WO2010026931A1 - 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器 - Google Patents

光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器 Download PDF

Info

Publication number
WO2010026931A1
WO2010026931A1 PCT/JP2009/065094 JP2009065094W WO2010026931A1 WO 2010026931 A1 WO2010026931 A1 WO 2010026931A1 JP 2009065094 W JP2009065094 W JP 2009065094W WO 2010026931 A1 WO2010026931 A1 WO 2010026931A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
refractive index
optical waveguide
high refractive
core portion
core
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/065094
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
信介 寺田
睦宏 松山
浩司 長木
Original Assignee
住友ベークライト株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友ベークライト株式会社 filed Critical 住友ベークライト株式会社
Priority to US13/062,309 priority Critical patent/US20110158596A1/en
Priority to EP09811457A priority patent/EP2333595A1/en
Priority to JP2010527773A priority patent/JP5293742B2/ja
Priority to CN2009801347149A priority patent/CN102144180A/zh
Publication of WO2010026931A1 publication Critical patent/WO2010026931A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths

Definitions

  • the present invention relates to an optical waveguide, an optical wiring, an opto-electric hybrid board, and an electronic device.
  • optical communication using optical frequency carrier waves to transfer data has become increasingly important.
  • an optical waveguide as a means for guiding an optical frequency carrier wave from one point to another point.
  • the optical waveguide is configured to have, for example, a pair of cladding layers and a core layer provided between the pair of cladding layers.
  • the core layer has a linear core portion and clad portions provided on both sides of the core portion so as to sandwich the core portion.
  • the core portion is made of a material that is substantially transparent to light of an optical frequency carrier wave, and the cladding layer and the cladding portion are made of a material having a lower refractive index than the core portion.
  • Patent Document 1 discloses a polymer having two clad layers (an upper clad layer and a lower clad layer) and a polysilane layer provided between them and formed using a polysilane composition containing polysilane and an organic peroxide.
  • An optical waveguide is disclosed.
  • the polysilane layer a core layer (core portion) and side clad layers (cladding portions) provided on both sides thereof are formed.
  • the core portion is surrounded by a cladding layer and a cladding portion having a refractive index lower than that of the core portion. Therefore, the light introduced from the end portion of the core portion is conveyed along the axis of the core portion while being reflected at the boundary between the cladding layer and the cladding portion.
  • a light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and light generated from the light emitting element is incident on the core portion of the optical waveguide.
  • a light receiving element such as a photodiode is disposed on the exit side of the optical waveguide, and the light propagating through the core is received by the light receiving element. Then, optical communication is enabled based on the blinking pattern of light received by the light receiving element.
  • the optical waveguide when the optical waveguide is adjacent to the low refractive index medium, specifically, when the optical waveguide is in the air, not only the boundary between the core portion and the cladding portion but also the cladding portion and the air. Light is also reflected at the boundary.
  • the optical waveguide On the incident side of the optical waveguide, it is preferable that all of the light generated by the light emitting element is incident on the core part.
  • the optical axis is misaligned and the numerical aperture is matched between the optical waveguide and the light emitting element. Some light may be incident on the cladding due to a defect or the like.
  • the light incident on the cladding in this way is repeatedly reflected at the boundary with the air and propagates to the end. Finally, the light is emitted from the end of the clad portion and is received by the light receiving element together with the light emitted from the core portion.
  • the light propagating through the cladding part becomes noise and lowers the S / N ratio, leading to a decrease in optical communication quality due to crosstalk or the like.
  • An object of the present invention is to provide an optical waveguide capable of improving the S / N ratio of signal light and capable of high-quality optical communication by having means for moving light propagating in the cladding part away from the core part, and such an optical waveguide.
  • An object of the present invention is to provide a high-performance optical wiring, an opto-electric hybrid board, and an electronic device.
  • the present invention provides: An optical waveguide comprising a core portion and a cladding portion provided adjacent to the core portion, In the cladding portion, the refractive index is lower than that of the core portion, the low refractive index region in contact with the core portion, the refractive index is higher than the low refractive index region, and the core is interposed through the low refractive index region.
  • a plurality of high refractive index regions spaced from the portion, The plurality of high refractive index regions are scattered or aligned in the clad portion.
  • each of the high refractive index regions is made of the same kind of material as that of the core portion.
  • the difference between the refractive index of each high refractive index region and the refractive index of the low refractive index region is preferably 0.5% or more.
  • the plurality of high-refractive index regions refract light passing through the cladding part in a direction away from the core part or irregularly scatter the light. .
  • each of the high refractive index regions is granular.
  • each of the granular high refractive index regions has irregularities in its outline.
  • the granular high refractive index regions are irregularly scattered in the cladding.
  • each of the high refractive index regions has a strip shape.
  • each of the strip-shaped high refractive index regions has a longitudinal axis on the rear side in the traveling direction of light passing through the core portion from the perpendicular of the axis of the core portion. It is preferable to be oriented so as to incline.
  • an angle formed by the axis of each strip-shaped high refractive index region and the perpendicular of the axis of the core portion is 10 to 85 °.
  • each of the strip-like high refractive index regions is a long and narrow triangle.
  • the high refractive index region forming the elongated triangle has a shape in which the cross-sectional area gradually increases as the distance from the core portion increases.
  • each of the strip-shaped high refractive index regions has an extension line of the longitudinal axis thereof and an axis line of the core portion orthogonal to each other.
  • each of the strip-like high refractive index regions is an elongated rectangle.
  • the strip-shaped high refractive index regions are arranged in parallel to each other.
  • the plurality of high refractive index regions are arranged so as not to be exposed on the light incident side end surface and the light emitting side end surface of the optical waveguide.
  • the plurality of high refractive index regions are formed in the same manufacturing process as the core portion.
  • the optical waveguide has a laminate formed by laminating the first layer, the second layer, and the third layer in this order, A part of the second layer forms the core part, It is preferable that the remaining part of the second layer, the first layer, and the third layer constitute the cladding part.
  • the plurality of high refractive index regions are provided in the second layer.
  • the core portion and at least a part of the cladding portion of the optical waveguide are each composed of a norbornene-based polymer as a main material.
  • the present invention provides: An optical wiring comprising the optical waveguide.
  • the present invention provides: An opto-electric hybrid board, wherein electrical wiring and the optical wiring are mixedly mounted on a substrate.
  • the present invention provides: An electronic apparatus comprising the opto-electric hybrid board.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of an optical waveguide according to the present invention (partially cut out and shown through).
  • FIG. 2 is a plan view showing only the core layer of the optical waveguide shown in FIG.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a propagation path of light propagating through the core layer illustrated in FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of steps in the method of manufacturing the optical waveguide shown in FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of steps of the method of manufacturing the optical waveguide shown in FIG.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a process example of the method of manufacturing the optical waveguide shown in FIG. FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a process example of the method of manufacturing the optical waveguide shown in FIG.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a process example of the method of manufacturing the optical waveguide shown in FIG.
  • FIG. 9 is a diagram showing another configuration example of the first embodiment shown in FIG.
  • FIG. 10 is a diagram showing still another configuration example of the first embodiment shown in FIG.
  • FIG. 11 is a plan view showing only the core layer of the second embodiment of the optical waveguide of the present invention.
  • FIG. 12 is a diagram illustrating another configuration example of the second embodiment illustrated in FIG. 11.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a method of measuring the intensity of light emitted from the clad portion of the optical waveguide.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining a method of evaluating crosstalk.
  • FIG. 15 is a graph showing the intensity of light that has propagated through the cladding.
  • FIG. 16 is a graph showing the intensity of crosstalk light.
  • FIG. 17 is a plan view showing only a core layer of a conventional optical waveguide.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the optical waveguide of the present invention (partially cut out and shown in a transparent manner), and FIG. 2 is a plan view showing only the core layer of the optical waveguide shown in FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a propagation path of light propagating through the core layer illustrated in FIG.
  • the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper” or “upper”
  • the lower side is referred to as “lower” or “lower”
  • the left side is referred to as “left” or “incident side”.
  • the thickness direction of the layers (the vertical direction in each figure) is exaggerated.
  • An optical waveguide 10 shown in FIG. 1 is formed by laminating a cladding layer (cladding portion) 11, a core layer 13 and a cladding layer (cladding portion) 12 in this order from the lower side in FIG.
  • a core portion 14 having a predetermined pattern and a side clad portion 15 (clad portion) adjacent to the core portion (waveguide channel) 14 are formed.
  • two core portions 14 and three side clad portions 15 are provided alternately.
  • the optical waveguide 10 shown in FIG. 1 totally reflects light incident on the core portion 14 of the incident side end face 10a at the interface between the core portion 14 and the clad portions (the clad layers 11 and 12 and the side clad portions 15). And propagating to the exit side can be taken out from the core portion 14 of the exit side end face 10b.
  • each side cladding 15 includes a plurality of high refractive index regions 151 each having a higher refractive index than the other regions (low refractive index regions 152) in the side cladding 15. That is, the side clad portion 15 is divided into a plurality of high refractive index regions 151 and a low refractive index region 152 having a refractive index lower than that of the high refractive index region 151. A plurality of high refractive index regions 151 shown in FIG. 1 are aligned in each side cladding portion 15.
  • the difference in refractive index between the core portion 14 and the low refractive index region 152 in the side cladding portion 15 is not particularly limited, but is preferably 0.5% or more, and more preferably 0.8% or more. .
  • the upper limit value may not be set, but is preferably about 5.5%. If the difference in refractive index is less than the lower limit, the effect of transmitting light may be reduced, and even if the upper limit is exceeded, no further increase in light transmission efficiency can be expected.
  • the refractive index difference is expressed by the following equation when the refractive index of the core portion 14 is A and the refractive index of the low refractive index region 152 is B.
  • Refractive index difference (%)
  • the core portion 14 is formed in a straight line shape in a plan view, but may be curved or branched in the middle, and the shape thereof is arbitrary.
  • the manufacturing method of the optical waveguide 10 mentioned later is used, the complicated and arbitrary-shaped core part 14 can be formed easily and with sufficient dimensional accuracy.
  • the cross-sectional shape of the core part 14 is a square such as a square or a rectangle (rectangle).
  • the width and height of the core part 14 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 200 ⁇ m, more preferably about 5 to 100 ⁇ m, and still more preferably about 10 to 60 ⁇ m.
  • the core portion 14 is made of a material having a higher refractive index than the low refractive index region 152 in the side clad portion 15, and is made of a material having a higher refractive index than the cladding layers 11 and 12. .
  • the constituent materials of the core part 14, the side clad part 15, and the clad layers 11 and 12 are not particularly limited as long as the above-described refractive index difference is generated, but in the present embodiment, the core part 14 and the side clad part 15. Are made of the same material (core layer 13), and the refractive index difference between the core portion 14 and the low refractive index region 152 and the refractive index difference between the high refractive index region 151 and the low refractive index region 152 are , Each is expressed by the difference in the chemical structure of the material.
  • any material can be used as the constituent material of the core layer 13 as long as it is a material that is substantially transparent to the light propagating through the core portion 14.
  • an acrylic resin or a methacrylic resin can be used.
  • Polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, polyamide, polyimide, polybenzoxazole, polysilane, polysilazane, and various resin materials such as cyclic olefin resin such as benzocyclobutene resin and norbornene resin, quartz glass, borosilicate A glass material such as acid glass can be used.
  • the refractive index changes by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams (or by further heating).
  • active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams (or by further heating).
  • it is a material.
  • Such a material examples include a material whose chemical structure can be changed by, for example, breaking at least a part of a bond or detaching at least a part of a functional group by irradiation with active energy rays or heating. Can be mentioned.
  • silane-based resins such as polysilane (eg, polymethylphenylsilane), polysilazane (eg, perhydropolysilazane), and the resin serving as a base for materials with structural changes as described above include molecules on the molecular side.
  • the following resins (1) to (6) having a functional group at the chain or terminal are mentioned.
  • norbornene resins are particularly preferred.
  • These norbornene-based polymers include, for example, ring-opening metathesis polymerization (ROMP), combination of ROMP and hydrogenation reaction, polymerization by radical or cation, polymerization using a cationic palladium polymerization initiator, and other polymerization initiators ( For example, it can be obtained by any known polymerization method such as polymerization using a polymerization initiator of nickel or another transition metal).
  • the clad layers 11 and 12 constitute the clad portions located at the lower part and the upper part of the core part 14, respectively.
  • the core portion 14 functions as a light guide path whose outer periphery is surrounded by the cladding portion.
  • the average thickness of the cladding layers 11 and 12 is preferably about 0.1 to 1.5 times the average thickness of the core layer 13, more preferably about 0.3 to 1.25 times, Specifically, the average thickness of the clad layers 11 and 12 is not particularly limited, but each of them is usually preferably about 1 to 200 ⁇ m, more preferably about 5 to 100 ⁇ m, and about 10 to 60 ⁇ m. More preferably. Thereby, the function as a clad layer is suitably exhibited while preventing the optical waveguide 10 from being unnecessarily enlarged (thickened).
  • constituent material of the cladding layers 11 and 12 for example, the same material as the constituent material of the core layer 13 described above can be used, but a norbornene polymer is particularly preferable.
  • a different material is appropriately selected and used between the constituent material of the core layer 13 and the constituent materials of the cladding layers 11 and 12 in consideration of the difference in refractive index between the two. Is possible. Therefore, in order to ensure total reflection of light at the boundary between the core layer 13 and the cladding layers 11 and 12, a material may be selected so that a sufficient difference in refractive index is generated. Thereby, a sufficient refractive index difference is obtained in the thickness direction of the optical waveguide 10, and light can be prevented from leaking from the core portion 14 to the cladding layers 11 and 12. As a result, attenuation of light propagating through the core portion 14 can be suppressed.
  • the adhesion between the core layer 13 and the cladding layers 11 and 12 is high. Therefore, the constituent material of the cladding layers 11 and 12 is any material as long as the refractive index is lower than that of the constituent material of the core layer 13 and the adhesiveness with the constituent material of the core layer 13 is high. May be.
  • norbornene-based polymer having a relatively low refractive index those containing norbornene repeating units having a substituent containing an epoxy structure at the terminal are preferable.
  • Such a norbornene-based polymer has a particularly low refractive index and good adhesion.
  • the norbornene-based polymer preferably contains an alkylnorbornene repeating unit. Since a norbornene-based polymer containing an alkylnorbornene repeating unit has high flexibility, high flexibility (flexibility) can be imparted to the optical waveguide 10 by using such norbornene-based polymer.
  • alkyl group contained in the alkylnorbornene repeating unit examples include a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, and a decyl group, and a hexyl group is particularly preferable.
  • These alkyl groups may be either linear or branched.
  • a norbornene-based polymer having a repeating unit of hexyl norbornene is preferable because it has excellent transmittance with respect to light in the wavelength region as described above (particularly in the wavelength region near 850 nm).
  • the constituent materials of the clad layer 11, the side clad portion 15, and the clad layer 12 may be the same (same type) or different materials, but these preferably have approximate refractive indexes. .
  • Such an optical waveguide 10 varies slightly depending on the optical characteristics of the material of the core portion 14 and is not particularly limited.
  • the optical waveguide 10 is preferably used in data communication using light in the wavelength region of about 600 to 1550 nm. Is done.
  • the side cladding portion 15 is divided into a plurality of high refractive index regions 151 and a low refractive index region 152 having a refractive index lower than that of the high refractive index region 151.
  • the optical waveguide of the present invention is characterized in that such a high refractive index region is included in a part of the clad portion.
  • the high refractive index region 151 and the low refractive index region 152 will be described in detail.
  • the low refractive index region 152 is provided so as to be in contact with each core portion 14 in each side cladding portion 15.
  • the high refractive index region 151 is provided so as not to be in direct contact with each core portion 14 as shown in FIG. That is, the low refractive index region 152 is interposed between the high refractive index region 151 and each core portion 14.
  • the plurality of high refractive index regions 151 are each formed in a strip shape in plan view, and are arranged so that the axes are parallel to each other.
  • region 151 shown in FIG. 2 has comprised the parallelogram in planar view, respectively.
  • the plurality of high refractive index regions 151 are aligned on both sides of each side cladding portion 15 with each core portion 14 interposed therebetween.
  • Each high refractive index region 151 shown in FIG. 2 has a long and narrow parallelogram, and the length of the long side is preferably about 2 to 50 times the short side, and is preferably about 5 to 30 times. Is more preferable.
  • these strip-like high refractive index regions 151 are provided so as to cross the side clad portions 15 in the width direction. As a result, the light passing through each side clad portion 15 inevitably passes through each high refractive index region 151, so that the function of each high refractive index region 151 described later can be reliably exhibited.
  • Each of the high refractive index regions 151 having such a strip shape is provided such that its axis is inclined backward in the traveling direction of the light passing through the core 14 with respect to the perpendicular of the axis of the core 14. ing.
  • light passing through each high refractive index region 151 is incident on the high refractive index region 151 from the low refractive index region 152 and low from the high refractive index region 151.
