JP4924192B2 - 透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法および透明導電性膜付きカラーフィルタ基板 - Google Patents

Description

本発明は、ベース基板の一面に、少なくとも着色層、透明導電性膜をこの順に積層した、カラーフィルタ形成基板に対して、欠陥箇所を修正する、欠陥修正方法と、該欠陥修正方法により修正されたカラーフィルタ形成基板に関する。

液晶表示素子は、通常、カラーフィルタが形成されて電極を有するカラーフィルタ形成基板と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や複数の走査電極などを具備した電極基板との、電極を有する２枚の基板を対向させて、両基板間に液晶が狭持された構造とされている。 カラーフィルタ形成基板には、例えば、透明基板上に、順に、ブラックマトリクス、赤、緑、青の着色画素、オーバーコート、透明電極が形成されている。

近年では、より高品位表示の液晶表示素子として、更に、柱状スペーサを用いたセル構造とし、且つ、配向制御用突起を設け、配向分割垂直配向型（以下、ＭＶＡモードあるいは複数配向分割型とも言う）とするものが提案されている。
ＭＶＡモードは、広視野角、高速応答を実行するために極めて有望で、カラーフィルタ形成基板において、カラーフィルタ表面に配向制御用突起を設けることによって、配向の乱れによる光が漏れることをほぼ完全に防ぐことができる。
これに伴い、ＭＶＡモードの液晶表示素子作製のために、上記柱状スペーサーと配向制御用突起とを配したカラーフィルタ形成基板の作製が求められている。
このカラーフィルタ形成基板は、透明基板上に、順に、ブラックマトリクス、赤、緑、青の着色画素、オーバーコート、透明電極が形成され、更に、透明電極上に、柱状スペーサーと配向制御用突起とを配している。
例えば、図４（ａ）にその一部断面を示し、図４（ｂ）にその平面図を示すように、透明基板１１１上に透明基板上にブラックマトリクス１１２、着色層１１３ａ〜１１３ｃ、透明導電膜１１５、液晶間隔制御用の柱スペーサ１１７、液晶の配向を制御するための配向制御用突起１１６を、この順に、配設している。
尚、図４（ｂ）は図４（ａ）のＥ１側からみた図で、図４（ａ）は図４（ｂ）のＥ２−Ｅ３側における断面を示した図である。
図４中、１１４はオーバコート層で、１１３Ａ、１１３Ｂ、１１３Ｃはそれぞれ、第１の着色層１１３ａの領域、第２の着色層１１３ｂの領域、第３の着色層１１３ｃの領域を示すもので、太点線はこれらの領域の境界を示している。
そして、このようなカラーフィルタ形成基板を用いて、図５に示すような、ＭＶＡモードの液晶表示パネルが作製される。
また、図５中、２５０はカラーフィルタ形成基板、２５１は透明基板、２５２はブラックマトリクス、２５３ａ〜２５３ｃは着色層、２５４はオーバコート層、２５５は透明導電膜（ＩＴＯ膜；ＳｎＯ₂ をドープしたＩｎ₂ Ｏ₃ からなる膜）、２５８は柱状スペーサ、２５９は配向制御用突起、２６２は液晶、２６２ａ、２６２ｂは配向材、２７０は対向基板、２７１は透明基板、２７２は透明電極、２８０は拡散板、２８１はバックライトである。

このような、透明基板上に、順に、ブラックマトリクス、赤、緑、青の着色画素、オーバーコート、透明電極が形成されている、液晶表示素子用のカラーフィルタ形成基板あるいは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板である、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板においては、従来、ＩＴＯ膜を簡単に修正できる方法はなく、修正せずに良品のみを液晶表示装置に提供していた。
その着色層の修正方法は、例えば、特開２００３−２７９７２１号公報（特許文献１）等に開示されているが、このような、局所的なＩＴＯ膜の欠損箇所を、簡単に、修復形成する方法は、従来は、なかった。
特開２００３−２７９７２１号公報 しかし、最近、本願出願人による出願で、このような透明導電性膜付きカラーフィルタ基板におけるＩＴＯ膜の修正方法が、特願２００６−１６７３７４（特許文献２）にて提案されている。 特願２００６−１６７３７４ この方法は、簡単には、前記ＩＴＯ膜の欠損箇所に、固形の導電性材（導電性粒子）を溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布する塗布工程を、必要に応じて１回以上行い、あるいは、更に、必要に応じて、前記塗布工程で配設された導電膜を局所過熱する焼成工程を行い、前記ＩＴＯ膜の欠損箇所に、透明、且つ、導電性の導電膜を配設することを特徴とするもので、あくまで、ＩＴＯ膜のみを修正する方法である。 このような中、液晶表示素子の更なる大量普及に対応できる効率的な修正方法が求められていた。

