WO2010089820A1 - アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示ユニット、液晶表示装置、テレビジョン受像機 - Google Patents

アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示ユニット、液晶表示装置、テレビジョン受像機 Download PDF

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    • G09G2320/028Improving the quality of display appearance by changing the viewing angle properties, e.g. widening the viewing angle, adapting the viewing angle to the view direction

Definitions

  • the present invention relates to an active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes in one pixel region and a liquid crystal display device (pixel division method) using the same.
  • a plurality of subpixels provided in one pixel are controlled to have different luminances, and the area level of these subpixels.
  • a liquid crystal display device pixel division method, for example, see Patent Document 1 that displays a halftone by a tone.
  • a coupling capacitance is formed at the overlapping portion of the pixel electrode 121b and the control electrode 118, and the electrically floating pixel electrode 121b is connected to the pixel electrodes 121a and 121c via the coupling capacitance (capacitive coupling active Matrix substrate).
  • the wiring 414 drawn from the gate bus line 112 (n ⁇ 1) is connected to the gate electrodes 421g and 422g, and the wiring 424 drawn from the auxiliary capacitance bus line 113 and the connection portion 423 are connected to discharge.
  • the transistor 421 is connected to the gate electrode 421g, the pixel electrode 121b, and the connection portion 423, and the discharging transistor 422 is connected to the gate electrode 422g, the pixel electrode 121c, and the connection portion 423.
  • each of the sub-pixels corresponding to the pixel electrodes 121a and 121c can be a bright sub-pixel, and the sub-pixel corresponding to the pixel electrode 121b can be a dark sub-pixel.
  • Halftone can be displayed by area gradation of dark sub-pixel (1).
  • the three pixel electrodes 121a to 121c can be connected to the auxiliary capacitance bus line 113. Further, image sticking of the pixel electrode 121b which is electrically floating can be suppressed.
  • Japanese Patent Publication Japanese Patent Laid-Open No. 2006-39290 (Publication Date: February 9, 2006)”
  • the discharge transistor 421 connected to these bus lines.
  • the wiring 424 drawn from the auxiliary capacity bus line 113 and the wiring 414 drawn from the gate bus line 112 (n ⁇ 1) are necessary.
  • the wirings 414 and 424 a dead space is formed in the pixel region, the aperture ratio is lowered, and the load on the gate bus line is increased.
  • An object of the present invention is to suppress a decrease in aperture ratio and an increase in load on a gate bus line (scanning signal line) in a capacitively coupled active matrix substrate having a discharge transistor.
  • the active matrix substrate of the present invention includes a scanning signal line extending in a row direction, a first transistor connected to the data signal line and the scanning signal line, when the extending direction of the data signal line is a column direction, A first pixel that includes second and third transistors connected to the same scanning signal line different from the scanning signal line, and a storage capacitor wiring, and is electrically connected to the first transistor in one pixel region.
  • An electrode and a second pixel electrode connected to the first pixel electrode via a capacitor, the storage capacitor line is formed in the same layer as the data signal line, and the second transistor includes the storage capacitor line and the second pixel electrode.
  • the third transistor is electrically connected to the one pixel electrode, and the third transistor is electrically connected to the storage capacitor line and the second pixel electrode.
  • the storage capacitor wiring is formed in the same layer as the data signal line (separate layer from the scanning signal line), an intersection between the storage capacitor wiring and the scanning signal line can be provided. Therefore, by providing the second and third transistors (discharging transistors) in the vicinity of the intersection, the aperture ratio is lowered and the load on the gate bus line (scanning signal line) is increased as compared with the conventional case (see FIG. 41). Can be suppressed. Further, as compared with the case where the storage capacitor line is provided in the same layer as the scanning signal line, the distance between the storage capacitor line and each pixel electrode is reduced, and there is an advantage that the storage capacitor can be increased without changing the aperture ratio.
  • FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal panel of FIG. 1.
  • 3 is a timing chart illustrating a driving method of a liquid crystal display device including the liquid crystal panel of FIG. 1. It is a schematic diagram which shows the display state of the liquid crystal panel of FIG. It is a top view which shows the modification of the liquid crystal panel of FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel of FIG.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel of FIG. It is a top view which shows the other modification of the liquid crystal panel shown in FIG.
  • FIG. 16 is a plan view illustrating a configuration example of the liquid crystal panel of FIG. 15.
  • FIG. 16 is a plan view illustrating another configuration example of the liquid crystal panel illustrated in FIG. 15.
  • FIG. 19 is a plan view illustrating a configuration example of the liquid crystal panel in FIG. 18.
  • FIG. 22 is a plan view illustrating another configuration example of the liquid crystal panel illustrated in FIG. 21.
  • FIG. 22 is a plan view illustrating still another configuration example of the liquid crystal panel illustrated in FIG. 21.
  • FIG. 16 is an equivalent circuit diagram showing a configuration when the scanning direction of the liquid crystal panel of FIG. 15 is reversed. It is a top view which shows the structural example of the liquid crystal panel of FIG. FIG.
  • FIG. 28 is a plan view illustrating another configuration example of the liquid crystal panel illustrated in FIG. 27. It is a top view which shows other structure of this liquid crystal panel. It is a top view which shows the further another modification of the liquid crystal panel shown in FIG. It is a top view which shows other structure of this liquid crystal panel.
  • (A) is a schematic diagram which shows the structure of this liquid crystal display unit
  • (b) is a schematic diagram which shows the structure of this liquid crystal display device. It is a block diagram explaining the whole structure of this liquid crystal display device. It is a block diagram explaining the function of this liquid crystal display device.
  • FIG. 26 is a block diagram illustrating functions of the present television receiver. It is a disassembled perspective view which shows the structure of this television receiver.
  • the extending direction of the scanning signal lines is hereinafter referred to as the row direction.
  • the scanning signal line may extend in the horizontal direction or in the vertical direction. Needless to say, it is good.
  • the alignment regulating structure is omitted as appropriate.
  • FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing a part of the liquid crystal panel according to the present embodiment.
  • this liquid crystal panel includes data signal lines (15j and 15k) extending in the column direction (up and down direction in the figure) and scanning signal lines (16i and 16j extending in the row direction (left and right direction in the figure)). ), Pixels (101 to 104) arranged in the row and column directions, storage capacitor lines (18j and 18k) extending in the column direction (vertical direction in the figure), and common electrode (counter electrode) com, The structure of is the same.
  • the pixel column including the pixels 101 and 102 and the pixel column including the pixels 103 and 104 are adjacent to each other, and the pixel row including the pixels 101 and 103 and the pixel row including the pixels 102 and 104 are adjacent to each other. is doing.
  • the present liquid crystal panel is a capacitively coupled liquid crystal panel having a discharge transistor.
  • 212b (for discharge) 212c (for discharge) and one storage capacitor line 18j are provided, and three pixel electrodes (17a to 17c) are arranged in the column direction in the pixel 102.
  • the pixel electrode 17a (first pixel electrode) is connected to the data signal line 15j via the transistor 12 (first transistor) connected to the scanning signal line 16j, and the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17c (first pixel electrode). 3 pixel electrodes) are connected to each other, and the pixel electrodes 17a and 17c and the pixel electrode 17b (second pixel electrode) are connected via a coupling capacitor CC, and scanning is performed immediately before the scanning signal line 16j.
  • the discharge transistors 212b and 212c are connected to the signal line 16i, the pixel electrodes 17a and 17c and the storage capacitor line 18j are connected through the transistor 212c, and the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18j are connected through the transistor 212b.
  • a storage capacitor is connected between the pixel electrodes 17a and 17c (including electrically connected portions) and the storage capacitor wiring 18j. Sac is formed, a storage capacitor CSb is formed between the pixel electrode 17b (including the electrical connection portion) and the storage capacitor line 18j, and a liquid crystal capacitor CLa is formed between the pixel electrode 17a and the common electrode com.
  • a liquid crystal capacitor CLb is formed between the electrode 17b and the common electrode com, and a liquid crystal capacitor CLc is formed between the pixel electrode 17c and the common electrode com.
  • the pixel electrode 17a and 17c and the pixel electrode 17b are coupled through the coupling capacitor CC, the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17c after the transistor 12 is turned off (after scanning the scanning signal line 16j).
  • the potential is vac and the potential of the pixel electrode 17b after the transistor 12 is turned off (after scanning the scanning signal line 16j) is vb,
  • the subpixel including the pixel electrode 17a is a bright subpixel
  • the subpixel including the pixel electrode 17b is a dark subpixel
  • the subpixel including the pixel electrode 17c is bright.
  • Subpixels can be used for display by area gradation of these two bright subpixels and one dark subpixel. Thereby, the viewing angle characteristic of this liquid crystal display device can be improved.
  • the burn-in of the subpixel including the floating pixel electrode is suppressed.
  • variations in pixel charge rate due to the data signal potential written in the previous frame can be suppressed.
  • FIG. 4 is a timing chart showing a driving method of the liquid crystal display device (normally black mode).
  • Sj and Sk indicate signal potentials supplied to the data signal lines 15j and 15k
  • GPi and GPj respectively indicate gate-on pulse signals supplied to the scanning signal lines 16i and 16j
  • Vac indicates the pixel electrode 17a.
  • Vb shows the potential of the pixel electrode 17b.
  • VAC indicates the potential of the pixel electrodes 17A and 17C provided in the pixel 103 (see FIG. 3)
  • VB indicates the potential of the pixel electrode 17B provided in the pixel 103 (see FIG. 3).
  • the scanning signal lines are sequentially selected, the polarity of the signal potential supplied to the data signal lines is inverted every horizontal scanning period (1H), and the same number in each frame.
  • the polarity of the signal potential supplied in the horizontal scanning period is inverted in units of one frame, and in the same horizontal scanning period, a signal potential having a reverse polarity is supplied to two adjacent data signal lines.
  • the data signal line 15j includes the (n ⁇ 1) th horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16i). Is supplied with a negative polarity signal potential, supplied with a positive polarity signal potential during the nth horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16j), and supplied with the (n ⁇ 1) thth data signal line 15k. A positive polarity signal potential is supplied during the horizontal scanning period, and a negative polarity signal potential is supplied during the nth horizontal scanning period. As a result, as shown in FIG.
  • a scanning signal line is sequentially selected, and a positive signal potential is supplied to the data signal line 15j in the (n-1) th horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16i).
  • a negative polarity signal potential is supplied during the nth horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16j), and a negative polarity signal potential is supplied to the data signal line 15k during the (n-1) th horizontal scanning period.
  • a positive signal potential is supplied in the nth horizontal scanning period.
  • FIG. 1 shows a specific example of the pixel 101 in FIG.
  • members on the color filter substrate (counter substrate) side are omitted, and only members of the active matrix substrate are shown.
  • the transistor 12 is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15j and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18j is provided so as to vertically traverse the pixel region defined by the data signal line 15j and the scanning signal line 16j. Is provided.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15j in parallel therewith.
  • a pixel electrode 17 a first pixel electrode
  • a pixel electrode 17 b second pixel electrode
  • a pixel electrode 17 c are arranged in this order in the column direction, and the pixel electrode 17 a is close to the transistor 12.
  • the source electrode of the transistor 12 is connected to the data signal line 15 j, the drain electrode is connected to the drain lead electrode 27, and the scanning signal line 16 j is the gate electrode of the transistor 12.
  • the drain lead electrode 27 passes under the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b, reaches the pixel electrode 17c, is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a, and is connected to the pixel electrode 17c through the contact hole 11c. It is connected.
  • the storage capacitor wiring 18j passes from the scanning signal line 16j of its own stage (intersection with the scanning signal line 16j) to the scanning signal line 16i of the previous stage through the pixel electrode 17a, the pixel electrode 17b, and the pixel electrode 17c.
  • Transistors 212b and 212c are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16i (the intersection with the scanning signal line 16i).
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212b and 212c
  • a part of the storage capacitor wiring 18j functions as a common source electrode of the transistors 212b and 212c
  • a drain electrode of the transistor 212b is a drain electrode of the transistor 212b.
  • the drain electrode of the transistor 212c is connected to the pixel electrode 17c via the contact hole 111c, and the drain lead electrode 127 passes under the pixel electrode 17c and reaches the bottom of the pixel electrode 17b to reach the contact hole. It is connected to the pixel electrode 17b via 111b.
  • capacitance is formed in a portion where the drain lead electrode 27 and the pixel electrode 17b overlap through the interlayer insulating film and a portion where the drain lead electrode 127 and the pixel electrode 17c overlap through the interlayer insulating film.
  • the sum is the coupling capacitance CC (see FIG. 3).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17a overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17c overlap through the interlayer insulating film, and the sum of these is held.
  • the capacitance is CSac (see FIG. 3).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSb (see FIG. 3).
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line XY in FIG.
  • the present liquid crystal panel includes an active matrix substrate 3, a color filter substrate 30 facing the active matrix substrate 3, and a liquid crystal layer 40 disposed between both substrates (3, 30).
  • the scanning signal line 16i is formed on the glass substrate 31, and the gate insulating film 43 is formed so as to cover the scanning signal line 16i.
  • a drain lead electrode 27, a storage capacitor line 18j, a drain lead electrode 127, and a data signal line 15j are formed.
  • the semiconductor layers (i layer and n + layer) of the transistors 12, 212b, and 212c, and the source electrode and the drain electrode that are in contact with the n + layer are formed in the upper layer of the gate insulating film 43. Yes. Further, an interlayer insulating film 51 is formed so as to cover a metal layer composed of a data signal line, a drain lead electrode, a storage capacitor line, and the like. Pixel electrodes 17b and 17c are formed on the interlayer insulating film 51, and an alignment film 9 is formed so as to cover the pixel electrodes. Although not included in the cross-sectional view of FIG. 2, the interlayer insulating film 51 is penetrated in the formation portion of the contact holes 11a, 11c, 111b, and 111c of FIG.
  • the gate insulating film 43 may have a single layer structure of an inorganic insulating film (for example, silicon nitride SiNx), or a thick organic insulating film (for example, an insulating film made of SOG material) and a thinner inorganic insulating film (for example, a nitrided film) A laminated structure with silicon (SiNx) may be used.
  • the interlayer insulating film 51 may also have a single layer structure of an inorganic insulating film (for example, silicon nitride SiNx) or a multilayer structure of a thin inorganic insulating film (for example, silicon nitride SiNx) and a thicker organic insulating film. Also good.
  • the interlayer insulating film 51 has a multi-layer structure in this way, the parasitic capacitance between the pixel electrode and each signal line is reduced, so that, for example, the pixel electrode can be formed large (the aperture ratio can be increased).
  • the interlayer insulating film 51 is thinned (locally) between a portion overlapping the drain extraction electrode 27 and the pixel electrode 17b and a portion overlapping the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17c. (For example, a thick organic insulating film is pierced).
  • a black matrix 13 and a colored layer (color filter layer) 14 are formed on a glass substrate 32, and a common electrode (com) 28 is formed thereon, and an alignment film is formed so as to cover this. 19 is formed.
  • the method for manufacturing a liquid crystal panel includes an active matrix substrate manufacturing process, a color filter substrate manufacturing process, and an assembly process in which both substrates are bonded to each other and filled with liquid crystal.
  • a metal film such as titanium, chromium, aluminum, molybdenum, tantalum, tungsten, or copper, an alloy film thereof, or a laminated film thereof (thickness: 1000 mm to 3000 mm) is sputtered onto a substrate such as glass or plastic. Then, patterning is performed by photolithography technology (Photo Engraving Process, hereinafter referred to as “PEP technology”) to form scanning signal lines (gate electrodes of each transistor).
  • PEP technology Photo Engraving Process
  • an inorganic insulating film such as silicon nitride or silicon oxide is formed on the entire substrate on which the scanning signal lines are formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method to form a gate insulating film.
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • an intrinsic amorphous silicon film (thickness 1000 to 3000 mm) and an n + amorphous silicon film (thickness 400 to 700 mm) doped with phosphorus are continuously formed on the gate insulating film (whole substrate) by CVD.
  • patterning is performed by the PEP technique, and a silicon laminated body including an intrinsic amorphous silicon layer and an n + amorphous silicon layer is formed in an island shape on the gate electrode.
  • a metal film such as titanium, chromium, aluminum, molybdenum, tantalum, tungsten, or copper, an alloy film thereof, or a stacked film thereof (thickness 1000 to 3000 mm) is formed on the entire substrate on which the silicon laminate is formed. Then, patterning is performed by a PEP technique to form data signal lines, transistor source / drain electrodes, storage capacitor wirings, and drain lead electrodes (formation of a metal layer).
  • the n + amorphous silicon layer constituting the silicon stacked body is removed by etching to form a transistor channel.
  • the semiconductor layer may be formed of an amorphous silicon film as described above.
  • a polysilicon film may be formed, or a laser annealing treatment is performed on the amorphous silicon film and the polysilicon film to form a crystal. May be improved. Thereby, the moving speed of the electrons in the semiconductor layer is increased, and the characteristics of the transistor (TFT) can be improved.
  • an interlayer insulating film is formed over the entire substrate on which the data signal lines and the like are formed.
  • an inorganic interlayer insulating film (passivation film) made of SiNx having a thickness of about 3000 mm is formed by CVD using a mixed gas of SiH 4 gas, NH 3 gas, and N 2 gas so as to cover the entire surface of the substrate.
  • an organic interlayer insulating film made of a positive photosensitive acrylic resin having a thickness of about 3 ⁇ m is formed by spin coating or die coating.
  • the interlayer insulating film is etched away by PEP technology to form a contact hole.
  • a transparent conductive film (thickness 1000 to 2000 mm) made of ITO (Indium / Tin / Oxide), IZO (Indium / Zinc / Oxide), zinc oxide, tin oxide or the like is formed on the entire substrate on the interlayer insulating film in which the contact holes are formed. Is formed by sputtering, and then patterned by PEP technology to form each pixel electrode.
  • polyimide resin is printed on the entire substrate on the pixel electrode with a thickness of 500 to 1000 mm, and then baked and rubbed in one direction with a rotating cloth to form an alignment film.
  • the active matrix substrate is manufactured as described above.
  • the color filter substrate manufacturing process will be described below.
  • a chromium thin film or a resin containing a black pigment is formed on a glass or plastic substrate (entire substrate), and then patterned by PEP technology to form a black matrix.
  • red, green and blue color filter layers are formed in a pattern in the gap of the black matrix by using a pigment dispersion method or the like.
  • a transparent conductive film made of ITO, IZO, zinc oxide, tin oxide or the like is formed on the entire substrate on the color filter layer to form a common electrode (com).
  • a color filter substrate can be manufactured as described above.
  • a seal material made of a thermosetting epoxy resin or the like is applied to one of the active matrix substrate and the color filter substrate by screen printing in a frame-like pattern lacking the liquid crystal inlet portion, and the liquid crystal layer is applied to the other substrate.
  • a spherical spacer having a diameter corresponding to the thickness and made of plastic or silica is dispersed.
  • the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded together, and the sealing material is cured.
