WO2010113838A1 - 封着用無鉛着色ガラス - Google Patents

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直樹 三田村
都築　達也
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セントラル硝子株式会社
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Definitions

  • the present invention is a sealing material for an electronic material substrate typified by a plasma display panel, a liquid crystal display panel, an electroluminescence panel, a fluorescent display panel, an electrochromic display panel, a light emitting diode display panel, a gas discharge display panel, and the like,
  • the present invention relates to a lead-free low-melting glass used as a color ceramic material for a peripheral portion (light shielding portion) of an optical filter.
  • low-melting-point glass has been used as a bonding or sealing material for electronic components.
  • display panels such as plasma display panels, liquid crystal display panels, electroluminescence panels, fluorescent display panels, electrochromic display panels, light emitting diode display panels, gas discharge display panels, etc. has been developed.
  • the glass used in these materials is required to have various properties such as chemical durability, mechanical strength, fluidity, and electrical insulation depending on the application. Therefore, the effect of lowering the melting point of the glass in any application.
  • a low-melting glass containing a large amount of PbO having a very large value is widely used (see, for example, Patent Document 1).
  • PbO has a great detrimental effect on the human body and the environment.
  • PbO has a tendency to avoid its use, and lead-free electronic materials such as plasma display panels have been studied (for example, see Patent Document 2).
  • the electroluminescent element in an electroluminescent panel has an organic light emission part inside,
  • the light emission part is weak to a heat
  • the existing technology applies a low-melting glass paste to the outer periphery sealing part and laser bakes it to prevent moisture from entering the organic electroluminescence device.
  • lead-based glass has been used as a low melting glass, for example, as a material for bonding and sealing electronic components, or as a coating material for protecting and insulating electrodes and resistors formed on electronic components. It was. Although the lead component is an important component for making the glass have a low melting point, it has a great detrimental effect on the human body and the environment, and in recent years has tended to avoid its use. In recent years, lead-free glass has been required for electronic materials.
  • JP-A-9-227214 does not contain lead, but is an unstable glass, and when it is processed at a high temperature, it is crystallized during firing and its function is not fully exhibited.
  • V 2 O 5 glass described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-290665 uses a deleterious substance as a raw material, and therefore requires extra care in handling. Further, since the glass is not colored or thin, heat absorption by the laser light is small, so that a large amount of energy is required for laser irradiation to raise the glass softening temperature to a desired level.
  • the P 2 O 5 glass described in Japanese Patent No. 4061762 has a problem that the moisture resistance is poor, and the glass absorbs moisture in the air and exhibits destabilization.
  • the present invention substantially does not contain PbO, is stable without being crystallized even when processed at a high temperature, and the glass is colored by using Fe 2 O 3 as an essential component.
  • An object is to provide an Fe 2 O 3 —P 2 O 5 -based lead-free colored glass for sealing, which can be sealed by light irradiation as typified by firing.
  • the lead-free low-melting glass is substantially free of PbO and contains 40 to 80 P 2 O 5 and 5 to 50 Fe 2 O 3 expressed in mol%.
  • a lead-free colored glass (first glass) for sealing is provided.
  • the first glass is expressed in mol%, and R 2 O (total of one or more selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O) is 0 to 40, Al 2 O 3 is 0 to 15, Seal containing TiO 2 0-20, ZrO 2 0-10, MgO 0-55, CaO 0-55, SrO 0-55, BaO 0-55, ZnO 0-55.
  • the lead-free colored glass (second glass) may be used.
  • the first or second glass may be a lead-free colored glass for sealing (third glass) characterized in that (Fe + Al + Ti + Zr + Li + Na + K + Mg + Ca + Sr + Ba + Zn) / P is less than 1.0 in terms of an atomic molar ratio.
  • any one of the first to third glasses has a coefficient of thermal expansion from 30 ° C. to 300 ° C. of 50 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 200 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. and a softening point of 400 ° C. or higher and lower than 750 ° C.
