JP4639802B2 - 波長選択吸収フィルター及びプラズマディスプレイ用波近赤外線吸収フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、近赤外線及びネオン光を選択的に吸収する光学フィルター、特にディスプレイ用フィルターとして好適な波長選択吸収フィルム及びその製造方法、並びに波長選択吸収フィルターに関するものである。詳しくは、全光線透過率が高く、近赤外線及びネオン光を選択的に吸収し、高温・高湿度下での品質の経時安定性に優れ、且つ平面性に優れる波長選択吸収フィルム及びその製造方法、並びに波長選択吸収フィルターに関するものである。
近赤外線の吸収能を有する光学フィルターは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。
近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に上記の近赤外線吸収フィルムを用いた光学フィルターが使用されている。
近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に上記の近赤外線吸収フィルムを用いた光学フィルターが使用されている。
近赤外線の吸収能を有するフィルターとしては、（１）燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、（２）屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、（３）共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、（４）樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、が提案されている。
これらの中で（４）のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている（例えば、特許文献１〜９を参照）。
特開２００２− ８２２１９号公報
特開２００２−１３８２０３号公報
特開２００２−２１４４２７号公報
特開２００２−２６４２７８号公報
特開２００２−３０３７２０号公報
特開２００２−３３３５１７号公報
特開２００３− ８２３０２号公報
特開２００３− ９６０４０号公報
特開２００３−１１４３２３号公報
これらの中で（４）のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている（例えば、特許文献１〜９を参照）。
しかしながら、これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有するのもがあるが、高温・高湿度下での品質、特に色調や近赤外線吸収層の密着性の経時安定性という点では不十分であった。
本発明の目的は、前記の従来技術の課題を解決するためになされたものであり、全光線透過率が高く、近赤外線及びネオン光を選択的に吸収し、高温・高湿度下での品質の経時安定性に優れ、且つ平面性に優れる波長選択吸収フィルム及びその製造方法、並びに波長選択吸収フィルターを提供することにある。
本発明は、上記の背景技術に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた波長選択吸収フィルム及びその製造方法、並びに波長選択吸収フィルターとは、以下の通りである。なお、本発明でいう「フィルム」は、所謂「シート」も含む概念である。この他、上記本発明の波長選択吸収フィルムを用いたプラズマディスプレイ用前面フィルターも、本発明に包含される。
第１の発明は、透プラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面に設置してなることを特徴とする波長選択吸収フィルターであって、前記プラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムが、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後に、ポストキュア処理することにより得られるプラズマディスプレイ用波長選択吸収層を設けた波長選択吸収フィルムであって、前記の近赤外線吸収色素がジイモニウム塩系化合物を少なくとも含有し、ポストキュアの処理条件は２５℃以上７０℃以下で処理時間（ｈｒ）との積が１０００（℃・ｈｒ）以上であることを特徴とする波長選択吸収フィルターである。
第２の発明は、透明基材フィルムと波長選択吸収層の間に中間層を有することを特徴とする第１の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。
第３の発明は、前記中間層が、メラミン、エポキシ、イソシアネートから選ばれる架橋剤を含有することを特徴とする第１または２の発明に記載の波長選択吸収フィルターである。
第４の発明は、前記のネオンカット色素がアザポルフィリン系であることを特徴とする第１〜３の発明のいずれかに記載の波長選択吸収フィルターである。
第５の発明は、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させて波長選択吸収層を積層し、更に粘着層を転写法あるいはダイレクト法で積層した後に、ポストキュア処理することを特徴とする第１〜４の発明のいずれかに記載の波長選択吸収フィルターである。
第６の発明は、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後、ポストキュア処理することにより得られる波長選択吸収層を設けたプラズマディスプレイの前面に設置してなるプラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムの製造方法であって、前記の近赤外線吸収色素がジイモニウム塩系化合物を少なくとも含有し、前記のポストキュア処理の熱処理条件が２５℃以上５０℃以下で処理時間（ｈｒ）との積が１０００（℃・ｈｒ）以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムの製造方法である。
本発明による波長選択吸収フィルムを波長選択吸収フィルターとしてプラズマディプレイの前面に設置した場合、従来の波長選択吸収フィルターと同様に、ディスプレイから放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけでなく、不要なネオン光を吸収しているため画像の鮮明度が高く、長時間の使用においても近赤外線の遮断能力が維持され、かつ、色調の変化が大幅に少なくなり、プラズマディスプレイの長期での使用が可能となるという利点がある。
以下、本発明を詳細に説明する。
（透明基材フィルム）
本発明において、透明基材フィルムは特に限定されるものではないが、全光線透過率が８０％以上で、かつヘイズが２％以下であることが好ましい。基材フィルムが透明性に劣る場合には、ディスプレイの輝度を低下させる問題がある。特に、基材フィルムのヘイズは重要で、ヘイズが高い場合には波長選択吸収層を形成させて得られる波長選択吸収フィルムのヘイズも高くなり、ディスプレイの画像のシャープさが不良となる。
（透明基材フィルム）
本発明において、透明基材フィルムは特に限定されるものではないが、全光線透過率が８０％以上で、かつヘイズが２％以下であることが好ましい。基材フィルムが透明性に劣る場合には、ディスプレイの輝度を低下させる問題がある。特に、基材フィルムのヘイズは重要で、ヘイズが高い場合には波長選択吸収層を形成させて得られる波長選択吸収フィルムのヘイズも高くなり、ディスプレイの画像のシャープさが不良となる。
このような透明基材フィルムとしては、例えばポリエステル系、アクリル系、セルロ−ス系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタン系等のプラスチックフィルム、またはこれらの任意の２種類以上を貼り合わせたものが挙げられる。好ましくは、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステル系フィルムであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムである。
本発明で用いる透明基材フィルムとして好適なポリエステル系フィルムとは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸又はそのエステルと、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１、４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどをエステル化反応又はエステル交換反応を行い、次いで重縮合反応させて得たポリエステルチップを乾燥後、押出機で溶融し、Ｔダイからシート状に押し出して得た未延伸シートを少なくとも１軸方向に延伸し、次いで熱固定処理、緩和処理を行うことにより製造されるフィルムである。
前記の透明基材フィルムは、強度等の点から、二軸延伸フィルムが特に好ましい。延伸方法としては、チューブラ延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が挙げられるが、平面性、寸法安定性、厚みムラ等から逐次二軸延伸法が好ましい。逐次二軸延伸フィルムは、例えば、長手方向にポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋３０℃）で、２．０〜５．０倍に長手方向にロール延伸し、引き続き、テンターで予熱後１２０〜１５０℃で１．２〜５．０倍に幅方向に延伸する。さらに、二軸延伸後に２２０℃以上（融点−１０℃）以下の温度で熱固定処理を行い、次いで幅方向に３〜８％緩和させることによって製造することができる。また、フィルムの長手方向の寸法安定性をさらに改善するために、縦弛緩処理を併用してもよい。
透明基材フィルムには、ハンドリング性（例えば、積層後の巻取り性）を付与するために、粒子を含有させてフィルム表面に突起を形成させることが好ましい。フィルムに含有させる粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、ＰＭＭＡ、ナイロン、ポリスチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の耐熱性高分子粒子が挙げられる。透明性の点から、フィルム中の粒子の含有量は少ないことが好ましく、例えば１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。さらに、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。また、フィルムには必要に応じて各種機能を付与するために、耐光剤（紫外線防止剤）、色素、帯電防止剤などを含有させてもよい。
