WO2007088839A1 - 近赤外線吸収フィルム - Google Patents

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WO2007088839A1
WO2007088839A1 PCT/JP2007/051461 JP2007051461W WO2007088839A1 WO 2007088839 A1 WO2007088839 A1 WO 2007088839A1 JP 2007051461 W JP2007051461 W JP 2007051461W WO 2007088839 A1 WO2007088839 A1 WO 2007088839A1
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WO
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infrared absorbing
mass
film
infrared
layer
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Application number
PCT/JP2007/051461
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kenichi Mori
Koji Ito
Akira Yoshmi
Original Assignee
Toyo Boseki Kabushiki Kaisha
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/008—Triarylamine dyes containing no other chromophores
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments

Definitions

  • the present invention relates to an optical film that absorbs near-infrared rays, and more particularly to a near-infrared absorbing film that is excellent in durability with little change in color tone at high temperatures.
  • An optical film having the ability to absorb near-infrared rays has a property of blocking near-infrared rays and allowing visible light to pass therethrough, and is used in various applications.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-82219
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-138203
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-214427
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-264278
  • Patent Document 5 JP 2002-303720 A
  • Patent Document 6 JP 2002-333517 A
  • Patent Document 7 JP 2003-82302 A
  • Patent Document 8 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-96040
  • Patent Document 9 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-114323
  • Some of these methods have the ability to sufficiently block the near-infrared rays emitted by the plasma display force, and have little change over time even when used for a long time.
  • An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and has a large and near-infrared absorption range and a high durability, particularly moisture and heat resistance. It is providing the near-infrared absorption film which is excellent in.
  • the near-infrared absorbing film of the present invention that has solved the above-described problems has the following configuration.
  • the first invention is a near-infrared absorbing film in which a near-infrared absorbing layer made of a composition mainly composed of a near-infrared absorbing dye and a resin is provided on a transparent substrate, wherein the composition
  • a near-infrared absorbing film characterized by containing either a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfuryl) imidoic acid compound.
  • a second invention is the near-infrared absorbing film according to the first invention, characterized in that the near-infrared absorbing dye contains a diin-molymide compound.
  • the third invention is characterized in that the di-in-molybdenum salt compound is a di-in-molymum salt compound having bis (trifluoromethanesulfol) imide acid as a counter ion.
  • the near-infrared absorbing film described in the second invention is characterized in that the di-in-molybdenum salt compound is a di-in-molymum salt compound having bis (trifluoromethanesulfol) imide acid as a counter ion.
  • the fourth invention is a trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfonyl) imidoic acid compound S ionic liquid, and 0.1 mass in the near infrared absorption layer. % Or more and 10.0% by mass or less.
  • the near-infrared absorbing film according to any one of the first to third inventions.
  • a near-infrared absorbing dye as a near-infrared absorbing dye, a cyanine dye having a counter ion of a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compound,
  • a sixth invention is the near-infrared absorbing film according to any one of the first to fifth inventions, wherein the resin constituting the near-infrared absorbing layer is an acrylic resin.
  • the near-infrared absorbing film of the present invention When the near-infrared absorbing film of the present invention is installed on the front surface of the plasma display as a near-infrared absorbing filter, it absorbs unnecessary near-infrared rays emitted from the display, similar to the conventional near-infrared absorbing filter. In addition, it can not only prevent malfunction of precision equipment, but also can greatly reduce the change in color tone due to heat, which can contribute to the high image quality of plasma displays and the degree of freedom in designing optical filters. There is an advantage that increases.
  • the transparent substrate is not particularly limited, but preferably has a total light transmittance of 80% or more and a haze of 5% or less. If the substrate is inferior in transparency, the sharpness of the image will be poor simply by reducing the brightness of the display.
  • a transparent substrate for example, polyester-based, acrylic-based, cellulose-based, polyethylene-based, polypropylene-based, polyolefin-based, polyvinyl chloride-based, polycarbonate, phenol-based, urethane-based plastic films, etc. Or, a sheet, glass, and a laminate of any two or more of these may be mentioned.
  • a polyester film having a good balance between heat resistance and flexibility is preferable, and a polyethylene terephthalate film is more preferable.
  • a polyester film suitable as a transparent substrate for use in the present invention is an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid, isophthalic acid or naphthalenedicarboxylic acid or an ester thereof as a dicarboxylic acid component, and ethylene as a glycol component.
  • Glycol, diethylene Polyester chips obtained by subjecting glycol, 1,4 butanediol, neopentyl glycol, etc. to the esterification reaction or transesterification reaction and then polycondensation reaction are dried and then melted in an extruder. It is a film produced by stretching an unstretched sheet obtained by extruding into a sheet shape in at least one axial direction, followed by heat setting treatment and relaxation treatment.
  • the film is particularly preferably a biaxially stretched film from the viewpoint of strength and the like.
  • the stretching method include a tubular stretching method, a simultaneous biaxial stretching method, a sequential biaxial stretching method, and the like, but a sequential biaxial stretching method is preferable in view of flatness, dimensional stability, thickness unevenness, and the like.
  • the sequential biaxially stretched film is, for example, roll-stretched 2.0 to 5.0 times in the longitudinal direction at a glass transition temperature (Tg) to (Tg + 30 ° C) of the polyester in the longitudinal direction. After preheating at 120 ⁇ 150 ° C, stretch in width direction by 1.2 ⁇ 5.0 times.
  • biaxial stretching after biaxial stretching, it can be produced by heat-setting at a temperature of 220 ° C. or higher (melting point 10 ° C.) and then relaxing by 3 to 8% in the width direction.
  • a longitudinal relaxation treatment may be used in combination.
  • the particles to be included in the film include inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, etc., heat resistant polymers such as acrylic, PMMA, nylon, polystyrene, polyester, benzoguanamine formalin condensate, etc. Particles.
  • the content of particles in the film is small. For example, it is preferably 1 ppm or more and lOOO ppm or less.
  • the film may contain a light resistance agent (ultraviolet ray prevention agent), a coloring matter, an antistatic agent, etc. in order to impart various functions as necessary.
  • the near-infrared absorbing dye due to ultraviolet rays incident from the outside is likely to deteriorate, so that the ultraviolet ray is absorbed in the transparent substrate. It is preferable to contain an agent.
  • the ultraviolet absorber is roughly classified into an organic ultraviolet absorber and an inorganic ultraviolet absorber. From the viewpoint of ensuring lightness, it is desirable to use organic UV absorbers (low molecular type, high molecular type)
  • the organic ultraviolet absorber (low molecular weight type) is not particularly limited.
  • Examples thereof include zotriazole series, benzophenone series, cyclic imino ester series, and combinations thereof. Of these, benzotriazoles and cyclic iminoesters are preferred from the viewpoint of durability, and UV absorbers with a decomposition temperature of 290 ° C or higher are required in order to withstand the temperature during substrate production. It is desirable to use it.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably adjusted so that the transmittance at a wavelength of 380 nm or less is 10% or less so that the photodegradation of the near-infrared absorbing layer can be suppressed.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.1 to 4% by mass, more preferably 0.3 to 2% by mass in the transparent substrate. If the amount of the ultraviolet absorber is too small, the ultraviolet absorbing ability is decreased, and if it is too large, the film may be yellowed or the film-forming property of the film may be deteriorated.
  • the transparent substrate used in the present invention may be a single layer film or a composite film of two or more layers in which a surface layer and a center layer are laminated.
  • a composite film there is an advantage that the functions of the surface layer and the center layer can be designed independently. For example, by adding particles only to a thin surface layer and forming irregularities on the surface, maintaining the ringing property, while maintaining the thickness V, the center layer does not substantially contain particles. The transparency of the film as a whole can be further improved.
  • imparting ultraviolet absorbing ability by adding an ultraviolet absorber only to the center layer, it is possible to reduce deposition of the ultraviolet absorber on the film surface during film production or over time.
  • the method for producing the composite film is not particularly limited. However, in consideration of productivity, the raw material of the surface layer and the central layer are extruded by different extruder forces, and after being led to one die, an unstretched sheet is obtained. In particular, lamination by a so-called coextrusion method, in which at least one axis is oriented, is particularly preferable.
  • the thickness of the transparent substrate varies depending on the material.
  • the lower limit is preferably 35 ⁇ m or more, more preferably 50 ⁇ m or more.
  • the upper limit of thickness Is preferably 260 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less.
  • the thickness is small, not only the handling property is poor, but also when heating is performed so that the residual solvent of the near infrared ray absorbing layer is reduced during drying, the film is likely to be heat-stained and the flatness tends to be poor. Yes.
  • the thickness is large, there is a problem in terms of cost, and when the film is wound and stored in a roll shape, flatness defects due to curling tend to occur.
  • the near-infrared absorbing filter of the present invention also has a constitutional power obtained by laminating a near-infrared absorbing layer on a transparent substrate, but for the purpose of improving the adhesion between the transparent substrate and the near-infrared absorbing layer and improving the transparency of the transparent substrate. It is preferable to provide an intermediate layer. In the case where particles are not included in the film, a high degree of transparency can be obtained while maintaining the sealing properties by providing an intermediate layer containing particles at the time of film production.
  • Examples of the resin constituting the intermediate layer include polyester resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, acrylic resin, melamine resin, and the like. It is important to select such that the adhesiveness with the absorbing layer is good. Specifically, if the resin constituting the substrate and the near-infrared absorbing layer is acrylic, acrylic or copolymer polyester It is preferable to select a polyester urethane system.
  • the intermediate layer may contain a crosslinking agent to form a bridge structure for the purpose of improving adhesion and water resistance.
  • a crosslinking agent examples include urea, epoxy, melamine, and isocyanate.
  • the effect of the cross-linking agent is remarkable when the whitening and the strength of rosin are reduced at high temperatures and high humidity.
  • a graft copolymer resin having self-crosslinking property may be used as the resin.
  • the intermediate layer may contain various particles for the purpose of forming irregularities on the surface and improving the slipperiness.
  • the particles contained in the intermediate layer include silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, and other inorganic particles, acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, benzoguanamine 'formalin condensate, and the like.
  • Organic particles From the viewpoint of transparency, it is preferable to select particles having a refractive index close to that of the resin used.
  • surfactants in order to impart various functions to the intermediate layer, surfactants, antistatic agents, dyes, purple It may contain external line absorbents.
  • the intermediate layer may be a single layer if it has the desired function, but it may be laminated in two or more layers as required.
  • the thickness of the intermediate layer is not particularly limited as long as it has a desired function.
  • It is preferably 01 ⁇ m or more and 5 m or less.
  • the thickness is small, the function as an intermediate layer is hardly exhibited, and conversely, when it is thick, transparency tends to be poor.
  • the method of providing the intermediate layer is preferably a coating method.
  • a coating method a film manufacturing process using a known coating method such as a gravure coating method, a kiss coating method, a dip method, a spray coating method, a curtain coating method, an air knife coating method, a blade coating method, or a reverse roll coating method.
  • the film can be provided by an in-line coating method in which a coating layer is provided, or an offline coating method in which a coating layer is provided after film production.
  • the in-line coating method power S is excellent in terms of cost. By including particles in the coating layer, it is not necessary to include particles in the transparent base material, so the transparency is highly improved. Preferred because it can.
  • the near-infrared absorbing filter of the present invention is provided with a near-infrared absorbing layer made of a composition mainly containing a near-infrared absorbing dye and a resin on a transparent substrate directly or via an intermediate layer.
  • a near-infrared absorbing layer made of a composition mainly containing a near-infrared absorbing dye and a resin on a transparent substrate directly or via an intermediate layer.
  • the above-mentioned “mainly containing near-infrared absorbing dye and rosin” means that the composition contains 80% by mass or more of near-infrared absorbing dye and rosin.
  • a near-infrared absorbing dye is a dye having a maximum absorption in the near-infrared region with a wavelength of 800 to 1200 nm, and is a diimonium-based, phthalocyanine-based, dithiol metal complex-based, naphthalocyanine-based, azo , Polymethine, anthraquinone, naphthoquinone, pyrylium, thiopyrylium, squarylium, croconium, tetradehycholine, triphenylmethane, cyanine, azo, amyl, etc. Can be mentioned.
  • zymoyu salt compounds represented by
  • R1 to R8 in the above formula (1) include (a) methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, ter-butyl group, n-amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-cyanopropyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, Alkyl groups such as butoxychetyl groups, (b) aryl groups such as phenyl groups, fluorophenyl groups, chlorophenol groups, tolyl groups, jetylaminophenol, naphthyl groups, (c) vinyl Groups, probe groups, butyr groups, pentyl groups and other alkenyl groups, (d) benzyl groups, p-fluorobenz
  • R9 to 12 hydrogen, fluorine, chlorine, bromine, a jetylamino group, a dimethylamino group, a cyano group, a nitro group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a trifluoromethyl group, a methoxy group Ethoxy group, propoxy group and the like.
  • X represents fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion, perchlorate ion, hexafluoroantimonate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, bis ( (Trifluoromethanesulfol) imido ion and the like.
  • This di-in-moum salt compound is commercially available, for example, Nippon Kayaku
  • diin-moum salt compound having a bis (trifluoromethanesulfo) imido ion as a counter ion among the above-mentioned commercially available di-in-moum salt compounds, Kayaso manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. rb IRG—068, Nippon Carlit CIR—1085, CIR—1085F, CIR—RL are shown in column f.
  • the near-infrared absorbing film of the present invention is not limited to the dimonium salt-based compound represented by the above formula (1), but for the purpose of expanding the absorption region in the near-infrared region and adjusting the color tone. Near-infrared absorbing dyes can also be added.
  • Other near-infrared absorbing dyes that can be used in combination with the diimmonium salt compounds include phthalocyanine compounds, dithiol metal complex compounds, cyanine compounds, naphthaphthal cyanine compounds, squarylium salt compounds, pyrylium salts. Compounds, thioperyllium compounds, chrome compounds, indoor phosphorus chelate dyes, indonaphthol chelate dyes, azo dyes, azo chelate dyes, amidium salt dyes, quinone dyes, anthraquinones Dyes, polymethine dyes, trimethane dyes, and the like.
  • phthalocyanine-based compounds and dithiol-based metal complex-based compounds with less deterioration of the dye itself under high temperature and high humidity are preferable.
  • the diin-molybdenum salt compound that deteriorates by acting as a quencher as well as poor temporal stability of transmittance in the near-infrared region. Turns yellow.
  • phthalocyanine dyes manufactured by Nippon Shokubai IR-1, R-2, IR-3, IR-4, IR-10, IR— 10A, IR—12, IR—14
  • Shina dyes from Asahi Denki TZ—111, 114, 119, 121, 123
  • Nickle complex dyes from Midori Daigaku MIR—101
  • MIR-111, MIR-121, MIR-102, MIR-1011, MIR-1021 a cyanine dye manufactured by Yamada Chemical
  • YKR-2900 a cyanine dye manufactured by Yamamoto Kasei
  • Phthalocyanine dyes YKR-3070, YKR-3081
  • a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfol) imidoic acid compound is preferred in terms of improving heat and moisture resistance and heat resistance.
  • a cyanine dye which is an ion is preferred.
  • CY-40MC (F), CYP4646 (F) manufactured by Nippon Kayaku or TZ-109D manufactured by Asahi Denka Kogyo are listed as commercial products.
  • the amount of the near-infrared absorbing dye is controlled in the thickness direction of the near-infrared absorbing layer in order to control the target absorption in the near-infrared region and the transmittance in the visible light region.
  • the amount of the near-infrared absorbing dye is small, the absorption ability in the near-infrared region is insufficient, and conversely, if it is large, the transparency in the visible light region is insufficient and the brightness of the display decreases. .