  • the light is emitted to the refractive index region 152, it is refracted so as to inevitably move away from the core portion 14 based on the difference in refractive index between the two.
  • the light passing through the side clad portion 15 can be kept away from the core portion 14, and the emission position of the light propagating through the core portion 14 and the side clad portion 15 are separated from the emission side end face 10 b of the optical waveguide 10. A sufficient separation distance from the outgoing position of the propagated light is ensured.
  • the angle ⁇ (the inclination angle of the high refractive index region 151) ⁇ formed by the perpendicular of the axis of the core portion 14 and the axis of each high refractive index region 151 having a strip shape shown in FIG.
  • the refractive index difference between the refractive index region 151 and the low refractive index region 152, the width of the side cladding portion 15, and the like the light passing through the side cladding portion 15 is appropriately set so as to be refracted sufficiently and sufficiently.
  • the inclination angle ⁇ of the high refractive index region 151 is preferably about 10 to 85 °, and more preferably about 20 to 70 °.
  • the inclination angle ⁇ within the above range, the light leaked from the core portion 14 is refracted so as to be surely separated from the core portion 14, and the signal light and the noise light are separated at the emission side end face 10 b of the optical waveguide 10. Can be separated. As a result, the S / N ratio as a carrier wave can be more reliably increased.
  • the separation distance between the high refractive index regions 151 is also appropriately set according to the refractive index difference between the high refractive index region 151 and the low refractive index region 152, the width of the side cladding portion 15, and the like.
  • each high refractive index region 151 is also set as appropriate, but as an example, it is preferably about 1 to 30 ⁇ m, more preferably about 3 to 20 ⁇ m.
  • each high-refractive index region 151 is not particularly limited as long as it has a strip shape (elongate shape). Besides a quadrangle such as a trapezoid, a rectangle, and a rhombus, a polygon such as a pentagon, a hexagon, It may be oval, oval, or the like.
  • FIG. 17 is a plan view showing only the core layer of the conventional optical waveguide 90.
  • a light emitting element 97 is provided on the incident side of the optical waveguide 90 corresponding to each core portion 94, and signal light is emitted on the emission side.
  • a light receiving element 98 for receiving light is provided.
  • the light propagating through the side clad portion 95 becomes noise for the signal light, leading to a decrease in the S / N ratio as a carrier wave. Therefore, in the conventional optical waveguide 90, it has been a problem to improve the S / N ratio as a carrier wave and improve the quality of optical communication.
  • the deviation between the optical axis of the optical waveguide 90 and the optical axis of the light emitting element 97, and the mismatch between the numerical apertures of the optical waveguide 90 and the light emitting element 97 are possible.
  • the cross section of the core portion 94 is extremely small, it is extremely difficult to match the optical axes and match the numerical apertures when the light emitting element 97 is disposed.
  • the light propagates through the side cladding portion 95.
  • the transmitted light reaches the light receiving element 98, and the S / N ratio as a carrier wave is lowered.
  • Another cause of light entering the side clad portion 95 is that light leaks from the core portion 94 to the side clad portion 95 in the middle of the optical waveguide 90.
  • the light leaking from the core portion 94 propagates through the side clad portion 95 and causes a decrease in the S / N ratio as a carrier wave as described above.
  • a part of the side cladding portion 15 has a higher refractive index than the other regions (low refractive index regions 152) and a plurality of high refractive index regions 151 as described above.
  • the light propagating through the side cladding 15 of the optical waveguide 10 can be refracted so as to be away from the core 14 when passing through the high refractive index region 151.
  • the emission-side end face 10 b of the optical waveguide 10 it is possible to ensure a sufficient separation distance between the emission position of the light propagated through the core portion 14 and the emission position of the light propagated through the side cladding portion 15. As a result, even if light is incident on the side cladding portion 15, the light can be refracted away from the core portion 14 by the high refractive index region 151.
  • FIG. 3 shows a path of light passing through the optical waveguide shown in FIG.
  • the emission position 14L of the signal light that has propagated through the core portion 14 and the emission position 151L of the noise light that has propagated through the high refractive index region 151 can be sufficiently separated. And it can suppress that this noise light is received by the light receiving element 18, and can prevent that the S / N ratio as a carrier wave falls.
  • the high refractive index region 151 is separated from the core portion 14 as shown in FIG. If the high refractive index region 151 and the core portion 14 are in contact with each other, the light propagating through the core portion 14 from this portion may branch to the high refractive index region 151 side. Since the core part 14 is separated, it is possible to prevent light propagating through the core part 14 from branching to the high refractive index region 151 side.
  • Such a high refractive index region 151 may have a refractive index higher than that of the other region of the side cladding portion 15, that is, the low refractive index region 152, but preferably the difference is 0.5% or more. Preferably, the difference is 0.8% or more. Moreover, although an upper limit does not need to be set in particular, Preferably it is set to 5.5%.
  • the high refractive index region 151 is not exposed to the incident side end face 10a. Therefore, since light is not directly incident on the high refractive index region 151, it is possible to suppress light from propagating through the high refractive index region 151. As a result, the function of the high refractive index region 151 as described above can be surely exhibited.
  • the high refractive index region 151 is not exposed even on the output side end face 10 b of the optical waveguide 10. If the high refractive index region 151 is exposed on the emission side end face 10b, relatively high intensity light may be emitted from this portion, but if it is not exposed, the high refractive index region 151 has the original function. Can be reliably exhibited, and the S / N ratio can be reliably increased.
  • the plurality of high refractive index regions 151 are preferably provided so as to be distributed in the entire longitudinal direction between the incident side end face 10a and the emission side end face 10b of the optical waveguide 10. .
  • the plurality of high refractive index regions 151 are preferably provided so as to be distributed in the entire longitudinal direction between the incident side end face 10a and the emission side end face 10b of the optical waveguide 10. .
  • the light incident on the side cladding 15 from the incident side end face 10 a but also the light leaking from the core 14 to the side cladding 15 in the middle of the optical waveguide 10 can be reliably transmitted from the core 14. You can keep away.
  • the inclination direction of the high refractive index region 151 provided in the side clad portion 15 between the adjacent core portions 14 and 14 may be determined with reference to the core portion 14 located closest. Accordingly, the high refractive index regions 151 arranged between the parallel core portions 14 and 14 as shown in FIG. 2 inevitably have a V-shaped arrangement.
  • FIG. 9 shows another configuration example of the first embodiment shown in FIG.
  • the optical waveguide 10 shown in FIG. 9 is the same as FIG. 2 except that the shape of the high refractive index region having a strip shape is different in plan view. That is, the side clad portion 15 shown in FIG. 9 has a plurality of high refractive index regions 151 ′ having a strip shape in plan view. The plurality of high refractive index regions 151 ′ are elongated triangles in plan view. I am doing.
  • the high refractive index region 151 ′ has an axis whose traveling direction passes through the core portion 14 with respect to the perpendicular of the axis of the core portion 14. It is provided so as to incline backward.
  • each high refractive index region 151 ′ has a shape in which the cross-sectional area gradually increases as the distance from the core portion 14 side increases.
  • Each high refractive index region 151 ′ having such a shape can more effectively attenuate light passing through the side cladding portion 15. As a result, the S / N ratio as a carrier wave can be further increased.
  • the inner angle located on the core portion 14 side is an acute angle, and the angle is smaller than the other inner angles.
  • the inner angle is preferably about 3 to 30 °, and more preferably about 5 to 20 °.
  • the length of the side facing the inner corner located on the core part 14 side is shorter than the length of the other two sides.
  • the length of the side facing the inner angle located on the core portion 14 side is about 0.02 to 0.5 times the shorter side of the other two sides. Preferably, it is about 0.03 to 0.2 times.
  • FIG. 10 shows still another configuration example of the first embodiment shown in FIG.
  • the optical waveguide 10 shown in FIG. 10 is the same as FIG. 2 except that the shape of the high refractive index region having a strip shape is different in plan view. That is, the side clad portion 15 shown in FIG. 10 has a plurality of high refractive index regions 151 ′′ that are formed in a strip shape in plan view, and the plurality of high refractive index regions 151 ′′ are elongated rectangular shapes in plan view. And the extension of the axis thereof is arranged so as to be substantially orthogonal to the axis of the core portion 14.
  • Each high refractive index region 151 ′′ shown in FIG. 10 has an elongated rectangular shape, but the length of the long side is preferably about 2 to 50 times the short side, and is preferably about 5 to 30 times. Is more preferable.
  • Such a plurality of high-refractive index regions 151 ′′ efficiently refracts or scatters light propagating through the side cladding 15 so as to be away from the core 14, so that light passing through the side cladding 15 is more effective. As a result, the S / N ratio as a carrier wave can be further improved.
  • high refractive index regions 151 ′ and high refractive index regions 151 ′′ have the same functions as the high refractive index regions 151 described above.
  • the optical waveguide 10 is manufactured by forming a clad layer 11 (first layer), a core layer 13 (second layer), and a clad layer 12 (third layer), and laminating them.
  • the optical waveguide 10 is manufactured by forming a clad layer 11 (first layer), a core layer 13 (second layer), and a clad layer 12 (third layer), and laminating them.
  • the specific manufacturing method is not particularly limited as long as the core part 14, the high refractive index region 151, the low refractive index region 152, and the like can be formed in the same layer (second layer).
  • Photobleaching method photolithography method, direct exposure method, nanoimprinting method, monomer diffusion method and the like.
  • 4 to 8 are cross-sectional views schematically showing process examples of the method for manufacturing the optical waveguide 10 shown in FIG. 5, 6 and 8 are cross-sectional views taken along line AA in FIG.
  • the layer 110 is formed on the support substrate 161 (see FIG. 4).
  • the layer 110 is formed by a method in which a core layer forming material (varnish) 100 is applied and cured (solidified).
  • the layer 110 is formed by applying the core layer forming material 100 on the support substrate 161 to form a liquid film, and then placing the support substrate 161 on a ventilated level table so that the surface of the liquid film is not coated. It is formed by leveling the uniform part and evaporating (desolving) the solvent.
  • the layer 110 is formed by a coating method
  • examples thereof include a doctor blade method, a spin coating method, a dipping method, a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, a die coating method, and the like. It is not done.
  • a silicon substrate for example, a silicon substrate, a silicon dioxide substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a polyethylene terephthalate (PET) film, or the like is used.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the core layer-forming material 100 contains a developable material composed of a polymer 115 and an additive 120 (including at least a monomer and a catalyst). It is a material that causes a reaction.
  • the additive 120 is substantially uniformly and arbitrarily dispersed in the layer 110.
  • the average thickness of the layer 110 is appropriately set according to the thickness of the core layer 13 to be formed and is not particularly limited, but is preferably about 5 to 200 ⁇ m, and preferably about 10 to 100 ⁇ m. More preferably, it is about 15 to 65 ⁇ m.
  • the polymer 115 has sufficiently high transparency (colorless and transparent) and is compatible with the monomer described later, and the monomer can react (polymerization reaction or crosslinking reaction) as described later. Even after the monomers are polymerized, those having sufficient transparency are preferably used.
  • having compatibility means that the monomer is at least mixed and does not cause phase separation with the polymer 115 in the core layer forming material 100 or the layer 110.
  • the constituent material of the core layer 13 mentioned above is mentioned.
  • a norbornene-based polymer is used as the polymer 115, since the polymer has high hydrophobicity, it is possible to obtain the core layer 13 that is less likely to cause a dimensional change due to water absorption.
  • the norbornene-based polymer may be either a polymer having a single repeating unit (homopolymer) or a polymer having two or more norbornene-based repeating units (copolymer).
  • a compound having a repeating unit represented by the following formula (1) is preferably used as an example of the copolymer.
  • n represents an integer of 1 to 9.
  • copolymer examples include those in which the two units of the above formula (1) are arranged in an arbitrary order (random), those in which they are arranged alternately, those in which each unit is solidified (in a block form), etc. Any of these forms may be used.
  • an example of the additive 120 is preferably selected to include a norbornene-based monomer, a promoter (first substance), and a catalyst precursor (second substance). Is done.
  • the norbornene-based monomer reacts in the active radiation irradiation region by irradiation with actinic radiation, which will be described later, and forms a reaction product.
  • a compound capable of producing a refractive index difference A compound capable of producing a refractive index difference.
  • the reaction product includes a polymer (polymer) formed by polymerizing a norbornene-based monomer in the polymer (matrix) 115, a crosslinked structure that cross-links the polymers 115, and a polymer polymerized by polymer 115. At least one of the branched structures branched from 115 (branch polymer or side chain (pendant group)).
  • a polymer 115 having a relatively low refractive index and a norbornene-based monomer having a high refractive index with respect to the polymer 115 are obtained.
  • a polymer 115 having a relatively high refractive index and a norbornene-based monomer having a low refractive index with respect to the polymer 115 are combined. used.
  • the portion becomes the side cladding portion 15, and when the refractive index of the irradiated region increases, the portion is It becomes the core part 14.
  • the catalyst precursor (second substance) is a substance capable of initiating the above-described monomer reaction (polymerization reaction, crosslinking reaction, etc.), and is a promoter (first substance) activated by irradiation with actinic radiation described later. It is a substance whose activation temperature changes by the action of.
  • any compound may be used as long as the activation temperature changes (increases or decreases) with irradiation of actinic radiation. Those whose activation temperature decreases with irradiation are preferred.
  • the core layer 13 optical waveguide 10 can be formed by heat treatment at a relatively low temperature, and unnecessary heat is applied to the other layers, so that the characteristics (optical transmission performance) of the optical waveguide 10 are deteriorated. Can be prevented.
  • a catalyst precursor containing (mainly) at least one of the compounds represented by the following formulas (Ia) and (Ib) is preferably used.
  • E (R) 3 represents a neutral electron donor ligand of group 15, respectively, E represents an element selected from group 15 of the periodic table, and R represents , Represents a moiety containing a hydrogen atom (or one of its isotopes) or a hydrocarbon group, and Q represents an anionic ligand selected from carboxylate, thiocarboxylate and dithiocarboxylate.
  • LB represents a Lewis base
  • WCA represents a weakly coordinating anion
  • a represents an integer of 1 to 3
  • b represents an integer of 0 to 2
  • a and b
  • p and r represent numbers that balance the charge of the palladium cation and the weakly coordinated anion.
  • Typical catalyst precursors according to Formula Ia include Pd (OAc) 2 (P (i-Pr) 3 ) 2 , Pd (OAc) 2 (P (Cy) 3 ) 2 , Pd (O 2 CCMe 3 ) 2 (P (Cy) 3 ) 2 , Pd (OAc) 2 (P (Cp) 3 ) 2 , Pd (O 2 CCF 3 ) 2 (P (Cy) 3 ) 2 , Pd (O 2 CC 6 H 5 ) 3 (P (Cy) 3 ) 2 may be mentioned, but is not limited thereto.
  • Cp represents a cyclopentyl group
  • Cy represents a cyclohexyl group.
  • the catalyst precursor represented by the formula Ib is preferably a compound in which p and r are selected from integers of 1 and 2, respectively.
  • Typical catalyst precursors according to such formula Ib include Pd (OAc) 2 (P (Cy) 3 ) 2 .
  • Cy represents a cyclohexyl group
  • Ac represents an acetyl group.
  • catalyst precursors can efficiently react with a monomer (in the case of a norbornene-based monomer, an efficient polymerization reaction, a crosslinking reaction, etc. by an addition polymerization reaction).
  • the cocatalyst (first substance) is a substance that can be activated by irradiation with actinic radiation to change the activation temperature of the catalyst precursor (procatalyst) (the temperature at which the monomer reacts).
  • any compound can be used as long as it has a molecular structure that changes (reacts or decomposes) when activated by irradiation with actinic radiation.
  • a compound (photoinitiator) that decomposes upon irradiation with actinic radiation and generates a cation such as a proton or other cation and a weakly coordinated anion (WCA) that can be substituted with a leaving group of the catalyst precursor ( (Mainly) is preferably used.
  • weakly coordinating anions examples include tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (FABA ⁇ ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ⁇ ), and the like.
  • promoter photoacid generator or photobase generator
  • examples of the promoter include tetrakis (pentafluorophenyl) borate and hexafluoroantimonate, tetrakis (pentafluorophenyl) gallate, and aluminates.
  • a sensitizer may be added to the core layer forming material (varnish) 100 as necessary.
  • an antioxidant can be added to the core layer forming material 100. Thereby, generation of undesirable free radicals and natural oxidation of the polymer 115 can be prevented. As a result, the characteristics of the obtained core layer 13 (optical waveguide 10) can be improved.
  • the layer 110 is formed using the core layer forming material 100 as described above. At this time, the layer 110 has a first refractive index. This first refractive index is due to the action of the polymer 115 and monomers that are uniformly dispersed (distributed) in the layer 110.
  • the monomer is a norbornene-based monomer
  • a compound having a polymerizable site may be used, and acrylic acid (methacrylic acid) may be used.
  • acrylic acid methacrylic acid
  • examples of such monomers include epoxy monomers, epoxy monomers, and styrene monomers, and one or more of these can be used in combination.
  • the catalyst in the additive 120 may be appropriately selected according to the type of monomer. For example, in the case of an acrylic acid monomer or an epoxy monomer, the addition of the catalyst precursor (second substance) is omitted. can do.
  • a mask (masking) 135 in which an opening (window) 1351 is formed is prepared, and the layer 110 is irradiated with active radiation (active energy light) 130 through the mask 135 (FIG. 5). reference).
  • the irradiation region 125 of the active radiation 130 becomes the low refractive index region 152 in the side cladding portion 15.
  • an opening (window) 1351 equivalent to the pattern of the low refractive index region 152 to be formed is formed in the mask 135.
  • This opening 1351 forms a transmission part through which the active radiation 130 to be irradiated passes.
  • the mask 135 may be formed in advance (separately formed) (for example, plate-shaped) or may be formed on the layer 110 by, for example, a vapor deposition method or a coating method.
  • the actinic radiation 130 to be used is not limited as long as it can cause a photochemical reaction (change) with respect to the promoter.
  • a photochemical reaction change
  • visible light ultraviolet light, infrared light, laser light, an electron beam or X Lines or the like can also be used.
  • the cocatalyst first substance: cocatalyst
  • the cocatalyst present in the irradiation region 125 irradiated with the active radiation 130 reacts by the action of the active radiation 130. (Binding) or decomposition to release (generate) cations (protons or other cations) and weakly coordinating anions (WCA).
  • the use of the mask 135 may be omitted when highly directional light such as laser light is used as the active radiation 130.
  • the layer 110 is subjected to heat treatment (first heat treatment).
  • first heat treatment the catalyst precursor of an active latent state is activated (it will be in an active state), and monomer reaction (a polymerization reaction or a crosslinking reaction) will arise.
