the storage stability of the protective liquid was excellent.
  • the emulsion masks of Examples 4 and 6 contain a urethane acrylate oligomer and an acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective liquid, the surface hardness of the protective film is excellent, and the protective film is free from troubles such as whitening. there were. Moreover, since an acrylic modified quaternary ammonium salt was used as the reactive hydrophilic substance, the storage stability of the protective liquid was excellent. However, since the ratio of the acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective liquid is less than 10% by weight, the adhesiveness with the emulsion mask body is inferior to the case where the protective liquids of Examples 1 to 3 are used. .
  • the emulsion masks of Examples 5 and 7 contain a urethane acrylate oligomer and an acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective liquid, they have excellent adhesion between the protective film and the emulsion mask body, and the protective film is whitened. The trouble was not seen. Moreover, since an acrylic modified quaternary ammonium salt was used as the reactive hydrophilic substance, the storage stability of the protective liquid was excellent. However, since the ratio of the acryl-modified quaternary ammonium salt in the protective solution was more than 30% by weight, the surface hardness of the protective film was inferior to that obtained when the protective solutions of Examples 1 to 3 were used.
  • the emulsion mask of Example 8 contains a urethane acrylate oligomer and an acrylic-modified phosphate ester in the protective solution, and the ratio of the acrylic-modified phosphate ester in the protective solution is in the range of 10 to 30% by weight. Therefore, the adhesiveness between the protective film and the emulsion mask body and the surface hardness of the protective film are excellent, and the protective film is free from problems such as whitening. However, since an acrylic-modified phosphate ester was used as the reactive hydrophilic substance, the storage stability of the protective solution was inferior to the protective solutions of other examples.
  • the emulsion mask of Comparative Example 2 does not contain a reactive hydrophilic substance in the protective liquid. Since the protective liquid does not contain a reactive hydrophilic substance, the adhesiveness between the protective film and the emulsion mask body cannot be obtained.

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Abstract

 保護膜を短時間で形成することができ、保護膜を形成したエマルジョンマスクの接着性と表面硬度に優れるエマルジョンマスク用保護液およびそれを用いたエマルジョンマスクを提供する。 エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと、前記オリゴマー及び/又はモノマーと共重合可能な反応性親水性物質を含むものとする。さらに反応性親水性物質を、(メタ)アクリル変性親水性物質、特に、(メタ)アクリル変性リン酸エステル及び/又は(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩とする。

Description

エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク
 
 本発明は、エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液に関し、保護膜を形成するための時間を短縮することができ、特にエマルジョンマスクと保護膜との接着性と、保護膜の表面硬度に優れるエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびエマルジョンマスクに関する。
 
 一般的に、ソーダガラス、石英ガラス、光学ガラス等の基板上に銀塩乳剤(エマルジョン)が遮光膜としてパターン形成されたエマルジョンマスクは、遮光膜が柔らかいために傷つき易く、溶剤等によるウエット洗浄が不可能である。また、ガラスマスクサイズの大型化に伴って自重によるたわみ等で精度の低下がみられるため、マスク精度をあげるためにコンタクト露光をおこなうと遮光膜が磨耗するといった問題が生じてくる。
 
 このような事情から、エマルジョンマスク上のフォトレジストに対向する面に、離型性を有する保護膜を設けて、フォトレジストがエマルジョンマスクに付着することを防止することが考えられ、保護膜を有する表面保護フィルムをエマルジョンマスクのフォトレジストに対向する面に貼り合せることが考えられる。
 
 しかし、表面保護フィルムを貼り合せることは、表面保護フィルムの厚みによる紫外線(UV)透過率の低下に起因する露光精度の低下や、貼り合せの際に気泡が入ることなどによる露光精度の低下を招くといった問題がある(特許文献1)。
 
 そこで、エマルジョンマスク上のフォトレジストに対向する面に、保護膜を直接設けることが考えられる(特許文献2)。
 
特開2000-258603号公報(従来の技術) 特開2002-278047号公報(請求項1)
 