上記のように、近年、より高品位表示の液晶表示素子として、柱状スペーサを用いたセル構造とし、且つ、配向制御用突起を設け、配向分割垂直配向型（以下、ＭＶＡモードとも言う）とするものが提案されており、これに用いられるカラーフィルタ形成基板については、そのＩＴＯ膜の欠陥箇所について、導電性膜としての機能の面の他に、最近では、表示品質の面でも、より厳しくなってきたため、この対応が求められていた。
これに伴い、このような液晶表示素子に用いられるカラーフィルタ形成基板の作製においては、特に生産面からＩＴＯ膜の欠陥修正は必要とされるようになってきた。
同時に、効率的な欠陥修正方法が生産性の面から求められている。
本発明はこれらに対応するもので、ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板に対して、透明導電性膜の欠陥を含め、その下層の欠陥をも修正することができる、欠陥修正方法を提供しようとするものであり、更には、生産性の面で有利な欠陥修正方法を提供しようとするものである。

本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法は、ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板に対して、その欠陥部を修正する、欠陥修正方法であって、各欠陥部についての修正は、前記多層構造の膜に対して、それぞれ、欠陥部を含む領域にレーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板面まで除去し、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部として形成した後、形成された前記全層に跨る白欠陥部に対し、積層順に、各層の白欠陥部を修正するもので、且つ、各層の白欠陥部の修正は、修正用材料を塗布し、必要に応じて、乾燥処理、硬化処理、焼成処理の１以上を行うもので、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部のサイズを１以上の決められたサイズとして修正を行うことを特徴とするものである。
そして、上記の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の着色層の白欠陥部の修正は、対応する色の着色材料を塗布するものであることを特徴とするものである。
尚、ここでの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板は、液晶表示素子用のカラーフィルタ形成基板あるいは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板を含むものである。

また、上記いずれかの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の透明導電性膜の白欠陥部の修正は、固形の導電性材を溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布し、塗布された層を局所過熱する焼成工程を行うものであることを特徴とするものであり、前記固形の導電性材が固形ＩＴＯ（ＳｎＯ₂ をドープしたＩｎ₂ Ｏ₃ ）であることを特徴とするものである。
あるいは上記いずれかの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の透明導電性膜の白欠陥部の修正は、固形の導電性材（導電性粒子）を分散させたＵＶ硬化型の樹脂を塗布し、塗布された樹脂をＵＶ照射して硬化するものであることを特徴とするものである。

また、上記いずれかの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、各層の白欠陥部の修正における修正用材料の塗布は、塗布針あるいはディスペンサを用いた塗布方式、またはインクジェット塗布方式であることを特徴とするものである。

また、上記いずれかの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記透明導電性膜がＩＴＯであることを特徴とするものである。

また、上記いずれかの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、透明導電性膜より下側の各層については、透明導電性膜形成前には各層の欠陥の修正を行わないで、透明導電性膜形成後に修正を行うことを特徴とするものである。

本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板は、ベース基板の一面に、少なくとも着色層、透明導電性膜をこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板であって、請求項１ないし８のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板の欠陥修正方法により修正されたことを特徴とするものである。
そして、上記の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板であって、透明導電性膜の修正個所の抵抗値が、１×１０⁴ 〜５×１０⁷ Ω／ｃｍ□の範囲であることを特徴とするものである。