  • the monomer concentration in the irradiation region 125 gradually decreases. As a result, there is a difference in monomer concentration between the irradiated region 125 and the unirradiated region 140, and in order to eliminate this, the monomer diffuses from the unirradiated region 140 (monomer diffusion) and collects in the irradiated region 125. come.
  • the monomer and its reaction product increase, and the structure derived from the monomer greatly affects the refractive index of the region, and the first refraction The second refractive index lower than the refractive index.
  • the monomer polymer an addition (co) polymer is mainly produced.
  • the amount of monomer decreases as the monomer diffuses from the region to the irradiated region 125, so that the influence of the polymer 115 appears greatly on the refractive index of the region, and the first refraction is performed.
  • the third refractive index is higher than the refractive index.
  • a refractive index difference (second refractive index ⁇ third refractive index) occurs between the irradiated region 125 and the non-irradiated region 140, and the core portion 14 and the high refractive index region 151 (unirradiated region). 140) and a low refractive index region 152 (irradiation region 125) are formed (see FIG. 6).
  • the layer 110 is subjected to a second heat treatment.
  • the catalyst precursor remaining in the unirradiated region 140 and / or the irradiated region 125 is activated (in an activated state) directly or with the activation of the cocatalyst.
  • the remaining monomer is reacted.
  • the obtained core portion 14 As described above, by reacting the monomers remaining in the respective regions 125 and 140, the obtained core portion 14, the high refractive index region 151, and the low refractive index region 152 can be stabilized.
  • the layer 110 is subjected to a third heat treatment. Thereby, reduction of internal stress generated in the obtained core layer 13 and further stabilization of the core part 14, the high refractive index region 151, and the low refractive index region 152 can be achieved.
  • the core layer 13 (second layer) is obtained.
  • a sufficient refractive index difference is obtained between the core portion 14 and the high refractive index region 151 and the low refractive index region 152 before the second heat treatment and the third heat treatment are performed. If present, this step [5] and the step [4] may be omitted.
  • the clad layer 11 (12) is formed on the support substrate 162 (see FIG. 7).
  • a method for forming the clad layer 11 (12) As a method for forming the clad layer 11 (12), a method of applying and curing (solidifying) a varnish (clad layer forming material) including a clad material, and a method of applying and hardening (solidifying) a monomer composition having curability. Any method may be used.
  • examples thereof include a spin coating method, a dipping method, a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, and a die coating method.
  • the support substrate 162 As the support substrate 162, a substrate similar to the support substrate 161 can be used. As described above, the clad layer 11 (12) is formed on the support substrate 162.
  • the core layer 13 is peeled from the support substrate 161, and the core layer 13 is separated from the support substrate 162 on which the cladding layer 11 (first layer) is formed, and the cladding layer 12 (third layer). Is sandwiched between the support substrate 162 formed with (see FIG. 8).
  • the cladding layers 11 and 12 first layer and third layer
  • the core layer 13 second layer
  • this crimping operation is preferably performed under heating.
  • the heating temperature is appropriately determined depending on the constituent materials of the clad layers 11 and 12 and the core layer 13, and is usually preferably about 80 to 200 ° C, more preferably about 120 to 180 ° C.
  • the support substrate 162 is peeled off and removed from the clad layers 11 and 12, respectively. Thereby, the optical waveguide 10 (the optical waveguide of the present invention) is obtained.
  • the core part 14 and the high refractive index region 151 can be formed simultaneously in the same manufacturing process. For this reason, the high refractive index region 151 and the low refractive index region 152 can be efficiently formed in the side cladding portion 15 without increasing the number of steps from the conventional manufacturing method.
  • the core part 14 and the high refractive index region 151 formed in this way are made of the same kind of material. For this reason, both have the same coefficient of thermal expansion, and it is possible to reduce defects such as deformation of the optical waveguide 10 and delamination due to temperature changes, as compared with the case where they are made of different materials.
  • a release agent that is activated by irradiation with actinic radiation
  • a main chain and a release agent that is branched from the main chain and activated, thereby causing at least one molecular structure.
  • a core layer forming material containing a polymer having a leaving group (detachable pendant group) that can be detached from the main chain of the part is used. After this core layer forming material is formed into a layer, a part of this layer is irradiated with actinic radiation such as ultraviolet rays, whereby the leaving group is detached (cut), and the refractive index of the region changes. (Rise or fall).
  • the active radiation irradiation region becomes the low refractive index region 152, and the other region becomes the core portion 14 or the high refractive index region 151.
  • the clad layers 11 and 12 are bonded to both surfaces of the core layer 13 as described above.
  • a layer of a material for forming a core part having a high refractive index is formed on the cladding layer 11, and a resist having a shape corresponding to the core part 14 and the high refractive index region 151 is formed on this layer.
  • a film is formed by photolithography. Then, using this resist film as a mask, the core portion forming material layer is etched. Thereby, the core part 14 and the high refractive index area
  • the portion forming material is filled, and the low refractive index region 152 is obtained. Further, the cladding layer 12 is obtained by supplying the cladding portion forming material so as to cover these (the core portion 14, the high refractive index region 151, and the low refractive index region 152).
  • FIG. 11 is a plan view showing only the core layer of the second embodiment of the optical waveguide of the present invention.
  • the optical waveguide according to the present embodiment will be described. However, differences from the optical waveguide according to the first embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
  • the optical waveguide according to this embodiment is the same as that of the first embodiment except that the high-refractive index region and the low-refractive index region have different patterns in plan view.
  • the side clad portion 15 shown in FIG. 11 has a plurality of high refractive index regions 153 that are granular in plan view.
  • the plurality of high refractive index regions 153 are regions having a higher refractive index than the low refractive index region 152 and are aligned on both sides with the core portion 14 interposed therebetween. is doing.
  • the high refractive index regions 153 are independent from each other, and are provided so as not to directly contact the core portions 14. That is, the low refractive index region 152 is inserted between the high refractive index region 153 and each core portion 14.
  • Such a high refractive index region 153 may have a refractive index higher than that of the other region of the side cladding portion 15, that is, the low refractive index region 152, but preferably the difference is 0.5% or more. Preferably, the difference is 0.8% or more. Moreover, although an upper limit does not need to be set in particular, Preferably it is set to 5.5%.
  • the high refractive index region 153 is not exposed to the incident side end face 10a. Therefore, since light is not directly incident on the high refractive index region 153, it is possible to prevent light from propagating through the high refractive index region 153. As a result, the function of the high refractive index region 153 as described above can be surely exhibited.
  • the high refractive index region 153 is not exposed even on the output side end face 10 b of the optical waveguide 10. If the high refractive index region 153 is exposed on the emission side end face 10b, relatively high intensity light may be emitted from this portion, but if it is not exposed, the high refractive index region 153 has the original function. Can be reliably exhibited, and the S / N ratio can be reliably increased.
  • the plurality of high refractive index regions 153 are preferably provided so as to be distributed in the entire longitudinal direction between the incident side end face 10a and the emission side end face 10b of the optical waveguide 10. . In this way, not only the light incident on the side cladding 15 from the incident side end face 10 a but also the light leaking from the core 14 to the side cladding 15 in the middle of the optical waveguide 10 can be reliably transmitted from the core 14. You can keep away.
  • each of the core portions 14 and 14 is provided. It is possible to effectively suppress noise light received by light receiving elements other than the corresponding light receiving elements, that is, leakage of signal light from another channel (crosstalk).
  • the shape of the high-refractive index region 153 having a granular shape in plan view is not particularly limited.
  • the shape is a circle such as a perfect circle, an ellipse, or an ellipse, a triangle, a quadrangle, a hexagon, an octagon, or a star. It is assumed to be a square, semicircle, fan shape, etc.
  • the contour of the high refractive index region 153 has irregularities as shown in FIG.
  • the contour of the high refractive index region 153 has irregularity on the surface that receives the light leaking from the core portion 14, and can reliably diffuse the light.
  • the average particle size of each high refractive index region 153 is preferably about 10 to 500 ⁇ m, more preferably about 20 to 300 ⁇ m. By setting the average particle diameter of each high refractive index region 153 within the above range, the probability that each high refractive index region 153 scatters light can be sufficiently increased.
  • the difference in refractive index between each high refractive index region 153 and low refractive index region 152 is preferably 0.5% or more, and more preferably 0.8% or more. Moreover, although an upper limit does not need to be set in particular, Preferably it is set to 5.5%.
  • FIG. 12 shows another configuration example of the second embodiment shown in FIG.
  • the optical waveguide 10 shown in FIG. 12 is the same as FIG. 11 except that the arrangement pattern of the plurality of high refractive index regions 153 is different. That is, the plurality of high refractive index regions 153 shown in FIG. 11 are arranged in alignment, but the plurality of high refractive index regions 153 shown in FIG. 12 are arranged irregularly (randomly). Thereby, when the light which passes the side clad part 15 is scattered in the high refractive index area
  • optical waveguide of the present invention has been described based on the illustrated embodiments, the present invention is not limited to these, and the configuration of each part is replaced with any configuration that can exhibit the same function. In addition, an arbitrary configuration may be added.
  • optical waveguide of the present invention may be a combination of the first embodiment and the second embodiment among the configurations of the respective embodiments.
  • the number of the core parts 14 may be one or three or more.
  • the high refractive index regions 151 and 153 are provided in the side cladding portion 15, but these high refractive index regions may be provided in the cladding layers 11 and 12.
  • optical waveguide of the present invention can be used, for example, in an optical wiring for optical communication.
  • the optical wiring (optical wiring of the present invention) provided with the optical waveguide of the present invention can be mixed on the substrate together with the existing electric wiring to constitute a so-called “optical / electrical mixed substrate”.
  • an optical signal transmitted through the optical wiring (core portion of the optical waveguide) is converted into an electrical signal in the optical device and transmitted to the electrical wiring. .
  • This enables high-speed and large-capacity information transmission in the optical wiring portion as compared with the conventional electric wiring.
  • this optical / electrical hybrid board to a bus or the like that connects between an arithmetic device such as a CPU or LSI and a storage device such as a RAM, the performance of the entire system is improved and electromagnetic noise is generated. Can be suppressed.
  • the optical / electrical hybrid board is mounted on electronic devices that transmit a large amount of data at high speed, such as a mobile phone, a game machine, a personal computer, a television, and a home server.
  • the electronic device (electronic device of the present invention) including the optical / electrical mixed substrate can exhibit high performance with excellent internal information processing speed.
  • this core layer forming material was applied onto the substrate to form a liquid film.
  • this liquid film was dried to obtain a layer of a material for forming a core layer.
  • this layer was irradiated with ultraviolet rays through a mask having an opening (window) corresponding to the low refractive index region to be formed.
  • the layer was then heated in an oven. Thereby, the region irradiated with ultraviolet rays becomes a low refractive index region (refractive index: 1.54), and the region not irradiated with ultraviolet rays is the core portion (refractive index: 1.55) and a high refractive index region (refractive index). : 1.55), and as a result, a core layer was obtained.
  • the core portion, the high refractive index region, and the low refractive index region have the shapes shown in FIG. However, the inclination angle of the high refractive index region shown in FIG. 2 was 45 °.
  • a norbornene-based polymer having a refractive index lower than that of the polymer used for the core layer forming material was prepared, and a clad layer forming material including this was prepared.
  • this clad layer forming material was applied on each of the two substrates to form a liquid film. Next, these liquid coatings were dried to obtain clad layers.
  • Example 2 An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the shapes of the core portion, the high refractive index region, and the low refractive index region were changed to the shapes shown in FIG.
  • the inclination angle of the high refractive index region 151 ′ in FIG. 9 was 45 °. Further, the internal angle of the high refractive index region 151 ′ located on the core portion 14 side was 10 °.
  • Example 3 An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the shapes of the core portion, the high refractive index region, and the low refractive index region were changed to the shapes shown in FIG. Note that the aspect ratio of the high refractive index region 151 ′′ in FIG. 10 was 1:20.
  • Example 4 An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the shapes of the core portion, the high refractive index region, and the low refractive index region were changed to the shapes shown in FIG.
  • the average particle size of the high refractive index region 153 in FIG. 11 was 1 ⁇ m.
  • Example 5 An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the shapes of the core portion, the high refractive index region, and the low refractive index region were changed to the shapes shown in FIG.
  • the average particle diameter of the high refractive index region 153 in FIG. 12 was 1 ⁇ m.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a method for measuring the intensity of light emitted from the clad part of the optical waveguide.
  • an incident side optical fiber 21 having a diameter of 50 ⁇ m was disposed on the light incident side of the optical waveguide 10 to be measured.
  • the incident side optical fiber 21 is connected to a light emitting element (not shown) for entering light into the optical waveguide 10, and the optical axis thereof is in the same plane as the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10. Is arranged.
  • the incident side optical fiber 21 can scan the same plane as the core layer 13 along the incident side end face 10 a of the optical waveguide 10.
  • the scanning width is set to 250 ⁇ m on both sides around the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10.
  • an emission side optical fiber 22 having a diameter of 200 ⁇ m was disposed on the light emission side of the optical waveguide 10.
  • the emission side optical fiber 22 is connected to a light receiving element (not shown) for receiving the light emitted from the optical waveguide 10, and its optical axis extends from the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10 to the side surface. It arrange
  • examples 1 to 3 and a comparative example are shown in FIG. 15 as representatives.
  • the horizontal axis of the graph of FIG. 15 represents the position of the incident-side optical fiber with respect to the optical axis of the core portion of the optical waveguide, and the vertical axis represents the intensity of light propagating through the core portion of the optical waveguide (incident It represents a light intensity ratio (loss) based on the light intensity when the optical axis of the side optical fiber and the optical axis of the output side optical fiber coincide with the core portion of the optical waveguide.
  • the light intensity ratio is particularly large when the incident side optical fiber is at a position near 80 to 200 mm with respect to the optical axis of the core portion of the optical waveguide. It was. From this, it was recognized that in the optical waveguide of the comparative example, the light incident on the side cladding portion propagates to an extent that is almost the same as that of the core portion.
  • Example 5 Although not shown, when Example 4 and Example 5 were compared, the result of Example 5 was better. This is presumably due to the fact that the granular high refractive index regions are randomly arranged in Example 5.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining a method of evaluating crosstalk.
  • an incident side optical fiber 21 having a diameter of 50 ⁇ m was disposed on the light incident side of the optical waveguide 10 to be measured.
  • the incident side optical fiber 21 is connected to a light emitting element (not shown) for entering light into the optical waveguide 10, so that its optical axis coincides with the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10.
  • a light emitting element not shown
  • an exit side optical fiber 22 having a diameter of 62.5 ⁇ m was disposed on the light exit side of the optical waveguide 10.
  • the emission side optical fiber 22 is connected to a light receiving element (not shown) for receiving the light emitted from the optical waveguide 10, and its optical axis is the same as the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10. It is arranged in the plane. Further, the emission side optical fiber 22 can scan the same plane as the core layer 13 along the emission side end face 10 b of the optical waveguide 10. The scanning width is set to 250 ⁇ m on both sides around the optical axis of the core portion 14 of the optical waveguide 10.
  • the emission side optical fiber 22 When measuring the light intensity, when the emission side optical fiber 22 is scanned while radiating light from the incidence side optical fiber 21, the light passing through the core portion 14 reaches the emission side optical fiber 22. At this time, the intensity of the light leaking from the core portion 14 can be measured by setting the outer diameter of the emission side optical fiber 22 to be larger than the outer diameter of the core portion 14. Therefore, the degree of crosstalk was evaluated by evaluating the relationship between the position of the output side optical fiber 22 and the intensity of light incident on the output side optical fiber 22.
  • examples 2 to 4 and a comparative example are shown in FIG.
  • the horizontal axis of the graph of FIG. 16 represents the position of the outgoing optical fiber with respect to the optical axis of the core portion of the optical waveguide
  • the vertical axis represents the intensity of light propagating through the core portion of the optical waveguide (outgoing light). It represents the light intensity ratio (loss) based on the light intensity when the optical axis of the side optical fiber coincides with the optical axis of the core portion.
  • the light intensity at the base of the spectrum peak is smaller than that of the optical waveguide obtained in the comparative example.
  • the peak of this spectrum corresponds to the intensity of light that has propagated through the core. Therefore, in other words, in each of Examples 2 to 4, the intensity of the light propagating through the cladding part is smaller than the intensity of the light propagating through the core part as compared with the comparative example. It can be seen that is relatively reduced.
  • the optical waveguide of the present invention is an optical waveguide comprising a core portion and a clad portion provided adjacent to the core portion, and the refractive index in the clad portion is lower than that of the core portion.
  • the plurality of high refractive index regions are scattered or aligned in the cladding portion. Therefore, it is suppressed that the light incident on the clad part propagates as it is to the emission end, and the light intensity when this light is received by the light receiving element is reduced.
  • optical waveguide capable of high-quality optical communication by improving the S / N ratio of light propagating through the optical waveguide and suppressing crosstalk and the like.
  • a high-performance optical wiring, an opto-electric hybrid board, and an electronic device can be provided. Therefore, the optical waveguide, optical wiring, opto-electric hybrid board and electronic device of the present invention have industrial applicability.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