  • Lead-free colored glass (fourth glass) for sealing may be used.
  • an electronic material substrate, a display panel, or a display cover filter using any one of first to fourth glasses.
  • a lead-free colored glass composition for sealing which is difficult to crystallize at high temperatures in an electronic substrate material such as a plasma display panel and can be sealed by light irradiation as typified by laser firing.
  • the present invention is a lead-free colored glass for sealing of Fe 2 O 3 —P 2 O 5 system, characterized by containing 40 to 80 P 2 O 5 and 5 to 50 Fe 2 O 3 in mol%.
  • P 2 O 5 is a main component of glass, facilitates glass melting, suppresses an excessive increase in the thermal expansion coefficient of glass, and gives moderate fluidity to glass during baking. is there. It is desirable to contain in the range of 40 to 80% by mol% in the glass. If it is less than 40%, the above-mentioned action cannot be exhibited and vitrification becomes difficult, and if it exceeds 80%, the moisture resistance of the glass deteriorates. More preferably, it is in the range of 40 to 70%.
  • Fe 2 O 3 is an essential component, suppresses the destabilization of the glass due to the hygroscopicity characteristic of P 2 O 5 glass, suppresses an excessive increase in the thermal expansion coefficient of the glass, and colors the glass.
  • the glass is contained in the range of 5 to 50% by mol%. If it is less than 5%, the above action cannot be exhibited, and if it exceeds 50%, it does not vitrify. More preferably, it is in the range of 5 to 45%.
  • Al 2 O 3 suppresses crystallization of the glass and stabilizes it, and is preferably contained in the glass in a range of 0 to 15% by mol%. If it exceeds 15%, glass melting becomes difficult. More preferably, it is 0 to 12%, and further preferably 5 to 10%.
  • TiO 2 is a component that improves the heat resistance of the glass and adjusts the softening point to an appropriate range, and is desirably contained in the glass in a range of 0 to 20% by mol%. If it exceeds 20%, vitrification becomes difficult. More preferably, it is 0 to 15%, and further preferably 5 to 15%.
  • ZrO 2 is a component that improves the heat resistance of the glass, and adjusts the softening point to an appropriate range. It is desirable that ZrO 2 be contained in the glass in a range of 0 to 10% in terms of mol%. If it exceeds 10%, vitrification becomes difficult. More preferably, it is 0 to 8%, and still more preferably 2 to 8%.
  • R 2 O (total of one or more selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O) lowers the softening point of glass, imparts moderate fluidity, and adjusts the thermal expansion coefficient to an appropriate range.
  • the glass is contained in the range of 0 to 40% by mol%. If it exceeds 40%, the coefficient of thermal expansion becomes too high, and the moisture resistance also deteriorates. More preferably, it is 0 to 35%, and further preferably 5 to 30%.
  • MgO is not an essential component
  • MgO lowers the softening point of the glass by adding it, imparts moderate fluidity, and adjusts the thermal expansion coefficient to an appropriate range. In the range of 0 to 55% by mol% in the glass. Contain. If it exceeds 55%, the thermal expansion coefficient becomes too high. More preferably, it is 0 to 50%, and still more preferably 20 to 40%.
  • CaO is not an essential component, but by containing it, it lowers the viscosity of the molten glass when it is melted, imparts appropriate fluidity to the glass, and adjusts the thermal expansion coefficient to an appropriate range. It is contained in the range of ⁇ 55%. If it exceeds 55%, the thermal expansion coefficient becomes too high. More preferably, it is 0 to 50%, and still more preferably 20 to 40%.
  • SrO is not an essential component, it improves the durability of the glass by containing it, lowers the softening point, moderately imparts fluidity to the glass, and adjusts the thermal expansion coefficient to an appropriate range. It is contained in the range of 0 to 55% in terms of mol%. If it exceeds 55%, the thermal expansion coefficient becomes too high. More preferably, it is in the range of 0 to 50%.