（作用）
本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法は、このような構成にすることにより、ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板に対して、透明導電性膜の欠陥を含め、その下層の欠陥をも修正することができる、欠陥修正方法の提供を可能としている。
更には、生産性の面で有利な欠陥修正方法の提供を可能としている。
尚、先にも述べたように、ここでの透明導電性膜付きカラーフィルタ基板は、液晶表示素子用のカラーフィルタ形成基板あるいは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板を含むものである。
具体的には、各欠陥部についての修正は、前記多層構造の膜に対して、それぞれ、欠陥部を含む領域にレーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板面まで除去し、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部として形成した後、形成された前記全層に跨る白欠陥部に対し、積層順に、各層の白欠陥部を修正するもので、且つ、各層の白欠陥部の修正は、修正用材料を塗布し、必要に応じて、乾燥処理、硬化処理、焼成処理の１以上を行うもので、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部のサイズを１以上の決められたサイズとして修正を行うことにより、これを達成している。
詳しくは、欠陥部を含む領域にレーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板面まで除去し、全層に跨る白欠陥部として形成した後、形成された前記全層に跨る白欠陥部に対し、積層順に、各層の白欠陥部を修正するものであることより、透明導電性膜の欠陥を含め、その下層の欠陥をも修正することができるものとしている。
透明導電性膜より下側の各層については、透明導電性膜形成前には各層の欠陥の修正を行わないで、透明導電性膜形成後に修正を行う形態（請求項８の発明の形態）もとれ、その場合には、欠陥修正を透明導電性膜の欠陥を含め、その下層の欠陥をも、一緒の修正工程で修正することができ、生産性の面で効率的である。
特に、前記全層に跨る白欠陥部のサイズを１以上の決められたサイズとして修正を行う形態としていることにより、同じサイズの各欠陥の修正作業を同じ条件にて行うことが可能で、作業を規格化でき、自動化をし易いものとしている。

また、前記全層に跨る白欠陥部の着色層の白欠陥部の修正としては、対応する色の着色材料を塗布する形態が挙げられる。
尚、着色材料としては、樹脂中に顔料や染料を分散させた硬化性の樹脂が、好ましく、用いられる。

また、前記全層に跨る白欠陥部の透明導電性膜の白欠陥部の修正としては、固形の導電性材を溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布し、塗布された層を局所過熱する焼成工程を行う、請求項３の発明の形態や、固形の導電性材（導電性粒子）を分散させたＵＶ硬化型の樹脂を塗布し、塗布された樹脂をＵＶ照射して硬化する、請求項５の発明の形態が挙げられる。
請求項３の発明の形態としては、前記固形の導電性材を固形ＩＴＯとした形態が挙げられる。
上記焼成工程における加熱としては、ハロゲンランプによる加熱、あるいは、ＣＯ2 レーザによる加熱が挙げられる。
また、塗布は必要に応じて１回以上行う。
固形の導電性材（導電性粒子）を溶剤中に分散させた混合溶液を用いることにより、局所的な塗布を比較的し易いものとし、また、必要に応じて、塗布工程で配設された導電膜を局所過熱する焼成工程を行うことにより、塗布膜の固着を強固にでき、場合によっては、焼成により塗布膜の特性（導電性、透明度等）をその使用に適するように変化することもできる。
具体的には、固形の導電性材としては、ＩＴＯ（ＳｎＯ２ をドープしたＩｎ２ Ｏ３ ）が挙げられる。
例えば、０．００３μｍ〜１μｍ程度の粒子径のＩＴＯ粒子１５ｗｔ％を残部である溶剤に分散したものが挙げられ、溶剤としては、ＰＥＧＭＥＡ等が挙げられる。
特に、ＩＴＯを固形の導電性材とした場合には、塗布膜からなるＩＴＯの酸化を促進し、その抵抗値を下げることを可能としている。
尚、透明導電性膜の欠陥部を補修する材料として、スパッタで成膜したＩＴＯと同程度の低抵抗を有するものがなかったが、微小エリアであれば、従来考えられていたよりも、高い抵抗値の補修材料でも、液晶表示素子を問題なく駆動できることが明らかになり、このような、修正材料を用いたこのような透明導電性膜の欠陥部の修正方法が適用可能であることが分かった。

また、各層の白欠陥部の修正における修正用材料の塗布としては、塗布針あるいはディスペンサを用いた塗布方式、またはインクジェット塗布方式が挙げられる。
尚、塗布針によるものは、針の先端部に修正用材料（塗布液とも言う）を付着させた状態で欠陥箇所に運び、該塗布液を欠陥箇所に付けて塗布するものである。
ディスペンサを用いた塗布方式、またはインクジェット塗布方式の場合、塗布液を制御して白欠陥部の欠陥箇所に滴下することができることが前提となる。

