WO2007145051A1

WO2007145051A1 - 流動層装置

Info

Publication number: WO2007145051A1
Application number: PCT/JP2007/060331
Authority: WO
Inventors: Shigemi Isobe; Kuniaki Yamanaka; Kazuomi Unosawa; Narimichi Takei
Original assignee: Freund Corporation
Priority date: 2006-06-16
Filing date: 2007-05-21
Publication date: 2007-12-21
Also published as: JPWO2007145051A1; JP5222137B2; US20100178202A1; EP2039420A1; EP2039420A4

Abstract

　処理容器１は、フィルタケーシング２、スプレーケーシング３、原料容器４及び給気ユニット５を重ねて形成され、各ユニット間には気密接合部６１～６３にて気密性が保持される。気密接合部６１には、径方向に２つのシール部９１,９２が設けられおり、Ｕシール６４,６５が収容されている。Ｕシール６４,６５は、シリンダ室６９,７１への給排気によりシール溝６７,６８内を上下に移動し、フランジ７４に密接・離脱する。粉粒体処理時は、Ｕシール６４にてシール部９１の気密性を保持する。処理容器洗浄時は、Ｕシール６５にてシール部９２の気密性を確保して曝露を防止しつつ、Ｕシール６４を上昇させ、粉体処理時のシール部位Ｓ１を洗浄する。

Description

明細書

流動層装置

技術分野

[0001] 本発明は、粉粒体の造粒、コーティング等に使用される流動層装置に関し、特に、装置接合部に配されるシール部材の洗浄が容易な流動層装置に関する。

背景技術

[0002] 医薬品やィ匕粧品、食品などの分野では、粉末や顆粒等の粉粒体を気体流によって流動化し、造粒、コーティング、混合、撹拌、乾燥等の処理を行う流動層装置が広く使用されている。流動層装置では、流動化した粉粒体にバインダ液ゃコーティング液等をスプレーノズルにて供給し、造粒やコーティング等の処理が実施される。図 8はこのような流動層装置の構成を示す説明図である。図 8に示すように、流動層装置 101 は、円筒状の処理容器 102を備えており、その内部には粉末等の被処理物が投入され、造粒、コーティング等の処理が実施される。

[0003] 処理容器は、上から順に、フィルタケ一シング 103、スプレーケーシング 104、原料容器 105及び給気ユニット 106を重ねて配置した形態となって、る。フィルタケ一シング 1 03とスプレーケーシング 104の間、スプレーケーシング 104と原料容器 105の間、及び、原料容器 105と給気ユニット 106の間はそれぞれ、リング状のシール部材を用いた気密接合部 107〜109にて気密に締結されている。図 9〜： L 1は気密接合部 107〜109の構成を示す説明図であり、図 9は気密接合部 107、図 10は気密接合部 108、図 11は気密接合部 109の構成をそれぞれ示して、る。

[0004] 図 9に示すように、気密接合部 107では、断面が略 U字形に形成された Uシール 111 が使用されている。フィルタケ一シング 103の下端部外周にはシール取付部 112が径方向に向かって延出形成されており、その内側のシール溝 113内に Uシール 111が収容される。シール溝 113内には、 Uシール 111の背後にシリンダ室 114が形成され、シリンダ室 114には給気口 115を介して図示しない給排気手段力圧縮エアが供給される。シリンダ室 114に圧縮エアを供給すると、図 9 (a)→(b)に示すように、圧縮エアの押圧力によって、 Uシール 111がシール溝 113の下端部から下方に向力つて突出する。 [0005] 一方、スプレーケーシング 104の上端部外周には、フランジ 116が径方向に向力つて延出形成されている。フランジ 116は、その上面がシール取付部 112の下面側と対向するように配置される。シリンダ室 114に圧縮エアが供給され、 Uシール 111がシール溝 113から突出すると、図 9 (b)に示すように、 Uシール 111の下端がフランジ 116の上面に当接する。これにより、気密接合部 107が気密状態となり、フィルタケ一シング 103 とスプレーケーシング 104の間がシールされる。

[0006] 次に、気密接合部 108では、図 10に示すように、角形断面を有するシリコンスポンジパッキン 117 (以下、パッキン 117と略記する）が使用されている。スプレーケーシング 1 04の下端部外周には、フランジ 118が径方向に向力つて延出形成されている。これに対し、原料容器 105の上端部外周にも、フランジ 118と対向する形でフランジ 119が延出形成されている。パッキン 117は、これらのフランジ 118,119の間に配置される。原料容器 105は、給気ユニット 106側に設けられたァクチユエータ 121によって、上方に押し上げられるようになっており、図 10 (a)→(b)のように原料容器 105が押し上げられると、ノ¾ /キン 117はフランジ 118,119間に挟持される。これにより、気密接合部 108が気密状態となり、スプレーケーシング 104と原料容器 105の間がシールされる。

