WO2010150353A1 - フラットパネルディスプレイ、その製造中間体および製造方法 - Google Patents

フラットパネルディスプレイ、その製造中間体および製造方法 Download PDF

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WO2010150353A1
WO2010150353A1 PCT/JP2009/061392 JP2009061392W WO2010150353A1 WO 2010150353 A1 WO2010150353 A1 WO 2010150353A1 JP 2009061392 W JP2009061392 W JP 2009061392W WO 2010150353 A1 WO2010150353 A1 WO 2010150353A1
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light emitting
green
red
blue
bank
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PCT/JP2009/061392
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秀世 仲村
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富士電機ホールディングス株式会社
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    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]

Definitions

  • the present invention mainly relates to a flat panel display, a production intermediate thereof, and a production method thereof. More specifically, the present invention relates to an organic EL display, a production intermediate thereof, and a production method thereof.
  • a panel unit of an organic EL display having a top emission structure typically has a configuration in which an organic EL light emitting substrate (TFT substrate) and a color filter substrate are bonded together.
  • TFT substrate organic EL light emitting substrate
  • Organic EL substrates known in the prior art are: a support substrate; a plurality of switching elements (TFTs, etc.) present at positions constituting a plurality of subpixels; a planarizing resin that covers the switching elements and flattens the top surface thereof
  • a reflection electrode composed of a plurality of partial electrodes connected to the switching element through a contact hole provided in the planarizing resin layer; insulating a plurality of partial electrodes constituting the reflection electrode, and a plurality of light emitting portions
  • the transparent electrode is preferably connected to the in-substrate wiring provided on the support substrate at the peripheral edge of the organic EL substrate.
  • the intra-substrate wiring can include control signal lines (TFT gate control lines and data control lines) of switching elements, power supply lines, and the like.
  • the organic EL substrate may include a control IC for controlling the control signal lines, an FPC attachment terminal for connecting an external circuit, and the like.
  • the barrier layer which covers the layer below a transparent electrode can be provided.
  • the color filter substrate includes at least a transparent substrate and a color filter provided corresponding to the light emitting portion of the organic EL substrate. If necessary, the color filter substrate may include a black matrix for improving the contrast ratio. Further, as proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-157550 and the like, the color filter substrate is a color conversion filter substrate including a color conversion layer for converting the light emission hue of the organic EL substrate into a desired hue. (See Patent Document 1). As a method for forming a color filter and a color conversion layer, in addition to a conventionally used photolithography method, a coating method such as an ink jet method has become widespread.
  • a bank is provided to prevent mixing of a plurality of types of inks at so-called undesired formation positions (so-called “color mixing”). It is generally done. Further, the ink jet method has been studied as a means for forming an organic EL layer of an organic EL substrate.
  • the color filter substrate includes a transparent substrate 510, a grid-like black matrix 520 having a plurality of openings, and red (R), green (G), and blue (B) colors composed of a plurality of striped portions.
  • a filter 530 (R, G, B), a bank 550 having a plurality of stripe-shaped portions, and a red conversion layer 540R and a green conversion layer 540G formed in a gap between the banks 550 and having a plurality of stripe-shaped portions.
  • a color conversion filter substrate on which two color conversion layers 540 of red and green are formed is illustrated.
  • FIGS. 2A and 2B show another example of a conventional color conversion filter substrate.
  • the bank 550 has a lattice shape having a plurality of openings, and the red color conversion layer 540R and the green color conversion layer 540G are formed in the openings of the bank 550. It differs from the color conversion filter substrate shown in FIGS. 1A and 1B in that it is composed of a plurality of rectangular portions.
  • a gap layer is generally provided between the organic EL substrate and the color filter substrate.
  • the gap layer is generally composed of a solid filler material such as an adhesive.
  • the gap layer may be formed using a liquid filling material or a gas filling material.
  • crosstalk occurs due to the distance between the two substrates being too large, as well as the influence of interference due to the distance between the two substrates being too small, and light emission due to mechanical contact with the constituent layers of the organic EL substrate. Damage to the part can be prevented.
  • the gap layer is formed using a solid or liquid filling material, the spread unevenness of the filling material can be prevented by installing the spacer.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-353258 discloses that when an organic EL layer in an organic EL substrate is formed by an inkjet method, the bank has a laminated structure of an inorganic bank layer and an organic bank layer, and the inorganic bank layer is formed on the outer periphery of the substrate. It discloses that the opening is decentered from the opening of the organic bank layer toward the inside of the substrate (see Patent Document 2). The above-described eccentricity of the opening is intended to cope with the non-uniform thickness of the organic EL layer due to the difference in the volatilization rate of the solvent on the outer peripheral side of the substrate and the inner side of the substrate.
  • a portion other than the desired thickness of the organic EL layer is electrically and / or optically blocked by the inorganic bank layer to provide an organic EL substrate having desired characteristics.
  • Japanese Patent Laying-Open No. 2005-353258 does not disclose or suggest that the definition is improved and the productivity is improved by the eccentricity of the opening in the bank layer.
  • the color conversion layer 540 is prepared by (a) preparing a laminate in which the black matrix 520, the color filter 530, and the bank 550 are formed on the transparent substrate 510. b) Formed by a method including a step of depositing ink containing a red or green conversion material on the red or green color filter 530 of the laminate by an inkjet method, and (c) heating and drying the deposited ink droplets. Is done.
  • the steps (a) to (c) may be repeated a plurality of times.
  • ink droplets 570 discharged from an ink jet device or the like are spherical during flight. Further, as shown in FIG. 3A, the center C D of (the region extending from the side wall of one of the banks on the side wall of the other bank) opening of the bank, coincides with the center C BM of the opening of the black matrix.
  • the ink droplets 570 land on the green color filter 530G sandwiched between the two banks 550, the attached ink droplets 572 are transferred from the side wall of one bank 550 to the other bank 550, as shown in FIG. 3B.
  • the size reduction limit of the ink droplets 570 ejected from the ink jet device and the variation in the landing positions of the ejected ink droplets 572 are limited. Exists. Further, the bank 550 also has a lower limit of the width and arrangement interval (that is, definition) that can be practically formed. Here, when the sum of the size of the ejected ink droplet 570 and the variation in the landing position of the ink droplet 570 is larger than the bank arrangement interval, landing failure of the ink droplet 570 occurs. In other words, the definition limit of the color conversion layer 540 is determined by the physical properties of the material used and the device.
  • the problem of the present invention is that when forming a color conversion layer or the like on a structure having a bank by a coating method, the definition is increased with the conventional materials and the apparatus, or a larger amount is obtained for a specific definition. Is to reduce the manufacturing time, and to provide a flat panel display such as a high-definition and inexpensive organic EL display.
  • a blue light transmissive material is used to form a bank on the boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the region where the light of the blue subpixel is transmitted,
  • the eccentricity is allowed such that the center of the bank opening is shifted to the blue subpixel side with respect to the center of the black matrix opening or the insulating layer opening.
  • the flat panel display of the first embodiment of the present invention is A transparent substrate; a black matrix having a plurality of openings to define red, green and blue subpixels; a red and green color filter formed on the red and green subpixels; a bank; and a red and green subpixel
  • a flat panel display including a light emitting substrate having a plurality of light emitting portions, wherein the bank is formed of a blue light transmissive material that transmits at least blue light, and has openings in the red subpixel and the green subpixel.
  • the center of the opening of the bank is decentered toward the blue subpixel with respect to the center of the opening of the black matrix.
  • the bank is preferably formed on a black matrix located on a boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the blue subpixel.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the blue subpixel may further include a blue color filter.
  • the light emitting substrate may be an organic EL light emitting substrate.
  • the flat panel display of the second embodiment of the present invention is A substrate, a reflective electrode, an insulating layer having a plurality of openings defining a red light emitting portion, a green light emitting portion, and a blue light emitting portion, an organic EL layer, a transparent electrode, a bank, and the red subpixel
  • An organic EL light emitting substrate including a red color conversion layer formed at a position corresponding to the green subpixel and a green conversion layer formed at a position corresponding to the green subpixel;
  • a transparent substrate and a color filter substrate including red and green color filters, wherein the bank is formed of a blue light transmitting material that transmits at least blue light, and the red light emitting unit and the green light emitting unit In all the red light emitting parts and the green light emitting parts on the flat panel display having an opening, the center of the opening of the bank is shifted to the blue light emitting part with respect to the center of the opening of the insulating layer.
  • the bank is formed on a boundary between the red light emitting unit and the green light emitting unit and on the blue light emitting unit.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the color filter substrate may further include a blue color filter.
  • the manufacturing method of the flat panel display of the third embodiment of the present invention is as follows: (1) A step of forming a color conversion filter substrate, the following steps: (A) forming a black matrix having a plurality of openings on a transparent substrate, the plurality of openings defining red, green and blue subpixels; (B) forming red and green color filters on the red and green subpixels, respectively; (C) forming a bank having openings in the red subpixel and the green subpixel using a blue light transmissive material that transmits at least blue light, wherein all red and In the green subpixel, the center of the opening of the bank is decentered toward the blue subpixel with respect to the center of the opening of the black matrix; and (D) forming a red conversion layer and a green conversion layer on the red and green subpixels using an inkjet method; (2) A step of preparing a light emitting substrate having a plurality of light emitting portions; and (3) a step of bonding the color conversion filter substrate and the light emitting substrate.
  • the bank is preferably formed on a black matrix located on a boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the blue subpixel.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the step (b ′) may further include a step of forming a blue color filter in the blue subpixel.
  • the light emitting substrate may be an organic EL light emitting substrate.
  • the manufacturing method of the flat panel display of the fourth embodiment of the present invention is as follows. (4) A step of forming an organic EL light emitting substrate, the following steps: (A) forming a reflective electrode on the substrate; (B) forming an insulating layer having a plurality of openings, the plurality of openings defining a red light emitting part, a green light emitting part, and a blue light emitting part; (C) forming an organic EL layer; (D) forming a transparent electrode; (E) forming a bank having openings in the red light emitting part and the green light emitting part using a blue light transmissive material that transmits at least blue light, wherein all banks in the organic EL light emitting substrate are formed.
  • the center of the opening of the bank is eccentric to the blue light emitting part side with respect to the center of the opening of the insulating layer; (F) forming a red conversion layer and a green conversion layer on each of the red light emitting portion and the green light emitting portion using an inkjet method; (5) forming red and green color filters on a transparent substrate to form a color filter substrate; and (6) including a step of bonding the organic EL light emitting substrate and the color filter substrate.
  • the bank is preferably formed on a boundary between the red light emitting part and the green light emitting part and on the blue light emitting part.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the step (5) may further include a step of forming a blue color filter on the transparent substrate.
  • the color conversion filter substrate of the fifth embodiment of the present invention is A transparent substrate; a black matrix having a plurality of openings to define red, green and blue subpixels; a red and green color filter formed on the red and green subpixels; a bank; and a red and green subpixel A red conversion layer and a green conversion layer formed on the pixel,
  • the bank is formed of a blue light transmissive material that transmits at least blue light, and has openings in the red subpixel and the green subpixel. In all the red and green subpixels on the color conversion filter substrate, the center of the bank opening is decentered toward the blue subpixel with respect to the center of the black matrix opening.
  • the bank is preferably formed on a black matrix located on a boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the blue subpixel.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the blue subpixel may further include a blue color filter.
  • the organic EL light emitting substrate of the sixth embodiment of the present invention is A substrate, a reflective electrode, an insulating layer having a plurality of openings defining a red light emitting portion, a green light emitting portion and a blue light emitting portion, an organic EL layer, a transparent electrode, a bank, a red conversion layer, and A green conversion layer,
  • the bank is formed of a blue light transmitting material that transmits at least blue light, and has an opening in the red light emitting part and the green light emitting part, In all red light emitting parts and green light emitting parts in the organic EL light emitting substrate, the center of the opening of the bank is eccentric to the blue light emitting part side with respect to the center of the opening of the insulating layer.
  • the bank is formed on a boundary between the red light emitting unit and the green light emitting unit and on the blue light emitting unit.
  • the blue light transmissive material forming the bank may be a blue material that transmits only blue light.
  • the bank opening width can be expanded as compared with the conventional case.
  • the definition can be improved without changing the ink jet apparatus and the material.
  • the diameter of the ink droplets can be reduced. With the above effects, a high-definition flat panel display can be manufactured at low cost.
  • FIG. 1A is a plan view of one example of a prior art color conversion filter substrate.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view of one example of a prior art color conversion filter substrate along section line IB-IB.
  • FIG. 2A is a plan view of another example of a conventional color conversion filter substrate.
  • FIG. 2B is a cross-sectional view taken along section line IIB-IIB of another example of a color conversion filter substrate of the prior art.
  • FIG. 3A is a cross-sectional view illustrating formation of a color conversion layer in a conventional color conversion filter substrate.
  • FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating the formation of a color conversion layer in a conventional color conversion filter substrate.
  • FIG. 3C is a cross-sectional view illustrating the formation of a color conversion layer in a conventional color conversion filter substrate.
  • FIG. 4A is a plan view of one example of a color conversion filter substrate used in the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the cutting line IVB-IVB of one example of the color conversion filter substrate used in the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 5A is a plan view of another example of the color conversion filter substrate used in the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the cutting line VB-VB of another example of the color conversion filter substrate used in the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view illustrating the formation of a color conversion layer in the color conversion filter substrate of the present invention.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating the formation of a color conversion layer in the color conversion filter substrate of the present invention.
  • FIG. 6C is a cross-sectional view illustrating the formation of a color conversion layer in the color conversion filter substrate of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing one example of the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing another example of the organic EL display of the present invention.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing another example of the organic EL display of the present invention.
  • the present invention A transparent substrate; a black matrix having a plurality of openings to define red, green and blue subpixels; a red and green color filter formed on the red and green subpixels; a bank; and a red and green subpixel
  • a color conversion filter substrate including a red conversion layer and a green conversion layer formed on a pixel
  • a flat panel display including a light emitting substrate having a plurality of light emitting portions, wherein the bank is formed of a blue light transmissive material that transmits at least blue light, and has openings in the red subpixel and the green subpixel.
  • a flat panel display characterized in that, in all the red and green subpixels above, the center of the opening of the bank is decentered toward the blue subpixel with respect to the center of the opening of the black matrix.
  • the present invention relates to a method and a color conversion filter substrate used in the manufacturing method.
  • FIG. 4A and FIG. 4B show one aspect of the color conversion filter substrate of the present invention.
