WO2010092749A1 - 有機ｅｌディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents

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organic
color filter
counter electrode
transparent counter
laser
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PCT/JP2010/000337
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宮澤和利
中橋昭久
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パナソニック株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an organic EL display and a manufacturing method thereof.
  • organic EL displays are expected as next-generation flat display panels.
  • the organic EL display is self-luminous and has no viewing angle dependency, and has advantages such as high contrast, thinness, light weight, and low power consumption.
  • the organic EL element constituting the organic EL display basically has a pixel electrode and a counter electrode, and an organic layer disposed between the pixel electrode and the counter electrode.
  • the organic layer includes a light emitting layer containing phosphor molecules, an electron conductive thin film and a hole conductive thin film sandwiching the light emitting layer.
  • the method for manufacturing an organic EL display includes a step of laminating an organic layer or a thin film electrode having a thickness of several tens of nanometers. Although these lamination processes are performed in a clean room, foreign substances such as particles cannot be completely removed from the equipment for forming the organic layer and the surrounding environment. Accordingly, foreign matter may be mixed into the organic layer in the process of manufacturing the organic EL display.
  • a laser repair method is known as a method for stopping leakage of current through a foreign substance mixed in an organic layer.
  • the laser repair method is a method for preventing leakage of current through foreign matter by irradiating a portion of the organic layer in which foreign matter is mixed (hereinafter also referred to as “defect portion”) with laser light (for example, Patent Document 1). To 12).
  • Patent Document 1 describes a method in which a pixel electrode in a defective portion of an organic EL element having a color filter is irradiated with laser light to cause multiphoton absorption only on the pixel electrode. As a result, only the pixel electrode in the defective portion is destroyed (insulated) without destroying other members such as a color filter, and current leakage between the pixel electrode and the counter electrode through which foreign matter has passed can be suppressed. it can.
  • Patent Documents 2 to 5 disclose methods of preventing current leakage due to foreign matter by removing either the pixel electrode or the counter electrode in the defective portion by laser irradiation.
  • Patent Document 6 discloses a method of insulating an electrode in a defective portion by oxidizing the electrode in the defective portion by laser irradiation. By insulating the defective portion, current leakage due to foreign matter can be prevented.
  • Patent Documents 7 to 9 disclose a method of insulating a foreign substance in a defective portion by laser irradiation and preventing current leakage due to the foreign substance.
  • Patent Documents 10 to 12 disclose a laser repair device having a control unit and a beam generator. By irradiating the defect part in the organic EL display panel whose position is specified by the control part with the beam from the beam generator, the defect part can be insulated and repaired.
  • An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL display in which a decrease in luminance at a defective portion is suppressed.
  • the first of the present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display shown below.
  • the second aspect of the present invention relates to the organic EL display shown below.
  • An organic EL display having a substrate and organic EL elements arranged in a matrix on the substrate, wherein each of the organic EL elements includes a pixel electrode disposed on the substrate, and the pixel electrode
  • An organic layer disposed on the organic layer, a transparent counter electrode disposed on the organic layer, a protective layer disposed on the transparent counter electrode, and a color filter disposed on the protective layer.
  • the EL element has a defect in the organic layer, the region on the defect of the transparent counter electrode is destroyed, and the region on the defect in the color filter is removed.
  • Organic EL display having a substrate and organic EL elements arranged in a matrix on the substrate, wherein each of the organic EL elements includes a pixel electrode disposed on the substrate, and the pixel electrode
  • An organic layer disposed on the organic layer, a transparent counter electrode disposed on the organic layer, a protective layer disposed on the transparent counter electrode, and a color filter disposed on
  • the color filter on the non-light-emitting region is also removed, it is possible to suppress a decrease in luminance in the non-light-emitting region and suppress uneven luminance in the organic EL display. Yes (described later).
  • the figure which shows the transparent counter electrode destroyed by laser irradiation The figure which shows the state which the organic electroluminescent display of this invention light-emitted Sectional drawing of the organic light emitting element contained in the organic electroluminescent display of this invention
  • the manufacturing method of the organic EL display of the present invention is as follows: 1) First step of preparing an organic EL panel, 2) Defect in an organic layer in an organic EL element constituting the organic EL panel 3) a third step of irradiating a region on the defective portion of the transparent counter electrode with laser light through a color filter and destroying the transparent counter electrode in the irradiated region. Each step will be described in detail below.
  • an organic EL panel is prepared.
  • the organic EL panel prepared in the first step is a top emission type.
  • the organic EL panel has a substrate and organic EL elements arranged in a matrix on the substrate.
  • Each organic EL element includes a pixel electrode disposed on a substrate, an organic layer disposed on the pixel electrode, a transparent counter electrode disposed on the organic layer, and a protective layer disposed on the transparent counter electrode. And a color filter disposed on the protective layer.
  • the present invention is particularly effective when manufacturing a large-screen organic EL display.
  • foreign matter such as particles may be mixed in the organic layer, so that it is necessary to prevent current leakage through the defective portion according to the present invention.
  • the organic layer in the organic EL element may be formed by a vapor deposition method or a coating method. From the viewpoint of increasing the screen size of the organic EL display, it is preferable to form the organic layer by a coating method.
  • the coating method include ink jet, dispenser, nozzle coating, spin coating, intaglio printing, letterpress printing, and the like.
  • the organic layer is formed by a vapor deposition method, foreign substances such as particles may be mixed from the metal mask. Therefore, even when the organic layer is formed by a vapor deposition method, it is effective to prevent current leakage through the defect portion according to the present invention.
  • Organic EL elements included in an organic EL panel are manufactured by laminating electrodes and organic layer thin films. Each thin film is required to have a film thickness of several tens of nm.
  • the management of the manufacturing environment and the maintenance of the manufacturing equipment are usually performed, but foreign matter may be mixed in the organic layer (see FIG. 3).
  • defect portion a method for preventing current leakage through the organic layer region (hereinafter also referred to as “defect portion”) mixed with such foreign matter will be described.
  • a defective portion in which foreign matters such as particles are mixed in the organic layer in the organic EL element is detected.
  • the method for detecting the defective portion is not particularly limited, and there are a method by appearance inspection and a method for detecting leak light emission by applying a reverse bias voltage or a forward bias voltage to the organic EL display.
  • the region on the defective portion specified in the second step in the transparent counter electrode is irradiated with laser light through a color filter, and the region on the defective portion in the transparent counter electrode is destroyed (hereinafter simply referred to as “transparent”). This is also referred to as “destructing the counter electrode”.
  • irradiating the transparent counter electrode with laser means irradiating the transparent counter electrode with laser light while focusing.
  • “Destroy the transparent counter electrode” means to destroy the function of the transparent counter electrode (that is, to prevent current from flowing).
  • FIG. 1 shows a transparent counter electrode destroyed by laser irradiation.
  • 13 indicates a transparent counter electrode
  • 14 indicates an organic layer.
  • “destroy the transparent counter electrode” means that a space X is formed between the transparent counter electrode 13 and the organic layer 14 in the region irradiated with the laser beam (FIG. 1A) or the laser beam.
  • the transparent counter electrode 13 in the region irradiated with the laser beam is denatured to form a crack (FIG. 1B), or the transparent counter electrode 13 in the region irradiated with the laser beam is crushed (FIG. 1C), and the laser beam is transmitted through the defect portion. This means that no current flows through the transparent counter electrode 13 at the irradiated location.
  • the protective layer is provided on the transparent counter electrode, when the transparent counter electrode is broken, the fragments of the transparent counter electrode are not scattered. Therefore, the transparent counter electrode fragments generated by the destruction of the transparent counter electrode do not cause further defects of the organic EL display.
  • the irradiation area of the laser beam on the transparent counter electrode is preferably 20 to 50% larger than the area of the defect portion.
  • the irradiation area of the laser light can be adjusted by a slit installed in the laser.
  • the slit is a member for freely changing the size of the laser beam spot in the vertical and horizontal directions. By using the slit, the irradiation area of the laser beam can be appropriately adjusted according to the area of the defect portion.
  • the laser light source which emits the laser beam to irradiate is not specifically limited, For example, it is a flash lamp excitation Nd: YAG laser.
  • Nd YAG laser
  • the wavelength of the laser light can be selected from a fundamental wavelength of 1064 nm, a second harmonic of 532 nm, a third harmonic of 355 nm, and a fourth harmonic of 266 nm. .
  • the wavelength of the laser beam irradiated to the transparent counter electrode is not particularly limited, but is preferably 1100 nm or less, and particularly preferably 400 nm or less. That is, in the case of an Nd: YAG laser, the third harmonic or the fourth harmonic may be used. This is because when the wavelength is 400 nm or less, the influence on the organic layer under the transparent counter electrode is small.
  • the energy of the laser beam on the transparent counter electrode is selected according to the material and thickness of the transparent counter electrode. For example, when using a Nd: YAG laser to destroy a transparent counter electrode (transparent counter electrode material: ITO, transparent counter electrode thickness: 100 nm), it is necessary to consider the influence of the color filter described later on the laser light. Then, it is preferable that the wavelength of the laser beam is the third harmonic (355 nm), and the irradiation energy density of the laser is 0.05 to 0.15 J / cm 2 .
