JP4733235B2 - 有機elディスプレイおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
[1]基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機EL素子と、を有する有機ELパネルを準備する工程であって、前記有機EL素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された封止層、および前記封止層上に配置されたカラーフィルタを有し、前記有機EL素子内の前記有機層に存在する欠陥部を検出する工程、前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域に、前記カラーフィルタを通してレーザ光を照射して、前記欠陥部上の領域の透明対向電極を破壊する工程を有し、前記レーザ光は、前記有機ELパネルの表示面の法線に対して傾けて照射される、アクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[2]前記レーザ光が通過した領域のカラーフィルタは、除去される、[1]に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[3]前記透明対向電極のうち、前記レーザ光で照射される領域の直径をXとし、前記封止層の厚さをYとし、前記レーザ光の入射角度をθとしたときに、θ≧tan−1(x/y)である、[1]または[2]に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[4]前記カラーフィルタの厚さをtとしたときに、前記カラーフィルタを通過するレーザ光の直径は、0.7t以下であり、かつ前記レーザ光の入射角度は、45°以上である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[5]前記有機EL素子は、前記有機層を規定するバンクをさらに有し、前記カラーフィルタは、前記バンク上にも配置され、前記レーザ光は、前記カラーフィルタのうち、前記バンク上の領域を通過する、[1]〜[4]のいずれか一つに記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[6]前記有機パネルの表層上にプリズムを配置する工程をさらに有し、前記レーザ光は、前記プリズムを通過する、[1]〜[5]のいずれか一つに記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[7]前記プリズムは、二等辺直角プリズムである、[6]に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[8]前記有機パネルの表層上に液滴を配置する工程をさらに有し、前記レーザ光は、前記液滴を通過する、[1]〜[5]のいずれか一つに記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
[9]前記レーザ光の波長は、400nm以下である、[1]〜[8]のいずれか一つに記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
本発明は、特に大画面の有機ELディスプレイを製造する場合に効果を発揮する。大画面の有機ELディスプレイを製造する場合、有機層内にパーティクルなどの異物が混入するおそれが高いことから、本発明によって欠陥部を通した電流のリークを防止する必要性が高いからである。
θ≧tan−1(x/y)
本発明の有機ELディスプレイは、上述した本発明の有機ELディスプレイの製造方法によって製造された有機ELディスプレイである。本発明の有機ELディスプレイは、トップエミッション型であり、基板および基板上にマトリクス状に配置された有機EL素子を有する。
図2Aは、第2工程(有機EL素子内の有機層における欠陥部を検出する工程)によって検出された、欠陥部を有する有機EL素子100の平面図である。図2Bは図2Aに示した有機EL素子100の一点鎖線AAによる断面図である。
θ≧tan−1(x/y)
実施の形態1によれば、対向電極破壊部における色再現性の低下を抑制することができるが、カラーフィルタ除去部における色再現性の低下を抑制することはできない。実施の形態2では、対向電極破壊部における色再現性の低下を抑制し、かつカラーフィルタ除去部における色再現性の低下を抑制するための形態について説明する。
実施の形態1および2では、カラーフィルタ除去部が発光領域内に配置される有機ELディスプレイの製造方法について説明した。実施の形態3では、カラーフィルタ除去部がバンク上(非発光領域)に配置される有機ELディスプレイの製造方法について説明する。
θ=tan−1(d/h)
実施の形態1〜3では、レーザ光の入射角度を調整することで、色再現性の低下を抑制する形態について説明した。
101 基板
103 画素電極
105 有機層
107 バンク
109 透明対向電極
111 封止層
113 カラーフィルタ
115 封止ガラス
120 異物
130 欠陥部
140 レーザ光
150 対向電極破壊部
160 カラーフィルタ除去部
170 発光領域
201 プリズム
203 フィルム
50 有機層から発せられた光
51 対向電極破壊部とカラーフィルタ除去部とのギャップ
60 カラーフィルタ除去部の上面側の開口部と、底面側の開口部とが重なる領域
Claims (9)
- 基板と、前記基板上にマトリクス状に配置された有機EL素子と、を有する有機ELパネルを準備する工程であって、前記有機EL素子のそれぞれは、前記基板上に配置された画素電極、前記画素電極上に配置された有機層、前記有機層上に配置された透明対向電極、前記透明対向電極上に配置された封止層、および前記封止層上に配置されたカラーフィルタを有し、
前記有機EL素子内の前記有機層に存在する欠陥部を検出する工程、
前記透明対向電極のうち、前記欠陥部上の領域に、前記カラーフィルタを通してレーザ光を照射して、前記欠陥部上の領域の透明対向電極を破壊する工程を有し、
前記レーザ光は、前記有機ELパネルの表示面の法線に対して傾けて照射される、アクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記レーザ光が通過した領域のカラーフィルタは、除去される、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
- 前記透明対向電極のうち、前記レーザ光で照射される領域の直径をXとし、
前記封止層の厚さをYとし、
前記レーザ光の入射角度をθとしたときに、
θ≧tan−1(x/y)である、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記カラーフィルタの厚さをtとしたときに、
前記カラーフィルタを通過するレーザ光の直径は、0.7t以下であり、かつ
前記レーザ光の入射角度は、45°以上である、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記有機EL素子は、前記有機層を規定するバンクをさらに有し、
前記カラーフィルタは、前記バンク上にも配置され、
前記レーザ光は、前記カラーフィルタのうち、前記バンク上の領域を通過する、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記有機パネルの表層上にプリズムを配置する工程をさらに有し、
前記レーザ光は、前記プリズムを通過する、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記プリズムは、二等辺直角プリズムである、請求項6に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
- 前記有機パネルの表層上に液滴を配置する工程をさらに有し、
前記レーザ光は、前記液滴を通過する、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記レーザ光の波長は、400nm以下である、請求項1に記載のアクティブマトリクス型有機ELディスプレイの製造方法。
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