  • BaO is not an essential component, it contains it to lower the softening point of the glass, give it moderate fluidity, and adjust the thermal expansion coefficient to an appropriate range.
  • the molar percentage in the glass ranges from 0 to 55%. Contain. If it exceeds 55%, the thermal expansion coefficient becomes too high. More preferably, it is in the range of 0 to 50%.
  • ZnO lowers the softening point of the glass and adjusts the thermal expansion coefficient to an appropriate range, and is contained in the glass in the range of 0 to 55%. If it exceeds 55%, the glass becomes unstable and crystals tend to be formed. More preferably, it is 0 to 50%, and still more preferably 20 to 50%.
  • a stable glass can be obtained when the atomic molar ratio of metal element to nonmetal element (Fe + Al + Ti + Zr + Li + Na + K + Mg + Ca + Sr + Ba + Zn) / P is less than 1.0. If it is 1.0 or more, it will not vitrify. Desirably, it is less than 0.9.
  • a common oxide such as In 2 O 3 , SnO 2 , or TeO 2 may be added up to 1% within a range that does not impair the above properties.
  • substantially free of PbO means an amount of PbO mixed as an impurity in the glass raw material. For example, if it is in the range of 0.3% by mass or less in the low-melting glass, there is almost no adverse effect on the human body, environment, insulation characteristics, etc., and there is substantially no influence of PbO. become.
  • the lead-free colored glass for sealing characterized by having a thermal expansion coefficient from 30 ° C. to 300 ° C. of 50 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 200 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. and a softening point of 400 ° C. or higher and lower than 750 ° C. is there.
  • the softening point exceeds 750 ° C., problems such as deformation of other materials constituting the material occur.
  • it is 400 degreeC or more and 730 degrees C or less.
  • the lead-free colored glass for sealing of the present invention can be suitably used for electronic material substrates, display panels, and display cover filters.
  • the lead-free colored glass for sealing of the present invention is often used after being powdered.
  • the powdered glass is generally mixed with a low expansion ceramic filler such as mullite or alumina as required, and then kneaded with an organic oil to form a paste.
  • a transparent glass substrate particularly soda-lime-silica glass, or similar glass (high strain point glass), or an alumino-lime borosilicate glass with little (or almost no) alkali content is used. Yes.
  • Orthophosphoric acid as the P 2 O 5 source iron oxide as the Fe 2 O 3 source, aluminum oxide as the Al 2 O 3 source, titanium oxide as the TiO 2 source, zirconium oxide as the ZrO 2 source, Li 2 O Lithium carbonate as source, sodium carbonate as Na 2 O source, potassium carbonate as K 2 O source, magnesium carbonate as MgO source, calcium carbonate as CaO source, strontium carbonate as SrO source, barium carbonate as BaO source
  • zinc oxide as a ZnO source and preparing these compositions as shown in the table they were put into a platinum crucible and heated and melted in an electric heating furnace at 1100 to 1300 ° C. for 1 to 2 hours. Glasses having compositions shown in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 4 in Table 2 were obtained.
  • a part of the glass was poured into a mold, made into a block shape, transferred into an electric furnace maintained above the glass transition point, and gradually cooled. Each sample thus prepared was evaluated for softening point, crystallization temperature, and moisture resistance.
  • the softening point and the crystallization temperature were measured using a thermal analyzer TG-DTA (manufactured by Rigaku Corporation).
  • the thermal expansion coefficient ( ⁇ ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.) was determined from the amount of elongation at 30 to 300 ° C. when the temperature was raised at 5 ° C./min using a thermal dilatometer.
  • Moisture resistance is obtained by crushing a glass block to make glass powder, leaving it at a temperature of about 25 ° C. and a humidity of about 60%, and the presence or absence of moisture absorption of the glass powder after one month (indicated by ⁇ in the table). Were observed and evaluated.
  • the samples 1 to 4 did not vitrify or have poor moisture resistance because the respective compositions were not in an appropriate range.