  • the region on the defective portion of the transparent counter electrode is destroyed and current leakage through the defective portion is prevented, so that the organic EL element is repaired without damaging the organic layer or the TFT. can do.
  • the manufacturing method of the organic EL display of the present invention further includes a step of removing a region on the defective portion of the organic layer detected in the second step of the color filter (hereinafter simply referred to as “removing the color filter”). It is characterized by that.
  • the step of removing the color filter (hereinafter also referred to as “filter removal step”) may be the same step as the third step described above (see the first embodiment), or a step different from the third step (implementation). (See Forms 2 and 3).
  • the transparent counter electrode is destroyed and the color filter is also removed simultaneously by the laser light irradiation.
  • the filter removal in the filter removal step is performed by irradiating a region on the defective portion of the color filter with laser light.
  • the filter removal step may be before or after the third step, but is preferably before the third step.
  • irradiating a color filter with laser light means that the color filter is focused and irradiated with laser light.
  • removing the color filter means that the color filter in the region irradiated with the laser light is completely removed to form a through mark in the color filter (see Embodiments 1 and 2).
  • the surface of the color filter in the region irradiated with the laser light may be partially removed to make the color filter thinner (see Embodiment 3).
  • the color filter thinner, for example, it is sufficient to irradiate a laser beam having a wavelength that easily passes through the color filter or to lower the irradiation energy density of the laser, compared to the case of forming a through mark in the color filter.
  • the irradiation area of the laser beam on the color filter is preferably 30 to 60% larger than the area of the defective part.
  • the wavelength of the laser light applied to the transparent counter electrode in the third step is when the filter removal step is the same step as the third step (see Embodiment 1) or when the filter removal step is a step different from the third step (implementation). 2) and 3)).
  • the wavelength of the laser beam irradiated to the transparent counter electrode for each case will be described.
  • the filter removal step and the third step are the same step
  • the laser light applied to the transparent counter electrode has a wavelength that does not pass through the color filter. Is preferred. This is because when the filter removal step and the third step are the same step, a part of the laser light irradiated to the transparent counter electrode needs to be absorbed by the color filter.
  • the color filter has different light transmittance depending on its color. For example, a red color filter has a high transmittance of light having a wavelength of 600 nm or more; a green color filter has a high transmittance of light having a wavelength of 480 to 580 nm and a wavelength of 790 nm or more; a blue color filter has a wavelength of 430 to 500 nm and The transmittance of light of 850 nm or more is high.
  • the wavelength of the laser beam when the color filter on the defect portion is red, the wavelength of the laser beam is set to less than 600 nm; when the color filter on the defect portion is green, the wavelength of the laser beam is set to less than 480 nm or more than 580 nm to less than 790 nm.
  • the wavelength of the laser light may be set to less than 430 nm or more than 500 nm to less than 850 nm.
  • the laser light is transparent without affecting the color filter. Since it is required to destroy the counter electrode, it preferably has a wavelength that transmits the color filter. Therefore, when the color filter on the defective portion is red, the wavelength of the laser beam is set to 600 nm or more; when the color filter on the defective portion is green, the wavelength of the laser beam is set to 480 to 580 nm or 790 nm or more. However, when the color filter on the defective portion is blue, the wavelength of the laser beam may be set to 430 to 500 nm or 850 nm or more.
  • the wavelength of the laser beam can be arbitrarily set.
  • the wavelength of the laser light is preferably set to 400 nm or less, which has little influence on the organic layer.
  • the defective portion can be made a non-light emitting region without damaging the organic layer, power consumption is reduced and luminous efficiency is increased. Further, since the color filter on the defective portion is removed, the luminance of the non-light emitting region is increased, and the luminance unevenness in the organic EL display can be reduced.
  • the organic EL display of the present invention is an organic EL display manufactured by the above-described method for manufacturing an organic EL display of the present invention.
  • the organic EL display of the present invention is a top emission type, and has a substrate and organic EL elements arranged in a matrix on the substrate.
  • An organic EL element includes a pixel electrode disposed on a substrate, an organic layer disposed on the pixel electrode, a transparent counter electrode disposed on the organic layer, a protective layer disposed on the transparent counter electrode, and a protective layer. It has a color filter arranged. Further, a sealing glass may be further disposed on the color filter.
  • the substrate is an insulating plate. Further, a thin film transistor (TFT) may be built in the substrate.
  • TFT thin film transistor
  • the pixel electrode is a conductive member disposed on the substrate.
  • the pixel electrode normally functions as an anode, but may function as a cathode.
  • the pixel electrode preferably has light reflectivity. Examples of such pixel electrode materials include APC alloys (silver, palladium, copper alloys), ARA (silver, rubidium, gold alloys), MoCr (molybdenum and chromium alloys), NiCr (nickel and chromium alloys). Alloy) and the like.
  • the pixel electrode may be connected to the source electrode or drain electrode of the TFT through a contact hole.
  • the organic layer has an organic light emitting layer containing an organic light emitting material.
  • the organic light emitting material contained in the organic light emitting layer is preferably a polymer organic light emitting material that can be formed by a coating method.
  • the polymeric organic light-emitting material include polyphenylene vinylene and derivatives thereof, polyacetylene and derivatives thereof, polyphenylene and derivatives thereof, polyparaphenylene ethylene and derivatives thereof, poly 3-hexylthiophene and derivatives thereof, polyfluorene and derivatives thereof, and the like. included.
  • the organic light emitting layer emits red, green or blue light depending on the arrangement position of the organic EL element.
  • the organic layer may further have a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and the like.
  • the transparent counter electrode is a conductive transparent member disposed on the organic layer.
  • the counter electrode normally functions as a cathode, but may function as an anode. Examples of such transparent counter electrode materials include ITO and IZO.
  • the thickness of the transparent counter electrode is about 100 nm.
  • the organic EL display of the present invention is characterized in that a region on the defective portion of the organic layer in the transparent counter electrode is selectively destroyed.
  • the protective layer is a member for protecting the organic layer from water and oxygen.
  • Examples of the material of the protective layer include inorganic substances such as silicon nitride (SiNx) and organic substances such as UV curable resins.
  • the color of the color filter is appropriately selected depending on the color emitted by the organic EL element. Specifically, an organic EL element having an organic layer that emits red light has a red color filter, an organic EL element having an organic layer that emits green light has a green color filter, and blue The organic EL element having the organic layer that emits the light has a blue color filter.
  • the material of the color filter is, for example, a color resist.
  • the thickness of the color filter is about 1 ⁇ m.
  • the organic EL display of the present invention is characterized in that a region on the defective portion of the organic layer is selectively removed from the color filter.
  • the region on the defective portion of the color filter is removed, a decrease in luminance of the defective portion (non-light emitting region) can be suppressed.
  • the relationship between the removal of the color filter and the suppression of the decrease in the luminance of the non-light emitting region will be described with reference to the drawings.
  • FIG. 2 shows an organic EL element 100 that is included in the organic EL display of the present invention and has a defective portion.
  • the organic EL element 100 includes a substrate 16, a pixel electrode 15, an organic layer 14, a transparent counter electrode 13, a protective layer 12, a color filter 11, and a sealing glass 10.
  • the foreign material 21 is mixed in the organic layer 14.
  • the region of the organic layer 14 mixed with the foreign matter 21 constitutes the defect portion 101.
  • An arrow 50 in FIG. 2 indicates light emitted from the organic layer 14.
  • the defect portion 101 since the defect portion 101 is a non-light emitting region, the defect portion 101 does not emit light as shown in FIG. However, the light emitted from the organic layer 14 around the defect portion 101 is diffused into the region on the defect portion 101. For this reason, light can be extracted also from the defect portion 101 which is a non-light emitting region. Furthermore, in the present invention, since the color filter 11 on the defect portion 101 is removed, the light diffused in the region on the defect portion 101 does not pass through the color filter 11. For this reason, the light diffused in the region on the defective portion 101 is emitted outside without being attenuated by the color filter 11. Therefore, even if the defect portion 101 is a non-light emitting region, light diffused from the organic layer 14 around the defect portion 101 can be extracted from the defect portion 101 without being attenuated. Can be prevented from decreasing.
  • FIG. 3A is a diagram showing an organic EL element 100 having a defect portion detected by a second step (step of detecting a defect portion in an organic layer in the organic EL element) in the manufacturing method of the present invention.
  • 3A includes a substrate 16, a pixel electrode 15, an organic layer 14, a transparent counter electrode 13, a protective layer 12, a color filter 11, and a sealing glass 10.
  • the organic layer 14 has the foreign matter 21, and the region of the organic layer in which the foreign matter 21 is mixed constitutes the defect portion 101.
  • the organic EL display of the present invention also includes an organic EL element 103 having no defect as shown in FIG. 3B.