  • 4A is a top view of the color conversion filter substrate
  • FIG. 4B is a cross-sectional view of the color conversion filter substrate along the cutting line IVB-IVB in FIG. 4A.
  • the color conversion filter substrate includes a transparent substrate 10, a black matrix 20, a red, green, and blue color filter 30 (R, G, B), a bank 50, a red conversion layer 40R, a green conversion layer 40G, and a spacer. 60.
  • the bank 50 is composed of a plurality of stripe portions extending in the vertical direction.
  • the blue color filter 30B and the spacer 60 are optional elements that can be provided as needed.
  • FIGS. 5A and 5B Another embodiment of the color conversion filter substrate of the present invention is shown in FIGS. 5A and 5B.
  • 5A is a top view of the color conversion filter substrate
  • FIG. 5B is a cross-sectional view of the color conversion filter substrate along the cutting line VB-VB in FIG. 5A.
  • the color conversion filter substrate shown in FIGS. 5A and 5B is the same as the color conversion filter substrate shown in FIGS. 4A and 4B, except that the bank 50 has a lattice configuration.
  • the transparent substrate 10 is made of any material that is transparent to light in the visible light region and can withstand various conditions (for example, the solvent used, the temperature, etc.) used to form other constituent layers. Can be formed.
  • the transparent substrate 10 desirably has excellent dimensional stability.
  • the material used for forming the transparent substrate 10 includes glass, or an acrylic resin such as polyolefin or polymethyl methacrylate, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polycarbonate resin, and a resin such as a polyimide resin. When the above-described resin is used, the transparent substrate 10 may be rigid or flexible.
  • the black matrix 20 has a plurality of openings that clearly define red, green, and blue subpixels, and is a layer that contributes to an improvement in the contrast ratio of the flat panel display. As shown in FIGS. 4A and 5A, the black matrix 20 can take a lattice-like configuration in which a plurality of rectangular openings are arranged in the vertical direction and the horizontal direction. Alternatively, the black matrix 20 may be formed from a plurality of stripe portions extending in the vertical direction. In this case, the openings between adjacent stripe portions of the black matrix 20 define a collection of subpixels aligned in the vertical direction.
  • the black matrix 20 of the present invention can be formed using a black matrix material that is commercially available as a flat panel display material.
  • the film thickness of the black matrix 20 is generally about 1 to 2 ⁇ m.
  • the black matrix 20 is formed by applying a commercially available black matrix material over the entire surface using a coating method such as spin coating, roll coating, casting, dip coating, etc., exposing the pattern in a pattern, and partially curing the uncured region. It can be formed by removing.
  • the color filter 30 is a layer that is formed in the openings of the sub-pixels of each color defined by the black matrix 20 and transmits light in a specific wavelength range to obtain a desired hue.
  • the color conversion filter substrate of the present invention includes at least a red color filter 30R provided in the red subpixel and a green color filter 30G provided in the green subpixel.
  • the color conversion filter substrate of the present invention may include a blue color filter 30B provided in the blue subpixel. 4A to 5B show an example in which the blue color filter 30B is formed.
  • all red and green subpixels are adjacent to at least one blue subpixel. As shown in FIGS.
  • the color filter 30 may have a stripe shape extending over a plurality of openings aligned in the vertical direction.
  • the peripheral edge of the color filter 30 may be formed on the black matrix 20.
  • the color filter 30 may have a rectangular shape corresponding to the opening of the black matrix 20.
  • the color filter 30 can be formed using a commercially available color filter material as a flat panel display material.
  • the color filter 30 is formed by applying a commercially available color filter material over the entire surface using a coating method such as spin coating, roll coating, casting, or dip coating, exposing it in a pattern, and partially curing the uncured region. It can be formed by removing.
  • the bank 50 is formed from a blue light transmissive material.
  • the “blue light transmitting material” in the present invention means a material that transmits at least blue light.
  • the “blue light transmissive material” in the present invention includes a transparent material that transmits the entire light in the visible region, a blue material that transmits only blue light, a cyan material that transmits blue light and green light, and blue light and red light. Including magenta color material to be transmitted.
  • the blue light transmissive material is a transparent material or a blue material.
  • the bank 50 has openings at positions corresponding to the red subpixel and the green subpixel defined by the black matrix 20.
  • the bank 50 includes a plurality of stripe-shaped portions formed on the black matrix 20 forming the boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the blue color filter 30 of the blue subpixel.
  • the bank 50 forms a boundary between the black matrix 20 that forms the boundary between the red subpixel and the green subpixel, the blue color filter 30 of the blue subpixel, and two subpixels of the same color. It has a lattice shape formed on the black matrix 20 extending in the lateral direction.
  • the center of the opening of the bank 50 in all the red subpixels in the color conversion filter substrate is compared with the center of the opening of the black matrix 20. And decentered toward the blue sub-pixel.
  • the center of the opening of the bank 50 in all the green subpixels in the color conversion filter substrate is also biased toward the blue subpixel compared to the center of the opening of the black matrix 20. I have a heart.
  • the bank 50 can be formed using a light curable material that is blue light transmissive, a light and heat combined curable material, a thermoplastic material, and the like.
  • a light curable material that is blue light transmissive or a curable material that is combined with light and heat the bank 50 applies the material to the entire surface using a coating method such as spin coating, roll coating, casting, dip coating, and the like. It can be formed by exposing to a partially cured or temporarily cured and removing uncured regions.
  • the photothermal combination curable material it is desirable to further heat and advance the curing of the bank 50.
  • the bank 50 can be formed using a printing method such as screen printing.
  • the color conversion layer 40 is a layer that absorbs light emitted from the light emitting substrate and emits light of a different hue by performing wavelength distribution conversion.
  • the red conversion layer 40R is formed in the red subpixel
  • the green conversion layer 40G is formed in the green subpixel.
  • the color conversion layer 40 in the present invention is formed from one or more kinds of color conversion dyes. Any color conversion dye known in the art can be used to form the color conversion layer 40.
  • the color conversion layer 40 is formed by preparing an ink containing one or more kinds of color conversion dyes and a solvent, attaching the ink to the opening of the bank 50 using an ink jet method, and heating and drying the attached ink. This can be done by removing the solvent.
  • FIGS. 3A to 3C show the formation of the green conversion layer 540G as an example.
  • the bank 550 is provided on the black matrix 520 at the boundary between the red subpixel and the green subpixel and on the black matrix 520 at the boundary between the green subpixel and the blue subpixel.
  • the center C D of the opening of the bank 550 is coincident with the center C BM of the opening of the black matrix 520.
  • the width W BM of the black matrix is: It is necessary to satisfy the relationship W BM ⁇ W D + 2W cd .
  • the transverse pitch of the sub-pixel that is, the width of the opening width W BM + black matrix of the black matrix
  • P SP the minimum value of the opening width of the bank 550, P SP -W D -2W cd (Formula 1) Is required.
  • the diameter of the ink droplet 570 and D I when the landing tolerance and D cd, the minimum value of the opening width of the bank 550 is calculated by P SP -W D -2W cd. Therefore, in order for the ink droplet 570 to land on the opening of the bank 550, D I ⁇ P SP ⁇ W D ⁇ 2W cd ⁇ 2D cd (Formula 2) It is necessary to satisfy the relationship.
  • the landed ink droplet 572 spreads in a region between the two banks 550 and rises beyond the upper surface of the bank 550. After that, it spreads in the vertical direction of the substrate (the front side and the back side in FIG. 3B), and the solvent in the ink droplets is removed by heating and drying to form a green color conversion layer 540G.
  • the green conversion layer 540G having a desired film thickness cannot be obtained by the single ink droplet adhesion, the ink adhesion and the heat drying are repeatedly performed, and the green conversion layer 540G having the desired film thickness is formed.
  • FIGS. 6A to 6C also illustrate the formation of the green conversion layer 40G as an example.
  • the bank 50 is provided on the black matrix 20 at the boundary between the red subpixel and the green subpixel, and on the blue subpixel (more specifically, above the opening of the black matrix 20 that defines the blue subpixel). It has been. As a result, the center C D of the opening of the bank 50 does not coincide with the center C BM of the opening of the black matrix 20 is eccentric to the blue subpixel side.
  • the bank provided on the black matrix 20 at the boundary between the red subpixel and the green subpixel in order to provide the bank 550 at a desired position on the black matrix 20, as in the case of FIGS. 3A to 3C, black width W BM of the matrix, it is necessary to satisfy the relationship of W BM ⁇ W D + 2W cd (where, W D is the width of the bank 50, W cd is the alignment tolerance in forming the banks 50 Show).
  • the bank provided on the blue sub-pixel, by the amount of W CD could be formed on the green boundary of the black matrix 20 between the sub-pixel and a blue sub-pixel.
  • the minimum value of the opening width of the bank 50 is P SP -2W cd (Equation 3) Obtained in (Here, a P SP is transverse pitch of the sub-pixels). Accordingly, the diameter of the ink droplets 70 and D I, when the landing tolerance and D cd, to ink droplets 70 at the opening of the bank 50 is landed, D I ⁇ P SP -2W cd -2D cd (Formula 4) It is necessary to satisfy the relationship.
  • the landed ink droplet 72 spreads in the region between the two banks 50 and rises beyond the upper surface of the bank 50. After that, it spreads in the vertical direction of the substrate (the front side and the back side in FIG. 6B), and the solvent in the ink droplets is removed by heating and drying to form the green color conversion layer 40G.
  • the green conversion layer 40G having a desired film thickness cannot be obtained by the single adhesion of the ink droplet, the ink conversion and the heat drying are repeatedly performed, and the green conversion layer 40G having the desired film thickness is formed.
  • the red conversion layer 40R is formed by the same method.
  • the bank is formed on the blue subpixel, not on the black matrix at the boundary between the green subpixel and the blue subpixel. opening of the bank 50 in the color conversion filter substrate, only minute line width W D of the bank 50, it is wider than the color conversion filter substrate of the prior art. Therefore, if the diameter D I and landing tolerance D cd ink droplets 70 are identical, in the color conversion filter substrate of the present invention, possible to reduce the amount corresponding P SP of W D, that is, to improve the resolution It becomes possible.
  • the diameter D I of the ink droplet 70 that can be received by the color conversion filter substrate of the present invention is It increased by the amount of line width W D of the bank 50 than in the case of the color conversion filter substrate of the prior art.
  • the width of the opening of the bank 50 in which the color conversion layer 40 is formed in the color conversion filter substrate of the present invention is increased by the amount of W D, the area to form the color conversion layer is increased in proportion to the width of the opening It has become.
  • the diameter D I of the ink droplet 70 increases, the volume of the ink droplet 70 increases in proportion to the cube of the diameter D I and is formed by the adhesion of one ink droplet.
  • the film thickness of 40 is remarkably increased. Therefore, when forming the color conversion layer 40 having the same film thickness, the number of ink droplets 70 required can be reduced, and the manufacturing time and the manufacturing cost can be reduced.
  • the maximum value of the diameter D I of acceptable ink droplets is calculated to be 20 [mu] m.
  • the maximum value of the diameter D I of the ink droplet that can be received by the color conversion filter substrate of the present invention is calculated as 30 ⁇ m.
  • the area for forming the color conversion layer is increased 1.25 times.
  • the color conversion filter substrate of the present invention is provided with a layer below the color conversion layer 40 and the bank 50 for the purpose of preventing the deterioration of the color conversion layer 40 or preventing the color conversion dye from flowing out to a filling layer (described later).
  • a protective layer (not shown) formed to cover may be included.
  • the protective layer can be formed using an inorganic material or a resin.
  • the color conversion filter substrate of the present invention may further include a spacer 60 formed on the bank 50.
  • the spacer 60 is useful for defining a distance between the light emitting substrate and the color conversion filter substrate when the light emitting substrate and the color conversion filter substrate are bonded to each other.
  • the light emitting substrate constituting the flat panel display of the present invention may have any known structure having a plurality of light emitting portions.
  • the light emitting substrate is an organic EL light emitting substrate.
  • the color conversion filter substrate 1 may include the stripe-shaped banks 50 illustrated in FIGS. 4A and 4B, or may include the lattice-shaped banks 50 illustrated in FIGS. 5A and 5B.
  • the organic EL light emitting substrate 2 may take an arbitrary configuration on condition that light is emitted to the opposite side of the substrate 110.
  • 7 includes a substrate 110, a plurality of switching elements 120, a planarization layer 130, a reflective electrode 140, an insulating layer 150 having a plurality of openings, an organic EL layer 160, a transparent electrode 170, and a barrier.
  • Layer 180 is included.
  • the substrate 110, the reflective electrode 140, the organic EL layer 160, and the transparent electrode 170 are essential components, and the other layers are components that may be optionally provided.
  • the substrate 110 can be formed using any material that can withstand various conditions (for example, the solvent used, temperature, etc.) used to form other constituent layers. Further, it is desirable that the substrate 110 has excellent dimensional stability.
  • the transparent material used to form the substrate 110 includes glass, or an acrylic resin such as polyolefin or polymethyl methacrylate, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polycarbonate resin, and a resin such as a polyimide resin.
  • the substrate 110 may be rigid or flexible.
  • the substrate 110 may be formed using an opaque material such as silicon or ceramic.
  • the plurality of switching elements 120 can be formed using any element known in the art such as a TFT.
  • the planarization layer 130 is a layer for planarizing unevenness generated by the formation of the switching element 120.
  • the planarization layer 130 may include a plurality of contact holes for connecting the switching element 120 and the reflective electrode 140.
  • the planarization layer 130 is usually formed using a resin material.
  • a passivation layer (not shown) made of a single layer film such as SiO 2 , SiN, or SiON or a laminated film in which a plurality of them is stacked may be further provided on the planarizing layer 130.
  • the passivation layer prevents outgas from the resin constituting the planarization layer 130 from entering the organic EL layer 160 and the like.
  • the reflective electrode 140 is formed using a metal or alloy having high reflectivity such as MoCr, CrB, Ag, Ag alloy, Al alloy or the like.
  • the reflective electrode 140 is preferably composed of a plurality of partial electrodes, and the partial electrodes are connected to the switching element 120 on a one-to-one basis.
  • the reflective electrode 140 may be a laminate of a plurality of layers.
  • a reflective electrode 140 having a stacked structure of a base layer, a reflective layer, and a transparent layer for ensuring adhesion with a planarization layer or a passivation layer can be used.
  • the base layer and the transparent layer can be formed using a transparent conductive oxide material such as IZO or ITO, and the reflective layer can be formed using the above-described metal or alloy having high reflectivity. it can.