[0007] さらに、気密接合部 109では、図 11に示すように、角形断面を有するシリコンスポンジパッキン 122, 123 (以下、ノッキン 122, 123と略記する）が使用されている。原料容器 105の下端部外周には、フランジ 124が延出形成されており、その下面側にパッキン 1 22が取り付けられる。これに対し、給気ユニット 106の上端部外周にも、フランジ 124と対向する形でフランジ 125が延出形成されており、その上面側にパッキン 123が取り付けられている。一方、原料容器 105と給気ユニット 106との間には、通気性の目皿板 12 6が設置される。目皿板 126は、金網等にて形成された多孔板 127と、多孔板 127を保持する補強板 128と力も構成される。そこで、図 11 (a)→(b)のように、ァクチユエータ 121によって原料容器 105が押し上げられると、フランジ 124,125が近接し、目皿板 126 と補強板 127を挟持しつつ両パッキン 122, 123が密接する。これにより、気密接合部 10 9が気密状態となり、原料容器 105と給気ユニット 106の間がシールされる。

特許文献 1：特開 2004-244205号公報

特許文献 2：特表 2004-500979号公報特許文献 3：特開平 7-158738号公報

特許文献 4：特表 2000-506962号公報

特許文献 5：特表 2003-520744号公報

特許文献 6：特表 2004-509755号公報

特許文献 7：特開 2005-291496号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 一方、このような流動層装置 101では、粉粒体の種類を変える場合など、 GMP(Goo d Manufacturing Practice)の観点からも、適宜、流動層装置 101の内部を洗浄する必要がある。装置の洗浄処理には、処理容器 102内に洗浄液を溜める溜め洗いや、流動層装置 101内に設置した洗浄ノズルカゝら洗浄液を噴射するジェット洗浄など、従来より種々の方式が用いられるが、近年、洗浄工数を削減すベぐその自動化が促進されている。例えば、前述のジェット洗浄の場合、処理容器 102から製品を取り出した後、スィッチ操作ひとつで洗浄ノズルが作動し、適宜移動しながら、処理容器 102内を所定時間洗浄する。これにより、従来の手作業での洗浄処理に比して大幅に洗浄ェ数の削減が図られる。

[0009] ところが、前述の流動層装置 101の場合、通常の自動洗浄では気密接合部 107, 108 のシール面 (密着面）を洗浄できないという問題が生じる。すなわち、気密接合部 107, 108において、 Uシール 111ゃパッキン 117とフランジ 116やフランジ 118, 119に密着している部分は、そのままの状態では洗浄液が届かず洗浄を行うことができない。この場合、圧縮エアを抜いたり、原料容器 105を下げたりすることにより、各気密接合部 10 7, 108の気密を解除すれば、シール面を露出させることができ、その状態で洗浄処理を行えば、シール面を洗浄することも可能である。

[0010] しカゝしながら、シールを解除して洗浄を行うと、洗浄液や処理容器 102内に残留した製品が装置外に曝露 (飛散)し、装置周囲が汚染されるおそれがある。特に、医薬品製造設備では、近年、製品曝露による薬害や災害を防止すベぐ封じ込め (コンティンメント)対策が重要視されており、その観点からもシール解除状態での洗浄処理は好ましくない。このため、従来の流動層装置では、処理容器内の自動洗浄後に、装置を分解し、気密接合部を分解洗浄する必要があり、洗浄処理を自動化したにもかかわらず、結局、洗浄工数自体は余り削減されないのが現実である。

[0011] 本発明の目的は、装置を分解することなくシール面の洗浄が可能でありながら、洗浄中であっても製品が装置外に曝露することのない流動層装置を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0012] 本発明の流動層装置は、筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、前記ユニット間に設けられ前記処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置であって、前記気密接合部は、前記ユニットの周方向に沿って延設された第 1シール部と、前記第 1シール部の径方向外側に設けられ、該ユニットの周方向に沿って延びる第 2シール部とを有し、前記第 1及び第 2シール部のうち少なくとも前記第 1シール部は、気密性の保持と解除が自在に切り換え可能であることを特徴とする。

[0013] 本発明にあっては、複数のユニットからなる処理容器の気密接合部に、第 1シール部を設けると共に、第 1シール部の外側に第 2シール部を配し、少なくとも第 1シール部を気密性の保持と解除が自在に切り換え可能とすることにより、粉粒体処理時には第 1シール部の気密性を保持する一方、第 2シール部の気密性を保持しつつ第 1シール部の気密性を解除して処理容器の洗浄を行うことができる。このため、第 1シール部のシール面を曝露の問題なく洗浄することができ、従来の装置では不可能であつたシール面を自動洗浄でき、製品や材料等を処理容器内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことが可能となる。