本発明で用いる透明基材フィルムは、単層フィルムであっても、表層と中心層を積層した２層以上の複合フィルムであっても構わない。複合フィルムの場合、表層と中心層の機能を独立して設計することができる利点がある。例えば、厚みの薄い表層にのみ粒子を含有させて表面に凹凸を形成することでハンドリング性を維持しながら、厚みの厚い中心層には粒子を実質上含有させないことで、複合フィルム全体として透明性をさらに向上させることができる。前記複合フィルムの製造方法は特に限定されるものではないが、生産性を考慮すると、表層と中心層の原料を別々の押出機から押出し、１つのダイスに導き未延伸シートを得た後、少なくとも１軸方向に配向させる、いわゆる共押出法による積層が特に好ましい。
透明基材フィルムの厚みは素材により異なるが、ポリエステルフィルムを用いる場合には、下限は３５μｍが好ましく、より好ましくは５０μｍである。一方、厚みの上限は２６０μｍが好ましく、より好ましくは２００μｍである。厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となるばかりか、後述のように耐久性を向上させるために波長選択吸収層の形成する際の乾燥温度を強くした場合に、フィルムに熱シワが発生して平面性が不良となりやすい。一方、厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。
（中間層）
本発明の波長選択吸収フィルムにおいて、透明基材フィルムと波長選択吸収層の間に、透明基材フィルムと波長選択吸収層との密着性、特に、高温・高湿度下での密着性の向上、あるいは透明基材フィルムの透明性向上を目的に、樹脂または樹脂組成物からなる中間層を設けることが好ましい。なお、透明基材フィルム中に粒子を含有させない場合、粒子を含有する中間層をフィルム製造時に同時に設けることにより、ハンドリング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
本発明の波長選択吸収フィルムにおいて、透明基材フィルムと波長選択吸収層の間に、透明基材フィルムと波長選択吸収層との密着性、特に、高温・高湿度下での密着性の向上、あるいは透明基材フィルムの透明性向上を目的に、樹脂または樹脂組成物からなる中間層を設けることが好ましい。なお、透明基材フィルム中に粒子を含有させない場合、粒子を含有する中間層をフィルム製造時に同時に設けることにより、ハンドリング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
前記中間層を構成する樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、基材および波長選択吸収層との密着性が良好となる樹脂を１種以上選択することが好ましい。具体的には、透明基材フィルム及び波長選択吸収層を構成する樹脂がエステル系であれば、類似した構造を有するポリエステル系、ポリエステルウレタン系を選ぶことが好ましい。
また、前記の樹脂は架橋構造を有することが、基材と波長選択吸収層との密着性、特に高温高湿下での密着性を向上させることができるので、好ましい実施態様である。樹脂を架橋させるためには、樹脂に架橋剤を含有させ、次いで熱処理して架橋構造を形成させる方法、自己架橋性のグラフト共重合樹脂を熱処理して架橋構造を形成させる方法が挙げられる。架橋剤としては、尿素系、エポキシ系、メラミン系、イソシアネート系が挙げられる。特に、樹脂が高温・高湿度下での白化や強度が低下する場合には、架橋構造を有する樹脂を中間層の構成材料として用いた場合に、効果が顕著にみられる。
架橋構造を有しない樹脂を中間層の構成材料として用いる場合には、高温・高湿度の環境下で、樹脂の劣化、吸水、熱変形により、透明基材フィルムと波長選択吸収層との密着性が低下し、何らかのきっかけで、波長選択吸収層が透明基材フィルムから剥離し、フィルターとしての機能を維持できなくなる場合がある。架橋構造を有する樹脂を中間層の構成材料として用いることにより、中間層を構成する樹脂のガラス転移温度の向上、吸水性の低下、樹脂の劣化が低減され、密着性の低下を防止することができる。
中間層には、表面に凹凸を形成させて滑り性を改善する目的で、各種の粒子を含有させてもよい。中間層中に含有させる粒子としては、例えば、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、ＰＭＭＡ、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の有機粒子が挙げられる。なお、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。
さらに、中間層に各種機能を付与するために、界面活性剤、帯電防止剤、色素、紫外線吸収剤等を含有させてもよい。
中間層は目的とする機能を有する場合は単層でも構わないが、必要に応じて２層以上に積層しても構わない。
中間層の厚みは、目的とする機能を有すれば特に限定されるものではないが、０．０１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。厚みが薄い場合には中間層としても機能が発現し難くなり、逆に、厚い場合には透明性が不良となりやすくなる。
中間層を設ける方法としては、塗布法が好ましい。塗布法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式などの公知の塗布方法を用いて、フィルムの製造工程で塗布層を設けるインラインコート方式、フィルム製造後に塗布層を設けるオフラインコート方式により設けることができる。これらの方式のうち、インラインコート方式がコスト面で優れるだけでなく、塗布層に粒子を含有させることで、透明基材フィルムに粒子を含有させる必要がなくなるため、透明性を高度に改善することができるため好ましい。
（波長選択吸収層）
本発明の波長選択吸収フィルムは、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、及び樹脂を主に含有する波長選択吸収層が設けられている。上記の「近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、及び樹脂を主に含有」とは、前記組成物中に近赤外線吸収色素と樹脂を８０質量％以上含有することを意味する。前記組成物中の近赤外線吸収色素と樹脂の含有量の総和は、８５質量％以上が好ましく、特に好ましくは９０質量％以上である。
本発明の波長選択吸収フィルムは、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、及び樹脂を主に含有する波長選択吸収層が設けられている。上記の「近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、及び樹脂を主に含有」とは、前記組成物中に近赤外線吸収色素と樹脂を８０質量％以上含有することを意味する。前記組成物中の近赤外線吸収色素と樹脂の含有量の総和は、８５質量％以上が好ましく、特に好ましくは９０質量％以上である。
近赤外線吸収色素とは、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域に極大吸収を有する色素であって、ジインモニウム系、フタロシアニン系、ジチオ−ル金属錯体系、ナフタロシアニン系、アゾ系、ポリメチン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドオコリン系、トリフェニルメタン系、シアニン系、アゾ系、アミニウム系等の化合物が挙げられる。これらの化合物は単独で又は２種以上を混合して使用されるが、近赤外線領域の吸収が大きく、吸収域も広く、可視光領域の透過率も高い下記一般式（Ｉ）で示されるジイモニウム塩系化合物を含むことが好ましい。
式中、Ｒ1〜Ｒ8は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表す。Ｒ9〜Ｒ12は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基を表す。Ｒ1〜Ｒ12で、置換基を結合できるものは置換基を有してもよい。Ｘ-は陰イオンを示す。
上記一般式（Ｉ）のＲ1〜Ｒ8が、（ａ）アルキル基、（ｂ）アリール基、（ｃ）アルケニル基、（ｄ）アラルキル基の場合、それぞれ以下の官能基が例示できる。
（ａ）アルキル基：メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基など。
（ｂ）アリール基：フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル基、ナフチル基など。
（ｃ）アルケニル基：ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基など。
（ｄ）アラルキル基：ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基など。
（ａ）アルキル基：メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基など。
（ｂ）アリール基：フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル基、ナフチル基など。
（ｃ）アルケニル基：ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基など。
（ｄ）アラルキル基：ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基など。
また、上記一般式（Ｉ）のＲ9〜Ｒ12の（ｅ）ハロゲン原子、（ｆ）アミノ基、（ｇ）アルキル基、（ｈ）アルコキシル基としては、それぞれ、以下の官能基が例示できる。
（ｅ）ハロゲン原子：フッ素、塩素、臭素など。
（ｆ）アミノ基：ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基など。
（ｇ）アルキル基：メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基など。
（ｈ）アルコキシル基：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など。
（ｅ）ハロゲン原子：フッ素、塩素、臭素など。
（ｆ）アミノ基：ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基など。