  • the method of laminating the near-infrared absorbing layer on the transparent substrate includes a method in which a near-infrared absorbing dye and a resin are melted by heating and provided on the transparent substrate, or a near-infrared absorbing dye. And a coating method in which rosin is dissolved in an organic solvent, coated on a transparent substrate, dried and laminated. Uniformity in the width direction and flow direction of the near-infrared absorbing layer is easy to obtain. V, coating method is preferred.
  • the resin used in the near-infrared absorbing layer is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve or disperse the near-infrared absorbing dye, but polyester, acryl, polyamide, polyurethane System, polyolefin, and polycarbonate resin can be suitably used. Of these, acrylic resin having excellent heat resistance is preferred. Furthermore, it is preferable that the glass transition temperature of the resin is higher than the guaranteed use temperature of the equipment to be used.
  • the glass transition temperature of the resin is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the device use temperature, but it is particularly preferably 85 ° C or higher and 160 ° C or lower.
  • the glass transition temperature 3 ⁇ 4 in accordance with JIS K7121 using the differential scanning calorimetry (DSC)
  • DSC differential scanning calorimetry
  • the glass transition temperature of the resin used in the near-infrared absorbing layer is less than 85 ° C, the interaction between the dye and the resin, the interaction between the dyes, and the like occur, and the modification of the dye tends to occur. Also, if the glass transition temperature exceeds 160 ° C, the resin must be heated to a high temperature if the resin is dissolved in a solvent and sufficiently dried when applied on a transparent substrate. Poor flatness due to stains, and further deterioration of the pigment occurs. In addition, when dried at a low temperature, the drying time is long and the productivity deteriorates, resulting in poor productivity. In addition, there is a possibility that sufficient drying cannot be performed, so that the solvent remains in the coating film, the apparent glass transition temperature of the resin decreases as described above, and similarly, the dye is easily modified.
  • the acrylic resin having a high glass transition temperature has a problem that the near-infrared absorbing layer having poor flexibility is likely to be cracked by impact or bending. As described later, it becomes possible to impart flexibility by including an ionic liquid in the near infrared absorption layer.
  • the amount of the near-infrared-absorbing dye in the near-infrared absorbing layer is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the resin. If the amount of near-infrared absorbing dye in the coconut resin is small, it is necessary to increase the coating amount of the near-infrared absorbing layer to achieve the target near-infrared absorbing ability. If this is the case, it is necessary to use a high temperature and Z or a long time, and deterioration of the pigment and poor flatness of the substrate tend to occur.
  • the amount of near-infrared absorbing dye in the coconut resin is large, the interaction between the dyes becomes strong, and even if the amount of residual solvent in the near-infrared absorbing layer is reduced, the dye will change with time. Is likely to occur.
  • the near-infrared absorbing layer is formed by applying a coating liquid containing a near-infrared absorbing dye, a resin, and an organic solvent on a transparent substrate and drying it.
  • a coating liquid containing a near-infrared absorbing dye, a resin, and an organic solvent on a transparent substrate and drying it.
  • a surfactant By containing a surfactant, the coating appearance of the near-infrared absorbing layer, in particular, dents due to minute bubbles and adhesion of foreign matter, etc., is recessed, and repellency in the drying process is improved.
  • the surfactant bleeds and localizes on the surface by coating and drying, so that the addition of a surfactant with a low HLB provides slipperiness as well as improved durability, and a near-infrared absorbing layer. Or, even if surface irregularities are not formed on Z and the opposite surface, the handleability is good, and it is easy to take a roll.
  • the surfactant known ones such as cationic, arion, and nonone surfactants can be suitably used.
  • the surfactant has a polar group in terms of problems such as deterioration with a near-infrared absorbing dye.
  • a zo-on type is preferred, and a silicon-type or fluorine-type surfactant excellent in surface activity is preferred.
  • Silicon surfactants include dimethyl silicon, amino silane, acrylic silane, beryl benzyl silane, butyl benzyl amino silane, glycid silane, mercapto silane, dimethyl silane, polydimethyl siloxane, polyalkoxy siloxane, hydrogen modifying agent.
  • Siloxane Bull modified siloxane, Vitro modified siloxane, Amino modified siloxane, Carboxyl modified siloxane, Halogenated modified siloxane, Epoxy modified Siloxane, Methacryloxy modified siloxane, Mercapto modified siloxane, Fluorine modified siloxane, Alkyl group modified siloxane, Phenol modified Examples thereof include siloxane and alkylene oxide-modified siloxane.
  • Fluorosurfactants include tetrafluoroethylene, perfluoroalkyl ammonium salt, perfluoroalkyl sulfonic acid amide, perfluoroalkyl sulfonic acid sodium, perfluoro.
  • Alkyl potassium salt perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl ethylene oxide adduct, monofluoroalkyltrimethylammonium salt, perfluoro Examples thereof include alkylamino sulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkylalkyl compounds, perfluoroalkylalkyl betaines, and perfluoroalkyl halides.
  • the content of the surfactant is preferably 0.01% by mass or more and 2.00% by mass or less with respect to the resin constituting the near infrared absorption layer.
  • the surfactant content is low
  • the effect of improving the appearance of coating and imparting slipperiness is insufficient, and conversely, if it is large, the near-infrared absorbing layer tends to absorb moisture, and the deterioration of the pigment may be promoted.
  • the HLB of the surfactant is preferably 2 or more and 12 or less.
  • the lower limit value of HLB is preferably 3, particularly preferably 4.
  • the upper limit value of HLB is preferably 11, particularly preferably 10.
  • HLB is the WC Griffir ⁇ SHydorophil Lyophile Balance of Atlas Powder, USA, and is a value obtained by indexing the balance between hydrophilic group and lipophilic group contained in the surfactant molecule as a characteristic value. The lower the value, the more lipophilic, and the higher the value, the higher the hydrophilicity.
  • the near-infrared absorption layer contains at least one of trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfonyl) imidoic acid compound. It is.
  • the above-mentioned compound it is possible to reduce deterioration of near-infrared absorbing dyes, in particular, diin-molybdenum compounds due to heat.
  • the above-mentioned compound exchanges ions with the counter ion of the di-in-molym salt compound in the coating solution or after drying to stabilize the di-in-mum salt compound. It is estimated.
  • trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfol) imidoic acid compound it is contained in other pigments It is considered that the heat and heat resistance and heat resistance are improved because the low molecular weight counter ion is prevented from ion-exchange with the counter ion of the diin-molybdenum compound.
  • known compounds can be used as the trifluoromethanesulfonic acid compound, such as lithium trifluoromethanesulfonate, lithium trifluoromethanesulfonate, trifluoromethanesulfone.
  • trifluoromethanesulfonic anhydride zinc trifluoromethanesulfonate, ammonium trifluoromethanesulfonate, yttrium trifluoromethanesulfonate, gadolinium trifluoromethanesulfonate, potassium trifluoromethanesulfonate, trifluoride
  • fluoromethanesulfonic acid 3,5 dichloro-1-1-fluoropyridy-um
  • trifluoromethanesulfonic acid 2,2,2-trifluoroethyl trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate
  • sodium trifluoromethanesulfonate sodium trifluoromethanesulfonate.
  • Bis (trifluoromethanesulfol) imidic acid compounds include lithium bis (trifluoromethanesulfol) imidate, silver bis (trifluoromethanesulfol) imidate, bis (trifluoromethanesulfol).
  • bis (perfluoroalkanesulfonyl) imide acids and tris (perfluoroalkanesulfonyl) methides are also used as structures similar to bis (trifluoromethanesulfonyl) imide acid compounds. If it is industrially available, it can be used.
  • near-infrared-absorbing dye power other than diyne-molybdenum compound is trifluor.
  • Either a rhomethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfol) imidic acid may be used as a counter ion.
  • the power of which the content is constrained by the optical properties if necessary, other trifluoromethanesulfonic acid compounds or bis (trifluoromethanesulfonic acid) imide acid compounds, If you add a separate one ,.
  • either trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfonyl) imidoic acid compound is contained in the near-infrared absorbing layer in an amount of 0.1% by mass or more. It is preferable to contain 0% by mass or less. When the compound is less than 0.1% by mass, the effect of improving heat resistance is obtained. On the other hand, when the amount of the compound exceeds 10% by mass, there arises a problem that haze increases due to poor solubility.
  • the near-infrared absorbing layer can contain the ionic liquid so that the near-infrared ray is contained. It is possible to reduce deterioration of near-infrared absorbing pigments, particularly diyne-molybdenum compounds due to heat, only by improving the flexibility of the absorbing layer. By adding a large amount of ion to the near-infrared absorbing layer, it can act as a plasticizer to give flexibility, and ion exchange with the counter ion of the di-in-molybdenum compound to stabilize it. To do.
  • the low molecular weight counterion contained in the other dyes may be the di-in-moum salt compound. This prevents heat exchange and counter-ion of the ions.
  • the ionic liquid is a liquid salt composed solely of cation ions.
  • the ion component containing a fluorine atom contained easily obtains a low melting point ion compound and easily imparts the flexibility of the near-infrared absorbing layer.
  • the counter ion of the diyne-molybdate compound is bis (trifluoromethanesulfol) imidic acid
  • the same counter ion can be used to improve the moist heat resistance and heat resistance.
  • Specific examples of the cationic species include imidazolium and pyridinium. It is possible to impart an antistatic effect to the near-infrared absorbing layer by using nitrogen-containing sulfur, sulfur-containing and phosphorus-containing materials.
  • the ionic liquid as described above may be a commercially available product, but can also be synthesized as follows.
  • the method of synthesizing the ionic liquid is not particularly limited as long as the desired ionic liquid can be obtained, but in general, the document "The Forefront and Future of Ionic Liquid Development" [Published by CMC Publishing Co., Ltd.]
  • the halide method, the hydroxide method, the acid ester method, the complex formation method, the neutralization method, and the like are used.
  • the content of the ionic compound is preferably 0.1% by mass or more and 10.0% by mass or less in the near-infrared absorbing layer. If it is less than 1% by mass, the effect of improving heat resistance and imparting flexibility due to the inclusion of the ionic liquid is manifested. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, it will precipitate on the surface of the near-infrared absorbing layer and the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive tends to be lowered.
  • the near-infrared absorbing layer is preferably laminated by applying and drying a coating liquid containing a resin, a near-infrared absorbing dye, and a surfactant on a transparent substrate.
  • the coating solution needs to be diluted with an organic solvent because of coating properties.
  • Examples of the organic solvent include (1) alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, and 2-methylcyclohexyl alcohol.
  • alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, and 2-methylcyclohexyl alcohol.
  • Glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, etc.
  • a ketone having excellent dye solubility is contained in an amount of 30% by mass or more and 80% by mass or less based on the total organic solvent used in the coating solution.
  • Other organic solvents are preferably selected in consideration of leveling properties and drying properties.
  • the boiling point of the organic solvent is preferably 60 ° C or higher and 180 ° C or lower. When the boiling point is low, the solid content concentration of the coating solution changes during coating, and the coating thickness is difficult to stabilize. On the other hand, when the boiling point is high, the amount of organic solvent remaining in the coating film increases, resulting in poor temporal stability.
  • Examples of the method for dissolving or dispersing the near-infrared absorbing dye and rosin in an organic solvent include stirring, dispersion and pulverization under heating. Heating can improve the solubility of pigments and rosins, and hinders the appearance of the coating due to undissolved substances. Further, by dispersing and pulverizing to disperse the resin and the pigment in the coating solution in a fine particle state of 0.3 m or less, a layer having excellent transparency can be formed.
  • the disperser and pulverizer known ones can be used.
  • a ball mill a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a homomixer, a pearl mill, a wet jet mill, Paint shaker, butterfly mixer, planetary mixer, Henschel mixer, etc.
  • contamination or undissolved material of 1 ⁇ m or more is present in the coating solution, the appearance after coating becomes unsatisfactory, so it is necessary to remove it with a filter or the like before coating.
  • a filter it is preferable to use a filter that removes 99% or more of a force having a size of Lm that can be suitably used.
  • the solid content concentration of the resin and pigment contained in the coating solution is preferably 10% by mass or more and 30% by mass.
  • the solid content concentration is low, it takes time to dry after coating, resulting in poor productivity and increased amount of solvent remaining in the coating film, resulting in poor stability over time.
  • the solid content concentration is high, the viscosity of the coating solution becomes high and the leveling properties are insufficient. Appearance is poor. It is preferable to adjust the solid content concentration, the organic solvent, etc. so that the viscosity of the coating solution is in the range of lOcps or more and 300 cps or less, which is preferable in terms of coating appearance.
  • a gravure coating method As a method of laminating the near-infrared absorbing layer on the transparent substrate by a coating method, a gravure coating method, a kiss coating method, a dip method, a spray coating method, a curtain coating method, an air knife coating method, a blade
  • Conventional methods such as a coating method, a reverse roll coating method, a no-coat method, and a lip coating method can be applied.
  • a gravure coating method that can be uniformly applied, particularly a reverse gravure method is preferable.
  • the diameter of the gravure is preferably 80 mm or less. When the diameter is large V, the frequency of undulations in the flow direction increases.
  • the coating amount after drying of near-infrared absorption layer is not particularly limited, the lower limit is LgZm 2 virtuous preferable, more preferably 3GZm 2
  • the upper limit is more preferably preferably instrument is 50GZm 2 is 30gZm 2. If the coating amount after drying is small, the near-infrared absorbing power tends to be insufficient. Therefore, increasing the amount of near-infrared-absorbing dyes in the coconut resin shortens the distance between the dyes, thereby strengthening the interaction between the dyes. As a result, the deterioration of the dye is likely to occur, and the temporal stability becomes poor. On the contrary, when the coating amount after drying is large, the near-infrared absorbing ability is sufficient, but the transparency in the visible light region is lowered and the brightness of the display is lowered.
  • the optical characteristics can be adjusted, but drying tends to be insufficient. As a result, the aging stability of the dye becomes poor due to the residual solvent in the coating film. On the other hand, when the drying is sufficient, the flatness of the substrate becomes poor.
  • Examples of the method for applying the coating liquid on the transparent substrate and drying include known hot air drying, infrared heaters, etc., but the drying speed is fast and hot air drying is preferred.
  • drying is preferably performed using hot air of 20 mC to 80 C and 2 mZ seconds to 30 mZ seconds.
  • hot air hot air temperature is high and hot air volume is large
  • the surface active agent is localized on the surface. Minor defects of the coating such as fine coat strips, fine repellencies, cracks, etc. are easily generated.
  • the initial drying is weak (the hot air temperature is low, the hot air volume is small), the appearance will be good but the Not only does the drying time take place, there are problems in terms of cost, but also problems such as brushing occur.
  • a surfactant is not added to the coating solution, the above-mentioned minute defects occur and it is necessary to quickly weaken the initial drying.
  • the preferred temperature is 120 ° C or higher and 180 ° C or lower.
  • the lower limit is 140 ° C and the upper limit is 170 ° C.
  • the temperature is low, the solvent in the coating film decreases and becomes a residual solvent, resulting in insufficient stability of the dye over time.
  • the near-infrared-absorbing dye is deteriorated by heat, as well as the flatness of the base material is deteriorated due to heat.
  • the transit time is preferably 5 seconds or more and 180 seconds or less.
  • the upper limit of the passage time is particularly preferably 30 seconds from the viewpoint of productivity and flatness.
  • the hot air temperature is lower than the glass transition temperature of the resin and the actual temperature of the base material is lower than the glass transition temperature of the resin in a flat state.