  • the liquid crystal panel is manufactured.
  • the storage capacitor wiring is formed in the same layer as the data signal line in parallel therewith. Therefore, it is possible to provide a discharge transistor near the intersection of the scanning signal line and the storage capacitor line, and in order to provide a discharge transistor as in the prior art (see FIG. 41), a wiring is drawn from the storage capacitor line, There is no need to draw wiring from the scanning signal line. Thereby, it is possible to suppress a decrease in the aperture ratio and an increase in the load on the scanning signal line.
  • the storage capacitor wiring is formed in the metal layer (same layer as the data signal line), the storage capacitor wiring is held in each pixel electrode as compared with the case where the storage capacitor wiring is formed in the gate layer (same layer as the scanning signal line). The distance from the capacitor wiring is reduced. Therefore, the storage capacitor can be increased without changing the overlapping area of both (pixel electrode and storage capacitor wiring) (that is, without changing the aperture ratio). In addition, the overlapping area between the two can be reduced and the aperture ratio can be increased without changing the storage capacitor.
  • the drain lead electrodes 27 and 127 are increased in order to increase the aperture ratio. Even if it is made thinner, the required coupling capacitance value can be maintained.
  • the storage capacitor wiring is formed in the same layer as the data signal line, a part of the storage capacitor wiring can function as a common source electrode of the discharge transistors (212b and 212c). There is no need to provide contact holes. As a result, it is possible to prevent contact failure from occurring in the contact hole and disturbance of liquid crystal alignment due to the contact hole.
  • the pixel can be blackened by cutting the drain lead electrode 27 between the drain electrode of the transistor 12 and the contact hole 11a ( (In each frame, the potential of the storage capacitor wiring 18j is supplied to the pixel electrodes 17a and 17c when the scanning signal line 16i in the previous stage is scanned).
  • FIG. 6 and FIG. 7 which is an XY cross-sectional view thereof, a capacitor electrode 47 is provided below the storage capacitor wiring 18j so as to overlap the pixel electrodes 17a to 17c.
  • the electrode 47 can also be connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 81a.
  • the capacitor electrode 47 is formed in the same layer as the scanning signal line 16j.
  • the contact hole 81a formation portion the gate insulating film 43 and the interlayer insulating film 51 are penetrated and the pixel electrode is formed. 17a and the capacitance electrode 47 are in contact. 6 and 7, the storage capacitor can be formed even in the portion where the storage capacitor wiring 18j and the capacitor electrode 47 overlap with each other through the gate insulating film 43, and the aperture ratio remains almost unchanged.
  • the storage capacitor CSac can be increased.
  • the width of the capacitor electrode 47 is made slightly larger than that of the storage capacitor wire 18j, and the column of the storage capacitor wire 18j is placed inside the two edges along the column direction of the capacitor electrode 47. It is desirable to have two edges along the direction. In this way, even if the alignment and formation width of the capacitor electrode 47 vary, the value of the storage capacitor is unlikely to vary. Further, a portion where the capacitor electrode 47 and the pixel electrode 17b overlap with each other only through the gate insulating film 43 and the interlayer insulating film 51 (from the overlapping portion of the capacitor electrode 47 and the pixel electrode 17b, the capacitor electrode 47, the pixel electrode 17b, and the storage capacitor). Since the coupling capacitance can be formed in a portion excluding the overlapping portion with the wiring 18j), the drain extraction electrodes 27 and 127 can be made thin.
  • the width of the storage capacitor line 18j is made slightly larger than that of the capacitor electrode 47, and the two edges along the column direction of the capacitor electrode 47 are located inside the two edges along the column direction of the storage capacitor line 18j. It may be located. In this way, the value of the storage capacitor is unlikely to vary even if the alignment and formation width of the storage capacitor line 18j vary. In addition, a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrodes 17a to 17c overlap with each other through the interlayer insulating film 51 is increased, and the storage capacitor value can be increased.
  • a multi-gap type liquid crystal panel has been proposed in which the thickness of the liquid crystal layer is changed for each of R (red), G (green), and B (blue) pixels to compensate for the wavelength dependence of retardation, thereby suppressing coloring.
  • the liquid crystal capacitance is different for each of the R, G, and B pixels
  • the pull-in voltage when the transistor is turned off is different for each of the R, G, and B pixels, and burn-in and flicker due to this are problematic. Therefore, when the liquid crystal panel of FIG. 6 is of a multi-gap type as shown in FIG. 38 (R pixel liquid crystal layer thickness dR> G pixel liquid crystal layer thickness dG> B pixel liquid crystal layer thickness dB).
  • the capacitor electrode 47 has a length that overlaps the pixel electrodes 17a to 17c
  • the capacitor electrode 47 has a length that overlaps only the pixel electrodes 17a and 17b
  • the capacitor electrode 47 has a length. If the length overlaps only the pixel electrode 17a and the capacitor electrode 47 of each pixel is formed of a transparent electrode, the storage capacitor compensates for variations in liquid crystal capacitance without changing the aperture ratio of the R, G, and B pixels.
  • the drawing voltage can be made uniform among the R, G, and B pixels. Thereby, image sticking and flicker can be suppressed.
  • the capacitor electrode 47 of each pixel is positioned so that the two edges along the column direction of the capacitor electrode 47 are positioned inside the two edges along the column direction of the storage capacitor wiring 18j.
  • the width of the capacitor electrode 47 of the R pixel> the width of the capacitor electrode 47 of the G pixel> the width of the capacitor electrode 47 of the B pixel may be formed without changing the aperture ratio of the R, G, B pixels. Variations can be compensated by the storage capacitor, and the pull-in voltages can be made uniform among the R, G, and B pixels. Thereby, image sticking and flicker can be suppressed.
  • the liquid crystal panel of FIG. 6 is modified and the drain extraction electrode 27 is shortened so as to overlap only the pixel electrode 17a as shown in FIG. 8 and FIG. 9 which is an XY sectional view thereof. It is also possible to increase the aperture ratio by providing it. That is, the drain electrode of the transistor 12 is connected to the pixel electrode 17a through the contact hole 11a, and the capacitor electrode 47 is provided below the storage capacitor wiring 18j so as to overlap the pixel electrodes 17a to 17c.
  • the pixel electrode 17a is connected to the pixel electrode 17a through the hole 81a, and the pixel electrode 17c is connected to the pixel electrode 17c through the contact hole 81c.
  • the capacitor electrode 47 is formed in the same layer as the scanning signal line 16j.
  • the gate insulating film 43 and the interlayer insulating film 51 are pierced so that the capacitor electrode 47 and the pixel electrode 17a are in contact with each other.
  • the gate insulating film 43 and the interlayer insulating film 51 are penetrated, and the capacitor electrode 47 and the pixel electrode 17c are in contact with each other.
  • the capacitor electrode 47 (particularly the wide portion) and the pixel electrode 17b overlap with each other only through the gate insulating film 43 and the interlayer insulating film 51 (the overlap between the capacitor electrode 47 and the pixel electrode 17b).
  • the capacitor is formed in the portion excluding the overlapping portion of the capacitor electrode 47, the pixel electrode 17b, and the storage capacitor wiring 18j), and the portion where the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17c overlap through the interlayer insulating film, These sums become the coupling capacitance CC (see FIG. 3).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSb (see FIG. 3).
  • a capacitance (coupling capacitance) is formed in a portion where the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17c overlap with each other through the interlayer insulating film. Therefore, depending on the capacitance, a wide portion may not be formed in the capacitance electrode 47. .
  • the liquid crystal panel of FIG. 8 is modified to combine the contact hole 11a and the contact hole 81a into one contact hole 41a, as shown in FIG. 10 and FIG. 11 which is an XY sectional view thereof, and the contact hole 111c and the contact hole 81c. Can be combined into one contact hole 141c.
  • the interlayer insulating film 51 is penetrated, and the drain lead electrode 27 is also formed with a penetration portion that entirely overlaps the central portion of the penetration portion of the interlayer insulating film 51.
  • the gate insulating film 43 is also penetrated in a region under the penetration portion of the drain extraction electrode 27, whereby the pixel electrode 17 a and the drain extraction electrode 27 and the capacitance electrode 47 are in contact with each other. Since the liquid crystal alignment is likely to be disturbed in the vicinity of the contact hole, the disturbance of the liquid crystal alignment can be suppressed by reducing the number of contact holes as described above.
  • the contact hole 41a may be formed as follows. That is, when a mixed gas of CF 4 gas and O 2 gas is used for etching the interlayer insulating film, the interlayer insulating film 51 is removed at the location where the contact hole 41a is formed, and the surface (for example, Al) of the drain lead electrode 27 is removed. The etching stops when exposed, and the interlayer insulating film 51 and the gate insulating film 43 are removed and the surface (for example, Al) of the capacitor electrode 47 is exposed at the formation portion of the penetration portion of the drain lead electrode 27. Stops.
  • This step also removes the gate insulating film and interlayer insulating film located above the end of the scanning signal line to expose the end of the scanning signal line (the end of the scanning signal line is used as an external connection terminal). To connect).
  • buffered hydrofluoric acid (BHF) in which hydrofluoric acid (HF) and ammonium fluoride (NH 4 F) are mixed can be used in addition to the above mixed gas.
  • the liquid crystal panel of FIG. 1 is modified, and as shown in FIG. 12 and its XY cross-sectional view, FIG. 13, a drain is formed in the same layer as the scanning signal line for pixel correction when the transistor 12 becomes defective. It is also possible to provide a transfer electrode 77 that overlaps both the extraction electrode 27 and the storage capacitor line 18j. In this configuration, when a failure such as a short circuit occurs in the transistor 12, as shown in FIG. 14, the intersection of the transfer electrode 77 and the drain lead electrode 27 is melted to short-circuit both, and the transfer electrode 77 and the holding electrode are held. The intersecting portion of the capacitor wiring 18j is melted to short-circuit both, and the drain lead electrode 27 is cut between the drain electrode of the transistor 12 and the contact hole 11a.
  • the potential of the storage capacitor wiring 18j is always supplied to the pixel electrodes 17a and 17c of the pixel in which the transistor 12 is defective, and the pixel can be corrected to a black spot.
  • the transfer electrode 77 is provided so as to overlap with an alignment regulating structure (light-shielding material such as a linear protrusion) provided on the color filter substrate.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is a bright sub-pixel and the sub-pixel including the pixel electrode 17b is a dark sub-pixel. Display can be performed by the area gradation of the pixel.
  • a specific example of the pixel 101 in FIG. 15 is shown in FIG.
  • the transistor 12 is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15j and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18j is provided so as to vertically traverse the pixel region defined by the data signal line 15j and the scanning signal line 16j.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15j in parallel therewith.
  • a pixel electrode 17 a first pixel electrode
  • a pixel electrode 17 b second pixel electrode
  • the source electrode of the transistor 12 is connected to the data signal line 15j, the drain electrode is connected to the drain lead electrode 27, and the scanning signal line 16j is the gate electrode of the transistor 12.
  • the drain lead electrode 27 passes under the pixel electrode 17a, reaches the pixel electrode 17b, and is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 11b.
  • the storage capacitor line 18j passes from the scanning signal line 16j of its own stage (intersection with the scanning signal line 16j) to the scanning signal line 16i (scanning signal line) of the previous stage through the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b.
  • the transistors 212a and 212b are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16i.
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212a and 212b
  • a part of the storage capacitor wiring 18j functions as a common source electrode of the transistors 212a and 212b
  • a drain electrode of the transistor 212a is a drain electrode of the transistor 212a.
  • the drain electrode of the transistor 212b is connected to the pixel electrode 17b via the contact hole 111b, and the drain lead electrode 127 passes under the pixel electrode 17b and below the pixel electrode 17a to reach the contact hole. It is connected to the pixel electrode 17a via 111a.
  • a capacitance is formed in a portion where the drain lead electrode 27 and the pixel electrode 17a overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the drain lead electrode 127 and the pixel electrode 17b overlap through the interlayer insulating film.
  • the sum is the coupling capacitance CC (see FIG. 15).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17a overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSa (see FIG. 15).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSb (see FIG. 15).
  • this liquid crystal panel can suppress a decrease in aperture ratio and an increase in scanning signal line load in a capacitively coupled active matrix substrate having a discharge transistor.
  • the storage capacitance between the pixel electrode and the storage capacitor wiring can be increased while maintaining the aperture ratio.
  • the drain lead electrodes (27 and 127) are thinned to increase the aperture ratio, the necessary coupling capacitance value can be maintained. Further, even when a defect such as a short circuit occurs in a transistor connected to the data signal line, it is possible to correct the blackening of the pixel.
  • the drain extraction electrode 27 is connected to the pixel electrode 17b (the pixel electrode far from the scanning signal line 16j of the own stage). However, as shown in FIG. This may be shortened, and this may be connected to the pixel electrode 17a (the pixel electrode closer to the scanning signal line 16j of the own stage) via the contact hole 11a. In this case, since the coupling capacitance is formed at the portion where the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, it is not necessary to form the coupling capacitance separately.
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17a is a bright sub-pixel
  • the sub-pixel including the pixel electrode 17b is a dark sub-pixel.
  • the pixels shown in FIG. 17 and the pixels shown in FIG. 16 may be alternately arranged in the row direction (the column direction has the same configuration).
  • the bright subpixels and the dark subpixels can be arranged in a checkered pattern (bright subpixels and dark subpixels are alternately arranged in the row and column directions), and the display quality is improved. Can be increased.
  • the shape of the drain extraction electrode 27 is made uniform in the pixels 101 and 103 adjacent in the row direction (both ends are located in the vicinity of the scanning signal line 16i and the other end is the scanning signal).
  • the shape located in the vicinity of the line 16j), the structure of the bright subpixels and the dark subpixels are uniform, and the aperture ratio can be made uniform among the three colors of pixels to improve display quality (for example, white Chromaticity unevenness during display can be suppressed).
  • the pixel electrodes of each pixel are arranged in the column direction, and the pixels in the same column are connected to the same data signal line, but the present invention is not limited to this.
  • the pixel electrodes of each pixel are arranged in the row direction, and odd-numbered pixels among the pixels included in the same column are connected to one of two adjacent data signal lines, and even-numbered ones. May be connected to the other of the two data signal lines.
  • the pixel electrode 17a is disposed on the data signal line 15j side
  • the pixel electrode 17b is disposed on the data signal line 15k side
  • the pixel electrode 17a is disposed on the scanning signal line 16j.
  • the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b are connected via the coupling capacitor CC1, and discharged to the scanning signal line 16i scanned immediately before the scanning signal line 16j.
  • Transistors 212a and 212b are connected, the pixel electrode 17a and the storage capacitor line 18j are connected via the transistor 212a, and the pixel electrode 17b and the storage capacitor line 18j are connected via the transistor 212b.
  • the pixel electrode 17e is arranged on the data signal line 15j side, the pixel electrode 17f is arranged on the data signal line 15k side, and the pixel electrode 17f is connected to the scanning signal line 16i.
  • the transistor 12f is connected to the data signal line 15k, the pixel electrode 17f and the pixel electrode 17e are connected via the coupling capacitor CC2, and the scanning signal line 16h scanned immediately before the scanning signal line 16i is used for discharging.
  • the transistors 212e and 212f are connected, the pixel electrode 17e and the storage capacitor line 18j are connected via the transistor 212e, and the pixel electrode 17f and the storage capacitor line 18j are connected via the transistor 212f.
  • the pixel electrode 17A is disposed on the data signal line 15k side
  • the pixel electrode 17B is disposed on the data signal line 15l side
  • the pixel electrode 17A is disposed on the scanning signal line 16j.
  • the pixel electrode 17A and the pixel electrode 17B are connected via the coupling capacitor CC3, and discharged to the scanning signal line 16i scanned immediately before the scanning signal line 16j.
  • Transistors 212A and 212B are connected, the pixel electrode 17A and the storage capacitor line 18k are connected via the transistor 212A, and the pixel electrode 17B and the storage capacitor line 18k are connected via the transistor 212B.
  • FIG. 22 is a timing chart showing a driving method of the liquid crystal display device (normally black mode).
  • Sj and Sk are signal potentials supplied to the data signal lines 15j and 15k
  • GPi and GPj are gate-on pulse signals supplied to the scanning signal lines 16i and 16j, respectively
  • Va is the pixel electrode 17a.
  • Vb represents the potential of the pixel electrode 17b
  • Ve represents the potential of the pixel electrode 17e
  • Vf represents the potential of the pixel electrode 17f
  • VA represents the potential of the pixel electrode 17A
  • VB represents the pixel electrode 17B. Is shown.
  • the scanning signal lines are sequentially selected, the polarity of the signal potential supplied to the data signal lines is inverted every one vertical scanning period (1V), and two adjacent two A signal potential having a reverse polarity is supplied to the data signal line.
  • the data signal line 15j includes the (n ⁇ 1) th horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16i). Is supplied with a positive polarity signal potential, and also supplied with a positive polarity signal potential during the nth horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16j).
  • the data signal line 15k is supplied with the (n-1) thth potential.
  • the negative polarity signal potential is supplied during the horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16i), and the negative polarity signal potential is also supplied during the nth horizontal scanning period.
  • the subpixel including the pixel electrode 17a (positive polarity) is a bright subpixel.
  • a subpixel including the pixel electrode 17b (positive polarity) is a dark subpixel (DA)
  • a subpixel including the pixel electrode 17A (negative polarity) is a bright subpixel (BR)
  • scanning signal lines are sequentially selected, and a negative polarity signal potential is supplied to the data signal line 15j in the (n-1) th horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16i).
  • the negative potential signal potential is also supplied to the nth horizontal scanning period (including the scanning period of the scanning signal line 16j), and the (n-1) th horizontal scanning period (of the scanning signal line 16i) is supplied to the data signal line 15k.
  • a positive polarity signal potential is supplied during the scanning period), and a positive polarity signal potential is also supplied during the nth horizontal scanning period.
  • are satisfied, and the subpixel including the pixel electrode 17a (negative polarity) is a bright subpixel (BR), and the pixel electrode 17b ( The subpixel including the negative polarity) is a dark subpixel (DA), the subpixel including the pixel electrode 17A (plus polarity) is the bright subpixel (BR), and the subpixel including the pixel electrode 17B (plus polarity) is the dark subpixel (DA).
  • DA a subpixel including the pixel electrode 17e (plus polarity) is a dark subpixel (BR), and a subpixel including the pixel electrode 17f (plus polarity) is a bright subpixel (DA).
  • display can be performed by the area gradation of the bright subpixel and the dark subpixel arranged in the row direction, and the viewing angle characteristics of the present liquid crystal display device can be improved.
  • the two pixel electrodes of the pixel can be discharged (to the storage capacitor wiring) immediately before the data signal potential is written to the pixel (1H before), the burn-in of the subpixel including the floating pixel electrode is suppressed.
  • variations in pixel charge rate due to the data signal potential written in the previous frame can be suppressed.
  • each data signal line is driven by V-line inversion (a signal potential having the same polarity is supplied to an arbitrary data signal line during one vertical scanning period), and the signal potential written and written to the pixel is changed.
