JP5222137B2 - 流動層装置 - Google Patents

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Description

本発明は、粉粒体の造粒、コーティング等に使用される流動層装置に関し、特に、装置接合部に配されるシール部材の洗浄が容易な流動層装置に関する。
医薬品や化粧品、食品などの分野では、粉末や顆粒等の粉粒体を気体流によって流動化し、造粒、コーティング、混合、撹拌、乾燥等の処理を行う流動層装置が広く使用されている。流動層装置では、流動化した粉粒体にバインダ液やコーティング液等をスプレーノズルにて供給し、造粒やコーティング等の処理が実施される。図8はこのような流動層装置の構成を示す説明図である。図8に示すように、流動層装置101は、円筒状の処理容器102を備えており、その内部には粉末等の被処理物が投入され、造粒、コーティング等の処理が実施される。
処理容器は、上から順に、フィルタケーシング103、スプレーケーシング104、原料容器105及び給気ユニット106を重ねて配置した形態となっている。フィルタケーシング103とスプレーケーシング104の間、スプレーケーシング104と原料容器105の間、及び、原料容器105と給気ユニット106の間はそれぞれ、リング状のシール部材を用いた気密接合部107〜109にて気密に締結されている。図9〜11は気密接合部107〜109の構成を示す説明図であり、図9は気密接合部107、図10は気密接合部108、図11は気密接合部109の構成をそれぞれ示している。
図9に示すように、気密接合部107では、断面が略U字形に形成されたUシール111が使用されている。フィルタケーシング103の下端部外周にはシール取付部112が径方向に向かって延出形成されており、その内側のシール溝113内にUシール111が収容される。シール溝113内には、Uシール111の背後にシリンダ室114が形成され、シリンダ室114には給気口115を介して図示しない給排気手段から圧縮エアが供給される。シリンダ室114に圧縮エアを供給すると、図9(a)→(b)に示すように、圧縮エアの押圧力によって、Uシール111がシール溝113の下端部から下方に向かって突出する。
一方、スプレーケーシング104の上端部外周には、フランジ116が径方向に向かって延出形成されている。フランジ116は、その上面がシール取付部112の下面側と対向するように配置される。シリンダ室114に圧縮エアが供給され、Uシール111がシール溝113から突出すると、図9(b)に示すように、Uシール111の下端がフランジ116の上面に当接する。これにより、気密接合部107が気密状態となり、フィルタケーシング103とスプレーケーシング104の間がシールされる。
次に、気密接合部108では、図10に示すように、角形断面を有するシリコンスポンジパッキン117(以下、パッキン117と略記する)が使用されている。スプレーケーシング104の下端部外周には、フランジ118が径方向に向かって延出形成されている。これに対し、原料容器105の上端部外周にも、フランジ118と対向する形でフランジ119が延出形成されている。パッキン117は、これらのフランジ118,119の間に配置される。原料容器105は、給気ユニット106側に設けられたアクチュエータ121によって、上方に押し上げられるようになっており、図10(a)→(b)のように原料容器105が押し上げられると、パッキン117はフランジ118,119間に挟持される。これにより、気密接合部108が気密状態となり、スプレーケーシング104と原料容器105の間がシールされる。
さらに、気密接合部109では、図11に示すように、角形断面を有するシリコンスポンジパッキン122,123(以下、パッキン122,123と略記する)が使用されている。原料容器105の下端部外周には、フランジ124が延出形成されており、その下面側にパッキン122が取り付けられる。これに対し、給気ユニット106の上端部外周にも、フランジ124と対向する形でフランジ125が延出形成されており、その上面側にパッキン123が取り付けられている。一方、原料容器105と給気ユニット106との間には、通気性の目皿板126が設置される。目皿板126は、金網等にて形成された多孔板127と、多孔板127を保持する補強板128とから構成される。そこで、図11(a)→(b)のように、アクチュエータ121によって原料容器105が押し上げられると、フランジ124,125が近接し、目皿板126と補強板127を挟持しつつ両パッキン122,123が密接する。これにより、気密接合部109が気密状態となり、原料容器105と給気ユニット106の間がシールされる。
特開2004-244205号公報 特表2004-500979号公報 特開平7-158738号公報 特表2000-506962号公報 特表2003-520744号公報 特表2004-509755号公報 特開2005-291496号公報
