JP2005114842A - 近赤外線遮蔽体およびそれを用いたディスプレイ用前面板 - Google Patents

Abstract

【課題】 粘着剤層と近赤外線吸収層とが接した状態で、高温、高湿などの条件下で長期保存または使用しても、近赤外線の吸収能が低下しない近赤外線遮蔽体およびそれを用いたディスプレイ用前面板を提供する。
【解決手段】 基材１と、基材１の一方の主面に配置された近赤外線吸収層２と、近赤外線吸収層２の基材１側の面の反対面に接して配置された粘着剤層３とを備え、近赤外線吸収層２が８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物を含み、粘着剤層３がカルボキシル基を含む樹脂を含み、前記樹脂の酸価値が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である近赤外線遮蔽体とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルなどの前面フィルタの材料として使用できる、近赤外線遮蔽体およびそれを用いたディスプレイ用前面板に関する。

近年、大型テレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとして、プラズマディスプレイパネルの需要が増大している。プラズマディスプレイパネルでは、電極を付けた２枚のガラス基板の間にキセノンとネオンとを含む混合ガスが封入されており、ガラス基板には蛍光体が塗布されている。混合ガスに高電圧をかけて放電させると紫外線が発生し、この紫外線が蛍光体にあたって発光する。上記放電の際には、紫外線と同時に波長が８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線も放射されてしまうが、近赤外線の波長は、近赤外線通信や家庭用電子機器のリモートコントロールの波長域と重なるため、プラズマディスプレイパネルから放射される近赤外線は、リモートコントロールの誤作動を引き起こす原因となる。そのため、従来からプラズマディスプレイパネルに近赤外線吸収層を含む前面フィルタを設けて、近赤外線を吸収している（例えば、非特許文献１、特許文献１参照。）。
花岡ほか、「反射防止膜の特性と最適設計・膜作製技術」、第１版第２刷、株式会社技術情報協会、２００２年２月５日、１８４頁 特開平１１−３０５０３３号公報

しかし、前面フィルタが、上記近赤外線吸収層をプラズマディスプレイパネルのガラス板に貼り合わせるための粘着剤層を含む構造である場合、前面フィルタは粘着剤層と近赤外線吸収層とが接した状態で存在することになる。この前面フィルタは、粘着剤層と近赤外線吸収層とが接した状態で高温、高湿などの条件下で長期保存または使用されると、粘着剤層に含まれる樹脂と近赤外線吸収層に含まれる色素とが反応することがあり、近赤外線吸収層による近赤外線の吸収能が低下する問題点があった。

本発明は、基材と、前記基材の一方の主面に配置された近赤外線吸収層と、前記近赤外線吸収層の前記基材側の面の反対面に接して配置された粘着剤層とを備えた近赤外線遮蔽体であって、前記近赤外線吸収層が８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物を含み、前記粘着剤層がカルボキシル基を含む樹脂を含み、前記樹脂の酸価値が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする近赤外線遮蔽体を提供する。

また、本発明は、基板上に、上記近赤外線遮蔽体が配置されていることを特徴とするディスプレイ用前面板を提供する。

本発明は、粘着剤層と近赤外線吸収層とが接した状態で、高温、高湿などの条件下で長期保存または使用しても、粘着剤層に含まれる樹脂と近赤外線吸収層に含まれる色素との反応が抑制でき、近赤外線吸収層による近赤外線の吸収能が低下しない近赤外線遮蔽体およびそれを用いたディスプレイ用前面板を提供できる。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。

（実施形態１）
図１は、本発明の近赤外線遮蔽体の一例を示す断面図である。本実施形態の近赤外線遮蔽体は、基材１と、基材１の一方の主面上に形成された近赤外線吸収層２と、近赤外線吸収層２の上に形成された粘着剤層３とを備えている。また、基材１の他方の主面上にはハードコート層４が形成され、ハードコート層４の上には３層からなる反射防止層５が形成されている。さらに、反射防止層５は、基材１の側から順に中屈折率層５ａ、高屈折率層５ｂ、低屈折率層５ｃから形成されている。

基材１の材料は、透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。フィルム状またはシート状への加工方法としては、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。基材１の厚さは、１０μｍ〜５００μｍ程度であることが好ましい。なお、上記樹脂には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。