　本発明の光導波路は、コア部と、コア部に隣接して設けられたクラッド部とを備える光導波路であって、クラッド部中に、コア部よりも屈折率が低く、コア部に接した低屈折率領域と、低屈折率領域よりも屈折率が高く、低屈折率領域を介してコア部から離間した複数の高屈折率領域とを有しており、複数の高屈折率領域は、クラッド部中に点在または整列している。各高屈折率領域は、それぞれコア部と同種の材料で構成されている。各高屈折率領域は、コア部に入射されず、不本意にもクラッド部に入射された光を散乱させるなどして、この光が受光素子に到達するのを防止することにより、光通信の品質を高めることができる。

Description

光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器
　本発明は、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器に関するものである。
　近年、光周波搬送波を使用してデータを移送する光通信がますます重要になっている。このような光通信において、光周波搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路がある。
　この光導波路は、例えば、一対のクラッド層と、一対のクラッド層の間に設けられたコア層を有して構成される。コア層は、線状のコア部とそれを挟み込むようにコア部の両側に設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光周波搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド層およびクラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。
　特許文献１には、２層のクラッド層（上方クラッド層および下方クラッド層）と、その間に設けられ、ポリシランと有機過酸化物を含むポリシラン組成物を用いて形成されたポリシラン層とを有するポリマー光導波路が開示されている。また、ポリシラン層中には、コア層（コア部）とその両側に設けられた側面クラッド層（クラッド部）とが形成されている。
　このような光導波路では、コア部が、コア部よりも屈折率が低いクラッド層およびクラッド部によって囲まれた構成となっている。したがって、コア部の端部から導入された光は、クラッド層およびクラッド部との境界で反射しながら、コア部の軸に沿って搬送される。
　また、光導波路の入射側には、半導体レーザ等の発光素子が配置され、この発光素子から発生した光を光導波路のコア部に入射する。一方、光導波路の出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置され、コア部を伝搬してきた光を受光素子により受光する。そして、受光素子により受光した光の明滅パターンに基づいて光通信を可能にする。
　ところで、光導波路が低屈折率の媒体に隣接している場合、具体的には、光導波路が空気中に存在している場合、コア部とクラッド部との境界のみでなく、クラッド部と空気との境界においても光が反射される。
　ここで、光導波路の入射側では、発光素子が発生する光の全てをコア部に入射させることが好ましいが、一般には、光導波路と発光素子との間で光軸のずれや開口数のマッチング不良等の原因により、一部の光がクラッド部に入射することがある。
　このようにしてクラッド部に入射された光は、空気との境界で反射を繰り返し、終端まで伝搬する。そして、最終的には、クラッド部の終端から出射し、コア部から出射した光とともに受光素子によって受光される。その結果、クラッド部を伝搬してきた光がノイズとなってＳ／Ｎ比を低下させ、クロストーク等による光通信の品質低下を招くことが問題となっている。
　また、コア部とクラッド部との屈折率差が著しく小さい部分が含まれていると、この部分からコア部を伝搬する光がクラッド部側に漏れ出ることがある。この漏れ出た光も、クラッド部を伝搬し、ノイズとなってしまう。その結果、光通信の品質のさらなる低下を招くおそれがある。
特開２００４－３３３８８３号公報
　本発明の目的は、クラッド部を伝搬する光をコア部から遠ざける手段を有することにより、信号光のＳ／Ｎ比を向上させ、高品質の光通信が可能な光導波路、およびかかる光導波路を備えた高性能の光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することにある。
　上記目的を達成するために、本発明は、
　コア部と、該コア部に隣接して設けられたクラッド部とを備える光導波路であって、
　前記クラッド部中に、前記コア部よりも屈折率が低く、前記コア部に接した低屈折率領域と、該低屈折率領域よりも屈折率が高く、該低屈折率領域を介して前記コア部から離間した複数の高屈折率領域とを有しており、
　該複数の高屈折率領域は、前記クラッド部中に点在または整列していることを特徴とする光導波路である。
　また、本発明の光導波路では、前記各高屈折率領域は、それぞれ前記コア部と同種の材料で構成されているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各高屈折率領域の屈折率と前記低屈折率領域の屈折率との差は、０．５％以上であるのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記複数の高屈折率領域は、前記クラッド部を通過する光を、前記コア部から遠ざかる方向に屈折させるもの、または不規則に散乱させるものであるのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各高屈折率領域は、それぞれ粒状をなしているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各粒状の高屈折率領域は、それぞれ、その輪郭に凹凸を有しているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各粒状の高屈折率領域は、前記クラッド部中に不規則に点在しているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各高屈折率領域は、それぞれ短冊状をなしているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域は、それぞれ、その長手方向の軸線が、前記コア部の軸線の垂線から前記コア部を通過する光の進行方向の後方側に傾斜するよう配向しているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域の軸線と、前記コア部の軸線の垂線とがなす角は、１０～８５°であるのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域の形状は、細長い三角形をなしているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記細長い三角形をなす高屈折率領域は、その横断面積が、前記コア部から遠ざかるにつれて徐々に大きくなるような形状をなしているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域は、それぞれ、その長手方向の軸線の延長線と、前記コア部の軸線とが、直交しているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域の形状は、細長い長方形をなしているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記各短冊状の高屈折率領域は、互いに平行に配置されているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記複数の高屈折率領域は、当該光導波路の光入射側の端面および光出射側の端面に露出しないよう配置されているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記複数の高屈折率領域は、前記コア部と同一の製造工程で形成されたものであるのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、当該光導波路は、第１の層、第２の層および第３の層をこの順で積層してなる積層体を有し、
　前記第２の層の一部が、前記コア部をなしており、
　前記第２の層の残部、前記第１の層および前記第３の層が、前記クラッド部を構成しているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、前記複数の高屈折率領域は、前記第２の層中に設けられているのが好ましい。
　また、本発明の光導波路では、当該光導波路の前記コア部と、前記クラッド部の少なくとも一部とは、それぞれノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されているのが好ましい。
　上記目的を達成するために、本発明は、
　上記光導波路を備えたことを特徴とする光配線である。
　上記目的を達成するために、本発明は、
　電気配線と、上記光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板である。
　上記目的を達成するために、本発明は、
　上記光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器である。
図１は、本発明の光導波路の第１実施形態を示す（一部切り欠いて、および透過して示す）斜視図である。 図２は、図１に示す光導波路のコア層のみを示す平面図である。 図３は、図２に示すコア層を伝搬する光の伝搬経路の一例を示す図である。 図４は、図１に示す光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。 図５は、図１に示す光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。 図６は、図１に示す光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。 図７は、図１に示す光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。 図８は、図１に示す光導波路の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。 図９は、図２に示す第１実施形態の別の構成例を示す図である。 図１０は、図２に示す第１実施形態のさらに別の構成例を示す図である。 図１１は、本発明の光導波路の第２実施形態のコア層のみを示す平面図である。 図１２は、図１１に示す第２実施形態の別の構成例を示す図である。 図１３は、光導波路のクラッド部から出射した光の強度を測定する方法を説明するための図である。 図１４は、クロストークを評価する方法を説明するための図である。 図１５は、クラッド部を伝搬してきた光の強度を表すグラフである。 図１６は、クロストークの光の強度を表すグラフである。 図１７は、従来の光導波路のコア層のみを示す平面図である。
　以下、本発明の光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
　＜第１実施形態＞
　まず、本発明の光導波路の第１実施形態について説明する。
　図１は、本発明の光導波路の第１実施形態を示す（一部切り欠いて、および透過して示す）斜視図、図２は、図１に示す光導波路のコア層のみを示す平面図、図３は、図２に示すコア層を伝搬する光の伝搬経路の一例を示す図である。なお、以下の説明では、図１中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」といい、図２、３中の右側を「右」または「出射側」、左側を「左」または「入射側」という。また、図１は、層の厚さ方向（各図の上下方向）が誇張して描かれている。
　図１に示す光導波路１０は、図１中下側からクラッド層（クラッド部）１１、コア層１３およびクラッド層（クラッド部）１２をこの順に積層してなるものであり、コア層１３には、所定パターンのコア部１４と、このコア部（導波路チャンネル）１４に隣接する側面クラッド部１５（クラッド部）とが形成されている。図１には、２つのコア部１４と３つの側面クラッド部１５とが交互に設けられている。
　図１に示す光導波路１０は、入射側端面１０ａのコア部１４に入射された光を、コア部１４とクラッド部（各クラッド層１１、１２および各側面クラッド部１５）との界面で全反射させ、出射側に伝搬させることにより、出射側端面１０ｂのコア部１４から取り出すことができる。
　また、後に詳述するが、各側面クラッド部１５は、それぞれ側面クラッド部１５中の他の領域（低屈折率領域１５２）よりも屈折率が高い高屈折率領域１５１を複数個含んでいる。すなわち、側面クラッド部１５は、複数の高屈折率領域１５１と、この高屈折率領域１５１より屈折率が低い低屈折率領域１５２とに分かれている。そして、図１に示す複数の高屈折率領域１５１は、各側面クラッド部１５中に整列している。
　コア部１４と側面クラッド部１５中の低屈折率領域１５２との屈折率の差は、特に限定されないが、０．５％以上であるのが好ましく、０．８％以上であるのがより好ましい。一方、上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％程度とされる。屈折率の差が前記下限値未満であると光を伝達する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えても、光の伝送効率のそれ以上の増大は期待できない。
　なお、前記屈折率差とは、コア部１４の屈折率をＡ、低屈折率領域１５２の屈折率をＢとしたとき、次式で表される。
　　　屈折率差（％）＝｜Ａ／Ｂ－１｜×１００
　また、図１に示す構成では、コア部１４は、平面視で直線状に形成されているが、途中で湾曲、分岐等してもよく、その形状は任意である。なお、後述するような光導波路１０の製造方法を用いれば、複雑かつ任意の形状のコア部１４を容易にかつ寸法精度よく形成することができる。
　また、コア部１４は、その横断面形状が正方形または矩形（長方形）のような四角形をなしている。
　コア部１４の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、５～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０～６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。
　このコア部１４は、側面クラッド部１５中の低屈折率領域１５２に比べて屈折率が高い材料で構成され、また、クラッド層１１、１２に対しても屈折率が高い材料で構成されている。
　コア部１４、側面クラッド部１５およびクラッド層１１、１２の各構成材料は、それぞれ上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、本実施形態では、コア部１４と側面クラッド部１５とは同一の材料（コア層１３）で構成されており、コア部１４と低屈折率領域１５２との屈折率差、および、高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との屈折率差は、それぞれ材料の化学構造の差異により発現している。
　コア層１３の構成材料には、コア部１４を伝搬する光に対して実質的に透明な材料であればいかなる材料をも用いることができるが、具体的には、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。
　このうち、本実施形態のように化学構造の差異により屈折率差を発現させるためには、紫外線、電子線のような活性エネルギー線の照射により（あるいはさらに加熱することにより）屈折率が変化する材料であるのが好ましい。
　このような材料としては、例えば、活性エネルギー線の照射や加熱により、少なくとも一部の結合が切断したり、少なくとも一部の官能基が脱離する等して、化学構造が変化し得る材料が挙げられる。
　具体的には、ポリシラン（例：ポリメチルフェニルシラン）、ポリシラザン（例：ペルヒドロポリシラザン）等のシラン系樹脂や、前述したような構造変化を伴う材料のベースとなる樹脂としては、分子の側鎖または末端に官能基を有する以下の（１）～（６）のような樹脂が挙げられる。（１）ノルボルネン型モノマーを付加（共）重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加（共）重合体、（２）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα－オレフィン類との付加共重合体、（３）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体、（４）ノルボルネン型モノマーの開環（共）重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（５）ノルボルネン型モノマーとエチレンやα－オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂、（６）ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該（共）重合体を水素添加した樹脂等のノルボルネン系樹脂、その他、光硬化反応性モノマーを重合することにより得られるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂。
　なお、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。これらのノルボルネン系ポリマーは、例えば、開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）、ＲＯＭＰと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤（例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤）を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。
　一方、クラッド層１１および１２は、それぞれ、コア部１４の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。このような構成により、コア部１４は、その外周をクラッド部に囲まれた導光路として機能する。
　クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さの０．１～１．５倍程度であるのが好ましく、０．３～１．２５倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1～２００μｍ程度であるのが好ましく、５～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０～６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１０が不要に大型化（厚膜化）するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
　また、クラッド層１１および１２の構成材料としては、例えば、前述したコア層１３の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系ポリマーが好ましい。
　なお、本実施形態では、コア層１３の構成材料と、クラッド層１１、１２の構成材料との間で、両者の間の屈折率差を考慮して適宜異なる材料を選択して使用することが可能である。したがって、コア層１３とクラッド層１１、１２との境界において光を確実に全反射させるため、十分な屈折率差が生じるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路１０の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、コア部１４からクラッド層１１、１２に光が漏れ出るのを抑制することができる。その結果、コア部１４を伝搬する光の減衰を抑制することができる。
　また、光の減衰を抑制する観点からは、コア層１３とクラッド層１１、１２との間の密着性が高いことが好ましい。したがって、クラッド層１１、１２の構成材料は、コア層１３の構成材料よりも屈折率が低く、かつコア層１３の構成材料と密着性が高いという条件を満たすものであれば、いかなる材料であってもよい。
　例えば、比較的低い屈折率を有するノルボルネン系ポリマーとしては、末端にエポキシ構造を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。かかるノルボルネン系ポリマーは、特に低い屈折率を有するとともに、密着性が良好である。
　また、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高いため、かかるノルボルネン系ポリマーを用いることにより、光導波路１０に高いフレキシビリティ（可撓性）を付与することができる。
　アルキルノルボルネンの繰り返し単位が有するアルキル基としては、例えば、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられるが、ヘキシル基が特に好ましい。なお、これらのアルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。
　ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマー全体の屈折率が上昇するのを防止することができる。また、ヘキシルノルボルネンの繰り返し単位を有するノルボルネン系ポリマーは、前述したような波長領域（特に、８５０ｎｍ付近の波長領域）の光に対する透過率が優れることから好ましい。
　なお、クラッド層１１、側面クラッド部１５およびクラッド層１２の構成材料は、それぞれ、同一（同種）のものでも異なるものでもよいが、これらは、屈折率が近似しているものであるのが好ましい。
　このような本発明の光導波路１０は、コア部１４の材料の光学特性等によっても若干異なり、特に限定されないが、例えば、６００～１５５０ｎｍ程度の波長領域の光を使用したデータ通信において好適に使用される。
　ここで、前述したように、側面クラッド部１５は、複数の高屈折率領域１５１と、この高屈折率領域１５１より屈折率が低い低屈折率領域１５２とに分かれている。
　本発明の光導波路は、クラッド部中の一部にこのような高屈折率領域を含むことを特徴とするものである。
　以下、高屈折率領域１５１および低屈折率領域１５２について詳述する。
　低屈折率領域１５２は、各側面クラッド部１５のうち、図２に示すように、各コア部１４に接するように設けられている。一方、高屈折率領域１５１は、図２に示すように、各コア部１４に直接接触しないように設けられている。すなわち、高屈折率領域１５１と各コア部１４との間に、低屈折率領域１５２が介挿された状態になっている。
　また、複数の高屈折率領域１５１は、それぞれが平面視で短冊状をなしており、軸線が互いに平行になるように整列して設けられている。なお、図２に示す各高屈折率領域１５１は、それぞれ平面視で平行四辺形をなしている。また、これらの複数の高屈折率領域１５１は、各側面クラッド部１５中において、各コア部１４を挟んで両側に整列している。また、図２に示す各高屈折率領域１５１は、細長い平行四辺形をなしており、長辺の長さは短辺の２～５０倍程度であるのが好ましく、５～３０倍程度であるのがより好ましい。
　また、これらの短冊状の高屈折率領域１５１は、図２に示すように、各側面クラッド部１５を幅方向に横切るように設けられている。その結果、各側面クラッド部１５を通過する光は、必然的に各高屈折率領域１５１に通過することになり、後述する各高屈折率領域１５１の機能を確実に発揮させることができる。
　このような短冊状をなす各高屈折率領域１５１は、それぞれその軸線が、コア部１４の軸線の垂線に対して、コア部１４を通過する光の進行方向の後方に傾斜するように設けられている。このように傾斜して設けられていることにより、各高屈折率領域１５１を通過する光は、低屈折率領域１５２から高屈折率領域１５１に入射する際、および、高屈折率領域１５１から低屈折率領域１５２に出射する際、両者の屈折率差に基づいて、必然的にコア部１４から遠ざかるように屈折する。その結果、側面クラッド部１５を通過する光を、コア部１４から遠ざけることができ、光導波路１０の出射側端面１０ｂでは、コア部１４を伝搬してきた光の出射位置と、側面クラッド部１５を伝搬してきた光の出射位置との離間距離が十分に確保されることとなる。
　なお、この場合、図２に示す、コア部１４の軸線の垂線と、短冊状をなす各高屈折率領域１５１の軸線とがなす角度（高屈折率領域１５１の傾斜角）θは、高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との屈折率差や側面クラッド部１５の幅等に応じて、側面クラッド部１５を通過する光が必要かつ十分に屈折するように適宜設定される。
　具体的には、高屈折率領域１５１の傾斜角θは、１０～８５°程度であるのが好ましく、２０～７０°程度であるのがより好ましい。傾斜角θを前記範囲内に設定することにより、コア部１４から漏れ出た光がコア部１４から確実に離れるよう屈折し、光導波路１０の出射側端面１０ｂにおいて、信号光とノイズ光とを分離することができる。その結果、搬送波としてのＳ／Ｎ比をより確実に高めることができる。
　また、各高屈折率領域１５１同士の離間距離も、高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との屈折率差や側面クラッド部１５の幅等に応じて適宜設定される。
　さらに、各高屈折率領域１５１の幅も、同様に適宜設定されるが、一例としては、１～３０μｍ程度であるのが好ましく、３～２０μｍ程度であるのがより好ましい。
　なお、各高屈折率領域１５１の形状は、短冊状（細長い形状）をなしていれば特に限定されず、台形、長方形、菱形のような四角形の他、五角形、六角形のような多角形、楕円形、長円形のような円形等であってもよい。
　ここで、従来の光導波路について説明する。
　図１７は、従来の光導波路９０のコア層のみを示す平面図である。
　図１７に示すコア層９３は、平行に設けられた２つのコア部９４と３つの側面クラッド部９５とを交互に配置して構成されている。また、このようなコア層９３に通信用の光を照射するため、各コア部９４に対応して、それぞれ光導波路９０の入射側に発光素子９７が設けられ、出射側には、信号光を受光するための受光素子９８が設けられる。
　このようなコア層９３では、側面クラッド部９５の屈折率よりも空気の屈折率が小さいため、側面クラッド部９５とその外部空間（空気）との界面において、光の全反射が生じる。このため、何らかの理由で側面クラッド部９５に入射された光は、側面クラッド部９５と空気との界面で全反射を繰り返しながら伝搬し、出射側端面９０ｂから出射する。これにより、側面クラッド部９５を伝搬してきた光は、その一部がコア部９４を伝搬してきた信号光とともに受光素子９８に到達する。その結果、側面クラッド部９５を伝搬してきた光は、信号光にとってのノイズとなり、搬送波としてのＳ／Ｎ比の低下を招いていた。このため従来の光導波路９０では、搬送波としてのＳ／Ｎ比を向上させ、光通信の品質を向上させることが課題となっていた。
　ところで、側面クラッド部９５に光が入射する原因の１つとしては、光導波路９０の光軸と発光素子９７の光軸とのずれ、および光導波路９０と発光素子９７の相互の開口数の不適合が挙げられる。本来、コア部９４の光軸と発光素子９７の光軸とが一致しており、かつ発光素子９７から発生した光の全てがコア部９４に入射するよう相互の開口数をマッチングさせることが好ましいが、これらが不十分である場合、一部の光が光導波路９０の入射側端面９０ａの側面クラッド部９５に入射されてしまう。しかも、コア部９４の横断面は極めて微小であるため、発光素子９７を配置する際、光軸を一致させたり開口数のマッチングを図ることは極めて困難であった。
　さらには、光導波路９０の光軸と受光素子９８の光軸とがずれている場合、および光導波路９０と受光素子９８の相互の開口数が不適合である場合にも、側面クラッド部９５を伝搬してきた光が受光素子９８に到達してしまい、搬送波としてのＳ／Ｎ比の低下を招く。
　また、側面クラッド部９５に光が入射する別の原因としては、光導波路９０の途中でコア部９４から側面クラッド部９５に光が漏れ出ることが挙げられる。コア部９４から漏れ出た光は、側面クラッド部９５を伝搬し、前述したように搬送波としてのＳ／Ｎ比の低下を招く。
　そこで、本発明では、前述したように、側面クラッド部１５の一部に、他の領域（低屈折率領域１５２）よりも屈折率が高く、かつ前述したような複数の高屈折率領域１５１を整列させて設けることにより、光導波路１０の側面クラッド部１５を伝搬する光が高屈折率領域１５１を通過する際にコア部１４から遠ざけるように光を屈折させることを可能にした。そして、光導波路１０の出射側端面１０ｂでは、コア部１４を伝搬してきた光の出射位置と側面クラッド部１５を伝搬してきた光の出射位置との離間距離を十分に確保すること可能にした。これにより、仮に側面クラッド部１５に光が入射したとしても、この光を高屈折率領域１５１によりコア部１４から遠ざかるように屈折させることができる。
　ここで、図３には、図２に示す光導波路を通過する光の経路を示す。本発明によれば、図３に示すように、発光素子１７から出射してコア部１４を通過する光（実線矢印で示す。）に影響を及ぼすことなく、側面クラッド部１５を通過する光（破線矢印で示す。）がコア部１４から遠ざかるように誘導される。その結果、出射側端面１０ｂでは、コア部１４を伝搬してきた信号光の出射位置１４Ｌと、高屈折率領域１５１を伝搬してきたノイズ光の出射位置１５１Ｌとを十分に離すことができる。そして、このノイズ光が受光素子１８に受光されるのを抑制して、搬送波としてのＳ／Ｎ比が低下するのを防止することができる。
　また、高屈折率領域１５１は、図２に示すように、コア部１４と離間している。仮に高屈折率領域１５１とコア部１４とが接していると、この部分からコア部１４を伝搬する光が高屈折率領域１５１側に分岐してしまうおそれがあるが、高屈折率領域１５１とコア部１４とが離間していることにより、コア部１４を伝搬する光が高屈折率領域１５１側に分岐してしまうのを防止することができる。
　このような高屈折率領域１５１は、その屈折率が側面クラッド部１５の他の領域、すなわち低屈折率領域１５２よりも高ければよいが、好ましくはその差が０．５％以上とされ、より好ましくはその差が０．８％以上とされる。また、上限値は特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％とされる。高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との間にこのような十分な屈折率差を設けることにより、高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との界面で確実に全反射を生じさせることができる。その結果、高屈折率領域１５１を伝搬する光が不本意にも低屈折率領域１５２に漏れ出るのをより確実に防止することができる。
　また、高屈折率領域１５１は、入射側端面１０ａに露出していないのが好ましい。これにより、高屈折率領域１５１に直接光が入射されないので、高屈折率領域１５１中を光が伝搬するのを抑制することができる。その結果、前述したような高屈折率領域１５１の機能を確実に発揮させることができる。
　一方、高屈折率領域１５１は、光導波路１０の出射側端面１０ｂにおいても露出していないのが好ましい。出射側端面１０ｂに高屈折率領域１５１が露出していると、この部分から相対的に高強度の光が出射するおそれがあるが、露出していなければ、高屈折率領域１５１が本来の機能を確実に発揮することができ、Ｓ／Ｎ比を確実に高めることができる。
　また、複数の高屈折率領域１５１は、図２に示すように、光導波路１０の入射側端面１０ａから出射側端面１０ｂまでの間で、長手方向の全体に分布するように設けられるのが好ましい。このようにすれば、入射側端面１０ａから側面クラッド部１５に入射した光はもちろん、光導波路１０の途中でコア部１４から側面クラッド部１５に漏れ出た光をも、確実にコア部１４から遠ざけることができる。
　また、図２に示すように、複数のコア部１４、１４がある（マルチチャンネルである）場合、前述したような高屈折率領域１５１が設けられていると、各コア部１４、１４にそれぞれ対応する受光素子以外の受光素子にノイズ光が受光されてしまうこと、すなわち、別チャンネルからの信号光の漏れ込み（クロストーク）を効果的に抑制することができる。
　なお、この場合、隣接するコア部１４、１４間の側面クラッド部１５中に設けられる高屈折率領域１５１は、最も近くに位置するコア部１４を基準にして傾斜方向を決めればよい。したがって、図２に示すような平行するコア部１４、１４間に配置される各高屈折率領域１５１は、必然的にＶ字状の配列になる。
　ここで、図９に、図２に示す第１実施形態の別の構成例を示す。
　図９に示す光導波路１０は、短冊状をなす高屈折率領域の平面視の形状が異なること以外は、図２と同様である。すなわち、図９に示す側面クラッド部１５は、平面視で短冊状をなす複数の高屈折率領域１５１’を有するものであるが、この複数の高屈折率領域１５１’は、平面視で細長い三角形をなしている。
　また、このような高屈折率領域１５１’は、図２に示す高屈折率領域１５１と同様、その軸線が、コア部１４の軸線の垂線に対して、コア部１４を通過する光の進行方向の後方に傾斜するように設けられている。
　さらに、各高屈折率領域１５１’は、コア部１４側から遠ざかるにつれて、横断面積が徐々に増大するような形状をなしている。かかる形状の各高屈折率領域１５１’は、側面クラッド部１５を通過する光をより効果的に減衰させることができる。その結果、搬送波としてのＳ／Ｎ比をより高めることができる。
　なお、図９では、平面視で細長い三角形をなす複数の高屈折率領域１５１’において、コア部１４側に位置する内角は、鋭角であり、他の内角に比べてその角度が小さい。具体的には、この内角は、３～３０°程度であるのが好ましく、５～２０°程度であるのがより好ましい。
　また、この場合、コア部１４側に位置する内角に対向する辺の長さは、他の２辺の長さよりも短くなる。具体的には、コア部１４側に位置する内角に対向する辺の長さは、他の２辺のうちの短い方の辺に対して、０．０２～０．５倍程度であるのが好ましく、０．０３～０．２倍程度であるのがより好ましい。
　また、図１０には、図２に示す第１実施形態のさらに別の構成例を示す。
　図１０に示す光導波路１０は、短冊状をなす高屈折率領域の平面視の形状が異なること以外は、図２と同様である。すなわち、図１０に示す側面クラッド部１５は、平面視で短冊状をなす複数の高屈折率領域１５１”を有するものであるが、この複数の高屈折率領域１５１”は、平面視で細長い長方形をなしており、かつ、その軸線の延長線がコア部１４の軸線に対してほぼ直交するよう配置されている。
　なお、図１０に示す各高屈折率領域１５１”は、細長い長方形をなしているが、長辺の長さは短辺の２～５０倍程度であるのが好ましく、５～３０倍程度であるのがより好ましい。
　このような複数の高屈折率領域１５１”は、側面クラッド部１５を伝搬する光をコア部１４から遠ざけるように効率的に屈折または散乱させるため、側面クラッド部１５を通過する光をさらに効果的に減衰させることができる。その結果、搬送波としてのＳ／Ｎ比のさらなる向上を図ることができる。
　これらの各高屈折率領域１５１’および各高屈折率領域１５１”は、前述した各高屈折率領域１５１と同様の機能を有する。
　次に、光導波路１０の製造方法の一例について説明する。
　光導波路１０は、クラッド層１１（第１の層）と、コア層１３（第２の層）と、クラッド層１２（第３の層）とをそれぞれ作製し、これらを積層することにより製造される。
　このような製造方法では、互いに屈折率の異なる部位が物理的かつ光学的に接するように作製する必要がある。具体的には、コア部１４に対して、低屈折率領域１５２や各クラッド層１１、１２が隙間を介することなく、確実に密着するように形成する必要がある。また、高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２や各クラッド層１１、１２との間も確実に密着している必要がある。
　その具体的な製造方法としては、同一層（第２の層）内に、コア部１４、高屈折率領域１５１、低屈折率領域１５２等を形成し得る方法であれば特に限定されず、例えば、フォトブリーチング法、フォトリソグラフィ法、直接露光法、ナノインプリンティング法、モノマーディフュージョン法等が挙げられる。
　ここでは、代表として、モノマーディフュージョン法による光導波路１０の製造方法について説明する。