  • the insulating layer 150 is a layer having a plurality of openings and defining a plurality of light emitting portions of the organic EL light emitting substrate 2. As described above, when the reflective electrode 140 is composed of a plurality of partial electrodes, the insulating layer 150 has openings that cover the shoulders of the partial electrodes and expose the upper surfaces of the partial electrodes.
  • the insulating layer 150 is formed using an inorganic insulating material such as SiO 2 , SiN, or SiON, or an organic insulating material.
  • the insulating layer 150 may be formed by stacking an organic insulating material and an inorganic insulating material.
  • the organic EL layer 160 includes at least an organic light emitting layer.
  • the organic EL layer 160 may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer as necessary.
  • Each layer constituting the organic EL layer 160 can be formed using a known compound or composition.
  • the transparent electrode 170 is composed of a film of a transparent conductive oxide material such as IZO or ITO, or a translucent metal film having a film thickness of several nm to 10 nm.
  • a damage mitigating layer is provided between the organic EL layer 160 and the transparent electrode 170 for the purpose of preventing damage to the organic EL layer 160 when the transparent electrode 170 is formed. (Not shown) may be provided.
  • the damage alleviating layer is formed using a metal having a high light transmittance such as MgAg or Au, and has a film thickness of about several nm.
  • the barrier layer 180 is composed of a single layer film or a laminated film of an inorganic insulating material such as SiO 2 , SiN, or SiON.
  • the barrier layer 180 is useful for preventing moisture or oxygen from entering the organic EL layer 160 and suppressing the occurrence of light emission defects.
  • each layer of the organic EL light emitting substrate 2 any means known in the art can be used.
  • the flat panel display of the present invention is obtained by bonding the organic EL light emitting substrate 2 together.
  • the filling layer 190 may be formed by filling a gap formed between the color conversion filter substrate 1 and the organic EL light emitting substrate 2 with a liquid or a solid material.
  • the filling layer 190 is effective in reducing the refractive index difference in the propagation path of light emitted from the organic EL layer 160 and improving the light extraction efficiency.
  • the filling layer 190 can be formed using, for example, a thermosetting adhesive.
  • any means known in the art can be used.
  • FIG. 8 shows another example of the flat panel display of the present invention.
  • the configuration of FIG. 8 has the same configuration as the flat panel display described above except that the blue color filter 30B is not formed and the blue bank 50B is formed using a blue material.
  • the blue bank 50B functions as a partition when the red conversion layer 40R and the green conversion layer 40G are formed using the ink jet method, and as a color filter that transmits blue light of a desired hue. Fulfills the function. In order to satisfy both functions described above, it is desirable to adjust the material for forming the blue bank 50B.
  • the present invention also provides: A substrate, a reflective electrode, an insulating layer having a plurality of openings defining a red light emitting portion, a green light emitting portion, and a blue light emitting portion, an organic EL layer, a transparent electrode, a bank, and the red subpixel
  • An organic EL light emitting substrate including a red color conversion layer formed at a position corresponding to the green subpixel and a green conversion layer formed at a position corresponding to the green subpixel
  • a flat panel display comprising a transparent substrate and a color filter substrate comprising red and green color filters,
  • the bank is formed of a blue light transmitting material that transmits at least blue light, and has an opening in the red light emitting part and the green light emitting part, In all of the red light emitting part and the green light emitting part in the flat panel display, the center of the opening of the bank is eccentric to the blue light emitting part side with respect to the center of the opening of the insulating layer.
  • the present invention relates to a flat
  • FIG. 9 shows an example of a flat panel display formed from an organic EL light emitting substrate 4 having a color conversion layer (hereinafter referred to as a color conversion organic EL light emitting substrate 4) and a color filter substrate 3.
  • a color conversion organic EL light emitting substrate 4 having a color conversion layer (hereinafter referred to as a color conversion organic EL light emitting substrate 4) and a color filter substrate 3.
  • the color filter substrate 3 includes a transparent substrate 10 and red and green color filters 30 (R, G) as essential components.
  • the color filter substrate 3 may further include a black matrix 20, a blue color filter 30B, and / or a spacer 60 as necessary.
  • Each constituent layer of the color filter substrate 3 may have the same material and configuration as the corresponding layer of the color conversion filter substrate 1 and can be formed by the same forming method.
  • the color conversion organic EL light-emitting substrate 4 has the same configuration as that of the organic EL light-emitting substrate 2 described above except that the color conversion organic EL light-emitting substrate 4 includes a bank 50, a red conversion layer 40R, and a green conversion layer 40G formed of a blue light transmissive material. Have.
  • the red conversion layer 40R and the green conversion layer 40G are provided at positions corresponding to the red color filter 30R and the green color filter 30G on the color filter substrate 3, respectively.
  • Each layer from the substrate 110 to the barrier layer 180 can be formed using the same material as the corresponding layer of the organic EL light emitting substrate 2 and using the same formation method.
  • the reflective electrode 140 is composed of a plurality of partial electrodes.
  • the insulating layer 150 has a plurality of openings that cover the shoulders of the plurality of partial electrodes and expose the upper surfaces of the partial electrodes.
  • the plurality of openings define a light emitting portion in the color conversion organic EL light emitting substrate 4.
  • Each light emitting part emits blue to blue-green light.
  • the color that each light emitting unit outputs to the outside is determined by the color of the color conversion layer 40 and the color filter 30 in the color filter substrate 3 existing at the corresponding positions.
  • the light emitting units that emit blue, green, and red light to the outside are referred to as a blue light emitting unit, a green light emitting unit, and a red light emitting unit, respectively.
  • the blue color filter 30B when the blue color filter 30B does not exist, the sub-pixel where the color filter 30 does not exist at the corresponding position becomes the blue light emitting unit.
  • the bank 50 in the color conversion organic EL light emitting substrate 4 is formed on the boundary between the red light emitting portion and the green light emitting portion, and on the blue light emitting portion.
  • the center of the opening of the bank 50 in all the red light emitting parts and the green light emitting part is eccentric to the blue light emitting part side with respect to the center of the opening of the insulating layer 150.
  • This eccentricity like the bank eccentricity in the color conversion filter substrate 1 described above, has the effect of improving the definition using the conventional ink jet device and reducing the manufacturing time and manufacturing cost by increasing the diameter of the ink droplets. Bring.
  • the bank 50 can be formed using the same material and method as described above. However, it is desirable to adjust the formation conditions in view of the fact that the organic EL layer is not so resistant to moisture, oxygen and heat.
  • the red conversion layer 40R and the green conversion layer 40G are formed in the opening of the bank 50 using the same material and the ink jet method as described above.
  • the organic EL layer 160 and the color conversion layer 40 are between There are no layers having a low refractive index (such as the barrier layer 180 and the filling layer 190). This suppresses reflection at the layer interface and is effective in improving the incident light rate of light to the color conversion layer 40. Further, shortening the distance between the organic EL layer 160 and the color conversion layer 40 is also effective in improving the incident light rate of light to the color conversion layer 40.
  • Example 1 This example relates to an organic EL display having the structure of FIG. 7 and a nominal dimension of about 3 inches.
  • the pixels of the organic EL display of this embodiment are arranged at a pitch of 150 ⁇ m ⁇ 150 ⁇ m.
  • Each pixel is composed of red, green and blue sub-pixels arranged at a pitch of 50 ⁇ m ⁇ 150 ⁇ m.
  • a substrate 110 made of non-alkali glass (AN-100: manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 200 ⁇ 200 mm ⁇ 0.7 mm in thickness
  • a plurality of screens of switching elements 120 and wirings thereof were formed.
  • a planarization layer 130 having a thickness of 3 ⁇ m and a SiO 2 passivation layer having a thickness of 300 nm are formed so as to cover the switching element 120, and contact holes for connection to the switching element 120 are formed in the planarization layer 130 and the passivation layer.
  • an IZO film having a thickness of 50 nm was formed in Ar gas using an RF-magnetron sputtering apparatus.
  • a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied on the IZO film, and exposed and developed to form an etching mask. Next, wet etching of the IZO film was performed to form an IZO film separated for each subpixel. After removing the etching mask, a 200 nm-thick Ag alloy film was formed on the separated IZO film by sputtering. The Ag alloy film was patterned using a procedure similar to that for the IZO film to form a reflective electrode 140 having a laminated structure of IZO / Ag alloy.
  • the reflective electrode 140 includes a plurality of partial electrodes for each sub-pixel, and each of the partial electrodes is connected to the switching element 120 on a one-to-one basis by IZO in the contact hole.
  • a novolak resin (JSR JEM-700R2) film having a thickness of 1 ⁇ m is applied on the reflective electrode 140 by spin coating, and exposed and developed to have an insulating layer having an opening on the upper surface of the reflective electrode 140 150 was formed.
  • the insulating layer 150 was formed so as to cover the shoulders of the plurality of partial electrodes constituting the reflective electrode 140 and to expose the upper surfaces of the partial electrodes.
  • the stacked body on which the insulating layer 150 was formed was moved into a resistance heating vapor deposition apparatus.
  • a cathode buffer layer (not shown) made of Li with a thickness of 1.5 nm was formed on the reflective electrode 140.
  • the pressure in the resistance heating vapor deposition apparatus was reduced to 1 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa, and an electron transport layer of 4,4′-bis (20 nm thick made of tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq 3 )
  • DPVBi 2,2′-diphenylvinyl) biphenyl
  • ⁇ -NPD 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl
  • a 10 nm-thick hole transport layer and a 100 nm-thick hole injection layer made of copper phthalocyanine (CuPc) were formed to obtain an organic EL layer 160.
  • each constituent layer of the organic EL layer 160 was performed at a deposition rate of 0.1 nm / s.
  • a 5 nm-thickness damage alleviation layer (not shown) made of MgAg was formed on the organic EL layer 160.
  • the laminate on which the organic EL layer 160 was formed was moved into the counter sputtering apparatus without breaking the vacuum.
  • a transparent electrode 170 was formed by laminating 200 nm thick IZO by sputtering.
  • a metal mask having openings corresponding to each of the plurality of screens was used to prevent material deposition at the boundary portions of the plurality of screens.
  • the laminate on which the transparent electrode 170 was formed was moved into the CVD apparatus without breaking the vacuum.
  • SiN having a film thickness of 2 ⁇ m was laminated on the entire surface of the substrate, and a barrier layer 180 was formed.
  • a barrier layer 180 was formed.
  • a color mosaic (registered trademark) CK-7001 (available from Fuji Film Co., Ltd.) is applied on a transparent substrate 10 made of non-alkali glass (Eagle 2000: manufactured by Corning) having a size of 200 ⁇ 200 mm ⁇ 0.7 mm in thickness. Then, patterning was performed to form a black matrix 20 having a thickness of 1 ⁇ m and a marker (not shown).
  • the black matrix 20 had a lattice shape having a plurality of openings with a width of 36 ⁇ m in the horizontal direction at positions corresponding to the sub-pixels of each color, and the line width WBM was 14 ⁇ m.
  • red, green and blue color filters 30 (R, G, B) was formed.
  • Each of the color filters 30 (R, G, B) is composed of a plurality of striped portions extending in the vertical direction, and the film thickness is 1.5 ⁇ m.
  • Each color filter 30 (R, G, B) was arranged in this order in the order of red, green and blue in the horizontal direction.
  • a transparent photosensitive resin (CR-600: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied on the color filter and patterned to form a bank 50 composed of a plurality of stripe-like portions extending in the vertical direction.
  • a substrate was obtained.
  • the bank 50 includes a plurality of stripe portions formed on the black matrix 20 at the boundary between the green sub-pixel and the red sub-pixel and on the blue color filter 30B of the blue sub-pixel.
  • the stripe portion formed at the boundary between the green subpixel and the red subpixel had a width of about 10 ⁇ m, and the stripe portion formed in the blue subpixel had a width of about 40 ⁇ m.
  • the bank 50 had a height of about 4 ⁇ m.
  • the height of the bank 50 in the present invention means a vertical distance from the upper surface of the red and green color filters 30 (R, G) to the upper surface of the bank 50.
  • a transparent photosensitive resin (CR-600: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied and patterned to form a plurality of spacers 60 on the bank 50 located at the boundary between two adjacent blue subpixels. did.
  • Each spacer 60 had a cylindrical shape with a diameter of about 15 ⁇ m and a height of about 2 ⁇ m.
  • the color filter substrate on which the spacer 60 was formed was heated and dried.
  • the heated dried color filter substrate was arranged in a multi-nozzle type ink jet apparatus installed in a nitrogen atmosphere containing less oxygen and 50ppm or less water 50ppm (having a landing accuracy D CD of about ⁇ 5 [mu] m).
  • the ink ejection head was scanned while ejecting the green conversion layer forming ink aiming at the center of the opening of the bank 50 corresponding to the green subpixel.
  • the diameter D I of the ink droplet 70 during flight as a 30 [mu] m was landed ink droplets of the green sub-pixel per 3 drops.
  • the color filter substrate was heated to 100 ° C.
  • the ink droplet 72 immediately after landing is in a state of rising from the upper surface of the bank 50 as shown in FIG. 6B, but after heating and drying, it became a flat film as shown in FIG. 6C.
  • Ink discharge and heat drying were repeated 10 times to form a green conversion layer 40G having a film thickness of about 0.5 ⁇ m.
  • the green color conversion layer forming ink did not flow into the opening of the bank 50 corresponding to the red subpixel, and no color mixture between the adjacent red and green subpixels was observed.
  • red color conversion layer forming ink is used instead of the green color conversion layer forming ink to form a red color conversion layer 40R having a film thickness of about 0.5 ⁇ m.
  • a color conversion filter substrate 1 shown in 4B was obtained.
  • the organic EL light-emitting substrate 2 and the color conversion filter substrate 1 were moved to a bonding apparatus installed in an environment of oxygen 5 ppm and moisture 5 ppm or less. Then, the surface of the color conversion filter substrate on the color conversion layer 40 side is disposed facing upward. Using a dispenser, an epoxy-based ultraviolet curing adhesive (XNR-5516: manufactured by Nagase ChemteX) was applied to the outer periphery of each of the plurality of screens without any breaks to form an outer peripheral seal material. Subsequently, a thermosetting epoxy adhesive having a lower viscosity was dropped near the center of each of the plurality of screens using a mechanical metering valve having a discharge accuracy of 5% or less.
  • XNR-5516 manufactured by Nagase ChemteX
  • the organic EL light-emitting substrate 2 was placed with the surface on the barrier layer 180 side facing downward, and the pressure inside the bonding apparatus was reduced to about 10 Pa or less.