[0014] 前記流動層装置において、前記気密接合部を、接合される前記ユニットのうち一方側の前記ユニットの端部に形成され、前記第 1シール部を構成する第 1シール部材が収容可能な第 1シール溝と、前記第 2シールを構成する第 2シール部材が収容可能な第 2シール溝とを備えたシール部材取付部と、接合される前記ユニットのうち他方側の前記ユニットの端部に形成され、前記シール部材取付部と対向し、前記第 1 及び第 2シール部材が密接可能なシール受け部とを有する構成としても良い。

[0015] また、前記第 1及び第 2シール溝のうち少なくとも前記第 1シール溝に溝内と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記シール部材を前記溝内にて移動可能に設置しても良い。これにより、前記シール部材を前記シール受け部と密接'離脱自在に設置でき、シール部における気密性の保持と解除を自在に切り換えることが可能となる。

[0016] また、前記流動層装置において、粉粒体処理時にあっては、前記第 1及び第 2シール部のうち少なくとも前記第 1シール部の気密性を保持し、前記処理容器内の洗浄時にあっては、第 2シール部の気密性を保持しつつ前記第 1シール部の気密性を解除するようにしても良い。

[0017] 一方、前記処理容器を、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケ一シングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備える構成とし、前記フィルタケ一シングュニットと前記スプレーケーシングユニットとの間の前記気密接合部では、前記第 1及び第 2シール部が共に気密性の保持と解除が自在に切り換え可能としても良い。

[0018] また、前記処理容器を、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケ一シングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備える構成とし、前記スプレーケーシングユニットと前記原料容器ユニットとの間の前記気密接合部では、前記第 1シール部のみが気密性の保持と解除が自在に切り換え可能としても良い。

発明の効果

[0019] 本発明の流動層装置によれば、筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、ユニット間に設けられ処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置にて、気密接合部に、ユニットの周方向に沿って延設された第 1シール部と、第 1シール部の径方向外側に設けられ、ユニットの周方向に沿って延びる第 2 シール部とを設け、第 1及び第 2シール部のうち少なくとも第 1シール部力気密性の保持と解除が自在に切り換え可能とすることにより、粉粒体処理時には第 1シール部にて気密接合部の気密性を維持する一方、第 2シール部の気密性を保持しつつ第 1 シール部の気密性を解除して処理容器の洗浄を行うことが可能となる。このため、第

2シール部にて気密接合部の気密性を維持しつつ第 1シール部のシール面を洗浄することができ、曝露の問題なぐ処理容器内に製品や材料等を封じ込めた状態でシール面を自動洗浄することが可能となる。

図面の簡単な説明

[0020] [図 1]本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図である。

[図 2]図 1の流動層装置の断面図である。

[図 3]フィルタケ一シングとスプレーケーシングの間の気密接合部の構成を示す説明図である。

[図 4] (a)は図 3の気密接合部における粉粒体処理時の状態を示す説明図、 (b)は洗浄時の状態を示す説明図である。

[図 5]スプレーケーシングと原料容器の間の気密接合部の構成を示す説明図である

[図 6] (a)は図 5の気密接合部における粉粒体処理時の状態を示す説明図、 (b)は洗浄時の状態を示す説明図である。

[図 7]原料容器と給気ユニットの間の気密接合部の構成を示す説明図である。

[図 8]従来の流動層装置の構成を示す説明図である。

[図 9]従来の流動層装置におけるフィルタケ一シングとスプレーケーシングの間の気密接合部の構成を示す説明図である。

[図 10]従来の流動層装置におけるスプレーケーシングと原料容器の間の気密接合部の構成を示す説明図である。

[図 11]従来の流動層装置における原料容器と給気ユニットの間の気密接合部の構成を示す説明図である。

符号の説明

[0021] 1 処理容器

2 フィルタケ一シング（フィルタケ一シングユニット）

3 スプレーケーシング（スプレーケーシングュニット）

4 原料容器 (原料容器ユニット） 5 給気ユニット天板 7 カートリッジフィルタ

スプレーノス、ノレ 9 目皿板

0b ブラケット 11 天蓋

フイノレタ室 13 排気ダクト

ワイヤ 16a, 16b プーリ

フィルタ材 18a, 18b エンドキャップ

リテーナ 20 フィルタ固定ノブ

ゴムノッキン 22 パルスジェットノズル

開口部 24 流動室

スプレーアーム 26 回転ノズル

支柱 31 車輪

台車 33 原料収容室

多孔板 35 サポートブラケット

給 ^ a 42 給気ダクト

蛇腹部 44 フランジ

フランジ 46 固定ノズル

空気圧シリンダ 52 ロッド、

連結アーム 54 蛇腹部

シール容器 61 気密接合部

気密接合部 63 気密接合部

Uシール（第 1シ -ル部材） 65 Uシール (第 2シール部材）シール取付部 67 シール溝（第 1シール溝）シール溝 (第 2シ -ル溝） 69 シリンダ室