  • slippage may be poor when the coated surface comes into contact with the roll surface, causing not only scratches but also curling and the like.
  • the near infrared absorbing film is a film having a low transmittance in the near infrared region of 800 to 1200 nm and a high transmittance in the visible light region of 400 nm to 800 nm.
  • the transmittance is high, the absorption of near-infrared rays emitted from the plasma display camera is insufficient, and malfunction of electronic equipment using the near-infrared remote control cannot be prevented.
  • the transmittance can be adjusted depending on the type of the near infrared absorbing dye and the amount of the near infrared absorbing dye per unit area.
  • the +10.0 and b values are preferably from 10.0 to +10.0. If it is within this range, Even when installed on the front of the mdisplay, it is preferable because it is a natural color.
  • the method for adjusting the color tone can be achieved by the type of the above-mentioned near-infrared absorbing dye, the amount of the near-infrared absorbing dye per unit area, and further mixing with other dyes.
  • an adhesive layer colored on the front or back surface of the near-infrared absorbing film described later and bonding it to other members such as an electromagnetic wave prevention film, an antireflection film, or glass, as an optical filter it is preferable to adjust the color tone so that it becomes a natural color.
  • a defect having a diameter of 300 m or more, more preferably 100 m must be avoided. Defects longer than 300 m become like bright spots when placed in front of a plasma display, making them more noticeable. Defects of 100 ⁇ m or more and less than 300 m may be emphasized due to the lens effect, etc., due to the adhesion of adhesive strength, etc., and should be avoided as much as possible. Also, thin coating layers, streaks, unevenness, etc., become prominent on the front surface of the display and become problems.
  • the near-infrared absorbing film does not change the transmittance of near-infrared rays or the transmittance of visible light even when left for a long period of time under high temperature and high humidity. If the temporal stability under high temperature and high humidity is poor, the color of the display image may change, and the effect of the present invention for preventing malfunction of electronic equipment using a near infrared remote controller may be lost. .
  • the stability over time it varies depending on the type of pigment resin and additives, but the type of organic solvent used in the coating liquid, the thickness of the coating layer, the drying conditions, etc. should be controlled.
  • the amount of residual solvent in the near-infrared absorbing layer is preferably as small as possible, but is preferably 3% by mass or less. If the amount is 3% by mass or less, there is substantially no difference in stability over time.
  • problems such as poor filter flatness occur. Decreases.
  • other functions may be imparted to the surface where the near infrared absorption layer is not provided.
  • Specific examples include an antistatic layer, an easy adhesion layer, an easy slip layer, an antireflection layer, and an electromagnetic wave prevention layer.
  • an antistatic layer By providing an anti-reflection layer and an anti-electromagnetic wave layer, the number of optical filter members can be reduced. The image quality of the spray can be improved.
  • the antistatic layer can reduce the adhesion of dust in a later process, and can reduce micro defects and improve the yield during manufacturing.
  • the easy-adhesion layer can improve the adhesion when bonded to other members with an adhesive, and the easy-slip layer can improve the handleability.
  • the antistatic agent used for the antistatic layer a known antistatic agent can be used.
  • the antistatic layer is added to the near infrared absorbing layer.
  • NON-IR absorbing dyes, especially diimmonium salt compounds, may deteriorate due to contact, so that the cation-type surfactants of cation and quaternary ammonia salts can be used. It is necessary to contain a ⁇ -conjugated conductive polymer.
  • the ⁇ -conjugated conductive polymer may improve the temporal stability on the contrary to not promoting the deterioration of the near-infrared absorbing dye, in particular, the diimmonium salt.
  • ⁇ Conjugated conductive polymers include aniline and ⁇ or derivatives thereof, pyrrole and ⁇ or derivatives thereof, isothianaphthene and ⁇ or derivatives thereof, acetylene and ⁇ or derivatives thereof, thiophene and ⁇ or derivatives thereof, etc. Is mentioned. Of these, thiophene and cocoon, or their derivatives, which are less colored are preferred.
  • a conductive layer is provided directly or via an adhesive on the same or opposite surface as the infrared ray absorbing layer. May be.
  • the conductive layer must have a metal mesh conductive layer with an aperture ratio of 50% or more. If the aperture ratio of the metal mesh is low, the electromagnetic wave shielding property is good, but there is a problem that the light transmittance is lowered.For this reason, an aperture ratio of 50% or more is necessary to obtain a good light transmittance. .
  • a metal foil having high electrical conductivity is etched to form a mesh, a woven mesh using metal fibers, or a metal fiber on the surface of polymer fibers.
  • a fiber attached using a method such as Meki may be used.
  • the metal used for the electromagnetic wave absorbing layer may be any metal as long as it has high electrical conductivity and good stability, and is not particularly limited. However, from the viewpoint of workability and cost, it is preferable that the metal be used. Nickel, tungsten, etc. are preferable.
  • the transparent conductive layer may be any conductive film, but preferably Is preferably a metal oxide. As a result, a higher visible light transmittance can be obtained.
  • the transparent conductive layer when it is desired to improve the conductivity of the transparent conductive layer, it is preferably a repeating structure of three or more layers of metal oxide Z metal Z metal oxide. Conductivity can be obtained while maintaining a high visible light transmittance by multilayering the metal.
  • the metal oxide may be any metal oxide as long as it has conductivity and visible light transmittance. Examples include tin oxide, indium oxide, indium tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, and bismuth oxide. The above is an example and is not particularly limited. Further, the metal layer used in the present invention is preferably gold, silver or a compound containing them from the viewpoint of conductivity.
  • the thickness of the silver layer is preferably 50 to 200 A force S, more preferably 50 to LOOA.
  • the film thickness is thicker than this, the light transmittance decreases, and when it is thin, the resistance value increases.
  • the thickness of the metal oxide layer is preferably 100 to 100 ⁇ ⁇ ⁇ , more preferably 100 to 50 ⁇ . If it is thicker than this, it will be colored and its color will change, and if it is light, the resistance will increase.
  • the thickness of the central metal oxide is The thickness of the other metal oxide layer is preferably thicker. By doing so, the light transmittance of the entire multilayer film is improved.
  • the antireflection layer has a function of preventing surface reflection and preventing reflection of a fluorescent lamp or the like.
  • the method for imparting the antireflection function can be arbitrarily selected without limitation. For example, a method in which layers having different refractive indexes are laminated on the surface of a base material and the interference is reduced by using interference of reflected light at the interface between the layers. And a method of providing irregularities on the surface.
  • the method for forming the antireflection film of this method the following two methods can be roughly mentioned. One method is to form an antireflection film on the surface of the substrate by vapor deposition or sputtering. The other method is to apply an antireflection coating solution to the surface of the substrate and dry it. In this method, an antireflection film is formed. Generally speaking, the former is superior in terms of antireflection properties and the latter is superior in terms of economy. In the present invention, either method may be used. [0095] (Optical filter)
  • the optical filter is installed in front of the plasma display, cuts near infrared rays and electromagnetic waves generated from the display, and prevents reflection and improves color reproduction for improving the visibility of the display. It has functions such as improvement of display properties, and further has a function of protecting the display.
  • optical filter is a structure in which an antireflection film, glass, an electromagnetic wave prevention film, and a near infrared absorption film are bonded together with an adhesive.
  • a color correction function and a color reproducibility improvement function it is preferable to provide a color correction function and a color reproducibility improvement function.
  • the use of a composite film having different functions on the same surface or the opposite surface of the film can reduce the number of members and reduce the weight. It is a form.
  • a direct attachment filter that is directly attached to a panel of a plasma display without using glass in order to reduce the weight and improve the image quality is also a preferred embodiment.
  • a spectrophotometer (Hitachi U-3500 type), in the wavelength range of 1100 to 200 nm, the near-infrared absorbing layer side was irradiated with light, and indoor air was measured as a reference for transmittance.
  • the color tone after standing for 500 hours in an atmosphere of temperature 60 ° C and humidity 95% was measured, and the amount of change ⁇ , Ay before and after treatment was obtained.
  • the film was cut to a width of 10 mm and wound around a metal rod with the near infrared absorption layer on the outside, and the presence or absence of cracks in the near infrared absorption layer was confirmed. Twenty metal rods with a diameter of 1 to 20 mm and lm m intervals were used, and the smallest diameter was used as the evaluation value of flexibility without cracking.
  • Dried UV absorber (Cytech, CYASORB UV— 3638; 2, 2 '— (1,4-Fu-len) bis (4H— 3, 1-benzoxazine mono-4-one)) 10 parts by mass, particles 90 parts by weight of polyethylene terephthalate (PET) resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., ME553) was mixed, and a master batch was prepared using a kneading extruder. The extrusion temperature at this time was 285 ° C, and the extrusion time was 7 minutes.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a coating solution for forming an easy-adhesion layer was prepared according to the following method.
  • a reaction vessel was charged with 95 parts by mass of dimethyl terephthalate, 95 parts by mass of dimethyl isophthalate, 35 parts by mass of ethylene glycol, 145 parts by mass of neopentyl dallicol, 0.1 part by mass of zinc acetate and 0.1 part by mass of antimony trioxide.
  • the transesterification was carried out at 180 ° C for 3 hours.
  • 6.0 parts by mass of 5-sodium sulfoisophthalic acid was added, an esterification reaction was performed at 240 ° C. for 1 hour, and then a polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin.
  • Intrinsic viscosity 0.62dlZg, particle-free PET resin pellet (Toyobo Co., Ltd., ME553) 90 parts by mass and UV absorber-containing masterbatch 10 parts by mass at 135 ° C for 6 hours under reduced pressure (lTorr) and then fed to the extruder.
  • the melt temperature of the extruder, kneading section, polymer tube, gear pump, and filter were 280 ° C, and the subsequent polymer tube was 275 ° C, and extruded from the die in sheet form.
  • Each of these polymers was filtered using a filter medium made of a sintered stainless steel (nominal filtration accuracy: 95% cut of particles of 10 ⁇ m or more).
  • the flat die was designed to have a resin temperature of 275 ° C.
  • the extruded resin was cooled and solidified by casting on a casting drum (roll diameter 400 ⁇ , RaO. 1 ⁇ m or less) with a surface temperature of 30 ° C using an electrostatic application casting method to produce an unstretched film.
  • the discharge rate at this time was 48 kgZhr, and the obtained unstretched sheet had a width of 300 mm and a thickness of 1400 ⁇ m.
  • the cast film was heated to 100 ° C using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a difference in peripheral speed.
  • a uniaxially oriented film was obtained.
  • the surface roughness of the rolls was controlled to 0.1 ⁇ m or less with Ra, and a mouth cleaner was installed at the preheating inlet and the cooling roll in the longitudinal stretching process.
  • the roll diameter in the longitudinal stretching process was 150 mm, and the film was brought into close contact with the roll using a sac- tion roll, electrostatic contact, and part-part contact devices.
  • the coating solution for forming an easy-adhesion layer was microfiltered with a felt type polypropylene filter medium having a filtration particle size (initial filtration efficiency: 95%) of 25 ⁇ m, applied to both sides by a reverse roll method, and dried.
  • the end of the film is gripped with a clip, guided to a hot air zone heated to 130 ° C, dried, stretched 4.0 times in the width direction, and heat-treated at 230 ° C for 5 seconds.
  • the substrate film (B) was obtained by 3% relaxation treatment in the width direction.
  • the fi The rumm thickness is 100 / zm
  • the coating amount of the easy-adhesion layer at this time is 0.01 g / m.
  • the transmittance of the obtained film at a wavelength of 380 nm was 4%, and it had excellent ultraviolet absorption. Further, the total light transmittance was 91% and the haze was 0.6%, and the transparency was excellent.
  • coating solution A viscosity: 23 cps
  • a near-infrared absorption filter was prepared by passing the sample for 20 seconds with hot air of 5 mZ seconds at 20 ° C, 20 seconds with hot air of 20 mZ seconds at 150 ° C, and 10 seconds with hot air of 2 OmZ seconds at 90 ° C.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing dyes (di-in-molybdenum salt compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of trifluoromethanesulfonic acid compounds.
  • the obtained near-infrared absorbing film has high transmittance in the visible light region where absorption in the near-infrared region is strong! In addition to heat resistance, the heat and moisture resistance was also good.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution B was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing pigments (di-in-molybdenum salt compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of trifluoromethanesulfonic acid compounds.
  • the obtained near-infrared absorbing film has high transmittance in the visible light region where absorption in the near-infrared region is strong! In addition to heat resistance, the heat and moisture resistance was also good.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution C was used.
  • coating solution C The materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare coating solution C. - Toluene 21.411 mass 0/0
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing dyes (di-in-molybdenum salt compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of trifluoromethanesulfonic acid compounds.
  • the obtained near-infrared absorbing film has high transmittance in the visible light region where absorption in the near-infrared region is strong! In addition to heat resistance, the heat and moisture resistance was also good.
  • Example 1 A near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution D was used.
  • Comparative Example 1 is an example in which a trifluoromethanesulfonic acid compound or bis (trifluoromethanesulfol) imidoic acid compound is not contained in the near infrared absorption layer.
  • coating solution D The materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare coating solution D.
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing pigments (diyne-molybdenum compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer.
  • the obtained near-infrared absorbing film had strong absorption in the near-infrared region.
  • the transmittance in the visible light region is slightly lower than in Examples 1 to 3 in which trifluoromethanesulfonic acid compound (I compound C) is contained in the near infrared absorption layer. The heat resistance was poor.
  • Example 1 lithium trifluoromethanesulfonate (compound C) contained in the near-infrared absorbing layer was mixed with bis (trifluoromethanesulfol) imidic acid compound (compound).
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the product was changed to product D).
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution E was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution F was used.
  • Comparative Example 2 is an example in which the near-infrared absorbing layer does not contain a trifluoromethanesulfonic acid compound or a bis (trifluoromethanesulfol) imidoic acid compound.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more.
  • the coating solution F was prepared by removing undissolved substances with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m.
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing pigments (di-in-molybdenum compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer.
  • the obtained near-infrared absorbing film had strong absorption in the near-infrared region, but was inferior in heat and humidity resistance (particularly Ay) and heat resistance.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution G was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more.
  • the coating solution G was prepared by removing undissolved substances with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m.
  • Table 1 shows the types of near-infrared absorbing dyes (di-in-molybdenum salt compounds) to be included in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of trifluoromethanesulfonic acid compounds.
  • the obtained near-infrared absorbing film has high transmittance in the visible light region where absorption in the near-infrared region is strong! In addition to heat resistance, the heat and moisture resistance was also good.
  • a near-infrared absorbing film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution H was used. Obtained.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution I was used.
  • coating solution I The materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare coating solution I.
  • Phenol range in-moum salt with antimony hexafluoride as counter ion
  • Cyanine dye (compound F) with bis (trifluoromethanesulfol) imidic acid as counter ion
  • Dried UV absorber (Cytech, CYASORB UV-3638; 2, 1, 4-phenol) bis (4H— 3, 1-benzoxazinone 4-one) 90 parts by mass of polyethylene terephthalate (PET) resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., ME553) was mixed, and a master batch was prepared using a kneading extruder. The extrusion temperature at this time was 285 ° C, and the extrusion time was 7 minutes.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a coating solution for forming an easy-adhesion layer was prepared according to the following method.
  • a reaction vessel was charged with 95 parts by mass of dimethyl terephthalate, 95 parts by mass of dimethyl isophthalate, 35 parts by mass of ethylene glycol, 145 parts by mass of neopentyl dallicol, 0.1 part by mass of zinc acetate and 0.1 part by mass of antimony trioxide.
