WO2008015996A1

WO2008015996A1 - procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique et appareil d'enregistrement/reproduction magnétique

Info

Publication number: WO2008015996A1
Application number: PCT/JP2007/064863
Authority: WO
Inventors: Katsumasa Hirose; Akira Sakawaki; Masato Fukushima
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 2006-08-01
Filing date: 2007-07-30
Publication date: 2008-02-07
Anticipated expiration: 2009-02-01
Also published as: US20110199700A1; JP2008041114A; TW200832372A; CN101523487A

Description

明細書

磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置

技術分野

[0001] 本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置に関する。

本願 (ま、 2006年 8月 1曰に、曰本 ίこ出願された特願 2006— 209643号 ίこ基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

背景技術

[0002] 近年、磁気ディスク装置などの磁気記録装置の適用範囲は著しく増大され、その重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特に、 MRヘッドおよび PRML技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらに GMRヘッド、 TMRヘッドなども導入され 1年に約 100%ものペースで増加し続けている。

これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、磁気記録層の高保磁力化と高信号対雑音比 (SNR)、高分解能を達成すること力 S要求されている。また、近年では、線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。

[0003] 最新の磁気記録装置においては、トラック密度は l lOkTPIにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となり SNRを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのまま Bit Error rateの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となってレ、る。

[0004] 面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、 1ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。

[0005] また、トラック密度を上げていくと、トラック間の距離が近づくため、磁気記録装置は極めて高精度のトラックサーボ技術を用いると同時に、隣接トラックからの影響をできるだけ排除するために、再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くする方法が一般的に用いられている。この方法では、トラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難であり、そのために十分な SNRを確保することがむずかしいという問題がある。

[0006] このような熱揺らぎの問題や SNRの確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによつて製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。

[0007] ディスクリートトラック媒体の一例として、表面に凹凸パターンを形成した非磁性基板に磁気記録媒体を形成して、物理的に分離した磁気記録トラック及びサーボ信号ノターンを形成してなる磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献 1参照。）。特許文献 1に記載の磁気記録媒体は、非磁性基板上に複数の凸部と凹部とを持っ軟磁性層と、この軟磁性層上に形成された強磁性層とを有するものである。この磁気記録媒体では、凸部領域に周囲と物理的に分断された垂直磁気記録領域が形成されている。

この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくぐ隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされてレ、る。

[0008] また、ディスクリートトラック法には、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法と、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法とがある（例えば、特許文献 2,特許文献 3参照。）。このうち、前者の方法は、しばしば磁気層加工型とよばれ、表面に対する物理的加工が媒体形成後に実施されるため、媒体が製造工程にお！/、て汚染されやすレ、と！/、う欠点がありかつ製造工程が非常に複雑であった。一方で、後者はしばしばエンボス加工型とよばれ、製造工程中の汚染はしにくいが基板に形成された凹凸形状が成膜された膜にも引き継がれることになるため、媒体上を浮上しながら記録再生を行う記録再生ヘッドの浮上姿勢、浮上高さが安定しな!/、と!/、う問題点があった。

[0009] また、ディスクリートトラック媒体の磁気トラック間領域を、あらかじめ形成した磁性層に窒素イオンや酸素イオンを注入し、または、レーザを照射することにより形成する方法が開示されている（特許文献 4参照。）。

[0010] さらに、磁気記録パターンが 1ビットごとに一定の規則性をもって配置された、いわゆるパターンドメディア媒体の製造にお!/、て、磁気記録パターンをイオン照射によるエッチングや、磁性層を非晶質化することで形成することが開示されている（非特許文献 1、および、特許文献 5参照。）。

[0011] このようなディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体においては、基板上に磁性層を形成した後、その表面にレジスト等を塗布し、そのレジストをフォトリソグラフィー技術を用いてパターン化し、そのレジストパターンを用いて磁性層をパターン化する方法が採用されている。