近赤外線吸収層２の材料は、８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物を含む透光性を有する材料であれば特に制限されない。通常は、８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物を分散させた樹脂が用いられる。８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物としては、その波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が好ましく、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系などの有機色素を用いることができる。プラズマディスプレイパネルの前面フィルタとして使用する場合には、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域において透過率を２０％以下にする必要があり、特に波長９００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域においては透過率を１０％以下にする必要があるので、上記有機色素を２種類以上併用して使用することが好ましく、ジイモニウム系色素とシアニン系色素あるいはフタロシアニン系色素とを併用することがより好ましい。

上記樹脂としては、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることができ、またこれらの樹脂の２種以上がブレンドされたポリマーブレンドも用いることができる。特に、ガラス転移温度が８０℃以上の樹脂を用いると、上記有機色素との相溶性が良好になるので好ましい。樹脂と色素との相溶性が良好であると、色素が樹脂に強く固定化され、色素が安定化するため、耐熱性、耐温湿度特性に優れる。

近赤外線吸収層２のＨａｚｅ値は１％以下であることが好ましい。Ｈａｚｅ値が１％を超えると、プラズマディスプレイパネルの前面フィルターとして使用した場合、画像の鮮やかさが損なわれるといった不都合が生じる。なお、Ｈａｚｅ値とは、ＪＩＳ Ｋ７１０５で規定された曇り度に関する値である。

波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域において透過率が変化せず、樹脂との相溶性が変化しなければ、近赤外線吸収層２には、プラズマディスプレイパネルのネオン輝線スペクトル（オレンジ色）をカットする化合物を適宜添加することも可能である。これにより、プラズマディスプレイパネルにおいて、赤色をより鮮やかに発色させることができる。ネオン輝線スペクトルをカットする化合物としては、５８０ｎｍ〜６２０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が使用でき、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系などの有機色素を用いることができる。

近赤外線吸収層２を温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率は、上記条件では基材フィルムの変化も生じることもあるので、０．５％以上１０％以下が望ましい。特に、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率が１０％以上を超えると、リモートコントロールの誤作動が生じやすくなるため好ましくない。

基材１の上に近赤外線吸収層２を形成する方法については特に制限はなく、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法により形成できる。近赤外線吸収層２の厚さは、２μｍ〜１５μｍが好ましく、３μｍ〜１０μｍがより好ましい。近赤外線吸収層２の厚さが２μｍを下回ると、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの光の透過率を２０％以下にするためには樹脂に対する近赤外線吸収色素の添加量を増加させる必要があり、その結果未溶解の近赤外線吸収色素が生じてＨａｚｅ値が大きくなってしまうという問題が生じる。また、厚さが１５μｍを超えると、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの光の透過率を１５％以下に維持できるものの塗膜中に溶剤が残り、この残存溶剤が経時的に色素を再溶解するため問題となりうる。

粘着剤層３の材料は、−４０℃〜８０℃で粘着性を有する透光性のある材料であって、カルボキシル基を含む樹脂を含み、上記樹脂の酸価値が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが必要であり、上記樹脂の酸価値は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。具体的には、カルボキシル基を含むアクリル系樹脂が使用可能である。このアクリル系樹脂は、アクリル酸などを単独に重合した重合体を使用でき、またアクリル酸とオレフィン系モノマーまたはビニル系モノマーとの共重合体も使用可能である。例えば、アクリル酸とスチレン、エチレン、酢酸ビニルなどとを共重合させると粘着性、光学特性の両立が可能となり好ましい。なお、カルボキシル基は、アクリル酸以外のモノマーに含ませてもよい。このように、共重合させるモノマーにカルボキシル基を含有させると、カルボキシル基と後述する架橋剤とが反応して粘着剤を架橋させることができ、粘着剤層３と近赤外線吸収層２との剥離が防止され、粘着剤層３の機械的強度が向上するため好ましい。

上記樹脂の酸価値が２．５ｍｇＫＯＨ／ｇを下回ると粘着剤層３の機械的強度が向上しないため、酸価値は２．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。また、上記樹脂の酸価値が２０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると近赤外線吸収層２に用いられている有機色素がカルボキシル基と反応して色素が劣化するため、酸価値は２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが必要であり、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