  • the transesterification was carried out at 180 ° C for 3 hours.
  • 6.0 parts by mass of 5-sodium sulfoisophthalic acid was added, an esterification reaction was performed at 240 ° C. for 1 hour, and then a polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin.
  • Intrinsic viscosity 0.62dlZg, particle-free PET resin pellet (Toyobo Co., Ltd., ME553) 90 parts by mass and UV absorber-containing masterbatch 10 parts by mass at 135 ° C for 6 hours under reduced pressure (lTorr) and then fed to the extruder.
  • the temperature of the resin to the extruder melt section, kneading section, polymer tube, gear pump, and filter was 280 ° C, and the subsequent polymer tube was 275 ° C.
  • Each of these polymers was filtered using a stainless steel sintered filter medium (nominal filtration accuracy: 95% cut of particles of 10 ⁇ m or more).
  • the flat die was designed to have a resin temperature of 275 ° C.
  • the extruded resin was struck onto a casting drum (roll diameter 400 ⁇ , RaO. 1 ⁇ m or less) with a surface temperature of 30 ° C using an electrostatic application casting method to cool and solidify, thereby producing an unstretched film.
  • the discharge rate at this time was 48 kgZhr, and the obtained unstretched sheet was 300 mm wide and 1400 ⁇ m thick.
  • the cast film was heated to 100 ° C using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a difference in peripheral speed. Thus, a uniaxially oriented film was obtained.
  • the surface roughness of the roll was controlled to be 0.1 ⁇ m or less with Ra, and a mouth cleaner was installed at the preheating inlet and the cooling roll in the longitudinal stretching step.
  • the roll diameter in the longitudinal stretching process was 150 mm, and the film was brought into close contact with the roll using a sac- tion roll, electrostatic contact, and part-part contact equipment.
  • the coating solution for forming an easy-adhesion layer was microfiltered with a felt type polypropylene filter medium having a filtration particle size (initial filtration efficiency: 95%) of 25 ⁇ m, applied to both sides by a reverse roll method, and dried.
  • the end of the film is gripped with a clip, guided to a hot air zone heated to 130 ° C, dried, stretched 4.0 times in the width direction, and heat-treated at 230 ° C for 5 seconds.
  • the substrate film (B) was obtained by 3% relaxation treatment in the width direction.
  • the film thickness is 100 / zm, and the coating amount of the easy adhesion layer at this time is 0.01 g / m 2.
  • the transmittance of the obtained film at a wavelength of 380 nm was 4%, and it had excellent ultraviolet absorption. Further, the total light transmittance was 91% and the haze was 0.6%, which was excellent in transparency.
  • the following coating 3 ⁇ 4J (viscosity of 23 cps) was applied on the above intermediate coating layer by reverse using a slanted gravure with a diameter of 60 cm so that the transmittance at 950 nm was 4.3% after drying at 40 ° C.
  • a near-infrared absorption filter was prepared by passing the sample for 20 seconds with hot air of 5 mZ seconds, 20 seconds with hot air of 20 mZ seconds at 150 ° C, and 10 seconds with hot air of 2 OmZ seconds at 90 ° C. (Coating for near-infrared absorbing layer! 3 ⁇ 4 [)
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating basket.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating solution K was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating solution L was used.
  • coating solution L The materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare coating solution L.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating solution M was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • Table 3 shows the types of near-infrared absorbing pigments (diimonium salt compounds) in the near-infrared absorbing layer.
  • Table 4 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film with strong absorption in the near infrared region was obtained. Although the transmittance in the visible light region was slightly lower than that of Example 8 to which ionic liquid was added: L0, a film was obtained. Heat resistance and flexibility were poor.
  • Example 8 a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the type of the ionic liquid was changed to the following ionic liquid G.
  • Ionic liquid G n-Butyl-3-methylpyridinum tetrafluoroborate
  • Table 3 shows the types of near-infrared absorbing dyes (diimonium salt compounds) in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of ionic liquids.
  • Table 4 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film with high transmittance in the visible light region with strong absorption in the near infrared region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also good.
  • Example 8 a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the type of the ionic liquid was changed to the following ionic liquid H.
  • Ionic liquid H N, N, N-trimethyl-N-propylammonum bis (trifluoromethanesulfol) imide
  • Table 3 shows the types of near-infrared absorbing pigments (diimonium salt compounds) in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of ionic liquids.
  • Table 4 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film having strong absorption in the near infrared region was obtained. The heat resistance was inferior to that of Example 8, but better than Comparative Example 4. Also, the flexibility was good.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating solution P was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Next, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • a near-infrared absorbing film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the following coating solution Q was used.
  • the materials of the coating solution were mixed at the following mass ratio and stirred for 30 minutes or more. Subsequently, the undissolved material was removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 ⁇ m to prepare coating solution Q.
  • Table 3 shows the types of near-infrared absorbing dyes (diimonium salt compounds) in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of ionic liquids.
  • Table 4 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film with high transmittance in the visible light region with strong absorption in the near infrared region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also good.
  • Example 13 A near-infrared absorbing film was prepared in the same manner as in Example 8 except that a reflective film (manufactured by NOF Corporation, Realak 7700S) was used as the transparent substrate, and a near-infrared absorbing layer was laminated on the opposite side of the antireflection layer Obtained.
  • a reflective film manufactured by NOF Corporation, Realak 7700S
  • Table 3 shows the types of near-infrared absorbing dyes (diimonium salt compounds) in the near-infrared absorbing layer and the types and contents of ionic liquids.
  • Table 4 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film with high transmittance in the visible light region with strong absorption in the near infrared region was obtained. Moreover, heat resistance and flexibility were also good.
  • dyes A and B, compounds D, G, and H mean the following compounds.
  • the near-infrared absorbing film of the present invention When the near-infrared absorbing film of the present invention is installed on the front surface of the plasma display as a near-infrared absorbing filter, it absorbs unnecessary near-infrared rays emitted from the display in the same manner as a conventional near-infrared absorbing filter. In addition, it can not only prevent malfunction of precision equipment, but also can greatly reduce the change in color tone due to heat, which can contribute to the high image quality of plasma displays and the degree of freedom in designing optical filters. Is above It is important to contribute to the industry.

Abstract

【課題】近赤外領域を大きく、かつ幅広く吸収するとともに、耐久性、特に耐湿熱性や耐熱性に高度に優れる近赤外線吸収フィルムを提供する。 【解決手段】透明基材上に、近赤外線吸収色素、樹脂から主に構成される組成物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にトリフルオロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸化合物のいずれかを含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。

Description

近赤外線吸収フィルム
技術分野
[0001] 本発明は、近赤外線を吸収する光学フィルムに関するものであり、詳しくは高温時 の色調変化が少なぐ耐久性に優れる近赤外線吸収フィルムに関するものである。 背景技術
[0002] 近赤外線の吸収能を有する光学フィルムは、近赤外線を遮断し、可視光を通過さ せる性質を有しており、各種の用途に使用されている。
近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている力 プ ラズマディスプレイカゝら放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子 機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に上記の近赤外線 吸収能を有するフィルムが使用されている。
[0003] 近赤外線の吸収能を有するフィルムとしては、（1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの 金属イオンを含有、（2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定 の波長を透過させる干渉フィルター、 （3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系 榭脂フィルム、（4)榭脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルム、が提案さ れている。
これらの中で (4)のフィルムは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比 較的大きぐ各種の方法が提案されている（特許文献 1〜9参照)。
特許文献 1 特開 2002— 82219号公報
特許文献 2特開 2002— 138203号公報
特許文献 3特開 2002— 214427号公報
特許文献 4特開 2002— 264278号公報
特許文献 5特開 2002— 303720号公報
特許文献 6特開 2002— 333517号公報
特許文献 7特開 2003— 82302号公報
特許文献 8特開 2003— 96040号公報 特許文献 9：特開 2003 - 114323号公報
[0004] これらの方法の中には、プラズマディスプレイ力 放出される近赤外線を十分に遮 断する能力を有し、かつ、長時間の使用でも経時変化の少ないものがある。
一方、ディスプレイの軽量ィ匕ゃ高画質ィ匕の為に、ガラスを使用せずに近赤外線吸 収フィルムを含む光学フィルターをプラズマディスプレイのパネルに貼り合せる方式 が提案されて 、る。この方式では近赤外線吸収フィルムにディスプレイの熱が伝わり 易ぐ耐湿熱性や耐熱性に優れる近赤外線吸収フィルムが要望されて 、る。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 本発明の目的は、前記の従来技術の課題を解決するためになされたものであり、 近赤外領域を大きぐかつ幅広く吸収するとともに、耐久性、特に耐湿熱性や耐熱性 に高度に優れる近赤外線吸収フィルムを提供することにある。
課題を解決するための手段
[0006] 前記の課題を解決することができた本発明の近赤外線吸収フィルムは、以下の構 成からなる。
[0007] 第 1の発明は、透明基材上に、近赤外線吸収色素、榭脂から主に構成される組成 物からなる近赤外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物 中にトリフルォロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)ィ ミド酸化合物のいずれかを含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。
[0008] 第 2の発明は、近赤外線吸収色素がジインモ-ゥム塩ィ匕合物を含むことを特徴とす る第 1の発明に記載の近赤外線吸収フィルムである。
[0009] 第 3の発明は、ジインモ-ゥム塩ィ匕合物がビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸を対イオンとするジインモ-ゥム塩ィ匕合物であることを特徴とする第 2の発明に記載 の近赤外線吸収フィルムである。
[0010] 第 4の発明は、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物またはビス（トリフルォロメタンス ルホニル)イミド酸ィ匕合物力 Sイオン性液体であり、近赤外線吸収層中に 0. 1質量％以 上 10. 0質量％以下含有されていることを特徴とする第 1〜3の発明のいずれかに記 載の近赤外線吸収フィルムである。 [0011] 第 5の発明は、近赤外線吸収色素として、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物また はビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物を対イオンとするシァニン色素が 、近赤外線吸収層中に 0. 1質量％以上 10. 0質量％以下含有されていることを特徴 とする第 1〜3の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルムである。
[0012] 第 6の発明は、近赤外線吸収層を構成する榭脂がアクリル系榭脂であることを特徴 とする第 1〜5の発明のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルムである。
発明の効果
[0013] 本発明の近赤外線吸収フィルムを近赤外線吸収フィルタ一としてプラズマディプレ ィの前面に設置した場合、従来の近赤外線吸収フィルターと同様に、ディスプレイか ら放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけで なぐ熱による色調の変化を大幅に低減することができるため、プラズマディスプレイ の高画質ィ匕に寄与することができるとともに、光学フィルターの設計の自由度が上が るという利点がある。
発明を実施するための最良の形態
[0014] 以下、本発明を詳細に説明する。
(透明基材）
本発明において、透明基材は特に限定されるものではないが、全光線透過率が 80 %以上で、かつヘイズが 5%以下であることが好ましい。基材が透明性に劣る場合に は、ディスプレイの輝度を低下させるだけでなぐ画像のシャープさが不良となる。
[0015] このような透明基材としては、例えばポリエステル系、アクリル系、セルロース系、ポ リエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフイン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネー ト、フエノール系、ウレタン系等のプラスチックフィルム又はシート、ガラス及びこれらの 任意の 2種類以上を貼り合わせたものが挙げられる。好ましくは、耐熱性、柔軟性の バランスが良好なポリエステル系フィルムであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレ 一トフイルムである。
[0016] 本発明で用いる透明基材として好適なポリエステル系フィルムとは、ジカルボン酸 成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカ ルボン酸又はそのエステルと、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレン グリコール、 1、 4 ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどをエステル化反応 又はエステル交換反応を行 ヽ、次 、で重縮合反応させて得たポリエステルチップを 乾燥後、押出機で溶融し、 Tダイカゝらシート状に押し出して得た未延伸シートを少なく とも 1軸方向に延伸し、次いで熱固定処理、緩和処理を行うことにより製造されるフィ ルムである。
[0017] 前記のフィルムは、強度等の点から、二軸延伸フィルムが特に好ま U、。延伸方法 としては、チューブラ延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が挙げられるが、 平面性、寸法安定性、厚みムラ等から逐次二軸延伸法が好ましい。逐次二軸延伸フ イルムは、例えば、長手方向にポリエステルのガラス転移温度 (Tg)〜(Tg + 30°C) で、 2. 0〜5. 0倍に長手方向にロール延伸し、引き続き、テンターで予熱後 120〜1 50°Cで 1. 2〜5. 0倍に幅方向に延伸する。さらに、二軸延伸後に 220°C以上 (融点 10°C)以下の温度で熱固定処理を行い、次いで幅方向に 3〜8%緩和させること によって製造することができる。また、フィルムの長手方向の寸法安定性をさらに改善 するために、縦弛緩処理を併用してもよい。
[0018] フィルムには、ハンドリング性 (例えば、積層後の卷取り性)を付与するために、粒子 を含有させてフィルム表面に突起を形成させることが好まし 、。フィルムに含有させる 粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼォライト、アルミナ、等 の無機粒子、アクリル、 PMMA、ナイロン、ポリスチレン、ポリエステル、ベンゾグアナ ミン'ホルマリン縮合物、等の耐熱性高分子粒子が挙げられる。透明性の点から、フィ ルム中の粒子の含有量は少ないことが好ましぐ例えば lppm以上 lOOOppm以下で あることが好ましい。さらに、透明性の点から使用する榭脂と屈折率の近い粒子を選 択することが好ましい。また、フィルムには必要に応じて各種機能を付与するために、 耐光剤 (紫外線防止剤)、色素、帯電防止剤などを含有させてもよい。
[0019] 本発明において、近赤外線吸収層を積層する面の反対面に反射防止層を設ける 場合、外部から入射する紫外線による近赤外線吸収色素が劣化しやすくなる為、透 明基材内に紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。
[0020] 紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤に大別される が、透 明性の確保の観点からは有機系紫外線吸収剤 (低分子タイプ、高分子タイプ)の使 用が望
ましい。有機系紫外線吸収剤 (低分子タイプ)としては特に限定されないが、例えば ベン
ゾトリアゾール系、ベンゾフエノン系、環状ィミノエステル系など、およびこれらの組み 合わせが挙げられる。これらの中で、耐久性の観点からはべンゾトリアゾール系、環 状イミノエステル系が好ましぐ更に基材製造時の温度に耐えるために分解温度が 2 90°C以上の紫外線吸収剤を使用することが望ましい。
[0021] 紫外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸収層の光劣化を抑制できる様に、 380nm 以下の波長における透過率が 10%以下となるように調整することが好ましい。具体的 には、紫外線吸収剤の含有量は、透明基材中に 0. 1〜4質量％であることが好ましく 、 0. 3〜2質量％であることがより好ましい。紫外線吸収剤量が少なすぎると紫外線 吸収能が小さくなり、多すぎるとフィルムが黄変する場合や、フィルムの製膜性が低下 する場合があるので好ましくな 、。
[0022] 本発明で用いる透明基材は、単層フィルムであっても、表層と中心層を積層した 2 層以上の複合フィルムであっても構わない。複合フィルムの場合、表層と中心層の機 能を独立して設計することができる利点がある。例えば、厚みの薄い表層にのみ粒子 を含有させて表面に凹凸を形成することでノヽンドリング性を維持しながら、厚みの厚 V、中心層には粒子を実質上含有させな 、ことで、複合フィルム全体として透明性をさ らに向上させることができる。また、紫外線吸収能を付与する場合、中心層のみに紫 外線吸収剤を含有させることで、フィルム製造時や経時での紫外線吸収剤のフィル ム表面への析出を低減することができるため、近赤外線吸収層への耐熱性の劣化等 の悪影響を抑制できる。前記の複合フィルムの製造方法は特に限定されるものでは ないが、生産性を考慮すると、表層と中心層の原料を別々の押出機力 押出し、 1つ のダイスに導き未延伸シートを得た後、少なくとも 1軸方向に配向させる、いわゆる共 押出法による積層が特に好ましい。
[0023] 透明基材の厚みは素材により異なる力 ポリエステルフィルムを用いる場合には、 下限は 35 μ m以上が好ましぐより好ましくは 50 μ m以上である。一方、厚みの上限 は 260 μ m以下が好ましぐより好ましくは 200 μ m以下である。厚みが薄い場合に は、ハンドリング性が不良となるばかりか、近赤外線吸収層の残留溶媒を少なくなるよ うに乾燥時に加熱した場合に、フィルムに熱シヮが発生して平面性が不良となりやす い。一方、厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなぐロール状に巻き取 つて保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。
[0024] (中間層）
本発明の近赤外線吸収フィルターは、透明基材上に近赤外線吸収層を積層した 構成力もなるが、透明基材と近赤外線吸収層の密着性の向上や透明基材の透明性 向上を目的に中間層を設けることが好ましい。なお、フィルム中に粒子を含有させな い場合、粒子を含有する中間層をフィルム製造時に同時に設けることにより、ノ、ンドリ ング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
[0025] 前記中間層を構成する榭脂としては、ポリエステル系榭脂、ポリウレタン榭脂、ポリ エステルウレタン榭脂、アクリル系榭脂、メラミン榭脂などが挙げられるが、基材およ び近赤外線吸収層との密着性が良好である様に選択することが重要であり、具体的 には、基材及び近赤外線吸収層を構成する榭脂がアクリル系であれば、アクリル系、 共重合ポリエステル系、ポリエステルウレタン系を選定することが好ましい。
[0026] 前記中間層には、密着性の向上、耐水性の向上を目的に架橋剤を含有させて架 橋構造を形成させても構わない。架橋剤としては、尿素系、エポキシ系、メラミン系、 イソシァネート系が挙げられる。特に、榭脂が高温 '高湿度下での白化や強度が低下 する場合には、架橋剤による効果が顕著である。なお、架橋剤を用いずに、榭脂とし て自己架橋性を有するグラフト共重合榭脂を用いてもよい。
[0027] 中間層には、表面に凹凸を形成させて滑り性を改善する目的で、各種の粒子を含 有させてもよい。中間層中に含有させる粒子としては、例えば、シリカ、カオリナイト、 タルク、炭酸カルシウム、ゼォライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、 PMMA、ナ ィロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン'ホルマリン縮合物、等の有機粒子 が挙げられる。なお、透明性の点から使用する榭脂と屈折率の近い粒子を選択する ことが好ましい。
[0028] さらに、中間層に各種機能を付与するために、界面活性剤、帯電防止剤、色素、紫 外線吸収剤等を含有させてもょ ヽ。
[0029] 中間層は目的とする機能を有する場合は単層でも構わないが、必要に応じて 2層 以上に積層しても構わな ヽ。
[0030] 中間層の厚みは、目的とする機能を有すれば特に限定されるものではないが、 0.