一方、このような流動層装置101では、粉粒体の種類を変える場合など、GMP(Good Manufacturing Practice)の観点からも、適宜、流動層装置101の内部を洗浄する必要がある。装置の洗浄処理には、処理容器102内に洗浄液を溜める溜め洗いや、流動層装置101内に設置した洗浄ノズルから洗浄液を噴射するジェット洗浄など、従来より種々の方式が用いられるが、近年、洗浄工数を削減すべく、その自動化が促進されている。例えば、前述のジェット洗浄の場合、処理容器102から製品を取り出した後、スイッチ操作ひとつで洗浄ノズルが作動し、適宜移動しながら、処理容器102内を所定時間洗浄する。これにより、従来の手作業での洗浄処理に比して大幅に洗浄工数の削減が図られる。
ところが、前述の流動層装置101の場合、通常の自動洗浄では気密接合部107,108のシール面(密着面)を洗浄できないという問題が生じる。すなわち、気密接合部107,108において、Uシール111やパッキン117とフランジ116やフランジ118,119に密着している部分は、そのままの状態では洗浄液が届かず洗浄を行うことができない。この場合、圧縮エアを抜いたり、原料容器105を下げたりすることにより、各気密接合部107,108の気密を解除すれば、シール面を露出させることができ、その状態で洗浄処理を行えば、シール面を洗浄することも可能である。
しかしながら、シールを解除して洗浄を行うと、洗浄液や処理容器102内に残留した製品が装置外に曝露(飛散)し、装置周囲が汚染されるおそれがある。特に、医薬品製造設備では、近年、製品曝露による薬害や災害を防止すべく、封じ込め(コンテインメント)対策が重要視されており、その観点からもシール解除状態での洗浄処理は好ましくない。このため、従来の流動層装置では、処理容器内の自動洗浄後に、装置を分解し、気密接合部を分解洗浄する必要があり、洗浄処理を自動化したにもかかわらず、結局、洗浄工数自体は余り削減されないのが現実である。
本発明の目的は、装置を分解することなくシール面の洗浄が可能でありながら、洗浄中であっても製品が装置外に曝露することのない流動層装置を提供することにある。
本発明の流動層装置は、筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、前記ユニット間に設けられ前記処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置であって、前記気密接合部は、前記ユニットの周方向に沿って延設された第1シール部と、前記第1シール部の径方向外側に設けられ、該ユニットの周方向に沿って延びる第2シール部とを有すると共に接合される前記ユニットのうち一方側の前記ユニットの端部に形成され、前記第1シール部を構成する第1シール部材が収容可能な第1シール溝と、前記第2シール部を構成する第2シール部材が収容可能な第2シール溝とを備えたシール部材取付部と、接合される前記ユニットのうち他方側の前記ユニットの端部に形成され、前記シール部材取付部と対向し、前記第1及び第2シール部材が密接可能なシール受け部と、を有し、前記第1シール溝に該シール溝の内部と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記第1シール部材を前記第1シール溝内にて上下方向に移動可能に設置し前記第1シール部材は、前記給気口を介して前記第1シール溝内に気体を供給することにより下方に移動して前記シール受け部に密接し前記気密接合部の気密性が保持される一方、前記給気口を介して前記第1シール溝内を吸引することにより前記第1シール部材が上方に移動して前記シール受け部から離脱し前記気密接合部の気密性が解除されることを特徴とする。
本発明にあっては、複数のユニットからなる処理容器の気密接合部に、第1シール部を設けると共に、第1シール部の外側に第2シール部を配し、第1シール部を気密性の保持と解除が自在に切り換え可能とすることにより、粉粒体処理時には第1シール部の気密性を保持する一方、第2シール部の気密性を保持しつつ第1シール部の気密性を解除して処理容器の洗浄を行うことができる。このため、第1シール部のシール面を曝露の問題なく洗浄することができ、従来の装置では不可能であったシール面を自動洗浄でき、製品や材料等を処理容器内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことが可能となる。
前記流動層装置において、前記給気口を介して気体を給排気することにより前記第1シール部材を第1シール溝から前記シール受け部に向かって出没させ、該第1シール部材の出没により前記気密接合部の気密性の保持と解除を切り換えるようにしても良い。