（ｇ）アルキル基：メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基など。
（ｈ）アルコキシル基：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など。
また、上記一般式（Ｉ）におけるＸ-としては、例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。
上記一般式（Ｉ）で示されるジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２４、Ｋ−１０３０、Ｋ−１０３２（以上、日本化薬社製）、ＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、ＣＩＲ−１０８５、ＣＩＲ−ＲＬ（以上、日本カーリット社製）などが好適である。
本発明の課題である高温・高湿度下での品質の経時安定性は、前記の一般式（Ｉ）で示されるジインモニウム塩系化合物の高温高湿度下での劣化が主要因である。高温高湿度下でジインモニウム塩系化合物が劣化することにより、波長４２０ｎｍ付近に吸収を有する化合物に変化して、波長選択吸収層が変色する。そのため、前記波長選択吸収層を設けた波長選択吸収フィルムも変色する。本発明では、近赤外線吸収性を良好にするために、ジインモニウム塩系化合物を用いて、かつ、ジインモニウム塩系化合物の劣化を最小限にすることが重要である。
本発明の波長選択吸収フィルムは、前記の一般式（Ｉ）で示されるジイモニウム塩系化合物以外に、近赤外線領域の吸収域の拡大、色目の調整を目的として、他の近赤外線吸収色素を併用することが好ましい。
前記のジインモニウム塩系化合物と併用し得る他の近赤外線吸収色素としては、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム塩系化合物、ピリリウム塩系化合物、チオペリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、インドアニリンキレート系色素、インドナフトールキレート系色素、アゾ系色素、アゾキレート系色素、アミニウム塩系色素、キノン系色素、アントラキノン系色素、ポリメチン系色素、トリフェニルメタン系色素などが挙げられる。
これらの中で、色素自体が高温高湿度下での劣化の少ないフタロシアニン系化合物、ジチオール系金属錯体系化合物が好ましい。劣化しやすい色素を用いた場合には、近赤外領域の透過率の経時安定性が不良となるだけでなく、ジインモニウム塩系化合物がクエンチャーとして作用して劣化し、波長選択吸収層が黄色く変色する。そのため、前記波長選択吸収層を設けた波長選択吸収フィルムも黄色く変色する。
例えば、上記フタロシアニン系化合物は、市販品を用いることができる。具体的には、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＩＲ−１、ＩＲ−２、ＩＲ−３、ＩＲ−４、ＩＲ−１０、ＩＲ−１０Ａ、ＩＲ−１２、ＩＲ−１４、ＴＸＥＸ−８０５Ｋ、ＴＸＥＸ−８０９Ｋ、ＴＸＥＸ−８１０Ｋ、ＴＸＥＸ−８１１Ｋ、ＴＸＥＸ−８１２Ｋ、ＴＸＥＸ−８１３Ｋ、ＴＸＥＸ−８１４Ｋ（以上、日本触媒社製）、ＭＩＲ−３６９、ＭＩＲ−３８９（以上、三井化学社製）などが好適である。
また、上記ジチオール金属錯体系化合物としては、例えば、下記一般式（II）で示される化合物が好適である。
式中、Ｒ13〜Ｒ16は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基を表す。Ｍは、ニッケル、銅、コバルト、パラジウム、白金を示す。
上記一般式（II）のＲ13〜Ｒ16の具体例としては、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−シアノエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基などのアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、ｐ−フルオロベンジル基、ｐ−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基などのアラルキル基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基などのアミノ基；が挙げられる。上記一般式（II）のジチオール金属錯体系化合物としては、例えば、三井化学製：ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９などの市販品も好適である。
また、シアニン系化合物としては、旭電化製のＴＺ−１０３、ＴＺ−１０４、ＴＺ−１０５、ＴＺ−１０９、ＴＺ−１１１、ＴＺ−１１４、日本化薬製のＣＹ−９、ＣＹ−１０、ＣＹ−２０、ＣＹ−３０、山田化学製のＩＲ−３０１などが好適である。
本発明において、目的とする近赤外線領域の吸収、可視光領域での透過率を制御するために、近赤外線吸収色素の量を、波長選択吸収層の厚み方向における任意の面で０．０１ｇ／ｍ2 以上１．０ｇ／ｍ2 以下の範囲で存在するように調整することが好ましい。単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不足しやすくなる。一方、単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が多い場合には、可視光領域での透明性が不足して、ディスプレイの輝度が低下しやすくなる。
波長選択吸収層における近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂に対し１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。近赤外線吸収色素の含有量の上限は、樹脂に対し８質量％がさらに好ましく、特に好ましくは６質量％である。また、近赤外線吸収色素の含有量の下限は、樹脂に対し２質量％がさらに好ましく、特に好ましくは３質量％である。
樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収能を達成するために、波長選択吸収層の塗工量を増やす必要がある。この場合、塗膜を十分に乾燥しようとすれば、高温及び／又は長時間にする必要があり、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。特に、近赤外線吸収色素として、ジインモニウム塩系化合物を用いた場合、ジインモニウム塩系化合物が高温下や高湿下で変性し易く、近赤外線領域の吸収が小さくなったり、可視光線領域の一部の透過率が低下したりして、色調が変化し易い傾向がある。一方、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、樹脂中の色素間の距離がより短くなる。そのため、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒が少なくしたとしても色素の経時的な変性が起こりやすくなる。
本発明において、波長選択吸収層中にはネオンカット色素を含有させる必要がある。プラズマディスプレイは、波長６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光し、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。ネオンカット色素を含有させることにより、上記の問題が解決できる。
本発明においてネオンカット色素とは、５５０〜６２０ｎｍの波長域に極大吸収を有する色素である。具体的には、シアニン系、スクアリウム系、アザポルフィリン系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、ピロメテン系の化合物が挙げられる。これらの色素は、単独または２種以上混合して使用することができる。これらのなかで、スクアリリウム系化合物またはアザポルフィリン系化合物が、５５０〜６２０ｎｍの波長領域にシャープな吸収を有する点で好ましい。さらに好ましくは、色素自体が経時安定性に優れるアザポルフィリン系色素である。ネオンカット色素の経時安定性が不良の場合には、ジインモニウム塩系化合物がクエンチャーとして作用して劣化する問題がある。
波長選択吸収層中のネオンカット色素の含有量は、波長５５０〜６２０ｎｍにおける極大吸収波長での光線透過率が３０％以下になるように調整することが好ましい。具体的には、波長選択吸収層の厚み方向における任意の面で、０．００１ｇ／ｍ2 以上０．１ｇ／ｍ2以下の範囲で存在させることが好ましい。
本発明において、近赤外線吸収色素及びネオンカット色素は、樹脂中に分散あるいは溶解した組成物として、塗布法により、透明基材フィルム上に積層される。樹脂としては、近赤外線吸収色素及びネオンカット色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系樹脂を好適に用いることができる。中でも、基材との密着性に優れる点から、アクリル系樹脂またはポリエステル系樹脂が好ましい。樹脂が硬い場合には、後加工の工程で塗膜に微小なひび割れが発生する場合があるので、柔軟成分を樹脂の分子骨格に導入することが好ましい。さらに、樹脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。
前記波長選択吸収層を形成する樹脂のガラス転移温度が機器使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士が反応したり、樹脂が外気中の水分等を吸収したりして、色素やバインダ−樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、前記樹脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上であれば特に限定されないが、特に好ましくは８５℃以上１６０℃以下が好ましい。なお、前記のガラス転移温度は、ＪＩＳ−Ｋ７１２１に準拠し、示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ株式会社製、ＤＳＣ６２００）を使用して、２５〜３００℃の温度範囲にわたって１０℃／ｍｉｎで昇温させ、ＤＳＣ曲線から得られた補外ガラス転移開始温度を意味する。
前記樹脂のガラス転移温度が８５℃未満の場合、高温高湿下において、近赤外線吸収色素が運動し易くなるため、該色素同士あるいは色素と樹脂との相互作用が生じ易く、該色素の変性が顕著となる傾向にある。そのためフィルムの分光特性や色調の変化が生じ易くなる傾向にある。