粘着剤層３には、架橋剤を含有させることが好ましい。架橋剤としては、カルボキシル基と架橋可能なものであれば特に制限されずに使用可能である。架橋剤の添加量は、粘着剤層３の全重量に対して０．０１重量％〜５重量％の範囲が好ましい。また、粘着剤層３には、プラズマディプレイの色調補正をするための顔料をさらに添加することも可能である。この色調補正顔料としては、例えば、縮合アゾ顔料、銅フタロシアニン顔料、カーボンブラックなどの顔料が使用できる。

粘着剤層３を近赤外線吸収層２の上に形成する方法としては、上記粘着剤、架橋剤、色調補正顔料を分散させた分散液を、ポリエチレンテレフタレートなどからなる保護フィルム上に塗布して架橋させて粘着剤層を形成した後、その粘着剤層の上にさらに同様の保護フィルムを貼り合わせて保護フィルム付き粘着剤層フィルムを作製し、一方の保護フィルムを剥離しながらラミネータなどにより粘着剤層を近赤外線吸収層２の上面に貼り合わせる方法が採用できる。なお、図１では、残った他の一方の保護フィルムの図示は省略している。

上記近赤外線吸収層２に色調補正した粘着剤層３を貼り合わせたフィルムのみでも近赤外線遮蔽体として機能するが、さらの裏面側に反射防止層を設けて、一枚のフィルムで機能を複合化させることも可能である。反射防止層を構成するには、後述のようにハードコート層を介して屈折率の異なる層を積層させ、屈折率の干渉を用いて外光の反射を低減させる方法が一般的である。

ハードコート層４の材料は、硬度が高く透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系などの熱硬化型樹脂組成物、あるいは多官能または単官能のアクリレートモノマー、オリゴマーと光重合開始剤、各種添加剤とを含有する放射線硬化型樹脂組成物などを用いることができるが、特に表面硬度が高い放射線硬化型樹脂組成物が好ましい。さらに、上記樹脂に無機微粒子を添加することにより、より高い表面硬度が得られるとともに、樹脂の硬化による収縮を緩和できる。無機微粒子の材料としては、例えば、二酸化ケイ素（シリカ）、錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化ジルコニウムなどを用いることができる。

基材１の上にハードコート層４を形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。ハードコート層２の厚さは、１μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜７μｍがより好ましい。

中屈折率層５ａの材料は、屈折率ｎ_mが１．５５〜１．６５、より好ましくは１．５７〜１．６３で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、屈折率の高い無機微粒子を熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。上記無機微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化錫、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ＩＴＯ)、アンチモンドープ酸化錫(ＡＴＯ)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの微粒子を用いることができる。中でも高い導電性を有するＩＴＯ微粒子またはＡＴＯ微粒子を用いることでフィルムの帯電を防止する効果が得られるので特に好ましい。

ハードコート層４の上に中屈折率層５ａを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。中屈折率層５ａの屈折率ｎ_mとその厚さｄ_mとの積ｎ_mｄ_m（光学厚さ）は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましく、１１０ｎｍ〜１４０ｎｍがより好ましい。

高屈折率層５ｂの材料は、屈折率ｎ_hが１．７５〜１．８５、より好ましくは１．７６〜１．８４で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、屈折率の最も高い無機微粒子である酸化チタン微粒子を熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。高屈折率層５ｂは、このコーティング組成物が強固に架橋した膜として形成される。また、酸化チタン微粒子のうち、アナターゼ構造のものには光触媒作用があり、紫外線の照射により塗膜を構成する樹脂成分や基材などの有機物を分解してしまう問題がある。そのため、光触媒作用が弱く、かつ屈折率も高いルチル構造の酸化チタン微粒子が好適に使用される。酸化チタン微粒子の量は、硬化後の高屈折率層５ｂの全重量に対して５０重量％〜６５重量％が好ましい。