 しかしながら、近年、生産コストを削減するために、このような保護膜を短時間で形成することが求められており、熱硬化による保護膜では、このような要望を満足する保護膜を得ることができなくなってきている。
 
 そこで本発明は、保護膜を短時間で形成することができ、エマルジョンマスクと保護膜との接着性と、保護膜の表面硬度に優れるエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスクを提供することを目的とする。
 
 上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、保護膜の形成時間は、保護膜に含まれる熱硬化型樹脂の硬化時間に依存し、保護膜を短時間で形成するためには、硬化時間が長い熱硬化型樹脂ではなく、硬化時間が短時間である電離放射線硬化型樹脂にすることで上記課題を解決できることがわかった。しかし、単に熱硬化型樹脂から電離放射線硬化型樹脂に変更したのでは、エマルジョンマスクと保護膜との接着性が不十分で、保護膜の耐久性に劣ることがわかった。そして、保護液に反応性親水性物質を添加することにより、エマルジョンマスクと保護膜との接着性や、保護膜の表面硬度を向上させることができることを見出し、これを解決するに至った。
 
 即ち、本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液は、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーを含む第1成分と、前記第1成分と共重合可能な反応性親水性物質を含む第2成分とを、有することを特徴とするものである。
 
 好ましくは、前記反応性親水性物質が、(メタ)アクリル変性親水性物質である。
 
 好ましくは、前記(メタ)アクリル変性親水性物質が、(メタ)アクリル変性リン酸エステル及び/又は(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩である。
 
 好ましくは、前記第2成分は、前記保護液の全固形分の10~30重量%含まれる。
 好ましくは、前記第1成分は、前記保護液の全固形分の50~89重量%含まれる。
 好ましくは、前記第1成分及び前記第2成分の少なくとも何れかに反応する基を有する反応性シリコーンオイルを含む第3成分をさらに有する。
 好ましくは、前記反応性シリコーンオイルとして、(メタ)アクリル基を有するものを用いる。
 好ましくは、前記第3成分は、前記保護液の全固形分の0.5~20重量%含まれる。
 
 また、本発明のエマルジョンマスクは、保護膜を持ち、この保護膜は前記エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を用いて形成されてなることを特徴とするものである。
 好ましくは、前記保護膜は、0.1~10μmの厚みで形成されている。
 好ましくは、前記保護膜は、1kgの荷重によるスチールウール#0000を10往復させたときに傷を生じることがない。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液は、保護膜を短時間で形成することができ、エマルジョンマスクと保護膜との接着性に優れ、保護膜の表面硬度に優れるエマルジョンマスクを得ることができる。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を用いて保護膜を形成したエマルジョンマスクは、保護膜を短時間で形成することができるため、生産コストを削減することができ、エマルジョンマスクと保護膜との接着性に優れ、保護膜の表面硬度に優れるエマルジョンマスクとすることができる。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液の実施の形態について説明する。本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液は、第1成分としての、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと、第2成分としての、前記オリゴマー及び/又はモノマーと共重合可能な反応性親水性物質を含むものである。
 
 (メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーは、保護膜とした際に、保護膜に表面硬度を付与するための樹脂成分として用いられる。このような(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーは、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有し、電離放射線(紫外線または電子線)の照射による架橋硬化により、3次元網目構造となる。同じく3次元網目構造となる熱硬化型樹脂を用いた場合には、製膜に30~80分程度必要であるが、電離放射線(紫外線または電子線)の照射により架橋硬化する(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーを用いることによって、1~3分程度で製膜させることができる。
 
 (メタ)アクリレートオリゴマーとしては、エステル(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、アミノ樹脂(メタ)アクリレート、アクリル樹脂(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等を用いることができる。また、これらの(メタ)アクリレートオリゴマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性の向上や、硬化収縮の調整等、種々の性能を付与するために、2種類以上を混合して用いることが好ましい。
 
 (メタ)アクリル系モノマーとしては、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリルモノマー等の1種若しくは2種以上が使用される。
 