　図４～図８は、それぞれ、図１に示す光導波路１０の製造方法の工程例を模式的に示す断面図である。なお、図５、６、８は、図２のＡ－Ａ線における断面図である。
　［１］　まず、支持基板１６１上に、層１１０を形成する（図４参照）。
　層１１０は、コア層形成用材料（ワニス）１００を塗布し硬化（固化）させる方法により形成される。
　具体的には、層１１０は、支持基板１６１上にコア層形成用材料１００を塗布して液状被膜を形成した後、この支持基板１６１を換気されたレベルテーブルに置いて、液状被膜表面の不均一な部分を水平化するとともに、溶媒を蒸発（脱溶媒）することにより形成する。
　層１１０を塗布法で形成する場合、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
　支持基板１６１には、例えば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、石英基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等が用いられる。
　コア層形成用材料１００は、ポリマー１１５と、添加剤１２０（少なくともモノマーおよび触媒を含む）とで構成される現像性材料を含有し、活性放射線の照射および加熱により、ポリマー１１５中において、モノマーの反応が生じる材料である。
　そして、得られた層１１０中では、ポリマー（マトリックス）１１５は、いずれも、実質的に一様かつランダムに分配され、添加剤１２０は、ポリマー１１５内に実質的に一様かつランダムに分散されている。これにより、層１１０中には、添加剤１２０が実質的に一様かつ任意に分散されている。
　このような層１１０の平均厚さは、形成すべきコア層１３の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、５～２００μｍ程度であるのが好ましく、１０～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１５～６５μｍ程度であるのがさらに好ましい。
　ポリマー１１５には、透明性が十分に高く（無色透明であり）、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中で後述するようにモノマーが反応（重合反応や架橋反応）可能であり、モノマーが重合した後においても、十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
　ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、コア層形成用材料１００中や層１１０中においてポリマー１１５と相分離を起こさないことを言う。
　このようなポリマー１１５としては、前述したコア層１３の構成材料が挙げられる。
　なお、ポリマー１１５としてノルボルネン系ポリマーを用いた場合、このポリマーが高い疎水性を有するため、吸水による寸法変化等を生じ難いコア層１３を得ることができる。
　また、ノルボルネン系ポリマーとしては、単独の繰り返し単位を有するもの（ホモポリマー）、２つ以上のノルボルネン系繰り返し単位を有するもの（コポリマー）のいずれであってもよい。
　このうち、コポリマーの一例としては、下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有する化合物が好適に用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　［式中、ｍは、１～４の整数を表し、ｎは、１～９の整数を表す。］
　なお、コポリマーの種類としては、上記式（１）の２つの単位が任意の順序（ランダム）に並んだもの、交互に並んだもの、各単位がそれぞれ固まって（ブロック状に）並んだもの等のいずれの形態をとるものであってもよい。
　ここで、ポリマー１１５として上記ノルボルネン系ポリマーを用いた場合、添加剤１２０の一例として、ノルボルネン系モノマー、助触媒（第１の物質）および触媒前駆体（第２の物質）を含むものが好ましく選択される。
　ノルボルネン系モノマーは、後述する活性放射線に照射により、活性放射線の照射領域において反応して反応物を形成し、この反応物の存在により、層１１０において照射領域と、活性放射線の未照射領域とにおいて、屈折率差を生じさせ得るような化合物である。
　ここで、この反応物としては、ノルボルネン系モノマーがポリマー（マトリックス）１１５中で重合して形成されたポリマー（重合体）、ポリマー１１５同士を架橋する架橋構造、および、ポリマー１１５に重合してポリマー１１５から分岐した分岐構造（ブランチポリマーや側鎖（ペンダントグループ））のうちの少なくとも１つが挙げられる。
　ここで、層１１０において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して高い屈折率を有するノルボルネン系モノマーとが組み合わせて使用され、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー１１５と、このポリマー１１５に対して低い屈折率を有するノルボルネン系モノマーとが組み合わせて使用される。
　なお、屈折率が「高い」または「低い」とは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味する。
　そして、ノルボルネン系モノマーの反応（反応物の生成）により、層１１０において照射領域の屈折率が低下する場合、当該部分が側面クラッド部１５となり、照射領域の屈折率が上昇する場合、当該部分がコア部１４となる。
　触媒前駆体（第２の物質）は、前記のモノマーの反応（重合反応、架橋反応等）を開始させ得る物質であり、後述する活性放射線の照射により活性化した助触媒（第１の物質）の作用により、活性化温度が変化する物質である。
　この触媒前駆体（プロカタリスト：ｐｒｏｃａｔａｌｙｓｔ）としては、活性放射線の照射に伴って活性化温度が変化（上昇または低下）するものであれば、いかなる化合物を用いてもよいが、特に、活性放射線の照射に伴って活性化温度が低下するものが好ましい。これにより、比較的低温による加熱処理でコア層１３（光導波路１０）を形成することができ、他の層に不要な熱が加わって、光導波路１０の特性（光伝送性能）が低下するのを防止することができる。
　このような触媒前駆体としては、下記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）で表わされる化合物の少なくとも一方を含む（主とする）ものが好適に用いられる。
　（Ｅ（Ｒ）３）２Ｐｄ（Ｑ）２　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉａ）
　［（Ｅ（Ｒ）３）ａＰｄ（Ｑ）（ＬＢ）ｂ］ｐ［ＷＣＡ］ｒ　　 ・・・（Ｉｂ）
　［式Ｉａ、Ｉｂ中、それぞれ、Ｅ（Ｒ）３は、第１５族の中性電子ドナー配位子を表し、Ｅは、周期律表の第１５族から選択される元素を表し、Ｒは、水素原子（またはその同位体の１つ）または炭化水素基を含む部位を表し、Ｑは、カルボキシレート、チオカルボキシレートおよびジチオカルボキシレートから選択されるアニオン配位子を表す。また、式Ｉｂ中、ＬＢは、ルイス塩基を表し、ＷＣＡは、弱配位アニオンを表し、ａは、１～３の整数を表し、ｂは、０～２の整数を表し、ａとｂとの合計は、１～３であり、ｐおよびｒは、パラジウムカチオンと弱配位アニオンとの電荷のバランスをとる数を表す。］
　式Ｉａに従う典型的な触媒前駆体としては、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（ｉ－Ｐｒ）３）２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２、Ｐｄ（Ｏ２ＣＣＭｅ３）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｐ）３）２、Ｐｄ（Ｏ２ＣＣＦ３）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２、Ｐｄ（Ｏ２ＣＣ６Ｈ５）３（Ｐ（Ｃｙ）３）２が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。ここで、Ｃｐは、シクロペンチル（ｃｙｃｌｏｐｅｎｔｙｌ）基を表し、Ｃｙは、シクロヘキシル基を表す。
　また、式Ｉｂで表される触媒前駆体としては、ｐおよびｒが、それぞれ１および２の整数から選択される化合物が好ましい。
　このような式Ｉｂに従う典型的な触媒前駆体としては、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（Ｐ（Ｃｙ）３）２が挙げられる。ここで、Ｃｙは、シクロヘキシル基を表し、Ａｃは、アセチル基を表す。
　これらの触媒前駆体は、モノマーを効率よく反応（ノルボルネン系モノマーの場合、付加重合反応によって効率よく重合反応や架橋反応等）することができる。
　助触媒（第１の物質）は、活性放射線の照射によって活性化して、前記の触媒前駆体（プロカタリスト）の活性化温度（モノマーに反応を生じさせる温度）を変化させ得る物質である。
　この助触媒（コカタリスト：ｃｏｃａｔａｌｙｓｔ）としては、活性放射線の照射により、その分子構造が変化（反応または分解）して活性化する化合物であれば、いかなるものでも用いることができるが、特定波長の活性放射線の照射によって分解し、プロトンや他の陽イオン等のカチオンと、触媒前駆体の脱離基に置換し得る弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを発生する化合物（光開始剤）を含む（主とする）ものが好適に用いられる。
　弱配位アニオンとしては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン（ＦＡＢＡ－）、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン（ＳｂＦ６ －）等が挙げられる。
　この助触媒（光酸発生剤または光塩基発生剤）としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩やヘキサフルオロアンチモン酸塩の他、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ガリウム酸塩、アルミン酸塩類、アンチモン酸塩類、他のホウ酸塩類、ガリウム酸塩類、カルボラン類、ハロカルボラン類等が挙げられる。
　また、コア層形成用材料（ワニス）１００中には、必要に応じて、増感剤を添加するようにしてもよい。
　さらに、コア層形成用材料１００中には、酸化防止剤を添加することができる。これにより、望ましくないフリーラジカルの発生や、ポリマー１１５の自然酸化を防止することができる。その結果、得られたコア層１３（光導波路１０）の特性の向上を図ることができる。
　以上のようなコア層形成用材料１００を用いて層１１０が形成される。
　このとき、層１１０は、第１の屈折率を有している。この第１の屈折率は、層１１０中に一様に分散（分布）するポリマー１１５およびモノマーの作用による。
　また、以上の添加剤１２０の説明では、モノマーがノルボルネン系モノマーの場合を例に説明したが、これ以外のモノマーとしては、重合可能な部位を有する化合物であればよく、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、スチレン系モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
　なお、添加剤１２０中の触媒は、モノマーの種類に応じて適宜選択すればよく、例えば、アクリル酸系モノマーやエポキシ系モノマーの場合には、触媒前駆体（第２の物質）の添加を省略することができる。
　［２］　次に、開口（窓）１３５１が形成されたマスク（マスキング）１３５を用意し、このマスク１３５を介して、層１１０に対して活性放射線（活性エネルギー光線）１３０を照射する（図５参照）。
　以下では、モノマーとして、ポリマー１１５より低い屈折率を有するものを用い、コア層形成用材料１００は、活性放射線１３０の照射に伴って照射領域１２５の屈折率が低下する場合を一例に説明する。
　すなわち、ここで示す例では、活性放射線１３０の照射領域１２５が側面クラッド部１５中の低屈折率領域１５２となる。
　したがって、ここで示す例では、マスク１３５には、形成すべき低屈折率領域１５２のパターンと等価な開口（窓）１３５１が形成される。この開口１３５１は、照射する活性放射線１３０が透過する透過部を形成するものである。
　マスク１３５は、予め形成（別途形成）されたもの（例えばプレート状のもの）でも、層１１０上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。
　用いる活性放射線１３０は、助触媒に対して、光化学的な反応（変化）を生じさせ得るものであればよく、例えば、可視光、紫外光、赤外光、レーザ光の他、電子線やＸ線等を用いることもできる。
　マスク１３５を介して、活性放射線１３０を層１１０に照射すると、活性放射線１３０が照射された照射領域１２５内に存在する助触媒（第１の物質：コカタリスト）は、活性放射線１３０の作用により反応（結合）または分解して、カチオン（プロトンまたは他の陽イオン）と、弱配位アニオン（ＷＣＡ）とを遊離（発生）する。
　そして、これらのカチオンや弱配位アニオンは、照射領域１２５内に存在する触媒前駆体（第２の物質：プロカタリスト）の分子構造に変化（分解）を生じさせ、これを活性潜在状態（潜在的活性状態）に変化させる。
　なお、活性放射線１３０として、レーザ光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク１３５の使用を省略してもよい。
　［３］　次に、層１１０に対して加熱処理（第１の加熱処理）を施す。
　これにより、照射領域１２５内では、活性潜在状態の触媒前駆体が活性化して（活性状態となって）、モノマーの反応（重合反応や架橋反応）が生じる。
　そして、モノマーの反応が進行すると、照射領域１２５内におけるモノマー濃度が徐々に低下する。これにより、照射領域１２５と未照射領域１４０との間には、モノマー濃度に差が生じ、これを解消すべく、未照射領域１４０からモノマーが拡散（モノマーディフュージョン）して照射領域１２５に集まってくる。
　その結果、照射領域１２５では、モノマーやその反応物（重合体、架橋構造や分岐構造）が増加し、当該領域の屈折率にモノマー由来の構造が大きく影響を及ぼすようになり、第１の屈折率より低い第２の屈折率へと低下する。なお、モノマーの重合体としては、主に付加（共）重合体が生成する。
　一方、未照射領域１４０では、当該領域から照射領域１２５にモノマーが拡散することにより、モノマー量が減少するため、当該領域の屈折率にポリマー１１５の影響が大きく現れるようになり、第１の屈折率より高い第３の屈折率へと上昇する。
　このようにして、照射領域１２５と未照射領域１４０との間に屈折率差（第２の屈折率＜第３の屈折率）が生じて、コア部１４および高屈折率領域１５１（未照射領域１４０）と低屈折率領域１５２（照射領域１２５）とが形成される（図６参照）。
　［４］　次に、層１１０に対して第２の加熱処理を施す。
　これにより、未照射領域１４０および／または照射領域１２５に残存する触媒前駆体を、直接または助触媒の活性化を伴って、活性化させる（活性状態とする）ことにより、各領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させる。
　このように、各領域１２５、１４０に残存するモノマーを反応させることにより、得られるコア部１４、高屈折率領域１５１および低屈折率領域１５２の安定化を図ることができる。
　［５］　次に、層１１０に対して第３の加熱処理を施す。
　これにより、得られるコア層１３に生じる内部応力の低減や、コア部１４、高屈折率領域１５１および低屈折率領域１５２の更なる安定化を図ることができる。
　以上の工程を経て、コア層１３（第２の層）が得られる。
　なお、例えば、第２の加熱処理や第３の加熱処理を施す前の状態で、コア部１４および高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２との間に十分な屈折率差が得られている場合等には、本工程［５］や前記工程［４］を省略してもよい。
　［６］　次に、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）を形成する（図７参照）。
　クラッド層１１（１２）の形成方法としては、クラッド材を含むワニス（クラッド層形成用材料）を塗布し硬化（固化）させる方法、硬化性を有するモノマー組成物を塗布し硬化（固化）させる方法等、いかなる方法でもよい。
　クラッド層１１（１２）を塗布法で形成する場合、例えば、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられる。
　支持基板１６２には、支持基板１６１と同様のものを用いることができる。
　以上のようにして、支持基板１６２上に、クラッド層１１（１２）が形成される。
　［７］　次に、支持基板１６１からコア層１３を剥離し、このコア層１３を、クラッド層１１（第１の層）が形成された支持基板１６２と、クラッド層１２（第３の層）が形成された支持基板１６２とで挟持する（図８参照）。
　そして、図８中の矢印で示すように、クラッド層１２が形成された支持基板１６２の上面側から加圧し、クラッド層１１、１２とコア層１３とを圧着する。
　これにより、クラッド層１１、１２（第１の層および第３の層）とコア層１３（第２の層）とが接合、一体化される。
　また、この圧着作業は、加熱下で行われるのが好ましい。加熱温度は、クラッド層１１、１２やコア層１３の構成材料等により適宜決定されるが、通常は、８０～２００℃程度が好ましく、１２０～１８０℃程度がより好ましい。
　次いで、クラッド層１１、１２から、それぞれ、支持基板１６２を剥離、除去する。これにより、光導波路１０（本発明の光導波路）が得られる。
　以上のような方法によれば、コア部１４と高屈折率領域１５１とを同一の製造工程において同時に形成することができる。このため、従来の製造方法から工程数を増やすことなく、側面クラッド部１５内に高屈折率領域１５１と低屈折率領域１５２とを効率よく作り込むことができる。
　また、このようにして形成されたコア部１４と高屈折率領域１５１とは、同種の材料で構成されたものとなる。このため、両者は熱膨張率が等しくなり、互いに異なる材料で構成された場合に比べ、温度変化に伴う光導波路１０の変形や層間剥離等の不具合を低減することができる。