また、前記第2シール溝に該シール溝の内部と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記第2シール部材を前記第2シール溝内にて上下方向に移動可能に設置し、前記第2シール部材は、前記給気口を介して前記第2シール溝内に気体を供給することにより下方に移動して前記シール受け部に密接し前記気密接合部の気密性が保持される一方、前記給気口を介して前記第2シール溝内を吸引することにより前記第2シール部材が上方に移動して前記シール受け部から離脱し前記気密接合部の気密性が解除されるようにしても良い。
また、前記流動層装置において、粉粒体処理時にあっては、前記第1シール部の気密性を保持し、前記処理容器内の洗浄時にあっては、第2シール部の気密性を保持しつつ前記第1シール部の気密性を解除するようにしても良い。
一方、前記処理容器を、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケーシングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備える構成とし、前記フィルタケーシングユニットと前記スプレーケーシングユニットとの間の前記気密接合部では、前記第1及び第2シール部が共に気密性の保持と解除が自在に切り換え可能としても良い。
また、前記処理容器を、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケーシングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備える構成とし、前記スプレーケーシングユニットと前記原料容器ユニットとの間の前記気密接合部では、前記第1シール部のみが気密性の保持と解除が自在に切り換え可能としても良い。
本発明の流動層装置によれば、筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、ユニット間に設けられ処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置にて、気密接合部に、ユニットの周方向に沿って延設された第1シール部と、第1シール部の径方向外側に設けられ、ユニットの周方向に沿って延びる第2シール部とを設け、第1及び第2シール部のうち少なくとも第1シール部が、気密性の保持と解除が自在に切り換え可能とすることにより、粉粒体処理時には第1シール部にて気密接合部の気密性を維持する一方、第2シール部の気密性を保持しつつ第1シール部の気密性を解除して処理容器の洗浄を行うことが可能となる。このため、第2シール部にて気密接合部の気密性を維持しつつ第1シール部のシール面を洗浄することができ、曝露の問題なく、処理容器内に製品や材料等を封じ込めた状態でシール面を自動洗浄することが可能となる。
本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図である。 図1の流動層装置の断面図である。 フィルタケーシングとスプレーケーシングの間の気密接合部の構成を示す説明図である。 (a)は図3の気密接合部における粉粒体処理時の状態を示す説明図、(b)は洗浄時の状態を示す説明図である。 スプレーケーシングと原料容器の間の気密接合部の構成を示す説明図である。 (a)は図5の気密接合部における粉粒体処理時の状態を示す説明図、(b)は洗浄時の状態を示す説明図である。 原料容器と給気ユニットの間の気密接合部の構成を示す説明図である。 従来の流動層装置の構成を示す説明図である。 従来の流動層装置におけるフィルタケーシングとスプレーケーシングの間の気密接合部の構成を示す説明図である。 従来の流動層装置におけるスプレーケーシングと原料容器の間の気密接合部の構成を示す説明図である。 従来の流動層装置における原料容器と給気ユニットの間の気密接合部の構成を示す説明図である。
符号の説明
1 処理容器
2 フィルタケーシング(フィルタケーシングユニット)
3 スプレーケーシング(スプレーケーシングユニット)
4 原料容器(原料容器ユニット) 5 給気ユニット
6 天板 7 カートリッジフィルタ
8 スプレーノズル 9 目皿板
10a,10b ブラケット 11 天蓋
12 フィルタ室 13 排気ダクト
15 ワイヤ 16a,16b プーリ
17 フィルタ材 18a,18b エンドキャップ
19 リテーナ 20 フィルタ固定ノブ
21 ゴムパッキン 22 パルスジェットノズル
23 開口部 24 流動室
25 スプレーアーム 26 回転ノズル
30 支柱 31 車輪
32 台車 33 原料収容室
34 多孔板 35 サポートブラケット
41 給気室 42 給気ダクト
43 蛇腹部 44 フランジ
45 フランジ 46 固定ノズル
51 空気圧シリンダ 52 ロッド
53 連結アーム 54 蛇腹部
55 シール容器 61 気密接合部
62 気密接合部 63 気密接合部
64 Uシール(第1シール部材) 65 Uシール(第2シール部材)
66 シール取付部 67 シール溝(第1シール溝)
68 シール溝(第2シール溝) 69 シリンダ室
71 シリンダ室 72 給気口