一方、前記樹脂のガラス転移温度が１６０℃を超える場合、該樹脂を溶媒に溶解し、透明基材フィルム上に塗布する時に、十分な乾燥をしようとすれば高温にしなければならない。その結果、熱シワによる基材の平面性不良、更には、色素の劣化が発生する。また、低温で乾燥した場合、乾燥時間が長く生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可能性もあり、溶媒が塗膜中に残留し、前述のように樹脂の見かけのガラス転移温度が低下し、やはり、色素の変性を引き起こしやすくなる。
本発明において、波長選択吸収層は、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂、および有機溶媒を含む塗布液を、透明基材フィルム上に塗布、乾燥させて形成される。この際に、前記塗布液中に界面活性剤を含有させること好ましい。界面活性剤を含有させることにより、波長選択吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善される。更には、界面活性剤を特定条件下で塗布乾燥することにより、界面活性剤が波長選択吸収層の表面にブリードして局在化する。その結果、波長選択吸収層の表面の耐久性が向上するだけでなく、波長選択吸収層の表面に滑り性が付与され、波長選択吸収層あるいは／及び反対面に表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。
界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素との相互作用による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する点から、極性基を有していないノニオン系が好ましく、更には、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジシルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ビトロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。
フッ素系界面活性剤としては、４フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。
界面活性剤の含有量は、波長選択吸収層を構成する樹脂に対して０．０１質量％以上２．００質量％以下であることが好ましい。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗膜外観の向上や滑り性付与の効果が不足し、逆に、界面活性剤の含有量が多い場合には波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の劣化が促進される場合がある。
また、界面活性剤のＨＬＢは２以上１２以下であることが好ましい。ＨＬＢの下限値は好ましくは３であり、特に好ましくは４である。一方、ＨＬＢの上限値は好ましくは１１であり、特に好ましくは１０である。ＨＬＢが低い界面活性剤を用いた場合には、波長選択吸収層の表面が撥水化して、高温・高湿度の環境下で長期間保管しても、近赤外線吸収色素の劣化を抑えることができ、かつ、易滑性を付与しやすくなる。一方、ＨＬＢが低すぎる界面活性剤を使用した場合には、界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、ＨＬＢが高すぎる界面活性剤を使用した場合には、波長選択吸収層の滑り性が不足するだけでなく、波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の経時安定性が不良となる。
なお、ＨＬＢとは、アメリカのAtlas Powder社のW.C.Griffinが、Hydorophil Lyophile Balanceと名付けて、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを特性値として指標化した値である。なお、ＨＬＢは低いほど親油性が、逆に高いほど親水性が高くなることを意味する。
波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化は、用いる樹脂の種類や溶剤による異なるが、ＨＬＢが７付近で最も起こりやすく、かつ、初期の乾燥が緩やかな条件であるほうが局在化しやすい。波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度は、例えば、波長選択吸収層中の界面活性剤の含有量と、波長選択吸収層の表面の界面活性剤量を対比することにより確認できる。例えば、シリコーン系界面活性剤であれば、化学分析により定量した波長選択吸収層中のＳｉ量と、ＥＳＣＡ分析により定量した波長選択吸収層の表面のＳｉ量を対比することにより、波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度確認することができる。
本発明において、波長選択吸収層は、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、有機溶媒、必要に応じて界面活性剤を含む塗布液を透明基材フィルム上に塗布・乾燥することにより積層される。該塗布液は、塗工性より有機溶媒により、さらに希釈することが重要である。
該有機溶媒としては、（１）メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、（２）エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール類、（３）エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、（４）酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、（５）アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類、を例示することができ、これら単独あるいは２種以上を混合して使用することができる。
好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対し、３０質量％以上８０質量％以下含有させ、その他の有機溶媒は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、６０℃以上１８０℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。
近赤外線吸収色素、ネオンカット色素および樹脂を有機溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散、または粉砕の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上することができ、未溶解物等による塗工外観の悪化を抑制することができる。また、樹脂及び色素を分散または粉砕して、大きさが０．３μｍ以下の微粒子状態で塗布液中に分散することにより、透明性に優れる塗布層を形成することが可能となる。分散機または粉砕機としては、公知のものを用いることができる。例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。
塗布液中にコンタミや大きさが１μｍ以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルター等で除去する必要がある。フィルターとして、各種のものが好適に使用できるが、大きさが１μｍの異物を９９％以上除去できる濾過性能を有するフィルターを用いることが好ましい。大きさ１μｍ以上のコンタミや未溶解物を含む塗布液を塗布し乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、大きさが１００〜１０００μｍの欠点になる場合がある。
塗布液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、１０質量％以上３０重量％が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり、生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶媒量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗布液の粘度は、１０ｃｐｓ以上３００ｃｐｓ以下が塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように有機溶媒で固形分濃度を調整することが好ましい。
本発明で、波長選択吸収層を透明基材フィルム上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、８０ｍｍ以下であることが好ましい。直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する頻度が増える。
波長選択吸収層の乾燥後の塗布量は特に限定されないが、下限は１ｇ／ｍ2 が好ましい、より好ましくは３ｇ／ｍ2 であり、上限は５０ｇ／ｍ2 が好ましく、より好ましくは３０ｇ／ｍ2 である。乾燥後の塗布量が少ない場合には、近赤外線領域やネオン光領域における吸収力が不足しやすくなる。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量を増やすと、色素間の距離が短くなるため、色素間の相互作用が強くなる。その結果、色素の劣化等が起こりやすくなり、経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の塗布量が多い場合には、近赤外線領域やネオンカット領域における吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量を低減すると、光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすくなる。その結果、塗膜中の残留溶媒により色素の経時安定性が不良となる。一方、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。
塗布液を透明基材フィルム上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。