中屈折率層５ａの上に高屈折率層５ｂを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。高屈折率層５ｂの屈折率ｎ_hとその厚さｄ_hとの積ｎ_hｄ_h（光学厚さ）は２１０ｎｍ〜２６０ｎｍが好ましく、２２０ｎｍ〜２５０ｎｍがより好ましい。

また、上記高屈折率層５ｂ中の有機成分の一部に、屈折率が１．６０〜１．８０、より好ましくは１．６５〜１．７５の範囲内にある有機成分を含有させることが好ましい。これにより、高屈折率層５ｂ中の酸化チタン微粒子の量を低減しても屈折率を高めることができる。また、酸化チタン微粒子の量を低減することにより、高屈折率層５ｂ中における有機成分の架橋性の低下が防止でき、有機成分（樹脂）の硬化が促進されて、反射防止フィルムの耐擦傷性が向上する。上記有機成分の屈折率が１．６０未満では、高屈折率層５ｂ中の酸化チタン微粒子の量の低減効果が不十分となり、１．８０を超えると反射光の黄色味が強くなる傾向があり好ましくない。屈折率が１．６０〜１．８０の範囲内にある有機成分となり得る高屈折率有機材料としては、芳香環、硫黄、臭素などを含有する有機化合物が挙げられ、例えば、ジフェニルスルフィドおよびその誘導体などを用いることができる。

低屈折率層５ｃの材料は、屈折率ｎ_lが１．３５〜１．４５、より好ましくは１．３５〜１．４３で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、フッ素系またはシリコーン系の有機化合物、シリカ、フッ化マグネシウムなどの無機微粒子などを、熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。特に、放射線硬化型樹脂組成物のうち紫外線硬化型樹脂組成物を用いる場合には、酸素による重合阻害を防止するため、窒素などの不活性ガスをパージして酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下程度になる条件下にて紫外線照射を行うことが好ましい。

高屈折率層５ｂの上に低屈折率層５ｃを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。低屈折率層５ｃの屈折率ｎ_lとその厚さｄ_lとの積ｎ_lｄ_l（光学厚さ）は、１２０ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍがより好ましい。

（実施形態２）
図２は、本発明のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。本実施形態のディスプレイ用前面板１１は、強化ガラスなどの基板１２の一方の主面上に実施形態１の近赤外線遮蔽体１３が配置され、他方の主面上に電磁波遮蔽体１４が配置されている。また、１５は電極（アース）であり、電磁波遮蔽体１４の金属層と接続している。このように、実施形態１の近赤外線遮蔽体１３を用いることにより、可視光線波長領域における反射率が低いとともに近赤外線吸収機能をも有し、かつ電磁波遮蔽機能をも有するディスプレイ用前面板を提供できる。

次に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
基材として、表裏両面を易接着処理した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに、ポリエステル樹脂（ユニチカ社製“エリーテルＵＥ３６９０”）１００部、近赤外線吸収イモニウム色素（日本化薬社製“ＫＡＹＡＳＯＲＢ ＩＲＧ−０２２”）９．５重量部、近赤外線吸収フタロシアニン色素（日本触媒社製“イーエクスカラーＩＲ−１２”）３．２重量部、およびネオン光カット色素（旭電化工業社製“アートクルズＴＹ−１００”）２．２重量部、メチルエチルケトン２５６重量部、トルエン２５６重量部を溶解して撹拌したコーティング液を、乾燥後の厚さが３μｍになるようにマイクログラビアコータを用いて塗布し、近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルムを得た。

上記近赤外線吸収フィルムの分光特性を分光光度計（日本分光社製“Ｕ−Ｂｅｓｔ Ｖ−５７０”）にて測定したところ、図３に示すように５９６ｎｍでの透過率３４％、８５０ｎｍ〜９００ｎｍでの透過率は１５％以下、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの透過率は１０％以下、Ｈａｚｅ値は０．８％であった。

また、上記近赤外線吸収フィルムを温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率を測定したところ、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域にわたって透過率の変化率は５％以下であった。

ここで、透過率の変化率は下記式１から算出した。

（数１）
変化率（％）＝（│Ｔ_int(WL)−Ｔ_end(WL)│／Ｔ_int(WL)）×１００ （式１）
式１において、Ｔ_int(WL)は上記保存前の波長ＷＬでの透過率、Ｔ_end(WL)は保存後の波長ＷＬでの透過率を表す。