[0012] 磁気記録ディスクに液体材料を塗布する方法としてはスピンコート法が提案されている（例えば、特許文献 6参照。）。

特許文献 1：特開 2004— 164692号公報

特許文献 2：特開 2004 _ 178793号公報

特許文献 3：特開 2004 _ 178794号公報

特許文献 4 :特開平 5— 205257号公報

特許文献 5 :米国特許第 6 , 331 , 364号公報

特許文献 6：特開 2004— 306032号公報

非特許文献 1：信学技報、社団法人電子情報通信学会、 IEICE Technical Report M R2005-55(2006_02)、 21頁〜 26頁

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0013] しかしながら、特許文献 6に記載のコーティング法を用いて、磁気記録ディスクに液体材料を塗布する場合、塗りむらが生じやすいことが問題となっていた。塗りむらは、その後の工程に悪影響を及ぼすため、歩留まりを低下させる要因となる。 [0014] 本発明は、ディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体の製造に好適に用いること力 Sでき、歩留まりを格段に向上させ、生産性を著しく向上させることができる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

また、本発明の磁気記録媒体の製造方法で製造された磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0015] 上記課題を解決するため、本願発明者は鋭意努力研究した結果、中央に開口部を有する基板を、レジスト溶液に浸漬して回転させて基板の全面にレジストを塗布する場合、基板を回転させても、開口部の周辺部分に塗布されたレジスト溶液が飛散されにくいため、塗りむらが生じやすいことを見出し、本発明を想到した。

[0016] すなわち、本発明は以下の発明を提供する。

(1)中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特 ί毁とする。

(2)前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする (1)に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[0017] (3)前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後も連続して前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させることを特徴とする（1)または（2)に記載の磁気記録媒体の製造方法。

(4)前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする（3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。

(5)前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させて!/、る時の前記非磁性基板の回転速度が、 350回/分〜 500回/分の範囲内であり、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を 5000回/分〜 6 000回/分の範囲内に上昇させることを特徴とする（3)または (4)に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[0018] (6)前記非磁性基板の直径が 15mm〜； 100mmの範囲内であり、前記非磁性基板の径方向における前記データ記録領域と前記開口部との間の距離力 2mm〜3m mの範囲内であることを特徴とする（1)〜（5)の何れか 1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。

(7)前記レジスト層形成工程において、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されてレ、ることを特徴とする（1)〜（6)の何れか 1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。

(8)前記複数枚の非磁性基板間の距離が、 12mm以上であることを特徴とする（7) に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[0019] (9)磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部とからなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段とを具備してなる磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が、（1)〜（8)の何れか 1項に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。

発明の効果

[0020] 本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記レジスト溶液の液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えるので、塗りむらが生じにくぐ得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができる。よって、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、ディスクリートトラック媒体やパターンドメディア媒体などの高い記録再生特性が得られる磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。

[0021] また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体の製造方法で製造された磁気記録媒体を備えたものであるので、高!/、記録再生特性が得られるものとな図面の簡単な説明

[0022] [図 1]図 1は、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体の一例を模式的に示した断面図である。

[図 2]図 2は、図 1に示す磁気記録媒体に用いられる非磁性基板 31の一例を示した平面図である。

[図 3A]図 3Aは、レジスト層形成工程の浸漬工程の一例を説明するための図である。

[図 3B]図 3Bは、レジスト層形成工程の浸漬工程の一例を説明するための図である。

[図 4]図 4は、本発明の磁気記録再生装置の一例を説明するための概略構成図であ符号の説明

[0023] 2 外周領域、

3 内周領域、

4 データ記録領域、

11 レジスト溶液、

11a 液面、

21 駆動部、

27 磁気ヘッド、

28 ヘッド駆動部、 29 記録再生信号処理手段、

30 磁気記録媒体、

31 非磁性基板、

32a 軟磁性層、

32b 中間層、

33 磁気記録パターン、

33a 磁気記録層、

34 非磁性化層、

35 保護膜層、

36 潤滑層、

37 開口部、

37a 回転軸、

38 外縁

発明を実施するための最良の形態

[0024] 「第 1実施形態」

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の各実施形態に限定されるものではない。

図 1は、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体の一例を模式的に示した断面図である。本実施形態においては、記録トラックが磁気的に不連続に配置されたディスクリートトラック型の磁気記録媒体を例に挙げて説明する。

図 1に示す磁気記録媒体 30は、磁気ヘッドを用いて読み書きされるものであり、非磁性基板 31の表面に、軟磁性層 32aと、中間層 32bと、磁性層からなる磁気記録パターン 33と非磁性化層 34とが交互に配置されてなる磁気記録層 33aと、保護膜層 3 5と、潤滑層 36とが順に形成されたものである。