  • the polarity distribution can be dot inversion. Thereby, power consumption is suppressed and flicker is also reduced.
  • the bright sub-pixel and the dark sub-pixel can be arranged in a checkered pattern (the bright sub-pixel and the dark sub-pixel are alternately arranged in the row and column directions, respectively), the streak caused by the bright pixels being arranged in a line. The unevenness of the shape is suppressed, and a clear display becomes possible.
  • FIG. 24 shows a specific example of the pixels 101 to 104 in FIG. In FIG. 24, for ease of viewing, members on the color filter substrate (counter substrate) side are omitted, and only members of the active matrix substrate are shown.
  • a transistor 12a is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15j and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18j is vertically cut across the pixel region defined by the data signal lines 15j and 15k and the scanning signal line 16j. Is provided.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15j in parallel therewith.
  • the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b are arranged in the row direction so that the pixel electrode 17a is close to the transistor 12a and overlaps the storage capacitor wiring 18j.
  • the source electrode of the transistor 12a is connected to the data signal line 15j, the drain electrode is connected to the pixel electrode 17a, and the scanning signal line 16j is the gate electrode of the transistor 12a. Further, the pixel electrode 17a is connected to the capacitor electrode 37a extending in the row direction via the contact hole 181a.
  • the capacitor electrode 37a is formed in the same layer as the scanning signal line, and extends from under the pixel electrode 17a to the pixel electrode 17b through the storage capacitor line 18j.
  • the storage capacitor line 18j passes from the scanning signal line 16j of its own stage (intersection with the scanning signal line 16j), passes through the edge of the pixel electrode 17a and the pixel electrode 17b, and then scans the scanning signal line 16i of the previous stage (scanning).
  • Transistors 212a and 212b are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16i.
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212a and 212b
  • a part of the storage capacitor wiring 18j functions as a common source electrode of the transistors 212a and 212b
  • a drain electrode of the transistor 212a Is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 111a, and the drain electrode of the transistor 212b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 111b.
  • the capacitor electrode 37a and the pixel electrode 17b are held by the portion where the capacitor electrode 37a and the pixel electrode 17b overlap through only the gate insulating film and the interlayer insulating film (from the overlapping portion of the capacitor electrode 37a and the pixel electrode 17b).
  • a capacitor is formed in a portion excluding an overlapping portion with the capacitor wiring 18j), and this capacitor is a coupling capacitor CC1 (see FIG. 21).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17a overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the capacitance electrode 37a overlap through the gate insulating film, and the sum of these is held.
  • capacitor CSa (see FIG. 21). Further, a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSb (see FIG. 21).
  • a transistor 12f is arranged near the intersection of the data signal line 15k adjacent to the data signal line 15j and the scanning signal line 16i, and a pixel region defined by the data signal lines 15i and 15k and the scanning signal line 16i is vertically cut.
  • a storage capacitor line 18j is provided.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15k in parallel therewith.
  • the pixel electrode 17e and the pixel electrode 17f are arranged in the row direction so that the pixel electrode 17f is close to the transistor 12f and overlaps the storage capacitor wiring 18j.
  • the source electrode of the transistor 12f is connected to the data signal line 15k, the drain electrode is connected to the pixel electrode 17f, and the scanning signal line 16i is the gate electrode of the transistor 12f. Further, the pixel electrode 17f is connected to a capacitor electrode 37f extending in the row direction via a contact hole 181f. The capacitor electrode 37f is formed in the same layer as the scanning signal line, and reaches from below the pixel electrode 17f to below the pixel electrode 17e via the storage capacitor line 18j.
  • the storage capacitor line 18j passes from the scanning signal line 16i of its own stage (intersection with the scanning signal line 16i) to the scanning signal line 16h of the previous stage through the edge of the pixel electrode 17e and the pixel electrode 17f (scanning).
  • Transistors 212e and 212f are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16h.
  • a part of the scanning signal line 16h in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212e and 212f
  • a part of the storage capacitor line 18j functions as a common source electrode of the transistors 212e and 212f
  • a drain electrode of the transistor 212e Is connected to the pixel electrode 17e through the contact hole 111e
  • the drain electrode of the transistor 212f is connected to the pixel electrode 17f through the contact hole 111f.
  • a capacitor is formed in a portion where the capacitor electrode 37f and the pixel electrode 17e overlap with each other through the gate insulating film and the interlayer insulating film, and this capacitor becomes a coupling capacitor CC2 (see FIG. 21).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17f overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the capacitance electrode 37f overlap through the gate insulating film, and the sum of these is held.
  • the capacitance is CSf (see FIG. 21).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17e overlap with the interlayer insulating film interposed therebetween, and this is a storage capacitor CSe (see FIG. 21).
  • a transistor 12A is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15k and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18k is cut across the pixel region defined by the data signal lines 15k and 15l and the scanning signal line 16j. Is provided.
  • the storage capacitor line 18k is formed in the same layer as the data signal line 15k in parallel therewith.
  • the pixel electrode 17A and the pixel electrode 17B are arranged in the row direction so that the pixel electrode 17A is close to the transistor 12A and overlaps the storage capacitor wiring 18k.
  • the source electrode of the transistor 12A is connected to the data signal line 15k, the drain electrode is connected to the pixel electrode 17A, and the scanning signal line 16j is the gate electrode of the transistor 12A. Further, the pixel electrode 17A is connected to the capacitor electrode 37A extending in the row direction via the contact hole 181A.
  • the capacitor electrode 37A is formed in the same layer as the scanning signal line, and reaches from below the pixel electrode 17A to below the pixel electrode 17B via the storage capacitor line 18k.
  • the storage capacitor line 18k passes from the scanning signal line 16j of its own stage (intersection with the scanning signal line 16j), passes through the edge of the pixel electrode 17A and the pixel electrode 17B, and then scans the scanning signal line 16i of the previous stage (scanning).
  • the transistors 212A and 212B are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18k and the scanning signal line 16i.
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212A and 212B
  • a part of the storage capacitor line 18k functions as a common source electrode of the transistors 212A and 212B
  • a drain electrode of the transistor 212A Is connected to the pixel electrode 17A through the contact hole 111A
  • the drain electrode of the transistor 212B is connected to the pixel electrode 17B through the contact hole 111B.
  • a capacitor is formed in a portion where the capacitor electrode 37A and the pixel electrode 17B overlap with each other through the gate insulating film and the interlayer insulating film, and this capacitor becomes a coupling capacitor CC3 (see FIG. 21).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17A overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the capacitance electrode 37A overlap through the gate insulating film, and the sum of these is held. It is a capacity CSA (see FIG. 21).
  • a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17B overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSB (see FIG. 21).
  • this liquid crystal panel can suppress a decrease in aperture ratio and an increase in scanning signal line load in a capacitively coupled active matrix substrate having a discharge transistor.
  • the storage capacitance between each pixel electrode and the storage capacitor wiring can be increased without changing the aperture ratio.
  • a capacitor electrode 37a or the like may be disposed in the dark line portion.
  • the pixel electrode 17a is connected to the capacitor electrode 37a formed in the same layer as the scanning signal line through the contact hole 181a, and the capacitor electrode 37a extends in the row direction from below the pixel electrode 17a. It extends to both sides under the storage capacitor wiring 18j and further extends in the row direction to reach under the pixel electrode 17b.
  • the pixel electrode 17b is connected to the capacitor electrode 37b formed in the same layer as the scanning signal line through the contact hole 181b.
  • the capacitor electrode 37b extends in the row direction from the bottom of the pixel electrode 17b, and the storage capacitor wiring It extends to both sides under 18j, and further extends in the row direction to reach under the pixel electrode 17a.
  • the capacitive electrode 37a and the pixel electrode 17b overlap with the gate insulating film and the interlayer insulating film, and the capacitive electrode 37b and the pixel electrode 17a overlap with the gate insulating film and the interlayer insulating film.
  • a capacitance is formed, and the sum of these is the coupling capacitance CC1 (see FIG. 21).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17a overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the capacitance electrode 37a overlap through the gate insulating film, and the sum of these is held. It is a capacitor CSa (see FIG. 21).
  • a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17b overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the capacitance electrode 37b overlap through the gate insulating film, and the sum of these is held.
  • the capacitance is CSb (see FIG. 21).
  • the coupling capacitance is formed at two locations, the value of the coupling capacitance CC1 can be increased.
  • the capacitance electrodes 37a and 37b has a protruding portion on both sides, the value of the storage capacitors CSa and CSb can be increased.
  • the capacitor electrode 37a and the capacitor electrode 37b are symmetric with respect to the point on the storage capacitor wiring 18j, the coupling capacitance is maintained even if the alignment of the pixel electrodes 17a and 17b with respect to the gate layer is shifted to some extent in the row direction. There is also an advantage that the value of CC1 is compensated.
  • the liquid crystal panel of FIG. 25 is modified, and as shown in FIG. 26, contact hole 11a and contact hole 181a are combined into one contact hole 41a, contact hole 11f and contact hole 181f are combined into one contact hole 41f, and contact hole 11A is combined.
  • the contact hole 181A can be combined into one contact hole 41A.
  • the interlayer insulating film is pierced, and the drain lead electrode is also formed with a piercing portion that entirely overlaps the central portion of the piercing portion of the interlayer insulating film.
  • the gate insulating film is also pierced in the region below the penetration portion of the drain extraction electrode, whereby the pixel electrode 17a is in contact with each of the drain extraction electrode and the capacitance electrode 37a. Since the liquid crystal alignment is likely to be disturbed in the vicinity of the contact hole, the disturbance of the liquid crystal alignment can be suppressed by reducing the number of contact holes as described above.
  • FIG. 27 is a diagram in which the liquid crystal panel shown in FIG. 15 is rewritten so that the scanning direction is from the top to the bottom in the figure
  • FIG. 28 is a specific example of FIG.
  • the transistor 12 is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15j and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18j is provided so as to vertically traverse the pixel region defined by the data signal line 15j and the scanning signal line 16j.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15j in parallel therewith.
  • a pixel electrode 17 a (first pixel electrode) and a pixel electrode 17 b (second pixel electrode) are arranged in the column direction, and the pixel electrode 17 a is close to the transistor 12.
  • the source electrode of the transistor 12 is connected to the data signal line 15j, the drain electrode is connected to the pixel electrode 17a, and the scanning signal line 16j is the gate electrode of the transistor 12.
  • the storage capacitor wiring 18j passes from the scanning signal line 16i in the previous stage (intersection with the scanning signal line 16i) to the scanning signal line 16j (scanning signal line) through the pixel electrode 17b and the pixel electrode 17a.
  • the transistors 212a and 212b are provided in the vicinity of the intersection between the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16i.
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212a and 212b
  • a part of the storage capacitor wiring 18j functions as a common source electrode of the transistors 212a and 212b
  • a drain electrode of the transistor 212a is a drain electrode of the transistor 212a.
  • the drain electrode of the transistor 212b is connected to the pixel electrode 17b via the contact hole 111b, and the drain lead electrode 127 passes under the pixel electrode 17b and below the pixel electrode 17a to reach the contact hole. It is connected to the pixel electrode 17a via 111a.
  • a capacitance is formed in a portion where the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17b overlap with each other via an interlayer insulating film, and this capacitance is a coupling capacitance CC (see FIG. 27). Further, a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17a overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSa (see FIG. 27). Further, a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor line 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor CSb (see FIG. 27).
  • the aperture ratio can be increased (as much as such a drain lead electrode is unnecessary) compared to the case where the drain electrode of the transistor 12 is connected to the drain lead electrode that overlaps the pixel electrode 17b. it can.
  • the pixel electrode 17a has a V shape when viewed in the row direction
  • the pixel electrode 17b has a shape surrounding the pixel electrode 17a as shown in FIG. That is, the pixel electrode 17a includes two sides E1 and E2 forming 315 ° with respect to the scanning signal line, two sides E3 and E4 forming 45 ° with respect to the scanning signal line, one end of the side E1, and one end of the side E2.
  • the edge E5 parallel to the data signal line, one end of the edge E3 and one end of the edge E4, the edge E6 parallel to the data signal line, the other end of the edge E2 and the other end of the edge E4,
  • the side E7 is parallel to the signal line.
  • the gap between the side E1 and a part of the inner periphery of the pixel electrode 17b facing the side E1, the gap between the side E2 and a part of the inner periphery of the pixel electrode 17b facing the side E3, and the side E3 The gap between the part of the inner periphery of the pixel electrode 17b facing the surface and the gap between the side E4 and a part of the inner periphery of the pixel electrode 17b facing the edge E4 can function as an alignment regulating structure.
  • the capacitance electrode 67 that extends 315 ° with respect to the scanning signal line is extended from the drain extraction electrode 127.
  • the capacitor electrode 67 is formed so as to overlap an alignment regulating structure (for example, a linear protrusion) on the color filter substrate side. If the coupling capacitance value can be secured only by the drain lead electrode 127 (capacitor electrode). 67) may not be provided.
  • the liquid crystal panel shown in FIG. 28 is modified, and as shown in FIG. 30, an isosceles trapezoidal pixel electrode having a base along the data signal line in one pixel region, and pixels arranged symmetrically with respect to the pixel electrode.
  • An electrode and a pixel electrode having a shape that fits these two pixel electrodes may be provided.
  • the transistor 12 is disposed in the vicinity of the intersection of the data signal line 15j and the scanning signal line 16j, and the storage capacitor wiring 18j is provided so as to vertically traverse the pixel region defined by the data signal line 15j and the scanning signal line 16j.
  • the storage capacitor line 18j is formed in the same layer as the data signal line 15j in parallel therewith.
  • pixel electrodes 17au and 17av and a pixel electrode 17b are arranged.
  • the pixel electrode 17au is provided in the vicinity of the transistor 12, and has an edge E1 forming 315 degrees with respect to the scanning signal line and an edge E2 forming 45 degrees with respect to the scanning signal line as a leg, and is connected to the data signal line 15j.
  • the pixel electrode 17av is arranged so as to be point-symmetric with the pixel electrode 17au around the center of the pixel, and an edge E3 that forms 45 degrees with respect to the scanning signal line and an edge E4 that forms 315 degrees with respect to the scanning signal line. Is an isosceles trapezoidal shape having a base along the data signal line 15k.
  • the source electrode of the transistor 12 is connected to the data signal line 15j, the drain electrode is connected to the pixel electrode 17au, and the scanning signal line 16j is the gate electrode of the transistor 12.
  • the pixel electrode 17au is connected to the connection electrode 227 through the contact hole 211au, and the connection electrode 227 is connected to the pixel electrode 17av through the contact hole 211av.
  • the storage capacitor wiring 18j extends from the scanning signal line 16i in the previous stage (intersection with the scanning signal line 16i), below the pixel electrode 17b, below the pixel electrode 17av, below the pixel electrode 17b, below the pixel electrode 17au, and from the pixel electrode.
  • the transistors 212a and 212b are provided in the vicinity of the intersection of the storage capacitor line 18j and the scanning signal line 16i after passing under 17b and reaching the scanning signal line 16j of the own stage (intersection with the scanning signal line 16j).
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as a gate electrode of each of the transistors 212a and 212b
  • a part of the storage capacitor wiring 18j functions as a common source electrode of the transistors 212a and 212b
  • a drain electrode of the transistor 212a Is connected to the drain lead electrode 127, the drain electrode of the transistor 212b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 111b, and the drain lead electrode 127 passes under the pixel electrode 17b and down to the pixel electrode 17av to reach the contact hole. It is connected to the pixel electrode 17av via 111av.
  • a capacitance is formed in a portion where the drain extraction electrode 127 and the pixel electrode 17av overlap with each other via an interlayer insulating film, and this capacitance is a coupling capacitance. Further, a capacitance is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17av overlap through the interlayer insulating film and a portion in which the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17au overlap through the interlayer insulating film, and the sum of these is held. It is capacity. In addition, a capacitor is formed in a portion where the storage capacitor wiring 18j and the pixel electrode 17b overlap with each other through the interlayer insulating film, and this is a storage capacitor.
  • the gap between the side E1 and a part of the outer periphery of the pixel electrode 17b facing the edge E1, the gap between the side E2 and a part of the outer periphery of the pixel electrode 17b facing the edge E1, and the edge E3 are opposed to the edge.
  • the gap between a part of the outer periphery of the pixel electrode 17b and the gap between the side E4 and a part of the outer periphery of the pixel electrode 17b opposite to the edge E4 can function as an alignment regulating structure.
  • the present invention is not limited to this.
  • FIG. 31 there is a configuration in which only one discharge transistor connected to the scanning signal line in the previous stage is provided and its drain electrode is connected to the pixel electrode 17b (pixel electrode corresponding to the dark subpixel). Is possible.
  • the transistor 212b is provided as a discharge transistor having the scanning signal line 16i as a gate electrode, the source electrode of the transistor 212b is connected to the storage capacitor wiring 18j, the drain electrode is connected to the drain lead electrode 127 and the contact. It is connected to the pixel electrode 17b through a hole 111b.
  • Other configurations are the same as those in FIG. In this case, when the scanning signal line 16i is scanned, the pixel electrode 17b that is electrically floating is discharged, so that it is possible to prevent the dark sub-pixel from being burned.
  • the capacitively coupled active matrix substrate having a discharge transistor a decrease in aperture ratio and an increase in load on the scanning signal line can be suppressed.
  • the storage capacitance between the pixel electrode and the storage capacitor wiring can be increased while maintaining the aperture ratio.
  • the coupling capacitance is formed at two locations, the necessary coupling capacitance value can be maintained even if the drain lead electrodes (27 and 127) are thinned to increase the aperture ratio.
  • the shape and connection relationship of the three pixel electrodes (17av, 17au, and 17b) and the arrangement and connection relationship of the transistor 12 are the same as those of the liquid crystal panel of FIG. It is formed in the same layer as the scanning signal line 16i along the preceding scanning signal line 16i, and overlaps each of the pixel electrodes 17av and 17b via an insulating layer.
  • a part of the scanning signal line 16i in the previous stage functions as the gate electrode of each of the transistors 212a and 212b, and the common source electrode of these transistors 212a and 212b is connected to the storage capacitor wiring via the drain lead electrode 327 and the contact hole 311.
  • the drain electrode of the transistor 212a is connected to the pixel electrode 17av through the contact hole 111av
  • the drain electrode of the transistor 212b is connected to the pixel electrode 17b through the contact hole 111b.
  • two transistors 212a and 212b are provided as discharge transistors. However, for example, only the transistor 212b can be provided without providing the transistor 212a.
  • the present liquid crystal display unit and the liquid crystal display device are configured as follows. That is, the two polarizing plates A and B are attached to both surfaces of the liquid crystal panel so that the polarizing axis of the polarizing plate A and the polarizing axis of the polarizing plate B are orthogonal to each other. In addition, you may laminate
  • drivers gate driver 202, source driver 201 are connected.
  • ACF is temporarily pressure-bonded to the terminal portion of the liquid crystal panel.