次に、ｎ−ブチルアクリレート９５重量部、アクリル酸５重量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート０．２重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル４０重量部、およびトルエン６０重量部を窒素雰囲気下で６５℃で１０時間重合反応を行い、酸価値５ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリルポリマー溶液を調製した。また、架橋剤であるポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製“コロネートＬ”）１重量部と、色調補正顔料である紫色有機顔料（大日本インキ化学工業社製“FastgenSuper VioletRN”）０．０５重量部および青色有機顔料（東洋インク製造社製“Lionol Blue ES V”）０．０２５重量部をメチルエチルケトン１００重量部に分散処理した分散液を調製した。このアクリルポリマー溶液１００重量部に対してこの分散液５重量を混合し、この混合液を、表裏両面を易接着処理した厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる保護フィルムに、乾燥後の厚さが２５μｍになるようにグラビアコータを用いて塗布し、粘着剤層を形成し、粘着剤層の上にさらに同様の保護フィルムを貼り合わせて、３０℃で１０日間保存することにより架橋反応を促進させ、保護フィルム付き粘着剤フィルムを形成した。

続いて、上記保護フィルム付き粘着剤フィルムを一方の保護フィルムを剥がしながら上記近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の上面にラミネータを用いて貼り合わせ、実施例１の近赤外線遮蔽体を得た。

上記近赤外線遮蔽体の分光特性を上記分光光度計にて測定したところ、図４に示すように５９３ｎｍでの透過率３０％、８５０ｎｍ〜９００ｎｍの透過率は１５％以下、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの透過率は１０％以下、Ｈａｚｅ値は０．９％であった。

また、上記近赤外線遮蔽体を温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率は、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域にわたって５％以下であった。

（実施例２）
実施例１の近赤外線吸収フタロシアニン色素（日本触媒社製“イーエクスカラーＩＲ−１２”）を近赤外線吸収シアニン色素（山田化学社製“ＩＲ−３０１”）に変更した以外は、実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルムを作製した。

上記近赤外線吸収フィルムの分光特性を分光光度計（日本分光社製“Ｕ−Ｂｅｓｔ Ｖ−５７０”）にて測定したところ、実施例１と同様な分光スペクトルを示し、５９６ｎｍでの透過率３２％、８５０ｎｍ〜９００ｎｍの透過率は１５％以下、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの透過率は１０％以下、Ｈａｚｅ値は０．８％であった。また、上記近赤外線吸収フィルムを温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化量は、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域にわたって６．５％以下であった。

さらに、上記近赤外線吸収フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして実施例２の近赤外線遮蔽体を作製した。

上記近赤外線遮蔽体の分光特性を上記分光光度計にて測定したところ、実施例１と同様な分光スペクトルを示し、５９３ｎｍでの透過率２８％、８５０ｎｍ〜９００ｎｍの透過率は１５％以下、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの透過率は１０％以下、Ｈａｚｅ値は０．９％であった。また、上記近赤外線遮蔽体を温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率は、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域にわたって６．７％以下であった。

（実施例３）
基材として、表裏両面を易接着処理した厚さ１００μｍの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製“ルミラーＱＴ５８”）を用いた以外は、実施例１と同様にして近赤外線遮蔽体を作製した。次に、シリカ超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(ＪＳＲ社製“デソライトＺ７５０１”)１００重量部とシクロヘキサノン３５重量部とを混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記ＰＥＴフィルムの近赤外線吸収層が形成されていない表面に、マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記ＰＥＴフィルムの上記表面に厚さ４μｍのハードコート層を形成した。

次に、無機超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型コート材(ＪＳＲ社製“オプスターＴＵ４００５”)１００重量部、多官能アクリレート(日本化薬社製“ＤＰＨＡ”)５重量部、およびシクロヘキサノン２００重量部を混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記ハードコート層の上に、マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記ハードコート層の表面に厚さ７２ｎｍの中屈折率層（屈折率１．６０）を形成した。