シリンダ室 72 給気口

給気口 74 フランジ（シール受け部）

Uシール（第 1シ -ル部材） 76 固定シール (第 2シール部材) シール取付部 78 シール溝（第 1シール溝）シール溝 (第 2シ -ル溝） 81 シリンダ室 82 給気口 83 フ 'ランジ（シール受け部）

84 目皿シール 85a,85b シール収容溝

86 目皿押さえ金具 87 固定シーノレ

88 シール収容溝 89 凹溝

91 シール部（第 1シ -ル部） 92 シール部（第 2シール部)

93 シール部（第 1シ -ル部） 94 シール部（第 2シール部)

95 給排気手段 101 流動層装置

102 処理容器 103 フィルタケシング

104 スプレーケーシング 105 原料容器

106 給'; ¾ュニット 107 気密接合部

108 気密接合部 109 気密接合部

111 Uシール 112 シール取付部

113 シール溝 114 シリンダ室

115 給気口 116 フランジ

117 シリコンスポンジベッキン 118 フランジ

119 フランジ 121 ァクチユエータ

122 シリコンスポンジベッキン 123 パッキン

124 フランジ 125 フランジ

126 目皿板 127 多孔板

128 補強板 S1 シール部位

S2 シール部位

発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。図 1は本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図、図 2は図 1の流動層装置の断面図である。図 1の流動層装置は円筒形状の処理容器 1を備え、例えば、粉粒体の表面にコーティング処理を行うために使用される。図 1に示すように、処理容器 1は、上から順に、フィルタケシング（フィルタケシングユニット） 2、スプレーケーシング（スプレーケシングユニット） 3、原料容器 (原料容器ユニット) 4及び給気ユニット 5を重ねて配置した形態となっている。

[0023] フィルタケ一シング 2とスプレーケーシング 3は、ブラケット 10a, 10bによって支柱 30 に固定支持されている。また、フィルタケ一シング 2とスプレーケーシング 3の間、スプレーケーシング 3と原料容器 4の間、及び、原料容器 4と給気ユニット 5の間はそれぞれ、リング状のシール部材を用いた気密接合部 61〜63にて気密に締結されている。フィルタケ一シング 2内には天板 6が配置されており、天板 6にはカートリッジフィルタ 7が取り付けられている。スプレーケーシング 3内には、粉粒体にバインダ液ゃコーテイング液を噴霧するためのスプレーノズル 8が配置されてヽる。原料容器 4内には被処理物となる粉粒体が投入され、原料容器 4の底部には粉粒体を保持するための目皿板 9が設置されている。

[0024] フィルタケ一シング 2の上端は天蓋 11によって閉塞されており、フィルタケ一シング 2の内部にはフィルタ室 12が形成されている。フィルタ室 12には、外気と連通した排気ダクト 13が接続されている。フィルタ室 12内には、円板状に形成された天板 6が収容されている。天板 6の周縁はフィルタケ一シング 2の内面に接触しており、その上面にはワイヤ 15の一端が取り付けられている。ワイヤ 15は、プーリ 16a, 16bを介して装置外に引き出されている。ワイヤ 15の他端側は、モータにて駆動される図示しないプーリに接続されている。このワイヤ 15により、天板 6はフィルタケ一シング 2及びスプレーケーシング 3内を上下方向に移動可能となって、る。

[0025] カートリッジフィルタ 7には、ポリエステル製の不織布を用いたフィルタ材 17が使用される。フィルタ材 17の上下には、ステンレス製のエンドキャップ 18a, 18bが取り付けられる。フィルタ材 17の中央には、ステンレス製のリテーナ 19が揷通される。リテーナ 1 9の上端は天板 6に固定され、下端にはフィルタ固定ノブ 20が取り付けられる。フィルタ材 17は、このフィルタ固定ノブ 20を締め込むことにより、リテーナ 19をガイドにして天板 6に固定される。エンドキャップ 18aと天板 6との間には、ゴムパッキン 21が介設される。

[0026] フィルタケ一シング 2にはさらに、逆洗用のパルスエアを噴出するパルスジェットノズル 22が設置されている。天板 6には、フィルタ材 17の中央に臨んで開口部 23が形成されている。パルスジェットノズル 22は、この開口部 23の上方に配置される。パルスジェットノズル 22は、図示しないパルスエア供給源に接続されており、カートリッジフィルタ 7の内側にパルスエアを噴射する。これにより、いわゆる逆洗処理が実施され、フィルタ材 17に付着した粉粒体が払い落とされる。