  • the color conversion filter substrate 1 and the organic EL light emitting substrate 2 were brought close to each other in a parallel state, and the entire circumference of the outer peripheral sealing material was brought into contact with the organic EL light emitting substrate 2.
  • both substrates were aligned by the alignment mechanism, and then the pressure in the bonding apparatus was returned to atmospheric pressure, and a slight load was applied so as to press both substrates.
  • the thermosetting epoxy adhesive dripped in the vicinity of the center of the screen spreads over the entire inside of the outer peripheral sealing material, and the both substrates further approached each other. The approach of both substrates stopped when the tip of the spacer 80 of the color conversion filter substrate 1 contacted the barrier layer 180 of the organic EL light emitting substrate 2.
  • thermosetting epoxy adhesive spreads over the entire surface of the screen and there was no air bubbles inside the screen and no protrusion of the thermosetting epoxy adhesive from the outer peripheral sealing material.
  • the bonded body was divided into a plurality of screens using an automatic glass scriber and a breaker.
  • the divided bonded body was heated to 80 ° C. in a heating furnace for 1 hour to cure the thermosetting epoxy adhesive, and the filling layer 190 was formed.
  • the bonded body was naturally cooled in a heating furnace for 30 minutes.
  • the bonded body taken out from the heating furnace is placed in a dry etching apparatus, the barrier layer 180 at the peripheral edge of the bonded body is removed by dry etching, the terminal portion, the IC connection pad, etc. are exposed, and the organic EL display is formed. Obtained.
  • Example 2 This example relates to an organic EL display having the structure of FIG. First, the procedure of Example 1 was repeated to form the organic EL light emitting substrate 2.
  • a black matrix 20 As agle 2000: manufactured by Corning, a black matrix 20, a red color filter 30R, and A green color filter 30G was formed.
  • the formation of the blue color filter 30B is omitted.
  • a color material (registered trademark) CB-7001 was diluted to prepare a blue material having a reduced pigment concentration.
  • a blue bank 50B was formed using the bank 50 forming procedure of Example 1 except that this blue material was used in place of the photosensitive resin (CR-600: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.). At this time, the coating thickness of the blue material was set to about 5.5 ⁇ m.
  • the blue bank 50B is a component having both the functions of the bank 50 and the blue color filter 30B.
  • the spacer 80, the green color conversion layer 40G, and the red color conversion layer 40R were formed using the same procedure as in Example 1, and the color conversion filter substrate 1 was obtained. Furthermore, using the same procedure as in Example 1, the steps after bonding of the color conversion filter substrate 1 and the organic EL light emitting substrate 2 were performed to obtain an organic EL display.
  • the blue bank 50B was formed, so that the coating process and the patterning process for forming the blue color filter 30B could be omitted as compared with the first example.
  • Example 3 This example relates to an organic EL display having the structure of FIG.
  • the switching element 120 to the transparent electrode 170 are formed on the substrate 110 made of non-alkali glass (AN-100: manufactured by Asahi Glass) having a size of 200 ⁇ 200 mm ⁇ 0.7 mm.
  • AN-100 manufactured by Asahi Glass
  • a barrier layer 180 having a film thickness of 2 ⁇ m was formed by alternately stacking SiN having a film thickness of 0.5 ⁇ m and SiON having a film thickness of 0.5 ⁇ m twice over the entire surface of the substrate by CVD.
  • a transparent UV curable resin used for microlens formation or the like was diluted with a solvent to prepare a bank forming coating solution.
  • the bank forming coating solution was applied onto the barrier layer 180 and patterned to form a bank 50 composed of a plurality of stripe-shaped portions extending in the vertical direction.
  • the bank 50 includes a plurality of stripe portions formed on the barrier layer 180 at the boundary between the green light emitting portion and the red light emitting portion and on the barrier layer 180 of the blue light emitting portion.
  • the stripe-shaped portion formed at the boundary between the green light-emitting portion and the red light-emitting portion has a width of about 10 ⁇ m
  • the stripe-shaped portion formed in the blue light-emitting portion has a width of about 40 ⁇ m.
  • the bank 50 had a film thickness of about 4 ⁇ m at the center of the blue light emitting part. Through the above steps, the bank 50 having an opening with a width of 50 ⁇ m could be formed on the red light emitting part and the green light emitting part having a lateral dimension of 50 ⁇ m.
  • a black matrix 20 On the transparent substrate 10 made of non-alkali glass (Eagle 2000: manufactured by Corning) having a size of 200 ⁇ 200 mm ⁇ 0.7 mm, a black matrix 20, a red color filter 30R, A green color filter 30G and a blue color filter 30B were formed.
  • a transparent photosensitive resin (CR-600: manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied on the blue color filter 30B, and patterning is performed.
  • a plurality of spacers 60 were formed on the blue color filter 30B located on the black matrix 20 at the subpixel boundary, and the color filter substrate 3 was obtained.
  • Each spacer 60 had a cylindrical shape with a diameter of about 15 ⁇ m and a height of about 2 ⁇ m.
  • the color filter substrate 3 on which the spacer 60 was formed was heated and dried.
  • Example 2 the same procedure as in Example 1 was used, except that the color filter substrate 3 was used instead of the color conversion filter substrate 1 and the color conversion organic EL light emitting substrate 4 was used instead of the organic EL light emitting substrate 2. Then, the steps after bonding were performed to obtain an organic EL display.
  • the incident efficiency of the light emitted from the organic EL layer 160 to the color conversion layer 40 is improved, and the luminous efficiency of the red subpixel and the green subpixel is higher than that of the displays of the first and second embodiments. Improved.
  • This effect is because reflection at the layer interface can be suppressed by the absence of a low refractive index layer (such as the barrier layer 180 and the filling layer 190) between the organic EL layer 160 and the color conversion layer 40. Conceivable.
  • the shortening of the distance between the organic EL layer 160 and the color conversion layer 40 is also considered to have contributed to the improvement of the light emission efficiency.

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Abstract

　本発明は、高精細なフラットパネルディスプレイを安価に製造することが可能とする構造、製造方法およびその中間体を提供することを目的とする。本発明のフラットパネルディスプレイにおいては、赤色および緑色副画素におけるバンクの開口部を青色副画素側に偏心させることによって、既存の装置および材料を用いた場合であっても、より高精細な色変換層を形成することを可能にする。あるいはまた、バンクの開口部の偏心は、製造時間および製造コストの削減を可能にする。

Description

フラットパネルディスプレイ、その製造中間体および製造方法
　本発明は、主に、フラットパネルディスプレイ、その製造中間体、およびその製造方法に関する。より詳細には、本発明は、有機ＥＬディスプレイ、その製造中間体、およびその製造方法に関する。
　トップエミッション構造の有機ＥＬディスプレイのパネルユニットは、有機ＥＬ発光基板（ＴＦＴ基板）とカラーフィルタ基板とを貼り合わせた構成が代表的である。
　従来技術において知られている有機ＥＬ基板は：支持基板；複数の副画素を構成する位置に存在する複数のスイッチング素子（ＴＦＴなど）；スイッチング素子を覆って、その上面を平坦化する平坦化樹脂層；平坦化樹脂層に設けられたコンタクトホールを介してスイッチング素子に接続される複数の部分電極からなる反射電極；反射電極を構成する複数の部分電極間を絶縁し、かつ複数の発光部分を画定する絶縁層；少なくとも反射電極上に形成される有機ＥＬ層；および有機ＥＬ層上に形成される一体型の透明電極などを含む。透明電極は、好ましくは、有機ＥＬ基板の周縁部において支持基板上に設けられた基板内配線に接続される。基板内配線は、スイッチング素子の制御信号線（ＴＦＴのゲート制御線およびデータ制御線）、電力供給線などを含むことができる。さらに、有機ＥＬ基板は、前述の制御信号線を制御する制御ＩＣ、外部回路を接続するためのＦＰＣ取付用端子などを含んでもよい。また、透明電極以下の層を覆うバリア層を設けることができる。