　以上、モノマーディフュージョン法による光導波路１０の製造方法について説明したが、前述したように、光導波路１０の製造方法には、前述したようなその他の方法を用いることもできる。
　このうち、フォトブリーチング法では、例えば、活性放射線の照射により活性化する離脱剤（物質）と、主鎖と該主鎖から分岐し、活性化した離脱剤の作用により、分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基（離脱性ペンダントグループ）とを有するポリマーを含有するコア層形成用材料を用いる。このコア層形成用材料は、層状に成膜された後、この層の一部に紫外線等の活性放射線を照射することにより、離脱性基が離脱（切断）され、その領域の屈折率が変化（上昇または低下）する。例えば、離脱性基の離脱に伴って屈折率が低下するものとすると、活性放射線の照射領域が低屈折率領域１５２となり、それ以外の領域がコア部１４または高屈折率領域１５１となる。このようにしてコア層１３を形成した後、前述したようにして、コア層１３の両面にクラッド層１１、１２を接合する。
　一方、フォトリソグラフィ法は、例えば、高屈折率のコア部形成用材料の層をクラッド層１１上に成膜し、さらにこの層上にコア部１４および高屈折率領域１５１に対応する形状のレジスト膜をフォトリソグラフィ技術により形成する。そして、このレジスト膜をマスクとして、コア部形成用材料の層をエッチングする。これによりコア部１４および高屈折率領域１５１が得られる。その後、コア部１４および高屈折率領域１５１を覆うようにして、相対的に低屈折率のクラッド部形成用材料を成膜することにより、コア部１４と高屈折率領域１５１との隙間をクラッド部形成用材料が充填し、低屈折率領域１５２が得られる。また、さらに、これら（コア部１４、高屈折率領域１５１および低屈折率領域１５２）を覆うようにクラッド部形成用材料が供給されることにより、クラッド層１２が得られる。
　＜第２実施形態＞
　次に、本発明の光導波路の第２実施形態について説明する。
　図１１は、本発明の光導波路の第２実施形態のコア層のみを示す平面図である。
　以下、本実施形態にかかる光導波路について説明するが、前記第１実施形態にかかる光導波路との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
　本実施形態にかかる光導波路は、高屈折率領域および低屈折率領域の平面視のパターンが異なること以外は、前記第１実施形態と同様である。
　図１１に示す側面クラッド部１５は、平面視で粒状をなす複数の高屈折率領域１５３を有するものである。
　この複数の高屈折率領域１５３は、前記第１実施形態で説明した高屈折率領域１５１と同様、低屈折率領域１５２よりも屈折率が高い領域であり、コア部１４を挟んで両側に整列している。
　また、各高屈折率領域１５３は、互いに独立しており、また、各コア部１４に直接接触しないように設けられている。すなわち、高屈折率領域１５３と各コア部１４との間に、それぞれ低屈折率領域１５２が介挿された状態になっている。
　このような高屈折率領域１５３は、その屈折率が側面クラッド部１５の他の領域、すなわち低屈折率領域１５２よりも高ければよいが、好ましくはその差が０．５％以上とされ、より好ましくはその差が０．８％以上とされる。また、上限値は特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％とされる。高屈折率領域１５３と低屈折率領域１５２との間にこのような十分な屈折率差を設けることにより、高屈折率領域１５３と低屈折率領域１５２との界面で確実に全反射を生じさせることができる。その結果、高屈折率領域１５３を伝搬する光が不本意にも低屈折率領域１５２に漏れ出るのをより確実に防止することができる。
　また、高屈折率領域１５３は、入射側端面１０ａに露出していないのが好ましい。これにより、高屈折率領域１５３に直接光が入射されないので、高屈折率領域１５３中を光が伝搬するのを抑制することができる。その結果、前述したような高屈折率領域１５３の機能を確実に発揮させることができる。
　一方、高屈折率領域１５３は、光導波路１０の出射側端面１０ｂにおいても露出していないのが好ましい。出射側端面１０ｂに高屈折率領域１５３が露出していると、この部分から相対的に高強度の光が出射するおそれがあるが、露出していなければ、高屈折率領域１５３が本来の機能を確実に発揮することができ、Ｓ／Ｎ比を確実に高めることができる。
　また、複数の高屈折率領域１５３は、図１１に示すように、光導波路１０の入射側端面１０ａから出射側端面１０ｂまでの間で、長手方向の全体に分布するように設けられるのが好ましい。このようにすれば、入射側端面１０ａから側面クラッド部１５に入射した光はもちろん、光導波路１０の途中でコア部１４から側面クラッド部１５に漏れ出た光をも、確実にコア部１４から遠ざけることができる。
　また、図１１に示すように、複数のコア部１４、１４がある（マルチチャンネルである）場合、前述したような高屈折率領域１５３が設けられていると、各コア部１４、１４にそれぞれ対応する受光素子以外の受光素子にノイズ光が受光されてしまうこと、すなわち、別チャンネルからの信号光の漏れ込み（クロストーク）を効果的に抑制することができる。
　このような本実施形態にかかる光導波路１０では、入射側端面１０ａから入射した光が出射側端面１０ｂに伝搬する途中で、コア部１４から側面クラッド部１５（低屈折率領域１５２）に漏れ出た光が、高屈折率領域１５３に達すると、そこで不規則に散乱される。これにより、コア部１４から側面クラッド部１５に漏れ出た光は、出射側端面１０ｂに達する前に広範囲に広がり減衰することとなる。その結果、出射側端面１０ｂでは、側面クラッド部１５から出射するノイズ光の光強度が低減されることとなり、搬送波としてのＳ／Ｎ比を高めることができる。
　粒状をなす高屈折率領域１５３の平面視における形状は、特に限定されず、例えば、真円、楕円、長円のような円形、三角形、四角形、六角形、八角形、星型のような多角形、半円、扇型等とされる。
　また、高屈折率領域１５３の輪郭は、図１１に示すように凹凸を有しているのが好ましい。これにより、高屈折率領域１５３の輪郭は、コア部１４から漏れ出た光を受ける面が不規則性を有することとなり、光を確実に乱反射することができる。
　また、各高屈折率領域１５３の平均粒径は、１０～５００μｍ程度であるのが好ましく、２０～３００μｍ程度であるのがより好ましい。各高屈折率領域１５３の平均粒径を前記範囲内とすることにより、各高屈折率領域１５３が光を散乱する確率を十分に高めることができる。
　なお、各高屈折率領域１５３と低屈折率領域１５２との屈折率差は、好ましくはその差が０．５％以上とされ、より好ましくはその差が０．８％以上とされる。また、上限値は特に設定されなくてもよいが、好ましくは５．５％とされる。
　ここで、図１２に、図１１に示す第２実施形態の別の構成例を示す。
　図１２に示す光導波路１０は、複数の高屈折率領域１５３の配置パターンが異なること以外は、図１１と同様である。すなわち、図１１に示す複数の高屈折率領域１５３は、整列して配置されているが、図１２に示す複数の高屈折率領域１５３は、不規則（ランダム）に配置されている。これにより、側面クラッド部１５を通過する光が高屈折率領域１５３で散乱されるとき、複数の高屈折率領域１５３で散乱された光が干渉してしまうのを抑制することができる。その結果、干渉に伴って、側面クラッド部１５から出射されたノイズ光の光強度が増幅されるのを防止することができる。
　以上、本発明の光導波路を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意の構成と置換することができ、また、任意の構成が付加されていてもよい。
　また、本発明の光導波路は、前記各実施形態の構成のうち、第１実施形態と第２実施形態を組み合わせたものであってもよい。
　さらに、前記各実施形態では、コア層１３中に２つのコア部１４が設けられているが、コア部１４の数は、１つまたは３つ以上であってもよい。
　また、前記各実施形態では、側面クラッド部１５中に高屈折率領域１５１、１５３が設けられているが、これらの高屈折率領域は、クラッド層１１、１２中に設けられていてもよい。
　なお、このような本発明の光導波路は、例えば光通信用の光配線に用いることができる。
　また、本発明の光導波路を備えた光配線（本発明の光配線）は、既存の電気配線とともに基板上に混載されることにより、いわゆる「光・電気混載基板」を構成することができる。かかる光・電気混載基板（本発明の光電気混載基板）では、例えば、光配線（光導波路のコア部）で伝送された光信号を、光デバイスにおいて電気信号に変換し、電気配線に伝達する。これにより、光配線の部分で、従来の電気配線よりも高速かつ大容量の情報伝送を可能にする。したがって、例えばＣＰＵやＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間をつなぐバス等に、この光・電気混載基板を適用することにより、システム全体の性能を高めるとともに、電磁ノイズの発生を抑制することができる。
　なお、かかる光・電気混載基板は、例えば、携帯電話、ゲーム機、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等、大容量のデータを高速に伝送する電子機器類に搭載することが考えられる。このように光・電気混載基板を備えた電子機器（本発明の電子機器）は、内部の情報処理速度に優れた高い性能を発揮し得るものとなる。
　以下、本発明の具体的実施例について説明する。
　１．光導波路の製造
　（実施例１）
　まず、下記式（２）で表わされる繰り返し単位を有するノルボルネン系ポリマーを含むコア層形成用材料を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　次いで、このコア層形成用材料を基板上に塗布し、液状被膜を形成した。次いで、この液状被膜を乾燥し、コア層形成用材料の層を得た。
　次に、この層に、形成すべき低屈折率領域に対応する開口（窓）を有するマスクを介して、紫外線を照射した。次いで、オーブン中で層を加熱した。これにより、紫外線を照射した領域が低屈折率領域（屈折率：１．５４）となり、また紫外線を照射しなかった領域がコア部（屈折率：１．５５）および高屈折率領域（屈折率：１．５５）となり、その結果、コア層を得た。なお、コア部、高屈折率領域および低屈折率領域の形状は、それぞれ図２に示す形状とした。ただし、図２に示す高屈折率領域の傾斜角は、４５°とした。
　次に、コア層形成用材料に用いたポリマーよりも屈折率の低いノルボルネン系ポリマーを用意し、これを含むクラッド層形成用材料を調製した。
　次いで、このクラッド層形成用材料を２つの基板上にそれぞれ塗布し、液状被膜を形成した。次いで、これらの液状被膜を乾燥し、それぞれクラッド層を得た。
　そして、得られたコア層の両面にクラッド層を貼り合わせた。これにより、光導波路を得た。
　（実施例２）
　コア部、高屈折率領域および低屈折率領域の各形状を、それぞれ図９に示す形状とした以外は、前記実施例１と同様にして光導波路を得た。
　なお、図９中の高屈折率領域１５１’の傾斜角は、４５°とした。また、高屈折率領域１５１’のコア部１４側に位置する内角は、１０°とした。
　（実施例３）
　コア部、高屈折率領域および低屈折率領域の各形状を、それぞれ図１０に示す形状とした以外は、前記実施例１と同様にして光導波路を得た。
　なお、図１０中の高屈折率領域１５１”のアスペクト比は、１：２０とした。
　（実施例４）
　コア部、高屈折率領域および低屈折率領域の各形状を、それぞれ図１１に示す形状とした以外は、前記実施例１と同様にして光導波路を得た。
　なお、図１１中の高屈折率領域１５３の平均粒径は、１μｍとした。
　（実施例５）
　コア部、高屈折率領域および低屈折率領域の各形状を、それぞれ図１２に示す形状とした以外は、前記実施例１と同様にして光導波路を得た。
　なお、図１２中の高屈折率領域１５３の平均粒径は、１μｍとした。
　（比較例）
　高屈折率領域および低屈折率領域の形成を省略し、図１７に示すように、コア層中にコア部とその両側のクラッド部とを形成するようにした以外は、前記実施例１と同様にして光導波路を得た。
　２．光導波路の評価結果
　各実施例で得られた光導波路および比較例で得られた光導波路について、それぞれ以下に示す方法で出射側端面における光強度を測定した。
　２．１　クラッド部から出射した光の強度評価
　図１３は、光導波路のクラッド部から出射した光の強度を測定する方法を説明するための図である。
　この方法では、まず、測定対象の光導波路１０の光入射側に、直径５０μｍの入射側光ファイバ２１を配置した。この入射側光ファイバ２１は、光導波路１０に光を入射するための発光素子（図示せず）に接続されており、その光軸と、光導波路１０のコア部１４の光軸と同じ面内に配置されている。また、入射側光ファイバ２１は、光導波路１０の入射側端面１０ａに沿ってコア層１３と同じ面内を走査し得るようになっている。なお、この走査幅は、光導波路１０のコア部１４の光軸を中心に、両側２５０μｍずつに設定されている。
　一方、光導波路１０の光出射側には、直径２００μｍの出射側光ファイバ２２を配置した。この出射側光ファイバ２２は、光導波路１０から出射した光を受光するための受光素子（図示せず）に接続されており、その光軸が、光導波路１０のコア部１４の光軸から側面クラッド部１５側に１２５μｍずれた個所に位置するよう配置されている。
　光強度を測定する際には、光を放射しつつ入射側光ファイバ２１を走査させると、光導波路１０内を通過した光の一部が出射側光ファイバ２２に到達する。そして、このとき出射側光ファイバ２２に入射した光強度を測定することにより、入射側光ファイバ２１の位置と、出射側光ファイバ２２に入射する光の強度との関係を評価した。
　この評価結果のうち、代表として実施例１～３と比較例のものを図１５に示す。なお、図１５のグラフの横軸は、光導波路のコア部の光軸を基準とした入射側光ファイバの位置を表し、縦軸は、光導波路のコア部を伝搬してきた光の強度（入射側光ファイバの光軸と出射側光ファイバの光軸とを光導波路のコア部に一致させたときの光強度）を基準とした光強度比（損失）を表す。
　図１５から明らかなように、比較例で得られた光導波路では、入射側光ファイバが光導波路のコア部の光軸を基準として８０～２００ｍｍ付近の位置にあるとき、光強度比が特に大きかった。このことから、比較例の光導波路では、側面クラッド部に入射された光が、コア部とほとんど変わらない程度に伝搬してしまうことが認められた。
　一方、各実施例１～３で得られた光導波路では、いずれも全体的に光強度比が小さかった。すなわち、各実施例１～３の光導波路では、側面クラッド部に入射した光が大きく減衰するため、十分なＳ／Ｎ比が得られることが認められた。
　また、図示しないが、実施例４と実施例５とを比較したところ、実施例５の結果の方が良好であった。これは、実施例５では、粒状の高屈折率領域がランダムに配置されていることに起因するものと推察される。
　２．２　クロストークの評価
　図１４は、クロストークを評価する方法を説明するための図である。
　この方法では、まず、測定対象の光導波路１０の光入射側に、直径５０μｍの入射側光ファイバ２１を配置した。この入射側光ファイバ２１は、光導波路１０に光を入射するための発光素子（図示せず）に接続されており、その光軸と、光導波路１０のコア部１４の光軸と一致するように配置されている。
　一方、光導波路１０の光出射側には、直径６２．５μｍの出射側光ファイバ２２を配置した。この出射側光ファイバ２２は、光導波路１０から出射した光を受光するための受光素子（図示せず）に接続されており、その光軸が、光導波路１０のコア部１４の光軸と同じ面内に配置されている。また、出射側光ファイバ２２は、光導波路１０の出射側端面１０ｂに沿ってコア層１３と同じ面内を走査し得るようになっている。なお、この走査幅は、光導波路１０のコア部１４の光軸を中心に、両側２５０μｍずつに設定されている。
　光強度を測定する際には、入射側光ファイバ２１から光を放射しつつ、出射側光ファイバ２２を走査されると、コア部１４を通過した光が出射側光ファイバ２２に到達する。このとき、コア部１４の外径よりも出射側光ファイバ２２の外径を大きく設定しておくことにより、コア部１４から漏れ出た光の強度を測定することができる。したがって、出射側光ファイバ２２の位置と、出射側光ファイバ２２に入射する光の強度との関係を評価することにより、クロストークの程度を評価した。
　この評価結果のうち、代表として実施例２～４と比較例のものを図１６に示す。なお、図１６のグラフの横軸は、光導波路のコア部の光軸を基準とした出射側光ファイバの位置を表し、縦軸は、光導波路のコア部を伝搬してきた光の強度（出射側光ファイバの光軸がコア部の光軸に一致したときの光強度）を基準とした光強度比（損失）を表す。
　図１６から明らかなように、各実施例２～４で得られた光導波路では、いずれも、比較例で得られた光導波路に比べて、スペクトルのピークのすそにおける光強度が小さくなっている。このスペクトルのピークは、コア部を伝搬してきた光の強度に相当している。したがって、換言すれば、各実施例２～４では、比較例に比べて、コア部を伝搬してきた光の強度に対して、クラッド部を伝搬してきた光の強度が小さくなっており、クロストークが相対的に低減していることが認められる。
　本発明の光導波路は、コア部と、該コア部に隣接して設けられたクラッド部とを備える光導波路であって、前記クラッド部中に、前記コア部よりも屈折率が低く、前記コア部に接した低屈折率領域と、該低屈折率領域よりも屈折率が高く、該低屈折率領域を介して前記コア部から離間した複数の高屈折率領域とを有しており、該複数の高屈折率領域は、前記クラッド部中に点在または整列している。そのため、クラッド部に入射された光がそのまま出射端まで伝搬することが抑制され、この光が受光素子に受光される際の光強度を低減する。これにより、光導波路を伝搬する光のＳ／Ｎ比を向上させ、クロストーク等を抑制することにより、高品質の光通信が可能な光導波路を提供することができる。また、このような高品質の光通信が可能な光導波路を備えることにより、高性能の光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することができる。従って、本発明の光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器は、産業上の利用可能性を有する。