  • the samples of Comparative Examples 2 and 3 do not vitrify because (Fe + Al + Ti + Zr + Li + Na + K + Mg + Ca + Sr + Ba + Zn) / P is not in an appropriate range although the composition is in an appropriate range.
  • Comparative Example 4 although (Fe + Al + Ti + Zr + Li + Na + K + Mg + Ca + Sr + Ba + Zn) / P is vitrified because it is in an appropriate range, moisture resistance is not good because the Fe 2 O 3 range is not appropriate.

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Abstract

開示されているのは、実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ2Ｏ5を４０～８０、Ｆｅ2Ｏ3を５～５０含むことを特徴とする封着用無鉛着色ガラスである。このガラスは、Ｐ2Ｏ5系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定である。

Description

封着用無鉛着色ガラス
　本発明は、プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等に代表される電子材料基板用の封着材料及び、光学フィルタの周辺部(光遮光部)用のカラーセラミック材料として用いられる無鉛低融点ガラスに関する。
発明の背景
従来から電子部品の接着や封着材料として低融点ガラスが用いられている。特に近年の電子部品の発達に伴い、プラズマディスプレイパネル、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等、多くの種類の表示パネルが開発されている。
そしてこれらに用いられるガラスは、その用途に応じて化学耐久性、機械的強度、流動性、電気絶縁性等種々の特性が要求されるが、それゆえ何れの用途においてもガラスの融点を下げる効果が極めて大きいＰｂＯを多量に含有した低融点ガラスが広く用いられている(例えば、特許文献１参照)。
しかしながらＰｂＯは、人体や環境に与える弊害が大きく、近年その採用を避ける趨勢にあり、プラズマディスプレイパネルを始めとする電子材料では無鉛化が検討されている(例えば、特許文献２参照)。
ＰｂＯ系に代わる無鉛組成としては、Ｖ2Ｏ5系ガラス(例えば、特許文献３参照)や、最近開発されつつあるＰ2Ｏ5系ガラス(例えば、特許文献４参照）がある。
また、エレクトロルミネッセンスパネル中のエレクトロルミネッセンス素子は内部に有機発光部を有し、その発光部は熱に弱く、外周封止時には発光部への熱の影響を極力少なくしなければならない。エレクトロルミネッセンス素子への水分、熱の影響を抑える方法として、既存技術では外周封止部に低融点ガラスペーストを塗布し、これをレーザー焼成することで、有機エレクトロルミネッセンス素子内への水分の浸入を防ぎ、局所加熱により、有機エレクトロルミネッセンス発光部の熱による影響を抑えるものが提案されている(例えば特許文献５、６参照)。
特許第３７７５５５６号公報 特開平９－２２７２１４号公報 特開２００６－２９０６６５号公報 特許第４０６１７６２号公報 特開平１０－１２５４６３号公報 特開２００１－３１９７７５号公報
従来、低融点ガラス、例えば電子部品の接着や封着材料として、或いは電子部品に形成された電極や抵抗体の保護や絶縁のための被覆材料としてのガラスには鉛系のガラスが採用されてきた。鉛成分はガラスを低融点とするうえで重要な成分ではあるものの、人体や環境に与える弊害が大きく、近年その採用を避ける趨勢にあり、近年、電子材料では無鉛ガラスが求められている。
ＰｂＯ系に代わる無鉛組成では、不安定なガラスが多く、高温で処理された場合、焼成途中で結晶化し、その機能が十分発揮されない。
すなわち、特許第３７７５５５６号公報に記載のものは、低融点ガラスとしての効果は認められるが、鉛を含んでいるという基本的な問題がある。
また、特開平９－２２７２１４号公報に記載のものは、鉛を含んでいないが、不安定なガラスであり、高温で処理された場合、焼成途中で結晶化し、その機能が十分発揮されない。