 (メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーは、保護液の全固形分の50~89重量%含まれることが好ましい。50重量%以上とすることにより、保護膜の表面硬度を低下を防止することができ、89重量%以下とすることにより、エマルジョンマスクと保護膜との接着性や離型性などの保護膜に必要とされる性能を充分に発揮することができる。
 
 また、本発明の保護液を紫外線照射によって硬化させて使用する場合には、(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーの他、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。
 
 光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α-アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等があげられる。
 
 また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどがあげられる。
 
 次に、第2成分としての反応性親水性物質は、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと共重合可能なものである。(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと共重合することによって、保護膜から親水性物質がブリードアウトすることがなく、エマルジョンマスクと保護膜の接着性が、経時的に変化することを防止することができ、エマルジョンマスクの耐久性を向上させることができる。さらに、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと共重合が可能なことで、保護膜中の架橋密度を充分あげることができ、反応性親水性物質を添加することによる保護膜の硬度の低下を防止することができる。
 
 このような反応性親水性物質としては、例えばヒドロキシル基、(メタ)アクリル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基等を有する親水性物質を用いることができる。特に、(メタ)アクリル基を有する(メタ)アクリル変性親水性物質は、前記(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーと容易に共重合することができると共に、前記(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーと相溶性がよいため好ましい。
 
 (メタ)アクリル変性親水性物質としては、エマルジョンマスクとの接着性が良好なため、(メタ)アクリル変性リン酸エステル、(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩などを用いることができ、特に、保護液の保存安定性が良好なため、(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩を用いることがより好ましい。
 
 (メタ)アクリル変性リン酸エステルとしては、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、2-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、2-メタクリロイロキシエチルアシッドフォスフェートなどを用いることができ、(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩としては、ジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル4級塩、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレート塩化メチル4級塩などを用いることができる。
 
 反応性親水性物質は、保護液の全固形分の10~30重量%含まれることが好ましく、特に好ましくは、10~20重量%である。10重量%以上とするのは、エマルジョンマスクと保護膜との接着性を得るためであり、30重量%以下とするのは、保護膜の表面硬度を低下させないためである。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液には、保護膜にフォトレジストが付着することを防止するために、第3成分としての離型剤を含有することもできる。このような離型剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、環状ジメチルシリコーンオイルなどのシリコーンオイルやシリコーンオイルに有機基を導入した変性シリコーンオイルを用いることができる。
 
 変性シリコーンオイルとしては、アルキル変性、ポリエーテル変性、フッ素変性、メルカプト変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、高級脂肪酸エステル変性、(メタ)アクリル変性、カルビノール変性などの変性シリコーンオイルを用いることができる。
 
 特に、(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーや、反応性親水性物質の少なくとも何れかに反応する基を有する反応性シリコーンオイルを第3成分として用いることが、離型性や防汚性を持続させるために好ましい。このようにすることにより、保護膜表面のフォトレジスト等の付着物を容易に除去することができる。
 
 このような反応性シリコーンオイルとしては、例えばヒドロキシル基、(メタ)アクリル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基等を有するものを用いることができる。特に、(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーや、反応性親水性物質と容易に共重合することができると共に、前記(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーと相溶性がよい(メタ)アクリル基を有するものが好ましい。
 
 第3成分としてのシリコーンオイルは、保護液の全固形分の0.5~20重量%が好ましい。0.5重量%以上とするのは、十分な離型性、防汚性を得るためであり、20重量%以下とするのは、表面硬度を低下させないためである。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液は、以上説明した(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマー(第1成分)、反応性親水性物質(第2成分)、シリコーンオイル(第3成分)や必要に応じて他の成分を配合して、適当な溶媒に溶解させて調整することができる。なお、各成分がそれぞれ相溶することが、保護膜の白化などを防止することができるため好ましい。
 
 本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液により得られる保護膜は、硬化後の保護膜表面が、1kgの荷重においてスチールウール#0000で表面を10往復擦った後、保護膜表面の傷がないものであることが好ましい。
 
 次に、本発明のエマルジョンマスクの実施の形態について説明する。本発明のエマルジョンマスクは、エマルジョンマスク本体上に、上述のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を用いた保護膜が形成されてなるものである。
 