[0025] 本実施形態において使用する非磁性基板 31としては、例えば、図 2に示す非磁性基板 31が用いられる。図 2は、図 1に示す磁気記録媒体に用いられる非磁性基板 31 の一例を示した平面図である。図 2に示す非磁性基板 31は、中央に円形の開口部 3 7が設けられた円盤状のものであり、図 2に示すように、開口部 37と同心円のドーナツ状のデータ記録領域 4と、データ記録領域 4と開口部 37との間に位置する内周領域 3と、データ記録領域 4と外縁 38との間に位置する外周領域 2とを有する。内周領域 3は、磁気記録媒体をモーターのスピンドルに取り付ける際に使用される領域である。外周領域 2は、磁気ヘッドを用いて読み書きできない場合のある領域であって、例えば外縁 3とデータ記録領域 4との間の非磁性基板 31の径方向の距離が磁気ヘッドの幅の 1/2の程度である領域である。

[0026] 本実施形態においては、非磁性基板 31として、例えば、直径が 15mm〜； 100mm の範囲内であり、非磁性基板 31の径方向におけるデータ記録領域 4と開口部 37との間の距離（内周領域 3の幅）が 2mm〜 3mmの範囲内であるものが好適に用いられる

〇

[0027] 非磁性基板 31の材質としては、例えば、 A1を主成分とした Al— Mg合金等の A1合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂など、非磁性材料であれば任意の材質を用いること力 Sできる。中でも A1合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。

また、非磁性基板 31の平均表面粗さ（Ra)は、 lnm以下、さらには 0. 5nm以下であること力 S好ましく、中でも 0. lnm以下であることが好ましい。

[0028] 本実施形態では、非磁性基板 31の表面に、軟磁性層 32aとして FeCoB層、中間層 32bとして Ru層が形成されている。

[0029] また、本実施形態では、磁気記録層 33aは、面内磁気記録層であっても垂直磁気記録層でもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁気記録層であること力 S好ましい。なお、これら磁気記録層は主として Coを主成分とする合金から形成するのが好ましい。

[0030] 面内磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば、非磁性の CrMo下地層と強磁性の CoCrPtTa磁性層とからなる積層構造が利用できる。

[0031] また、垂直磁気記録媒体用の磁気記録層としては、例えば軟磁性の FeCo合金 (F eCoB、 FeCoSiB、 FeCoZr、 FeCoZrB、 FeCoZrBCuなど）、 FeTa合金（FeTaN 、 FeTaCなど）、 Co合金（CoTaZr、 CoZrNB、 CoBなど）等からなる裏打ち層と、 Pt 、 Pd、 NiCr、 NiFeCrなどの配向制御膜と、必要により Ru等の中間膜、及び 60Co — 15Cr— 15Pt合金や 70Co— 5Cr— 15Pt— lOSiO合金からなる磁性層とを積層

2

したものを禾 IJ用すること力 sきる。

[0032] 磁気記録層 33aは、使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なへッド出入力が得られるように形成すればよい。磁気記録層 33aの厚さは、 3nm以上 20 nm以下とすることが好ましぐ 5nm以上 15nm以下とすることがより好ましい。磁気記録層 33aは、再生の際に一定以上の出力を得るために、ある程度以上の膜厚が必要である。一方で、記録再生特性を表す諸パラメータ一は、出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、磁気記録層 33aの膜厚を最適に設定する必要がある。

[0033] また、記録密度を高めるため、図 1に示すように、磁気記録パターン 33の磁性部幅 Wは、 200nm以下、非磁性化層 34の非磁性部幅 Lは lOOnm以下とすることが好ましい。そして、トラックピッチ P (=W + Uは 300nm以下の範囲とすることが好ましぐ記録密度を高めるためにできるだけ狭くすることが好ましい。

[0034] また、保護膜層 35としては、炭素（C)、水素化炭素 (H C)、窒素化炭素（CN)、ァノレモファスカーボン、炭化珪素（SiC)等の炭素質層や SiO 、 Zr O 、 TiNなど、保護