[0027] スプレーケーシング 3は、気密接合部 61によって気密状態でフィルタケ一シング 2と接合されている。フィルタケ一シング 2の内部には、噴霧室を兼ねた流動室 24が形成されている。流動室 24内には、スプレーノズル 8が配置されている。スプレーノズル 8 には、図示しないチューブによって、装置外に設けられたポンプ力バインダ液ゃコ一ティング液が供給される。スプレーノズル 8はスプレーアーム 25に取り付けられており、スプレーアーム 25は支柱 30に摺動自在に取り付けられている。これにより、スプレーノズル 8は、スプレーケーシング 3内にて上下方向に適宜移動可能となっている。また、スプレーケーシング 3内には、自動洗浄用の回転ノズル 26が上下移動可能に設置されている。回転ノズル 26には、装置外に設けられた洗浄ポンプユニットより高圧水が供給される。回転ノズル 26を上下移動させつつ回転させることにより、処理容器 1の内壁に付着した残留物がムラなく洗浄される。

[0028] 原料容器 4は、下方に向けて小径となった逆円錐台形状の円筒となっている。原料容器 4は、スプレーケーシング 3の下端に、気密接合部 62を介して気密状態で取り付けられる。原料容器 4は、走行用の車輪 31を備えた台車 32に取り付けられており、床面上を自在に移動できるようになつている。原料容器 4の内部には、原料収容室 33 が形成されている。原料容器 4の下部には、通気性を有する目皿板 9が設けられている。目 J1板 9には、通常、 42 X 175メッシュ、 32 X 132メッシュ、 24 X 110メッシュ等の畳織金網が使用される。目皿板 9は、目皿板補強用にパンチング板ゃ平織金網を重ねせて形成された多孔板 34と、多孔板 34を支持するステンレス製のサポートブラケット 35とから構成されている。原料収容室 33内に投入された粉粒体は、この目皿板 9上に保持される。

[0029] 原料容器 4の下方には、内部に給気室 41を有する給気ユニット 5が据え付けられている。給気ユニット 5は、給気室 41に連通する給気ダクト 42に接続されている。給気ダクト 42は、装置外に設けられた図示しないエア供給源に接続されている。また、給気ユニット 5の上部には、上下方向に伸縮自在な蛇腹部 43と、蛇腹部 43の上端に取り付けられたリング状のフランジ 44とが設けられている。フランジ 44は、原料容器 4の下端に設けられたフランジ 45と図示しないクランプ部材にて結合される。給気室 41 内にはまた、室内洗浄用の固定ノズル 46が設置されている。固定ノズル 46にも前述の洗浄ポンプユニット高圧水が供給され、給気ユニット 5内や目皿板 9の下面側などが洗浄される。

[0030] 給気室 41内にはさらに、空気圧シリンダ 51が配置されている。空気圧シリンダ 51のロッド 52の先端部には、径方向に延びる複数本の連結アーム 53が取り付けられている。連結アーム 53の外周部はフランジ 44に連結されており、空気圧シリンダ 51の動作に伴って、フランジ 44が上下方向に移動する。空気圧シリンダ 51とロッド 52は、蛇腹部 54を有するシール容器 55内に収容されている。このシール容器 55によって、空気圧シリンダ 51は、給気室 41に対して遮蔽された状態で配置される。

[0031] 当該流動層装置では、空気圧シリンダ 51を駆動してフランジ 44を下降させると原料容器 4の車輪 31が床面に接触し、台車 32が走行可能状態となる。これにより、粉粒体の処理が終了した原料容器 4を搬出したり、未処理の粉粒体が投入された原料容器 4を装置内に搬入したりすることができる。一方、原料容器 4をスプレーケーシング 3と給気ユニット 5との間に搬入し、その状態で空気圧シリンダ 51を駆動してフランジ 44を上昇させると、原料容器 4が押し上げられる。これにより、気密接合部 62が密接しスプレーケーシング 3と原料容器 4が気密状態で接合される。また、原料容器 4の押し上げに際し、気密接合部 63も密接する。給気ユニット 5のフランジ 44には固定シール（固定シール 87 ;図 7参照）が設けられており、原料容器 4と給気ユニット 5が気密状態で接合される。

[0032] このような流動層装置では、給気ダクト 42から給気室 41に流動エアを供給すると、このエアが目皿板 9を通って原料収容室 33に流入する。これにより、原料収容室 33 内の粉粒体が吹き上げられ、原料収容室 33や流動室 24内にて流動状態となる。そして、この状態にてスプレーノズル 8から適宜バインダ液ゃコーティング液をスプレー状に噴霧することにより、粉粒体のコーティング処理が実行される。なお、粉粒体を流動状態とした気体は、微細な固体粒子がカートリッジフィルタ 7によって除去されて清浄化された後、排気ダクト 13を通って排出される。 [0033] 一方、 GMP等の観点から、流動層装置ではコーティング処理を所定時間行った後、適宜、処理容器 1内の洗浄を行う必要がある。洗浄処理は、回転ノズル 26と固定ノズル 46を用いて自動的に行われ、処理容器 1内に付着した残留物は、高圧洗浄水によって洗い流される。ここで、従来の流動層装置では、前述のように、このような自動洗浄によっては気密接合部 61,62のシール面を洗浄することができないため、洗浄処理後、各ユニットを解体してシール面を別途洗浄している。この際、気密接合部 61,62の気密を解除して洗浄処理を行うと、製品曝露が生じ、コンテインメントが達成できないのは既述の通りである。