　また、特開２００６－２９０６６５号公報に記載のＶ2Ｏ5系ガラスは、原料として劇物を使用するため、取り扱いに過大な注意が必要となる。また、ガラスの着色が無いもしくは薄いためにレーザー光による熱吸収が小さいため、所望のガラス軟化温度まで上昇させるのにレーザー照射に多大のエネルギーを必要とする。
　さらに、特許第４０６１７６２号公報に記載のＰ2Ｏ5系ガラスは、耐湿性が悪く、ガラスが空気中の水分を吸収して不安定化を示すという問題がある。
本発明は前記問題点を考慮し、実質的にＰｂＯを含まず、高温で処理した場合でも結晶化せずに安定で、かつＦｅ2Ｏ3を必須成分とすることでガラスが着色し、レーザー焼成に代表される光照射による封着も可能であることを特徴とするＦｅ2Ｏ3－Ｐ2Ｏ5系の封着用無鉛着色ガラスを与えることを課題とする。
本発明に依れば、無鉛低融点ガラスにおいて、実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ2Ｏ5を４０～８０、Ｆｅ2Ｏ3を５～５０含むことを特徴とする封着用無鉛着色ガラス（第１ガラス）が提供される。
第１ガラスは、モル％で表して、Ｒ2Ｏ（Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選択される１種以上の合計）を０～４０、Ａｌ2Ｏ3を０～１５、ＴｉＯ2を０～２０、ＺｒＯ2を０～１０、ＭｇＯを０～５５、ＣａＯを０～５５、ＳｒＯを０～５５、ＢａＯを０～５５、ＺｎＯを０～５５含むことを特徴とする封着用無鉛着色ガラス（第２ガラス）であってもよい。
第１又は第２ガラスは、原子モル比で、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが１．０未満であることを特徴とする封着用無鉛着色ガラス（第３ガラス）であってもよい。
第１乃至第３ガラスのいずれか１つは、３０℃から３００℃の熱膨張係数が５０×１０-7／℃～２００×１０-7／℃、軟化点が４００℃以上７５０℃未満であることを特徴とする封着用無鉛着色ガラス（第４ガラス）であってもよい。
本発明に依れば、第１乃至第４ガラスのいずれか１つを使用していることを特徴とする電子材料用基板、ディスプレイ用パネル又はディスプレイ用カバーフィルタが提供される。
詳細な説明
本発明により、プラズマディスプレイパネル等の電子基板材料において、高温時に結晶化しにくく安定で、かつレーザー焼成に代表される光照射による封着も可能な封着用無鉛着色ガラス組成物を得ることが出来る。
本発明は、モル％でＰ2Ｏ5を４０～８０、Ｆｅ2Ｏ3を５～５０含むことを特徴とするＦｅ2Ｏ3－Ｐ2Ｏ5系の封着用無鉛着色ガラスである。
本発明の成分系においてＰ2Ｏ5はガラスの主成分であり、ガラス溶融を容易とし、ガラスの熱膨張係数において過度の上昇を抑え、かつ、焼付け時にガラスに適度の流動性を与えるものである。ガラス中にモル％で４０～８０％の範囲で含有させることが望ましい。４０％未満では上記作用を発揮しえずかつガラス化が困難となり、８０％を超えるとガラスの耐湿性が悪くなる。より好ましくは４０～７０％の範囲である。
Ｆｅ2Ｏ3は必須成分であり、Ｐ2Ｏ5系ガラスの特徴である吸湿性によるガラスの不安定化を抑制し、ガラスの熱膨張係数において過度の上昇を抑え、かつ、ガラスに着色を与えるものである。ガラス中にモル％で５～５０％の範囲で含有させることが望ましい。５％未満では上記作用を発揮しえず、５０％を超えるとガラス化しなくなる。より好ましくは５～４５％の範囲である。
Ａｌ2Ｏ3はガラスの結晶化を抑制して安定化させるもので、ガラス中にモル％で０～１５％の範囲で含有させることが好ましい。１５％を超えるとガラス溶融が困難となる。より好ましくは０～１２％、さらに好ましくは５～１０％の範囲である。
ＴｉＯ2はガラスの耐熱性を向上させる成分であり、軟化点を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～２０％の範囲で含有させることが望ましい。２０％を超えるとガラス化が困難となる。より好ましくは０～１５％、さらに好ましくは５～１５％の範囲である。
ＺｒＯ2はガラスの耐熱性を向上させる成分であり、軟化点を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～１０％の範囲で含有させることが望ましい。１０％を超えるとガラス化が困難となる。より好ましくは０～８％、さらに好ましくは２～８％の範囲である。