  • the TCP on which the driver is placed is punched out of the carrier tape, aligned with the panel terminal electrode, and heated and pressed.
  • the circuit board 209 (PWB) for connecting the driver TCPs and the input terminal of the TCP are connected by ACF.
  • the liquid crystal display unit 200 is completed.
  • a display control circuit 209 is connected to each driver (201, 202) of the liquid crystal display unit via the circuit board 203, and integrated with the lighting device (backlight unit) 204.
  • the liquid crystal display device 210 is obtained.
  • FIG. 34 is a block diagram showing a configuration of the present liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device includes a display unit (liquid crystal panel), a source driver (SD), a gate driver (GD), and a display control circuit.
  • the source driver drives the data signal line
  • the gate driver drives the scanning signal line
  • the display control circuit controls the source driver and the gate driver.
  • the display control circuit controls a display operation from a digital video signal Dv representing an image to be displayed, a horizontal synchronization signal HSY and a vertical synchronization signal VSY corresponding to the digital video signal Dv from an external signal source (for example, a tuner). For receiving the control signal Dc. Further, the display control circuit, based on the received signals Dv, HSY, VSY, and Dc, uses a data start pulse signal SSP and a data clock as signals for displaying an image represented by the digital video signal Dv on the display unit.
  • Signal SCK digital image signal DA (signal corresponding to video signal Dv) representing an image to be displayed
  • gate start pulse signal GSP gate start pulse signal GSP
  • gate clock signal GCK gate driver output control signal (scanning signal output control signal) GOE is generated and these are output.
  • the video signal Dv is output as a digital image signal DA from the display control circuit, and a pulse corresponding to each pixel of the image represented by the digital image signal DA.
  • a data clock signal SCK is generated as a signal consisting of the above, a data start pulse signal SSP is generated as a signal that becomes high level (H level) for a predetermined period every horizontal scanning period based on the horizontal synchronization signal HSY, and the vertical synchronization signal VSY
  • the gate start pulse signal GSP is generated as a signal that becomes H level only for a predetermined period every one frame period (one vertical scanning period), and the gate clock signal GCK is generated based on the horizontal synchronization signal HSY, and the horizontal synchronization signal HSY and
  • a gate driver output control signal GOE is generated based on the control signal Dc.
  • the digital image signal DA the polarity inversion signal POL for controlling the polarity of the signal potential (data signal potential)
  • the data start pulse signal SSP the data start pulse signal SSP
  • the data clock signal SCK the data clock signal SCK
  • the gate start pulse signal GSP, the gate clock signal GCK, and the gate driver output control signal GOE are input to the gate driver.
  • the source driver is based on the digital image signal DA, the data clock signal SCK, the data start pulse signal SSP, and the polarity inversion signal POL, and an analog potential (signal corresponding to the pixel value in each scanning signal line of the image represented by the digital image signal DA. Potential) is sequentially generated every horizontal scanning period, and these data signals are output to the data signal lines.
  • the gate driver generates a gate-on pulse signal based on the gate start pulse signal GSP, the gate clock signal GCK, and the gate driver output control signal GOE, and outputs them to the scanning signal line, thereby selecting the scanning signal line. Drive.
  • the data signal line and the scanning signal line of the display unit are driven by the source driver and the gate driver, so that the data is transmitted through the transistor (TFT) connected to the selected scanning signal line.
  • TFT transistor
  • a signal potential is written from the signal line to the pixel electrode.
  • a voltage is applied to the liquid crystal layer of each subpixel, whereby the amount of light transmitted from the backlight is controlled, and an image indicated by the digital video signal Dv is displayed on each subpixel.
  • FIG. 35 is a block diagram showing a configuration of a liquid crystal display device 800 for a television receiver.
  • the liquid crystal display device 800 includes a liquid crystal display unit 84, a Y / C separation circuit 80, a video chroma circuit 81, an A / D converter 82, a liquid crystal controller 83, a backlight drive circuit 85, a backlight 86, A microcomputer 87 and a gradation circuit 88 are provided.
  • the liquid crystal display unit 84 includes a liquid crystal panel and a source driver and a gate driver for driving the liquid crystal panel.
  • a composite color video signal Scv as a television signal is input from the outside to the Y / C separation circuit 80, where it is separated into a luminance signal and a color signal.
  • These luminance signals and color signals are converted into analog RGB signals corresponding to the three primary colors of light by the video chroma circuit 81, and further, the analog RGB signals are converted into digital RGB signals by the A / D converter 82. .
  • This digital RGB signal is input to the liquid crystal controller 83.
  • the Y / C separation circuit 80 also extracts horizontal and vertical synchronization signals from the composite color video signal Scv input from the outside, and these synchronization signals are also input to the liquid crystal controller 83 via the microcomputer 87.
  • the liquid crystal display unit 84 receives a digital RGB signal from the liquid crystal controller 83 at a predetermined timing together with a timing signal based on the synchronization signal.
  • the gradation circuit 88 generates gradation potentials for the three primary colors R, G, and B for color display, and these gradation potentials are also supplied to the liquid crystal display unit 84.
  • the backlight drive is performed under the control of the microcomputer 87.
  • the circuit 85 drives the backlight 86, so that light is irradiated to the back surface of the liquid crystal panel.
  • the microcomputer 87 controls the entire system including the above processing.
  • the video signal (composite color video signal) input from the outside includes not only a video signal based on television broadcasting but also a video signal captured by a camera, a video signal supplied via an Internet line, and the like.
  • the liquid crystal display device 800 can display images based on various video signals.
  • a tuner unit 90 is connected to the liquid crystal display device 800, thereby configuring the television receiver 701.
  • the tuner unit 90 extracts a signal of a channel to be received from a received wave (high frequency signal) received by an antenna (not shown), converts the signal to an intermediate frequency signal, and detects the intermediate frequency signal to thereby detect the television.
  • a composite color video signal Scv as a signal is taken out.
  • the composite color video signal Scv is input to the liquid crystal display device 800 as described above, and an image based on the composite color video signal Scv is displayed by the liquid crystal display device 800.
  • FIG. 37 is an exploded perspective view showing an example of the configuration of the present television receiver.
  • the present television receiver 701 includes a first housing 801 and a second housing 806 in addition to the liquid crystal display device 800 as its constituent elements. It is configured to be sandwiched between one housing 801 and a second housing 806.
  • the first housing 801 is formed with an opening 801a through which an image displayed on the liquid crystal display device 800 is transmitted.
  • the second housing 806 covers the back side of the liquid crystal display device 800, is provided with an operation circuit 805 for operating the display device 800, and a support member 808 is attached below. Yes.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those obtained by appropriately modifying the above-described embodiments based on common general technical knowledge and those obtained by combining them are also included in the embodiments of the present invention.
  • the operational effects described in each embodiment are merely examples.
  • the active matrix substrate of the present invention includes a scanning signal line extending in a row direction, a first transistor connected to the data signal line and the scanning signal line, when the extending direction of the data signal line is a column direction, A first pixel that includes second and third transistors connected to the same scanning signal line different from the scanning signal line, and a storage capacitor wiring, and is electrically connected to the first transistor in one pixel region.
  • An electrode and a second pixel electrode connected to the first pixel electrode via a capacitor, the storage capacitor line is formed in the same layer as the data signal line, and the second transistor includes the storage capacitor line and the second pixel electrode.
  • the third transistor is electrically connected to the one pixel electrode, and the third transistor is electrically connected to the storage capacitor wiring and the second pixel electrode.
  • the storage capacitor wiring is formed in the same layer as the data signal line (separate layer from the scanning signal line), an intersection between the storage capacitor wiring and the scanning signal line can be provided. Therefore, by providing the second and third transistors (discharging transistors) in the vicinity of the intersection, the aperture ratio is lowered and the load on the gate bus line (scanning signal line) is increased as compared with the conventional case (see FIG. 41). Can be suppressed. Further, as compared with the case where the storage capacitor line is provided in the same layer as the scanning signal line, the distance between the storage capacitor line and each pixel electrode is reduced, and there is an advantage that the storage capacitor can be increased without changing the aperture ratio.
  • the first transistor can be connected to the scanning signal line of its own stage, and the second and third transistors can be connected to the scanning signal line of the previous stage.
  • the second and third transistors may be provided in the vicinity of the intersection between the scanning signal line and the storage capacitor line in the previous stage.
  • the storage capacitor wiring can be extended in the column direction.
  • the storage capacitor wiring may be configured to overlap each of the first and second pixel electrodes through an interlayer insulating film covering the channel of each transistor.
  • a first capacitor electrode electrically connected to the first pixel electrode may be provided, and the first capacitor electrode and the second pixel electrode may be overlapped with an insulating layer interposed therebetween. it can.
  • the first capacitor electrode may be formed in the same layer as the data signal line.
  • the first capacitor electrode may be formed in the same layer as the scanning signal line.
  • the first capacitor electrode and the storage capacitor wiring may be overlapped with each other with a gate insulating film interposed therebetween.
  • a part of the drain extraction electrode extracted from the drain electrode of the first transistor may function as the first capacitance electrode.
  • the present active matrix substrate may be configured such that the first pixel electrode, the drain extraction electrode extracted from the drain electrode of the first transistor, and the first capacitor electrode are connected by the same contact hole.
  • the present active matrix substrate may have a configuration in which a transfer electrode overlapping each of the first capacitor electrode and the storage capacitor wiring is provided.
  • the first capacitor electrode has two parallel edges, and the storage capacitor wiring also has two parallel edges.
  • both edges of the first capacitor electrode It is also possible to adopt a configuration in which both edges of the storage capacitor wiring are located inside the capacitor.
  • the first capacitor electrode has two parallel edges, and the storage capacitor line also has two parallel edges. It is also possible to adopt a configuration in which both edges of the first capacitor electrode are located inside.
  • the first and second pixel electrodes may be arranged in the column direction.
  • the first and second pixel electrodes may be arranged in the row direction.
  • the present active matrix substrate may include a third pixel electrode that is electrically connected to the first pixel electrode.