  • FIG. 4 shows the third step and the filter removal step in the first embodiment.
  • the laser device 200 used in the third step and the filter removal step includes a laser light source 31, a slit 33, and a focusing lens 34.
  • the laser beam is focused through the color filter 11 in the region on the defective portion 101 of the transparent counter electrode 13 while focusing on the transparent counter electrode 13. 32 is irradiated.
  • the wavelength of the laser beam 32 to be irradiated and the irradiation energy density of the laser are focused on the transparent counter electrode 13 and when the transparent counter electrode 13 is irradiated with the laser beam 32, the transparent counter electrode 13 is destroyed and the color filter 11 Adjustments may be made so that removal occurs simultaneously.
  • the wavelength of the laser light 32 is set to 532 nm (second harmonic), and the laser on the transparent counter electrode 13 is used.
  • the color filter 11 is green, the wavelength of the laser beam 32 is set to 355 nm (third harmonic), and the irradiation energy of the laser on the transparent counter electrode 13 is set to be higher than 0.7 J / cm 2.
  • the density may be 0.41 J / cm 2 or more; when the color filter is blue, the wavelength of the laser light 32 is set to 355 nm, and the irradiation energy density of the laser on the transparent counter electrode 13 is higher than 0.41 J / cm 2. and, or the wavelength of the laser beam 32 and 532 nm, the laser irradiation energy density on transparent counter electrode 13 0.63J / cm 2 or more and It may be Re.
  • the penetration mark 35 can be formed in the color filter 11 and the transparent counter electrode destruction part 36 can be formed.
  • the organic EL element can be repaired without damaging the organic layer and the TFT.
  • the region on the defective portion of the color filter it is possible to suppress a decrease in luminance of the defective portion (non-light emitting region), and it is possible to manufacture an organic EL display having no luminance unevenness.
  • the removal of the color filter and the destruction of the transparent counter electrode can be performed in the same step, so that the organic EL element can be repaired in a shorter time.
  • FIG. 5A is a diagram showing a filter removal step in the second embodiment
  • FIG. 5B is a diagram showing a third step in the second embodiment.
  • the laser light 32 is focused on the color filter 11, and the laser light 32 is irradiated onto the area of the color filter 11 on the defective portion 101. Then, a region on the defective portion 101 of the color filter 11 is removed to form a through mark 35. The color filter 11 is irradiated with laser light 32 having a wavelength that does not pass through the color filter.
  • the wavelength of the laser light 32 is set to 532 nm (second harmonic), and the laser on the color filter 11 is The irradiation energy density is 0.48 J / cm 2 or more, or the wavelength of the laser light 32 is 355 nm (third harmonic), and the irradiation energy density of the laser on the color filter 11 is 0.32 J / cm 2 or more.
  • the wavelength of the laser beam 32 may be 355 nm (third harmonic), and the irradiation energy density of the laser on the color filter 11 may be 0.32 J / cm 2 or more;
  • the wavelength of the laser beam 32 is set to 532 nm (second harmonic), and the laser irradiation energy on the color filter 11 is set.
  • the rugi density is set to 0.48 J / cm 2 or more, or the wavelength of the laser beam 32 is set to 355 nm (third harmonic), and the irradiation energy density of the laser on the color filter 11 is set to 0.13 J / cm 2 or more. That's fine.
  • the laser beam 32 is focused on the transparent counter electrode 13, and the region of the transparent counter electrode 13 on the defect portion 101 is irradiated with the laser beam 32 to destroy the transparent counter electrode 13 ( FIG. 5B).
  • the condition of the laser beam 32 is changed to the transparent counter electrode 13 without considering the influence of the color filter 11. It is possible to set conditions more suitable for destruction.
  • the laser light source 31 is a flash lamp-excited Nd: YAG laser
  • the wavelength of the laser light 32 is 355 nm
  • the irradiation energy density of the laser on the transparent counter electrode 13 is 0.05 to 0.15 J / cm 2 . do it.
  • the area of the removed color filter may be increased.
  • the area of the removed color filter is too large with respect to the non-light-emitting region, the proportion of light that does not pass through the color filter increases, which may affect the color reproducibility of the organic EL display.
  • the removal of the color filter and the destruction of the transparent counter electrode are performed in separate steps as in this embodiment, it is easy to appropriately select the area of the color filter to be removed. The influence on reproducibility can be suppressed.
  • FIG. 6A is a diagram showing a filter removal step in the third embodiment
  • FIG. 6B is a diagram showing a third step in the third embodiment.
  • the laser light 32 is focused on the color filter 11, and the region of the color filter 11 on the defective portion 101 is irradiated with the laser light 32.
  • the area 40 on the defective portion 101 of the color filter 11 is removed, and the color filter 11 in the area 40 is thinned.
  • the present embodiment is characterized in that the wavelength of the laser light 32 or the irradiation energy density of the laser is adjusted so that the color filter 11 irradiated with the laser light 32 is not completely removed.
  • the laser light 32 is focused on the transparent counter electrode 13, and the region of the transparent counter electrode 13 on the defect portion 101 is irradiated with the laser light 32 to destroy the transparent counter electrode 13.
  • the third step of the present embodiment is characterized in that the laser light 32 is adjusted so as not to further remove the color filter 11 that has become thinner in the filter removal step. Therefore, the wavelength of the laser beam 32 in the third step is adjusted so as to pass through the color filter 11.
  • the laser light source 31 is a flash lamp-excited Nd: YAG laser
  • the wavelength of the laser light 32 is 1064 nm, which is the fundamental wavelength
  • the irradiation energy density of the laser on the transparent counter electrode 13 is 0.42 J / cm 2 or less. It is preferable that
  • FIG. 7 shows the third step and the filter removal step of the fourth embodiment.
  • the transparent counter electrode 13 is focused, the region of the transparent counter electrode 13 on the defect portion 101 is irradiated with the laser beam 32, and the color filter 11 The region on the defective portion 101 is removed, and the region on the defective portion 101 in the transparent counter electrode 13 is destroyed.
  • the wavelength of the laser beam 32 to be irradiated and the irradiation energy density of the laser are adjusted so that when the laser beam 32 is focused and irradiated with the laser beam 32, the transparent counter electrode is destroyed and the color filter is removed simultaneously. Good.
  • the laser beam 32 passes through the protective layer 12 between the color filter 11 and the transparent counter electrode 13.
  • minute bubbles 41 are generated in the protective layer 12.
  • the minute bubbles 41 formed in the protective layer 12 can scatter light on the outer periphery of the defect portion 101 and improve the luminance of the defect portion 101.
  • the luminance of the defective portion can be further improved, so that an organic EL display with less luminance unevenness can be obtained.
  • Example 1 Preparation of Organic EL Element
  • a pixel electrode 15, a hole injection layer 17, a hole transport layer 18, an organic light emitting layer 14, an electron transport layer 19 and a transparent film having a thickness of 100 nm are formed on a glass substrate 16.
  • An organic EL element in which the counter electrode 13 (ITO) was laminated was prepared.
  • the glass plate 20 and the red, green, or blue color filter 11 are arranged on the prepared organic EL elements, and three types of organic EL elements having different color filters are prepared.
  • the material of the color filter 11 is a color resist, and the thickness of the color filter is 1 ⁇ m.
  • each prepared organic EL element is irradiated with a laser beam with a wavelength of 1064 nm at a laser irradiation energy density of 0.42 to 4.5 J / cm 2 , and a laser beam with a wavelength of 532 nm is emitted from the laser.
  • Irradiation was performed at an irradiation energy density of 0.06 to 0.71 J / cm 2 , and laser light having a wavelength of 355 nm was irradiated at a laser irradiation energy density of 0.05 to 0.41 J / cm 2 .
  • AGT-2000RT (YAG laser, manufactured by AGT Co., Ltd.) was used as the laser device.
  • the irradiation area port of the laser beam on the transparent counter electrode was 20 ⁇ m, and the pulse width was 3 to 5 ns.
  • Laser irradiation was performed by a single shot.
  • FIG. 9 is a table showing the influence on each color filter (CF) and transparent counter electrode (ITO) by laser light irradiation.
  • Laser light having a wavelength of 532 nm can remove the red color filter, and the laser irradiation energy density of 0.56 J / cm 2 or more can be used for the blue color filter. Although it can be removed, it did not affect the green color filter. Further, the laser beam having a wavelength of 532 nm could not sufficiently destroy ITO when the color filter was red. This is presumably because the laser beam having a wavelength of 532 nm was absorbed by the red color filter and the energy of the laser beam was attenuated. Therefore, when the color filter is red and the ITO is destroyed with a laser beam having a wavelength of 532 nm, it is necessary to increase the irradiation energy density of the laser beam beyond 0.63 J / cm 2 .
  • Laser light with a wavelength of 355 nm can remove the blue color filter, and the laser irradiation energy density of 0.41 J / cm 2 removes the green color filter. But did not affect the red color filter. Laser light with a wavelength of 355 nm could not destroy ITO when the color filter was blue. This is presumably because the laser light having a wavelength of 355 nm was absorbed by the blue color filter and the energy of the laser light was attenuated. Therefore, when the color filter is blue and the ITO is destroyed with a laser beam having a wavelength of 355 nm, it is necessary to increase the irradiation energy density of the laser beam to more than 0.25 J / cm 2 .