[0034] これに対し、本発明による流動層装置では、気密接合部 61, 62に特殊な構造を採用することにより、自動洗浄時にシール面も同時に洗浄できるようにし、煩雑な解体洗浄を省きコンテインメントと洗浄工数の削減の両立を図っている。図 3〜7は気密接合部 61〜63の構成を示す説明図であり、図 3,4は気密接合部 61、図 5,6は気密接合部 62、図 7は気密接合部 63の構成をそれぞれ示している。

[0035] 図 3に示すように、気密接合部 61には、内外に 2つのシール部 91, 92 (第 1,第 2シール部）が設けられている。このシール部 91, 92では、シリコンやウレタン榭脂等にて形成された 2本の Uシール (第 1,第 2シール部材） 64,65が使用されている。フィルタケーシング 2の下端部外周には、シール取付部 66が径方向に向力つて延出形成されている。シール取付部 66の内側には、 2本のシール溝 67,68 (第 1,第 2シール溝）が径方向に並列に形成されている。シール溝 67,68内には、それぞれ Uシール 64,6 5が収容されている。各シール溝 67,68内の Uシール 64,65の背後には、それぞれシリンダ室 69,71が形成されている。シリンダ室 69, 71には給気口 72,73が設けられており、装置外に設けられた給排気手段 95と接続されている。一方、スプレーケーシング 3の上端部外周には、フランジ (シール受け部） 74が径方向に向力つて延出形成されている。フランジ 74の上面は、シール取付部 66の下面側と対向するように配置されている。

[0036] このような気密接合部 61では、シリンダ室 69,71に圧縮エアが供給されると、圧縮エアの押圧力によって、 Uシール 64,65がシール溝 67,68内を下方に移動する。これにより、 Uシール 64,65がシール取付部 66の下端部から突出し、 Uシール 64,65 の下端がフランジ 74の上面に当接する。これにより、気密接合部 61が気密状態となり、フィルタケ一シング 2とスプレーケーシング 3の間がシールされる。これに対し、シリンダ室 69, 71からエアを吸引すると、 Uシール 64, 65がシール溝 67,68内に引き込まれ、上方に移動する。これにより、 Uシール 64,65の下端がフランジ 74の上面から離脱し、気密接合部 61の気密状態が解除される。なお、フィルタケ一シング 2とスプレーケーシング 3は支柱 30に固定支持されているため、シール取付部 66の下端とフランジ 74の上面との間の距離 Lは一定に保持されている。従って、気密接合部 61の気密性は、 Uシール 64,65の出没により、自在にコントロールすることが可能である。

[0037] 一方、気密接合部 61においては、各 Uシール 64,65はそれぞれ別個に作動可能となっている。当該流動層装置では、 Uシール 64,65を粉粒体処理時と洗浄時とで適宜使い分けることにより、シール面の洗浄を曝露なく実現している。図 4 (a)は粉粒体処理時、（b)は洗浄時における気密接合部 61の状態を示す説明図である。図 4 (a )に示すように、粉粒体処理時にはシリンダ室 69にエアを供給し、内側の Uシール 64 をフランジ 74と密接させる。これにより、気密接合部 61は気密状態となり、この状態で粉粒体処理を実施する。なお、この際、シリンダ室 71にもエアを供給し、外側の Uシール 65をフランジ 74と密接させてお!、ても良!、。

[0038] その後、粉粒体処理が終わり、洗浄処理を行う場合には、まず、図 4 (a)の状態で処理容器 1内をー且洗浄し、 Uシール 64の容器内に面した側面を洗浄する。次に、シリンダ室 71にエアを供給し、外側の Uシール 65をフランジ 74と密接させる。なお、粉粒体処理時力 Uシール 65をフランジ 74に密着させている場合にはこの工程は必要ない。また、 Uシール 65をフランジ 74と密接させた後、 Uシール 64の内側側面を洗浄しても良い。そして、その状態でシリンダ室 69内を吸引し、 Uシール 64を上方に引き上げる。これにより、図 4 (b)に示すように、粉粒体処理時にシール面となっていた部位 S1 (フランジ 74の上面や Uシール 64の下面部）が露出した状態となる。その際、外側の Uシール 65は既にフランジ 74と密着しており、気密接合部 61の気密は維持される。このため、 Uシール 64を引き上げても製品曝露の問題は生じない。

[0039] そこで、気密接合部 61を図 4 (b)の状態として、前述の自動洗浄処理を行う。このとき、洗浄水や容器内の残留物等は、 Uシール 65によってシールされ、装置外に飛散することはない。また、この際、シール部位 S1も同時に洗浄され、従来の装置では不可能であったシール面の洗浄も曝露なく実施することができる。なお、図 4 (a)の状態で処理容器 1内をー且洗浄してヽるため、 Uシール 64の洗浄も曝露なく実施される。従って、薬物や有毒物を処理した場合であっても、製品や材料等を処理容器 1内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことができ、コンテインメント対策としても極めて有用である。