73 給気口 74 フランジ(シール受け部)
75 Uシール(第1シール部材) 76 固定シール(第2シール部材)
77 シール取付部 78 シール溝(第1シール溝)
79 シール溝(第2シール溝) 81 シリンダ室
82 給気口 83 フランジ(シール受け部)
84 目皿シール 85a,85b シール収容溝
86 目皿押さえ金具 87 固定シール
88 シール収容溝 89 凹溝
91 シール部(第1シール部) 92 シール部(第2シール部)
93 シール部(第1シール部) 94 シール部(第2シール部)
95 給排気手段 101 流動層装置
102 処理容器 103 フィルタケーシング
104 スプレーケーシング 105 原料容器
106 給気ユニット 107 気密接合部
108 気密接合部 109 気密接合部
111 Uシール 112 シール取付部
113 シール溝 114 シリンダ室
115 給気口 116 フランジ
117 シリコンスポンジパッキン 118 フランジ
119 フランジ 121 アクチュエータ
122 シリコンスポンジパッキン 123 パッキン
124 フランジ 125 フランジ
126 目皿板 127 多孔板
128 補強板 S1 シール部位
S2 シール部位
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図、図2は図1の流動層装置の断面図である。図1の流動層装置は円筒形状の処理容器1を備え、例えば、粉粒体の表面にコーティング処理を行うために使用される。図1に示すように、処理容器1は、上から順に、フィルタケーシング(フィルタケーシングユニット)2、スプレーケーシング(スプレーケーシングユニット)3、原料容器(原料容器ユニット)4及び給気ユニット5を重ねて配置した形態となっている。
フィルタケーシング2とスプレーケーシング3は、ブラケット10a,10bによって支柱30に固定支持されている。また、フィルタケーシング2とスプレーケーシング3の間、スプレーケーシング3と原料容器4の間、及び、原料容器4と給気ユニット5の間はそれぞれ、リング状のシール部材を用いた気密接合部61〜63にて気密に締結されている。フィルタケーシング2内には天板6が配置されており、天板6にはカートリッジフィルタ7が取り付けられている。スプレーケーシング3内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液を噴霧するためのスプレーノズル8が配置されている。原料容器4内には被処理物となる粉粒体が投入され、原料容器4の底部には粉粒体を保持するための目皿板9が設置されている。
フィルタケーシング2の上端は天蓋11によって閉塞されており、フィルタケーシング2の内部にはフィルタ室12が形成されている。フィルタ室12には、外気と連通した排気ダクト13が接続されている。フィルタ室12内には、円板状に形成された天板6が収容されている。天板6の周縁はフィルタケーシング2の内面に接触しており、その上面にはワイヤ15の一端が取り付けられている。ワイヤ15は、プーリ16a,16bを介して装置外に引き出されている。ワイヤ15の他端側は、モータにて駆動される図示しないプーリに接続されている。このワイヤ15により、天板6はフィルタケーシング2及びスプレーケーシング3内を上下方向に移動可能となっている。
カートリッジフィルタ7には、ポリエステル製の不織布を用いたフィルタ材17が使用される。フィルタ材17の上下には、ステンレス製のエンドキャップ18a,18bが取り付けられる。フィルタ材17の中央には、ステンレス製のリテーナ19が挿通される。リテーナ19の上端は天板6に固定され、下端にはフィルタ固定ノブ20が取り付けられる。フィルタ材17は、このフィルタ固定ノブ20を締め込むことにより、リテーナ19をガイドにして天板6に固定される。エンドキャップ18aと天板6との間には、ゴムパッキン21が介設される。
フィルタケーシング2にはさらに、逆洗用のパルスエアを噴出するパルスジェットノズル22が設置されている。天板6には、フィルタ材17の中央に臨んで開口部23が形成されている。パルスジェットノズル22は、この開口部23の上方に配置される。パルスジェットノズル22は、図示しないパルスエア供給源に接続されており、カートリッジフィルタ7の内側にパルスエアを噴射する。これにより、いわゆる逆洗処理が実施され、フィルタ材17に付着した粉粒体が払い落とされる。
スプレーケーシング3は、気密接合部61によって気密状態でフィルタケーシング2と接合されている。フィルタケーシング2の内部には、噴霧室を兼ねた流動室24が形成されている。流動室24内には、スプレーノズル8が配置されている。スプレーノズル8には、図示しないチューブによって、装置外に設けられたポンプからバインダ液やコーティング液が供給される。スプレーノズル8はスプレーアーム25に取り付けられており、スプレーアーム25は支柱30に摺動自在に取り付けられている。これにより、スプレーノズル8は、スプレーケーシング3内にて上下方向に適宜移動可能となっている。また、スプレーケーシング3内には、自動洗浄用の回転ノズル26が上下移動可能に設置されている。回転ノズル26には、装置外に設けられた洗浄ポンプユニットより高圧水が供給される。回転ノズル26を上下移動させつつ回転させることにより、処理容器1の内壁に付着した残留物がムラなく洗浄される。