Ｒ2Ｏ（Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選択される１種以上の合計）はガラスの軟化点を下げ、適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～４０％の範囲で含有させることが望ましい。４０％を超えると熱膨張係数が高くなり過ぎ、また、耐湿性も悪くなる。より好ましくは０～３５％、さらに好ましくは５～３０％の範囲である。
ＭｇＯは必須成分ではないが含有することでガラスの軟化点を下げ、適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～５５％の範囲で含有させる。５５％を超えると熱膨張係数が高くなり過ぎる。より好ましくは０～５０％、さらに好ましくは２０～４０％の範囲である。
ＣａＯは必須成分ではないが含有することでガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を下げ、ガラスに適度な流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～５５％の範囲で含有させる。５５％を超えると熱膨張係数が高くなり過ぎる。より好ましくは０～５０％、さらに好ましくは２０～４０％の範囲である。
ＳｒＯは必須成分ではないが含有することでガラスの耐久性を向上させ、かつ、軟化点を下げ、適度にガラスに流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～５５％の範囲で含有させる。５５％を超えると熱膨張係数が高くなり過ぎる。より好ましくは０～５０％の範囲である。
ＢａＯは必須成分ではないが含有することでガラスの軟化点を下げ、適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中にモル％で０～５５％の範囲で含有させる。５５％を超えると熱膨張係数が高くなり過ぎる。より好ましくは０～５０％の範囲である。
ＺｎＯはガラスの軟化点を下げ、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中に０～５５％の範囲で含有させる。５５％を超えるとガラスが不安定となり結晶を生じ易い。より好ましくは０～５０％、さらに好ましくは２０～５０％の範囲である。
上記組成範囲内において、金属元素と非金属元素の原子モル比（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが１．０未満とすることで安定なガラスを得ることができる。１．０以上だとガラス化しない。望ましくは０．９未満である。
この他にも、一般的な酸化物であるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＴｅＯ2などを上記性質を損なわない範囲で１％まで加えてもよい。
実質的にＰｂＯを含まないことにより、人体や環境に与える影響を皆無とすることができる。ここで、実質的にＰｂＯを含まないとは、ＰｂＯがガラス原料中に不純物として混入する程度の量を意味する。例えば、低融点ガラス中における０．３質量％以下の範囲であれば、先述した弊害、すなわち人体、環境に対する影響、絶縁特性等に与える影響は殆どなく、実質的にＰｂＯの影響を受けないことになる。
また、３０℃から３００℃の熱膨張係数が５０×１０-7／℃～２００×１０-7／℃、軟化点が４００℃以上７５０℃未満であることを特徴とする封着用無鉛着色ガラスである。軟化点が７５０℃を越えると構成する他材料の変形などの問題が発生する。好ましくは、４００℃以上７３０℃以下である。
本発明の封着用無鉛着色ガラスは、電子材料用基板、ディスプレイ用パネル、ディスプレイ用カバーフィルタに対して好適に使用出来る。
本発明の封着用無鉛着色ガラスは、粉末化して使用されることが多い。この粉末化されたガラスは、必要に応じてムライトやアルミナに代表される低膨張セラミックスフィラー等と混合され、次に有機オイルと混練してペースト化されるのが一般的である。
ガラス基板としては透明なガラス基板、特にソーダ石灰シリカ系ガラス、または、それに類似するガラス(高歪点ガラス)、あるいは、アルカリ分の少ない（又は殆ど無い）アルミノ石灰ホウ珪酸系ガラスが多用されている。
以下、実施例に基づき、説明する。
（低融点ガラス混合ペーストの作製）