[0040] 次に、気密接合部 62においても、図 5に示すように、内外に 2つのシール部 93,94

(第 1,第 2シール部）が設けられている。シール部 93,94では、 Uシール (第 1シール部材） 75と、角断面の固定シール (第 2シール部材） 76が使用されている。スプレーケーシング 3の下端部外周には、シール取付部 77が径方向に向力つて延出形成されている。シール取付部 77の内側には 2本のシール溝 (第 1,第 2シール溝） 78,79が径方向に並列に形成されている。シール溝 78内には Uシール 75が、シール溝 79内に固定シール 76がそれぞれ収容されている。

[0041] シール溝 78内の Uシール 75の背後には、気密接合部 61と同様に、シリンダ室 81 が形成されている。シリンダ室 81には給気口 82が設けられており、装置外に設けられた給排気手段 95と接続されている。これに対し、シール溝 79内には、シリコンゃゥレタン樹脂等のエラストマ一にて形成された固定シール 76が嵌め込まれている。一方、原料容器 4の上端部外周にはフランジ (シール受け部） 83が径方向に向力つて延出形成されている。フランジ 83の上面は、シール取付部 77の下面側と対向するように配置されている。

[0042] このような気密接合部 62では、固定シール 76の下端面がシール取付部 77の下端力も常時所定量だけ突出している。一方、 Uシール 75は、気密接合部 61と同様に、シリンダ室 81に圧縮エアが供給されると、圧縮エアの押圧力によってシール溝 78の下端部から下方に向かって突出する。気密接合部 62においては、空気圧シリンダ 5 1によって原料容器 4が図 5 (a)→ (b)のように押し上げられると、フランジ 83の上面が固定シール 76の下端面と当接する。これにより、気密接合部 62が気密状態となり、スプレーケーシング 3と原料容器 4が気密状態で接合される。

[0043] 気密接合部 62においても、 Uシール 75の状態を適宜変化させることにより、シール面の洗浄を曝露なく実現している。図 6 (a)は粉粒体処理時、（b)は洗浄時における気密接合部 62の状態を示す説明図である。図 6 (a)に示すように、粉粒体処理時にはシリンダ室 81にエアを供給して Uシール 75をフランジ 83と密接させ、この状態で粉粒体処理を実施する。そして、粉粒体処理が終わり、洗浄処理を行う場合には、図 6 (a)の状態で処理容器 1内をー且洗浄し、 Uシール 75の内側側面を洗浄する。その後、シリンダ室 81内を吸引し、 Uシール 75を上方に引き上げる。これにより、図 6 (b )に示すように、粉粒体処理時にシール面となっていた部位 S2 (フランジ 83の上面や Uシール 75の下面部）が露出した状態となる。その際、外側の固定シール 76はフランジ 83と密着しており、気密接合部 62の気密は維持される。このため、 Uシール 75 を引き上げても製品曝露の問題は生じない。

[0044] そこで、気密接合部 62を図 6 (b)の状態として、前述の自動洗浄処理を行う。このとき、洗浄水や容器内の残留物等は、固定シール 76によってシールされ、装置外に飛散することはない。また、この際、シール部位 S2同時に洗浄され、シール面の洗浄も曝露なく実施することができる。さらに、この場合も、図 6 (a)の状態で処理容器 1内をー且洗浄しているため、 Uシール 75の洗浄も曝露なく実施される。従って、前述同様、製品や材料等を処理容器 1内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことが可能となる。なお、気密接合部 61,62の洗浄は個別に行う必要はなぐ両者を同時進行で洗浄することが可能である。すなわち、図 4 (a) ,6 (a)の状態で一度洗浄を行い、その後、図 4 (b) , 6 (b)の状態としてシール部位 S1,S2を洗浄する工程は、同一洗浄工程にて同時に実施することが可能である。

[0045] さら〖こ、当該流動層装置では、気密接合部 63にも工夫が凝らされており、粉粒体処理時における室内空気の流入や製品の曝露、装置洗浄における製品曝露を効果的に防止している。図 7に示すように、気密接合部 63では、コの字形の断面を有する目皿シール 84が使用されている。原料容器 4の下端部にはフランジ 45が設けられており、その下面側にはシール収容溝 85aが形成されている。また、目皿シール 84の下面側にはリング状の目皿押さえ金具 86が配置されており、目皿押さえ金具 86の上面にもシール収容溝 85bが形成されている。目皿シール 84は、シール収容溝 85a,8 5b内に収容される。この状態で、フランジ 45と目皿押さえ金具 86との間力図示しないクランプにて固定される。