  • Example 2 Preparation of Organic EL Element
  • a pixel electrode 15, a hole injection layer 17, a hole transport layer 18, an organic light emitting layer 14, an electron transport layer 19 and a transparent film having a thickness of 100 nm are formed on a glass substrate 16.
  • An organic EL element having a counter electrode 13 (ITO) laminated thereon was prepared. In this example, no color filter was stacked on the organic EL element.
  • ITO counter electrode 13
  • the transparent counter electrode of the prepared organic EL element is irradiated with a laser beam having a wavelength of 1064 nm at a laser irradiation energy density of 0.42 to 4.5 J / cm 2 , and a laser beam having a wavelength of 532 nm is irradiated with the laser.
  • Irradiation was performed at a density of 0.06 to 0.71 J / cm 2
  • laser light having a wavelength of 355 nm was irradiated at a laser irradiation energy density of 0.05 to 0.41 J / cm 2 .
  • AGT-2000RT (YAG laser, manufactured by AGT Co., Ltd.) was used as the laser device.
  • the irradiation area port of the laser beam on the transparent counter electrode was 20 ⁇ m, and the pulse width was 3 n to 5 n seconds.
  • Laser irradiation was performed by a single shot.
  • the laser beams with wavelengths of 532 nm and 1064 nm also damaged the organic layer which is the underlayer of the transparent counter electrode (ITO).
  • the laser beam having a wavelength of 355 nm destroyed the transparent counter electrode, but did not damage the organic layer as the underlying layer. This indicates that it is preferable to use the third harmonic laser beam of the YAG laser when there is no color filter on the transparent counter electrode that irradiates the laser beam.
  • an organic EL display of the present invention since the region on the defective portion of the color filter is also removed, it is possible to suppress a decrease in luminance of the non-light emitting portion (defective portion). For this reason, an organic EL display excellent in image quality can be provided with a high yield.
  • the present invention can also be applied to the manufacture of other light-emitting devices using color filters.

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Abstract

　基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬパネルを準備するステップであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された保護層および前記保護層上に配置されたカラーフィルタを有し、前記有機ＥＬ素子内の前記有機層に存在する欠陥部を検出するステップ、前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域に、前記カラーフィルタを通してレーザ光を照射し、前記領域の透明対向電極を破壊するステップ、および前記カラーフィルタのうち、前記欠陥部上の領域を除去するステップ、を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法。

Description

有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法
　本発明は、有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法に関する。
　近年、次世代のフラットディスプレイパネルとして、有機ＥＬディスプレイが期待されている。有機ＥＬディスプレイは、自発光で視野角依存性が無く、高コントラスト、薄型、軽量、低消費電力を実現できるといったメリットを有する。
　有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子は、基本的に、画素電極および対向電極と、画素電極および対向電極との間に配置された有機層を有する。有機層は、蛍光体分子を含む発光層と、発光層を挟む電子伝導性の薄膜およびホール伝導性の薄膜とからなる。電子伝導性の薄膜に電子を注入する対向電極とホール伝導性の薄膜にホールを注入する画素電極との間に電圧を印加したとき、画素電極からホールが注入され、対向電極から電子が注入され、発光層内で電子とホールが結合し、発光層が発光する。
　有機ＥＬディスプレイの製造方法は、厚さ数１０ｎｍの有機層や薄膜電極を積層する工程を有する。これらの積層工程は、クリーンルーム内で行われているが、有機層を形成するための機材や周辺環境からパーティクルなどの異物を完全に除去することはできない。したがって、有機ＥＬディスプレイを製造する過程で有機層に異物が混入してしまうことがある。
　有機層中に異物が混入した場合、画素電極と対向電極との間に電圧を印加すると、異物を通して電流が電極間をリークしてしまう。電流がリークすると有機ＥＬディスプレイの発光効率が低下し、消費電力の上昇につながる。また、異物が存在する画素においては、異物による電流リークにより、その画素における有機層（発光層）に流れる電流量が減少する。そのため、その画素全体における発光層の輝度が低下する。さらには、異物が存在する画素があると、有機ＥＬディスプレイにおける輝度ムラが引き起こされる。
　有機層に混入した異物を通した電流のリークを停止させるための方法として、レーザリペア法が知られている。レーザリペア法とは、有機層の異物が混入した部分（以下「欠陥部」とも称する）にレーザ光を照射することで、異物を通した電流のリークを防止する方法である（例えば特許文献１～１２参照）。
　特許文献１には、カラーフィルタを有する有機ＥＬ素子の欠陥部における画素電極にレーザ光を照射し、画素電極のみに多光子吸収を生じさせる方法が記載されている。これにより、カラーフィルタなどの他の部材は破壊せずに、欠陥部における画素電極のみを破壊（絶縁化）し、異物を通した画素電極と対向電極との間の電流のリークを抑えることができる。
　特許文献２～５には、欠陥部における画素電極または対向電極のいずれか一方を、レーザ照射によって除去することで、異物による電流のリークを防止する方法が開示されている。
　特許文献６には、欠陥部における電極をレーザ照射によって酸化させることで欠陥部における電極を絶縁化する方法が開示されている。欠陥部を絶縁化することで、異物による電流のリークを防止することができる。
　特許文献７～９には、レーザ照射によって欠陥部の異物自体を絶縁化し、異物による電流のリークを防止する方法が開示されている。
　特許文献１０～１２には、制御部およびビーム発生器を有するレーザリペア装置が開示されている。制御部によって位置が特定された有機ＥＬディスプレイパネルにおける欠陥部に、ビーム発生器からのビームを照射することで、欠陥部を絶縁し、修復することができる。
特開２００８－２３５１７８号公報 特開２００９－１６１９５号公報 特開２００１－１７６６７２号公報 特開２００６－２７８３４３号公報 米国特許出願公開第２００４／００７０３３６号公報 特開２００２－２６０８５７号公報 特開２００４－２２７８５２号公報 特開２００３－１７８８７１号公報 米国特許出願公開第２００２／０１４２６９７号公報 米国特許出願公開第２００６／００１７３９５号公報 米国特許出願公開第２００６／００２８２１７号公報 米国特許出願公開第２００６／００７６５５５号公報
　しかしながら、ダークスポットとなる欠陥部（非発光領域）と発光領域との輝度差が大きいと、有機ＥＬディスプレイの画質の低下を招くおそれがある。特に、本発明者は、特許文献１に記載されたように、欠陥部上にカラーフィルタが残存していると、欠陥部（非発光領域）と発光領域との輝度差がさらに顕著になることを見出した。
　本発明は、欠陥部における輝度の低下を抑えた有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者は、欠陥部上のカラーフィルタを除去すれば、欠陥部（非発光領域）での輝度の低下を抑制できることを見出し、さらに検討を加え発明を完成させた。すなわち本発明の第１は、以下に示す有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する。