原料容器4は、下方に向けて小径となった逆円錐台形状の円筒となっている。原料容器4は、スプレーケーシング3の下端に、気密接合部62を介して気密状態で取り付けられる。原料容器4は、走行用の車輪31を備えた台車32に取り付けられており、床面上を自在に移動できるようになっている。原料容器4の内部には、原料収容室33が形成されている。原料容器4の下部には、通気性を有する目皿板9が設けられている。目皿板9には、通常、42×175メッシュ、32×132メッシュ、24×110メッシュ等の畳織金網が使用される。目皿板9は、目皿板補強用にパンチング板や平織金網を重ねせて形成された多孔板34と、多孔板34を支持するステンレス製のサポートブラケット35とから構成されている。原料収容室33内に投入された粉粒体は、この目皿板9上に保持される。
原料容器4の下方には、内部に給気室41を有する給気ユニット5が据え付けられている。給気ユニット5は、給気室41に連通する給気ダクト42に接続されている。給気ダクト42は、装置外に設けられた図示しないエア供給源に接続されている。また、給気ユニット5の上部には、上下方向に伸縮自在な蛇腹部43と、蛇腹部43の上端に取り付けられたリング状のフランジ44とが設けられている。フランジ44は、原料容器4の下端に設けられたフランジ45と図示しないクランプ部材にて結合される。給気室41内にはまた、室内洗浄用の固定ノズル46が設置されている。固定ノズル46にも前述の洗浄ポンプユニット高圧水が供給され、給気ユニット5内や目皿板9の下面側などが洗浄される。
給気室41内にはさらに、空気圧シリンダ51が配置されている。空気圧シリンダ51のロッド52の先端部には、径方向に延びる複数本の連結アーム53が取り付けられている。連結アーム53の外周部はフランジ44に連結されており、空気圧シリンダ51の動作に伴って、フランジ44が上下方向に移動する。空気圧シリンダ51とロッド52は、蛇腹部54を有するシール容器55内に収容されている。このシール容器55によって、空気圧シリンダ51は、給気室41に対して遮蔽された状態で配置される。
当該流動層装置では、空気圧シリンダ51を駆動してフランジ44を下降させると原料容器4の車輪31が床面に接触し、台車32が走行可能状態となる。これにより、粉粒体の処理が終了した原料容器4を搬出したり、未処理の粉粒体が投入された原料容器4を装置内に搬入したりすることができる。一方、原料容器4をスプレーケーシング3と給気ユニット5との間に搬入し、その状態で空気圧シリンダ51を駆動してフランジ44を上昇させると、原料容器4が押し上げられる。これにより、気密接合部62が密接しスプレーケーシング3と原料容器4が気密状態で接合される。また、原料容器4の押し上げに際し、気密接合部63も密接する。給気ユニット5のフランジ44には固定シール(固定シール87;図7参照)が設けられており、原料容器4と給気ユニット5が気密状態で接合される。
このような流動層装置では、給気ダクト42から給気室41に流動エアを供給すると、このエアが目皿板9を通って原料収容室33に流入する。これにより、原料収容室33内の粉粒体が吹き上げられ、原料収容室33や流動室24内にて流動状態となる。そして、この状態にてスプレーノズル8から適宜バインダ液やコーティング液をスプレー状に噴霧することにより、粉粒体のコーティング処理が実行される。なお、粉粒体を流動状態とした気体は、微細な固体粒子がカートリッジフィルタ7によって除去されて清浄化された後、排気ダクト13を通って排出される。
一方、GMP等の観点から、流動層装置ではコーティング処理を所定時間行った後、適宜、処理容器1内の洗浄を行う必要がある。洗浄処理は、回転ノズル26と固定ノズル46を用いて自動的に行われ、処理容器1内に付着した残留物は、高圧洗浄水によって洗い流される。ここで、従来の流動層装置では、前述のように、このような自動洗浄によっては気密接合部61,62のシール面を洗浄することができないため、洗浄処理後、各ユニットを解体してシール面を別途洗浄している。この際、気密接合部61,62の気密を解除して洗浄処理を行うと、製品曝露が生じ、コンテインメントが達成できないのは既述の通りである。
これに対し、本発明による流動層装置では、気密接合部61,62に特殊な構造を採用することにより、自動洗浄時にシール面も同時に洗浄できるようにし、煩雑な解体洗浄を省きコンテインメントと洗浄工数の削減の両立を図っている。図3〜7は気密接合部61〜63の構成を示す説明図であり、図3,4は気密接合部61、図5,6は気密接合部62、図7は気密接合部63の構成をそれぞれ示している。