　一方、カラーフィルタ基板は、透明基板と、有機ＥＬ基板の発光部分に対応して設けられるカラーフィルタとを少なくとも含む。必要に応じて、カラーフィルタ基板は、コントラスト比を向上させるためのブラックマトリクスを含んでもよい。また、特開２００７－１５７５５０号公報などに提案されているように、カラーフィルタ基板は、有機ＥＬ基板の発光の色相を所望の色相に変換するための色変換層を含む色変換フィルタ基板であってもよい（特許文献１参照）。カラーフィルタおよび色変換層の形成法として、従来から用いられているフォトリソグラフ法に加えて、インクジェット法など塗布方法も普及してきている。インクジェット法を用いて複数種のカラーフィルタまたは複数種の色変換層を形成する際には、バンクを設けて、目的としない形成位置における複数種のインクの混合（いわゆる「混色」）を防止することが一般的に行われている。また、インクジェット法は、有機ＥＬ基板の有機ＥＬ層の形成手段としても検討されてきている。
　図１Ａおよび図１Ｂに、従来技術の色変換フィルタ基板の１つの例を示す。カラーフィルタ基板は、透明基板５１０と、複数の開口部を有する格子状のブラックマトリクス５２０と、ストライプ状の複数の部分から構成される赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のカラーフィルタ５３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と、ストライプ状の複数の部分からなるバンク５５０と、バンク５５０の間隙に形成され、ストライプ状の複数の部分からなる赤色変換層５４０Ｒおよび緑色変換層５４０Ｇとを含む。この例においては、赤色および緑色の２種の色変換層５４０を形成した色変換フィルタ基板を例示している。
　図２Ａおよび図２Ｂに、従来技術の色変換フィルタ基板の別の例を示す。図２Ａおよび図２Ｂに示すカラーフィルタ基板は、バンク５５０が複数の開口部を有する格子状の形状を有すること、および赤色変換層５４０Ｒおよび緑色変換層５４０Ｇがバンク５５０の開口部内に形成され、略矩形状の複数の部分から構成されている点において、図１Ａおよび図１Ｂに示す色変換フィルタ基板と相違する。
　最終的に、有機ＥＬ基板側の発光部とカラーフィルタ基板（または色変換フィルタ基板）側のカラーフィルタとの位置合わせをしながら、有機ＥＬ基板およびカラーフィルタ基板を貼り合わせて有機ＥＬディスプレイのパネルユニットを形成する。貼り合わせの際に、有機ＥＬ基板とカラーフィルタ基板との間にギャップ層を設けることが一般的に行われている。ギャップ層は、一般的に接着剤などの固体充填材料で構成される。しかしながら、液体充填材料または気体充填材料を用いてギャップ層を形成してもよい。有機ＥＬ基板とカラーフィルタ基板との間の距離を精密に制御することが所望される場合、カラーフィルタ５３０またはバンク５５０の上にスペーサを設けてもよい。スペーサを設けることによって、両基板間の距離が大きすぎることによるクロストークの発生、ならびに、両基板間の距離が小さすぎることによる干渉の影響および有機ＥＬ基板の構成層への機械的接触による発光部の破損などを防止することができる。また、固体または液体の充填材料を用いてギャップ層を形成する場合の充填材料の広がりムラの発生も、スペーサの設置によって防止することができる。
　特開２００５－３５３２５８号公報は、有機ＥＬ基板中の有機ＥＬ層をインクジェット法で形成する際に、バンクを無機物バンク層と有機物バンク層との積層構造とし、基板外周部において、無機物バンク層の開口部を有機物バンク層の開口部より基板内側に向かって偏心させることを開示している（特許文献２参照）。前述の開口部の偏心は、基板外周側と基板内側の溶媒の揮発速度の差によって有機ＥＬ層の膜厚が不均一になることに対処することを目的とする。より具体的には、有機ＥＬ層の所望の厚さ以外の部分を無機物バンク層によって電気的および／または光学的に遮断して、所望の特性の有機ＥＬ基板を提供する。特開２００５－３５３２５８号公報は、バンク層中の開口部の偏心によって精細度を向上させることおよび生産性を向上させることを、開示も示唆もしていない。
特開２００７－１５７５５０号公報 特開２００５－３５３２５８号公報
　図１Ａ～２Ｂに示す色変換フィルタ基板の作製に際して、色変換層５４０は、（ａ）透明基板上５１０上にブラックマトリクス５２０、カラーフィルタ５３０およびバンク５５０を形成した積層体を準備する工程、（ｂ）該積層体の赤色または緑色カラーフィルタ５３０上に、赤色または緑色変換材料を含むインクをインクジェット法により付着させる工程、および（ｃ）付着したインク液滴を加熱乾燥させる工程を含む方法によって形成される。ここで、所望の膜厚の色変換層５４０を形成するために、工程（ａ）～（ｃ）を複数回にわたって繰り返してもよい。
　緑色変換層５４０Ｇを例として、図３Ａ～図３Ｃを参照しながら、この方法の詳細を説明する。インクジェット装置などから吐出されるインク液滴５７０は、図３Ａに示すように、飛翔中は球状である。また、図３Ａに示すように、バンクの開口部（一方のバンクの側壁から他方のバンクの側壁に至る領域）の中心ＣＤは、ブラックマトリクスの開口部の中心ＣＢＭと一致している。次いでインク液滴５７０が、２つのバンク５５０に挟まれた緑色カラーフィルタ５３０Ｇ上に着弾すると、付着したインク液滴５７２は、図３Ｂに示すように、一方のバンク５５０の側壁から他方のバンク５５０に至る領域に広がり、かつバンク５５０の上面を超える高さまで盛り上がっている。引き続いて、付着したインクが緑色副画素内に広がり、加熱してインク中の溶媒を除去することによって、図３Ｃに示すような緑色変換層５４０Ｇが形成される。
　図３Ａ～３Ｃに示すようにインクジェット法によって色変換層５４０を形成する場合、インクジェット装置から吐出されるインク液滴５７０のサイズの縮小限界、および吐出されたインク液滴５７２の着弾位置のバラツキが存在する。また、バンク５５０についても、現実的に形成できる幅および配置間隔（すなわち、精細度）の下限が存在する。ここで、吐出されるインク液滴５７０のサイズとインク液滴５７０の着弾位置のバラツキとの合計が、バンクの配置間隔よりも大きい場合、インク液滴５７０の着弾不良が発生する。言い換えると、使用する材料の物性および装置によって、色変換層５４０の精細度の限界が決定される。一方、所与の精細度のバンク５５０に比較して十分に小さい液滴を吐出でき、かつ着弾位置のバラツキの少ないインクジェット装置を用いることができる場合であっても、吐出するインク液滴５７０のサイズがあまり小さくしすぎると、必要な膜厚を得るための塗布回数が増大する。その結果、製造時間が増大して、色変換層５４０を形成するためのコストが上昇する。したがって、着弾不良が発生しない範囲で可能な限り大きなインク液滴５７０を用いて、色変換層５４０を形成することが求められる。色変換層５４０の精細度（すなわち、バンク５５０の配置間隔）が向上するほど、これらの問題は顕著になる。
　よって、本発明の課題は、バンクを有する構造体上に塗布法で色変換層などを形成する際に、従来材料と装置のままで精細度を上げるか、または特定精細度に対してより大量の塗布を行って製造時間を縮め、ひいては高精細で安価な有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイを提供することにある。
　上記の課題を解決するために、本発明では、青色光透過性材料を用いて、赤色副画素と緑色副画素との境界および青色副画素の光が透過する領域の上にバンクを形成し、ブラックマトリクス開口中心または絶縁層開口中心に対して、バンク開口部の中心が青色副画素側にずれるような偏心を許容する。
　本発明の第１の実施形態のフラットパネルディスプレイは、
　透明基板と、複数の開口部を有して、赤色、緑色および青色副画素を画定するブラックマトリクスと、赤色および緑色副画素に形成される赤色および緑色カラーフィルタと、バンクと、赤色および緑色副画素に形成される赤色変換層および緑色変換層とを含む色変換フィルタ基板と、
　複数の発光部を有する発光基板と
を含み、前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有し、フラットパネルディスプレイ上の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心していることを特徴とする。ここで、前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されていることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であってもよい。さらに、前記青色副画素に青色カラーフィルタをさらに含んでもよい。また、前記発光基板が有機ＥＬ発光基板であってもよい。
　本発明の第２の実施形態のフラットパネルディスプレイは、
　基板と、反射電極と、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する複数の開口部を有する絶縁層と、有機ＥＬ層と、透明電極と、バンクと、該赤色副画素に相当する位置に形成された赤色色変換層と、該緑色副画素に相当する位置に形成された緑色変換層とを含む有機ＥＬ発光基板と、
　透明基板と、赤色および緑色カラーフィルタとを含むカラーフィルタ基板と
を含み、前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有し、フラットパネルディスプレイ上の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部に偏心していることを特徴とする。ここで、前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されていることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であってもよい。さらに、前記カラーフィルタ基板が青色カラーフィルタをさらに含んでもよい。
　本発明の第３の実施形態のフラットパネルディスプレイの製造方法は、
（１）　色変換フィルタ基板を形成する工程であって、下記の工程：
　　（ａ）　透明基板上に複数の開口部を有するブラックマトリクスを形成する工程であって、該複数の開口部が、赤色、緑色および青色副画素を画定する工程と、
　　（ｂ）　前記赤色および緑色副画素に、それぞれ、赤色および緑色カラーフィルタを形成する工程と、
　　（ｃ）　少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料を用いて、前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有するバンクを形成する工程であって、色変換フィルタ基板上の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心している工程と、
　　（ｄ）　前記赤色および緑色副画素に、インクジェット法を用いて赤色変換層および緑色変換層を形成する工程と
を含む工程；
（２）　複数の発光部を有する発光基板を準備する工程；および
（３）　前記色変換フィルタ基板と前記発光基板とを貼り合わせる工程
を含むことを特徴とする。ここで、工程（１）（ｃ）において、前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であってもよい。さらに、工程（ｂ’）青色副画素に青色カラーフィルタを形成する工程をさらに含んでもよい。また、前記発光基板が有機ＥＬ発光基板であってもよい。
　本発明の第４の実施形態のフラットパネルディスプレイの製造方法は、
（４）　有機ＥＬ発光基板を形成する工程であって、下記の工程：
　　（ａ）　基板上に反射電極を形成する工程と、
　　（ｂ）　複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程であって、該複数の開口部が、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する工程と、
　　（ｃ）　有機ＥＬ層を形成する工程と、
　　（ｄ）　透明電極を形成する工程と、
　　（ｅ）　少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料を用いて、前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有するバンクを形成する工程であって、有機ＥＬ発光基板中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心している工程と、
　　（ｆ）　前記赤色用発光部および緑色用発光部のそれぞれに、インクジェット法を用いて赤色変換層および緑色変換層を形成する工程と
を含む工程；
（５）　透明基板上に赤色および緑色カラーフィルタを形成して、カラーフィルタ基板を形成する工程；および
（６）　前記有機ＥＬ発光基板と前記カラーフィルタ基板とを貼り合わせる工程
を含むことを特徴とする。ここで、工程（４）（ｅ）において、前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であってもよい。さらに、工程（５）において、前記透明基板上に青色カラーフィルタを形成する工程をさらに含んでもよい。
　本発明の第５の実施形態の色変換フィルタ基板は、
　透明基板と、複数の開口部を有して、赤色、緑色および青色副画素を画定するブラックマトリクスと、赤色および緑色副画素に形成される赤色および緑色カラーフィルタと、バンクと、赤色および緑色副画素に形成される赤色変換層および緑色変換層とを含み、
　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有し、
　色変換フィルタ基板上の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心している
ことを特徴とする。ここで、前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されていることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であてもよい。さらに、前記青色副画素に青色カラーフィルタをさらに含んでもよい。
　本発明の第６の実施形態の有機ＥＬ発光基板は、
　基板と、反射電極と、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する複数の開口部を有する絶縁層と、有機ＥＬ層と、透明電極と、バンクと、赤色変換層および緑色変換層とを含み、
　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有し、
　有機ＥＬ発光基板中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心していることを特徴とする。ここで、前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されていることが望ましい。また、前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であってもよい。
　インクジェット法で色変換層などを形成するフラットパネルディスプレイにおいて、本発明のバンク構造を採用することで、バンク開口幅を従来より拡大できるようになった。これによって、インクジェット装置および材料を変えずに精細度を向上させることができる。あるいはまた、同一精細度においてインク液滴の直径を増大させることにより、インクジェット法による塗布回数を削減することができる。以上の効果によって、高精細なフラットパネルディスプレイを安価に製造することが可能となる。
図１Ａは、従来技術の色変換フィルタ基板の１つの例の平面図である。 図１Ｂは、従来技術の色変換フィルタ基板の１つの例の、切断線ＩＢ－ＩＢに沿った断面図である。 図２Ａは、従来技術の色変換フィルタ基板の別の例の平面図である。 図２Ｂは、従来技術の色変換フィルタ基板の別の例の、切断線IIＢ－IIＢに沿った断面図である。 図３Ａは、従来技術の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図３Ｂは、従来技術の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図３Ｃは、従来技術の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図４Ａは、本発明の有機ＥＬディスプレイに用いる色変換フィルタ基板の１つの例の平面図である。 図４Ｂは、本発明の有機ＥＬディスプレイに用いる色変換フィルタ基板の１つの例の、切断線IVＢ－IVＢに沿った断面図である。 図５Ａは、本発明の有機ＥＬディスプレイに用いる色変換フィルタ基板の別の例の平面図である。 図５Ｂは、本発明の有機ＥＬディスプレイに用いる色変換フィルタ基板の別の例の、切断線ＶＢ－ＶＢに沿った断面図である。 図６Ａは、本発明の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図６Ｂは、本発明の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図６Ｃは、本発明の色変換フィルタ基板における色変換層の形成を説明する断面図である。 図７は、本発明の有機ＥＬディスプレイの１つの例を示す断面図である。 図８は、本発明の有機ＥＬディスプレイの別の例を示す断面図である。 図９は、本発明の有機ＥＬディスプレイの別の例を示す断面図である。
　本発明は、
　透明基板と、複数の開口部を有して、赤色、緑色および青色副画素を画定するブラックマトリクスと、赤色および緑色副画素に形成される赤色および緑色カラーフィルタと、バンクと、赤色および緑色副画素に形成される赤色変換層および緑色変換層とを含む色変換フィルタ基板と、
　複数の発光部を有する発光基板と