  • a second capacitor electrode electrically connected to the second pixel electrode is provided, and the second capacitor electrode and the first pixel electrode may overlap with each other with an insulating layer interposed therebetween. it can.
  • a second capacitor electrode electrically connected to the second pixel electrode is provided, and the second capacitor electrode and the third pixel electrode may overlap with each other with an insulating layer interposed therebetween. it can.
  • a part of the drain extraction electrode extracted from the drain electrode of the third transistor may function as the second capacitance electrode.
  • the first transistor is connected to one of the two adjacent data signal lines in one of the two pixel regions adjacent in the column direction, and the first transistor is connected to the other of the two pixel regions.
  • a configuration in which the other of the two data signal lines is connected may be employed.
  • the first pixel electrode provided in one of the two pixel regions and the second pixel electrode provided in the other may be adjacent to each other in the column direction.
  • the storage capacitor wiring may be extended in the column direction and overlapped with the first and second pixel electrodes and their gaps.
  • the active matrix substrate includes first and second capacitor electrodes formed in the same layer as the scanning signal line, and the first capacitor electrode connected to the first pixel electrode through the contact hole is below the storage capacitor line. And the second capacitor electrode connected to the second pixel electrode through the contact hole reaches the first pixel electrode through the storage capacitor line. You can also.
  • the active matrix substrate includes a scanning signal line extending in a row direction, a first transistor connected to the data signal line and the scanning signal line, and the scanning signal when the extending direction of the data signal line is a column direction.
  • a first pixel electrode electrically connected to the first transistor in one pixel region, the second transistor connected to a scanning signal line different from the line, and a storage capacitor line;
  • a second pixel electrode connected to the pixel electrode through a capacitor, the storage capacitor line is formed in the same layer as the data signal line, and the second transistor is electrically connected to the storage capacitor line and the second pixel electrode. It is characterized by being connected to.
  • the first transistor may be connected to the scanning signal line of the own stage, and the second transistor may be connected to the scanning signal line of the previous stage. Further, the second transistor may be provided in the vicinity of the intersection between the scanning signal line and the storage capacitor line in the previous stage. Further, the storage capacitor wiring can be extended in the column direction.
  • This liquid crystal panel includes the above active matrix substrate.
  • This liquid crystal display unit includes the liquid crystal panel and a driver.
  • This liquid crystal display device includes the liquid crystal display unit and a light source device.
  • the liquid crystal display device includes the active matrix substrate described above, and supplies a signal potential having the same polarity to each data signal line during one vertical period.
  • the television receiver includes the liquid crystal display device and a tuner unit that receives a television broadcast.
  • the active matrix substrate of the present invention and the liquid crystal panel provided with the active matrix substrate are suitable for, for example, a liquid crystal television.

Abstract

 1画素に、第1トランジスタ(12)に電気的に接続された第1画素電極(17a)と、第1画素電極(17a)に容量を介して接続された第2画素電極(17b)とが設けられ、保持容量配線(18j)はデータ信号線(15j)と同層に形成され、第2トランジスタ(212c)は保持容量配線(18j)および第1画素電極(17a)に電気的に接続されるとともに、第3トランジスタ(212b)は保持容量配線(18j)および第2画素電極(17b)に電気的に接続されている。これにより、放電用のトランジスタを有する容量結合型アクティブマトリクス基板において、開口率の低下やゲートバスライン(走査信号線)の負荷増大を抑える。

Description

アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示ユニット、液晶表示装置、テレビジョン受像機
 本発明は、1画素領域に複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板およびこれを用いた液晶表示装置(画素分割方式)に関する。
 液晶表示装置のγ特性の視野角依存性を向上させる(例えば、画面の白浮き等を抑制する)ため、1画素に設けた複数の副画素を異なる輝度に制御し、これら副画素の面積階調によって中間調を表示する液晶表示装置(画素分割方式、例えば特許文献1参照)が提案されている。
 特許文献1記載のアクティブマトリクス基板(図41参照)では、1画素領域に3つの画素電極(121a~121c)と3つのトランジスタ(116・421・422)と制御電極118とが設けられ、ゲートバスライン112(n)に接続されたトランジスタ116のソース電極116sと、2つの画素電極121a・121cと、画素電極121bに重なる制御電極118とが電気的に接続されている。これにより、画素電極121bと制御電極118との重なり部分に結合容量が形成され、電気的にフローティングである画素電極121bが結合容量を介して画素電極121a・121cに接続される(容量結合型アクティブマトリクス基板)。
 また、ゲートバスライン112(n-1)から引き出された配線414がゲート電極421g・422gに接続され、補助容量バスライン113から引き出された配線424と接続部423とが接続され、放電用のトランジスタ421は、ゲート電極421gと画素電極121bと接続部423とに接続され、放電用のトランジスタ422は、ゲート電極422gと画素電極121cと接続部423とに接続される。
 このアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示装置では、画素電極121a・121cに対応する副画素それぞれを明副画素、画素電極121bに対応する副画素を暗副画素とすることができ、これら明副画素(2個)・暗副画素(1個)の面積階調によって中間調を表示することができる。
 そして、前段のゲートバスライン112(n-1)が走査された(放電用のトランジスタ421・422がONする)ときに3つの画素電極121a~121cを補助容量バスライン113に繋ぐことができるため、電気的にフローティングである画素電極121bの焼き付きを抑制することができる。
日本国公開特許公報「特開2006-39290号公報(公開日:2006年2月9日)」
 図41に示すアクティブマトリクス基板では、ゲートバスライン112(n-1)と補助容量バスライン113とが同層にて平行に配されているため、これらバスラインに接続される放電用のトランジスタ421・422を設けるには、補助容量バスライン113から引き出された配線424やゲートバスライン112(n-1)から引き出された配線414が必要となってくる。しかしながら、この配線414・424を設けることにより、画素領域内にデットスペースができて開口率が低下し、またゲートバスラインの負荷が大きくなってしまう。
 本発明は、放電用のトランジスタを有する容量結合型アクティブマトリクス基板において、開口率の低下やゲートバスライン(走査信号線)の負荷増大を抑えることを目的とする。
 本発明のアクティブマトリクス基板は、データ信号線の延伸方向を列方向とした場合に、行方向に延伸する走査信号線と、上記データ信号線および走査信号線に接続された第1トランジスタと、上記走査信号線とは別の同一走査信号線に接続された第2および第3トランジスタと、保持容量配線とを備え、1つの画素領域に、上記第1トランジスタに電気的に接続された第1画素電極と、該第1画素電極に容量を介して接続された第2画素電極とが設けられ、上記保持容量配線はデータ信号線と同層に形成され、第2トランジスタは該保持容量配線および第1画素電極に電気的に接続されるとともに、第3トランジスタは該保持容量配線および第2画素電極に電気的に接続されている。
 本発明のアクティブマトリクス基板では、保持容量配線がデータ信号線と同層(走査信号線と別層)に形成されているため、保持容量配線と走査信号線との交差部を設けることができる。したがって、この交差部近傍に第2および第3トランジスタ(放電用トランジスタ)を設けることで、従来(図41参照)と比較して、開口率の低下やゲートバスライン(走査信号線)の負荷増大を抑えることができる。また、保持容量配線を走査信号線と同層に設ける場合よりも保持容量配線と各画素電極との距離が縮まり、開口率を変えずに保持容量を大きくすることができるというメリットもある。
本液晶パネルの構成例を示す平面図である。 図1の液晶パネルの矢視断面図である。 図1の液晶パネルの等価回路図である。 図1の液晶パネルを備えた液晶表示装置の駆動方法を示すタイミングチャートである。 図3の液晶パネルの表示状態を示す模式図である。 図1の液晶パネルの変形例を示す平面図である。 図6の液晶パネルの矢視断面図である。 図1に示す液晶パネルの他の変形例を示す平面図である。 図8の液晶パネルの矢視断面図である。 図8に示す液晶パネルの他の変形例を示す平面図である。 図10の液晶パネルの矢視断面図である。 図1に示す液晶パネルのさらに他の変形例を示す平面図である。 図12の液晶パネルの矢視断面図である。 図12・13の液晶パネルの修正方法を示す断面図である。 本液晶パネルの他の構成を示す等価回路図である。 図15の液晶パネルの構成例を示す平面図である。 図15に示す液晶パネルの他の構成例を示す平面図である。 本液晶パネルのさらに他の構成を示す等価回路図である。 図18の液晶パネルの表示状態を示す模式図である。 図18の液晶パネルの構成例を示す平面図である。 本液晶パネルのさらに他の構成を示す等価回路図である。 図21の液晶パネルを備えた液晶表示装置の駆動方法を示すタイミングチャートである。 図21の液晶パネルの表示状態を示す模式図である。 図21の液晶パネルの構成例を示す平面図である。 図21に示す液晶パネルの他の構成例を示す平面図である。 図21に示す液晶パネルのさらに他の構成例を示す平面図である。 図15の液晶パネルの走査方向を逆にした場合の構成を示す等価回路図である。 図27の液晶パネルの構成例を示す平面図である。 図27に示す液晶パネルの他の構成例を示す平面図である。 本液晶パネルのさらに他の構成を示す平面図である。 図1に示す液晶パネルのさらに他の変形例を示す平面図である。 本液晶パネルのさらに他の構成を示す平面図である。 (a)は本液晶表示ユニットの構成を示す模式図であり、(b)は本液晶表示装置の構成を示す模式図である。 本液晶表示装置の全体構成を説明するブロック図である。 本液晶表示装置の機能を説明するブロック図である。 本テレビジョン受像機の機能を説明するブロック図である。 本テレビジョン受像機の構成を示す分解斜視図である。 R・G・Bマルチギャップ方式の液晶パネルの断面図である。 図6の液晶パネルをR・G・Bマルチギャップ方式にしたときの構成例を示す平面図である。 図6の液晶パネルをR・G・Bマルチギャップ方式にしたときの別の構成例を示す平面図である。 従来のアクティブマトリクス基板の構成を示す平面図である。
 本発明にかかる実施の形態の例を、図1~40を用いて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜のため、以下では走査信号線の延伸方向を行方向とする。ただし、本液晶パネル(あるいはこれに用いられるアクティブマトリクス基板)を備えた液晶表示装置の利用(視聴)状態において、その走査信号線が横方向に延伸していても縦方向に延伸していてもよいことはいうまでもない。なお、液晶パネルの各図では配向規制用構造物を適宜省略記載している。
 図3は本実施の形態にかかる液晶パネルの一部を示す等価回路図である。図3に示すように、本液晶パネルは、列方向(図中上下方向)に延伸するデータ信号線(15j・15k)、行方向(図中左右方向)に延伸する走査信号線(16i・16j)、行および列方向に並べられた画素(101~104)、列方向(図中上下方向)に延伸する保持容量配線(18j・18k)、および共通電極(対向電極)comを備え、各画素の構造は同一である。なお、画素101・102が含まれる画素列と、画素103・104が含まれる画素列とが隣接し、画素101・103が含まれる画素行と、画素102・104が含まれる画素行とが隣接している。
 本液晶パネルは、放電用のトランジスタを有する容量結合型液晶パネルであり、例えば1つの画素101に対応して、1本のデータ信号線15jと1本の走査信号線16jと3個のトランジスタ12・212b(放電用)・212c(放電用)と1本の保持容量配線18jとが設けられ、該画素102には3つの画素電極(17a~17c)が列方向に並べられている。
 画素101では、画素電極17a(第1画素電極)が、走査信号線16jに接続されたトランジスタ12(第1トランジスタ)を介してデータ信号線15jに接続され、画素電極17aと画素電極17c(第3画素電極)とが互いに接続されるとともに、これら画素電極17a・17cと画素電極17b(第2画素電極)とが結合容量CCを介して接続され、走査信号線16jの直前に走査される走査信号線16iに放電用のトランジスタ212b・212cが接続され、画素電極17a・17cと保持容量配線18jとがトランジスタ212cを介して接続され、画素電極17bと保持容量配線18jとがトランジスタ212bを介して接続され、画素電極17a・17c(電気的接続部分含む)と保持容量配線18jとの間に保持容量CSacが形成され、画素電極17b(電気的接続部分含む)と保持容量配線18jとの間に保持容量CSbが形成され、画素電極17aと共通電極comとの間に液晶容量CLaが形成され、画素電極17bと共通電極comとの間に液晶容量CLbが形成され、画素電極17cと共通電極comとの間に液晶容量CLcが形成されている。
 本液晶パネルを備えた液晶表示装置では、図中下から上(矢印の方向)に走査を行う。まず前段の走査信号線16iの走査時(放電用のトランジスタ212c・212bのON時)に3つの画素電極17a~17cが保持容量配線18jに繋げられ、各画素電極の放電が行われる。ついで自段の走査信号線16jが走査され(トランジスタ12がONとなり)、画素電極17a・17cがデータ信号線15jに繋げられる。ここで、画素電極17a・17cと画素電極17bとが結合容量CCを介して結合されているため、トランジスタ12がOFFした後(走査信号線16jの走査後)の画素電極17aおよび画素電極17cの電位をvac、トランジスタ12がOFFした後(走査信号線16jの走査後)の画素電極17bの電位をvbとすれば、|vac|≧|vb|(なお、例えば|vb|は、vbとcom電位=Vcomとの電位差を意味する)となり、中間調表示時には、画素電極17aを含む副画素を明副画素、画素電極17bを含む副画素を暗副画素、画素電極17cを含む副画素を明副画素とし、これら2つの明副画素および1つの暗副画素の面積階調によって表示を行うことができる。これにより、本液晶表示装置の視野角特性を高めることができる。
 そして、画素にデータ信号電位を書き込む直前(1H前)に、該画素の3つの画素電極を(保持容量配線に)放電させることができるため、フローティングとなる画素電極を含む副画素の焼き付きを抑制し、また、前フレームに書き込まれたデータ信号電位による画素充電率のばらつきも抑えることができる。
 図4は上記液晶表示装置(ノーマリブラックモード)の駆動方法を示すタイミングチャートである。なお、Sj・Skはそれぞれデータ信号線15j・15kに供給される信号電位を示し、GPi・GPjはそれぞれ、走査信号線16i・16jに供給されるゲートオンパルス信号を示し、Vacは画素電極17a・17cの電位を示し、Vbは画素電極17bの電位を示す。なお、VACは、画素103(図3参照)に設けられる画素電極17A・17Cの電位を示し、VBは画素103(図3参照)に設けられる画素電極17Bの電位を示している。
 本駆動方法では、図4に示されるように、走査信号線を順次選択し、データ信号線に供給する信号電位の極性を1水平走査期間(1H)ごとに反転させるとともに、各フレームにおける同一番目の水平走査期間に供給される信号電位の極性を1フレーム単位で反転させ、かつ同一水平走査期間においては隣接する2本のデータ信号線に逆極性の信号電位を供給する。
 具体的には、連続するフレームF1・F2のF1では、走査信号線を順次選択し、データ信号線15jには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間(走査信号線16jの走査期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、データ信号線15kには、(n-1)番目の水平走査期間にプラス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間にマイナス極性の信号電位を供給する。これにより、図4に示すように、(n-1)番目の水平走査期間終了時に、Vac=Vb=VAC=VB=Vcom(保持容量配線18jの電位)、n番目の水平走査期間終了時に|Vac|≧|Vb|かつ|VAC|≧|VB|となり、図5に示すように、画素電極17a(プラス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17b(プラス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17c(プラス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17A(マイナス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17B(マイナス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17C(マイナス極性)を含む副画素は明副画素(BR)となる。
 また、F2では、走査信号線を順次選択し、データ信号線15jには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間(走査信号線16jの走査期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、データ信号線15kには、(n-1)番目の水平走査期間にマイナス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間にプラス極性の信号電位を供給する。これにより、図4に示すように、(n-1)番目の水平走査期間終了時に、Vac=Vb=VAC=VB=Vcom(保持容量配線18jの電位)、n番目の水平走査期間終了時に|Vac|≧|Vb|かつ|VAC|≧|VB|となり、画素電極17a(マイナス極性)を含む副画素は明副画素、画素電極17b(マイナス極性)を含む副画素は暗副画素、画素電極17c(マイナス極性)を含む副画素は明副画素、画素電極17A(プラス極性)を含む副画素は明副画素、画素電極17B(プラス極性)を含む副画素は暗副画素、画素電極17C(プラス極性)を含む副画素は明副画素となる。
 図3の画素101の具体例を図1に示す。図1では、その見易さのために、カラーフィルタ基板(対向基板)側の部材を省略してアクティブマトリクス基板の部材のみ記載している。
 本液晶パネルでは、データ信号線15jおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12が配され、データ信号線15jおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられている。保持容量配線18jはデータ信号線15jと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17a(第1画素電極)、画素電極17b(第2画素電極)および画素電極17cがこの順に列方向に並べられ、画素電極17aがトランジスタ12に近接している。
 トランジスタ12のソース電極はデータ信号線15jに接続され、ドレイン電極はドレイン引き出し電極27に接続され、走査信号線16jがトランジスタ12のゲート電極となっている。ドレイン引き出し電極27は、画素電極17aおよび画素電極17b下を経て、画素電極17c下に到り、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続されるとともに、コンタクトホール11cを介して画素電極17cに接続されている。
 また、保持容量配線18jは、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)から、画素電極17a、画素電極17b、および画素電極17c下を経て、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212b・212cが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212b・212cそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212b・212cの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212bのドレイン電極はドレイン引き出し電極127に接続され、トランジスタ212cのドレイン電極はコンタクトホール111cを介して画素電極17cに接続され、ドレイン引き出し電極127は、画素電極17c下を経て画素電極17b下に到り、コンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続される。
 本液晶パネルでは、ドレイン引き出し電極27および画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分と、ドレイン引き出し電極127および画素電極17cが層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が結合容量CC(図3参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび画素電極17cが層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSac(図3参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSb(図3参照)となっている。
 図2は図1のX-Y矢視断面図である。同図に示すように、本液晶パネルは、アクティブマトリクス基板3と、これに対向するカラーフィルタ基板30と、両基板(3・30)間に配される液晶層40とを備える。アクティブマトリクス基板3では、ガラス基板31上に走査信号線16iが形成され、これを覆うようにゲート絶縁膜43が形成されている。ゲート絶縁膜43の上層には、ドレイン引き出し電極27、保持容量配線18j、ドレイン引き出し電極127、およびデータ信号線15jが形成されている。なお、断面には含まれないが、ゲート絶縁膜43の上層には、トランジスタ12・212b・212cの半導体層(i層およびn+層)と、n+層に接するソース電極およびドレイン電極が形成されている。さらに、データ信号線、ドレイン引き出し電極、および保持容量配線等からなるメタル層を覆うように層間絶縁膜51が形成されている。層間絶縁膜51上には画素電極17b・17cが形成され、さらに、これら画素電極を覆うように配向膜9が形成されている。なお、図2の断面図には含まれないが、図1のコンタクトホール11a・11c・111b・111cの形成部では層間絶縁膜51が刳り貫かれている。
 ゲート絶縁膜43は、無機絶縁膜(例えば、窒化シリコンSiNx)の単層構造としてもよいし、厚い有機絶縁膜(例えば、SOG材料からなる絶縁膜)とこれより薄い無機絶縁膜(例えば、窒化シリコンSiNx)との積層構造としてもよい。層間絶縁膜51についても、無機絶縁膜(例えば、窒化シリコンSiNx)の単層構造としてもよいし、薄い無機絶縁膜(例えば、窒化シリコンSiNx)とこれより厚い有機絶縁膜との複層構造としてもよい。このように層間絶縁膜51を複層構造とすれば、画素電極と各信号線との寄生容量が低減されるため、例えば画素電極を大きく形成する(開口率を高める)ことができる。なおこの場合、結合容量を確保するため、層間絶縁膜51を、ドレイン引き出し電極27および画素電極17bと重なる部分と、ドレイン引き出し電極127および画素電極17cと重なる部分とで(局所的に)薄くしておく(例えば、厚い有機絶縁膜を刳り貫いておく)こともできる。