2 2 3

膜層 35の材料として通常用いられる材料を用いることができる。また、保護膜層 35は、 1層であってもよいし、 2層以上の層から構成されていてもよい。

[0035] 保護膜層 35の膜厚は 10nm未満とすることが望ましい。保護膜層 35の膜厚が 10η mを越えると、磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置とした場合に、磁気ヘッドと磁気記録パターン 33との距離が大きくなつて、十分な出入力信号の強さが得られなくなる恐れがある。

[0036] 潤滑層 36に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられる。潤滑層 36は、通常 l〜4nmの厚さで形成される。なお、保護膜層 35の上には潤滑層 36を形成することが好ましいが、潤滑層 36を形成しなくてもよい。

[0037] 次に、図 1に示す磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する。

図 1に示す磁気記録媒体を製造するには、まず、図 2に示す非磁性基板 31のデータ記録領域 4上に、スパッタリング法などを用いて、軟磁性層 32a、中間層 32b、磁気記録層 33aとなる磁性層を順に形成する（磁性層形成工程)。次いで、磁気記録層 3 3aとなる磁性層の表面にスパッタリング法や CVD法などを用いて、保護膜層 35を形成する。

[0038] その後、フォトリソグラフィー技術を用いて、以下に示すように、磁気記録層 33aとなる磁性層を、磁気的に分離した磁気記録パターン 33および非磁性化層 34とする。まず、保護膜層 35の表面にレジスト層を形成する（レジスト層形成工程)。レジスト層形成工程では、まず、駆動装置によって回転されるスピンドル部を備えた塗布装置に非磁性基板 31を装着する。スピンドル部への非磁性基板 31の装着（チャッキング）は、図 3Aに示すように、スピンドル部のチャック 41を構成する 3本の棒状体に、非磁性基板 31の開口部 37を貫通させ、 3本の棒状体を中心から外側に向かつて広げることにより、 3本の棒状体に非磁性基板 31の開口部 37の内端を支持させて固定する。

次いで、図 3Aに示すように、レジスト溶液 11の液面 11aよりも上方に非磁性基板 3 1の内周領域 3が配置され、かつ、レジスト溶液 11の液面 11aよりも下方に非磁性基板 31のデータ記録領域 4の一部が配置されるように、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31の一部を浸漬させる（浸漬工程)。

[0039] レジスト溶液 11としては、特に限定されないが、例えば、有機塗布ガラス（SOG)からなり、粘度が 0. 1CP~10CP (1P = 0. lPa ' s)の範囲であるものが好ましく用いられる。

[0040] 非磁性基板 31のレジスト溶液 11中への浸漬は、非磁性基板 31の開口部 37の中心を通って非磁性基板 31の厚み方向に延びる回転軸 37aを中心として、非磁性基板 31を回転させながら行なうことが望ましい。非磁性基板 31の回転は、塗布装置の駆動装置によりスピンドル部を回転させることによって行なわれる。

[0041] 例えば、非磁性基板 31をレジスト溶液 11に浸漬した後に非磁性基板 31を回転させる場合、非磁性基板 31の回転を開始させる時の衝撃によりレジスト溶液 11が飛散して、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着するおそれがある。また、非磁性基板 31の回転を開始した初期の段階において、回転数が低くて遠心力が小さいために、非磁性基板 31に塗布されたレジスト溶液 11が重力で下方にたれ、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着するおそれがある。

これに対し、非磁性基板 31を回転させながらレジスト溶液 11中に浸漬することで、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着することを防止できる。

[0042] その後、回転軸 37aを中心とする非磁性基板 31の回転を継続しながら、レジスト溶液 11中に浸漬された非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出す（取出工程)。さらに、本実施形態においては、非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出した後も連続して回転軸 37aを中心として非磁性基板 31を回転させる。このことにより、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11を付着させることなく、データ記録領域 4 にレジスト溶液 11をより一層均一な膜厚で塗布することができる。

[0043] 非磁性基板 31の回転速度は、非磁性基板 31をレジスト溶液 11から取り出した後に

、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31を浸漬させている時よりも上昇させることが好ましい。

非磁性基板 31をレジスト溶液 11中に浸漬しているときの非磁性基板 31の回転速度は、塗布したレジスト溶液 11が重力により下方にたれて、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着しない程度の強さの遠心力が得られるように定められる。非磁性基板 31をレジスト溶液 11中に浸漬して!/、る時の回転速度（回転数)を必要以上に高めると、非磁性基板 31へのレジスト溶液 11の付着が阻害されるし、レジスト溶液 11の液面が乱されて、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着しやすくなる。