 本発明に用いられるエマルジョンマスク本体は、例えばプリント配線板や樹脂凸版に微細なパターンを形成するための、パターンが形成されているガラス基板であり、ガラス基板上にゼラチンとハロゲン化銀等を混合した銀塩乳剤(エマルジョン)を塗布してなるものである。
 
 本発明のエマルジョンマスクは、微細なパターンが形成されたエマルジョンマスク本体上に、上述の本発明のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を塗布、電離放射線を照射することにより、保護液の樹脂成分を架橋硬化させて、ハードコート性と離型性を有する保護膜を形成したものである。
 この保護膜は、0.1~10μmの厚みで形成することが好ましい。保護膜の厚みを0.1μm以上とすることで十分な表面硬度を得ることができ、10μm以下にすることで露光精度を精密に保つことができる。
 
 保護液に、(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又は(メタ)アクリル系モノマーと反応性親水性物質とを含むことによって、保護膜を短時間で形成することができるため、生産コストを削減することができ、エマルジョンマスクと保護膜との接着性に優れ、保護膜の表面硬度に優れるエマルジョンマスクとすることができる。
 
 エマルジョンマスク上に保護膜を形成する方法としては、スピンコートやダイコート、キャップコート、バーコートなどの公知の方法を用いることができる。
 
 以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「%」は特に示さない限り、重量基準とする。
 
[実施例1]
 下記組成の実施例1のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例1のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         3部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー          1部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩         1部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例2]
 下記組成の実施例2のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例2のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         3部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー        1.2部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩       0.8部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例3]
 下記組成の実施例3のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例3のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         2部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー        1.2部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩         2部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例4]
 下記組成の実施例4のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例4のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         3部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー        1.3部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩       0.6部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例5]
 下記組成の実施例5のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例5のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         2部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー          1部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩       2.2部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例6]
 下記組成の実施例6のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例6のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         3部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー        1.5部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩       0.4部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例7]
 下記組成の実施例7のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例7のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         1部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー        1.6部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性4級アンモニウム塩       2.8部
(DMAEA-Q:興人社、固形分79%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
[実施例8]
 下記組成の実施例8のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm2)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、実施例8のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         3部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー          1部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・アクリル変性リン酸エステル           1部
(ライトアクリレート P-1A:共栄社化学社、固形分100%)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.25部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                20.75部
 
[比較例1]
 下記組成の比較例1のエマルジョンマスク用熱硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、120℃、3分で乾燥した後、150℃、30分間加熱して硬化反応を促進させて、厚み約3μmの保護膜を形成し、比較例1のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用熱硬化型保護液>
・アクリルポリオール               5部
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・硬化剤                     1部
(タケネート D110N:三井化学ポリウレタン社、固形分60%)
・希釈溶媒                   15部
 
[比較例2]
 下記組成の比較例2のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を、パターン形成されたエマルジョンマスク本体上に、スピンコートにより塗布し、80℃、2分で乾燥した後、紫外線を10秒間(1000mJ/cm)照射して厚み約3μmの保護膜を形成し、比較例2のエマルジョンマスクを作製した。
 
<エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液>
・ウレタンアクリレートオリゴマー         4部
(アートレジン UN904:根上工業社)
・ウレタンアクリレートモノマー          1部
(NKエステル A-TMMT:新中村工業社)
・離型剤                  0.35部
(末端基に不飽和結合を持つポリシロキサン変性ポリマー、固形分70%)
・光ラジカル重合開始剤           0.35部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
・希釈溶媒                   15部
 
 得られた実施例1~8、及び比較例1、2のエマルジョンマスクについて、下記項目の評価を行った。結果を表1に示す。
 
[エマルジョンマスクへの接着性]
 実施例1~8、及び比較例1、2で得られたエマルジョンマスク本体と保護膜との接着性を、碁盤目テープ法(JIS K5600-5-6:1999)により評価した。碁盤目テープ法による剥離試験の結果、碁盤目部分が全て剥離してしまったものを「×」、碁盤目部分がいくつか剥離してしまったものを「△」、碁盤目部分が全く剥離しなかったものを「○」とした。結果を表1に示す。
 