Claims (23)

  1. 　コア部と、該コア部に隣接して設けられたクラッド部とを備える光導波路であって、
    　前記クラッド部中に、前記コア部よりも屈折率が低く、前記コア部に接した低屈折率領域と、該低屈折率領域よりも屈折率が高く、該低屈折率領域を介して前記コア部から離間した複数の高屈折率領域とを有しており、
    　該複数の高屈折率領域は、前記クラッド部中に点在または整列していることを特徴とする光導波路。
  2. 　前記各高屈折率領域は、それぞれ前記コア部と同種の材料で構成されている請求項１に記載の光導波路。
  3. 　前記各高屈折率領域の屈折率と前記低屈折率領域の屈折率との差は、０．５％以上である請求項１に記載の光導波路。
  4. 　前記複数の高屈折率領域は、前記クラッド部を通過する光を、前記コア部から遠ざかる方向に屈折させるもの、または不規則に散乱させるものである請求項１に記載の光導波路。
  5. 　前記各高屈折率領域は、それぞれ粒状をなしている請求項１に記載の光導波路。
  6. 　前記各粒状の高屈折率領域は、それぞれ、その輪郭に凹凸を有している請求項５に記載の光導波路。
  7. 　前記各粒状の高屈折率領域は、前記クラッド部中に不規則に点在している請求項５に記載の光導波路。
  8. 　前記各高屈折率領域は、それぞれ短冊状をなしている請求項１に記載の光導波路。
  9. 　前記各短冊状の高屈折率領域は、それぞれ、その長手方向の軸線が、前記コア部の軸線の垂線から前記コア部を通過する光の進行方向の後方側に傾斜するよう配向している請求項８に記載の光導波路。
  10. 　前記各短冊状の高屈折率領域の軸線と、前記コア部の軸線の垂線とがなす角は、１０～８５°である請求項９に記載の光導波路。
  11. 　前記各短冊状の高屈折率領域の形状は、細長い三角形をなしている請求項９に記載の光導波路。
  12. 　前記細長い三角形をなす高屈折率領域は、その横断面積が、前記コア部から遠ざかるにつれて徐々に大きくなるような形状をなしている請求項１１に記載の光導波路。
  13. 　前記各短冊状の高屈折率領域は、それぞれ、その長手方向の軸線の延長線と、前記コア部の軸線とが、直交している請求項８に記載の光導波路。
  14. 　前記各短冊状の高屈折率領域の形状は、細長い長方形をなしている請求項１３に記載の光導波路。
  15. 　前記各短冊状の高屈折率領域は、互いに平行に配置されている請求項８に記載の光導波路。
  16. 　前記複数の高屈折率領域は、当該光導波路の光入射側の端面および光出射側の端面に露出しないよう配置されている請求項１に記載の光導波路。
  17. 　前記複数の高屈折率領域は、前記コア部と同一の製造工程で形成されたものである請求項１に記載の光導波路。
  18. 　当該光導波路は、第１の層、第２の層および第３の層をこの順で積層してなる積層体を有し、
    　前記第２の層の一部が、前記コア部をなしており、
    　前記第２の層の残部、前記第１の層および前記第３の層が、前記クラッド部を構成している請求項１に記載の光導波路。
  19. 　前記複数の高屈折率領域は、前記第２の層中に設けられている請求項１８に記載の光導波路。
  20. 　当該光導波路の前記コア部と、前記クラッド部の少なくとも一部とは、それぞれノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている請求項１に記載の光導波路。
  21. 　請求項１ないし２０のいずれかに記載の光導波路を備えたことを特徴とする光配線。
  22. 　電気配線と、請求項２１に記載の光配線とを、基板上に混載してなることを特徴とする光電気混載基板。
  23. 　請求項２２に記載の光電気混載基板を備えたことを特徴とする電子機器。
PCT/JP2009/065094 2008-09-05 2009-08-28 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器 WO2010026931A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/062,309 US20110158596A1 (en) 2008-09-05 2009-08-28 Optical waveguide, optical wiring line, optical/electrical combination substrate and electronic device
EP09811457A EP2333595A1 (en) 2008-09-05 2009-08-28 Optical waveguide, optical interconnection, opto-electric hybrid board, and electronic device
JP2010527773A JP5293742B2 (ja) 2008-09-05 2009-08-28 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器
CN2009801347149A CN102144180A (zh) 2008-09-05 2009-08-28 光波导、光布线、光电混合基板以及电子设备

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008229030 2008-09-05
JP2008-229030 2008-09-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010026931A1 true WO2010026931A1 (ja) 2010-03-11

Family

ID=41797099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2009/065094 WO2010026931A1 (ja) 2008-09-05 2009-08-28 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20110158596A1 (ja)
EP (1) EP2333595A1 (ja)
JP (2) JP5293742B2 (ja)
KR (1) KR20110057169A (ja)
CN (2) CN102144180A (ja)
TW (1) TW201011359A (ja)
WO (1) WO2010026931A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011125799A1 (ja) * 2010-04-08 2011-10-13 住友ベークライト株式会社 光導波路構造体および電子機器
JP2012194286A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路、光導波路構造体、光導波路構造体の製造方法および電子機器
JP2012194285A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路、評価方法、光導波路構造体および電子機器
JP2014002218A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路および電子機器
WO2014156957A1 (ja) * 2013-03-25 2014-10-02 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所 光結合構造及び光モジュール
JP2015108819A (ja) * 2013-10-22 2015-06-11 住友ベークライト株式会社 光導波路および光導波路の製造方法
CN108387972A (zh) * 2018-03-21 2018-08-10 武汉永鼎光电子技术有限公司 一种波导、解复用器及波导的制作方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012026133A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 住友ベークライト株式会社 光導波路および電子機器
US9575244B2 (en) 2013-01-04 2017-02-21 Bal Makund Dhar Light guide apparatus and fabrication method thereof
US9746604B2 (en) 2014-01-06 2017-08-29 Agira, Inc. Light guide apparatus and fabrication method thereof
WO2015103597A1 (en) * 2014-01-06 2015-07-09 Agira, Inc. Light guide apparatus and fabrication method thereof
JP6318665B2 (ja) * 2014-02-10 2018-05-09 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器
WO2017189857A1 (en) 2016-04-28 2017-11-02 Analog Photonics LLC Optical phase shifter device
TWI778174B (zh) 2017-11-09 2022-09-21 日商松下知識產權經營股份有限公司 光波導及其製造方法
US11709316B2 (en) 2020-02-23 2023-07-25 Texas Tech University System Waveguides having highly suppressed crosstalk

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11177182A (ja) * 1997-12-09 1999-07-02 Mitsubishi Electric Corp 光変調器集積化レーザ
JP2002156538A (ja) * 2000-11-17 2002-05-31 Minolta Co Ltd 光導波路デバイス及びその製造方法
JP2004046021A (ja) * 2002-07-15 2004-02-12 Omron Corp 光導波路装置、光合波分波装置及び光波長多重伝送装置
JP2005148468A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Sony Corp 光導波路、光源モジュール及び光情報処理装置
JP2006330118A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路構造体

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0290109A (ja) * 1988-09-27 1990-03-29 Matsushita Electric Works Ltd 光回路板およびその製造法
JPH0467103A (ja) * 1990-07-07 1992-03-03 Brother Ind Ltd 光導波路
JPH0467130A (ja) * 1990-07-09 1992-03-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光ファイバ増幅器及びその製造方法
JPH0659105A (ja) * 1992-08-10 1994-03-04 Bridgestone Corp 光散乱体及びその製造方法
US6214951B1 (en) * 1993-02-12 2001-04-10 Hoechst Aktiengesellschaft Cycloolefin copolymers having high tear strength and low optical attenuation
DE4304291A1 (de) * 1993-02-12 1994-08-18 Hoechst Ag Cycloolefincopolymere mit niedriger Schmelzeviskosität und niedriger optischer Dämpfung
JP4652507B2 (ja) * 1998-12-25 2011-03-16 古河電気工業株式会社 光導波路回路とその製造方法
US6301409B1 (en) * 1999-12-23 2001-10-09 Nortel Networks Limited Optical comb filter
US6941056B2 (en) * 2000-11-13 2005-09-06 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Light guide and method for producing transparent thermoplastic resin composition for light guide
JP2002202415A (ja) * 2000-12-21 2002-07-19 Three M Innovative Properties Co 側面発光性光ファイバー
TWI220818B (en) * 2003-03-10 2004-09-01 Ind Tech Res Inst Cycloolefin copolymer optical communication component
US7776236B2 (en) * 2003-07-25 2010-08-17 General Electric Company Index contrast enhanced optical waveguides and fabrication methods
JP4658658B2 (ja) * 2005-03-29 2011-03-23 住友大阪セメント株式会社 光変調器
US7526166B2 (en) * 2007-01-31 2009-04-28 Corning Incorporated High numerical aperture fiber

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11177182A (ja) * 1997-12-09 1999-07-02 Mitsubishi Electric Corp 光変調器集積化レーザ
JP2002156538A (ja) * 2000-11-17 2002-05-31 Minolta Co Ltd 光導波路デバイス及びその製造方法
JP2004046021A (ja) * 2002-07-15 2004-02-12 Omron Corp 光導波路装置、光合波分波装置及び光波長多重伝送装置
JP2005148468A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Sony Corp 光導波路、光源モジュール及び光情報処理装置
JP2006330118A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路構造体

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011125799A1 (ja) * 2010-04-08 2011-10-13 住友ベークライト株式会社 光導波路構造体および電子機器
JP2012194286A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路、光導波路構造体、光導波路構造体の製造方法および電子機器
JP2012194285A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路、評価方法、光導波路構造体および電子機器
JP2014002218A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光導波路および電子機器
WO2014156957A1 (ja) * 2013-03-25 2014-10-02 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所 光結合構造及び光モジュール
JP2015108819A (ja) * 2013-10-22 2015-06-11 住友ベークライト株式会社 光導波路および光導波路の製造方法
CN108387972A (zh) * 2018-03-21 2018-08-10 武汉永鼎光电子技术有限公司 一种波导、解复用器及波导的制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103558658B (zh) 2015-12-09
EP2333595A1 (en) 2011-06-15
JP2013080265A (ja) 2013-05-02
CN103558658A (zh) 2014-02-05
CN102144180A (zh) 2011-08-03
JP5360313B2 (ja) 2013-12-04
US20110158596A1 (en) 2011-06-30
JPWO2010026931A1 (ja) 2012-02-02
KR20110057169A (ko) 2011-05-31
TW201011359A (en) 2010-03-16
JP5293742B2 (ja) 2013-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5360313B2 (ja) 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器
JP5199060B2 (ja) 交差導波路
US8705925B2 (en) Optical waveguide film, laminated type optical waveguide film, optical waveguide, optical waveguide assembly, optical wiring line, optical/electrical combination substrate and electronic device
JP5353896B2 (ja) 光導波路
TWI490573B (zh) 光導波路及電子機器
JP6020169B2 (ja) 光導波路および電子機器
JP5169639B2 (ja) 光導波路
JP5251502B2 (ja) 光導波路
JP5212139B2 (ja) 光導波路の製造方法および光電気混載基板の製造方法
WO2012026133A1 (ja) 光導波路および電子機器
JP2010197505A (ja) 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器
JP6065589B2 (ja) 光導波路形成用フィルムおよびその製造方法、光導波路およびその製造方法、電子機器
WO2012039392A1 (ja) 光導波路および電子機器
JP6020170B2 (ja) 光導波路および電子機器
JP5470967B2 (ja) 光導波路集合体
JP2011180180A (ja) 光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器
JP2012123256A (ja) 光導波路および電子機器
JP2012123255A (ja) 光導波路および電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200980134714.9

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09811457

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010527773

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20117006439

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2009811457

Country of ref document: EP