図3に示すように、気密接合部61には、内外に2つのシール部91,92(第1,第2シール部)が設けられている。このシール部91,92では、シリコンやウレタン樹脂等にて形成された2本のUシール(第1,第2シール部材)64,65が使用されている。フィルタケーシング2の下端部外周には、シール取付部66が径方向に向かって延出形成されている。シール取付部66の内側には、2本のシール溝67,68(第1,第2シール溝)が径方向に並列に形成されている。シール溝67,68内には、それぞれUシール64,65が収容されている。各シール溝67,68内のUシール64,65の背後には、それぞれシリンダ室69,71が形成されている。シリンダ室69,71には給気口72,73が設けられており、装置外に設けられた給排気手段95と接続されている。一方、スプレーケーシング3の上端部外周には、フランジ(シール受け部)74が径方向に向かって延出形成されている。フランジ74の上面は、シール取付部66の下面側と対向するように配置されている。
このような気密接合部61では、シリンダ室69,71に圧縮エアが供給されると、圧縮エアの押圧力によって、Uシール64,65がシール溝67,68内を下方に移動する。これにより、Uシール64,65がシール取付部66の下端部から突出し、Uシール64,65の下端がフランジ74の上面に当接する。これにより、気密接合部61が気密状態となり、フィルタケーシング2とスプレーケーシング3の間がシールされる。これに対し、シリンダ室69,71からエアを吸引すると、Uシール64,65がシール溝67,68内に引き込まれ、上方に移動する。これにより、Uシール64,65の下端がフランジ74の上面から離脱し、気密接合部61の気密状態が解除される。なお、フィルタケーシング2とスプレーケーシング3は支柱30に固定支持されているため、シール取付部66の下端とフランジ74の上面との間の距離Lは一定に保持されている。従って、気密接合部61の気密性は、Uシール64,65の出没により、自在にコントロールすることが可能である。
一方、気密接合部61においては、各Uシール64,65はそれぞれ別個に作動可能となっている。当該流動層装置では、Uシール64,65を粉粒体処理時と洗浄時とで適宜使い分けることにより、シール面の洗浄を曝露なく実現している。図4(a)は粉粒体処理時、(b)は洗浄時における気密接合部61の状態を示す説明図である。図4(a)に示すように、粉粒体処理時にはシリンダ室69にエアを供給し、内側のUシール64をフランジ74と密接させる。これにより、気密接合部61は気密状態となり、この状態で粉粒体処理を実施する。なお、この際、シリンダ室71にもエアを供給し、外側のUシール65をフランジ74と密接させておいても良い。
その後、粉粒体処理が終わり、洗浄処理を行う場合には、まず、図4(a)の状態で処理容器1内を一旦洗浄し、Uシール64の容器内に面した側面を洗浄する。次に、シリンダ室71にエアを供給し、外側のUシール65をフランジ74と密接させる。なお、粉粒体処理時からUシール65をフランジ74に密着させている場合にはこの工程は必要ない。また、Uシール65をフランジ74と密接させた後、Uシール64の内側側面を洗浄しても良い。そして、その状態でシリンダ室69内を吸引し、Uシール64を上方に引き上げる。これにより、図4(b)に示すように、粉粒体処理時にシール面となっていた部位S1(フランジ74の上面やUシール64の下面部)が露出した状態となる。その際、外側のUシール65は既にフランジ74と密着しており、気密接合部61の気密は維持される。このため、Uシール64を引き上げても製品曝露の問題は生じない。
そこで、気密接合部61を図4(b)の状態として、前述の自動洗浄処理を行う。このとき、洗浄水や容器内の残留物等は、Uシール65によってシールされ、装置外に飛散することはない。また、この際、シール部位S1も同時に洗浄され、従来の装置では不可能であったシール面の洗浄も曝露なく実施することができる。なお、図4(a)の状態で処理容器1内を一旦洗浄しているため、Uシール64の洗浄も曝露なく実施される。従って、薬物や有毒物を処理した場合であっても、製品や材料等を処理容器1内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことができ、コンテインメント対策としても極めて有用である。
次に、気密接合部62においても、図5に示すように、内外に2つのシール部93,94(第1,第2シール部)が設けられている。シール部93,94では、Uシール(第1シール部材)75と、角断面の固定シール(第2シール部材)76が使用されている。スプレーケーシング3の下端部外周には、シール取付部77が径方向に向かって延出形成されている。シール取付部77の内側には2本のシール溝(第1,第2シール溝)78,79が径方向に並列に形成されている。シール溝78内にはUシール75が、シール溝79内に固定シール76がそれぞれ収容されている。