[0044] 具体的には、非磁性基板 31をレジスト溶液 11中に浸漬しているときの非磁性基板 31の回転速度は、 350回/分〜 500回/分の範囲内とするのが望ましぐレジスト溶液 11の粘度や非磁性基板 31の大きさによって適宜決定できる。

[0045] また、非磁性基板 31をレジスト溶液 11から取り出した後に上昇されてなる非磁性基板 31の回転速度は、塗布したレジスト溶液 11が重力により下方にたれて、非磁性基板 31の内周領域 3にレジスト溶液 11が付着しない程度の強さの遠心力が得られることに加えて、余分なレジスト溶液 1 1を飛散させることができる程度の強さの遠心力が得られるように定められる。また、非磁性基板 31をレジスト溶液 11から取り出した後に上昇されてなる非磁性基板 31の回転速度を必要以上に高めると、レジストの振り切りにより、レジストの厚さが極端に薄くなり、また、膜厚の均一性も低下する。

具体的には、非磁性基板 31をレジスト溶液 11から取り出した後に上昇された回転速度は、 5000回/分〜 6000回/分の範囲内とするのが望ましぐレジスト溶液 11 の粘度や非磁性基板 31の大きさによって適宜決定できる。

[0046] また、非磁性基板 31として、直径が 15mm〜； 100mmの範囲内であり、非磁性基板 31の径方向におけるデータ記録領域 4と開口部 37との間の距離（内周領域 3の幅 )が 2mm〜 3mmの範囲内であるものを用い、かつ、レジスト溶液 11として一般的な粘度である例えば 0. 1CP〜10CPのものを用いた場合において、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31を浸漬させている時の非磁性基板 31の回転速度を、 350回/分〜500回/分の範囲内にし、非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出した後に、非磁性基板 31の回転速度を 5000回/分〜 6000回/分の範囲内に上昇させることで、非磁性基板 31の内周領域 3へのレジスト溶液 11の付着を確実に防止することができ、かつ、データ記録領域 4にレジスト溶液 11を均一な膜厚で塗布することができる。

[0047] 次に、このようにして塗布されて得られたレジスト層を用いて、磁気記録パターンを形成する（パターン形成工程)。より具体的には、フォトリソグラフィー技術を用いてレジスト層をパターン化し、レジスト層の厚さを部分的に薄くする、または、レジスト層を部分的に除去する。

次いで、レジスト層の表面側から原子を照射する。このことにより、レジスト層の薄い部分またはレジスト層のない部分の磁性層に部分的に原子が注入されて非磁性化層 34が形成されるとともに、レジスト層のある部分に原子が注入されていない磁性層力もなる磁気記録パターン 33が形成され、磁気記録パターン 33と非磁性化層 34とが交互に配置されてなる磁気記録層 33aを形成される。

磁性層に注入される原子としては、例えば、 B、 F、 Si、 P、 Ar、 Kr、 In、 Xeなどが挙げられる。ここでの磁性層への原子の注入によって、磁性層の結晶構造はァモルファス化され、磁性層が非磁性化される。

その後、レジスト層を全て除去し、保護膜層 35の上に潤滑層 36を形成して、図 1に示す磁気記録媒体 30とする。 [0048] 本実施形態にお!/、ては、レジスト層形成工程の浸漬工程にお!/、て、非磁性基板 31 のデータ記録領域 4はレジスト溶液 11中に浸漬される力内周領域 3はレジスト溶液 11中に浸漬されることはない。したがって、内周領域 3にレジスト溶液 11が触れることが防がれ、開口部 37の周辺にレジスト溶液 11が触れることが防止できる。

また、本実施形態においては、レジスト層形成工程の取出工程において、回転軸 3 7aを中心としてレジスト溶液 11中に浸漬された非磁性基板 31を回転させながら、非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出すので、非磁性基板 31に付着した余分なレジスト溶液 11を遠心力で飛散させることができ、非磁性基板 31にレジスト溶液 1 1を均一に塗布できる。