　［１］基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬパネルを準備するステップであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された保護層および前記保護層上に配置されたカラーフィルタを有し、前記有機ＥＬ素子内の前記有機層に存在する欠陥部を検出するステップ、前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域に、前記カラーフィルタを通してレーザ光を照射し、前記領域の透明対向電極を破壊するステップ、および前記カラーフィルタのうち、前記欠陥部上の領域を除去するステップ、を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［２］前記照射するレーザ光の波長は、４００ｎｍ以下である、［１］に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［３］前記カラーフィルタを除去するステップと、前記透明対向電極を破壊するステップとは、同一ステップである、［１］または［２］に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［４］前記カラーフィルタを除去するステップと、前記透明対向電極を破壊するステップとは、異なるステップであり、前記カラーフィルタの除去は、前記カラーフィルタのうち前記欠陥部上の領域へのレーザ光の照射により行われる、［１］または［２］に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［５］前記カラーフィルタを除去するステップにおいて、前記カラーフィルタに貫通痕を形成する、［１］～［４］のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［６］前記カラーフィルタを除去するステップにおいて、前記カラーフィルタを薄くする、［１］～［４］のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　［７］前記レーザ光の照射により、前記保護層内に微小な気泡を形成する、［１］～［６］のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
　本発明の第２は以下に示す有機ＥＬディスプレイに関する。
　［８］基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された保護層および前記保護層上に配置されたカラーフィルタを有し、少なくとも一つの前記有機ＥＬ素子は、前記有機層に欠陥部を有し、前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域は破壊されており、前記カラーフィルタのうち前記欠陥部上の領域は除去されている、有機ＥＬディスプレイ。
　本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、非発光領域上のカラーフィルタも除去することから、非発光領域の輝度の低下を抑えることができ、有機ＥＬディスプレイにおける輝度のムラを抑えることができる（後述）。
レーザ照射によって破壊された透明対向電極を示す図 本発明の有機ＥＬディスプレイが発光した状態を示す図 本発明の有機ＥＬディスプレイに含まれる有機発光素子の断面図 実施の形態１の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一部を示す図 実施の形態２の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一部を示す図 実施の形態３の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一部を示す図 実施の形態４の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一部を示す図 実施例で準備した有機ＥＬ素子 実施例１の結果を示す表
　１．本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法
　本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、１）有機ＥＬパネルを準備する第１ステップ、２）有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子内の有機層における欠陥部を検出する第２ステップ、３）透明対向電極のうち欠陥部上の領域に、カラーフィルタを通してレーザ光を照射し、照射した領域の透明対向電極を破壊する第３ステップを有する。以下それぞれのステップについて詳細に説明する。
　１）第１ステップでは、有機ＥＬパネルを準備する。第１ステップで準備する有機ＥＬパネルは、トップエミッション型である。有機ＥＬパネルは、基板および基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する。それぞれの有機ＥＬ素子は、基板上に配置された画素電極と、画素電極上に配置された有機層と、有機層上に配置された透明対向電極と、透明対向電極上に配置された保護層と、保護層上に配置されたカラーフィルタと、を有する。
　本発明は、特に大画面の有機ＥＬディスプレイを製造する場合に効果を発揮する。大画面の有機ＥＬディスプレイを製造する場合、有機層内にパーティクルなどの異物が混入する恐れがあることから、本発明によって欠陥部を通した電流のリークを防止する必要が大きい。
　また、有機ＥＬ素子における有機層は、蒸着法で形成されても、塗布法で形成されてもよい。有機ＥＬディスプレイの大画面化の観点からは、有機層を塗布法で形成することが好ましい。塗布法の例には、インクジェット、ディスペンサー、ノズルコート、スピンコート、凹版印刷、凸版印刷などが含まれる。一方、有機層を蒸着法で形成した場合、メタルマスクからパーティクルなどの異物が混入する恐れがある。したがって、有機層を蒸着法で形成する場合であっても、本発明によって欠陥部を通した電流のリークを防止することが有効である。
　有機ＥＬパネルに含まれる有機ＥＬ素子は、電極および有機層の薄膜を積層することで製造される。それぞれの薄膜には、数１０ｎｍレベルの膜厚の管理が要求される。有機ＥＬ素子の製造の際には、通常、製造環境の管理や製造設備のメンテナンスが実施されているが、有機層内に異物が混入してしまうことがある（図３参照）。
　以下の第２ステップおよび第３ステップでは、このような異物が混入した有機層の領域（以下「欠陥部」とも称する）を通した電流のリークを防止する方法について説明する。
　２）第２ステップでは、有機ＥＬ素子内の有機層にパーティクルなどの異物が混入した欠陥部（図３参照）を検出する。欠陥部を検出する方法は、特に限定されないが、外観検査による方法や、有機ＥＬディスプレイに逆バイアスまたは順バイアスの電圧を印加し、リーク発光を検出する方法がある。
　３）第３ステップでは、透明対向電極のうち第２ステップで特定した欠陥部上の領域にカラーフィルタを通してレーザ光を照射し、透明対向電極のうち欠陥部上の領域を破壊（以下単に「透明対向電極を破壊」とも称する）する。ここで、「透明対向電極にレーザを照射する」とは、透明対向電極に焦点を合わせてレーザ光を照射することを意味する。また、「透明対向電極を破壊する」とは、透明対向電極の機能を破壊すること（つまり電流が流れないようにすること）を意味する。
　図１は、レーザ照射によって破壊された透明対向電極を示す。図１では１３は透明対向電極を示し、１４は有機層を示す。図１に示されるように「透明対向電極を破壊する」とは、レーザ光を照射した領域の透明対向電極１３と有機層１４との間に空間Ｘを形成するか（図１Ａ）、レーザ光を照射した領域の透明対向電極１３を変性させ、クラックを形成するか（図１Ｂ）、レーザ光を照射した領域の透明対向電極１３を破砕して（図１Ｃ）、欠陥部を通じて、レーザ光を照射した箇所の透明対向電極１３に電流が流れないようにすることを意味する。
　また、本発明では、透明対向電極上に保護層を設けていることから、透明対向電極を破壊した際に、透明対向電極の破片が飛散することはない。したがって、透明対向電極の破壊によって生じた透明対向電極の破片が、有機ＥＬディスプレイのさらなる不良の原因となることはない。
　透明対向電極のうち欠陥部上の領域を破壊することで、欠陥部を通した電流のリークが防止され、欠陥部が非発光領域となるが、有機ＥＬ素子としての機能は修復される。
　透明対向電極上のレーザ光の照射面積は、欠陥部の面積よりも２０～５０％大きいことが好ましい。レーザ光の照射面積は、レーザに設置されたスリットなどによって調節されることができる。スリットとは、レーザ光のスポットのサイズを縦方向、横方向自由に変えるための部材である。スリットを用いることで、欠陥部の面積に応じて、レーザ光の照射面積を適宜調節することができる。
　照射するレーザ光を発するレーザ光源は、特に限定されないが、例えば、フラッシュランプ励起Ｎｄ:ＹＡＧレーザである。Ｎｄ:ＹＡＧレーザを用いた場合、レーザ光の波長を、基本波長である１０６４ｎｍ、第二高調波である５３２ｎｍ、第三高調波である３５５ｎｍ、第四高調波である２６６ｎｍから選択することができる。
　透明対向電極に照射するレーザ光の波長は特に限定されないが、１１００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが特に好ましい。つまりＮｄ：ＹＡＧレーザであれば、第三高調波または第四高調波を用いればよい。波長が４００ｎｍ以下である場合、透明対向電極の下にある有機層に与える影響が少ないからである。
　透明対向電極上のレーザ光のエネルギ（レーザの照射エネルギ密度）は、透明対向電極の材料や厚さなどよって選択される。例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザを用いて、透明対向電極（透明対向電極の材料：ＩＴＯ、透明対向電極の厚さ：１００ｎｍ）を破壊する場合、後述するカラーフィルタによるレーザ光への影響を考慮しないとすると、レーザ光の波長を第三高調波（３５５ｎｍ）とし、レーザの照射エネルギ密度を、０．０５～０．１５Ｊ／ｃｍ２とすることが好ましい。
　このように本発明では、透明対向電極のうち欠陥部上の領域を破壊して、欠陥部を通した電流のリークを防止するので、有機層やＴＦＴにダメージを与えることなく有機ＥＬ素子を修復することができる。
　本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、さらにカラーフィルタのうち第２ステップで検出された有機層の欠陥部上の領域を除去する（以下単に「カラーフィルタを除去する」とも称する）ステップを有することを特徴とする。カラーフィルタを除去するステップ（以下「フィルタ除去ステップ」とも称する）は、上述した第３ステップと同一ステップであってもよいし（実施の形態１参照）、第３ステップとは異なるステップ（実施の形態２および３参照）であってもよい。