塗布後の、初期の恒率乾燥の段階では、２０℃以上８０℃以下で、２ｍ／秒以上３０ｍ／秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。乾燥温度の下限は３０℃がさらに好ましい。初期乾燥を強く行う（熱風温度が高い、熱風の風量が大きい）場合には、界面活性剤の表面への局在化が起こりにくくなる。その結果、波長選択吸収層に耐久性向上や滑り性付与の効果がでにくいだけでなく、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点も発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くする（熱風温度が低い、熱風の風量が小さい）場合には、塗工外観は良好になる。しかしながら、乾燥に時間を要し生産性（コスト）の点で問題があるばかりか、ブラッシング等の問題も発生する。波長選択吸収層形成用塗布液に界面活性剤を添加しない場合には、上記の微小な欠点が発生しやすく、初期乾燥をかなり弱くする必要がある。
減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温し、塗膜中の溶媒量を減少させる点から、１２０℃以上１８０℃以下の温度で乾燥させることが好ましい。特に好ましくは、下限値が１４０℃であり、上限値は１７０℃である。減率乾燥工程における乾燥温度が低い場合には、塗膜中の溶媒量が減少しにくくなり、残留溶媒となって色素の経時的な安定性が不十分となる。
一方、高温で乾燥した場合には、熱シワによる透明基材フィルムの平面性の不良や、基材からのオリゴマーの析出による透明性の低下（白濁）だけでなく、近赤外線吸収色素が熱により劣化するという問題が発生しやすくなる。また、塗工したフィルムが減率乾燥工程を通過する時間（乾燥時間）は、５秒以上１８０秒以下であることが好ましい。乾燥時間が短い場合には塗膜中の残留する溶媒量が多くなり経時安定性が不良となり、逆に乾燥時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、熱シワによる基材の平面性の不良や、基材からのオリゴマーの析出による透明性の低下（白濁）がおこりやすくなる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、３０秒とすることが特に好ましい。近赤外線吸収色素が熱により劣化する。また、通過時間としては、５秒以上１８０秒以下であることが好ましい。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶媒量が多くなり経時安定性が不良となり、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が不良となる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、３０秒とすることが特に好ましい。
最終乾燥工程（冷却工程）では、熱風温度を樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材の実温を樹脂のガラス転移温度以下に冷却することが好ましい。高温のまま乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。
本発明において、透明基材フィルム上に、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後に、ポストキュア処理を行うことが特に重要である。ポストキュアを行うことにより波長選択吸収フィルムの耐久性、特に高温・高湿度下における色調の変化を低減させることができる。ポストキュア処理による前記効果は、波長選択吸収層と透明基材の間に中間層を有する場合に特に顕著であり、更には、架橋剤を有する中間層の場合に顕著に効果がある。
高温・高湿下における色素の劣化を詳細に解析した結果、波長選択吸収層の内部だけでなく、波長選択吸収層と透明基材あるいは中間層の界面での色素の劣化も要因であり、界面での色素劣化は波長選択吸収層内部よりも、低温・低湿度の環境下で容易に起こりやすいことを見出した。ポストキュア処理を行うことにより、波長選択吸収層と透明基材フィルムの界面での色素劣化を予め起こして実質的に高温高湿下の耐久性を向上させることができる。更には、波長選択吸収層中の残留溶剤を低減させて波長選択吸収層内部の耐久性も向上させることができる。
ポストキュア処理の加熱条件としては、２５℃以上７０℃以下の環境下で処理し、処理温度（℃）と処理時間（ｈｒ）との積が１０００（℃・ｈｒ）以上であることが重要である。処理温度が２５℃未満の場合には、長時間の処理を行っても耐久性向上の効果が得られにくい。一方、処理温度が７０℃を越えるより高い場合には、ロール状の形態でポストキュア処理を行うと、ブロッキングやフィルムの平面性不良が発生しやすくなる。
ポストキュア処理は、透明基材フィルム上に波長選択吸収層を積層した後に行ってもよいが、後工程で波長選択吸収層上に粘着層を積層し、反射防止フィルムや電磁波防止フィルムを貼り合せ後に行っても構わない。好ましくは、後工程で波長選択吸収層上に粘着層を積層する前後でポストキュア処理を行うことが好ましい。特に、粘着層を波長選択吸収層上に積層してポストキュア処理を行うと、波長選択吸収層中の残留溶剤が、波長選択吸収層に隣接する粘着層に吸収されて、波長選択吸収層における品質の経時安定性が良好となりやすい。反射防止フィルムや電磁波防止フィルムを貼り合せた後にポストキュア処理を行うと、波長選択吸収層中の残留溶剤量が低下しにくく、ポストキュア処理の効果が低減する。
（波長選択吸収フィルター）
本発明において、波長選択吸収フィルターとは、全光線透過率が高く、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の透過率が低く、かつ波長５５０ｎｍ〜６２０ｎｍに極大吸収を有するフィルターのことである。波長８００〜１２００ｎｍの近赤外領域の透過率は低いほど好ましく、具体的には４０％以下、より好ましくは３０％以下である。前記の近赤外線領域の透過率が高い場合には、本発明の波長選択吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面フィルターの構成部材として使用した場合に、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができない。
本発明において、波長選択吸収フィルターとは、全光線透過率が高く、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の透過率が低く、かつ波長５５０ｎｍ〜６２０ｎｍに極大吸収を有するフィルターのことである。波長８００〜１２００ｎｍの近赤外領域の透過率は低いほど好ましく、具体的には４０％以下、より好ましくは３０％以下である。前記の近赤外線領域の透過率が高い場合には、本発明の波長選択吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面フィルターの構成部材として使用した場合に、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することができない。
さらに、本発明の波長選択吸収フィルターは、波長５５０ｎｍ〜６２０ｎｍに、好ましくは波長５７０ｎｍ〜６００ｎｍに極大吸収を有し、かつシャープな吸収を有することが好ましい。極大吸収波長での透過率は、４０％以下、好ましくは３０％以下の透過率であることが好ましい。波長５５０ｎｍ〜６２０ｎｍにおける透過率が高い場合には、プラズマディスプレイから放出されるネオン光を吸収し、赤の発色を良くするという効果がなくなる。また、この領域の吸収が広い場合には、可視光領域の全体の透過率が下がるため、ディスプレイの輝度が低下する問題がある。波長５５０〜６２０ｎｍ以外の波長４００ｎｍ〜８００ｎｍにおける可視光領域の透過率は、高ければ高いほどよく、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上である。透過率が低い場合には、ディスプレイの発色を妨げ、輝度の低い映像となる。
前記の透過率の調整は、上述の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量により制御することができる。
前記の透過率の調整は、上述の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量により制御することができる。
本発明の波長選択吸収フィルムは、ディスプレイ用途、特にプラズマディスプレイの前面板フィルターとして好適であるため、波長選択吸収フィルムのヘイズは、低い方が好ましい。具体的には、波長選択吸収フィルムのヘイズは、１．５％以下が好ましく、より好ましくは１．０％以下である。ヘイズが高い場合には、ディスプレイが白ぼけた様になり、品位が低下する。ヘイズを低くする方法としては、波長選択吸収フィルム、特に、透明基材フィルム中の粒子の含有量を少なくすることが好適である。また、波長選択吸収層を塗布、乾燥する際に、乾燥条件を過酷な条件で行った場合、透明基材フィルム中のオリゴマーが表面に析出してヘイズが低下するため、ヘイズの値を考慮して乾燥条件を調整することが重要である。
波長選択吸収フィルムは、平面性に優れていることが重要である。ロール状の形態での巾方向で周差がある場合には、ガラス基材等に貼り合わせることが難しくなる。また、流れ方向にトタン状の熱シワがある場合には、貼り合わせ後でも外観が不良となりやすい。波長選択吸収フィルムの平面性を向上させるためには、透明基材フィルム上に波長選択吸収層を設ける際の乾燥条件を弱くし、かつ、平面性を維持した状態で冷却させる等の乾燥条件を最適化し、更には、乾燥時の透明基材フィルムの流れ方向の張力、すなわち、乾燥後のロール形態に巻き取る際の巻取り張力を、生産安定性を維持できる程度に弱くすることが好ましい。
波長選択吸収フィルターの色調は、Ｌａｂ表色系で表現すると、ａ値で−１０．０〜＋１０．０、ｂ値で−１０．０〜＋１０．０とすることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。
波長選択吸収フィルターの色調の調整は、上述の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量、更には、他の色補正色素を混合することにより制御できる。なお、後述の波長選択吸収フィルターの前面または裏面に着色された粘着層や他の機能層（反射防止層、電磁波吸収層、紫外線吸収層など）を積層する場合には、それも含めてナチュラル色に波長選択吸収フィルターの色調を調整することが好ましい。