[0049] したがって、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができ、高い記録再生特性が得られるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。

[0050] これに対し、例えば、開口部 37の周辺にレジスト溶液 11が塗布された場合、レジスト溶液 11の塗布後に回転軸 37aを中心として非磁性基板 31を回転させても、開口部 37の周辺に付与される遠心力は弱いものとなるため、開口部 37の周辺に塗布されたレジスト溶液 11は飛散されにくい。このため、開口部 37の周辺にレジスト溶液 11が塗布された場合には、塗りむらが生じやすい。レジスト層は、磁気記録媒体の製造ェ程において最終的には除去されるものである力レジスト溶液 11の塗りむらは、レジスト層の除去前の製造工程において、磁気記録パターンの形状などに悪影響を来たす要因であり、磁気記録媒体の製造歩留まりを低下させてしまう。

[0051] なお、本実施形態では、レジスト溶液 11の液面 11aよりも上方に非磁性基板 31の内周領域 3が配置されるように、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31を浸漬させた力非磁性基板 31の内周領域 3の全てがレジスト溶液 11の液面 1 laよりも上方に配置されていなくてもよぐ少なくとも開口部 37の周辺がレジスト溶液 11の液面 11aよりも上方に配置されていればよい。

[0052] 「第 2実施形態」

上述した第 1実施形態の製造方法では、レジスト層形成工程において、 1枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、図 3Bに示すように、一度に複数枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成してもよい。図 3Bは、レジスト層形成工程の浸漬工程のほかの例を説明するための図であり、非磁性基板 31 とレジスト溶液 11のみを示した概略斜視図である。本実施形態の磁気記録媒体の製造方法が上述した第 1実施形態と異なるところは、レジスト層形成工程においてレジスト溶液が塗布される非磁性基板 31の枚数のみであるので、その他の説明は省略する。

[0053] 本実施形態の磁気記録媒体の製造方法にお!/、ては、非磁性基板 31は、非磁性基板 31の厚み方向に離間して 4枚配置されている。図 3Bに示す 4枚の非磁性基板 31 間の距離 dは、非磁性基板 31の大きさなどによって適宜決定することができるが、例えば、非磁性基板 31の直径が 1. 89" ( φ 48mm)の場合 17mm以上とするのが好ましぐ例えば、直径が 0· 85" ( φ 21mm)の場合 4mm以上とするのが好ましい。複数枚の非磁性基板 31間の距離 dが狭レ、と非磁性基板 31と非磁性基板 31との間におけるレジスト溶液 11の流動性が不十分となり、レジスト溶液 11の塗りむらが大きくなる場合がある。

本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、第 1実施形態と同様にして、塗布装置に非磁性基板 31を装着する。すなわち、図 3Bに示すように、スピンドル部への 4枚の非磁性基板 31の装着（チヤッキング）は、スピンドル部のチャック 41を構成する 3本の棒状体に、 4枚の非磁性基板 31の開口部 37を貫通させ、 3本の棒状体を中心から外側に向かって広げることにより、 3本の棒状体に非磁性基板 31の開口部 3 7の内端を支持させて固定する。

[0054] 本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、第 1実施形態と同様に、レジスト層形成工程では、図 3Bに示すように、レジスト溶液 11の液面 11aよりも上方に非磁性基板 31の内周領域 3が配置され、かつ、レジスト溶液 11の液面 11aよりも下方に非磁性基板 31のデータ記録領域 4の一部が配置されるように、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31の一部を浸漬させ（浸漬工程）、回転軸 37aを中心とする非磁性基板 31の回転を継続しながら、レジスト溶液 11中に浸漬された非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出す (取出工程)。

したがって、本実施形態においても、レジスト層形成工程の浸漬工程において、内周領域 3がレジスト溶液 11中に浸漬されることはなぐ内周領域 3にレジスト溶液 11 が触れることが防がれる。また、本実施形態においても、非磁性基板 31に付着した余分なレジスト溶液 11を遠心力で飛散させることができるので、非磁性基板 31にレジスト溶液 11を均一に塗布できる。

[0055] さらに、本実施形態の製造方法では、非磁性基板 31が、非磁性基板 31の厚み方向に離間して複数枚配置されているので、生産性に優れた方法となる。

また、本実施形態の製造方法において、複数枚の非磁性基板間 31の距離を 12m m以上とすることで、非磁性基板 31が複数枚配置されている場合におけるレジスト溶液 11の塗りむらを防止できる。