を含み、前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有し、フラットパネルディスプレイ上の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心していることを特徴とするフラットパネルディスプレイ、その製造方法、および当該製造方法に用いる色変換フィルタ基板に関する。
　本発明の色変換フィルタ基板の１つの態様を、図４Ａおよび図４Ｂに示す。図４Ａは色変換フィルタ基板の上面図であり、図４Ｂは、図４Ａ中の切断線ＩＶＢ－ＩＶＢに沿った色変換フィルタ基板の断面図である。色変換フィルタ基板は、透明基板１０と、ブラックマトリクス２０と、赤色、緑色、青色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）と、バンク５０と、赤色変換層４０Ｒと、緑色変換層４０Ｇと、スペーサ６０とを含む。ここで、バンク５０は、縦方向に延びる複数のストライプ状部分から構成される。前述の構成要素のうち、青色カラーフィルタ３０Ｂおよびスペーサ６０は、必要に応じて設けることができる任意選択的要素である。
　本発明の色変換フィルタ基板の別の態様を、図５Ａおよび図５Ｂに示す。図５Ａは色変換フィルタ基板の上面図であり、図５Ｂは、図５Ａ中の切断線ＶＢ－ＶＢに沿った色変換フィルタ基板の断面図である。図５Ａおよび図５Ｂに示す色変換フィルタ基板は、バンク５０が格子状の構成を有することを除いて、図４Ａおよび図４Ｂに示す色変換フィルタ基板と同等である。
　透明基板１０は、可視光領域の光に対する透明性を有し、かつ他の構成層の形成に用いられる種々の条件（たとえば、使用される溶媒、温度など）に耐えることができる任意の材料を用いて形成することができる。また、透明基板１０は、優れた寸法安定性を有することが望ましい。透明基板１０を形成するのに用いられる材料は、ガラス、あるいは、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリイミド樹脂などの樹脂を含む。前述の樹脂を用いる場合、透明基板１０は、剛直性であっても可撓性であってもよい。
　ブラックマトリクス２０は、赤色、緑色および青色の副画素を明確に画定する複数の開口部を有し、フラットパネルディスプレイのコントラスト比の向上に寄与する層である。ブラックマトリクス２０は、図４Ａおよび図５Ａに示すように、複数の矩形状の開口部が縦方向および横方向に配列された、格子状の構成を採ることができる。あるいはまた、ブラックマトリクス２０を、縦方向に延びる複数のストライプ状部分から形成してもよい。この場合、ブラックマトリクス２０の隣接するストライプ状部分の間の開口部は、縦方向に整列した副画素の集合体を画定する。
　本発明のブラックマトリクス２０は、フラットパネルディスプレイ用材料として市販されているブラックマトリクス材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス２０の膜厚は、一般的に１～２μｍ程度である。ブラックマトリクス２０は、スピンコート、ロールコート、キャスト、ディップコートなどの塗布法を用いて市販のブラックマトリクス材料を全面に塗布し、パターン状に露光して部分的に硬化させ、未硬化の領域を除去することによって形成することができる。
　カラーフィルタ３０は、ブラックマトリクス２０が画定する各色の副画素の開口部に形成され、特定の波長域の光を透過させ、所望の色相を得るための層である。本発明の色変換フィルタ基板は、赤色副画素に設けられる赤色カラーフィルタ３０Ｒ、および緑色副画素に設けられる緑色カラーフィルタ３０Ｇを少なくとも含む。任意選択的に、本発明の色変換フィルタ基板は、青色副画素に設けられる青色カラーフィルタ３０Ｂを含んでもよい。図４Ａ～５Ｂにおいては、青色カラーフィルタ３０Ｂを形成した例を示した。本発明においては、全ての赤色副画素および緑色副画素が、少なくとも１つの青色副画素に隣接する。カラーフィルタ３０は、図４Ａおよび図５Ａに示すように、縦方向に整列した複数の開口部にわたって延在するストライプ状の形状を有してもよい。ここで、図４Ｂおよび図５Ｂに示すように、カラーフィルタ３０の周縁部は、ブラックマトリクス２０上に形成してもよい。あるいはまた、カラーフィルタ３０は、ブラックマトリクス２０の開口部に相当する矩形状の形状を有してもよい。
　カラーフィルタ３０は、フラットパネルディスプレイ用材料として市販されているカラーフィルタ材料を用いて形成することができる。カラーフィルタ３０は、スピンコート、ロールコート、キャスト、ディップコートなどの塗布法を用いて市販のカラーフィルタ材料を全面に塗布し、パターン状に露光して部分的に硬化させ、未硬化の領域を除去することによって形成することができる。
　バンク５０は、青色光透過性材料から形成される。本発明における「青色光透過性材料」は、少なくとも青色光を透過させる材料を意味する。本発明における「青色光透過性材料」は、可視領域の光全体を透過させる透明材料、青色光のみを透過させる青色材料、青色光および緑色光を透過させるシアン色材料、青色光および赤色光を透過させるマゼンタ色材料などを含む。好ましくは、青色光透過性材料は、透明材料または青色材料である。
　バンク５０は、ブラックマトリクス２０が画定する赤色副画素および緑色副画素に相当する位置に開口部を有する。図４Ａに示す態様においては、バンク５０は、赤色副画素と緑色副画素との境界をなすブラックマトリクス２０上、および青色副画素の青色カラーフィルタ３０上に形成された、複数のストライプ状部分からなる。図５Ａに示す態様においては、バンク５０は、赤色副画素と緑色副画素との境界をなすブラックマトリクス２０上、青色副画素の青色カラーフィルタ３０上、および２つの同色の副画素の境界をなす横方向に延びるブラックマトリクス２０上に形成された、格子状の形状を有する。以上の位置にバンク５０を形成することによって、色変換フィルタ基板（すなわちフラットパネルディスプレイ）中の全ての赤色副画素におけるバンク５０の開口部の中心は、ブラックマトリクス２０の開口部の中心に比較して、青色副画素側に偏心している。同様に、色変換フィルタ基板（すなわちフラットパネルディスプレイ）中の全ての緑色副画素におけるバンク５０の開口部の中心もまた、ブラックマトリクス２０の開口部の中心に比較して、青色副画素側に偏心している。
　バンク５０は、青色光透過性である光硬化性材料、光熱併用硬化性材料、熱可塑性材料などを用いて形成することができる。青色光透過性である光硬化性材料または光熱併用硬化性材料を用いる場合、バンク５０は、スピンコート、ロールコート、キャスト、ディップコートなどの塗布法を用いて材料を全面に塗布し、パターン状に露光して部分的に硬化または仮硬化させ、未硬化の領域を除去することによって形成することができる。光熱併用硬化性材料を用いる場合、さらに加熱を行って、バンク５０の硬化を進行させることが望ましい。あるいはまた、青色光透過性である熱可塑性材料を用いる場合、バンク５０は、スクリーン印刷などの印刷法を用いて形成することができる。
　色変換層４０は、発光基板が発する光を吸収し、波長分布変換を行って異なる色相の光を放出する層である。本発明においては、赤色副画素に赤色変換層４０Ｒが形成され、緑色副画素に緑色変換層４０Ｇが形成される。本発明における色変換層４０は、１種または複数種の色変換色素から形成される。当該技術において知られている任意の色変換色素を、色変換層４０の形成に用いることができる。
　色変換層４０の形成は、１種または複数種の色変換色素および溶媒を含むインクを調製し、インクジェット法を用いて該インクをバンク５０の開口部に付着させ、付着したインクを加熱乾燥して溶媒を除去することによって実施することができる。
　従来技術の色変換フィルタ基板における色変換層５４０の形成を、図３Ａ～図３Ｃを参照して説明する。なお、図３Ａ～図３Ｃにおいては、緑色変換層５４０Ｇの形成を例として示す。図３Ａにおいて、バンク５５０は赤色副画素および緑色副画素の境界のブラックマトリクス５２０上、および緑色副画素および青色副画素の境界のブラックマトリクス５２０上に設けられている。その結果、バンク５５０の開口部の中心ＣＤは、ブラックマトリクス５２０の開口部の中心ＣＢＭと一致している。バンク５５０の幅をＷＤ、バンク５０を形成する際の位置合わせ公差をＷｃｄとすると、バンク５５０をブラックマトリクス２０の上の所望の位置に設けるためには、ブラックマトリクスの幅ＷＢＭは、ＷＢＭ≧ＷＤ＋２Ｗｃｄの関係を満たす必要がある。ここで、副画素の横方向ピッチ（すなわちブラックマトリクスの幅ＷＢＭ＋ブラックマトリクスの開口部の幅）をＰＳＰとすると、バンク５５０の開口幅の最小値は、
　　　　ＰＳＰ－ＷＤ－２Ｗｃｄ　　　　（式１）
で求められる。さらに、インク液滴５７０の直径をＤＩとし、その着弾公差をＤｃｄとすると、バンク５５０の開口幅の最小値は、ＰＳＰ－ＷＤ－２Ｗｃｄで求められる。したがって、バンク５５０の開口部にインク液滴５７０が着弾するためには、
　　　　ＤＩ≦ＰＳＰ－ＷＤ－２Ｗｃｄ－２Ｄｃｄ　　　　（式２）
の関係を満たす必要がある。
　次いで、図３Ｂに示すように、着弾したインク液滴５７２は、２つのバンク５５０間の領域に広がり、バンク５５０の上面を超えて盛り上がった状態となる。その後に、基板の縦方向（図３Ｂにおける紙面手前方向および紙面奥手方向）に広がり、さらに加熱乾燥によってインク液滴内の溶媒を除去し、緑色変換層５４０Ｇを形成する。ここで、一回のインク液滴の付着によって所望の膜厚の緑色変換層５４０Ｇが得られない場合、インクの付着および加熱乾燥を反復して実施し、所望の膜厚の緑色変換層５４０Ｇを形成する。
　次に、本発明の色変換フィルタ基板における色変換層４０の形成を、図６Ａ～図６Ｃを参照して説明する。図６Ａ～図６Ｃにおいても、緑色変換層４０Ｇの形成を例として示す。図６Ａにおいて、バンク５０は赤色副画素および緑色副画素の境界のブラックマトリクス２０上、および青色副画素上（より詳細には、青色副画素を画定するブラックマトリクス２０の開口部の上方）に設けられている。その結果、バンク５０の開口部の中心ＣＤは、ブラックマトリクス２０の開口部の中心ＣＢＭと一致せず、青色副画素側に偏心している。赤色副画素および緑色副画素の境界のブラックマトリクス２０上に設けられるバンクについては、図３Ａ～図３Ｃの場合と同様に、バンク５５０をブラックマトリクス２０の上の所望の位置に設けるためには、ブラックマトリクスの幅ＷＢＭは、ＷＢＭ≧ＷＤ＋２Ｗｃｄの関係を満たす必要がある（ここで、ＷＤはバンク５０の幅を示し、Ｗｃｄはバンク５０を形成する際の位置合わせ公差を示す）。一方、青色副画素上に設けられたバンクについては、ＷＣＤの分だけ、緑色副画素と青色副画素との境界のブラックマトリクス２０上に形成される可能性がある。したがって、バンク５０の開口幅の最小値は
　　　　ＰＳＰ－２Ｗｃｄ　　　　（式３）
で求められる（ここで、ＰＳＰは、副画素の横方向ピッチを示す）。したがって、インク液滴７０の直径をＤＩとし、その着弾公差をＤｃｄとすると、バンク５０の開口部にインク液滴７０が着弾するためには、
　　　　ＤＩ≦ＰＳＰ－２Ｗｃｄ－２Ｄｃｄ　　　　（式４）
の関係を満たす必要がある。
　次いで、図６Ｂに示すように、着弾したインク液滴７２は、２つのバンク５０間の領域に広がり、バンク５０の上面を超えて盛り上がった状態となる。その後に、基板の縦方向（図６Ｂにおける紙面手前方向および紙面奥手方向）に広がり、さらに加熱乾燥によってインク液滴内の溶媒を除去し、緑色変換層４０Ｇを形成する。ここで、一回のインク液滴の付着によって所望の膜厚の緑色変換層４０Ｇが得られない場合、インクの付着および加熱乾燥を反復して実施し、所望の膜厚の緑色変換層４０Ｇを形成する。赤色変換層４０Ｒに関しても、同様の方法で形成される。
　上記の（式１）および（式３）の比較から明らかなように、緑色副画素と青色副画素との境界のブラックマトリクス上ではなく、青色副画素上にバンクを形成したことによって、本発明の色変換フィルタ基板におけるバンク５０の開口部は、バンク５０の線幅ＷＤの分だけ、従来技術の色変換フィルタ基板よりも広くなる。したがって、インク液滴７０の直径ＤＩおよび着弾公差Ｄｃｄが同一である場合、本発明の色変換フィルタ基板においては、ＷＤの分だけＰＳＰを小さくすること、すなわち解像度を向上させることが可能となる。
　また、（式２）および（式４）の比較から明らかなように、同一の副画素ピッチＰＳＰを用いる場合、本発明の色変換フィルタ基板が受容できるインク液滴７０の直径ＤＩは、従来技術の色変換フィルタ基板の場合よりもバンク５０の線幅ＷＤの分だけ大きくなる。本発明の色変換フィルタ基板において色変換層４０が形成されるバンク５０の開口部の幅がＷＤの分だけ大きくなり、色変換層を形成すべき面積が開口部の幅に比例して大きくなっている。しかしながら、インク液滴７０の直径ＤＩが増加した際に、インク液滴７０の体積は直径ＤＩの３乗に比例して大きくなり、１つのインク液滴の付着によって形成される色変換層４０の膜厚が著しく大きくなる。したがって、同一膜厚の色変換層４０を形成する場合、必要とされるインク液滴７０の数を少なくし、製造時間の減少および製造コストの低減が可能となる。
　わずかにバンク５０の線幅ＷＤの差による効果ではあるが、上述の効果は、色変換フィルタ基板の精細度が向上するにつれて顕著となる。たとえば、最近の携帯電話においては、１４０～１５０ｐｐｉの精細度のフラットパネルディスプレイが用いられるようになってきている。たとえば、１４０ｐｐｉの精細度において、従来型の構造においては、副画素の横方向ピッチＰＳＰは約６０μｍであり、バンクの線幅ＷＤは約１０μｍである。この場合、（式１）および（式３）の比較から明らかなように、本発明の色変換フィルタ基板においては、副画素の横方向ピッチＰＳＰを約５０μｍまで減少させても、バンクの開口部の幅を同一に維持することができる。約５０μｍのＰＳＰは、１７０ｐｐｉの精細度に相当する。すなわち、従来のインクジェット装置をそのまま用いた場合であっても、約３０ｐｐｉの精細度の向上が可能となる。
　さらに、副画素の横方向ピッチＰＳＰを５０μｍとし、バンクの線幅ＷＤを１０μｍとし、インク液滴の着弾公差Ｄｃｄを１０μｍとすると、（式２）から、従来型の色変換フィルタ基板が受容できるインク液滴の直径ＤＩの最大値は２０μｍと計算される。一方、（式４）から、本発明の色変換フィルタ基板が受容できるインク液滴の直径ＤＩの最大値は３０μｍと計算される。ここで、従来型の色変換フィルタ基板において色変換層を形成するバンクの開口部の幅が４０μｍ（＝ＰＳＰ－ＷＤ）であるのに対し、本発明におけるバンクの開口部の幅は５０μｍであり、色変換層を形成する面積が１．２５倍に増加する。しかしながら、インク液滴の体積の最大値は３．３７５倍（＝（３０／２０）３）になる。したがって、１個のインク液滴の付着によって形成される色変換層の膜厚を、最大で２．７倍とすることが可能となる。これは、従来は数回～数十回にわたって行っていたインク液滴の付着回数を削減し、製造時間の大幅な短縮および製造コストの削減の可能性をもたらす。ただし、色変換層の混色を発生させることなしに削減できるインク液滴の付着回数が、バンクの高さ、バンク表面の撥液処理状態、インクの粘度などに依存することは、当業者であれば容易に理解することができるであろう。
　本発明の色変換フィルタ基板は、色変換層４０の劣化防止、または色変換色素の充填層（後述）への流出などを防止することを目的として、色変換層４０およびバンク５０以下の層を覆って形成される保護層（不図示）を含んでもよい。保護層は、無機材料または樹脂を用いて形成することができる。
　また、本発明の色変換フィルタ基板は、バンク５０上に形成されるスペーサ６０をさらに含んでもよい。スペーサ６０は、後述するように、発光基板と色変換フィルタ基板との貼り合わせの際に、両基板間の距離を画定するのに有用である。
　本発明のフラットパネルディスプレイを構成する発光基板は、複数の発光部を有する任意の既知の構成を有していてもよい。好ましくは、発光基板は有機ＥＬ発光基板である。
　発光基板として有機ＥＬ発光基板を用いた本発明のフラットパネルディスプレイの１つの例を図７に示す。色変換フィルタ基板１は、図４Ａおよび図４Ｂに示すストライプ状のバンク５０を有してもよく、図５Ａおよび図５Ｂに示す格子状のバンク５０を有してもよい。
　有機ＥＬ発光基板２は、基板１１０の反対側に光を放出することを条件として、任意の構成を採ってもよい。図７に示す有機ＥＬ発光基板２は、基板１１０、複数のスイッチング素子１２０、平坦化層１３０、反射電極１４０、複数の開口部を有する絶縁層１５０、有機ＥＬ層１６０、透明電極１７０、およびバリア層１８０を含む。図７の例において、基板１１０、反射電極１４０、有機ＥＬ層１６０、および透明電極１７０が必須の構成要素であり、その他の層は任意選択的に設けてもよい構成要素である。
　基板１１０は、他の構成層の形成に用いられる種々の条件（たとえば、使用される溶媒、温度など）に耐えることができる任意の材料を用いて形成することができる。また、基板１１０は、優れた寸法安定性を有することが望ましい。基板１１０を形成するのに用いられる透明材料は、ガラス、あるいは、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリイミド樹脂などの樹脂を含む。前述の樹脂を用いる場合、基板１１０は、剛直性であっても可撓性であってもよい。あるいはまた、基板１１０を、シリコン、セラミックなどの不透明材料を用いて形成してもよい。複数のスイッチング素子１２０は、ＴＦＴなど当該技術において知られている任意の素子を用いて形成することができる。
　平坦化層１３０は、スイッチング素子１２０の形成によって発生する凹凸を平坦化するための層である。平坦化層１３０は、スイッチング素子１２０と反射電極１４０とを接続するための複数のコンタクトホールを含んでもよい。平坦化層１３０は、通常、樹脂材料を用いて形成される。平坦化層１３０の上に、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＳｉＯＮなどの単層膜またはそれらの複数を積層した積層膜からなるパッシベーション層（不図示）をさらに設けてもよい。パッシベーション層は、平坦化層１３０を構成する樹脂からのアウトガスが有機ＥＬ層１６０などに侵入することを防止する。