01 μ m以上 5 m以下が好ましい。厚みが薄い場合には中間層としても機能が発現 し難くなり、逆に、厚い場合には透明性が不良となりやすくなる。
[0031] 中間層を設ける方法としては、塗布法が好ましい。塗布法としては、グラビアコート 方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エア ナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式などの公知の塗布 方法を用いて、フィルムの製造工程で塗布層を設けるインラインコート方式、フィルム 製造後に塗布層を設けるオフラインコート方式により設けることができる。これらの方 式のうち、インラインコート方式力 Sコスト面で優れるだけでなぐ塗布層に粒子を含有 させることで、透明基材に粒子を含有させる必要がなくなるため、透明性を高度に改 善することができるため好まし 、。
[0032] (近赤外線吸収層）
本発明の近赤外線吸収フィルタ一は、透明基材上に直接あるいは中間層を介して 近赤外線吸収色素と榭脂を主に含有する組成物からなる近赤外線吸収層を設けら れている。上記の「近赤外線吸収色素と榭脂を主に含有」とは、前記組成物中に近 赤外線吸収色素と榭脂を 80質量％以上含有することを意味する。
[0033] 近赤外線吸収色素とは、波長 800〜1200nmの近赤外線領域に極大吸収を有す る色素であって、ジインモ -ゥム系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、ナフ タロシアニン系、ァゾ系、ポリメチン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系 、チォピリリウム系、スクァリリウム系、クロコニゥム系、テトラデヒドォコリン系、トリフエ- ルメタン系、シァニン系、ァゾ系、アミ-ゥム系等の化合物が挙げられる。これらの化 合物は単独で又は 2種以上を混合して使用されるが、近赤外線領域の吸収が大きく 、かつ吸収域も広ぐさらに可視光領域の透過率も高い下記の式（1)で示されるジィ ンモユウム塩ィ匕合物を含むことが好まし 、。
[0034] [化 1]
Figure imgf000009_0001
[0035] 前記の式（1)中の R1〜R8の具体例としては、（a)メチル基、ェチル基、 n—プロピ ル基、 iso—プロピル基、 n—ブチル基、 iso—ブチル基、 ter—ブチル基、 n—ァミル 基、 n—へキシル基、 n—ォクチル基、 2—ヒドロキシェチル基、 2—シァノエチル基、 3—ヒドロキシプロピル基、 3—シァノプロピル基、メトキシェチル基、エトキシェチル基 、ブトキシェチル基などのアルキル基、（b)フエ-ル基、フルオロフヱ-ル基、クロロフ ェ-ル基、トリル基、ジェチルァミノフエ-ル、ナフチル基などのァリール基、（c)ビ- ル基、プロべ-ル基、ブテュル基、ペンテ-ル基などのアルケ-ル基、（d)ベンジル 基、 p—フルォロベンジル基、 p—クロ口フエ-ル基、フエ-ルプロピル基、ナフチルェ チル基などのァラルキル基、が挙げられる。
[0036] また、 R9〜12としては、水素、フッ素、塩素、臭素、ジェチルァミノ基、ジメチルアミ ノ基、シァノ基、ニトロ基、メチル基、ェチル基、プロピル基、トリフルォロメチル基、メト キシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。
[0037] また、 X"は、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩ィォ ン、へキサフルォロアンチモン酸イオン、へキサフルォロリン酸イオン、テトラフルォロ ホウ酸イオン、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸イオンなどが挙げられる。
[0038] このジインモ-ゥム塩ィ匕合物は市販品として入手可能であり、例えば、 日本化薬製
Kayasorb IRG— 022、 IRG— 023、 IRG— 024、 IRG— 068、 日本カーリット製 CIR— 1080、 CIR— 1081、 CIR— 1083、 CIR— 1085、 CIR— 1085F、 CIR-RL などが好適である。 [0039] これらの中で、近赤外線吸収層中にトリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物またはビス (トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物を含有させることによる耐湿熱性ゃ耐 熱性の向上の点から、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸イオンを対イオンと するジインモ-ゥム塩ィ匕合物が好まし 、。
[0040] ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸イオンを対イオンとするジインモ-ゥム塩 化合物として、前記の市販のジインモ-ゥム塩ィ匕合物の中で、 日本化薬製 Kayaso rb IRG— 068、 日本カーリット製 CIR— 1085、 CIR— 1085F、 CIR—RLが f列示 される。
[0041] 本発明の近赤外線吸収フィルムは、前記の式（1)で示されるジィモ二ゥム塩系化合 物以外に、近赤外線領域の吸収域の拡大、色目の調整を目的として、他の近赤外 線吸収色素を加えることもできる。
[0042] 前記のジインモニゥム塩系化合物と併用し得る他の近赤外線吸収色素としては、フ タロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、シァニン系化合物、ナフタ口 シァニン系化合物、スクァリリウム塩系化合物、ピリリウム塩系化合物、チォペリリウム 系化合物、クロコ-ゥム系化合物、インドア-リンキレート系色素、インドナフトールキ レート系色素、ァゾ系色素、ァゾキレート系色素、アミ二ゥム塩系色素、キノン系色素 、アントラキノン系色素、ポリメチン系色素、トリフエ-ルメタン系色素などが挙げられる 。これらの中で、色素自体の高温高湿度下の劣化の少ないフタロシアニン系化合物 、ジチオール系金属錯体系化合物が好ましい。劣化しやすい色素を用いた場合に は、近赤外領域の透過率の経時安定性が不良となるだけでなぐジインモ-ゥム塩系 化合物がクェンチヤ一として作用して劣化し、近赤外線吸収フィルムが黄色く変色す る。
[0043] これらの一部は市販品として入手可能であり、例えば、 日本触媒製のフタロシア- ン系色素（IR— 1、 R— 2、 IR— 3、 IR— 4、 IR— 10、 IR— 10A、 IR— 12、 IR— 14)、 旭電ィ匕製のシ ニン系色素（TZ— 111、 114、 119、 121、 123)、みどりィ匕学製の二 ッケル錯体系色素（MIR— 101、 MIR— 111、 MIR— 121、 MIR— 102、 MIR— 10 11、 MIR— 1021)、山田化学製のシァニン系色素（IR— 301)、山本化成製のシァ ニン系色素（YKR— 2900)、フタロシア-ン系色素（YKR— 3070、 YKR— 3081) が挙げられる。
[0044] また、上記の近赤外線吸収色素の中でも、耐湿熱性や耐熱性の向上の点から、トリ フルォロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル）イミド酸ィ匕 合物を対イオンとするシァニン系色素が好ましい。例えば、市販品として、日本化薬 製の CY— 40MC (F)、 CYP4646 (F)、あるいは旭電化工業製の TZ— 109Dが挙 げられる。
[0045] 本発明にお 、て、目的とする近赤外線領域の吸収、可視光領域での透過率を制 御するために、近赤外線吸収色素の量を、近赤外線吸収層の厚み方向における任 意の面で 0. 01g/m2
以上 1. OgZm2以下と存在するように調整することが好ましい。近赤外線吸収色素 の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不足し、逆に、多い場合には 可視光領域での透明性が不足してディスプレイの輝度が低下する問題がある。
[0046] 本発明明において、近赤外線吸収層を透明基材に積層する方法としては、近赤外 線吸収色素と榭脂を加熱により溶融させて透明基材上に設ける方法、近赤外線吸収 色素と榭脂を有機溶剤に溶解し透明基材上に塗布、乾燥して積層する塗布法が挙 げられる。近赤外線吸収層の幅方向及び流れ方向の均一性が得られ易 V、塗布法が 好ましい。
[0047] 本発明において、近赤外線吸収層に用いる榭脂としては、近赤外線吸収色素を均 一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、ァ クリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフイン系、ポリカーボネート系榭脂を好 適に用いることができる。中でも耐熱性に優れるアクリル系榭脂が好ましい。さらに、 榭脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好まし ヽ
[0048] ガラス転移温度が機器使用温度以下であると、榭脂中に分散された色素同士が反 応し、あるいは榭脂が外気中の水分等を吸収して、色素やバインダ―榭脂の劣化が 大きくなる。また、本発明において、榭脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上で あれば特に限定されないが、特に好ましくは 85°C以上 160°C以下が好ましい。
[0049] なお、ガラス転移温度 ¾JIS K7121に準拠し、示差走査熱量法 (DSC)を用いて 行い、ガラス転移温度は補外ガラス転移開始温度を用いる。測定の手順は、以下の よつにした。
試料約 5mgを測定用のアルミニウム製パンに封入して示差熱量計 (MACサイェン ス DSC3100S) )〖こ装着し、窒素雰囲気下、 10°CZ分の速度で 30°Cから 200°Cま で昇温させ、 200°Cに到達後試料を取出し、直ちに急冷する。このパンを再度示差 熱量計に装着し、 30°Cから 10°CZ分の速度で昇温させてガラス転移温度
(Tg :°C)を測定する。
[0050] 近赤外線吸収層に用いる榭脂のガラス転移温度が 85°C未満の場合、色素と榭脂 との相互作用、色素間の相互作用等が起こり、色素の変性が発生しやすくなる。また 、ガラス転移温度が 160°Cを超える場合、該榭脂を溶媒に溶解し、透明基材上に塗 布する時に十分な乾燥をしょうとすれば高温にしなければならず、基材の熱シヮによ る平面性不良、更には、色素の劣化が発生する。また、低温で乾燥した場合、乾燥 時間が長く生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可 能性もあり、溶媒が塗膜中に残留し、前述のように榭脂の見かけのガラス転移温度が 低下し、同様に、色素の変性が発生しやすくなる。
[0051] また、ガラス転移温度が高いアクリル系榭脂は、柔軟性に乏しぐ近赤外線吸収層 が衝撃や曲げによりひび割れが発生しやす 、問題がある。後述するようにイオン性 液体を近赤外線吸収層中に含有することで柔軟性を付与することが可能となる。
[0052] 近赤外線吸収層における近赤外線吸収色素の量は、榭脂に対し 1質量％以上 10 質量％以下であることが好ましい。榭脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合に は、目的とする近赤外線吸収能を達成するために近赤外線吸収層の塗工量を増や す必要があり、十分な乾燥をしょうとすれば高温及び Z又は長時間にする必要があり 、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。逆に、榭脂中の近赤外 線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、近赤外線吸収層 中の残留溶媒量を少なくしたとしても色素の経時的な変性が起こりやすくなる。
[0053] 本発明において、近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素、榭脂、および有機溶媒 を含む塗布液を、透明基材上に塗布、乾燥させて形成される。この際に、前記塗布 液中に界面活性剤を含有させることが重要である。界面活性剤を含有させることによ り、近赤外線吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み 、乾燥工程でのハジキが改善される。更には、界面活性剤は塗布乾燥により表面に ブリードして局在化することにより、 HLBの低い界面活性剤を添加すると耐久性が向 上するだけでなぐ滑り性が付与され、近赤外線吸収層あるいは Z及び反対面に表 面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に卷取ることが容易に なる。
[0054] 界面活性剤は、カチオン系、ァ-オン系、ノ-オン系の公知のものを好適に使用で きるが、近赤外線吸収色素との劣化等の問題力も極性基を有して 、な ゾ-オン系 が好ましぐ更には、界面活性能に優れるシリコン系又はフッ素系界面活性剤が好ま しい。
[0055] シリコン系界面活性剤としては、ジメチルシリコン、アミノシラン、アクリルシラン、ビ- ルベンジルシラン、ビュルベンジシルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、 ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジェン変 性シロキサン、ビュル変性シロキサン、ビトロキシ変性シロキサン、ァミノ変性シロキサ ン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサ ン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、 アルキル基変性シロキサン、フエ-ル変性シロキサン、アルキレンォキシド変性シロキ サンなどが挙げられる。
[0056] フッ素系界面活性剤としては、 4フッ化工チレン、パーフルォロアルキルアンモ-ゥ ム塩、パーフルォロアルキルスルホン酸アミド、パーフルォロアルキルスルホン酸ナト リウム、パーフルォロアルキルカリウム塩、パーフルォロアルキルカルボン酸塩、パー フルォロアルキルスルホン酸塩、パーフルォロアルキルエチレンォキシド付加物、ノ 一フルォロアルキルトリメチルアンモ -ゥム塩、パーフルォロアルキルアミノスルホン 酸塩、パーフルォロアルキルリン酸エステル、パーフルォロアルキルアルキル化合物 、パーフルォロアルキルアルキルべタイン、パーフルォロアルキルハロゲン化物など が挙げられる。
[0057] 界面活性剤の含有量は、近赤外線吸収層を構成する榭脂に対して 0. 01質量％ 以上 2. 00質量％以下であることが好ましい。界面活性剤の含有量が少ない場合に は、塗工外観の向上や滑り性付与の効果が不足し、逆に、多い場合には近赤外線 吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の劣化が促進される場合がある。
[0058] 本発明において、界面活性剤の HLBは 2以上 12以下であることが好ましい。 HLB の下限値は好ましくは 3であり、特に好ましくは 4である。一方、 HLBの上限値は好ま しくは 11であり、特に好ましくは 10である。 HLBが低い場合には、表面が撥水化して 耐湿熱による色素の劣化を抑えることができ、かつ、易滑性を付与しやすいが、低す ぎる場合には、界面活性能の不足によりレべリング性が不十分となる傾向がある。逆 に、 HLBが高い場合には、滑り性が不足するだけでなぐ近赤外線吸収層が水分を 吸収しやすくなり、色素の経時安定性が不良となりやすい。
[0059] なお、 HLBとはアメリカの Atlas Powder社の W. C. Griffir^SHydorophil Lyo phile Balanceと名付けて界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバラ ンスを特性値として指標化した値でこの値が低 ヽほど親油性が、逆に高 ヽほど親水 '性が高くなる。
[0060] 近赤外線吸収層の表面への界面活性剤の局在化は、榭脂の種類や溶剤による異 なるが、 HLBの値が 7付近で最も起こりやすぐかつ、初期の乾燥が緩やかである方 が起こりやすい。局在化の度合いは、 ESCAを用いて測定した近赤外線吸収層の表 面近傍の界面活性剤の量と、化学分析法にて測定した近赤外線吸収層中の界面活 性剤の量を対比することにより評価することができる。
[0061] 本発明にお 、て、近赤外線吸収層中にトリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物または ビス（トリフルォロメタンスルホニル)イミド酸ィ匕合物の ヽずれかを含有させることが重 要である。前記の化合物を含有させることで、近赤外線吸収色素、特に、ジインモ- ゥム塩ィ匕合物の熱による劣化を低減することが可能となる。作用機構は明確ではな いが、前記の化合物がジインモ-ゥム塩ィ匕合物の対イオンと塗布液中あるいは乾燥 後にイオン交換し、ジインモ-ゥム塩ィ匕合物を安定ィ匕させると推定している。ジインモ ユウム塩ィ匕合物の対イオン力 トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物またはビス（トリフ ルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物の場合は、他の色素ゃ榭脂に含有される低 分子量の対イオンがジインモ-ゥム塩ィ匕合物の対イオンとイオン交換するのを抑制す るため、耐湿熱性や耐熱性が向上すると考えられる。 [0062] 本発明にお!/、て、トリフルォロメタンスルホン酸化合物としては、公知のものが使用 可能であり、トリフルォロメタンスルホン酸リチウム、トリフルォロメタンスルホン酸力リウ ム、トリフルォロメタンスルホン酸銀、トリフルォロメタンスルホン酸無水物、トリフルォロ メタンスルホン酸亜鉛、トリフルォロメタンスルホン酸アンモ-ゥム、トリフルォロメタン スルホン酸イットリウム、トリフルォロメタンスルホン酸ガドリニウム、トリフルォロメタンス ルホン酸カリウム、トリフルォロメタンスルホン酸 3, 5 ジクロロ一 1—フルォロピリジ -ゥム、トリフルォロメタンスルホン酸 2, 2, 2—トリフルォロェチル、トリフルォロメタ ンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルォロメタンスルホン酸ナトリウムが挙げられる。ビ ス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸化合物としては、ビス（トリフルォロメタンスル ホ -ル)イミド酸リチウム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸銀、ビス（トリフル ォロメタンスルホ -ル)イミド酸ナトリウム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸 カリウム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸セシウム、ビス（トリフルォロメタン スルホ -ル)イミド酸テトラメチルアンモ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミ ド酸ェチルトリメチルアンモ-ゥム、ジェチルジメチルアンモ-ゥム、ビス（トリフルォロ メタンスルホ -ル）イミド酸トリェチルメチルアンモ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスル ホ -ル)イミド酸テトラェチルアンモ-ゥム、テトラプチルアンモ-ゥム、ビス（トリフルォ ロメタンスルホ -ル）イミド酸 N, N ジメチルピロリジ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンス ルホ -ル）イミド酸 N ェチルー N—メチルピロリジ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスル ホ -ル)イミド酸 N, N ジメチルビベリジ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)ィ ミド酸 N ェチルー N—メチルビベリジ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミ ド酸テトラメチルホスホ-ゥム、テトラエチルホスホ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンスル ホ -ル)イミド酸 1 ェチル 2—メチルイミダゾリゥム、ビス (トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸 1—ェチル—2, 3—ジメチルイミダゾリ-ゥム、ビス（トリフルォロメタンス ルホニル)イミド酸 1, 2, 3, 4ーテトラメチルイミダゾリ-ゥムが挙げられる。