[表面硬度]
 実施例1~8、及び比較例1、2で得られたエマルジョンマスクの保護膜を、1kgの荷重においてスチールウール#0000で表面を10往復擦った後、保護膜表面の傷の有無を目視観察した。全面に傷がみられるものを「×」、全面ではないが多少傷がみられるものを「△」、ほとんど傷がみられないものを「○」とした。評価結果を表1に示す。
 
[外観評価]
 実施例1~8、及び比較例1、2の保護膜を観察した。保護膜に白化がみられないものを「○」、保護膜に白化がみられるものを「×」とした。結果を表1に示す。
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 
 表1に示すように、実施例1~8のエマルジョンマスクは、電離放射線硬化型保護液を用いて保護膜を形成したため、塗布から保護膜の製膜までを短時間とすることができるものであった。
 
 実施例1~3のエマルジョンマスクは、保護液にウレタンアクリレートオリゴマーとアクリル変性4級アンモニウム塩とを含むものであり、保護液中のアクリル変性4級アンモニウム塩の割合が、10~30重量%の範囲内であるため、保護膜とエマルジョンマスク本体との接着性、保護膜の表面硬度が優れるものであり、保護膜に白化等の支障がみられないものであった。また、反応性親水性物質として、アクリル変性4級アンモニウム塩を用いたため、保護液の保存安定性に優れるものであった。
 
 実施例4、6のエマルジョンマスクは、保護液にウレタンアクリレートオリゴマーとアクリル変性4級アンモニウム塩とを含むものであるため、保護膜の表面硬度が優れ、保護膜に白化等の支障がみられないものであった。また、反応性親水性物質として、アクリル変性4級アンモニウム塩を用いたため、保護液の保存安定性に優れるものであった。しかし、保護液中のアクリル変性4級アンモニウム塩の割合が、10重量%より少ないため、エマルジョンマスク本体との接着性が、実施例1~3の保護液を用いた場合より劣るものとなった。
 
 実施例5、7のエマルジョンマスクは、保護液にウレタンアクリレートオリゴマーとアクリル変性4級アンモニウム塩とを含むものであるため、保護膜とエマルジョンマスク本体との接着性に優れるものであり、保護膜に白化等の支障がみられないものであった。また、反応性親水性物質として、アクリル変性4級アンモニウム塩を用いたため、保護液の保存安定性に優れるものであった。しかし、保護液中のアクリル変性4級アンモニウム塩の割合が、30重量%より多いため、保護膜の表面硬度が、実施例1~3の保護液を用いた場合より劣るものとなった。
 
 実施例8のエマルジョンマスクは、保護液にウレタンアクリレートオリゴマーとアクリル変性リン酸エステルとを含むものであり、保護液中のアクリル変性リン酸エステルの割合が、10~30重量%の範囲内であるため、保護膜とエマルジョンマスク本体との接着性、保護膜の表面硬度が優れるものであり、保護膜に白化等の支障がみられないものであった。しかし、反応性親水性物質として、アクリル変性リン酸エステルを用いたため、保護液の保存安定性が他の実施例の保護液より劣るものであった。
 
 比較例1のエマルジョンマスクは、熱硬化性アクリル樹脂を用いた保護液により保護膜を形成したため、保護膜の硬化に時間がかかるものであった。また、保護膜の表面硬度が得られないものであった。
 
 比較例2のエマルジョンマスクは、保護液に反応性親水性物質を含まないものである。保護液に反応性親水性物質を含まないため、保護膜とエマルジョンマスク本体との接着性が得られないものであった。

Claims (9)