したがって、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができ、高い記録再生特性が得られるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。

[0056] なお、本発明では、上述したように、非磁性基板 31を回転させながらレジスト溶液 1 1中に非磁性基板 31を浸漬することが好ましいが、非磁性基板をレジスト溶液中に浸漬させた後に非磁性基板を回転させてもよい。

また、レジスト層形成工程は、上述した実施形態のように、保護膜層 35を形成した後で潤滑層を設ける前に行うことができる力、磁気記録層となる磁性層を形成した後であればどの段階で行なってもよぐ例えば、磁気記録層となる磁性層を形成した直後に行なってもよ!/ヽし、潤滑層を設けた後に行なってもよレ、。

さらに、図 3Bに示す例においては、一度に 4枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、非磁性基板の枚数は何枚であってもよぐ特に限定されない。

[0057] 「磁気記録再生装置」

次に、本発明の磁気記録再生装置について説明する。図 4は、本発明の磁気記録再生装置の一例を説明するための概略構成図である。図 4に示す磁気記録再生装置は、磁気記録媒体 30と、磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部 21と、記録部と再生部とからなる磁気ヘッド 27と、磁気ヘッド 27を磁気記録媒体 30に対して相対運動させるヘッド駆動部 28と、磁気ヘッド 27への信号入力と磁気ヘッド 27からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段 29とを具備したものである。図 4 に示す磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体 30として、上記の磁気記録媒体の製造方法で製造された図 1に示す磁気記録媒体が用いられて!/、る。

[0058] 図 4に示す磁気記録再生装置は、高い記録再生特性が得られる図 1に示すディスクリートトラック型の磁気記録媒体を備えたものであるので、記録密度の高レ、磁気記録再生装置となる。また、図 4に示す磁気記録再生装置では、記録トラックが磁気的に不連続に配置された磁気記録媒体を備えたものであるので、従来はトラックエッジ部の磁化遷移領域の影響を排除するために再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くして対応しなければならなかったものを、両者をほぼ同じ幅にしても動作させることができる。これにより十分な再生出力と高い SNRを得ることができる。

[0059] 以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明する力本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではなレ、。

(実施例）

Li Si O 、 Al O — K 0、 Al Ο — Κ 0、 MgO— Ρ Ο 、 Sb Ο— ΖηΟを構成成分

2 2 5 2 3 2 2 3 2 2 5 2 3

とする結晶化ガラスからなる直径 1 · 89" ( φ 48mm)のハードディスク（HD)用の図 2 に示す非磁性基板 31を用意し、非磁性基板 31をスパッタリング装置の真空チャンバ内に配置して、真空チャンバ内を圧力が 1. 0 X 10— ⁵Pa以下となるまで真空排気した

〇

[0060] 次いで、非磁性基板 31のデータ記録領域 4上に、スパッタリング法を用いて、 FeC oBからなる軟磁性層 32a、 Ruからなる中間層 32b、 70Co— 5Cr— 15Pt— lOSiO

2 合金からなる磁性層（磁性層形成工程)を順に形成した。次いで、磁性層の表面に C VD法を用いて、 C (カーボン)からなる保護膜層 35と、フッ素系潤滑剤からなる潤滑層 36とを順に形成した。

それぞれの層の膜厚は、軟磁性層 600 A、中間層 100 A、磁性層 150 A、保護膜層 4nm、潤滑層 2nmとした。

[0061] その後、潤滑層 36の表面にレジスト層を形成した（レジスト層形成工程)。

レジスト層形成工程では、まず、非磁性基板 31の内周領域 3を縦置きスピンドルに取り付け、回転軸 37aを中心として、非磁性基板 31を 350回/分〜 500回/分の回転速度で回転させながら、レジスト溶液 11の液面 11 aが非磁性基板 31の内周領域 3 の 2〜3mm下方の位置となるように非磁性基板 31を配置して、レジスト溶液 11中に非磁性基板 31の一部を 10秒間浸潰させた (浸漬工程)。