シール溝78内のUシール75の背後には、気密接合部61と同様に、シリンダ室81が形成されている。シリンダ室81には給気口82が設けられており、装置外に設けられた給排気手段95と接続されている。これに対し、シール溝79内には、シリコンやウレタン樹脂等のエラストマーにて形成された固定シール76が嵌め込まれている。一方、原料容器4の上端部外周にはフランジ(シール受け部)83が径方向に向かって延出形成されている。フランジ83の上面は、シール取付部77の下面側と対向するように配置されている。
このような気密接合部62では、固定シール76の下端面がシール取付部77の下端から常時所定量だけ突出している。一方、Uシール75は、気密接合部61と同様に、シリンダ室81に圧縮エアが供給されると、圧縮エアの押圧力によってシール溝78の下端部から下方に向かって突出する。気密接合部62においては、空気圧シリンダ51によって原料容器4が図5(a)→(b)のように押し上げられると、フランジ83の上面が固定シール76の下端面と当接する。これにより、気密接合部62が気密状態となり、スプレーケーシング3と原料容器4が気密状態で接合される。
気密接合部62においても、Uシール75の状態を適宜変化させることにより、シール面の洗浄を曝露なく実現している。図6(a)は粉粒体処理時、(b)は洗浄時における気密接合部62の状態を示す説明図である。図6(a)に示すように、粉粒体処理時にはシリンダ室81にエアを供給してUシール75をフランジ83と密接させ、この状態で粉粒体処理を実施する。そして、粉粒体処理が終わり、洗浄処理を行う場合には、図6(a)の状態で処理容器1内を一旦洗浄し、Uシール75の内側側面を洗浄する。その後、シリンダ室81内を吸引し、Uシール75を上方に引き上げる。これにより、図6(b)に示すように、粉粒体処理時にシール面となっていた部位S2(フランジ83の上面やUシール75の下面部)が露出した状態となる。その際、外側の固定シール76はフランジ83と密着しており、気密接合部62の気密は維持される。このため、Uシール75を引き上げても製品曝露の問題は生じない。
そこで、気密接合部62を図6(b)の状態として、前述の自動洗浄処理を行う。このとき、洗浄水や容器内の残留物等は、固定シール76によってシールされ、装置外に飛散することはない。また、この際、シール部位S2同時に洗浄され、シール面の洗浄も曝露なく実施することができる。さらに、この場合も、図6(a)の状態で処理容器1内を一旦洗浄しているため、Uシール75の洗浄も曝露なく実施される。従って、前述同様、製品や材料等を処理容器1内に封じ込めた状態で洗浄処理を行うことが可能となる。なお、気密接合部61,62の洗浄は個別に行う必要はなく、両者を同時進行で洗浄することが可能である。すなわち、図4(a),6(a)の状態で一度洗浄を行い、その後、図4(b),6(b)の状態としてシール部位S1,S2を洗浄する工程は、同一洗浄工程にて同時に実施することが可能である。
さらに、当該流動層装置では、気密接合部63にも工夫が凝らされており、粉粒体処理時における室内空気の流入や製品の曝露、装置洗浄における製品曝露を効果的に防止している。図7に示すように、気密接合部63では、コの字形の断面を有する目皿シール84が使用されている。原料容器4の下端部にはフランジ45が設けられており、その下面側にはシール収容溝85aが形成されている。また、目皿シール84の下面側にはリング状の目皿押さえ金具86が配置されており、目皿押さえ金具86の上面にもシール収容溝85bが形成されている。目皿シール84は、シール収容溝85a,85b内に収容される。この状態で、フランジ45と目皿押さえ金具86との間が、図示しないクランプにて固定される。
一方、給気ユニット5側に設けられたフランジ44の上面側には、固定シール87が取り付けられている。固定シール87は、フランジ44上のシール収容溝88内に収容されている。空気圧シリンダ51が作動し給気ユニット5が押し上げられると、固定シール87が目皿押さえ金具86に圧接される。前述のように、フランジ45と目皿押さえ金具86との間は、目皿シール84を介して気密状態で固定されている。従って、固定シール87と目皿押さえ金具86が密着することにより、気密接合部63が気密状態で接合される。
気密接合部63においては、目皿シール84の凹溝89に、多孔板34とサポートブラケット35からなる目皿板9が挟持される。ここで、従来の流動層装置では、原料容器4と給気ユニット5との間の気密接合部は図11のような構成となっているため、どうしても目皿板の端面が装置外に臨んだ形となる。このため、目皿板の外端部に微小な漏れが生じる可能性があり、室内空気の流入や製品曝露などのおそれがあった。これに対し、当該流動層装置は、気密接合部63に断面コの字形の目皿シール84を採用し、その凹溝89に目皿板9を収容する構成となっているため、目皿板9が端面までシールされ、目皿板9の外端部には全く漏れは生じない。従って、気密接合部63の気密性が向上し、室内空気の流入や製品曝露を効果的に防止することが可能となる。