  1.  エマルジョンマスクに保護膜を形成するためのエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液であって、
     (メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリル系モノマーの少なくとも何れかを含む第1成分と、
     前記第1成分と共重合可能な反応性親水性物質を含む第2成分とを、有することを特徴とするエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  2.  前記反応性親水性物質が、(メタ)アクリル変性親水性物質であることを特徴とする請求項1記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  3.  前記(メタ)アクリル変性親水性物質が、(メタ)アクリル変性リン酸エステル及び(メタ)アクリル変性4級アンモニウム塩の少なくとも何れかであることを特徴とする請求項2記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  4.  前記第2成分は、前記保護液の全固形分の10~30重量%含まれることを特徴とする請求項1~3何れか1項に記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  5.  前記第1成分は、前記保護液の全固形分の50~89重量%含まれることを特徴とする請求項1~4何れか1項に記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  6.  前記第1成分及び前記第2成分の少なくとも何れかに反応する基を有する反応性シリコーンオイルを含む第3成分を、さらに有することを特徴とする請求項1~5何れか1項に記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  7.  前記第3成分は、前記保護液の全固形分の0.5~20重量%含まれることを特徴とする請求項6記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液。
  8.  保護膜を持つエマルジョンマスクにおいて、
     前記保護膜は、請求項1~7何れか1項に記載のエマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液を用いて形成されてなることを特徴とするエマルジョンマスク。
  9.  前記保護膜は、0.1~10μmの厚みで形成されていることを特徴とする請求項8記載のエマルジョンマスク。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109212738A (zh) * 2018-08-17 2019-01-15 盐城市耀华玻璃仪器厂 一种防滑载玻片

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092957A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Feuil de transfert d'une couche de protection d'une emulsion photographique, et photomasque muni d'une couche de protection
JP2002012796A (ja) * 2000-06-27 2002-01-15 Toagosei Co Ltd 被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク
JP2002173651A (ja) * 2000-12-05 2002-06-21 Kimoto & Co Ltd 表面保護フィルム
JP2002241446A (ja) * 2000-12-11 2002-08-28 Asahi Glass Co Ltd 硬化性組成物、硬化被膜および被覆基材
JP2003344982A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 Nippon Paper Industries Co Ltd 写真乳剤面保護層転写シート及び写真乳剤面保護層の形成方法並びに保護層付きフォトマスク
JP2004077690A (ja) * 2002-08-14 2004-03-11 Tokyo Process Service Kk ゼラチン硬化液、ハードコート液、フォトマスクおよびその製造方法
JP2005181931A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Kimoto & Co Ltd 表面保護膜および表面保護フィルム
JP2009169351A (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Mitsubishi Plastics Inc 液状レジストフォトマスク保護テープ用ポリエステルフィルム
JP2010085597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Kimoto & Co Ltd エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000258603A (ja) 1999-03-09 2000-09-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 光学膜用コーティング剤及びこれを用いたエマルジョンマスク
JP4688324B2 (ja) 2001-03-19 2011-05-25 株式会社きもと 保護膜付フォトマスクの製造方法
CN1324402C (zh) * 2001-10-30 2007-07-04 钟渊化学工业株式会社 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性薄膜及层压体
JP4563053B2 (ja) 2004-03-08 2010-10-13 ダイセル化学工業株式会社 ポリ(メタ)アクリレート樹脂、その製造方法および硬化性樹脂組成物

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092957A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Feuil de transfert d'une couche de protection d'une emulsion photographique, et photomasque muni d'une couche de protection
JP2002012796A (ja) * 2000-06-27 2002-01-15 Toagosei Co Ltd 被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク
JP2002173651A (ja) * 2000-12-05 2002-06-21 Kimoto & Co Ltd 表面保護フィルム
JP2002241446A (ja) * 2000-12-11 2002-08-28 Asahi Glass Co Ltd 硬化性組成物、硬化被膜および被覆基材
JP2003344982A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 Nippon Paper Industries Co Ltd 写真乳剤面保護層転写シート及び写真乳剤面保護層の形成方法並びに保護層付きフォトマスク
JP2004077690A (ja) * 2002-08-14 2004-03-11 Tokyo Process Service Kk ゼラチン硬化液、ハードコート液、フォトマスクおよびその製造方法
JP2005181931A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Kimoto & Co Ltd 表面保護膜および表面保護フィルム
JP2009169351A (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Mitsubishi Plastics Inc 液状レジストフォトマスク保護テープ用ポリエステルフィルム
JP2010085597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Kimoto & Co Ltd エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク

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