本発明の波長選択吸収層は、直径３００μｍ以上、より好ましくは１００μｍのサイズの欠点が存在しないように、塗膜外観を良好にすることが好ましい。直径３００μｍ以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置し、画像を表示した際に輝点として検出され、欠点が顕著化される。直径が１００μｍ以上３００μｍ未満の欠点も、粘着加工等の貼り合せにより、レンズ効果により強調される場合があり、できるだけ波長選択吸収層に存在しないように制御しなければならない。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。
波長選択吸収フィルターは、高温・高湿度下に長期間放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温・高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果が発現できなくなる場合がある。
経時安定性を良好にするには、本発明のポストキュア処理以外に、波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減することも有効である。波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減させるためには、波長選択吸収層形成用の塗布液で使用する有機溶媒の種類、塗布層の厚み、乾燥条件等を制御する方法、また、波長選択吸収層を構成する樹脂中の色素の含有量を調整する方法が好適である。なお、波長選択吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほどよく、３質量％以下に制御することが好ましい。波長選択吸収層中の残留溶媒量が３質量％以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、例えば、乾燥を過酷な条件とすると、フィルターの平面性不良や色素の変質などの弊害が発生する。また、減圧乾燥のような熱処理を行わない方法では、生産性が低下する。
本発明において、ディスプレイから放出される有害電磁波を遮断する目的で、波長選択吸収層と同一面、ないしは、反対面に導電層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。該導電層は金属メッシュと導電薄膜の何れを用いても良く、金属メッシュを用いた場合、開口率が５０％以上の金属メッシュ導電層を有していることが好ましい。なぜなら、金属メッシュの開口率が低ければ電磁波シ−ルド性は良好となるが、光線透過率が低下しやすくなるためである。前記の金属メッシュとしては、電気電導性の高い金属箔にエッチング処理を施してメッシュ状にしたもの、金属繊維を使った織物状のメッシュ、高分子繊維の表面に金属をメッキ等の手法を用いて付着させた繊維、が挙げられる。該電磁波吸収層に使われる金属は、電気電導性が高く、安定性が良ければいかなる金属でも良く特に限定されるものではないが、加工性、コストなどの観点より、好ましくは、銅、ニッケル、タングステンなどが好ましい。
また、可視光線透過率をさらに高くするために、前記の導電層の材料に金属酸化物を用いることが好ましい。また、前記の透明導電層の導電率を向上させたい場合は、金属酸化物／金属／金属酸化物の３層以上の繰り返し構造からなる多層膜とすることが好ましい。金属を多層化することで、高い可視光線透過率を維持しながら、導電性を得ることができる。前記の金属酸化物は、導電性と可視光線透過性が高いものであれば、如何なる金属酸化物でもよい。例えば、酸化錫、インジウム酸化物、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマスなどが挙げられる。また、本発明に用いられる金属層は、導電性の観点より、金、銀、及びそれらを含む化合物が好ましい。
更に、導電層を多層化した場合、例えばくり返し層数が３層の場合、銀層の厚さは５０〜２００Åが好ましく、より好ましくは５０〜１００Åである。これよりも膜厚が厚い場合は、光線透過率が低下し、薄い場合は抵抗値が高くなる傾向がある。また、金属酸化物層の厚さは、１００〜１０００Åが好ましく、より好ましくは１００〜５００Åである。金属酸化物層の厚さが、１０００Åを超える場合には、着色により色調が変化しやすくなる。一方、金属酸化物層の厚さが、１００Å未満の場合には、抵抗値が高くなりやすい。さらに、３層以上に多層化する場合、例えば、金属酸化物／銀／金属酸化物／銀／金属酸化物のように５層とした場合、中心の金属酸化物の厚さは、それ以外の金属酸化物層の厚さよりも厚いことが好ましい。このようにすることで、多層膜全体の光線透過率を向上させることができる。
本発明では、波長選択吸収フィルムの波長選択吸収層と同一面、ないしは、反対面に反射防止層、ぎらつき防止層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。
本発明では、波長選択吸収フィルムに、反射防止フィルムや電磁波防止フィルムを、粘着層を介して貼り合せても良い。粘着層としては、公知のものが使用可能であるが、波長選択吸収層上に積層する場合には、イソシアネート、メラミン等の架橋剤を含有しない粘着剤を用いることが好ましい。イソシアネート、メラミン等の架橋剤を含有する粘着剤を用いた場合、架橋剤により粘着層と波長選択吸収層の界面で色素劣化が起こり、耐久性が低下しやすくなる。なお、粘着層を積層後にポストキュア処理を行う場合には、粘着剤に起因する耐久性の低下を抑制することができる。
粘着層を波長選択吸収フィルム上に設ける方法としては、離型フィルム上に粘着層を塗布乾燥した後に波長選択吸収フィルムと貼り合せて粘着層を形成する転写法、波長選択吸収フィルムに粘着剤と塗布乾燥するダイレクト法の２種類がある。好ましくは、波長選択吸収フィルムの平面性不良等の問題が発生しにくい転写法である。
前記の波長選択吸収フィルターでは、耐光性を向上させる目的で、紫外線吸収能を有する層を設けてもよい。紫外線吸収能を付与するためには、波長選択吸収層、透明基材フィルム、粘着剤、反射防止層、ぎらつき防止層のいずれかに紫外線吸収剤を添加すればよい。この紫外線吸収層を有する波長選択吸収フィルターは、紫外線吸収層が波長選択吸収層よりも表面側（ディスプレイ側とは反対側）になるように、ディスプレイの前面に配設することが特に好ましい。紫外線吸収剤は、公知の有機系紫外線防止剤や無機系紫外線防止剤が使用可能である。
次に本発明の実施例及び比較例を示す。また、本発明で使用した特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
＜塗布液粘度＞
２０℃に塗布液を調節し、東京計器製のＢ型粘度計（ＢＬ）を用いて、ローター回転数６０ｒｐｍにて測定した。
２０℃に塗布液を調節し、東京計器製のＢ型粘度計（ＢＬ）を用いて、ローター回転数６０ｒｐｍにて測定した。
＜全光線透過率、ヘイズ＞
ヘイズメータ（日本電色工業製、ＮＤＨ２０００）を用いて、全光線透過率およびヘイズを測定した。
ヘイズメータ（日本電色工業製、ＮＤＨ２０００）を用いて、全光線透過率およびヘイズを測定した。
＜透過率＞
分光光度計（日立製作所製、Ｕ−３５００型）を用いて測定した。なお、室内の空気を透過率の参照とした。
分光光度計（日立製作所製、Ｕ−３５００型）を用いて測定した。なお、室内の空気を透過率の参照とした。
＜色調＞
色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用い、波長選択吸収層側に光が照射するようにして、Ｌａｂ表色系のａ値、ｂ値を、標準光としてＣ光源を用いて、２度視野角で測定した。
色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用い、波長選択吸収層側に光が照射するようにして、Ｌａｂ表色系のａ値、ｂ値を、標準光としてＣ光源を用いて、２度視野角で測定した。
＜経時安定性＞
波長選択吸収フィルムを、温度８０℃、湿度９５％雰囲気中で４８時間処理し、処理前後での色調を測定し、下式（１）より色調の変化量を測定した。
波長選択吸収フィルムを、温度８０℃、湿度９５％雰囲気中で４８時間処理し、処理前後での色調を測定し、下式（１）より色調の変化量を測定した。
変化量＝√（（処理前ａ値―処理後ａ値）2＋（処理前ｂ値―処理後ｂ値）2）
・・・（１）
・・・（１）
＜密着性＞
ＪＩＳ Ｋ ５４００の８．５．１の規定に準じた試験方法で密着性を測定した。具体的には、波長選択吸収フィルムを温度８０℃、湿度９５％雰囲気中で４８時間処理した後に、波長選択吸収層を積層した側から１００個の升目状の切りキズを、隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ（ニチバン社製「４０５番」、２４ｍｍ幅）を、升目状の切りキズ面に貼り付け、アクリル板（住友化学社製「スミペックス」）で擦って完全に付着させた後、垂直に引き剥がした時の状況を目視により観察して観察した。また、必要に応じて、同一箇所で２回同じ評価をおこなった。
◎：同一箇所を２回、密着性の評価を行ったが、いずれも剥離した升目なし。
○：剥離した升目はないが、２回目で剥離した枡目が存在した。
△：剥離した枡目が存在するが、剥離した升目が１０枡目未満。
×：１０枡目以上が剥離。
ＪＩＳ Ｋ ５４００の８．５．１の規定に準じた試験方法で密着性を測定した。具体的には、波長選択吸収フィルムを温度８０℃、湿度９５％雰囲気中で４８時間処理した後に、波長選択吸収層を積層した側から１００個の升目状の切りキズを、隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ（ニチバン社製「４０５番」、２４ｍｍ幅）を、升目状の切りキズ面に貼り付け、アクリル板（住友化学社製「スミペックス」）で擦って完全に付着させた後、垂直に引き剥がした時の状況を目視により観察して観察した。また、必要に応じて、同一箇所で２回同じ評価をおこなった。
◎：同一箇所を２回、密着性の評価を行ったが、いずれも剥離した升目なし。
○：剥離した升目はないが、２回目で剥離した枡目が存在した。
△：剥離した枡目が存在するが、剥離した升目が１０枡目未満。
×：１０枡目以上が剥離。
＜平面性＞
平坦な台の上に、波長選択吸収フィルムを置き、３波長の蛍光灯下で目視観察した。
○：台上からフィルムの浮きがなく、かつ、表面に映る蛍光灯の形に歪なし。
△：台上からフィルムの浮きがないが、表面に映る蛍光灯の形が歪んでみえる。
×：台上からフィルムの浮きあり。
平坦な台の上に、波長選択吸収フィルムを置き、３波長の蛍光灯下で目視観察した。
○：台上からフィルムの浮きがなく、かつ、表面に映る蛍光灯の形に歪なし。