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施例は、粉粒体にコーティング処理を施すための流動層装置を示したが、粉粒体を造粒する装置あるいは乾燥する装置にも本発明は適用可能である。また、前述の実施例では、気密接合部62において、外側に固定シール76を採用した構成を示したが、気密接合部61と同様に外側もUシールとしても良い。但し、気密接合部62は、原料容器4を押し上げて気密接合部を形成する構成のため、Uシール75の上下移動クリアランスを適正に確保するには、外側のシールが固定シールである方が好ましい。一方、気密接合部61に関しても外側に固定シールを採用することは可能である。但し、この場合、流動層装置を処理可能な状態にセットしたとき、フィルタケーシング2とスプレーケーシング3との間に固定シールが介在することになる。このため、非接触のクリアランスLが存在する場合に比して、装置がハンドリングしづらくなるおそれがあり、両方ともUシールである方が好ましい。
さらに、前述の流動層装置では、自動洗浄装置として、回転ノズル26と固定ノズル46を用いたものを採用した例を示したが、洗浄手段はこれには限定されず、超音波洗浄装置やバブリング装置を処理容器1内に配置し、容器内を溜め洗いする構成なども採用可能である。

Claims (3)

  1. 筒状に形成された複数のユニットからなる処理容器と、前記ユニット間に設けられ前記処理容器内の気密性を保持する気密接合部とを有する流動層装置であって、
    前記気密接合部は、前記ユニットの周方向に沿って延設された第1シール部と、前記第1シール部の径方向外側に設けられ、該ユニットの周方向に沿って延びる第2シール部とを有すると共に、
    接合される前記ユニットのうち一方側の前記ユニットの端部に形成され、前記第1シール部を構成する第1シール部材が収容可能な第1シール溝と、前記第2シール部を構成する第2シール部材が収容可能な第2シール溝とを備えたシール部材取付部と、
    接合される前記ユニットのうち他方側の前記ユニットの端部に形成され、前記シール部材取付部と対向し、前記第1及び第2シール部材が密接可能なシール受け部と、を有し、
    前記第1シール溝に該シール溝の内部と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記第1シール部材は、前記第1シール溝内にて上下方向に移動可能に設置されると共に前記第1シール溝から前記シール受け部に向かって出没し、
    前記第1シール部材は、前記給気口を介して前記第1シール溝内に気体を供給することにより下方に移動して前記シール受け部に密接し前記気密接合部の気密性が保持される一方、前記給気口を介して前記第1シール溝内を吸引することにより前記第1シール部材が上方に移動して前記シール受け部から離脱し前記気密接合部の気密性が解除され、該第1シール部材の出没により、前記気密接合部の気密性の保持と解除が切り換えられ、
    前記第2シール溝に該シール溝の内部と連通する給気口を設け、前記給気口を介して気体を給排気することにより、前記第2シール部材を前記第2シール溝内にて上下方向に移動可能に設置し
    前記第2シール部材は、前記給気口を介して前記第2シール溝内に気体を供給することにより下方に移動して前記シール受け部に密接し前記気密接合部の気密性が保持される一方、前記給気口を介して前記第2シール溝内を吸引することにより前記第2シール部材が上方に移動して前記シール受け部から離脱し前記気密接合部の気密性が解除されることを特徴とする流動層装置。
  2. 請求項1記載の流動層装置において、前記流動層装置は、
    粉粒体処理時にあっては、前記第1シール部の気密性を保持し、
    前記処理容器内の洗浄時にあっては、第2シール部の気密性を保持しつつ前記第1シール部の気密性を解除することを特徴とする流動層装置。
  3. 請求項1又は2記載の流動層装置において、前記処理容器は、
    処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケーシングユニットと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングユニットと、被処理物が収容される原料容器ユニットと、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備え、
    前記フィルタケーシングユニットと前記スプレーケーシングユニットとの間の気密接合部に前記気密接合部を配し、前記第1及び第2シール部気密性の保持と解除自在に切り換え可能としたことを特徴とする流動層装置。
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