[0063] 本発明において、ビス（トリフルォロメタンスルホニル)イミド酸ィ匕合物に類似した構 造として、ビス（パーフルォロアルカンスルホ -ル)イミド酸類、トリス（パーフルォロア ルカンスルホニル)メチド類も工業的に入手できれば使用可能である。
[0064] 本発明にお 、て、ジインモ-ゥム塩ィ匕合物以外の近赤外線吸収色素力 トリフルォ ロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸の 、ずれ かを対イオンとしてなるものでも構わない。その場合には、光学特性から含有量を制 約される力 必要に応じて、他のトリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物またはビス（トリフ ルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物の 、ずれかを別途含有させればょ 、。
[0065] 本発明にお!/、て、トリフルォロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタン スルホニル)イミド酸ィ匕合物のいずれかを、近赤外線吸収層中に 0. 1質量％以上 10 . 0質量％以下含有させることが好ましい。前記の化合物が 0. 1質量％未満では耐 熱性の向上の効果が得られに《なる。逆に、前記の化合物が 10質量％を超える場 合には、溶解性不良によりヘイズが高くなる問題が発生する。
[0066] また、トリフルォロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル） イミド酸化合物がイオン性液体である場合、イオン性液体を近赤外線吸収層中に含 有させることで、近赤外線吸収層の柔軟性が向上するだけでなぐ近赤外線吸収色 素、特に、ジインモ-ゥム塩ィ匕合物の熱による劣化を低減することが可能となる。ィォ ンを多量に近赤外線吸収層に含有させることで、可塑剤として作用して柔軟性を付 与でき、更に、ジインモ-ゥム塩ィ匕合物の対イオンとイオン交換し安定ィ匕する。ジイン モ-ゥム塩ィ匕合物の対イオンとイオン性液体が同一の場合には、他の色素ゃ榭脂〖こ 含有される低分子量の対イオンがジインモ-ゥム塩ィ匕合物の対イオンとイオン交換を 妨げて、耐熱性が向上する。
[0067] 前記のイオン性液体は、ァ-オン、カチオンのイオンのみ力 構成される液体状の 塩である。
[0068] イオン性液体を構成するァ-オン種としては、例えば Cl_、 Br―、 Γ、 A1C1―、 Al CI
4 2
―、 BF―、 PF―、 CIO―、 NO―、 CH COO", CF COO", CH SO―、 CF SO "
7 4 6 4 3 3 3 3 3 3 3
、 (CF SO ) N―、 (CF SO ) C―、 AsF―、 SbF―、 NbF―、 TaF―、 F (HF) n―、 (
3 2 2 3 2 3 6 6 6 6
CN) N_、 C F SO _、（C F SO ) N_、 C F COO", (CF SO ) (CF CO) N—な
2 4 9 3 2 5 2 2 3 7 3 2 3 どが挙がられる。これらの中で含有フッ素原子を含むァ-オン成分は、低融点のィォ ン性ィ匕合物が得やすぐ近赤外線吸収層の柔軟性を付与し易くなる。さらに、ジイン モ-ゥム塩化合物の対イオンがビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸の場合に は、同じ対イオンを用いることで、耐湿熱性や耐熱性の向上効果が得られる。 [0069] カチオン種としては、イミダゾリゥム、ピリジ-ゥムが具体的に挙げられる。含窒素ォ ユウム、含硫黄ォ-ゥム、含リンォ-ゥムカもなるものを用いることで、近赤外線吸収 層に帯電防止効果を付与することが可能となり、好まし 、。
[0070] 前記のようなイオン性液体は、市販品を使用してもよいが、下記のようにして合成す ることも可能である。イオン性液体の合成方法としては、目的とするイオン性液体が得 られれば特に限定されないが、一般的には、文献"イオン性液体 開発の最前線と 未来一" [(株)シーエムシー出版発行]に記載されているような、ハロゲンィ匕物法、水 酸化物法、酸エステル法、錯形成法、および中和法などが用いられる。
[0071] イオン性化合物の含有量は、近赤外線吸収層中に 0. 1質量％以上 10. 0質量％ 以下含有させることが好ましい。 0. 1質量％未満ではイオン性液体含有による耐熱 性の向上や柔軟性付与の効果が発現しに《なる。逆に、 10質量％を超える場合に は、近赤外線吸収層の表面に析出して粘着剤との密着性が低下しやすくなる。
[0072] 本発明において、近赤外線吸収層は、榭脂、近赤外線吸収色素、界面活性剤を含 む塗布液を透明基材上に塗布 '乾燥することにより積層することが好ましい。該塗布 液は、塗工性より有機溶媒により希釈することが必要である。
[0073] 該有機溶媒としては、 （1)メチルアルコール、エチルアルコール、 n—プロピルアル コール、イソプロピルアルコール、 n ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シク 口へキシルアルコール、 2—メチルシクロへキシルアルコール等のアルコール類、 （2) エチレングリコーノレ、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリ コール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール類、 (3)エチレングリコーノレモノメチノレエーテル、エチレングリコーノレモノエチレンエーテ ノレ、エチレングリコーノレモノブチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノメチノレエーテ ノレ、ジエチレングリコーノレモノエチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレブチノレエーテノレ 、エチレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート、エチレングリコーノレモノェチノレア セテート、エチレングリコーノレモノブチノレアセテート、ジエチレングリコーノレモノメチノレ アセテート、ジエチレングリコーノレモノェチノレアセテート、ジエチレングリコーノレモノブ チルアセテート等のグリコールエーテル類、（4)酢酸ェチル、酢酸イソプロピレン、酢 酸 n ブチル等のエステル類、 （5)アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケ トン、シクロへキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン 類、を例示することができ、これら単独あるいは 2種以上を混合して使用することがで きる。
[0074] 好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対 し、 30質量％以上 80質量％以下含有させる。その他の有機溶媒は、レべリング性、 乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、 60°C以上 18 0°C以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し 、塗工厚みが安定ィ匕しにくい。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機 溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。
[0075] 近赤外線吸収色素および榭脂を有機溶媒中に溶解あるいは分散する方法として は、加温下での攪拌、分散及び粉砕の方法が挙げられる。加温することにより色素及 び榭脂の溶解性を向上することができ、未溶解物等による塗工外観への不良が妨げ られる。また、分散及び粉砕して榭脂及び色素を 0. 3 m以下の微粒子状態で塗布 液中に分散することにより、透明性に優れる層を形成することが可能となる。分散機 及び粉砕機としては、公知のものを用いることができ、具体的には、ボールミル、サン ドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホ モミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、 プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。
[0076] 塗布液中にコンタミや 1 μ m以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不 良になるため、塗布する前に、フィルタ一等で除去する必要がある。フィルタ一として 、各種のものが好適に使用できる力 ： L mの大きさのものを 99%以上除去するもの を用いることが好ましい。 1 μ m以上のコンタミや未溶解物を含む塗布液を塗布し乾 燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、 100〜 1000 mサイズの欠点になる 場合がある。
[0077] 塗布液中に含まれる榭脂及び色素等の固形分濃度は、 10質量％以上 30質量％ が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり、生産性が 劣るばかりか、塗膜中に残存する溶媒量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、 固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレべリング性が不足して塗工 外観が不良となる。塗布液の粘度は、 lOcps以上 300cps以下が塗工外観の面で好 ましぐこの範囲になるように固形分濃度、有機溶媒等を調整することが好ましい。
[0078] 本発明で、近赤外線吸収層を塗布法により透明基材上に積層する方法としては、 グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコ ート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、ノ 一コート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらの なかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式 が好ましい。また、グラビアの直径は、 80mm以下であることが好ましい。直径が大き V、場合には流れ方向にうねスジが発生する頻度が増える。
[0079] 近赤外線吸収層の乾燥後の塗布量は特に限定されないが、下限は lgZm2が好 ましい、より好ましくは 3gZm2
であり、上限は 50gZm2が好ましぐより好ましくは 30gZm2である。乾燥後の塗布 量が少ない場合には、近赤外線の吸収力が不足しやすくなる。そのため、榭脂中の 近赤外線吸収色素の存在量を増やすと、色素間の距離が短くなるため、色素間の相 互作用が強くなる。その結果、色素の劣化等が起こりやすくなり、経時安定性が不良 となる。逆に、乾燥後の塗布量が多い場合には、近赤外線の吸収能は十分であるが 、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。そのため、榭脂 中の近赤外線吸収色素の存在量を低減すると、光学特性は調節できるが、乾燥が 不十分になりやすくなる。その結果、塗膜中の残留溶媒により色素の経時安定性が 不良となる。一方、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。
[0080] 塗布液を透明基材上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線 ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早 、熱風乾燥が好ま U、。
塗布後の、初期の恒率乾燥の段階では、 20°C以上 80°C以下で、 2mZ秒以上 30 mZ秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。初期乾燥を強く行う（熱風温度が高 い、熱風の風量が大きい）場合には、界面活性剤の表面への局在化が起こりに《耐 久性向上や滑り性付与の効果がでにくいだけでなぐ泡由来の微小なコートヌケ、微 小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点が発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を 弱くする (熱風温度が低い、熱風の風量が小さい）場合には、外観は良好になるが乾 燥時間が掛カりコスト面で問題があるばかりか、ブラッシング等の問題が発生する。塗 布液に界面活性剤を添加しない場合には、上記の微小な欠点が発生しやすぐ初期 乾燥を力なり弱くする必要がある。
[0081] 減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温し、塗膜中の溶媒を減少させる必要が あり、好ましい温度は、 120°C以上 180°C以下である。特に好ましくは、下限値が 14 0°Cであり、上限値は 170°Cである。温度が低い場合には、塗膜中の溶媒が減少し に《なり、残留溶媒となって色素の経時的な安定性が不十分となる。逆に、高温の 場合には、熱シヮにより基材の平面性が不良となるだけでなぐ近赤外線吸収色素が 熱により劣化する。また、通過時間としては、 5秒以上 180秒以下であることが好まし い。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶媒が多くなり経時安定性が不良となり 、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなぐ基材に熱シヮが発生し て平面性が不良となる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、 30秒とする ことが特に好ましい。
[0082] 乾燥の最終では、熱風温度を榭脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基 材の実温を榭脂のガラス転移温度以下にすることが好ま 、。高温のままでは乾燥 炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が 発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。
[0083] (近赤外線吸収フィルム）
本発明において近赤外線吸収フィルムとは、 800〜1200nmの近赤外領域の透過 率が低ぐ 400nm〜800nmの可視光領域の透過率が高いフィルムのことである。近 赤外領域の透過率は低いほど好ましぐ具体的には 40%以下、より好ましくは 30% 以下である。透過率が高い場合には、プラズマディスプレイカゝら放出される近赤外線 の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができ ない。
透過率の調整としては、上述の近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたりの近赤 外線吸収色素の存在量により変更することができる。
[0084] 近赤外線吸収フィルムの色調としては、 Lab表色系で表現すると、 a値は 10. 0〜
+ 10. 0、 b値は一 10. 0〜+ 10. 0であることが好ましい。この範囲であれば、プラズ マディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。
[0085] 色調を調整する方法としては、上述の近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたり の近赤外線吸収色素の存在量、更には、他の色素の混合により達成できる。なお、 後述の近赤外線吸収フィルムの前面または裏面に着色された粘着層を用 ヽて電磁 波防止フィルム、反射防止フィルム、ガラス等の他の部材と貼り合せる場合には、光 学フィルタ一として、ナチュラル色になるように色調を調整することが好ま 、。
[0086] 近赤外線吸収層の塗工外観としては、直径 300 m以上、より好ましくは 100 m のサイズの欠点を存在しないようにしなければならない。 300 m以上の欠点は、プ ラズマディスプレイの前面に設置すると輝点の様になり、欠点が顕著化される。 100 μ m以上 300 m未満の欠点も粘着力卩ェ等の貼り合わせにより、レンズ効果等で強 調される場合があり、できるだけ存在しないようにしなかればならない。また、塗工層 の薄 、スジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。
[0087] 近赤外線吸収フィルムは、高温、高湿度下に長期間放置されても、近赤外線の透 過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温、高湿度下の経時安定性 が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコ ンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。
[0088] 経時安定性を良好にするには、色素ゃ榭脂の種類、添加剤により変化するが、塗 布液で使用する有機溶媒の種類、塗布層の厚み、乾燥条件等を制御することで近 赤外線吸収層中の残留溶媒量を低減すること、あるいは榭脂中の色素の含有量を 調整することにより良好ィ匕することができる。なお、近赤外線吸収層の残留溶媒の量 は、少なければ少ないほどよいが、 3質量％以下にすることが好ましい。 3質量％以 下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。し力しながら、さらに残留溶媒量 を低下させるために、例えば、乾燥を過酷な条件とすると、フィルターの平面性が不 良になる等の弊害が発生し、減圧乾燥のような方法では生産性が低下する。
[0089] 本発明において、近赤外線吸収層を設けていない面に、他の機能を付与しても構 わない。具体的には、帯電防止層、易接着層、易滑層、反射防止層、電磁波防止層 が挙げられる。反射防止層、電磁波防止層を設けることで、光学フィルターの部材を 減らすことができ、安価にできるだけでなぐ光の干渉する面が減少してプラズマディ スプレイの画質が向上することができる。帯電防止層は、近赤外線吸収層の形成時、 後工程でのゴミの付着を低減することができ、微小欠点の低減や製造時の歩留まり 向上することが可能となる。易接着層は粘着剤で他の部材と貼り合せた際の密着力 の向上、易滑層はハンドリング性を向上することが可能となる。
[0090] 帯電防止層に用いる帯電防止剤としては、公知のものを用いることができるが、近 赤外線吸収フィルムの製造時にロール上で巻き取った際に、近赤外線吸収層に帯 電防止層が接触し、近赤外線吸収色素、特にジインモニゥム塩ィ匕合物が劣化するこ とがある為、ァ-オン系ゃカチオン系の界面活性剤タイプや、 4級アンモ-ゥム塩の カチオン系榭脂の使用することは好ましくなぐ π共役系導電性高分子を含有するこ とが必要である。 π共役系導電性高分子は、近赤外線吸収色素、特に、ジインモ- ゥム塩の劣化を促進することがなぐ逆に、経時安定性が良好となる場合がある。 π 共役系導電性高分子としては、ァニリン及び Ζ又はその誘導体、ピロール及び Ζ又 はその誘導体、イソチアナフテン及び Ζ又はその誘導体、アセチレン及び Ζ又はそ の誘導体、チオフ ン及び Ζ又はその誘導体等が挙げられる。その中でも着色が少 な ヽチォフェン及び Ζ又はその誘導体が好まし 、。
[0091] 本発明にお ヽて、ディスプレイカゝら放出される有害電磁波を遮断する目的で、赤外 線吸収層と同一面、ないしは、反対面に導電層を直接或いは粘着剤を介して設けて もよい。該導電層は金属メッシュと導電薄膜の何れを用いても良ぐ金属メッシュを用 いた場合、開口率が 50%以上の金属メッシュ導電層を有している必要がある。金属 メッシュの開口率が低ければ電磁波シールド性は良好となるが光線透過率が低下す る問題が有る、この為、良好な光線透過率を得る為には開口率が 50%以上は必要と なる。本発明に用いられる金属メッシュとしては、電気電導性の高い金属箔にエッチ ング処理を施して、メッシュ状にしたものや、金属繊維を使った織物状のメッシュや、 高分子繊維の表面に金属をメツキ等の手法を用いて付着させた繊維を用いてもよい 。該電磁波吸収層に使われる金属は、電気電導性が高ぐ安定性が良ければいかな る金属でも良く特に限定されるものではないが、加工性、コストなどの観点より、好まし くは、銅、ニッケル、タングステンなどがよい。