 一方、カラーフィルタ基板30では、ガラス基板32上にブラックマトリクス13および着色層(カラーフィルタ層)14が形成され、その上層に共通電極(com)28が形成され、さらにこれを覆うように配向膜19が形成されている。
 次に、本液晶パネルの製造方法について説明する。液晶パネルの製造方法には、アクティブマトリクス基板製造工程と、カラーフィルタ基板製造工程と、両基板を貼り合わせて液晶を充填する組み立て工程とが含まれる。
 まず、ガラス、プラスチックなどの基板上に、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅などの金属膜、それらの合金膜、または、それらの積層膜(厚さ1000Å~3000Å)をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術(Photo Engraving Process、以下、「PEP技術」と称する)によりパターンニングを行い、走査信号線(各トランジスタのゲート電極)を形成する。
 次いで、走査信号線が形成された基板全体に、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により窒化シリコンや酸化シリコンなどの無機絶縁膜(厚さ3000Å~5000Å程度)を成膜し、ゲート絶縁膜を形成する。
 続いて、ゲート絶縁膜上(基板全体)に、CVD法により真性アモルファスシリコン膜(厚さ1000Å~3000Å)と、リンがドープされたn+アモルファスシリコン膜(厚さ400Å~700Å)とを連続して成膜し、その後、PEP技術によってパターニングを行い、ゲート電極上に、真性アモルファスシリコン層とn+アモルファスシリコン層とからなるシリコン積層体を島状に形成する。
 続いて、シリコン積層体が形成された基板全体に、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅などの金属膜、それらの合金膜、または、それらの積層膜(厚さ1000Å~3000Å)をスパッタリング法により成膜し、その後、PEP技術によりパターンニングを行い、データ信号線、トランジスタのソース電極・ドレイン電極、保持容量配線、およびドレイン引き出し電極を形成する(メタル層の形成)。
 さらに、ソース電極およびドレイン電極をマスクとして、シリコン積層体を構成するn+アモルファスシリコン層をエッチング除去し、トランジスタのチャネルを形成する。ここで、半導体層は、上記のようにアモルファスシリコン膜により形成させてもよいが、ポリシリコン膜を成膜させてもよく、また、アモルファスシリコン膜およびポリシリコン膜にレーザアニール処理を行って結晶性を向上させてもよい。これにより、半導体層内の電子の移動速度が速くなり、トランジスタ(TFT)の特性を向上させることができる。
 次いで、データ信号線などが形成された基板全体に層間絶縁膜を形成する。具体的には、SiHガスとNHガスとNガスとの混合ガスを用い、基板全面を覆うように、厚さ約3000ÅのSiNxからなる無機層間絶縁膜(パッシベーション膜)をCVDにて形成し、さらに必要に応じて、厚さ約3μmのポジ型感光性アクリル樹脂からなる有機層間絶縁膜をスピンコートやダイコートにて形成する。
 その後、PEP技術により層間絶縁膜をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。続いて、コンタクトホールが形成された層間絶縁膜上の基板全体に、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる透明導電膜(厚さ1000Å~2000Å)をスパッタリング法により成膜し、その後、PEP技術によりパターニングし、各画素電極を形成する。
 最後に、画素電極上の基板全体に、ポリイミド樹脂を厚さ500Å~1000Åで印刷し、その後、焼成して、回転布にて一方向にラビング処理を行って、配向膜を形成する。以上のようにして、アクティブマトリクス基板製造される。
 以下に、カラーフィルタ基板製造工程について説明する。
 まず、ガラス、プラスチックなどの基板上(基板全体)に、クロム薄膜、または黒色顔料を含有する樹脂を成膜した後にPEP技術によってパターンニングを行い、ブラックマトリクスを形成する。次いで、ブラックマトリクスの間隙に、顔料分散法などを用いて、赤、緑および青のカラーフィルタ層(厚さ2μm程度)をパターン形成する。
 続いて、カラーフィルタ層上の基板全体に、ITO、IZO、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる透明導電膜(厚さ1000Å程度)を成膜し、共通電極(com)を形成する。
 最後に、共通電極上の基板全体に、ポリイミド樹脂を厚さ500Å~1000Åで印刷し、その後、焼成して、回転布にて一方向にラビング処理を行って、配向膜を形成する。上記のようにして、カラーフィルタ基板を製造することができる。
 以下に、組み立て工程について、説明する。
 まず、アクティブマトリクス基板およびカラーフィルタ基板の一方に、スクリーン印刷により、熱硬化性エポキシ樹脂などからなるシール材料を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層の厚さに相当する直径を持ち、プラスチックまたはシリカからなる球状のスペーサーを散布する。
 次いで、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせ、シール材料を硬化させる。
 最後に、アクティブマトリクス基板およびカラーフィルタ基板並びにシール材料で囲まれる空間に、減圧法により液晶材料を注入した後、液晶注入口にUV硬化樹脂を塗布し、UV照射によって液晶材料を封止することで液晶層を形成する。以上のようにして、液晶パネルが製造される。
 本液晶パネルでは、放電用のトランジスタを有する容量結合方式のアクティブマトリクス基板において、保持容量配線を、データ信号線と同層にこれと並行するように形成している。したがって、走査信号線および保持容量配線の交差部近傍に放電用トランジスタを設けることが可能となり、従来(図41参照)のように放電用のトランジスタを設けるために保持容量配線から配線を引き出したり、走査信号線から配線を引き出したりする必要がなくなる。これにより、開口率の低下や走査信号線の負荷増大を抑えることができる。
 また、保持容量配線をメタル層(データ信号線と同層)に形成しているため、保持容量配線をゲート層(走査信号線と同層)に形成する場合と比べて、各画素電極と保持容量配線との距離が小さくなる。したがって、両者(画素電極・保持容量配線)の重なり面積を変えずに(すなわち、開口率を変えずに)保持容量を大きくすることができる。また、保持容量を変えることなく、両者の重なり面積を小さくし、開口率を高めることができる。
 また、結合容量が2箇所(ドレイン引き出し電極27および画素電極17bが重なる部分と、ドレイン引き出し電極127および画素電極17cが重なる部分)に形成されるため、開口率を高めるべくドレイン引き出し電極27・127を細くしても必要な結合容量の値を維持することができる。
 また、保持容量配線がデータ信号線と同層に形成されるため、保持容量配線の一部を、放電用トランジスタ(212b・212c)の共通のソース電極として機能させることができ、従来のようにコンタクトホールを設ける必要がない。これにより、コンタクトホールでコンタクト不良が起きたり、コンタクトホールによる液晶配向の乱れが生じたりすることが回避される。
 また、データ信号線に接続するトランジスタ12に短絡等の不良が生じた場合、ドレイン引き出し電極27をトランジスタ12のドレイン電極およびコンタクトホール11a間で切断すれば、該画素を黒点化することができる(各フレームにおいて、前段の走査信号線16iが走査された時に保持容量配線18jの電位が画素電極17a・17cに供給されるため)。
 図1の液晶パネルを変形し、図6およびそのX-Y断面図である図7に示すように、保持容量配線18j下に、画素電極17a~17cと重なるように容量電極47を設け、容量電極47を、コンタクトホール81aを介して画素電極17aと接続することもできる。容量電極47は、図6・7に示されるように、走査信号線16jと同層に形成され、コンタクトホール81aの形成部では、ゲート絶縁膜43および層間絶縁膜51が刳り貫かれて画素電極17aと容量電極47とが接触している。図6・7の構成によれば、保持容量配線18jと容量電極47とがゲート絶縁膜43を介して重なる部分にも保持容量を形成することができ、開口率をほぼそのままにして図3の保持容量CSacを大きくすることができる。
 この場合、図6に示すように、容量電極47の幅を保持容量配線18jのそれよりも若干大きくし、容量電極47の列方向に沿う2本のエッジの内側に、保持容量配線18jの列方向に沿う2本のエッジが位置するようにすることが望ましい。こうすれば、容量電極47のアライメントや形成幅がばらついても保持容量の値はばらつき難くなる。また、容量電極47と画素電極17bとがゲート絶縁膜43および層間絶縁膜51のみを介して重なる部分(容量電極47と画素電極17bとの重なり部分から、容量電極47と画素電極17bと保持容量配線18jとの重なり部分を除いた部分)に結合容量を形成することができるため、ドレイン引き出し電極27・127を細くすることができる。
 もっとも、保持容量配線18jの幅を容量電極47のそれよりも若干大きくし、保持容量配線18jの列方向に沿う2本のエッジの内側に、容量電極47の列方向に沿う2本のエッジが位置するようにしてもよい。こうすれば、保持容量配線18jのアライメントや形成幅がばらついても保持容量の値はばらつき難くなる。また、層間絶縁膜51を介して保持容量配線18jと画素電極17a~17cとが重なる部分が大きくなり、保持容量の値を大きくすることができる。
 ここで、R(赤)・G(緑)・B(青)画素ごとに液晶層の厚みを変えてリタデーションの波長依存性を補償し、色付きを抑えるマルチギャップ方式の液晶パネルが提案されている。ただ、R・G・B画素ごとに液晶容量が異なるこの方式では、トランジスタOFF時の引き込み電圧がR・G・B画素ごとに異なり、これに起因する焼き付きやフリッカが問題となっている。そこで、図6の液晶パネルを図38に示すようなマルチギャップ方式(R画素の液晶層の厚みdR>G画素の液晶層の厚みdG>B画素の液晶層の厚みdB)とする場合には、R・G・B画素ごとに保持容量の値を変える、具体的には、R画素の保持容量>G画素の保持容量>B画素の保持容量とすることが望ましい。
 例えば図39に示すように、R画素では容量電極47を画素電極17a~17cに重なる長さとし、G画素では容量電極47を画素電極17a・17bのみに重なる長さとし、B画素では容量電極47を画素電極17aのみに重なる長さとし、さらに各画素の容量電極47を透明電極で形成しておけば、R・G・B画素の開口率を変えることなく液晶容量のばらつきを保持容量の方で補償することができ、R・G・B画素間で引き込み電圧を揃えることができる。これにより、焼き付きやフリッカを抑制することができる。
 また、図40に示すように、各画素の容量電極47を、保持容量配線18jの列方向に沿う2本のエッジの内側に容量電極47の列方向に沿う2本のエッジが位置するように形成しておき、R画素の容量電極47の幅>G画素の容量電極47の幅>B画素の容量電極47の幅としても、R・G・B画素の開口率を変えることなく液晶容量のばらつきを保持容量の方で補償することができ、R・G・B画素間で引き込み電圧を揃えることができる。これにより、焼き付きやフリッカを抑制することができる。
 図6の液晶パネルを変形し、図8およびそのX-Y断面図である図9に示すように、ドレイン引き出し電極27を画素電極17aのみと重なるように短縮し、その機能を容量電極47に持たせることで開口率を高めることも可能である。すなわち、トランジスタ12のドレイン電極を、コンタクトホール11aを介して画素電極17aに接続し、保持容量配線18j下に、画素電極17a~17cと重なるように容量電極47を設け、容量電極47を、コンタクトホール81aを介して画素電極17aに接続するとともに、コンタクトホール81cを介して画素電極17cに接続し、さらに容量電極47のうち画素電極17bと重なる部分を幅広にする。容量電極47は、走査信号線16jと同層に形成され、コンタクトホール81aの形成部ではゲート絶縁膜43および層間絶縁膜51が刳り貫かれて容量電極47と画素電極17aとが接触し、コンタクトホール81cの形成部ではゲート絶縁膜43および層間絶縁膜51が刳り貫かれて容量電極47と画素電極17cとが接触している。
 図8・9の液晶パネルでは、容量電極47(特に幅広の部分)と画素電極17bとがゲート絶縁膜43および層間絶縁膜51のみを介して重なる部分(容量電極47と画素電極17bとの重なり部分から、容量電極47と画素電極17bと保持容量配線18jとの重なり部分を除いた部分)と、ドレイン引き出し電極127および画素電極17cが層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が結合容量CC(図3参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜51を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび画素電極17cが層間絶縁膜51を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極47がゲート絶縁膜43を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSac(図3参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSb(図3参照)となっている。この構成では、ドレイン引き出し電極127および画素電極17cが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量(結合容量)が形成されるため、この容量次第では容量電極47に幅広部分を形成しなくてもよい。
 図8の液晶パネルを変形し、図10およびそのX-Y断面図である図11に示すように、コンタクトホール11aとコンタクトホール81aを1つのコンタクトホール41aにまとめ、コンタクトホール111cとコンタクトホール81cを1つのコンタクトホール141cにまとめることもできる。例えば、コンタクトホール41aの形成部では、層間絶縁膜51が刳り貫かれ、ドレイン引き出し電極27にも、その全体が層間絶縁膜51の刳り貫き部の中心部分と重なるような刳り貫き部が形成される。さらに、ゲート絶縁膜43も、ドレイン引き出し電極27の刳り貫き部の下となる領域が刳り貫かれ、これによって、画素電極17aと、ドレイン引き出し電極27および容量電極47それぞれとが接触している。コンタクトホール近傍では液晶配向が乱れやすくなることから、上記構成のようにコンタクトホール数を減らすことで、液晶配向の乱れを抑制することができる。
 なお、例えばコンタクトホール41aは以下のように形成すればよい。すなわち、層間絶縁膜のエッチングにCFガスとOガスとの混合ガスを用いると、コンタクトホール41aの形成箇所では層間絶縁膜51が除去されてドレイン引き出し電極27の表面(例えば、Al)が露出することでエッチングが止まり、ドレイン引き出し電極27の刳り貫き部の形成箇所では、層間絶縁膜51およびゲート絶縁膜43が除去されて容量電極47の表面(例えば、Al)が露出することでエッチングが止まる。また、この工程によって、走査信号線の端部の上層に位置するゲート絶縁膜および層間絶縁膜を除去して該走査信号線の端部を露出させる(走査信号線の端部を外部接続端子に繋ぐため)こともできる。なお、エッチャントとしては、上記混合ガス以外に、フッ化水素酸(HF)とフッ化アンモニウム(NHF)を混合したバッファードフッ酸(BHF)を用いることもできる。
 図1の液晶パネルを変形し、図12およびそのX-Y断面図である図13に示すように、トランジスタ12が不良となった場合の画素修正のため、走査信号線と同層に、ドレイン引き出し電極27および保持容量配線18j両方に重なる渡し電極77を設けることも可能である。この構成では、トランジスタ12に短絡等の不良が生じた場合に、図14に示すように、渡し電極77およびドレイン引き出し電極27の交差部をメルトして両者を短絡させるとともに、渡し電極77および保持容量配線18jの交差部をメルトして両者を短絡させ、かつドレイン引き出し電極27をトランジスタ12のドレイン電極およびコンタクトホール11a間で切断する。こうすれば、トランジスタ12に不良が生じた画素の画素電極17a・17cに、保持容量配線18jの電位が常時供給され、該画素を黒点化修正することができる。なお、開口率を維持する観点から、渡し電極77は、カラーフィルタ基板に設けられる配向規制構造物(線状突起等の遮光物)と重なるように設けることが望ましい。
 図3の液晶パネルでは1つの画素に3つの画素電極を設けているが、図15に示すように、1つの画素に2つの画素電極を設けてもよい。図15の液晶パネルを備えた液晶表示装置では、中間調表示時に、画素電極17aを含む副画素を明副画素、画素電極17bを含む副画素を暗副画素とし、これら明副画素および暗副画素の面積階調によって表示を行うことができる。図15の画素101の具体例を図16に示す。本液晶パネルでは、データ信号線15jおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12が配され、データ信号線15jおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられる。保持容量配線18jはデータ信号線15jと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17a(第1画素電極)および画素電極17b(第2画素電極)が列方向に並べられ、画素電極17aがトランジスタ12に近接している。
 そして、トランジスタ12のソース電極はデータ信号線15jに接続され、ドレイン電極はドレイン引き出し電極27に接続され、走査信号線16jがトランジスタ12のゲート電極となっている。ドレイン引き出し電極27は、画素電極17a下を経て、画素電極17b下に到り、コンタクトホール11bを介して画素電極17bに接続されている。
 また、保持容量配線18jは、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)から、画素電極17aおよび画素電極17b下を経て、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212a・212bが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212a・212bそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212a・212bの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212aのドレイン電極はドレイン引き出し電極127に接続され、トランジスタ212bのドレイン電極はコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続され、ドレイン引き出し電極127は、画素電極17b下を経て画素電極17a下に到り、コンタクトホール111aを介して画素電極17aに接続される。
 本液晶パネルでは、ドレイン引き出し電極27および画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分と、ドレイン引き出し電極127および画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が結合容量CC(図15参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSa(図15参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSb(図15参照)となっている。
 本液晶パネルでも、図1の液晶パネルと同様に、放電用のトランジスタを有する容量結合方式のアクティブマトリクス基板において、開口率の低下や走査信号線の負荷増大を抑えることができる。また、開口率をそのままに画素電極および保持容量配線間の保持容量を大きくすることができる。また、開口率を高めるべくドレイン引き出し電極(27・127)を細くしても必要な結合容量の値を維持することができる。また、データ信号線に接続するトランジスタに短絡等の不良が生じた場合にも画素の黒点化修正が可能となっている。
 図16の液晶パネルにおいては、ドレイン引き出し電極27を画素電極17b(自段の走査信号線16jから遠い方の画素電極)に接続しているが、図17に示すように、ドレイン引き出し電極27を短縮し、これと画素電極17a(自段の走査信号線16jから近い方の画素電極)とをコンタクトホール11aを介して接続してもよい。この場合、ドレイン引き出し電極127と画素電極17bとが層間絶縁膜を介して重なる部分に、結合容量が形成されているため、これとは別に結合容量を形成しなくてよい。図17の液晶パネルを備えた液晶表示装置では、中間調表示時に、画素電極17aを含む副画素が明副画素、画素電極17bを含む副画素が暗副画素となる。
 なお、図18に示すように、図17に示す画素と図16に示す画素を、行方向に交互に配してもよい(列方向については同一構成とする)。こうすれば、図19に示すように、明副画素と暗副画素とを市松配置(行および列方向それぞれについて、明副画素と暗副画素とを交互に配する)ことができ、表示品位を高めることができる。なおこの場合、図20に示すように、行方向に隣り合う画素101・103でドレイン引き出し電極27の形状を揃えておく(ともに、一端が走査信号線16i近傍に位置するとともに他端が走査信号線16j近傍に位置する形状とする)と、明副画素同士、暗副画素同士の構造が均一となり、また、3色の画素で開口率を揃えることができ、表示品位を高める(例えば、白表示時の色度のムラを抑制する)ことができる。
 図1・15・18に示される液晶パネルでは、各画素の画素電極が列方向に並べられ、同一列の画素は同一のデータ信号線に接続されているがこれに限定されない。例えば図21に示すように、各画素の画素電極を行方向に並べ、同一列に含まれる画素のうち奇数番目のものは隣り合う2本のデータ信号線の一方に接続され、偶数番目のものは上記2本のデータ信号線の他方に接続される構成としてもよい。
 例えば、データ信号線15j・15kに挟まれた画素101では、画素電極17aがデータ信号線15j側に、画素電極17bがデータ信号線15k側に配され、画素電極17aが、走査信号線16jに接続されたトランジスタ12aを介してデータ信号線15jに接続され、画素電極17aと画素電極17bとが結合容量CC1を介して接続され、走査信号線16jの直前に走査される走査信号線16iに放電用のトランジスタ212a・212bが接続され、画素電極17aと保持容量配線18jとがトランジスタ212aを介して接続され、画素電極17bと保持容量配線18jとがトランジスタ212bを介して接続されている。
 また、画素101と列方向に隣り合う画素102では、画素電極17eがデータ信号線15j側に、画素電極17fがデータ信号線15k側に配され、画素電極17fが、走査信号線16iに接続されたトランジスタ12fを介してデータ信号線15kに接続され、画素電極17fと画素電極17eとが結合容量CC2を介して接続され、走査信号線16iの直前に走査される走査信号線16hに放電用のトランジスタ212e・212fが接続され、画素電極17eと保持容量配線18jとがトランジスタ212eを介して接続され、画素電極17fと保持容量配線18jとがトランジスタ212fを介して接続されている。
 また、データ信号線15k・15lに挟まれた画素103では、画素電極17Aがデータ信号線15k側に、画素電極17Bがデータ信号線15l側に配され、画素電極17Aが、走査信号線16jに接続されたトランジスタ12Aを介してデータ信号線15kに接続され、画素電極17Aと画素電極17Bとが結合容量CC3を介して接続され、走査信号線16jの直前に走査される走査信号線16iに放電用のトランジスタ212A・212Bが接続され、画素電極17Aと保持容量配線18kとがトランジスタ212Aを介して接続され、画素電極17Bと保持容量配線18kとがトランジスタ212Bを介して接続されている。
 図22は上記液晶表示装置(ノーマリブラックモード)の駆動方法を示すタイミングチャートである。なお、Sj・Skはそれぞれデータ信号線15j・15kに供給される信号電位を示し、GPi・GPjはそれぞれ、走査信号線16i・16jに供給されるゲートオンパルス信号を示し、Vaは画素電極17aの電位を示し、Vbは画素電極17bの電位を示し、Veは画素電極17eの電位を示し、Vfは画素電極17fの電位を示し、VAは画素電極17Aの電位を示し、VBは画素電極17Bの電位を示している。
 本駆動方法では、図22に示されるように、走査信号線を順次選択し、データ信号線に供給する信号電位の極性を1垂直走査期間(1V)ごとに反転させるとともに、隣接する2本のデータ信号線に逆極性の信号電位を供給する。
 具体的には、連続するフレームF1・F2のF1では、走査信号線を順次選択し、データ信号線15jには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間(走査信号線16jの走査期間含む)にもプラス極性の信号電位を供給し、データ信号線15kには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間にもマイナス極性の信号電位を供給する。これにより、図22に示すように、(n-1)番目の水平走査期間終了時に、Va=Vb=VA=VB=Vcom(各保持容量配線18j・18kの電位)かつ|Vf|≧|Ve|となり、n番目の水平走査期間終了時に|Va|≧|Vb|かつ|VA|≧|VB|となり、図23に示すように、画素電極17a(プラス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17b(プラス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17A(マイナス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17B(マイナス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17e(マイナス極性)を含む副画素は暗副画素(BR)、画素電極17f(マイナス極性)を含む副画素は明副画素(DA)となる。
 また、F2では、走査信号線を順次選択し、データ信号線15jには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にマイナス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間(走査信号線16jの走査期間含む)にもマイナス極性の信号電位を供給し、データ信号線15kには、(n-1)番目の水平走査期間(走査信号線16iの走査期間含む)にプラス極性の信号電位を供給し、n番目の水平走査期間にもプラス極性の信号電位を供給する。これにより、図22に示すように、(n-1)番目の水平走査期間終了時に、Va=Vb=VA=VB=Vcom(保持容量配線18j・18kの電位)かつ|Vf|≧|Ve|となり、n番目の水平走査期間終了時に|Va|≧|Vb|かつ|VA|≧|VB|となり、画素電極17a(マイナス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17b(マイナス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17A(プラス極性)を含む副画素は明副画素(BR)、画素電極17B(プラス極性)を含む副画素は暗副画素(DA)、画素電極17e(プラス極性)を含む副画素は暗副画素(BR)、画素電極17f(プラス極性)を含む副画素は明副画素(DA)となる。
 上記構成によれば、行方向に並ぶ明副画素および暗副画素の面積階調によって表示を行うことができ、本液晶表示装置の視野角特性を高めることができる。また、画素にデータ信号電位を書き込む直前(1H前)に、該画素の2つの画素電極を(保持容量配線に)放電することができるため、フローティングとなる画素電極を含む副画素の焼き付きを抑制し、また、前フレームに書き込まれたデータ信号電位による画素充電率のばらつきも抑えることができる。
 さらに、図23に示すように、各データ信号線をVライン反転駆動(任意のデータ信号線に、一垂直走査期間中同一極性の信号電位を供給)しつつ、画素に書き書き込まれる信号電位の極性分布をドット反転とすることができる。これにより、消費電力が抑制され、ちらつきも低減される。さらに、明副画素と暗副画素とを市松配置(行および列方向それぞれについて、明副画素と暗副画素とを交互に配する)ことができるため、明画素が一列に並ぶことで生じるスジ状のムラが抑制され、鮮明な表示が可能となる。
 図21の画素101~104の一具体例を図24に示す。図24では、その見易さのために、カラーフィルタ基板(対向基板)側の部材を省略してアクティブマトリクス基板の部材のみ記載している。