　フィルタ除去ステップと第３ステップとが同一ステップである場合、レーザ光の照射によって、透明対向電極を破壊すると同時にカラーフィルタも除去する。
　一方、フィルタ除去ステップと第３ステップとが異なるステップである場合、フィルタ除去ステップにおけるフィルタの除去は、カラーフィルタのうち欠陥部上の領域にレーザ光を照射することにより行われる。フィルタ除去ステップと第３ステップとが異なるステップである場合、フィルタ除去ステップは、第３ステップの前であっても後であってもよいが、第３ステップの前であることが好ましい。ここで、「カラーフィルタにレーザ光を照射する」とは、カラーフィルタに焦点を合わせてレーザ光を照射することを意味する。
　ここで、「カラーフィルタを除去する」とは、レーザ光を照射した領域のカラーフィルタを完全に除去し、カラーフィルタに貫通痕を形成すること（実施の形態１および２参照）を意味してもよいし、およびレーザ光を照射した領域のカラーフィルタの表面を部分的に除去し、カラーフィルタを薄くすること（実施の形態３参照）を意味してもよい。
　カラーフィルタを薄くするには、例えば、カラーフィルタに貫通痕を形成する場合よりも、カラーフィルタを透過しやすい波長のレーザ光を照射したり、レーザの照射エネルギ密度を低下させたりすればよい。
　カラーフィルタ上のレーザ光の照射面積は、欠陥部の面積よりも３０～６０％大きいことが好ましい。
　このように本発明では、カラーフィルタのうち、欠陥部上の領域を除去することで、欠陥部（非発光領域）の輝度の低下を抑えることができる。カラーフィルタを除去することと、非発光領域の輝度の低下を抑えることとの関係は、後述する「２．本発明の有機ＥＬディスプレイ」の説明において詳細に説明する。
　第３ステップで透明対向電極に照射するレーザ光の波長は、フィルタ除去ステップが、第３ステップと同一ステップである場合（実施の形態１参照）と、第３ステップと異なるステップである場合（実施の形態２および３参照）とで異なる。以下、場合ごとに透明対向電極に照射するレーザ光の波長について説明する。
　（１）フィルタ除去ステップと第３ステップとが同一ステップである場合
　フィルタ除去ステップと第３ステップとが同一ステップである場合、透明対向電極に照射するレーザ光はカラーフィルタを透過しない波長を有することが好ましい。フィルタ除去ステップと第３ステップとが同一ステップである場合、透明対向電極に照射されるレーザ光の一部がカラーフィルタにも吸収される必要があるからである。
　カラーフィルタはその色によって光の透過率が異なる。例えば赤色のカラーフィルタは、波長６００ｎｍ以上の光の透過率が高く；緑色のカラーフィルタは、波長４８０～５８０ｎｍおよび７９０ｎｍ以上の光の透過率が高く；青色のカラーフィルタは、波長４３０～５００ｎｍおよび８５０ｎｍ以上の光の透過率が高い。したがって、欠陥部上のカラーフィルタが赤色の場合、レーザ光の波長を、６００ｎｍ未満に設定し；欠陥部上のカラーフィルタが緑色の場合、レーザ光の波長を、４８０ｎｍ未満または５８０ｎｍ超～７９０ｎｍ未満に設定し；欠陥部上のカラーフィルタが青色の場合、レーザ光の波長を、４３０ｎｍ未満または５００ｎｍ超～８５０ｎｍ未満に設定すればよい。
　（２）フィルタ除去ステップと第３ステップとが異なるステップである場合
　フィルタ除去ステップと第３ステップとが異なるステップである場合、ｉ）レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがある場合（実施の形態３参照）と、ii）レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがない場合（実施の形態２参照）とで、レーザ光の波長がさらに異なる。例えばｉ）フィルタ除去ステップの前に第３ステップを行う場合であるか、またはフィルタ除去ステップでカラーフィルタを薄くした後に、第３ステップを行う場合には、レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがある。一方、ii）例えば、フィルタ除去ステップでカラーフィルタに貫通痕を形成した後に、第３ステップを行う場合には、レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがない。
　ｉ）レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがある場合
　レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがある場合、レーザ光はカラーフィルタに影響を与えずに、透明対向電極を破壊することが求められることから、カラーフィルタを透過する波長を有することが好ましい。したがって、欠陥部上のカラーフィルタが赤色の場合、レーザ光の波長を、６００ｎｍ以上に設定し；欠陥部上のカラーフィルタが緑色の場合、レーザ光の波長を、４８０～５８０ｎｍまたは７９０ｎｍ以上に設定し；欠陥部上のカラーフィルタが青色の場合、レーザ光の波長を、４３０～５００ｎｍまたは８５０ｎｍ以上に設定すればよい。
　ii）レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがない場合
　レーザ光を照射する領域の透明対向電極上にカラーフィルタがない場合、レーザ光がカラーフィルタに与える影響を考慮しなくてよいため、レーザ光の波長を任意に設定することができる。レーザ光の波長は、有機層に与える影響が少ない、４００ｎｍ以下に設定することが好ましい。
　このように本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、有機層にダメージを与えることなく欠陥部を非発光領域にすることができるので、消費電力が低下し、発光効率が上昇する。
　また、欠陥部上のカラーフィルタを除去することから、非発光領域の輝度が上昇し、有機ＥＬディスプレイにおける輝度ムラを低減することができる。
　２．本発明の有機ＥＬディスプレイ
　本発明の有機ＥＬディスプレイは、上述した本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイである。本発明の有機ＥＬディスプレイは、トップエミッション型であり、基板および基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する。
　有機ＥＬ素子は、基板上に配置された画素電極、画素電極上に配置された有機層、有機層上に配置された透明対向電極、透明対向電極上に配置された保護層および保護層上に配置されたカラーフィルタを有する。また、カラーフィルタ上にはさらに封止ガラスが配置されていてもよい。
　基板は、絶縁性の板である。また、基板には薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が内蔵されていてもよい。
　画素電極は、基板上に配置される導電性の部材である。画素電極は通常、陽極として機能するが陰極として機能してもよい。また、画素電極は光反射性を有することが好ましい。このような画素電極の材料の例には、ＡＰＣ合金（銀、パラジウム、銅の合金）やＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）などが含まれる。
　また画素電極は、コンタクトホールを通してＴＦＴのソース電極またはドレイン電極に接続されていてもよい。
　有機層は、有機発光材料を含む有機発光層を有する。有機発光層に含まれる有機発光材料は塗布法で形成することができる高分子有機発光材料であることが好ましい。高分子有機発光材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレンおよびその誘導体、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレンおよびその誘導体、ポリ３－ヘキシルチオフェンおよびその誘導体、ポリフルオレンおよびその誘導体などが含まれる。
　また有機発光層は、有機ＥＬ素子の配置位置によって、赤、緑または青のいずれかの光を発する。有機層は、さらに正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層などを有していてもよい。
　透明対向電極は、有機層上に配置される導電性の透明部材である。対向電極は通常、陰極として機能するが陽極として機能してもよい。このような透明対向電極の材料の例には、ＩＴＯやＩＺＯなどが含まれる。透明対向電極の厚さは約１００ｎｍである。本発明の有機ＥＬディスプレイでは、透明対向電極のうち、有機層の欠陥部上の領域が選択的に破壊されていることを特徴とする。
　保護層は、有機層を水や酸素から保護するための部材である。保護層の材料の例には、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などの無機物やＵＶ硬化樹脂などの有機物が含まれる。
　カラーフィルタの色は、有機ＥＬ素子が発する色によって適宜選択される。具体的には、赤色の光を発する有機層を有する有機ＥＬ素子は、赤色のカラーフィルタを有し、緑色の光を発する有機層を有する有機ＥＬ素子は、緑色のカラーフィルタを有し、青色の光を発する有機層を有する有機ＥＬ素子は、青色のカラーフィルタを有する。カラーフィルタの材料は、例えば、カラーレジストである。またカラーフィルタの厚さは約１μｍである。本発明の有機ＥＬディスプレイでは、カラーフィルタのうち、有機層の欠陥部上の領域が選択的に除去されていることを特徴とする。
　このように、本発明の有機ＥＬディスプレイでは、カラーフィルタのうち欠陥部上の領域が除去されているので、欠陥部（非発光領域）の輝度の低下が抑えられる。以下、図面を用いてカラーフィルタが除去されていることと、非発光領域の輝度の低下が抑えられることとの関係を説明する。
　図２は、本発明の有機ＥＬディスプレイに含まれ、かつ欠陥部を有する有機ＥＬ素子１００を示す。有機ＥＬ素子１００では、透明対向電極のうち、欠陥部上の領域が破壊され、カラーフィルタのうち、欠陥部上の領域が除去されている。有機ＥＬ素子１００は、基板１６、画素電極１５、有機層１４、透明対向電極１３、保護層１２、カラーフィルタ１１および封止ガラス１０を有する。
　また、有機層１４には異物２１が混入している。異物２１が混入した有機層１４の領域は欠陥部１０１を構成する。図２中の矢印５０は、有機層１４から発せられた光を示す。
　上述のように欠陥部１０１は非発光領域なので、図２に示されるように欠陥部１０１は光を発しない。しかし、欠陥部１０１の周囲の有機層１４から発せられた光が、欠陥部１０１上の領域にも拡散する。このため、非発光領域である欠陥部１０１からも光を取り出すことができる。さらに本発明では、欠陥部１０１上のカラーフィルタ１１が除去されていることから、欠陥部１０１上の領域に拡散した光は、カラーフィルタ１１を通過しない。このため、欠陥部１０１上の領域に拡散した光は、カラーフィルタ１１によって減衰されることなく外部に発せられる。したがって、たとえ欠陥部１０１が非発光領域であったとしても、欠陥部１０１の周辺の有機層１４から拡散した光を減衰させることなく、欠陥部１０１から取り出すことができるので、欠陥部１０１の輝度の低下が抑えられる。