前記透明導電性膜としては、ＩＴＯが汎用なものとして挙げられるが、電極としての機能を有するものであれば、これに限定はされない。
例えば、他には、ＺｎＯ系、ＳｎＯ系などが挙げられる。

本発明は、上記のように、ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した、液晶表示素子用のカラーフィルタ形成基板あるいは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板である、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板に対して、透明導電性膜の欠陥を含め、その下層の欠陥をも修正することができる、欠陥修正方法の提供を可能とした。
更には、生産性の面で有利な欠陥修正方法の提供を可能とした。

本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ１）（図１（ａ２））〜図１（ｅ）は本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理工程を示した工程断面図で、図２（ａ）は塗布用の針を用いた塗布を示した概略図で、図２（ｂ）はインクジェット方式の塗布を示した概略図で、図３はレーザ光の照射装置によるレーザ光照射の１例を示した概略図である。
尚、図１（ａ１）（図１（ａ２））〜図１（ｅ）は、図４と同じ構造のカラーフィルタ形成基板の一部を示した図である。
図１〜図３中、１０は透明導電性膜付きカラーフィルタ基板、１１は透明基板（ここでは石英基板）、１２は着色層、１２Ａは修正膜、１２ａは着色材層、１３はＯＣ層（保護層、あるいは平坦化層とも言う）、１３Ａは修正膜、１４は透明導電性膜（ここではＩＴＯ膜）、１５は欠陥部、１４Ａは修正膜、１５ａは異物、１６は欠陥部、１６ａは（透明導電膜の）欠損部、１７はレーザ光（ここでは３５５ｎｍ波長のＹＡＧレーザ）、１８は（全層にわたる）白欠陥部、１９Ａは塗布針、１９Ａａは針部、１９Ｂはインクジェットノズル部である。

本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法の実施の形態の１例を、図に基づいて説明する。
本例の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法は、図４に示すような、透明基板上にブラックマトリクス（ここでは黒色着色層からなる）、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱状スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設する、ＭＶＡモードの液晶表示パネル形成用のカラーフィルタ形成基板１０（図１に示す１０で、図４の１１０に相当）における、欠陥部、例えば、図１（ａ１）に示すような透明導電膜１４より下の層に異物を有する欠陥部１６を、あるいは、図１（ａ２）に示すような透明導電膜１４に欠損部を有する欠陥部１５、等を修正する方法である。
尚、ここでは、簡単のため、着色画素の着色層領域における修正を説明する。
各欠陥部の修正は、それぞれ、欠陥部を含む領域にレーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板面まで除去し、全層に跨る白欠陥部として形成した後、形成された前記全層に跨る白欠陥部に対し、積層順に、各層の白欠陥部を修正するものである。
そして、各層の白欠陥部の修正は、修正用材料を塗布し、必要に応じて、乾燥処理、硬化処理、焼成処理の１以上を行うものである。
ここでは、透明基板１１として二酸化ケイ素１００％の石英ガラスを用いているが、プラスチック基板、無アルカリガラスも用いられている。
着色画素の着色層１２としては、ここでは、顔料分散法によりフォトリソ形成された着色層を用いているが、これに限定はされない。
透明導電膜１４としては、スパッタ形成されたＩＴＯ膜が用いられている。
また、ここでは、液晶間隔制御用の柱状スペーサ（図４の１１７に相当）、配向制御用突起（図４の１１６に相当）は、それぞれ、ネガ型の感光剤を製版して形成したものである。

本例では、特に前記全層に跨る白欠陥部のサイズを、欠陥部１５（１６）の領域サイズによりクラス分けしたクラスに応じて決められたサイズとして、修正を行うもので、このようにすることにより、同じクラスの欠陥に対しては同じ条件で修正することができ、作業の単純化が可能で、自動化も容易となる。
尚、欠陥部の検出については、通常、所定の検査機あるいは検査器具により、予め、着色層１２、ＯＣ層１３、透明導電性膜１４の各層を形成毎に、あるいは、これらの各層を形成した後に、行い、更に、柱状スペーサ（図４の１１７に相当）、配向制御用突起（図４の１１６に相当）を形成後に透明導電性膜１４の欠陥を検出する。