[0092] また、導電薄膜を用いた場合、透明導電層はいかなる導電膜でもよいが、好ましく は、金属酸ィ匕物であることが好ましい。これによつて、より高い可視光線透過率を得る ことが出来る。また、本発明において透明導電層の導電率を向上させたい場合は、 金属酸ィ匕物 Z金属 Z金属酸ィ匕物の 3層以上の繰り返し構造であることが好ましい。 金属を多層化することで、高い可視光線透過率を維持しながら、電導性を得ることが できる。本発明に用いられる。金属酸化物は、電導性と可視光線透過性が有してい れば如何なる金属酸化物でもよい。一例として、酸化錫、インジウム酸ィ匕物、インジゥ ム錫酸化物、酸化亜鉛、酸化チタン、酸ィ匕ビスマスなどがある。以上は一例であり、 特に限定されるものではない。また、本発明に用いられる金属層は、導電性の観点よ り、金、銀及びそれらを含む化合物が好ましい。
[0093] 更に、導電層を多層化した場合、例えばくり返し層数が 3層の場合、銀層の厚さは 5 0〜200A力 S好ましく、より好ましくは 50〜： LOOAである。これよりも膜厚が厚い場合 は、光線透過率が低下し、薄い場合は抵抗値が上がってしまう。また、金属酸化物層 の厚さとしては、好ましくは、 100〜100θΑ、より好ましくは、 100〜50θΑである。こ の厚さより厚 、場合には着色して色調が変ってしま 、、薄 、場合には抵抗値が上が つてしまう。さらに、 3層以上多層化する場合、例えば、金属酸化物 Z銀 Z金属酸ィ匕 物 Z銀 Z金属酸ィ匕物のように 5層とした場合、中心の金属酸化物の厚さは、それ以 外の金属酸ィ匕物層の厚さよりも厚いことが好ましい。この様にすることで、多層膜全体 の光線透過率が向上する。
[0094] 反射防止層とは、表面反射を防ぎ、蛍光灯等の映り込みを防止する機能を有する。
該反射防止機能を付与する方法は限定させず任意に選択できるが、例えば、基材 の表面に屈折率の異なる層を積層し、該層の界面における反射光の干渉を利用して 低減する方法、表面に凹凸を付与する方法が挙げられる。該方法の反射防止膜を 形成する方法として、大きくは下記の 2つの方法が挙げられる。一つの方法は、基材 の表面に、蒸着法やスパッタリング法により反射防止膜を形成する方法であり、もう一 つの方法は、基材の表面に、反射防止用塗布液を塗布し乾燥させることにより反射 防止膜を形成する方法である。一般論としては、反射防止特性では前者が、経済性 では後者が優れていると言われている力 本発明においては、どちらの方法を用い ても構わない。 [0095] (光学フィルター）
本発明にお 、て光学フィルターとは、プラズマディスプレイの前面に設置されるもの で、ディプレイから発生する近赤外線、電磁波をカットすると共に、ディスプレイの視 認性向上の為の反射防止、色再現性の向上等の機能を有し、更には、ディスプレイ の保護の機能を有する。
[0096] 光学フィルタ一は、反射防止フィルム、ガラス、電磁波防止フィルム、近赤外線吸収 フィルムを粘着剤で貼り合せた構成が一例として挙げられ、粘着剤に紫外線吸収能
、色補正機能、色再現性の向上機能を付与することが好ましい。また、フィルムの同 一面あるいは反対面に別々の機能を付与した複合フィルムを用いることにより、部材 数の低減、軽量ィ匕を行うことができるため、コストダウンの点力 前記の複合フィルム は好ましい実施形態である。更には、軽量化、高画質化の為に、ガラスを用いず、直 接プラズマディスプレイのパネルに貼り合わせる直貼りフィルターも好ましい実施形 態である。
[0097] ガラスを用いずに直接プラズマディプレイのパネルに光学フィルターを貼り合せるこ とで、画質の向上および軽量ィ匕が可能となるが、パネルの熱が伝わり易くなるため、 高度な耐熱性が要求される。しカゝしながら、本発明の近赤外線吸収フィルムは耐熱 性に高度に優れているため、直貼りフィルター用にも好適である。
実施例
[0098] 次に本発明の実施例及び比較例を示す。また、本発明で使用した特性値の測定 方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
[0099] <塗布液粘度 >
塗布液を 20°Cに調節し、 B型粘度計 (東京計器製、 BL)を用いて、ローター回転数
60rpmにて測定した。
[0100] <透過率>
分光光度計（日立 U— 3500型）を用い、波長 1100〜200nmの範囲で、近赤外線 吸収層側に光が照射するようにして、室内の空気を透過率の参照として測定した。
[0101] <色調 >
色差計（日本電色工業製、 ZE— 2000)を用い、近赤外線吸収層側に光が照射す るようにして、 D65光源、 10度の視野角で測定した。
[0102] <耐湿熱性 >
温度 60°C、湿度 95%雰囲気中で 500時間放置した後の色調を測定し、処理前後 の色調の変化量 Δ χ、 Ayを求めた。
[0103] <耐熱性 >
温度 90°Cの雰囲気中で 500時間放置した後の色調を測定し、処理前後の色調の 変化量 Δ χ、 Ayを求めた。
[0104] <柔軟性 >
フィルムを幅 10mmにカットし、近赤外線吸収層を外側にして金属棒に巻きつけて 、近赤外線吸収層のひび割れの有無を確認した。金属棒は直径が l〜20mmで lm m間隔の 20本を用い、ひび割れが発生しな 、最小の直径を柔軟性の評価値とした。
[0105] 実施例 1
1.透明基材の製造
(1)紫外線吸収剤含有マスターバッチの調整
乾燥させた紫外線吸収剤（サイテック社製、 CYASORB UV— 3638 ; 2, 2' — ( 1, 4—フエ-レン）ビス（4H— 3, 1—ベンズォキサジン一 4—オン）） 10質量部、粒子 を含有しな 、ポリエチレンテレフタレート（PET)榭脂 (東洋紡績製、 ME553) 90質 量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押し出し温 度は 285°Cであり、押し出し時間は 7分であった。
[0106] (2)易接着層形成用の塗布液の調整
易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート 95質量部、ジメチルイソフタレート 95質量部、エチレングリコール 35質量部、ネオペ ンチルダリコール 145質量部、酢酸亜鉛 0. 1質量部および三酸化アンチモン 0. 1質 量部を反応容器に仕込み、 180°Cで 3時間かけてエステル交換反応を行った。次に 、 5—ナトリウムスルホイソフタル酸 6. 0質量部を添カ卩し、 240°Cで 1時間かけてエス テルィ匕反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル榭脂を得た。
[0107] 得られたポリエステル榭脂の 30質量％水分散液を 6. 7質量部、重亜硫酸ソーダで ブロックしたイソシァネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン榭脂の 20質量％水 溶液 (第一工業製薬製、エラストロン H— 3)を 40質量部、エラストロン用触媒 (Cat64 )を 0. 5質量部、水を 47. 8質量部およびイソプロピルアルコールを 5質量部、それぞ れ混合し、さらにァ-オン性界面活性剤を塗布液に対し 1質量％、コロイダルシリカ 粒子（日産化学工業社製、スノーテックス OL)を塗布液の固形分に対し 5質量％添 カロし塗布液とした。
[0108] (3)基材フィルムの製膜
固有粘度が 0. 62dlZgで、粒子を含有しない PET榭脂のペレット (東洋紡績社製 、 ME553) 90質量部と前記の紫外線吸収剤含有マスターバッチ 10質量部とを 135 °Cで 6時間減圧乾燥 (lTorr)した後、押出機に供給した。押出機の熔融部、混練り 部、ポリマー管、ギアポンプ、フィルターまでの榭脂温度は 280°C、その後のポリマー 管では 275°Cとし、口金よりシート状にして押し出した。これらのポリマーは、それぞ れステンレス焼結体の濾材 (公称濾過精度： 10 μ m以上の粒子を 95%カット）を用い て濾過した。また、フラットダイは榭脂温度が 275°Cになるようにした。押し出した榭脂 を、静電印加キャスト法を用いて表面温度 30°Cのキャスティングドラム（ロール径 400 φ、 RaO. 1 μ m以下）に卷きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の 吐出量は 48kgZhrであり、得られた未延伸シートは幅 300mm、厚さ 1400 μ mであ つた o
[0109] 次に、上記キャストフィルムを加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて 1 00°Cに加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向（走行方向）に 3. 5倍延伸 して一軸配向フィルムを得た。該フィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの 表面粗度を Raで 0. 1 μ m以下に管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールに口 ールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は 150mmであり、サクシヨンロー ル、静電密着、パート-ップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。
[0110] その後、易接着層形成用の塗布液を濾過粒子サイズ (初期濾過効率： 95%) 25 μ mのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法で両面に塗布、 乾燥した。塗布後、引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して 130°Cに加熱さ れた熱風ゾーンに導き、乾燥後幅方向に 4. 0倍に延伸し 230°Cにて 5秒間熱処理し 、この熱処理工程中で幅方向に 3%の弛緩処理し、基材フィルム (B)を得た。該フィ ルムの厚さは 100 /z mであり、この時の易接着層のコート量は 0. 01g/m
であった。得られたフィルムの波長 380nmにおける透過率は 4%であり、優れた紫外 線吸収性を有していた。また、全光線透過率が 91%、ヘイズが 0. 6%であり、透明 性に優れていた。
[0111] 2.近赤外線吸収層の積層
下記の塗布液 A (粘度： 23cps)を上記の中間塗布層上に乾燥後に 950nmの透過 率が 4. 3%になるように直径 60cmの斜線グラビアを用いてリバースで塗工し、 40°C で 5mZ秒の熱風で 20秒間、 150°Cで 20mZ秒の熱風で 20秒間、さらに、 90°Cで 2 OmZ秒の熱風で 10秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルターを作成した。 (近赤外線吸収層用の塗布液 A)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Αを調整した。
'トルエン 22. 193質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
.ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•トリフルォロメタンスルホン酸リチウム（ィ匕合物 C) 0. 890質量0 /0
[0112] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に示す。得られた 近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域 での透過率が高！、だけでなく、耐湿熱性や耐熱性も良好であった。 [0113] 実施例 2
下記の塗布液 Bを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 B)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Βを調整した。
'トルエン 22. 998質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•トリフルォロメタンスルホン酸リチウム（ィ匕合物 C) 0. 085質量0 /0
[0114] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に示す。得られた 近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域 での透過率が高！、だけでなく、耐湿熱性や耐熱性も良好であった。
[0115] 実施例 3
下記の塗布液 Cを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 C)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Cを調整した。 -トルエン 21. 411質量0 /0
'メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
'アクリル系榭脂 52. 762質量％
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
•ジインモ-ゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量％
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量0 /0
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•トリフルォロメタンスルホン酸リチウム（ィ匕合物 C) 1. 671質量0 /0
[0116] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に示す。得られた 近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域 での透過率が高！、だけでなく、耐湿熱性や耐熱性も良好であった。
[0117] 比較例 1
下記の塗布液 Dを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。本比較例 1は、近赤外線吸収層中にトリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物また はビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物を含有させな力つた例である。
[0118] (近赤外線吸収層用の塗布液 D)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Dを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0 (日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[0119] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類を表 1に示す。得られた近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域 の吸収が強力つた。し力しながら、可視光領域での透過率が、近赤外線吸収層中に トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物 (ィ匕合物 C)を含有させた実施例 1〜3よりも少し 低下し、耐熱性は不良であった。
[0120] 実施例 4
実施例 1にお 、て、近赤外線吸収層中に含有させるトリフルォロメタンスルホン酸リ チウム (ィ匕合物 C)をビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物 (ィ匕合物 D)に 変更したこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。
[0121] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に 示す。得られた近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強 ぐ可視光領域での透過率が高いだけでなぐ耐湿熱性や耐熱性も良好であった。
[0122] 実施例 5
下記の塗布液 Eを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 E)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Εを調整した。
'トルエン 22. 193質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0 (総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
•ジインモ-ゥム塩ィ匕合物（色素 B) 0. 937質量％
(日本カーリット製、 CIR1081、対イオン：六フッ化アンチモン)
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量0 /0
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•トリフルォロメタンスルホン酸リチウム（ィ匕合物 C) 0. 890質量0 /0 [0123] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に示す。得られた 近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域 での透過率が高！、だけでなく、耐湿熱性や耐熱性も良好であった。
[0124] 比較例 2
下記の塗布液 Fを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。本比較例 2は、近赤外線吸収層中にトリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物また はビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物を含有させな力つた例である。
[0125] (近赤外線吸収層用の塗布液 F)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Fを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
.ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 B) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1081、対イオン：六フッ化アンチモン）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％ (ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[0126] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類を表 1に示す。得られた近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域 の吸収が強かったが、耐湿熱性 (特に、 Ay)および耐熱性に劣っていた。
[0127] 実施例 6
下記の塗布液 Gを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 G)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Gを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
'化合物 E 0. 076質量％
(ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸を対イオンとするシァニン色素 ；旭電化工業製、 TZ- 109D)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[0128] 近赤外線吸収層に含有させる近赤外線吸収色素（ジインモ-ゥム塩ィ匕合物）の種 類、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物の種類および含有量を表 1に示す。得られた 近赤外線吸収フィルムは、表 2に示すように、近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域 での透過率が高！、だけでなく、耐湿熱性や耐熱性も良好であった。