　以下、本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。また、実施の形態では、上述した有機ＥＬ素子内の有機層における欠陥部を検出する第２ステップ後の、第３ステップ（透明対向電極を破壊するステップ）およびカラーフィルタの除去ステップについて説明する。
　（実施の形態１）
　実施の形態１では、第３ステップとカラーフィルタを除去するステップ（フィルタ除去ステップ）が同一ステップである例について説明する。
　図３Ａは、本発明の製造方法における第２ステップ（有機ＥＬ素子内の有機層における欠陥部を検出するステップ）によって検出された、欠陥部を有する有機ＥＬ素子１００を示す図である。
　図３Ａの有機ＥＬ素子１００は、基板１６、画素電極１５、有機層１４、透明対向電極１３、保護層１２、カラーフィルタ１１および封止ガラス１０を有する。有機層１４は異物２１を有し、異物２１が混入した有機層の領域は欠陥部１０１を構成する。
　一方、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図３Ｂに示されたような欠陥部を有しない有機ＥＬ素子１０３も含む。
　図４は、実施の形態１における第３ステップおよびフィルタ除去ステップを示した図である。図４に示されたように第３ステップおよびフィルタ除去ステップで用いられるレーザ装置２００は、レーザ光源３１、スリット３３および集束レンズ３４を有する。
　図４に示されるように、本実施の形態の第３ステップでは、透明対向電極１３上に焦点を合わせて、透明対向電極１３のうち欠陥部１０１上の領域に、カラーフィルタ１１を通して、レーザ光３２を照射する。
　照射するレーザ光３２の波長およびレーザの照射エネルギ密度は、透明対向電極１３に焦点を合わせて、透明対向電極１３にレーザ光３２を照射したときに、透明対向電極１３の破壊およびカラーフィルタ１１の除去が同時に起こるように調整すればよい。
　たとえば、レーザ光源３１がフラッシュランプ励起のＮｄ:ＹＡＧレーザである場合であってカラーフィルタ１１が赤色の場合、レーザ光３２の波長を５３２ｎｍ（第二高調波）とし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．７Ｊ／ｃｍ２より高くすればよく；カラーフィルタ１１が緑色の場合、レーザ光３２の波長を３５５ｎｍ（第三高調波）とし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．４１Ｊ／ｃｍ２以上とすればよく；カラーフィルタが青色の場合、レーザ光３２の波長を３５５ｎｍとし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．４１Ｊ／ｃｍ２より高くし、またはレーザ光３２の波長を５３２ｎｍとし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．６３Ｊ／ｃｍ２以上とすればよい。
　レーザ光３２を透明対向電極１３に焦点を合わせて照射することで、カラーフィルタ１１に貫通痕３５を形成し、透明対向電極破壊部３６を形成することができる。
　このように、本実施の形態によれば、欠陥部上の透明対向電極を破壊することで欠陥部を通した電流のリークを防止することができる。このため、有機層やＴＦＴにダメージを与えることなく、有機ＥＬ素子を修復することができる。また、カラーフィルタのうち欠陥部上の領域を除去することで、欠陥部（非発光領域）の輝度の低下を抑えることができ、輝度ムラのない有機ＥＬディスプレイを製造することができる。さらに本実施の形態では、カラーフィルタの除去および透明対向電極の破壊を同一のステップで行うことができることから、より短時間で有機ＥＬ素子を修復することができる。
（実施の形態２）
　実施の形態１では、第３ステップとフィルタ除去ステップとが同一ステップである例について説明した。実施の形態２では、第３ステップとフィルタ除去ステップとが異なるステップである例について説明する。
　図５Ａは、実施の形態２におけるフィルタ除去ステップを示した図であり、図５Ｂは、実施の形態２における第３ステップを示した図である。
　図５Ａに示されるように、本実施の形態のフィルタ除去ステップでは、まずカラーフィルタ１１上にレーザ光３２の焦点を合わせ、カラーフィルタ１１のうち、欠陥部１０１上の領域にレーザ光３２を照射し、カラーフィルタ１１のうち欠陥部１０１上の領域を除去し貫通痕３５を形成する。カラーフィルタ１１には、カラーフィルタを透過しない波長を有するレーザ光３２を照射する。
　例えば、レーザ光源３１がフラッシュランプ励起のＮｄ:ＹＡＧレーザである場合であってカラーフィルタ１１が赤色の場合、レーザ光３２の波長を５３２ｎｍ（第二高調波）とし、カラーフィルタ１１上のレーザの照射エネルギ密度を０．４８Ｊ／ｃｍ２以上とするか、またはレーザ光３２の波長を３５５ｎｍ（第三高調波）とし、カラーフィルタ１１上のレーザの照射エネルギ密度を０．３２Ｊ／ｃｍ２以上とすればよく；カラーフィルタ１１が緑色の場合、レーザ光３２の波長を３５５ｎｍ（第三高調波）とし、カラーフィルタ１１上のレーザの照射エネルギ密度を０．３２Ｊ／ｃｍ２以上とすればよく；カラーフィルタが青色の場合、レーザ光３２の波長を５３２ｎｍ（第二高調波）とし、カラーフィルタ１１上のレーザの照射エネルギ密度を０．４８Ｊ／ｃｍ２以上とするか、またはレーザ光３２の波長を３５５ｎｍ（第三高調波）とし、カラーフィルタ１１上のレーザの照射エネルギ密度を０．１３Ｊ／ｃｍ２以上とすればよい。
　その後、第３ステップでは、透明対向電極１３にレーザ光３２の焦点を合わせて、透明対向電極１３のうち、欠陥部１０１上の領域にレーザ光３２を照射し、透明対向電極１３を破壊する（図５Ｂ）。実施の形態１と異なり、本実地の形態の第３ステップでは、カラーフィルタ１１が既に除去されていることから、カラーフィルタ１１による影響を考慮せず、レーザ光３２の条件を透明対向電極１３を破壊するためにより適した条件に設定することができる。例えば、レーザ光源３１がフラッシュランプ励起のＮｄ:ＹＡＧレーザである場合、レーザ光３２の波長を３５５ｎｍとし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．０５～０．１５Ｊ／ｃｍ２とすればよい。
　また、実施の形態１のようにカラーフィルタの除去と透明対向電極の破壊とを同一のステップで行う場合、除去するカラーフィルタの面積が大きくなってしまうおそれがある。非発光領域に対して、除去されたカラーフィルタの面積が大きすぎる場合、カラーフィルタを通過しない光の割合が増加し、有機ＥＬディスプレイの色再現性などに影響を与えるおそれがある。一方、本実施の形態のように、カラーフィルタの除去と透明対向電極の破壊とが別々のステップで行われる場合、除去されるカラーフィルタの面積を、適宜選択することが容易であるため、色再現性への影響を抑えることができる。
（実施の形態３）
　実施の形態１および実施の形態２では、レーザ光を照射した箇所のカラーフィルタを完全に除去し、カラーフィルタに貫通痕を形成する例について説明した。実施の形態３では、レーザ光を照射した箇所のカラーフィルタを完全に除去しない例について説明する。
　図６Ａは、実施の形態３におけるフィルタ除去ステップを示した図であり、図６Ｂは、実施の形態３における第３ステップを示した図である。
　図６Ａに示されるように、本実施の形態のフィルタ除去ステップでは、まずカラーフィルタ１１上にレーザ光３２の焦点を合わせ、カラーフィルタ１１のうち欠陥部１０１上の領域にレーザ光３２を照射し、カラーフィルタ１１のうち欠陥部１０１上の領域４０を除去し、領域４０のカラーフィルタ１１を薄くする。本実施の形態では、レーザ光３２を照射したカラーフィルタ１１が完全に除去されないようにレーザ光３２の波長またはレーザの照射エネルギ密度を調整することを特徴とする。
　その後、本実施の第３ステップでは、透明対向電極１３にレーザ光３２の焦点を合わせて、透明対向電極１３のうち欠陥部１０１上の領域にレーザ光３２を照射し、透明対向電極１３を破壊する（図６Ｂ）。本実施の形態の第３ステップでは、レーザ光３２が、フィルタ除去ステップで薄くなったカラーフィルタ１１をさらに除去しないように調節されることを特徴とする。したがって、第３ステップにおけるレーザ光３２は、カラーフィルタ１１を透過するように波長を調節される。例えば、レーザ光源３１がフラッシュランプ励起のＮｄ:ＹＡＧレーザである場合、レーザ光３２の波長を基本波長である１０６４ｎｍとし、透明対向電極１３上のレーザの照射エネルギ密度を０．４２Ｊ／ｃｍ２以下とすることが好ましい。
　このように、本実施の形態では、欠陥部上に薄いカラーフィルタを残すため、実施の形態１の効果に加えて、色再現性の低下を抑えることができる。
（実施の形態４）
　実施の形態４では、レーザ光３２またはＵＶ光を照射すると微小な気泡が発生する材料を保護層に用いた例について説明する。
　図７は、実施の形態４の第３ステップおよびフィルタ除去ステップを示した図である。
　図７に示されるように、本実施の形態では、透明対向電極１３に焦点を合わせて、透明対向電極１３のうち、欠陥部１０１上の領域にレーザ光３２を照射し、カラーフィルタ１１のうち欠陥部１０１上の領域を除去し、透明対向電極１３のうち欠陥部１０１上の領域を破壊する。
　照射するレーザ光３２の波長およびレーザの照射エネルギ密度は、透明対向電極に焦点を合わせてレーザ光３２を照射したときに、透明対向電極の破壊およびカラーフィルタの除去が同時に起こるように調整すればよい。
　このときカラーフィルタ１１と透明対向電極１３との間の保護層１２にレーザ光３２が通過する。保護層１２にレーザ光３２が通過すると、保護層１２に微小な気泡４１が発生する。保護層１２に形成された微小な気泡４１は、欠陥部１０１の外周部の光を散乱させ、欠陥部１０１の輝度を向上させることができる。
　また、本実施の形態では、レーザ光３２またはＵＶ光を照射すると微小な気泡４１が発生する材料を保護層に用いた例について説明したが、例えば、レーザ光３２またはＵＶ光を照射すると光の屈折率が変化する材料を保護層に用いてもよい。
　このように、本実施の形態によれば実施の形態１の効果に加えて、欠陥部の輝度をさらに向上させることができるので、より輝度ムラの少ない有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
　以下本発明の実施例について説明する。以下の実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
　（実施例１）
　有機ＥＬ素子の準備
　図８に示されたような、ガラス基板１６上に画素電極１５、正孔注入層１７、正孔輸送層１８、有機発光層１４、電子輸送層１９および厚さ１００ｎｍの透明対向電極１３（ＩＴＯ）を積層した有機ＥＬ素子を準備した。さらに、準備した有機ＥＬ素子上に、ガラス板２０および赤、緑または青のカラーフィルタ１１を配置し、カラーフィルタの色が異なる３種類の有機ＥＬ素子を準備した。カラーフィルタ１１の材料はカラーレジストであり、カラーフィルタの厚さは、１μｍとした。