 画素101では、データ信号線15jおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12aが配され、データ信号線15j・15kおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられる。保持容量配線18jはデータ信号線15jと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17aおよび画素電極17bが、画素電極17aがトランジスタ12aに近接し、かつそれぞれが保持容量配線18jと重なるように行方向に並べられる。
 そして、トランジスタ12aのソース電極はデータ信号線15jに接続され、ドレイン電極は画素電極17aに接続され、走査信号線16jがトランジスタ12aのゲート電極となっている。さらに、画素電極17aは、コンタクトホール181aを介して、行方向に伸びる容量電極37aに接続されている。容量電極37aは走査信号線と同層に形成され、画素電極17a下から保持容量配線18j下を経て画素電極17b下に到る。
 また、保持容量配線18jは、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)から、画素電極17aおよび画素電極17bのエッジ下を経て、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212a・212bが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212a・212bそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212a・212bの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212aのドレイン電極はコンタクトホール111aを介して画素電極17bに接続され、トランジスタ212bのドレイン電極はコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続される。
 これにより画素101では、容量電極37aおよび画素電極17bがゲート絶縁膜および層間絶縁膜のみを介して重なる部分(容量電極37aと画素電極17bとの重なり部分から、容量電極37aと画素電極17bと保持容量配線18jとの重なり部分を除いた部分)に容量が形成され、この容量が結合容量CC1(図21参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極37aがゲート絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSa(図21参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSb(図21参照)となっている。
 画素102では、データ信号線15jに隣接するデータ信号線15kおよび走査信号線16iの交差部近傍にトランジスタ12fが配され、データ信号線15i・15kおよび走査信号線16iで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられる。保持容量配線18jはデータ信号線15kと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17eおよび画素電極17fが、画素電極17fがトランジスタ12fに近接し、かつそれぞれが保持容量配線18jと重なるように行方向に並べられる。
 そして、トランジスタ12fのソース電極はデータ信号線15kに接続され、ドレイン電極は画素電極17fに接続され、走査信号線16iがトランジスタ12fのゲート電極となっている。さらに、画素電極17fは、コンタクトホール181fを介して、行方向に伸びる容量電極37fに接続されている。容量電極37fは走査信号線と同層に形成され、画素電極17f下から保持容量配線18j下を経て画素電極17e下に到る。
 また、保持容量配線18jは、自段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)から、画素電極17eおよび画素電極17fのエッジ下を経て、前段の走査信号線16h上(走査信号線16hとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16hとの交差部近傍にトランジスタ212e・212fが設けられる。そして、前段の走査信号線16hの一部がトランジスタ212e・212fそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212e・212fの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212eのドレイン電極はコンタクトホール111eを介して画素電極17eに接続され、トランジスタ212fのドレイン電極はコンタクトホール111fを介して画素電極17fに接続される。
 これにより画素102では、容量電極37fおよび画素電極17eがゲート絶縁膜および層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、この容量が結合容量CC2(図21参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17fが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極37fがゲート絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSf(図21参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17eが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSe(図21参照)となっている。
 画素103では、データ信号線15kおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12Aが配され、データ信号線15k・15lおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18kが設けられる。保持容量配線18kはデータ信号線15kと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17Aおよび画素電極17Bが、画素電極17Aがトランジスタ12Aに近接し、かつそれぞれが保持容量配線18kと重なるように行方向に並べられる。
 そして、トランジスタ12Aのソース電極はデータ信号線15kに接続され、ドレイン電極は画素電極17Aに接続され、走査信号線16jがトランジスタ12Aのゲート電極となっている。さらに、画素電極17Aは、コンタクトホール181Aを介して、行方向に伸びる容量電極37Aに接続されている。容量電極37Aは走査信号線と同層に形成され、画素電極17A下から保持容量配線18k下を経て画素電極17B下に到る。
 また、保持容量配線18kは、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)から、画素電極17Aおよび画素電極17Bのエッジ下を経て、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)に到り、保持容量配線18kと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212A・212Bが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212A・212Bそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18kの一部がトランジスタ212A・212Bの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212Aのドレイン電極はコンタクトホール111Aを介して画素電極17Aに接続され、トランジスタ212Bのドレイン電極はコンタクトホール111Bを介して画素電極17Bに接続される。
 これにより画素103では、容量電極37Aおよび画素電極17Bがゲート絶縁膜および層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、この容量が結合容量CC3(図21参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17Aが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極37Aがゲート絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSA(図21参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17Bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSB(図21参照)となっている。
 本液晶パネルでも、図1の液晶パネルと同様に、放電用のトランジスタを有する容量結合方式のアクティブマトリクス基板において、開口率の低下や走査信号線の負荷増大を抑えることができる。また、開口率を変えずに各画素電極および保持容量配線間の保持容量を高めることができる。なお、図24の液晶パネルをVA(垂直配向)TNモードとした場合には、暗線部分に容量電極(37a等)を配置してもよい。
 図24の液晶パネルを変形し、図25のように、各画素に2つの容量電極を点対称に配置してもよい。例えば画素101では、画素電極17aは、コンタクトホール181aを介して、走査信号線と同層に形成される容量電極37aに接続され、容量電極37aは、画素電極17a下から行方向に延伸し、保持容量配線18j下において両側に張り出し、さらに行方向に延伸して画素電極17b下に到る。また、画素電極17bは、コンタクトホール181bを介して、走査信号線と同層に形成される容量電極37bに接続され、容量電極37bは、画素電極17b下から行方向に延伸し、保持容量配線18j下において両側に張り出し、さらに行方向に延伸して画素電極17a下に到る。
 これにより画素101では、容量電極37aおよび画素電極17bがゲート絶縁膜および層間絶縁膜を介して重なる部分と、容量電極37bおよび画素電極17aがゲート絶縁膜および層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が結合容量CC1(図21参照)となる。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極37aがゲート絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSa(図21参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび容量電極37bがゲート絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量CSb(図21参照)となっている。
 上記構成によれば、2つの箇所で結合容量が形成されるため、結合容量CC1の値を大きくすることができる。また、コンタクトホール181aでコンタクト不良が発生したり、容量電極37aが断線したりしても、容量電極37bによって明副画素および暗副画素の形成は可能となる。また、容量電極37a・37bそれぞれが両側への張り出し部分を有しているため、保持容量CSa・CSbの値を大きくすることができる。加えて、容量電極37aおよび容量電極37bが、保持容量配線18j上の点を中心として点対称となっているため、ゲート層に対する画素電極17a・17bのアライメントがある程度行方向にずれても結合容量CC1の値が補償されるというメリットもある。
 図25の液晶パネルを変形し、図26のように、コンタクトホール11aとコンタクトホール181aを1つのコンタクトホール41aにまとめ、コンタクトホール11fとコンタクトホール181fを1つのコンタクトホール41fにまとめ、コンタクトホール11Aとコンタクトホール181Aを1つのコンタクトホール41Aにまとめることもできる。例えば、コンタクトホール41aの形成部では、層間絶縁膜が刳り貫かれ、ドレイン引き出し電極にも、その全体が層間絶縁膜の刳り貫き部の中心部分と重なるような刳り貫き部が形成される。さらに、ゲート絶縁膜も、ドレイン引き出し電極の刳り貫き部の下となる領域が刳り貫かれ、これによって、画素電極17aと、ドレイン引き出し電極および容量電極37aそれぞれとが接触している。コンタクトホール近傍では液晶配向が乱れやすくなることから、上記構成のようにコンタクトホール数を減らすことで、液晶配向の乱れを抑制することができる。
 図27は、図15に示す液晶パネルを、走査方向が図中上から下となるように書き換えたものであり、図28は図27の一具体例である。本液晶パネルでは、データ信号線15jおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12が配され、データ信号線15jおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられる。保持容量配線18jはデータ信号線15jと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17a(第1画素電極)および画素電極17b(第2画素電極)が列方向に並べられ、画素電極17aがトランジスタ12に近接している。
 そして、トランジスタ12のソース電極はデータ信号線15jに接続され、ドレイン電極は画素電極17aに接続され、走査信号線16jがトランジスタ12のゲート電極となっている。
 また、保持容量配線18jは、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)から、画素電極17bおよび画素電極17a下を経て、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212a・212bが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212a・212bそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212a・212bの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212aのドレイン電極はドレイン引き出し電極127に接続され、トランジスタ212bのドレイン電極はコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続され、ドレイン引き出し電極127は、画素電極17b下を経て画素電極17a下に到り、コンタクトホール111aを介して画素電極17aに接続される。
 本液晶パネルでは、ドレイン引き出し電極127および画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、この容量が結合容量CC(図27参照)となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17aが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSa(図27参照)となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量CSb(図27参照)となっている。
 上記構成によれば、トランジスタ12のドレイン電極を画素電極17bに重なるようなドレイン引き出し電極に接続する場合と比較して、(このようなドレイン引き出し電極が不要となる分)開口率を高めることができる。
 図28の液晶パネルを変形し、図29のように、画素電極17aを行方向に視てV字形状とし、画素電極17bを、画素電極17aを取り囲む形状とすることもできる。すなわち、画素電極17aは、走査信号線に対して315°をなす2辺E1・E2と、走査信号線に対して45°をなす2辺E3・E4と、辺E1の一端および辺E2の一端を結び、データ信号線に平行な辺E5と、辺E3の一端および辺E4の一端を結び、データ信号線に平行な辺E6と、辺E2の他端および辺E4の他端を結び、データ信号線に平行な辺E7とからなる。
 上記構成によれば、辺E1とこれに対向する画素電極17bの内周の一部との間隙、辺E2とこれに対向する画素電極17bの内周の一部との間隙、辺E3とこれに対向する画素電極17bの内周の一部との間隙、および辺E4とこれに対向する画素電極17bの内周の一部との間隙を、配向規制構造物として機能させることができる。なお、図29では結合容量の値を大きくするため、ドレイン引き出し電極127から、走査信号線に対して315°をなす容量電極67を延伸させている。容量電極67は、カラーフィルタ基板側の配向規制構造物(例えば、線状突起)と重なるように形成されるが、ドレイン引き出し電極127だけで結合容量の値を確保できる場合にはこれ(容量電極67)を設けなくてよい。
 図28の液晶パネルを変形し、図30のように、1つの画素領域に、データ信号線に沿う底辺をもつ等脚台形形状の画素電極と、これと点対称となるように配された画素電極と、これら2つの画素電極と嵌め合うような形状の画素電極とが設けられる構成とすることもできる。
 本液晶パネルでは、データ信号線15jおよび走査信号線16jの交差部近傍にトランジスタ12が配され、データ信号線15jおよび走査信号線16jで画される画素領域を縦断するように保持容量配線18jが設けられる。保持容量配線18jはデータ信号線15jと同層にこれと並行して形成される。上記画素領域には、画素電極17au・17avおよび画素電極17bが配される。ここで、画素電極17auはトランジスタ12に近接して設けられ、走査信号線に対して315度をなすエッジE1と走査信号線に対して45度をなすエッジE2を脚とし、データ信号線15jに沿う底辺を有する等脚台形形状である。また、画素電極17avは、画素中央を中心として画素電極17auと点対称となるように配され、走査信号線に対して45度をなすエッジE3と走査信号線に対して315度をなすエッジE4を脚とし、データ信号線15kに沿う底辺を有する等脚台形形状である。そして、トランジスタ12のソース電極はデータ信号線15jに接続され、ドレイン電極は画素電極17auに接続され、走査信号線16jがトランジスタ12のゲート電極となっている。また、画素電極17auがコンタクトホール211auを介して接続電極227に接続され、接続電極227はコンタクトホール211avを介して画素電極17avに接続される。
 また、保持容量配線18jは、前段の走査信号線16i上(走査信号線16iとの交差部)から、画素電極17b下、画素電極17av下、画素電極17b下、画素電極17au下、および画素電極17b下を経て、自段の走査信号線16j上(走査信号線16jとの交差部)に到り、保持容量配線18jと走査信号線16iとの交差部近傍にトランジスタ212a・212bが設けられる。そして、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212a・212bそれぞれのゲート電極として機能し、保持容量配線18jの一部がトランジスタ212a・212bの共通のソース電極として機能し、トランジスタ212aのドレイン電極はドレイン引き出し電極127に接続され、トランジスタ212bのドレイン電極はコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続され、ドレイン引き出し電極127は、画素電極17b下を経て画素電極17av下に到り、コンタクトホール111avを介して画素電極17avに接続される。
 本液晶パネルでは、ドレイン引き出し電極127および画素電極17avが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、この容量が結合容量となっている。さらに、保持容量配線18jおよび画素電極17avが層間絶縁膜を介して重なる部分と、保持容量配線18jおよび画素電極17auが層間絶縁膜を介して重なる部分とに容量が形成され、これらの和が保持容量となっている。また、保持容量配線18jおよび画素電極17bが層間絶縁膜を介して重なる部分に容量が形成され、これが保持容量となっている。
 上記構成によれば、辺E1とこれに対向する画素電極17bの外周の一部との間隙、辺E2とこれに対向する画素電極17bの外周の一部との間隙、辺E3とこれに対向する画素電極17bの外周の一部との間隙、および辺E4とこれに対向する画素電極17bの外周の一部との間隙を、配向規制構造物として機能させることができる。
 図1~3の液晶パネルでは、前段の走査信号線に接続する放電用のトランジスタを2個設け、一方のドレイン電極を画素電極17c(明副画素に対応する画素電極)に接続し、他方のドレインを画素電極17b(暗副画素に対応する画素電極)に接続しているがこれに限定されない。例えば、図31のように、前段の走査信号線に接続する放電用のトランジスタを1個だけ設け、そのドレイン電極を画素電極17b(暗副画素に対応する画素電極)に接続するような構成も可能である。
 すなわち、図31では走査信号線16iをゲート電極とする放電用トランジスタとしてトランジスタ212bのみが設けられており、トランジスタ212bのソース電極が保持容量配線18jに接続され、ドレイン電極がドレイン引き出し電極127およびコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続されている。その他は図1と同様の構成である。この場合、走査信号線16iが走査されたときに、電気的にフローティングである画素電極17bは放電されるため、暗副画素の焼き付きを防止することができる。そして、図1の液晶パネルと同様に、放電用のトランジスタを有する容量結合方式のアクティブマトリクス基板において、開口率の低下や走査信号線の負荷増大を抑えることができる。また、開口率をそのままに画素電極および保持容量配線間の保持容量を大きくすることができる。また、2箇所で結合容量が形成されるため、開口率を高めるべくドレイン引き出し電極(27・127)を細くしても必要な結合容量の値を維持することができる。
 なお、図32のような構成でも、放電用のトランジスタを有する容量結合方式のアクティブマトリクス基板において、開口率の低下や走査信号線の負荷増大を抑えることができる。図32の液晶パネルにおいては、3つの画素電極(17av・17au・17b)の形状および接続関係並びにトランジスタ12の配置および接続関係は図30の液晶パネルと同一であるが、保持容量配線318jが、前段の走査信号線16iに沿うように走査信号線16iと同層に形成され、画素電極17avおよび17bそれぞれと絶縁層を介して重なっている。また、前段の走査信号線16iの一部がトランジスタ212a・212bそれぞれのゲート電極として機能し、これらトランジスタ212aおよび212bの共通のソース電極が、ドレイン引き出し電極327およびコンタクトホール311を介して保持容量配線318jに接続され、トランジスタ212aのドレイン電極はコンタクトホール111avを介して画素電極17avに接続され、トランジスタ212bのドレイン電極はコンタクトホール111bを介して画素電極17bに接続されている。図32では放電用のトランジスタとして2つのトランジスタ212a・212bを設けているが、例えば、トランジスタ212aを設けずにトランジスタ212bのみを設けることもできる。
 本実施の形態では、以下のようにして、本液晶表示ユニットおよび液晶表示装置を構成する。すなわち、本液晶パネルの両面に、2枚の偏光板A・Bを、偏光板Aの偏光軸と偏光板Bの偏光軸とが互いに直交するように貼り付ける。なお、偏光板には必要に応じて、光学補償シート等を積層してもよい。次に、図33(a)に示すように、ドライバ(ゲートドライバ202、ソースドライバ201)を接続する。ここでは、一例として、ドライバのTCP方式による接続について説明する。まず、液晶パネルの端子部にACFを仮圧着する。ついで、ドライバが乗せられたTCPをキャリアテープから打ち抜き、パネル端子電極に位置合わせし、加熱、本圧着を行う。その後、ドライバTCP同士を連結するための回路基板209(PWB)とTCPの入力端子とをACFで接続する。これにより、液晶表示ユニット200が完成する。その後、図33(b)に示すように、液晶表示ユニットの各ドライバ(201・202)に、回路基板203を介して表示制御回路209を接続し、照明装置(バックライトユニット)204と一体化することで、液晶表示装置210となる。
 図34は、本液晶表示装置の構成を示すブロック図である。同図に示されるように、本液晶表示装置は、表示部(液晶パネル)と、ソースドライバ(SD)と、ゲートドライバ(GD)と、表示制御回路とを備えている。ソースドライバはデータ信号線を駆動し、ゲートドライバは走査信号線を駆動し、表示制御回路は、ソースドライバおよびゲートドライバを制御する。
 表示制御回路は、外部の信号源(例えばチューナ)から、表示すべき画像を表すデジタルビデオ信号Dvと、当該デジタルビデオ信号Dvに対応する水平同期信号HSYおよび垂直同期信号VSYと、表示動作を制御するための制御信号Dcとを受け取る。また、表示制御回路は、受け取ったこれらの信号Dv,HSY,VSY,Dcに基づき、そのデジタルビデオ信号Dvの表す画像を表示部に表示させるための信号として、データスタートパルス信号SSPと、データクロック信号SCKと、表示すべき画像を表すデジタル画像信号DA(ビデオ信号Dvに対応する信号)と、ゲートスタートパルス信号GSPと、ゲートクロック信号GCKと、ゲートドライバ出力制御信号(走査信号出力制御信号)GOEとを生成し、これらを出力する。
 より詳しくは、ビデオ信号Dvを内部メモリで必要に応じてタイミング調整等を行った後に、デジタル画像信号DAとして表示制御回路から出力し、そのデジタル画像信号DAの表す画像の各画素に対応するパルスからなる信号としてデータクロック信号SCKを生成し、水平同期信号HSYに基づき1水平走査期間毎に所定期間だけハイレベル(Hレベル)となる信号としてデータスタートパルス信号SSPを生成し、垂直同期信号VSYに基づき1フレーム期間(1垂直走査期間)毎に所定期間だけHレベルとなる信号としてゲートスタートパルス信号GSPを生成し、水平同期信号HSYに基づきゲートクロック信号GCKを生成し、水平同期信号HSYおよび制御信号Dcに基づきゲートドライバ出力制御信号GOEを生成する。
 上記のようにして表示制御回路において生成された信号のうち、デジタル画像信号DA、信号電位(データ信号電位)の極性を制御する極性反転信号POL、データスタートパルス信号SSP、およびデータクロック信号SCKは、ソースドライバに入力され、ゲートスタートパルス信号GSPとゲートクロック信号GCKとゲートドライバ出力制御信号GOEとは、ゲートドライバに入力される。
 ソースドライバは、デジタル画像信号DA、データクロック信号SCK、データスタートパルス信号SSP、および極性反転信号POLに基づき、デジタル画像信号DAの表す画像の各走査信号線における画素値に相当するアナログ電位(信号電位)を1水平走査期間毎に順次生成し、これらのデータ信号をデータ信号線に出力する。
 ゲートドライバは、ゲートスタートパルス信号GSPおよびゲートクロック信号GCKと、ゲートドライバ出力制御信号GOEとに基づき、ゲートオンパルス信号を生成し、これらを走査信号線に出力し、これによって走査信号線を選択的に駆動する。
 上記のようにソースドライバおよびゲートドライバにより表示部(液晶パネル)のデータ信号線および走査信号線が駆動されることで、選択された走査信号線に接続されたトランジスタ(TFT)を介して、データ信号線から画素電極に信号電位が書き込まれる。これにより各副画素の液晶層に電圧が印加され、これによってバックライトからの光の透過量が制御され、デジタルビデオ信号Dvの示す画像が各副画素に表示される。
 次に、本液晶表示装置をテレビジョン受信機に適用するときの一構成例について説明する。図35は、テレビジョン受信機用の液晶表示装置800の構成を示すブロック図である。液晶表示装置800は、液晶表示ユニット84と、Y/C分離回路80と、ビデオクロマ回路81と、A/Dコンバータ82と、液晶コントローラ83と、バックライト駆動回路85と、バックライト86と、マイコン(マイクロコンピュータ)87と、階調回路88とを備えている。なお、液晶表示ユニット84は、液晶パネルと、これを駆動するためのソースドライバおよびゲートドライバとで構成される。
 上記構成の液晶表示装置800では、まず、テレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scvが外部からY/C分離回路80に入力され、そこで輝度信号と色信号に分離される。これらの輝度信号と色信号は、ビデオクロマ回路81にて光の3原色に対応するアナログRGB信号に変換され、さらに、このアナログRGB信号はA/Dコンバータ82により、デジタルRGB信号に変換される。このデジタルRGB信号は液晶コントローラ83に入力される。また、Y/C分離回路80では、外部から入力された複合カラー映像信号Scvから水平および垂直同期信号も取り出され、これらの同期信号もマイコン87を介して液晶コントローラ83に入力される。