[0129] 実施例 7
下記の塗布液 Hを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 H)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Ηを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
.ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
'化合物 E 0. 076質量％
(ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸を対イオンとするシァニン色素 ；日本化薬製、 CY-40MC (F) )
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
比較例 3
下記の塗布液 Iを用いたこと以外は実施例 1と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 I)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Iを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
.ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
'化合物 F 0. 076質量％
(六フッ化アンチモンを対イオンとするシァニン色素；日本化薬製、 CY-40MC (
S) )
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[表 1]
Figure imgf000034_0001
表 1において、色素 A—B、化合物 C—Fは、下記の化合物を意味する。
(色素 A)
ビス（トリフノレ才ロメタンスノレホン）イミド酸を対ィ才ンとする、 N, N, Ν' , Ν' ラキス（ρ ジ一 η ブチルァミノフエ-ル） ρ フエ-レンジインモ-ゥム塩
(色素 Β)
六フッ化アンチモンを対イオンとする、 Ν, Ν, , Ν' ーテトラキス（ρ ジ ブチルァミノフエ-ル） ρ フエ-レンジインモ-ゥム塩
(化合物 C) トリフルォロメタンスルホン酸リチウム
(化合物 D)
n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド (化合物 E)
ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸を対イオンとするシァニン色素 (化合物 F)
六フッ化アンチモンを対イオンとするシァニン色素
[表 2]
Figure imgf000035_0001
実施例 8
1.透明基材の製造
(1)紫外線吸収剤含有マスターバッチの調整
乾燥させた紫外線吸収剤（サイテック社製、 CYASORB UV- 3638 ; 2, 1, 4—フエ-レン）ビス（4H— 3, 1—ベンズォキサジノン一 4—オン）） 10質コ 子を含有しな 、ポリエチレンテレフタレート（PET)榭脂 (東洋紡績製、 ME553) 90 質量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押し出し 温度は 285°Cであり、押し出し時間は 7分であつた。
[0135] (2)易接着層形成用の塗布液の調整
易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート 95質量部、ジメチルイソフタレート 95質量部、エチレングリコール 35質量部、ネオペ ンチルダリコール 145質量部、酢酸亜鉛 0. 1質量部および三酸化アンチモン 0. 1質 量部を反応容器に仕込み、 180°Cで 3時間かけてエステル交換反応を行った。次に 、 5—ナトリウムスルホイソフタル酸 6. 0質量部を添カ卩し、 240°Cで 1時間かけてエス テルィ匕反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル榭脂を得た。
[0136] 得られたポリエステル榭脂の 30質量％水分散液を 6. 7質量部、重亜硫酸ソーダで ブロックしたイソシァネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン榭脂の 20質量％水 溶液 (第一工業製薬製、エラストロン H— 3)を 40質量部、エラストロン用触媒 (Cat64 )を 0. 5質量部、水を 47. 8質量部およびイソプロピルアルコールを 5質量部、それぞ れ混合し、さらにァ-オン性界面活性剤を塗布液に対し 1質量％、コロイダルシリカ 粒子（日産化学工業社製、スノーテックス OL)を塗布液の固形分に対し 5質量％添 カロし塗布液とした。
[0137] (3)基材フィルムの製膜
固有粘度が 0. 62dlZgで、粒子を含有しない PET榭脂のペレット (東洋紡績社製 、 ME553) 90質量部と前記の紫外線吸収剤含有マスターバッチ 10質量部とを 135 °Cで 6時間減圧乾燥 (lTorr)した後、押出機に供給した。押出機熔融部、混練り部、 ポリマー管、ギアポンプ、フィルターまでの榭脂温度は 280°C、その後のポリマー管 では 275°Cとし、口金よりシート状にして押し出した。これらのポリマーは、それぞれス テンレス焼結体の濾材 (公称濾過精度： 10 μ m以上の粒子を 95%カット）を用いて濾 過した。また、フラットダイは榭脂温度が 275°Cになるようにした。押し出した榭脂を、 静電印加キャスト法を用いて表面温度 30°Cのキャスティングドラム（ロール径 400 φ、 RaO. 1 μ m以下）に卷きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出 量は 48kgZhrであり、得られた未延伸シートは幅 300mm、厚さ 1400 μ mであった [0138] 次に、上記キャストフィルムを加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて 1 00°Cに加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向（走行方向）に 3. 5倍延伸 して一軸配向フィルムを得た。該フィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの 表面粗度を Raで 0. 1 μ m以下に管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールに口 ールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は 150mmであり、サクシヨンロー ル、静電密着、パート-ップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。
[0139] その後、易接着層形成用の塗布液を濾過粒子サイズ (初期濾過効率： 95%) 25 μ mのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法で両面に塗布、 乾燥した。塗布後、引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して 130°Cに加熱さ れた熱風ゾーンに導き、乾燥後幅方向に 4. 0倍に延伸し 230°Cにて 5秒間熱処理し 、この熱処理工程中で幅方向に 3%の弛緩処理し、基材フィルム (B)を得た。該フィ ルム厚さ 100 /z mであり、この時の易接着層のコート量は 0. 01g/m2
であった。得られたフィルムの波長 380nmの透過率は 4%で優れた紫外線吸収性を 有していた。また、全光線透過率が 91%、ヘイズが 0. 6%で透明性に優れていた。
[0140] 2.近赤外線吸収層の積層
下記の塗布 ¾J (粘度が 23cps)を上記の中間塗布層上に乾燥後に 950nmの透過 率が 4. 3%になるように直径 60cmの斜線グラビアを用いてリバースで塗工し、 40°C で 5mZ秒の熱風で 20秒間、 150°Cで 20mZ秒の熱風で 20秒間、さらに、 90°Cで 2 OmZ秒の熱風で 10秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルターを作成した。 (近赤外線吸収層用の塗布！ ¾[)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布銜を調整した。
'トルエン 22. 193質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
.ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0 (日本カーリット製、 CIR1085、対イオン: ホニル)イミド 酸)
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量0 /0
(ダウコ ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
，イオン性液体 D 0. 890質量％
(n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド） [0141] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0142] 実施例 9
下記の塗布液 Kを用いたこと以外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 K)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Κを調整した。
'トルエン 22. 998質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C)
•ジインモ-ゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質暈％
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン: ホニル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質暈0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質暈0 /0 (ダウコ ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
，イオン性液体 D 0. 085質量％
(n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド） [0143] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0144] 実施例 10
下記の塗布液 Lを用いたこと以外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 L)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Lを調整した。
，トルエン 21. 411質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•イオン性液体 D 1. 671質量％
(n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド） [0145] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0146] 比較例 4
下記の塗布液 Mを用いたこと以外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 M)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Μを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 A) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1085、対イオン：ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[0147] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類を表 3 に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を表 4に示す。近赤外領域の 吸収が強いフィルムを得られた。可視光領域での透過率は、イオン性液体を添加し た実施例 8〜： L0よりも少し低いがフィルムが得られた。耐熱性、柔軟性は不良となつ た。
[0148] 参考例 1
実施例 8にお 、て、イオン性液体の種類を下記のイオン性液体 Gに変更したこと以 外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。
イオン性液体 G： n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム テトラフルォロボレート [0149] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0150] 実施例 11
実施例 8にお 、て、イオン性液体の種類を下記のイオン性液体 Hに変更したこと以 外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを得た。
イオン性液体 H :N, N, N—トリメチル—N—プロピルアンモ-ゥム ビス（トリフルォ ロメタンスルホ -ル）イミド
[0151] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強いフィルムを得られた。耐熱性は実施例 8よりも 劣るが、比較例 4よりも良好であった。また、柔軟性は良好であった。
[0152] 実施例 12
下記の塗布液 Pを用いたこと以外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 P)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Ρを調整した。
'トルエン 22. 193質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム塩ィ匕合物（色素 B) 0. 937質量0 /0
(日本カーリット製、 CIR1081、対イオン：六フッ化アンチモン）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％ (ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
•イオン性液体 D 0. 890質量％
(n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド） [0153] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0154] 比較例 5
下記の塗布液 Qを用いたこと以外は実施例 8と同様にして近赤外線吸収フィルムを 得た。
(近赤外線吸収層用の塗布液 Q)
塗布液の材料を下記の質量比で混合し、 30分以上攪拌した。次いで、公称ろ過精 度 1 μ mのフィルターで未溶解物を除去して塗布液 Qを調整した。
'トルエン 23. 083質量0 /0
，メチルェチルケトン 23. 083質量0 /0
•アクリル系榭脂 52. 762質量0 /0
(総研ィ匕学製、 GS— 1030、固形分濃度： 30質量％、 Tg : 115°C) .ジインモニゥム系色素（色素 B) 0. 937質量％
(日本カーリット製、 CIR1081、対イオン：六フッ化アンチモン）
•シァニン系色素 0. 076質量0 /0
(旭電ィ匕工業製、 TZ— 123)
'シリコーン系界面活性剤 0. 059質量％
(ダウコ一-ング製、ペインタッド 57、 HLB : 6. 7)
[0155] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0156] 実施例 13 透明基材として、反射フィルム（日本油脂製、リアルック 7700S)を用い、反射防止 層とは反対面に近赤外線吸収層を積層したこと以外は、実施例 8と同様にして近赤 外線吸収フィルムを得た。
[0157] 近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素（ジインモニゥム塩ィ匕合物）の種類、イオン 性液体の種類と含有量を表 3に示す。また、得られた近赤外線吸収フィルムの物性を 表 4に示す。近赤外領域の吸収が強ぐ可視光領域での透過率が高いフィルムが得 られた。また、耐熱性、柔軟性も良好であった。
[0158] [表 3]
Figure imgf000043_0001
表 3において、色素 A、 B、化合物 D、 G、 Hは、下記の化合物を意味する。 (色素 A)
ビス（トリフノレ才ロメタンスノレホン）イミド酸を対ィ才ンとする、 N, N, N' , N' ラキス（p ジ一 n ブチルァミノフエ-ル） p フエ-レンジインモ-ゥム塩
(色素 B)
六フッ化アンチモンを対イオンとする、 N, N, N' , N' —テトラキス（p ジ ブチルァミノフエ-ル） p フエ-レンジインモ-ゥム塩
(イオン性液体 D) n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド (イオン性液体 G)
n—ブチルー 3—メチルピリジ-ゥム テトラフルォロボレート
(イオン性液体 H)
N, N, N トリメチル N プロピルアンモ-ゥム ビス（トリフルォロメタンスルホ- ル)イミド
[0160] [表 4]
Figure imgf000044_0001
産業上の利用可能性
[0161] 本発明の近赤外線吸収フィルムを近赤外線吸収フィルタ一としてプラズマディプレ ィの前面に設置した場合、従来の近赤外線吸収フィルターと同様に、ディスプレイか ら放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけで なぐ熱による色調の変化を大幅に低減することができるため、プラズマディスプレイ の高画質ィ匕に寄与することができるとともに、光学フィルターの設計の自由度が上が るという利点があり、産業界に寄与することが大である。

Claims

請求の範囲
[1] 透明基材上に、近赤外線吸収色素、榭脂から主に構成される組成物からなる近赤 外線吸収層を設けた近赤外線吸収フィルムであって、前記の組成物中にトリフルォロ メタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸化合物の!/ヽ ずれかを含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
[2] 近赤外線吸収色素がジインモ-ゥム塩化合物を含有することを特徴とする請求項 1 記載の近赤外線吸収フィルム。
[3] ジインモ-ゥム塩ィ匕合物がビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド酸を対イオンと するジインモ-ゥム塩ィ匕合物であることを特徴とする請求項 2に記載の近赤外線吸収 フイノレム。
[4] トリフルォロメタンスルホン酸化合物またはビス（トリフルォロメタンスルホ -ル)イミド 酸ィ匕合物がイオン性液体であり、近赤外線吸収層中に 0. 1質量％以上 10. 0質量 %以下含有されていることを特徴とする請求項 1〜3のいずれかに記載の近赤外線 吸収フィルム。
[5] 近赤外線吸収色素として、トリフルォロメタンスルホン酸ィ匕合物またはビス（トリフル ォロメタンスルホ -ル)イミド酸ィ匕合物を対イオンとするシァニン色素力 S、近赤外線吸 収層中に 0. 1質量％以上 10. 0質量％以下含有されていることを特徴とする請求項 1〜3の 、ずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
[6] 近赤外線吸収層を構成する榭脂がアクリル系榭脂であることを特徴とする請求項 1 〜5の 、ずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。
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