　レーザの照射
　準備したそれぞれの有機ＥＬ素子の透明対向電極に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．４２～４．５Ｊ／ｃｍ２で照射し、波長５３２ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．０６～０．７１Ｊ／ｃｍ２で照射し、波長３５５ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．０５～０．４１Ｊ／ｃｍ２で照射した。レーザ装置にはＡＧＴ－２０００ＲＴ（ＹＡＧレーザ、株式会社ＡＧＴ製）を用いた。レーザ光の透明対向電極上における照射面積口は２０μｍとし、パルス幅を３～５ｎ秒とした。また、レーザ照射はシングルショットで行った。
　図９は、レーザ光の照射によるそれぞれのカラーフィルタ（ＣＦ）および透明対向電極（ＩＴＯ）への影響を示した表である。
　図９に示されるように、波長１０６４ｎｍのレーザ光（レーザの照射エネルギ密度０．４２Ｊ／ｃｍ２）を照射した場合、全ての色のカラーフィルタには影響を与えることなく透明対向電極のみを破壊することができた。
　波長５３２ｎｍのレーザ光（レーザの照射エネルギ密度０．６３Ｊ／ｃｍ２）は、赤色のカラーフィルタを除去することができ、レーザの照射エネルギ密度０．５６Ｊ／ｃｍ２以上で、青色のカラーフィルタを除去することができるが、緑色のカラーフィルタには影響を与えなかった。また、波長５３２ｎｍのレーザ光は、カラーフィルタが赤色の場合に、ＩＴＯを充分に破壊することはできなかった。これは、波長５３２ｎｍのレーザ光が、赤色のカラーフィルタに吸収されレーザ光のエネルギが減衰したことによるものと考えられる。したがって、カラーフィルタが赤色の場合であって、かつ波長５３２ｎｍのレーザ光で、ＩＴＯを破壊する場合、レーザ光の照射エネルギ密度を０．６３Ｊ／ｃｍ２よりも増加させる必要がある。
　波長３５５ｎｍのレーザ光（レーザの照射エネルギ密度０．２５Ｊ／ｃｍ２）は、青色のカラーフィルタを除去することができ、レーザの照射エネルギ密度０．４１Ｊ／ｃｍ２で、緑色のカラーフィルタを除去することができるが、赤色のカラーフィルタには影響を与えなかった。波長３５５ｎｍのレーザ光は、カラーフィルタが青色の場合、ＩＴＯを破壊することはできなかった。これは、波長３５５ｎｍのレーザ光が、青色のカラーフィルタに吸収されレーザ光のエネルギが減衰したことによるものと考えられる。したがって、カラーフィルタが青色の場合であって、かつ波長３５５ｎｍのレーザ光で、ＩＴＯを破壊する場合、レーザ光の照射エネルギ密度を０．２５Ｊ／ｃｍ２よりも増加させる必要がある。
　これらの結果は、カラーフィルタの色に応じてレーザ光の波長を選択することによって、カラーフィルタを除去したり、ＩＴＯを破壊したりできることを示唆する。
　（実施例２）
　有機ＥＬ素子の準備
　図８に示されたような、ガラス基板１６上に画素電極１５、正孔注入層１７、正孔輸送層１８、有機発光層１４、電子輸送層１９および厚さ１００ｎｍの透明対向電極１３（ＩＴＯ）を積層した、有機ＥＬ素子を準備した。本実施例では有機ＥＬ素子にカラーフィルタを積層しなかった。
　レーザの照射
　準備した有機ＥＬ素子の透明対向電極に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．４２～４．５Ｊ／ｃｍ２で照射し、波長５３２ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．０６～０．７１Ｊ／ｃｍ２で照射し、波長３５５ｎｍのレーザ光をレーザの照射エネルギ密度０．０５～０．４１Ｊ／ｃｍ２で照射した。レーザ装置にはＡＧＴ－２０００ＲＴ（ＹＡＧレーザ、株式会社ＡＧＴ製）を用いた。レーザ光の透明対向電極上における照射面積口は２０μｍとし、パルス幅３ｎ～５ｎ秒とした。また、レーザ照射はシングルショットで行った。
　結果
　波長５３２ｎｍおよび１０６４ｎｍのレーザ光は、透明対向電極（ＩＴＯ）の下地層である有機層にもダメージを与えた。一方、波長３５５ｎｍのレーザ光は、透明対向電極を破壊するが、下地層の有機層には、ダメージを与えなかった。これは、レーザ光を照射する透明対向電極上にカラーフィルタがない場合、ＹＡＧレーザの第３高調波のレーザ光を用いることが好ましいことを示す。
　本出願は、２００９年２月１０日出願の特願２００９－０２８４３５に基づく優先権を主張する。当該出願明細書に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
　また、本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法によれば、カラーフィルタのうち欠陥部上の領域も除去することから、非発光部（欠陥部）の輝度の低下を抑えることができる。このため、画質に優れた有機ＥＬディスプレイを高い歩留まりで提供することができる。また、本発明は、カラーフィルタを利用した他の発光デバイスの製造にも適用することができる。
　１０　封止ガラス
　１１　カラーフィルタ
　１２　保護層
　１３　透明対向電極
　１４　有機層
　１５　画素電極
　１６　基板
　１７　正孔注入層
　１８　正孔輸送層
　１９　電子輸送層
　２０　ガラス板
　２１　異物
　３１　レーザ光源
　３２　レーザ光
　３３　スリット
　３４　集束レンズ
　３５　貫通痕
　３６　透明対向電極破壊部
　４０　カラーフィルタの薄い領域
　４１　気泡
　１００　有機ＥＬ素子
　１０１　欠陥部
　２００　レーザ装置
 
 

Claims (14)

  1. 　基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬパネルを準備するステップであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された保護層および前記保護層上に配置されたカラーフィルタを有し、
    　前記有機ＥＬ素子内の前記有機層に存在する欠陥部を検出するステップ、
    　前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域に、前記カラーフィルタを通してレーザ光を照射し、前記領域の透明対向電極を破壊するステップ、および
    　前記カラーフィルタのうち、前記欠陥部上の領域を除去するステップ、
    　を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  2. 　前記照射するレーザ光の波長は、４００ｎｍ以下である、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  3. 　前記カラーフィルタを除去するステップと、前記透明対向電極を破壊するステップとは、同一ステップである、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  4. 　前記除去されるカラーフィルタは赤色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、６００ｎｍ未満である、請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  5. 　前記除去されるカラーフィルタは緑色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、４８０ｎｍ未満または５８０ｎｍ超７９０ｎｍ未満である、請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  6. 　前記除去されるカラーフィルタは青色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、４３０ｎｍ未満または５００ｎｍ超８５０ｎｍ未満である、請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  7. 　前記カラーフィルタを除去するステップと、前記透明対向電極を破壊するステップとは、異なるステップであり、前記カラーフィルタの除去は、前記カラーフィルタのうち前記欠陥部上の領域へのレーザ光の照射により行われる、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  8. 　前記除去されるカラーフィルタは赤色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、６００ｎｍ以上である、請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  9. 　前記除去されるカラーフィルタは緑色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、４８０ｎｍ～５８０ｎｍまたは７９０ｎｍ以上である、請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  10. 　前記除去されるカラーフィルタは青色であり、前記透明対向電極に照射する前記レーザ光の波長は、４３０ｎｍ～５００ｎｍまたは８５０ｎｍ以上である、請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  11. 　前記カラーフィルタを除去するステップにおいて、前記カラーフィルタに貫通痕を形成する、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  12. 　前記カラーフィルタを除去するステップにおいて、前記カラーフィルタを薄くする、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  13. 　前記レーザ光の照射により、前記保護層内に微小な気泡を形成する、請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
  14. 　基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬディスプレイであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された保護層および前記保護層上に配置されたカラーフィルタを有し、
    　少なくとも一つの前記有機ＥＬ素子は、前記有機層に欠陥部を有し、
    　前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域は破壊されており、前記カラーフィルタのうち前記欠陥部上の領域は除去されている、有機ＥＬディスプレイ。
     
     
     
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