　反射電極１４０は、ＭｏＣｒ、ＣｒＢ、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｌ合金などの、高い反射率を有する金属または合金を用いて形成される。反射電極１４０は、好ましくは複数の部分電極から構成され、該部分電極はスイッチング素子１２０と１対１で接続される。反射電極１４０は複数の層の積層体であってもよい。たとえば、平坦化層またはパッシベーション層との密着性を確保するための下地層、反射層、および透明層の積層構造を有する反射電極１４０を用いることができる。ここで、下地層および透明層は、ＩＺＯ、ＩＴＯなどの透明導電性酸化物材料を用いて形成することができ、反射層は前述の高反射率を有する金属または合金を用いて形成することができる。
　絶縁層１５０は、複数の開口部を有して、有機ＥＬ発光基板２の複数の発光部を画定する層である。前述のように、反射電極１４０を複数の部分電極から構成する場合、絶縁層１５０は、それら部分電極の肩部を被覆し、部分電極の上表面を露出させるような開口部を有する。絶縁層１５０は、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＳｉＯＮなどの無機絶縁材料、または有機絶縁材料を用いて形成される。絶縁層１５０を、有機絶縁材料と無機絶縁材料とを積層して形成してもよい。
　有機ＥＬ層１６０は、少なくとも有機発光層を含む。有機ＥＬ層１６０は、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層をさらに含んでもよい。有機ＥＬ層１６０を構成する各層は、公知の化合物または組成物を用いて形成することができる。
　透明電極１７０は、ＩＺＯ、ＩＴＯなどの透明導電性酸化物材料の膜、または数ｎｍ～１０ｎｍの膜厚を有する半透明性金属膜から構成される。透明導電性酸化物材料を用いて透明電極１７０を形成する場合、透明電極１７０形成時の有機ＥＬ層１６０のダメージを防止する目的で、有機ＥＬ層１６０と透明電極１７０との間にダメージ緩和層（不図示）を設けてもよい。ダメージ緩和層は、ＭｇＡｇ、Ａｕなどの高い光透過率を有する金属を用いて形成され、数ｎｍ程度の膜厚を有する。
　バリア層１８０は、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＳｉＯＮなどの無機絶縁材料の単層膜または積層膜から構成される。バリア層１８０は、有機ＥＬ層１６０への水分または酸素の侵入を防止して、発光欠陥の発生を抑制することに有用である。
　有機ＥＬ発光基板２の各層の形成においては、当該技術において知られている任意の手段を用いることができる。
　最後に、色変換フィルタ基板１のブラックマトリクス２０の開口部と有機ＥＬ発光基板２の発光部（具体的には絶縁層１５０の開口部）との位置合わせをしながら、色変換フィルタ基板１と有機ＥＬ発光基板２とを貼り合わせることによって、本発明のフラットパネルディスプレイが得られる。
　ここで、色変換フィルタ基板１と有機ＥＬ発光基板２との間に形成される空隙に、液体または固体材料を充填して、充填層１９０を形成してもよい。充填層１９０は、有機ＥＬ層１６０を発する光の伝搬経路における屈折率差を小さくして、光の取り出し効率を向上させることに有効である。充填層１９０は、たとえば熱硬化型接着剤などを用いて形成することができる。
　色変換フィルタ基板１と有機ＥＬ発光基板２との貼り合わせにおいては、当該技術において知られている任意の手段を用いることができる。
　図８に、本発明のフラットパネルディスプレイの別の例を示す。図８の構成は、青色カラーフィルタ３０Ｂを形成しなかったこと、および青色材料を用いて青色バンク５０Ｂを形成したことを除いて、前述のフラットパネルディスプレイと同様の構成を有する。図８の構成においては、青色バンク５０Ｂは、インクジェット法を用いて赤色変換層４０Ｒおよび緑色変換層４０Ｇを形成する際の隔壁としての機能、および所望の色相の青色光を透過するカラーフィルタとしての機能を果たす。前述の両機能を満足するために、青色バンク５０Ｂを形成するための材料を調整することが望ましい。
　また、本発明は、
　基板と、反射電極と、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する複数の開口部を有する絶縁層と、有機ＥＬ層と、透明電極と、バンクと、該赤色副画素に相当する位置に形成された赤色色変換層と、該緑色副画素に相当する位置に形成された緑色変換層とを含む有機ＥＬ発光基板と、
　透明基板と、赤色および緑色カラーフィルタとを含むカラーフィルタ基板と
を含むフラットパネルディスプレイであって、
　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有し、
　フラットパネルディスプレイ中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心している
ことを特徴とするフラットパネルディスプレイ、その製造方法、および当該製造方法に用いる有機ＥＬ発光基板に関する。
　図９に、色変換層を有する有機ＥＬ発光基板４（以下、色変換有機ＥＬ発光基板４と称する）と、カラーフィルタ基板３とから形成されるフラットパネルディスプレイの例を示す。
　カラーフィルタ基板３は、透明基板１０、ならびに赤色および緑色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ）を必須の構成要素として含む。カラーフィルタ基板３は、必要に応じて、ブラックマトリクス２０、青色カラーフィルタ３０Ｂ、および／またはスペーサ６０をさらに含んでもよい。カラーフィルタ基板３の各構成層は、色変換フィルタ基板１の対応する層と同様の材料および構成を有してもよく、かつ同様の形成方法によって形成することができる。
　色変換有機ＥＬ発光基板４は、青色光透過性材料から形成されるバンク５０、赤色変換層４０Ｒ、および緑色変換層４０Ｇを有することを除いて、前述の有機ＥＬ発光基板２と同様の構成を有する。なお、赤色変換層４０Ｒおよび緑色変換層４０Ｇは、それぞれ、カラーフィルタ基板３の赤色カラーフィルタ３０Ｒおよび緑色カラーフィルタ３０Ｇに対応する位置に設けられる。基板１１０からバリア層１８０に至る各層は、前述の有機ＥＬ発光基板２の対応する層と同様の材料を用い、同様の形成方法を用いて形成することができる。
　この例においては、反射電極１４０は複数の部分電極から構成される。そして、絶縁層１５０は、それら複数の部分電極の肩部を被覆し、部分電極の上表面を露出させる複数の開口部を有する。それら複数の開口部が、色変換有機ＥＬ発光基板４における発光部を画定する。各発光部は、いずれも青色～青緑色の光を発する。しかしながら、各発光部が外部へ出力する色は、対応する位置に存在する、色変換層４０およびカラーフィルタ基板３中のカラーフィルタ３０の色により決定される。この例においては、外部へ青色、緑色および赤色の光を発する発光部を、それぞれ、青色用発光部、緑色用発光部および赤色用発光部と称する。さらに、本実施形態において青色カラーフィルタ３０Ｂが存在しない場合には、対応する位置にカラーフィルタ３０が存在しない副画素が青色用発光部となる。
　色変換有機ＥＬ発光基板４中のバンク５０は、赤色用発光部と緑色用発光部との境界、ならびに青色用発光部の上に形成される。その結果、全ての赤色用発光部および緑色用発光部におけるバンク５０の開口部の中心は、絶縁層１５０の開口部の中心に対して、青色用発光部側に偏心している。この偏心は、前述の色変換フィルター基板１中のバンクの偏心と同様に、従前のインクジェット装置を用いる精細度の向上、ならびにインク液滴の直径の増大による製造時間および製造コストの削減の効果をもたらす。
　バンク５０は、前述と同様の材料および方法を用いて形成することができる。ただし、有機ＥＬ層の水分、酸素および熱に対する耐性がそれほど高くないことを考慮して、形成条件の調整を行うことが望ましい。
　赤色変換層４０Ｒおよび緑色変換層４０Ｇは、前述と同様の材料およびインクジェット法を用いて、バンク５０の開口部内に形成される。色変換有機ＥＬ発光基板４を用いる構成においては、前述の色変換フィルタ基板１と有機ＥＬ発光基板２とを貼り合わせる構成に比較して、有機ＥＬ層１６０と色変換層４０との間に、低屈折率を有する層（バリア層１８０、充填層１９０など）が存在しない。これによって、層界面における反射を抑制して、色変換層４０への光の入射光率の向上に有効である。また、有機ＥＬ層１６０と色変換層４０との間の距離の短縮もまた、色変換層４０への光の入射光率の向上に有効である。
　　＜実施例１＞
　本実施例は、図７の構造および約３インチの公称寸法を有する有機ＥＬディスプレイに係る。本実施例の有機ＥＬディスプレイの画素は１５０μｍ×１５０μｍのピッチで配列されている。各画素は、５０μｍ×１５０μｍのピッチで配列された赤色、緑色および青色副画素から構成される。
　２００×２００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（ＡＮ－１００：旭硝子製）からなる基板１１０の上に、ＴＦＴなどから形成される、複数画面分のスイッチング素子１２０およびその配線を形成した。次いで、スイッチング素子１２０を覆うように、膜厚３μｍの平坦化層１３０および膜厚３００ｎｍのＳｉＯ２パッシベーション層を形成し、平坦化層１３０およびパッシベーション層にスイッチング素子１２０への接続のためのコンタクトホールを形成した。次に、ＲＦ－マグネトロンスパッタ装置を用い、Ａｒガス中で膜厚５０ｎｍの膜厚のＩＺＯ膜を形成した。ＩＺＯ膜上にレジスト剤「ＯＦＲＰ－８００」（商品名、東京応化製）を塗布した、露光および現像してエッチングマスクを形成した。次に、ＩＺＯ膜のウェットエッチングを行い、副画素毎に分離されたＩＺＯ膜を形成した。エッチングマスクを除去した後に、スパッタ法を用いて、分離されたＩＺＯ膜の上に膜厚２００ｎｍのＡｇ合金膜を形成した。ＩＺＯ膜と同様の手順を用いてＡｇ合金膜のパターニングを行い、ＩＺＯ／Ａｇ合金の積層構造を有する反射電極１４０を形成した。反射電極１４０は、副画素毎の複数の部分電極からなり、部分電極のそれぞれは、コンタクトホール内のＩＺＯによってスイッチング素子１２０と１対１で接続されている。反射電極１４０上に、スピンコート法を用いて膜厚１μｍのノボラック系樹脂（ＪＳＲ製ＪＥＭ－７００Ｒ２）膜を塗布し、露光および現像を行って反射電極１４０の上表面に開口部を有する絶縁層１５０を形成した。絶縁層１５０は、反射電極１４０を構成する複数の部分電極の肩部を被覆し、部分電極の上表面を露出させるように形成した。
　続いて、絶縁層１５０を形成した積層体を、抵抗加熱蒸着装置内に移動させた。反射電極１４０上に、膜厚１．５ｎｍのＬｉからなる陰極バッファ層（不図示）を形成した。次いで、抵抗加熱蒸着装置内の圧力を１×１０－４Ｐａまで低下させ、トリス（８－ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ３）からなる膜厚２０ｎｍの電子輸送層、４，４’－ビス（２，２’－ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）からなる膜厚３０ｎｍの有機発光層、４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル（α－ＮＰＤ）からなる膜厚１０ｎｍの正孔輸送層、および銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）からなる膜厚１００ｎｍの正孔注入層を形成し、有機ＥＬ層１６０を得た。有機ＥＬ層１６０の各構成層の形成は、０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で実施した。次いで、有機ＥＬ層１６０の上に、ＭｇＡｇからなる膜厚５ｎｍのダメージ緩和層（不図示）を形成した。有機ＥＬ層１６０を形成した積層体を、真空を破ることなしに対向スパッタ装置内に移動させた。スパッタ法を用いて膜厚２００ｎｍのＩＺＯを積層して、透明電極１７０を形成した。陰極バッファ層から透明電極１７０に至る層の形成においては、複数の画面のそれぞれに相当する開口部を有するメタルマスクを用い、複数の画面の境界部における材料の堆積を防止した。
　続いて、透明電極１７０を形成した積層体を、真空を破ることなしにＣＶＤ装置内に移動させた。ＣＶＤ法を用いて、基板の全面に膜厚２μｍのＳｉＮを積層し、バリア層１８０を形成して、有機ＥＬ発光基板２を得た。
　２００×２００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（イーグル２０００：コーニング製）からなる透明基板１０の上に、カラーモザイク（登録商標）ＣＫ－７００１（富士フィルム株式会社から入手可能）を塗布し、パターニングを行って膜厚１μｍのブラックマトリクス２０およびマーカー（不図示）を形成した。ブラックマトリクス２０は、各色の副画素に相当する位置に、横方向の幅３６μｍの複数の開口部を有する格子状の形状を有し、その線幅ＷＢＭは１４μｍであった。続いて、カラーモザイク（登録商標）ＣＲ－７００１、ＣＧ－７００１およびＣＢ－７００１（いずれも富士フィルム株式会社から入手可能）を用いて、それぞれ、赤色、緑色および青色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を形成した。各色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のそれぞれは、複数の縦方向に延びるストライプ状部分から構成され、その膜厚は膜厚１．５μｍであった。各色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、横方向に、赤色、緑色および青色の順で、この繰り返しで配置された。
　次に、カラーフィルタ上に透明な感光性樹脂（ＣＲ－６００：日立化成工業製）を塗布し、パターニングを行って、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなるバンク５０を形成し、カラーフィルタ基板を得た。バンク５０は、緑色副画素と赤色副画素との境界のブラックマトリクス２０上、および青色副画素の青色カラーフィルタ３０Ｂの上に形成される複数のストライプ状部分から構成される。緑色副画素と赤色副画素との境界に形成されるストライプ状部分は約１０μｍの幅を有し、青色副画素に形成されるストライプ状部分は約４０μｍの幅を有した。バンク５０は、約４μｍの高さを有した。本発明におけるバンク５０の高さは、赤色および緑色カラーフィルタ３０（Ｒ，Ｇ）上表面からバンク５０の上表面までの垂直方向の距離を意味する。以上の工程によって、横方向寸法が５０μｍの赤色および緑色副画素上に幅５０μｍの開口部を有するバンク５０を形成することができた。本実施例の色変換フィルタ基板の赤色および緑色副画素において、バンク５０の開口部の中心ＣＤは、ブラックマトリクス２０の開口部の中心ＣＢＭよりも約５μｍ青色副画素側に偏心している。
　再び、透明な感光性樹脂（ＣＲ－６００：日立化成工業製）を塗布し、パターニングを行って、２つの隣接する青色副画素の境界に位置するバンク５０の上に、複数のスペーサ６０を形成した。それぞれのスペーサ６０は、約１５μｍの直径および約２μｍの高さを有する円柱形状を有した。スペーサ６０を形成したカラーフィルタ基板を加熱乾燥させた。
　次に、クマリン６とジエチルキナクリドン（ＤＥＱ）との混合物（クマリン６：ＤＥＱ＝４８：２）５０質量部をトルエン１０００質量部に溶解させ緑色変換層形成用インクを調製した。また、クマリン６と４－ジシアノメチレン－２－メチル－６－（ジュロリジン－９－エニル）－４Ｈ－ピラン（ＤＣＭ－２）との混合物（クマリン６：ＤＣＭ－２＝４８：２）５０質量部をトルエン１０００質量部に溶解させ赤色変換層形成用インクを調製した。
　加熱乾燥されたカラーフィルタ基板を、５０ｐｐｍ以下の酸素および５０ｐｐｍ以下の水分を含む窒素雰囲気中に設置されたマルチノズル式インクジェット装置（約±５μｍの着弾精度ＤＣＤを有する）に配置した。マーカーによるアライメントの後に、緑色副画素に相当するバンク５０の開口部の中央をねらって緑色変換層形成用インクを吐出しながら、インク吐出ヘッドを走査した。インクジェット装置の作動条件を調整して、飛翔時のインク液滴７０の直径ＤＩを３０μｍとし、緑色副画素１個あたり３滴のインク液滴を着弾させた。基板全体にわたってインクの吐出を行った後に、窒素雰囲気を破ることなくカラーフィルタ基板を１００℃に加熱して乾燥させ、インク中の溶媒を除去した。着弾直後のインク液滴７２は、図６Ｂに示すようにバンク５０の上表面よりも盛り上がった状態であるが、加熱乾燥後は、図６Ｃに示すように平坦な膜となった。インクの吐出および加熱乾燥を１０回にわたって反復して、膜厚約０．５μｍの緑色変換層４０Ｇを形成した。この工程において、緑色変換層形成用インクが赤色副画素に相当するバンク５０の開口部に流れ込むことはなく、隣接する赤色および緑色副画素間での混色は認められなかった。
　次いで、緑色変換層形成用インクに代えて赤色変換層形成用インクを用いたことを除いて同様の手順を繰り返して、膜厚約０．５μｍの赤色変換層４０Ｒを形成し、図４Ａおよび図４Ｂに示す色変換フィルタ基板１を得た。
　次に、有機ＥＬ発光基板２および色変換フィルタ基板１を、酸素５ｐｐｍ，水分５ｐｐｍ以下の環境に設置された貼り合せ装置に移動させた。そして、色変換フィルタ基板の色変換層４０側の表面を上に向けて配置した。ディスペンサを用いて、複数画面のそれぞれの外周にエポキシ系紫外線硬化接着剤（ＸＮＲ－５５１６：ナガセケムテックス製）を切れ目無く塗布し、外周シール材を形成した。続いて複数画面のそれぞれの中央付近に、吐出精度５％以内のメカニカル計量バルブを用いて、より低粘度の熱硬化型エポキシ接着剤を滴下した。