更に、図１に基づいて、欠陥部の修正を説明する。
先ず、欠陥部（図１（ａ１）１６、図１（ａ２）１５参照）を含む各領域に対し、それぞれ、レーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板１１の面まで除去し、全層に跨る白欠陥部１８として形成する。（図１（ｂ））
ここでは、レーザ光１７として、ＹＡＧレーザの第３高調波（３５５ｎｍ）を用いているが、これに限定はされない。
波長が短かいレーザ光が、熱の面や、分解能の面から好ましく、例えば、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌエキシマレーザ（３０８ｎｍ）等が挙げられる。
例えば、図３に示すようにして、ＸＹステージ３０上にカラーフィルタ形成基板１０を載置し、突起欠陥１８をレーザ４０にて照射して除去する。
図示していないが、レーザ照射手段５０はレーザ光発生部、レーザ光の照射ショットを制御するシャッタ、フィルタ、ハーフミラー、全反射ミラー、レーザ光を成形するアパーチャ、対物レンズ５１等を備えて、光学系を形成しており、成形されたレーザ光は対物レンズ５１により集光され照射される。

次いで、前記全層に跨る白欠陥部１８の着色層１２の白欠陥部の修正は、対応する色の着色材料を塗布する。（図１（ｃ））
例えば、図２（ａ）に示すように、塗布針１９Ａの先端の針部１９Ａａに塗布液１２Ａを付けて塗布を行う。
あるいは、図２（ｂ）に示すように、インクジェットノズル部１９Ｂから吐出して塗布を行う。
着色材料としては、樹脂中に顔料や染料を分散させた硬化性の樹脂が、好ましく、用いられる。
次いで、前記全層に跨る白欠陥部１８のＯＣ層１３の白欠陥部の修正は、対応するＯＣ層形成用の樹脂材料を、同様に、塗布用の針やインクジェットノズル部を用いて塗布する。（図１（ｄ））
ＯＣ層形成用の樹脂材料としては、光又は熱硬化アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリグリシジルメタクリレート系樹脂、エポキシ樹脂等が用いられる。
次いで、前記全層に跨る白欠陥部１８の透明導電性膜（ＩＴＯ層）１４の白欠陥部に、固形のＩＴＯを溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布して、更に、局所的に修正個所を加熱して焼成し、導電性のＩＴＯ膜を形成する。（図１（ｅ））
例えば、 0．００３μｍ〜１μｍ程度の粒子径のＩＴＯ粒子１５ｗｔ％を残部である溶剤に分散したものが挙げられ、溶剤としては、ＰＥＧＭＥＡ等が挙げられる。
焼成における加熱としては、ハロゲンランプによる加熱、あるいは、ＣＯ₂ レーザによる加熱が挙げられる。
尚、焼成のための加熱は、１００℃〜３００℃程度の範囲で、空気雰囲気中で行う。
また、塗布は必要に応じて１回以上行う。
局所過熱する焼成工程を行うことにより、塗布膜の固着を強固にでき、場合によっては、焼成により塗布膜の特性（導電性、透明度等）をその使用に適するように変化することができる。
本例のように、ＩＴＯを固形の導電性材とした場合には、塗布膜からなるＩＴＯの酸化を促進し、その抵抗値を下げることを可能としている。
尚、透明導電性膜の修正個所の抵抗値が、１×１０⁴ 〜５×１０⁷ Ω／ｃｍ□の範囲であることが、液晶の配向制御の面からは好ましい。
このようにして、本例の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法は行われる。

本例は１例で、本発明はこれに限定はされない。
また、本例では、図１（ａ１）に示すような透明導電性膜１４より下の層に異物を有する欠陥部１６を、あるいは、図１（ａ２）に示すような透明導電性膜１４に欠損部を有する欠陥部１５を主な欠陥として、説明したが、修正する欠陥部はこれらに限定されない。 例えば、着色層やＯＣ層の欠損個所や、透明導電性膜１４に、異物や、柱状スペーサ（図４の１１７に相当）、配向制御用突起（図４の１１６に相当）の形成材料が付着している欠陥部も修正対象となる。
本例ではベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる液晶表示素子用のカラーフィルタ形成基板を修正の対象としたが、該カラーフィルタ形成基板を作製するための、ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる中間工程の基板を修正対象としても良い。
また、本例では、透明導電性膜１４の修正材料として、固形ＩＴＯを溶剤に分散させたものを用いたが、これに限定はされない。
同様の機能が持てるものであれば他の導電性材を溶剤に分散させて用いても良い。
また、透明導電性膜１４の修正材料として、固形の導電性材（導電性粒子）を分散させたＵＶ硬化型の樹脂を用いて、塗布を行い、塗布された樹脂をＵＶ照射して硬化させて修正しても良い。