△：台上からフィルムの浮きがないが、表面に映る蛍光灯の形が歪んでみえる。
×：台上からフィルムの浮きあり。
実施例１
（基材）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート樹脂を２軸スクリュー押出機に投入し、Ｔ−ダイスから２９０℃で溶融押出しし、冷却回転金属ロール上で静電印加を付与しながら密着固化させ、未延伸シートを得た。
次いで、該未延伸シートをロール延伸機で９０℃に加熱して、３．５倍で縦延伸を行った後、縦延伸フィルム上に下記塗布液Ａを乾燥後の塗布量が０．５ｇ／ｍ2 となるように両面に塗布し、風速１０ｍ／秒、１２０℃の熱風下で２０秒通過させて、中間層を形成させた。さらに、テンターで１４０℃に加熱して３．７倍横延伸したあと、２３５℃で幅（横）方向に５％緩和させながら熱処理してフィルムを得た。得られた塗布層を有する二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは、厚みが１００μｍ、全光線透過率が９０．２％で、ヘイズが０．５％であった。
（基材）
固有粘度０．６２ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレート樹脂を２軸スクリュー押出機に投入し、Ｔ−ダイスから２９０℃で溶融押出しし、冷却回転金属ロール上で静電印加を付与しながら密着固化させ、未延伸シートを得た。
次いで、該未延伸シートをロール延伸機で９０℃に加熱して、３．５倍で縦延伸を行った後、縦延伸フィルム上に下記塗布液Ａを乾燥後の塗布量が０．５ｇ／ｍ2 となるように両面に塗布し、風速１０ｍ／秒、１２０℃の熱風下で２０秒通過させて、中間層を形成させた。さらに、テンターで１４０℃に加熱して３．７倍横延伸したあと、２３５℃で幅（横）方向に５％緩和させながら熱処理してフィルムを得た。得られた塗布層を有する二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは、厚みが１００μｍ、全光線透過率が９０．２％で、ヘイズが０．５％であった。
（中間層用塗布液Ａの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・アクリル−メラミン樹脂 １０．０質量％
（日本カーバイド工業製、Ａ−０８、固形分濃度：４６質量％）
・ポリエステル系樹脂 １０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・アクリル−メラミン樹脂 １０．０質量％
（日本カーバイド工業製、Ａ−０８、固形分濃度：４６質量％）
・ポリエステル系樹脂 １０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
（波長選択吸収層の積層）
下記の塗布液Ｂ（固形分濃度：２１．９質量％、粘度：２０ｃｐｓ）を上記の中間層上に乾燥後の塗布量が９．３ｇ／ｍ2になるように直径６０ｃｍの斜線グラビアを用いてリバース方式で塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１６０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、波長選択吸収層を積層した。
下記の塗布液Ｂ（固形分濃度：２１．９質量％、粘度：２０ｃｐｓ）を上記の中間層上に乾燥後の塗布量が９．３ｇ／ｍ2になるように直径６０ｃｍの斜線グラビアを用いてリバース方式で塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１６０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥し、波長選択吸収層を積層した。
（波長選択吸収層用の塗布液Ｂ）
波長選択吸収層用の塗布液Ｂを、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度１μｍのフィルターで未溶解物を除去して作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。
・メチルエチルケトン ３９．０４２質量％
・トルエン ３９．０４３質量％
・アクリル系樹脂 ２０．７５７質量％
（三菱レイヨン製、ＢＲ−８０）
・ジインモニウム塩系化合物 ０．６５３質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８５）
・フタロシアニン系化合物 ０．３３１質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１０Ａ）
・アザポルフィリン系色素 ０．１１６質量％
（山田化成製、ＴＡＰ−２）
・シリコーン系界面活性剤 ０．０５８質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
波長選択吸収層用の塗布液Ｂを、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度１μｍのフィルターで未溶解物を除去して作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。
・メチルエチルケトン ３９．０４２質量％
・トルエン ３９．０４３質量％
・アクリル系樹脂 ２０．７５７質量％
（三菱レイヨン製、ＢＲ−８０）
・ジインモニウム塩系化合物 ０．６５３質量％
（日本カーリット製、ＣＩＲ−１０８５）
・フタロシアニン系化合物 ０．３３１質量％
（日本触媒製、ＩＲ−１０Ａ）
・アザポルフィリン系色素 ０．１１６質量％
（山田化成製、ＴＡＰ−２）
・シリコーン系界面活性剤 ０．０５８質量％
（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）
（ポストキュア処理）
前記の波長選択吸収フィルムに、４０℃の環境下で１００時間ポストキュア処理を行った。
前記の波長選択吸収フィルムに、４０℃の環境下で１００時間ポストキュア処理を行った。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域（８６０ｎｍ、９５０ｎｍ）の吸収が強く、ネオン光領域（５９０ｎｍ）に吸収を有し、全光線透過率が高いフィルムが得られた。また、経時安定性も良好であった。
実施例２〜６
実施例１において、ポストキュア処理を表１記載の条件で行ったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。実施例２〜６は本発明の範囲であり、経時安定性が良好であった。
実施例１において、ポストキュア処理を表１記載の条件で行ったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。実施例２〜６は本発明の範囲であり、経時安定性が良好であった。
比較例１
実施例１において、ポストキュア処理を実施しなかったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域（８６０ｎｍ、９５０ｎｍ）の吸収が強く、ネオン光領域（５９０ｎｍ）に吸収を有し、全光線透過率が高いフィルムが得られた。しかし、経時安定性は不良であった。
実施例１において、ポストキュア処理を実施しなかったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。近赤外領域（８６０ｎｍ、９５０ｎｍ）の吸収が強く、ネオン光領域（５９０ｎｍ）に吸収を有し、全光線透過率が高いフィルムが得られた。しかし、経時安定性は不良であった。
比較例２〜４
実施例１において、ポストキュア処理を表１記載の条件で行ったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１において、ポストキュア処理を表１記載の条件で行ったこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
比較例５
比較例１において、塗布液Ｂを塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１８０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥したこと以外は比較例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。乾燥条件を強くして、波長選択吸収層中の残留溶剤量を低減したため、経時安定性は良好であった。しかしながら、乾燥が強いため、近赤外線吸収色素が乾燥中に劣化し９５０ｎｍの透過率が高くなるとともに、熱シワによりフィルムの平面性が不良となった。
比較例１において、塗布液Ｂを塗工し、４０℃で５ｍ／秒の熱風で２０秒間、１８０℃で２０ｍ／秒の熱風で２０秒間、さらに、９０℃で２０ｍ／秒の熱風で１０秒間通過させて乾燥したこと以外は比較例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
得られた波長選択吸収フィルムの物性を表１に示す。乾燥条件を強くして、波長選択吸収層中の残留溶剤量を低減したため、経時安定性は良好であった。しかしながら、乾燥が強いため、近赤外線吸収色素が乾燥中に劣化し９５０ｎｍの透過率が高くなるとともに、熱シワによりフィルムの平面性が不良となった。
実施例７
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｃを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｃの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・メラミン含有の自己架橋型アクリル樹脂 ２０．０質量％
（日本カーバイド工業製、Ａ−０８、固形分濃度：４６質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｃを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｃの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・メラミン含有の自己架橋型アクリル樹脂 ２０．０質量％
（日本カーバイド工業製、Ａ−０８、固形分濃度：４６質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例８
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｄを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｄの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・イソシアネート含有自己架橋型ウレタン樹脂 ２０．０質量％