　次に、有機ＥＬ発光基板２のバリア層１８０側の表面を下に向けた状態で配置し、貼り合わせ装置内を約１０Ｐａ以下まで減圧した。色変換フィルタ基板１および有機ＥＬ発光基板２を、両基板が平行の状態で接近させ、外周シール材全周を有機ＥＬ発光基板２に接触させた。ここで、アライメント機構により両基板の位置合わせを行い、続いて貼り合わせ装置内圧力を大気圧に戻し、両基板を押圧するようにわずかな荷重を印加した。この時に、画面中央付近に滴下した熱硬化型エポキシ接着剤は、外周シール材内部の全体に広がりつつ、両基板がさらに接近した。両基板の接近は、色変換フィルタ基板１のスペーサ８０の先端が有機ＥＬ発光基板２のバリア層１８０に接触した時点で停止した。
　次に、色変換フィルタ基板１側から外周シール材のみに紫外線を照射して、外周シール材を仮硬化させ、貼り合わせ装置から貼り合わせ体を取り出した。貼り合わせ体を観察した結果、熱硬化型エポキシ接着剤が画面全面に行き渡っており、画面内部の気泡および外周シール材からの熱硬化型エポキシ接着剤のはみ出しがないことが確認された。
　続いて、自動ガラススクライバーおよびブレイク装置を用いて、貼り合わせ体を、複数画面のそれぞれに分割した。分割した貼り合わせ体を、１時間にわたって加熱炉内で８０℃に加熱して、熱硬化型エポキシ接着剤を硬化させ、充填層１９０を形成した。引き続いて、貼り合わせ体を加熱炉内で３０分間にわたって自然冷却した。加熱炉から取り出した貼り合わせ体をドライエッチング装置内に配置し、ドライエッチングにより貼り合わせ体の周縁部のバリア層１８０を除去し、端子部、ＩＣ接続用パッドなどを露出させて有機ＥＬディスプレイを得た。
　　＜実施例２＞
　本実施例は、図８の構造を有する有機ＥＬディスプレイに係る。最初に、実施例１の手順を繰り返して、有機ＥＬ発光基板２を形成した。
　次に、２００×２００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（イーグル２０００：コーニング製）からなる透明基板１０の上に、実施例１と同様の手順によって、ブラックマトリクス２０、赤色カラーフィルタ３０Ｒおよび緑色カラーフィルタ３０Ｇを形成した。本実施例においては、青色カラーフィルタ３０Ｂの形成を省略した。
　次に、カラーモザイク（登録商標）ＣＢ－７００１を希釈して、色素濃度を低下させた青色材料を調製した。続いて、感光性樹脂（ＣＲ－６００：日立化成工業製）に代えてこの青色材料を用いたことを除いて実施例１のバンク５０の形成手順を用いて、青色バンク５０Ｂを形成した。この際に、青色材料の塗布膜厚を約５．５μｍとした。青色バンク５０Ｂは、バンク５０および青色カラーフィルタ３０Ｂの機能を併せ持つ構成要素である。
　次に、実施例１と同様の手順を用いて、スペーサ８０、緑色変換層４０Ｇおよび赤色変換層４０Ｒを形成し、色変換フィルタ基板１を得た。さらに、実施例１と同様の手順を用いて、色変換フィルタ基板１および有機ＥＬ発光基板２の貼り合わせ以降の工程を行い、有機ＥＬディスプレイを得た。
　本実施例においては、青色バンク５０Ｂを形成したことによって、実施例１に比較して、青色カラーフィルタ３０Ｂを形成するための塗布工程およびパターニング工程を省略することができた。
　　＜実施例３＞
　本実施例は、図９の構造を有する有機ＥＬディスプレイに係る。
　最初に、実施例１と同様の手順を用いて、２００×２００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（ＡＮ－１００：旭硝子製）からなる基板１１０の上に、スイッチング素子１２０から透明電極１７０に至る構成層を形成した。
　次に、透明電極１７０を形成した積層体を、真空を破ることなしにＣＶＤ装置に移動させた。ＣＶＤ法を用いて、基板全面の上に、膜厚０．５μｍのＳｉＮおよび膜厚０．５μｍのＳｉＯＮを２回にわたって交互に積層し、膜厚２μｍのバリア層１８０を形成した。
　次に、マイクロレンズ形成などで用いられる透明な紫外線硬化型樹脂を溶媒で希釈して、バンク形成用塗布液を調製した。続いて、バリア層１８０上にこのバンク形成用塗布液を塗布し、パターニングを行って、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなるバンク５０を形成した。バンク５０は、緑色用発光部と赤色用発光部との境界のバリア層１８０上、および青色用発光部のバリア層１８０の上に形成される複数のストライプ状部分から構成される。緑色用発光部と赤色用発光部との境界に形成されるストライプ状部分は約１０μｍの幅を有し、青色用発光部に形成されるストライプ状部分は約４０μｍの幅を有した。バンク５０は、青色用発光部中央部において、約４μｍの膜厚を有した。以上の工程によって、横方向寸法が５０μｍの赤色用発光部および緑色用発光部上に幅５０μｍの開口部を有するバンク５０を形成することができた。
　次に、色変換フィルタ基板１のカラーフィルタ３０上での形成ではなく、有機ＥＬ発光基板のバリア層１８０上での形成であること、およびインクの加熱乾燥を約９０℃で実施したことを除いて、実施例１と同様の手順を用いて、緑色変換層４０Ｇおよび赤色変換層４０Ｒを形成して、色変換有機ＥＬ発光基板４を得た。
　次に、２００×２００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（イーグル２０００：コーニング製）からなる透明基板１０の上に、実施例１と同様の手順によって、ブラックマトリクス２０、赤色カラーフィルタ３０Ｒ、緑色カラーフィルタ３０Ｇ、および青色カラーフィルタ３０Ｂを形成した。
　次いで、２つの隣接する青色副画素の境界において、青色カラーフィルタ３０Ｂの上に、透明な感光性樹脂（ＣＲ－６００：日立化成工業製）を塗布し、パターニングを行って、２つの隣接する青色副画素の境界のブラックマトリクス２０上に位置する青色カラーフィルタ３０Ｂの上に、複数のスペーサ６０を形成して、カラーフィルタ基板３を得た。それぞれのスペーサ６０は、約１５μｍの直径および約２μｍの高さを有する円柱形状を有した。スペーサ６０を形成したカラーフィルタ基板３を加熱乾燥させた。
　次に、色変換フィルタ基板１に代えてカラーフィルタ基板３を用い、有機ＥＬ発光基板２に代えて色変換有機ＥＬ発光基板４を用いたことを除いて、実施例１と同様の手順を用いて貼り合わせ以降の工程を行い、有機ＥＬディスプレイを得た。
　本実施例の有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ層１６０を発した光の色変換層４０への入射効率が向上し、実施例１および２のディスプレイよりも赤色副画素および緑色副画素の発光効率が向上した。この効果は、有機ＥＬ層１６０と色変換層４０との間に低屈折率の層（バリア層１８０、充填層１９０など）が存在しないことによって、層界面における反射を抑制することができたためと考えられる。また、有機ＥＬ層１６０と色変換層４０との間の距離の短縮もまた、前述の発光効率の向上に寄与したと考えられる。
　　１　色変換フィルタ基板
　　２　有機ＥＬ発光基板
　　３　カラーフィルタ基板
　　４　色変換有機ＥＬ発光基板
　　１０，５１０　透明基板
　　２０，５２０　ブラックマトリクス
　　３０，５３０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）　カラーフィルタ（Ｒ，Ｇ，Ｂ）
　　４０，５４０（Ｒ，Ｇ）　色変換層（Ｒ，Ｇ）
　　５０，５５０　バンク
　　６０　スペーサ
　　７０，５７０　飛翔中のインク液滴
　　７２，５７２　付着時のインク液滴
　　１１０　基板
　　１２０　スイッチング素子
　　１３０　平坦化層
　　１４０　反射電極
　　１５０　絶縁層
　　１６０　有機ＥＬ層
　　１７０　透明電極
　　１８０　バリア層
　　１９０　充填層

Claims (25)

  1. 　透明基板と、複数の開口部を有して、赤色、緑色および青色副画素を画定するブラックマトリクスと、赤色および緑色副画素に形成される赤色および緑色カラーフィルタと、バンクと、赤色および緑色副画素に形成される赤色変換層および緑色変換層とを含む色変換フィルタ基板と、
    　複数の発光部を有する発光基板と
    を含むフラットパネルディスプレイであって、
    　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有し、
    　フラットパネルディスプレイ中の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心している
    ことを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
  2. 　前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ。
  3. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ。
  4. 　前記青色副画素に青色カラーフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ。
  5. 　前記発光基板が有機ＥＬ発光基板であることを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ。
  6. 　基板と、反射電極と、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する複数の開口部を有する絶縁層と、有機ＥＬ層と、透明電極と、バンクと、該赤色副画素に相当する位置に形成された赤色色変換層と、該緑色副画素に相当する位置に形成された緑色変換層とを含む有機ＥＬ発光基板と、
    　透明基板と、赤色および緑色カラーフィルタとを含むカラーフィルタ基板と
    を含むフラットパネルディスプレイであって、
    　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有し、
    　フラットパネルディスプレイ中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心している
    ことを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
  7. 　前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されていることを特徴とする請求項６に記載のフラットパネルディスプレイ。
  8. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項６に記載のフラットパネルディスプレイ。
  9. 　前記カラーフィルタ基板が青色カラーフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項６に記載のフラットパネルディスプレイ。
  10. （１）　色変換フィルタ基板を形成する工程であって、下記の工程：
    　　（ａ）　透明基板上に複数の開口部を有するブラックマトリクスを形成する工程であって、該複数の開口部が、赤色、緑色および青色副画素を画定する工程と、
    　　（ｂ）　前記赤色および緑色副画素に、それぞれ、赤色および緑色カラーフィルタを形成する工程と、
    　　（ｃ）　少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料を用いて、前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有するバンクを形成する工程であって、色変換フィルタ基板中の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心している工程と、
    　　（ｄ）　前記赤色および緑色副画素に、インクジェット法を用いて赤色変換層および緑色変換層を形成する工程と
    を含む工程；
    （２）　複数の発光部を有する発光基板を準備する工程；および
    （３）　前記色変換フィルタ基板と前記発光基板とを貼り合わせる工程
    を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
  11. 　工程（１）（ｃ）において、前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されることを特徴とする請求項１０に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  12. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項１０に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  13. 　（ｂ’）　青色副画素に青色カラーフィルタを形成する工程
    をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  14. 　前記発光基板が有機ＥＬ発光基板であることを特徴とする請求項１０に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  15. （４）　有機ＥＬ発光基板を形成する工程であって、下記の工程：
    　　（ａ）　基板上に反射電極を形成する工程と、
    　　（ｂ）　複数の開口部を有する絶縁層を形成する工程であって、該複数の開口部が、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する工程と、
    　　（ｃ）　有機ＥＬ層を形成する工程と、
    　　（ｄ）　透明電極を形成する工程と、
    　　（ｅ）　少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料を用いて、前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有するバンクを形成する工程であって、有機ＥＬ発光基板中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心している工程と、
    　　（ｆ）　前記赤色用発光部および緑色用発光部のそれぞれに、インクジェット法を用いて赤色変換層および緑色変換層を形成する工程と
    を含む工程；
    （５）　透明基板上に赤色および緑色カラーフィルタを形成して、カラーフィルタ基板を形成する工程；および
    （６）　前記有機ＥＬ発光基板と前記カラーフィルタ基板とを貼り合わせる工程
    を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
  16. 　工程（４）（ｅ）において、前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されることを特徴とする請求項１５に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  17. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項１５に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  18. 　工程（５）において、前記透明基板上に青色カラーフィルタを形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
  19. 　透明基板と、複数の開口部を有して、赤色、緑色および青色副画素を画定するブラックマトリクスと、赤色および緑色副画素に形成される赤色および緑色カラーフィルタと、バンクと、赤色および緑色副画素に形成される赤色変換層および緑色変換層とを含み、
    　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色副画素および緑色副画素に開口部を有し、
    　色変換フィルタ基板中の全ての赤色および緑色副画素において、前記ブラックマトリクスの開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色副画素側に偏心している
    ことを特徴とする色変換フィルタ基板。
  20. 　前記バンクは、前記赤色副画素および緑色副画素の境界に位置するブラックマトリクス上、および前記青色副画素上に形成されていることを特徴とする請求項１９に記載の色変換フィルタ基板。
  21. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項１９に記載の色変換フィルタ基板。
  22. 　前記青色副画素に青色カラーフィルタをさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の色変換フィルタ基板。
  23. 　基板と、反射電極と、赤色用発光部、緑色用発光部および青色用発光部を画定する複数の開口部を有する絶縁層と、有機ＥＬ層と、透明電極と、バンクと、赤色変換層および緑色変換層とを含み、
    　前記バンクは、少なくとも青色光を透過させる青色光透過性材料から形成され、かつ前記赤色用発光部および緑色用発光部に開口部を有し、
    　有機ＥＬ発光基板中の全ての赤色用発光部および緑色用発光部において、前記絶縁層の開口部の中心に対して、前記バンクの開口部の中心は青色用発光部側に偏心している
    ことを特徴とする有機ＥＬ発光基板。
  24. 　前記バンクは、前記赤色用発光部および緑色用発光部の境界上、および前記青色用発光部上に形成されていることを特徴とする請求項２３に記載の有機ＥＬ発光基板。
  25. 　前記バンクを形成する青色光透過性材料は、青色光のみを透過する青色材料であることを特徴とする請求項２３に記載の有機ＥＬ発光基板。
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