[0046] 一方、給気ユニット 5側に設けられたフランジ 44の上面側には、固定シール 87が取り付けられている。固定シール 87は、フランジ 44上のシール収容溝 88内に収容されている。空気圧シリンダ 51が作動し給気ユニット 5が押し上げられると、固定シール 8 7が目皿押さえ金具 86に圧接される。前述のように、フランジ 45と目皿押さえ金具 86 との間は、目皿シール 84を介して気密状態で固定されている。従って、固定シール 8 7と目皿押さえ金具 86が密着することにより、気密接合部 63が気密状態で接合される。

[0047] 気密接合部 63においては、目皿シール 84の凹溝 89に、多孔板 34とサポートブラケット 35からなる目皿板 9が挟持される。ここで、従来の流動層装置では、原料容器 4 と給気ユニット 5との間の気密接合部は図 11のような構成となっているため、どうしても目皿板の端面が装置外に臨んだ形となる。このため、目皿板の外端部に微小な漏れが生じる可能性があり、室内空気の流入や製品曝露などのおそれがあった。これに対し、当該流動層装置は、気密接合部 63に断面コの字形の目皿シール 84を採用し、その凹溝 89に目皿板 9を収容する構成となっているため、目皿板 9が端面までシールされ、目皿板 9の外端部には全く漏れは生じない。従って、気密接合部 63の気密性が向上し、室内空気の流入や製品曝露を効果的に防止することが可能となる。

[0048] 本発明は前記実施例に限定されるものではなぐその要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもな、。

例えば、前述の実施例は、粉粒体にコーティング処理を施すための流動層装置を示したが、粉粒体を造粒する装置あるいは乾燥する装置にも本発明は適用可能である。また、前述の実施例では、気密接合部 62において、外側に固定シール 76を採用した構成を示したが、気密接合部 61と同様に外側も Uシールとしても良い。但し、気密接合部 62は、原料容器 4を押し上げて気密接合部を形成する構成のため、 Uシール 75の上下移動クリアランスを適正に確保するには、外側のシールが固定シールである方が好ましい。一方、気密接合部 61に関しても外側に固定シールを採用することは可能である。但し、この場合、流動層装置を処理可能な状態にセットしたとき、フィルタケ一シング 2とスプレーケーシング 3との間に固定シールが介在することになる。このため、非接触のクリアランス Lが存在する場合に比して、装置がハンドリングしづらくなるおそれがあり、両方とも Uシールである方が好ましい。

さらに、前述の流動層装置では、自動洗浄装置として、回転ノズル 26と固定ノズル 46を用いたものを採用した例を示したが、洗浄手段はこれには限定されず、超音波洗浄装置やパブリング装置を処理容器 1内に配置し、容器内を溜め洗ヽする構成なども採用可能である。

Claims

請求の範囲

[1] 筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、前記ユニット間に設けられ前記処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置であって、前記気密接合部は、前記ユニットの周方向に沿って延設された第 1シール部と、前記第 1シール部の径方向外側に設けられ、該ユニットの周方向に沿って延びる第 2シール部とを有し、

前記第 1及び第 2シール部のうち少なくとも前記第 1シール部は、気密性の保持と解除が自在に切り換え可能であることを特徴とする流動層装置。

[2] 請求項 1記載の流動層装置において、前記気密接合部は、

接合される前記ユニットのうち一方側の前記ユニットの端部に形成され、前記第 1シ一ル部を構成する第 1シール部材が収容可能な第 1シール溝と、前記第 2シールを構成する第 2シール部材が収容可能な第 2シール溝とを備えたシール部材取付部と接合される前記ユニットのうち他方側の前記ユニットの端部に形成され、前記シール部材取付部と対向し、前記第 1及び第 2シール部材が密接可能なシール受け部とを有することを特徴とする流動層装置。

[3] 請求項 2記載の流動層装置において、前記第 1及び第 2シール溝のうち少なくとも前記第 1シール溝に該シール溝の内部と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記シール部材を前記溝内にて移動可能に設置したことを特徴とする流動層装置。

[4] 請求項 1記載の流動層装置において、前記流動層装置は、

粉粒体処理時にあっては、前記第 1及び第 2シール部のうち少なくとも前記第 1シール部の気密性を保持し、

前記処理容器内の洗浄時にあっては、第 2シール部の気密性を保持しつつ前記第 1シール部の気密性を解除することを特徴とする流動層装置。

[5] 請求項 1記載の流動層装置において、前記処理容器は、

処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケ一シングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備え、

前記フィルタケ一シングュニットと前記スプレーケーシングュニットとの間の前記気密接合部は、前記第 1及び第 2シール部が共に気密性の保持と解除が自在に切り換え可能であることを特徴とする流動層装置。

請求項 1記載の流動層装置において、前記処理容器は、

前記スプレーケーシングユニットと前記原料容器ユニットとの間の前記気密接合部は、前記第 1シール部のみが気密性の保持と解除が自在に切り換え可能であることを特徴とする流動層装置。