[0062] レジスト溶液 11としては、粘度が lcpである有機塗布ガラス（SOG)を用いた。

[0063] その後、回転軸 37aを中心とする 350回/分〜 500回/分の回転速度での非磁性基板 31の回転を継続しながら、レジスト溶液 11中に浸漬された非磁性基板 31をレジスト溶液 11中から取り出した（取出工程)。さらに、非磁性基板 31をレジスト溶液 11 中から取り出した後も、回転軸 37aを中心とする 350回/分〜 500回/分の回転速度での非磁性基板 31の回転を 15秒間継続し、その後、回転速度を 5000回/分〜 6000回/分に上昇させてさらに 12秒間回転させた。

[0064] このようにして塗布した後、乾燥させて得られたレジスト層を用いて、以下に示すように、磁気記録パターンを形成した (パターン形成工程)。すなわち、フォトリソグラフィ一技術を用いてレジスト層をパターン化し、レジスト層を部分的に除去した。その後、レジスト層の表面側から原子として Arを照射して、レジスト層のない部分の磁性層に部分的に原子を注入して非磁性化層 34を形成し、磁気記録パターン 33と非磁性化層 34とが交互に配置されてなる磁気記録層 33aを形成した。その後、レジスト層を全て除去し、図 1に示す磁気記録媒体 30を得た。

[0065] このようにして得られた磁気記録媒体 30について、以下に示すようにして電磁変換特性の評価を実施した。その結果、全ての磁気記録ビットにおいて磁気記録再生特性が確認された。

電磁変換特性の評価には、米国 GUZIK社製リードライトアナライザ 1632およびスピンスタンド S 1701MPを用いて行なった。記録再生ヘッドは、 GMRヘッドを用いた

〇

[0066] (比較例）

実施例と同様の非磁性基板 31のデータ記録領域 4上に、実施例と同様にして軟磁性層 32a、中間層 32b、磁性層、保護膜層 35、潤滑層 36を形成した。その後、以下に示すようにして、実施例と同様のレジスト溶液を非磁性基板 31の全体に塗布した。基板の開口部のチヤッキング位置まで基板をレジスト溶液に浸漬し、 400rpmで 10 秒間、基板にレジストを塗布した。その後、基板をレジストから取り出し、基板を 500r pmで 12秒間回転させてレジストを振り切った。

[0067] このようにして塗布した後、実施例と同様にして磁気記録パターンを形成した。その後、レジスト層を全て除去し、図 1に示す磁気記録媒体 30を得た。

[0068] このようにして得られた磁気記録媒体 30について、実施例と同様にして電磁変換特性の評価を実施した。その結果、非磁性基板 31の内周領域 3近傍のトラックにお

V、て、磁気記録ビットの欠陥が多数確認された。

この磁気記録ビットの欠損の発生原因は、非磁性基板 31の内周領域 3近傍に塗布されたレジスト溶液の膜厚にバラツキがあつたため、フォトリソグラフィ一における磁気記録パターンの現像の精度が不十分となり、所定の形状を有する磁気記録パターンが形成されなかったためであった。

産業上の利用可能性

[0069] 本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置に適用できる。

Claims

請求の範囲

[1] 中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、

前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、

前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、

前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

[2] 前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする請求項 1に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[3] 前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後も連続して前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させることを特徴とする請求項 1または請求項 2に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[4] 前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする請求項 3に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[5] 前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させて!/、る時の前記非磁性基板の回転速度が、 350回/分〜 500回/分の範囲内であり、

前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を 5000回/分〜 6000回/分の範囲内に上昇させることを特徴とする請求項 3に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[6] 前記非磁性基板の直径が 15mm〜 100mmの範囲内であり、

前記非磁性基板の径方向における前記データ記録領域と前記開口部との間の距離が、 2mm〜3mmの範囲内であることを特徴とする請求項 1〜請求項 5の何れか 1 項に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[7] 前記レジスト層形成工程にお!/、て、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されていることを特徴とする請求項 1または 2に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[8] 前記複数枚の前記非磁性基板間の距離が、 12mm以上であることを特徴とする請求項 7に記載の磁気記録媒体の製造方法。

[9] 磁気記録媒体と、

該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、

記録部と再生部とからなる磁気ヘッドと、

前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段とを具備してなる磁気記録再生装置であって、

前記磁気記録媒体が、請求項 1または 2に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。