図１（ａ１）（図１（ａ２））〜図１（ｅ）は本発明の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理工程を示した工程断面図である。 図２（ａ）は塗布用の針を用いた塗布を示した概略図で、図２（ｂ）はインクジェット方式の塗布を示した概略図である。 レーザ光の照射装置によるレーザ光照射の１例を示した概略図である。 図４（ａ）はカラーフイルタ形成基板の１例の一部断面を示し、図４（ｂ）は図４（ａ）のＥ１側からみた図である。 図４に示すカラーフイルタ形成基板を用いたＭＶＡモードの液晶表示パネルの断面図である。

符号の説明

１０ 透明導電性膜付きカラーフィルタ基板
１１ 透明基板（ここでは石英基板）
１２ 着色層
１２Ａ 修正膜
１２ａ 着色材層
１３ ＯＣ層（保護層、あるいは平坦化層とも言う）
１３Ａ 修正膜
１４ 透明導電性膜（ここではＩＴＯ膜）
１４Ａ 修正膜
１５ 欠陥部
１５ａ 異物
１６ 欠陥部
１６ａ （透明導電膜の）欠損部
１７ レーザ光（ここでは３５５ｎｍ波長のＹＡＧレーザ）
１８ （全層にわたる）白欠陥部
１９Ａ 塗布針
１９Ａａ 針部
１９Ｂ インクジェットノズル部
２０ 基板ホルダー
３０ ＸＹステージ
４０ レーザ光（ここでは３５５ｎｍ波長のＹＡＧレーザ）
５０ レーザ照射手段
５１ 対物レンズ
６０ Ｚ方向移動用ガイドレール

Claims (10)

1. ベース基板の一面に少なくとも着色層と透明導電性膜とをこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板に対して、その欠陥部を修正する、欠陥修正方法であって、各欠陥部についての修正は、前記多層構造の膜に対して、それぞれ、欠陥部を含む領域にレーザ光を照射して、該領域の各層を除去して、該欠陥部を含む領域をベース基板面まで除去し、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部として形成した後、形成された前記全層に跨る白欠陥部に対し、積層順に、各層の白欠陥部を修正するもので、且つ、各層の白欠陥部の修正は、修正用材料を塗布し、必要に応じて、乾燥処理、硬化処理、焼成処理の１以上を行うもので、前記多層構造の膜の全層に跨る白欠陥部のサイズを１以上の決められたサイズとして修正を行うことを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
2. 請求項１に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の着色層の白欠陥部の修正は、対応する色の着色材料を塗布するものであることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
3. 請求項１ないし２のいずれか１項に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の透明導電性膜の白欠陥部の修正は、固形の導電性材を溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布し、塗布された層を局所過熱する焼成工程を行うものであることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
4. 請求項３に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記固形の導電性材が固形ＩＴＯであることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
5. 請求項１ないし２のいずれか１項に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記全層に跨る白欠陥部の透明導電性膜の白欠陥部の修正は、固形の導電性材を分散させたＵＶ硬化型の樹脂を塗布し、塗布された樹脂をＵＶ照射して硬化するものであることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、各層の白欠陥部の修正における修正用材料の塗布は、塗布針あるいはディスペンサを用いた塗布方式、またはインクジェット塗布方式であることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
7. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、前記透明導電性膜がＩＴＯであることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法であって、透明導電性膜より下側の各層については、透明導電性膜形成前には各層の欠陥の修正を行わないで、透明導電性膜形成後に修正を行うことを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板の欠陥修正方法。
9. ベース基板の一面に、少なくとも着色層、透明導電性膜をこの順に積層した多層構造の膜を配設してなる、透明導電性膜付きカラーフィルタ基板であって、請求項１ないし８のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板の欠陥修正方法により修正されたことを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板。
10. 請求項９に記載の透明導電性膜付きカラーフィルタ基板であって、透明導電性膜の修正個所の抵抗値が、１×１０⁴ 〜５×１０⁷ Ω／ｃｍ□の範囲であることを特徴とする透明導電性膜付きカラーフィルタ基板。

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