（第一工業製薬製、Ｈ−３、固形分濃度：４０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｄを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｄの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・イソシアネート含有自己架橋型ウレタン樹脂 ２０．０質量％
（第一工業製薬製、Ｈ−３、固形分濃度：４０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例９
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｅを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｅの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・イソシアネート含有自己架橋型ウレタン樹脂 １０．０質量％
（第一工業製薬製、Ｈ−３、固形分濃度：４０質量％）
・ポリエステル系樹脂 １０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｅを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｅの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・イソシアネート含有自己架橋型ウレタン樹脂 １０．０質量％
（第一工業製薬製、Ｈ−３、固形分濃度：４０質量％）
・ポリエステル系樹脂 １０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例１０
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｆを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｆの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・ポリエステル系樹脂 ２０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
実施例１において、中間層を下記の塗布液Ｆを用いて形成させたこと以外は実施例１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
（中間層用塗布液Ｆの組成）
・イオン交換水 ５０．０質量％
・イソプロピルアルコール ２８．９質量％
・ポリエステル系樹脂 ２０．０質量％
（東洋紡績製、ＭＤ−１２５０、固形分濃度：３０質量％）
・有機粒子（ポリメタクリル酸エステル系架橋体） １．０質量％
（日本触媒製、エポスターＭＡ１００１）
・界面活性剤 ０．１質量％
（ダウコーニング株式会社製、ペインタッド３２）
比較例６
実施例１０において、ポストキュア処理を実施しなかったこと以外は実施例１０と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１０において、ポストキュア処理を実施しなかったこと以外は実施例１０と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例７〜１０、比較例６で得られた波長選択吸収フィルムの物性を表２に示す。架橋剤を有する中間層を用いた場合には、密着性が良好で、経時安定性が良好であった。架橋剤を有さない中間層を用いた場合には、密着性にやや問題あるが、経時安定性は良好であった。比較例１は、ポストキュアも実施せず、かつ、中間層中に架橋剤が存在しないため、経時安定性は良好であるが、密着性が不良であった。
実施例１１
離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製、Ｅ７００２）上に、下記の粘着層形成用塗布液Ｇを乾燥後の塗工量が２５ｇ／ｍ2になるように塗工し、１００℃で１分間乾燥した。次いで、実施例１のポストキュア処理前の波長選択吸収フィルムの波長選択吸収層側に、粘着層を圧着して貼り付け、粘着層を積層した。次いで、４０℃の環境下で１００時間ポストキュア処理を行い、粘着層付き波長選択吸収フィルムを得た。
（粘着層形成用塗布液Ｇの組成）
・アクリル酸エステル ９６．００質量％
（日本カーバイド工業製、ＫＰ−１４２０、固形分４０質量％）
・メラミン樹脂 ２．０質量％
（日本カーバイド工業製、ＣＫ−３００）
・メラミン樹脂 ２．０質量％
（日本カーバイド工業製、ＣＫ−９０２）
離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製、Ｅ７００２）上に、下記の粘着層形成用塗布液Ｇを乾燥後の塗工量が２５ｇ／ｍ2になるように塗工し、１００℃で１分間乾燥した。次いで、実施例１のポストキュア処理前の波長選択吸収フィルムの波長選択吸収層側に、粘着層を圧着して貼り付け、粘着層を積層した。次いで、４０℃の環境下で１００時間ポストキュア処理を行い、粘着層付き波長選択吸収フィルムを得た。
（粘着層形成用塗布液Ｇの組成）
・アクリル酸エステル ９６．００質量％
（日本カーバイド工業製、ＫＰ−１４２０、固形分４０質量％）
・メラミン樹脂 ２．０質量％
（日本カーバイド工業製、ＣＫ−３００）
・メラミン樹脂 ２．０質量％
（日本カーバイド工業製、ＣＫ−９０２）
実施例１２
実施例１１において、４０℃の環境下で２００時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１１において、４０℃の環境下で２００時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１３
実施例１１において、４０℃の環境下で１０００時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１１において、４０℃の環境下で１０００時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
比較例７
実施例１１において、ポストキュア処理を行わなかったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１１において、ポストキュア処理を行わなかったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
比較例８
実施例１１において、４０℃の環境下で２０時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１１において、４０℃の環境下で２０時間ポストキュア処理を行ったこと以外は実施例１１と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
実施例１１〜１３、比較例７、８で得られた波長選択吸収フィルムの物性を表３に示す。波長選択吸収層上に粘着層を形成すると、経時安定性は不良となるが、ポストキュア処理により粘着層を積層しないものよりも、経時安定性が良好となった。
本発明の波長選択吸収フィルムは、可視光領域の透過率が高く、近赤外領域の透過率が低く、ネオン光領域に選択的な吸収を有し、高温・高湿下で品質の経時安定性が良好であり、且つ平面性に優れるため、プラズマディスプレイの前面に設置することにより鮮明度が高い映像を表現でき、かつ、近赤外線リモコンを用いて精密機器の誤動作を長期間防止することができ、産業界に寄与することが大である。
Claims (6)
- プラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面に設置してなることを特徴とする波長選択吸収フィルターであって、
前記プラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムが、透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後に、ポストキュア処理することにより得られるプラズマディスプレイ用波長選択吸収層を設けた波長選択吸収フィルムであって、前記の近赤外線吸収色素がジイモニウム塩系化合物を少なくとも含有し、ポストキュアの処理条件は２５℃以上７０℃以下で処理時間（ｈｒ）との積が１０００（℃・ｈｒ）以上であることを特徴とする波長選択吸収フィルター。 - 透明基材フィルムと波長選択吸収層の間に中間層を有することを特徴とする請求項１に記載の波長選択吸収フィルター。
- 前記中間層が、メラミン、エポキシ、イソシアネートから選ばれる架橋剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の波長選択吸収フィルター。
- 前記のネオンカット色素がアザポルフィリン系であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の波長選択吸収フィルター。
- 透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させて波長選択吸収層を積層させ、更に粘着層を転写法あるいはダイレクト法で積層した後に、ポストキュア処理することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の波長選択吸収フィルター。
- 透明基材フィルム上に、波長８００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する近赤外線吸収色素、波長５５０〜６２０ｎｍに極大吸収を有するネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後、ポストキュア処理することにより得られる波長選択吸収層を設けたプラズマディスプレイの前面に設置してなるプラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムの製造方法であって、前記の近赤外線吸収色素がジイモニウム塩系化合物を少なくとも含有し、前記のポストキュア処理の熱処理条件が２５℃以上５０℃以下で処理時間（ｈｒ）との積が１０００（℃・ｈｒ）以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用波長選択吸収フィルムの製造方法。
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