 液晶表示ユニット84には、液晶コントローラ83からデジタルRGB信号が、上記同期信号に基づくタイミング信号と共に所定のタイミングで入力される。また、階調回路88では、カラー表示の3原色R,G,Bそれぞれの階調電位が生成され、それらの階調電位も液晶表示ユニット84に供給される。液晶表示ユニット84では、これらのRGB信号、タイミング信号および階調電位に基づき内部のソースドライバやゲートドライバ等により駆動用信号(データ信号=信号電位、走査信号等)が生成され、それらの駆動用信号に基づき、内部の液晶パネルにカラー画像が表示される。なお、この液晶表示ユニット84によって画像を表示するには、液晶表示ユニット内の液晶パネルの後方から光を照射する必要があり、この液晶表示装置800では、マイコン87の制御の下にバックライト駆動回路85がバックライト86を駆動することにより、液晶パネルの裏面に光が照射される。上記の処理を含め、システム全体の制御はマイコン87が行う。なお、外部から入力される映像信号(複合カラー映像信号)としては、テレビジョン放送に基づく映像信号のみならず、カメラにより撮像された映像信号や、インターネット回線を介して供給される映像信号なども使用可能であり、この液晶表示装置800では、様々な映像信号に基づいた画像表示が可能である。
 液晶表示装置800でテレビジョン放送に基づく画像を表示する場合には、図36に示すように、液晶表示装置800にチューナ部90が接続され、これによって本テレビジョン受像機701が構成される。このチューナ部90は、アンテナ(不図示)で受信した受信波(高周波信号)の中から受信すべきチャンネルの信号を抜き出して中間周波信号に変換し、この中間周波数信号を検波することによってテレビジョン信号としての複合カラー映像信号Scvを取り出す。この複合カラー映像信号Scvは、既述のように液晶表示装置800に入力され、この複合カラー映像信号Scvに基づく画像が該液晶表示装置800によって表示される。
 図37は、本テレビジョン受像機の一構成例を示す分解斜視図である。同図に示すように、本テレビジョン受像機701は、その構成要素として、液晶表示装置800の他に第1筐体801および第2筐体806を有しており、液晶表示装置800を第1筐体801と第2筐体806とで包み込むようにして挟持した構成となっている。第1筐体801には、液晶表示装置800で表示される画像を透過させる開口部801aが形成されている。また、第2筐体806は、液晶表示装置800の背面側を覆うものであり、当該表示装置800を操作するための操作用回路805が設けられると共に、下方に支持用部材808が取り付けられている。
 本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、上記実施の形態を技術常識に基づいて適宜変更したものやそれらを組み合わせて得られるものも本発明の実施の形態に含まれる。また、各実施の形態で記載した作用効果等もほんの例示に過ぎない。
 本発明のアクティブマトリクス基板は、データ信号線の延伸方向を列方向とした場合に、行方向に延伸する走査信号線と、上記データ信号線および走査信号線に接続された第1トランジスタと、上記走査信号線とは別の同一走査信号線に接続された第2および第3トランジスタと、保持容量配線とを備え、1つの画素領域に、上記第1トランジスタに電気的に接続された第1画素電極と、該第1画素電極に容量を介して接続された第2画素電極とが設けられ、上記保持容量配線はデータ信号線と同層に形成され、第2トランジスタは該保持容量配線および第1画素電極に電気的に接続されるとともに、第3トランジスタは該保持容量配線および第2画素電極に電気的に接続されていることを特徴とする。
 上記構成では、保持容量配線がデータ信号線と同層(走査信号線と別層)に形成されているため、保持容量配線と走査信号線との交差部を設けることができる。したがって、この交差部近傍に第2および第3トランジスタ(放電用トランジスタ)を設けることで、従来(図41参照)と比較して、開口率の低下やゲートバスライン(走査信号線)の負荷増大を抑えることができる。また、保持容量配線を走査信号線と同層に設ける場合よりも保持容量配線と各画素電極との距離が縮まり、開口率を変えずに保持容量を大きくすることができるというメリットもある。
 本アクティブマトリクス基板では、第1トランジスタは自段の走査信号線に接続され、第2および第3トランジスタは前段の走査信号線に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記前段の走査信号線と保持容量配線との交差部近傍に、上記第2および第3トランジスタが設けられている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記保持容量配線は列方向に延伸する構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記保持容量配線は、各トランジスタのチャネルを覆う層間絶縁膜を介して第1および第2画素電極それぞれと重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1画素電極に電気的に接続された第1容量電極が設けられ、該第1容量電極と第2画素電極とが絶縁層を介して重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1容量電極がデータ信号線と同層に形成されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1容量電極が走査信号線と同層に形成されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1容量電極と保持容量配線とがゲート絶縁膜を介して重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極の一部が上記第1容量電極として機能する構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1画素電極、第1トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極、および第1容量電極が同一のコンタクトホールによって接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記第1容量電極および保持容量配線それぞれと重なる渡し電極が設けられている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1容量電極が平行な2本のエッジを有するとともに、保持容量配線も平行な2本のエッジを有し、平面的に視たときに、第1容量電極の両エッジの内側に保持容量配線の両エッジが位置している構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1容量電極が平行な2本のエッジを有するとともに、保持容量配線も平行な2本のエッジを有し、平面的に視たときに、保持容量配線の両エッジの内側に第1容量電極の両エッジが位置している構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1および第2画素電極が列方向に並べられている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1および第2画素電極が行方向に並べられている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第1画素電極に電気的に接続された第3画素電極を備える構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第2画素電極に電気的に接続された第2容量電極が設けられ、該第2容量電極と第1画素電極とが絶縁層を介して重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第2画素電極に電気的に接続された第2容量電極が設けられ、該第2容量電極と第3画素電極とが絶縁層を介して重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、第3トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極の一部が上記第2容量電極として機能する構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、列方向に隣り合う2つの画素領域の一方では、第1トランジスタが、隣接する2つのデータ信号線の一方に接続され、上記2つの画素領域の他方では、第1トランジスタが、上記2つのデータ信号線の他方に接続されている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記2つの画素領域の一方に設けられた第1画素電極と、他方に設けられた第2画素電極とが列方向に隣接する構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、上記保持容量配線は列方向に延伸し、第1および第2画素電極並びにそれらの間隙と重なっている構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板では、走査信号線と同層に形成された第1および第2容量電極を備え、コンタクトホールを介して第1画素電極に接続された上記第1容量電極が、保持容量配線下を経て第2画素電極下に到る一方、コンタクトホールを介して第2画素電極に接続された上記第2容量電極が、保持容量配線下を経て第1画素電極下に到る構成とすることもできる。
 本アクティブマトリクス基板は、データ信号線の延伸方向を列方向とした場合に、行方向に延伸する走査信号線と、上記データ信号線および走査信号線に接続された第1トランジスタと、上記走査信号線とは別の走査信号線に接続された第2トランジスタと、保持容量配線とを備え、1つの画素領域に、上記第1トランジスタに電気的に接続された第1画素電極と、該第1画素電極に容量を介して接続された第2画素電極とが設けられ、上記保持容量配線はデータ信号線と同層に形成され、第2トランジスタは該保持容量配線および第2画素電極に電気的に接続されていることを特徴とする。この場合、第1トランジスタは自段の走査信号線に接続され、第2トランジスタは前段の走査信号線に接続されている構成とすることもできる。また、上記前段の走査信号線と保持容量配線との交差部近傍に、上記第2トランジスタが設けられている構成とすることもできる。
また、上記保持容量配線は列方向に延伸する構成とすることもできる。
 本液晶パネルは、上記アクティブマトリクス基板を備えることを特徴とする。
 本液晶表示ユニットは、上記液晶パネルとドライバとを備えることを特徴とする。
 本液晶表示装置は、上記液晶表示ユニットと光源装置とを備えることを特徴とする。また、本液晶表示装置は、上記アクティブマトリクス基板を備え、各データ信号線に、一垂直期間中同一極性の信号電位を供給することを特徴とする。
 本テレビジョン受像機は、上記液晶表示装置と、テレビジョン放送を受信するチューナ部とを備えることを特徴とする。
 本発明のアクティブマトリクス基板およびこれを備えた液晶パネルは、例えば液晶テレビに好適である。
 101~104 画素
 12 212b・212c トランジスタ
 15j 15k データ信号線
 16i 16j 走査信号線
 17a・17b 画素電極
 18j・18k 保持容量配線
 27 127 ドレイン引き出し電極
 43 ゲート絶縁膜
 51 層間絶縁膜
 701 テレビジョン受像機
 800 液晶表示装置

Claims (34)

  1.  データ信号線の延伸方向を列方向とした場合に、行方向に延伸する走査信号線と、上記データ信号線および走査信号線に接続された第1トランジスタと、上記走査信号線とは別の同一走査信号線に接続された第2および第3トランジスタと、保持容量配線とを備え、
     1つの画素領域に、上記第1トランジスタに電気的に接続された第1画素電極と、該第1画素電極に容量を介して接続された第2画素電極とが設けられ、
     上記保持容量配線はデータ信号線と同層に形成され、第2トランジスタは該保持容量配線および第1画素電極に電気的に接続されるとともに、第3トランジスタは該保持容量配線および第2画素電極に電気的に接続されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
  2.  第1トランジスタは自段の走査信号線に接続され、第2および第3トランジスタは前段の走査信号線に接続されていることを特徴とする請求項1記載のアクティブマトリクス基板。
  3.  上記前段の走査信号線と保持容量配線との交差部近傍に、上記第2および第3トランジスタが設けられていることを特徴とする請求項1または2記載のアクティブマトリクス基板。
  4.  上記保持容量配線は列方向に延伸することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  5.  上記保持容量配線は、各トランジスタのチャネルを覆う層間絶縁膜を介して第1および第2画素電極それぞれと重なっていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  6.  第1画素電極に電気的に接続された第1容量電極が設けられ、
     該第1容量電極と第2画素電極とが絶縁層を介して重なっていることを特徴とする請求項5に記載のアクティブマトリクス基板。
  7.  上記第1容量電極がデータ信号線と同層に形成されていることを特徴とする請求項6記載のアクティブマトリクス基板。
  8.  上記第1容量電極が走査信号線と同層に形成されていることを特徴とする請求項6記載のアクティブマトリクス基板。
  9.  上記第1容量電極と保持容量配線とがゲート絶縁膜を介して重なっていることを特徴とする請求項8記載のアクティブマトリクス基板。
  10.  第1トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極の一部が上記第1容量電極として機能することを特徴とする請求項7記載のアクティブマトリクス基板。
  11.  上記第1画素電極、第1トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極、および第1容量電極が同一のコンタクトホールによって接続されていることを特徴とする請求項8記載のアクティブマトリクス基板。
  12.  上記第1容量電極および保持容量配線それぞれと重なる渡し電極が設けられていることを特徴とする請求項7記載のアクティブマトリクス基板。
  13.  第1容量電極が平行な2本のエッジを有するとともに、保持容量配線も平行な2本のエッジを有し、平面的に視たときに、第1容量電極の両エッジの内側に保持容量配線の両エッジが位置していることを特徴とする請求項9に記載のアクティブマトリクス基板。
  14.  第1容量電極が平行な2本のエッジを有するとともに、保持容量配線も平行な2本のエッジを有し、平面的に視たときに、保持容量配線の両エッジの内側に第1容量電極の両エッジが位置していることを特徴とする請求項9に記載のアクティブマトリクス基板。
  15.  第1および第2画素電極が列方向に並べられていることを特徴とする請求項1~14のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  16.  第1および第2画素電極が行方向に並べられていることを特徴とする請求項1~14のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  17.  第1画素電極に電気的に接続された第3画素電極を備えることを特徴とする請求項1~16のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  18.  第2画素電極に電気的に接続された第2容量電極が設けられ、
     該第2容量電極と第1画素電極とが絶縁層を介して重なっていることを特徴とする請求項1~16のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  19.  第2画素電極に電気的に接続された第2容量電極が設けられ、
     該第2容量電極と第3画素電極とが絶縁層を介して重なっていることを特徴とする請求項17に記載のアクティブマトリクス基板。
  20.  第3トランジスタのドレイン電極から引き出されたドレイン引き出し電極の一部が上記第2容量電極として機能することを特徴とする請求項18または19記載のアクティブマトリクス基板。
  21.  列方向に隣り合う2つの画素領域の一方では、第1トランジスタが、隣接する2つのデータ信号線の一方に接続され、上記2つの画素領域の他方では、第1トランジスタが、上記2つのデータ信号線の他方に接続されていることを特徴とする請求項16に記載のアクティブマトリクス基板。
  22.  上記2つの画素領域の一方に設けられた第1画素電極と、他方に設けられた第2画素電極とが列方向に隣接することを特徴とする請求項21に記載のアクティブマトリクス基板。
  23.  上記保持容量配線は列方向に延伸し、第1および第2画素電極並びにそれらの間隙と重なっていることを特徴とする請求項16に記載のアクティブマトリクス基板。
  24.  走査信号線と同層に形成された第1および第2容量電極を備え、
     コンタクトホールを介して第1画素電極に接続された上記第1容量電極が、保持容量配線下を経て第2画素電極下に到る一方、コンタクトホールを介して第2画素電極に接続された上記第2容量電極が、保持容量配線下を経て第1画素電極下に到ることを特徴とする請求項23記載のアクティブマトリクス基板。
  25.  上記第1および第2容量電極が互いに点対称あるいは線対称となるように形成されていることを特徴とする請求項24記載のアクティブマトリクス基板。
  26.  データ信号線の延伸方向を列方向とした場合に、行方向に延伸する走査信号線と、上記データ信号線および走査信号線に接続された第1トランジスタと、上記走査信号線とは別の走査信号線に接続された第2トランジスタと、保持容量配線とを備え、
     1つの画素領域に、上記第1トランジスタに電気的に接続された第1画素電極と、該第1画素電極に容量を介して接続された第2画素電極とが設けられ、
     上記保持容量配線はデータ信号線と同層に形成され、第2トランジスタは該保持容量配線および第2画素電極に電気的に接続されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
  27.  第1トランジスタは自段の走査信号線に接続され、第2トランジスタは前段の走査信号線に接続されていることを特徴とする請求項26記載のアクティブマトリクス基板。
  28.  上記前段の走査信号線と保持容量配線との交差部近傍に、上記第2トランジスタが設けられていることを特徴とする請求項26または27記載のアクティブマトリクス基板。
  29.  上記保持容量配線は列方向に延伸することを特徴とする請求項26~28のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板。
  30.  請求項1~29のいずれか1項に記載のアクティブマトリクス基板を備えた液晶パネル。
  31.  請求項30に記載の液晶パネルとドライバとを備えることを特徴とする液晶表示ユニット。
  32.  請求項31記載の液晶表示ユニットと光源装置とを備えることを特徴とする液晶表示装置。
  33.  請求項22記載のアクティブマトリクス基板を備え、各データ信号線に、一垂直期間中同一極性の信号電位を供給することを特徴とする液晶表示装置。
  34.  請求項32または33記載の液晶表示装置と、テレビジョン放送を受信するチューナ部とを備えることを特徴とするテレビジョン受像機。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8547492B2 (en) 2009-02-03 2013-10-01 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate, liquid crystal panel, liquid crystal display device, liquid crystal display unit and television receiver

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010100788A1 (ja) * 2009-03-05 2010-09-10 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機
WO2010100789A1 (ja) 2009-03-05 2010-09-10 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の製造方法、液晶パネル、液晶パネルの製造方法、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機
JP5744599B2 (ja) * 2011-03-31 2015-07-08 キヤノン株式会社 撮像素子、および撮像装置
JP6077280B2 (ja) 2011-11-29 2017-02-08 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置及び電子機器
KR102031682B1 (ko) * 2012-12-31 2019-10-14 엘지디스플레이 주식회사 각 화소에 보상용 박막 트랜지스터를 구비한 초고 해상도 액정 표시장치
CN104166287B (zh) * 2014-08-13 2016-11-16 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板以及液晶显示装置
KR102360758B1 (ko) * 2015-05-27 2022-02-09 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102367963B1 (ko) * 2017-07-13 2022-02-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR20210116760A (ko) * 2020-03-13 2021-09-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006039290A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその焼き付き防止方法
JP2006276432A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2006330499A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Sharp Corp 液晶表示装置及びその焼付き防止方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06130412A (ja) 1992-10-21 1994-05-13 Sharp Corp アクティブマトリクス基板
JPH10232405A (ja) 1997-02-21 1998-09-02 Canon Inc 階調表示可能な表示装置
US5808706A (en) 1997-03-19 1998-09-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Thin-film transistor liquid crystal display devices having cross-coupled storage capacitors
TW561297B (en) 1997-11-25 2003-11-11 Toshiba Corp Electrode wiring board subjected to counter measure against static electricity and display device using the same
TW384408B (en) 1997-12-31 2000-03-11 Samsung Electronic Liquid crystal displays and a manufacturing method thereof
JP3683463B2 (ja) 1999-03-11 2005-08-17 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板、その製造方法、及び、該基板を用いたイメージセンサ
JP4077590B2 (ja) 2000-02-08 2008-04-16 セイコーエプソン株式会社 薄膜トランジスタとその製造方法、アクティブマトリクス基板とその製造方法、および電気光学装置
JP2003091017A (ja) 2001-09-19 2003-03-28 Casio Comput Co Ltd カラー液晶表示装置
JP2005506575A (ja) * 2001-09-26 2005-03-03 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド 薄膜トランジスタ基板及びその製造方法と液晶表示装置
US7671932B2 (en) 2005-03-18 2010-03-02 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate and pixel defect correcting method therefor
JP2006302679A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Seiko Epson Corp 導電膜の形成方法、及び電子機器の製造方法
JP4689352B2 (ja) 2005-05-30 2011-05-25 シャープ株式会社 表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置
KR101182771B1 (ko) 2005-09-23 2012-09-14 삼성전자주식회사 액정 표시 패널과 그의 구동 방법 및 그를 이용한 액정표시 장치
KR101349092B1 (ko) * 2006-09-07 2014-01-09 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판 및 이를 갖는 표시장치
KR101265286B1 (ko) * 2006-09-08 2013-05-20 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판, 이를 갖는 표시장치 및 표시장치의 구동방법
KR101279596B1 (ko) * 2006-09-18 2013-06-28 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판 및 이를 갖는 표시장치
KR101309777B1 (ko) * 2007-01-03 2013-09-25 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치
US8471972B2 (en) * 2008-08-18 2013-06-25 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate, liquid crystal panel, liquid crystal display device, liquid crystal display unit, television receiver
KR101595817B1 (ko) * 2008-08-22 2016-02-22 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
WO2010089922A1 (ja) 2009-02-03 2010-08-12 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板、液晶パネル、液晶表示装置、液晶表示ユニット、テレビジョン受像機

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006039290A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその焼き付き防止方法
JP2006276432A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2006330499A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Sharp Corp 液晶表示装置及びその焼付き防止方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8547492B2 (en) 2009-02-03 2013-10-01 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate, liquid crystal panel, liquid crystal display device, liquid crystal display unit and television receiver

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