Ｐ2Ｏ5源として正リン酸を、Ｆｅ2Ｏ3源として酸化鉄を、Ａｌ2Ｏ3源として酸化アルミニウムを、ＴｉＯ2源として酸化チタンを、ＺｒＯ2源として酸化ジルコニウムを、Ｌｉ2Ｏ源として炭酸リチウムを、Ｎａ2Ｏ源として炭酸ナトリウムを、Ｋ2Ｏ源として炭酸カリウムを、ＭｇＯ源として炭酸マグネシウムを、ＣａＯ源として炭酸カルシウムを、ＳｒＯ源として炭酸ストロンチウムを、ＢａＯ源として炭酸バリウムを、ＺｎＯ源として酸化亜鉛を使用し、これらを表の組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で１１００～１３００℃、１～２時間加熱溶融し、表１の実施例１～１２、表２の比較例１～４に示す組成のガラスを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
ガラスの一部は鋳型に流し込み、ブロック状とし、ガラス転移点以上に保持した電気炉内に移入して徐冷した。このようにして作製した各試料について軟化点、結晶化温度、耐湿性を評価した。
軟化点及び結晶化温度は、熱分析装置ＴＧ―ＤＴＡ（リガク（株）製）を用いて測定した。
なお、軟化点は、粘度係数η＝107.6 に達したときの温度とした。また、熱膨張係数（α×１０-7／℃）は、熱膨張計を用い、５℃/分で昇温したときの３０～３００℃での伸び量から求めた。
耐湿性は、ガラスブロックを粉砕し、ガラスパウダーとし、温度が約２５℃かつ湿度が約６０%の状態に放置し、１ヶ月経過後にガラス粉末の吸湿の有無（表中では○×で示す）を観察し、評価した。
（結果）
低融点ガラス組成および、各種試験結果を表に示す。
表１における実施例であるＮｏ．１～１２の各試料は、各組成及び（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが適切な範囲であるため、ガラス化し、耐湿性も良好で安定な着色ガラスが得られた。また、熱膨張係数及び軟化点も所望の範囲に入っていた。
これらに対して表２の比較例であるＮｏ．１～４の各試料は、各組成が適切な範囲でないため、ガラス化しない、または耐湿性が良くなかった。比較例２及び３の試料は、組成が適切な範囲であるものの、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが適切な範囲でないため、ガラス化しない。比較例４は、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐは適切な範囲であるためガラス化したものの、Ｆｅ2Ｏ3の範囲が適切でないため耐湿性が良くない。

Claims (7)

  1. 無鉛低融点ガラスにおいて、実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、
    Ｐ2Ｏ5を４０～８０、
    Ｆｅ2Ｏ3を５～５０、
    含むことを特徴とする封着用無鉛着色ガラス。
  2. モル％で表して、
    Ｒ2Ｏ（Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選択される１種以上の合計）を０～４０、
    Ａｌ2Ｏ3を０～１５、
    ＴｉＯ2を０～２０、
    ＺｒＯ2を０～１０、
    ＭｇＯを０～５５、
    ＣａＯを０～５５、
    ＳｒＯを０～５５、
    ＢａＯを０～５５、
    ＺｎＯを０～５５含むことを特徴とする請求項１に記載の封着用無鉛着色ガラス。
  3. 原子モル比で、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが１．０未満であることを特徴とする請求項１または２に記載の封着用無鉛着色ガラス。
  4. ３０℃から３００℃の熱膨張係数が５０×１０-7／℃～２００×１０-7／℃、軟化点が４００℃以上７５０℃未満であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか1項に記載の封着用無鉛着色ガラス。
  5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の無鉛低融点ガラスを使用していることを特徴とする電子材料用基板。
  6. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の無鉛低融点ガラスを使用していることを特徴とするディスプレイ用パネル。
  7. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の無鉛低融点ガラスを使用していることを特徴とするディスプレイ用カバーフィルタ。
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