続いて、酸化チタン超微粒子(石原テクノ社製“ＴＴＯ５５(Ａ)”）３０重量部、ジメチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学社製“ライトエステルＤＭ”)１重量部、リン酸基含有メタクリレート(日本化薬社製“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”)４重量部、シクロヘキサノン６５重量部を混合した組成物をサンドグラインドミルにて分散して酸化チタン超微粒子分散体を調製し、これにアクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(三洋化成工業社製“サンラッドＨ−６０１Ｒ”)１５重量部、メチルイソブチルケトン６００重量部を配合分散してコーティング液を調製した。このコーティング液を上記中屈折率層の上に、マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記中屈折率層の表面に厚さ１３０ｎｍの高屈折率層(固形分中に占める酸化チタン微粒子の量６０重量％、屈折率１．８０)を形成した。

さらに、フッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止材(ＪＳＲ社製“オプスターＴＴ１００６”)１００重量部とメチルイソブチルケトン２０重量部とを混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記高屈折率層の上に、マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、１２０℃で６分間熱処理を行い、上記高屈折率層の表面に厚さ９２ｎｍの低屈折率層(屈折率１．４１)を形成した。

以上のようにして実施例３の近赤外線遮蔽体を得た。次に、この近赤外線遮蔽体の反射率を分光光度計(日本分光社製“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”)を用いて測定したところ、図５に示すように反射率は、波長４００ｎｍ〜７４０ｎｍの全領域で１％以下であった。

（比較例１）
実施例１で用いたアクリルポリマー溶液の組成を、ｎ−ブチルアクリレート８０重量部、アクリル酸１５重量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート０．２重量部、アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル４０重量部、およびトルエン６０重量部とし、そのアクリルポリマー溶液の酸価値を２２ｍｇＫＯＨ／ｇとした以外は、実施例１と同様にして、比較例１の近赤外線遮蔽体を得た。

上記近赤外線遮蔽体の分光特性を分光光度計日本分光社製“Ｕ−Ｂｅｓｔ Ｖ−５７０”）にて測定したところ、５９３ｎｍでの透過率２８％、８５０ｎｍ〜９００ｎｍの透過率は１５％以下、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの透過率は１０％以下、Ｈａｚｅ値は０．９％であった。また、上記近赤外線遮蔽体を温度８０℃で１０００時間保存後、および温度６０℃、湿度９０％で１０００時間保存後のそれぞれの波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの領域での透過率の変化率は、温度８０℃保存で２６％、温度６０℃、湿度９０％保存で３５％となった。

本発明は、粘着剤層と近赤外線吸収層とが接した状態で、高温、高湿などの条件下で長期保存または使用しても、近赤外線の吸収能が低下しない近赤外線遮蔽体を提供できる。また、本発明の近赤外線遮蔽体を用いることにより、電子ディスプレイ、特にプラズマディスプレイパネルに好適なディスプレイ用前面板を提供できる。

本発明の近赤外線遮蔽体の一例を示す断面図である。 本発明のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。 実施例１の近赤外線吸収フィルムの透過率を示す図である。 実施例１の近赤外線遮蔽体の透過率を示す図である。 実施例３の近赤外線遮蔽体の反射率を示す図である。

符号の説明

１ 基材
２ 近赤外線吸収層
３ 粘着剤層
４ ハードコート層
５ 反射防止層
５ａ 中屈折率層
５ｂ 高屈折率層
５ｃ 低屈折率層
１１ ディスプレイ用前面板
１２ 基板
１３ 近赤外線遮蔽体
１４ 電磁波遮蔽体
１５ 電極

Claims (7)

1. 基材と、前記基材の一方の主面に配置された近赤外線吸収層と、前記近赤外線吸収層の前記基材側の面の反対面に接して配置された粘着剤層とを備えた近赤外線遮蔽体であって、
   前記近赤外線吸収層が、８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物を含み、
   前記粘着剤層が、カルボキシル基を含む樹脂を含み、
   前記樹脂の酸価値が、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする近赤外線遮蔽体。
2. 前記近赤外線吸収層が、ガラス転移温度が８０℃以上の樹脂を含む請求項１に記載の近赤外線遮蔽体。
3. 前記近赤外線吸収層が、５８０ｎｍ以上６２０ｎｍ以下の波長領域に最大吸収波長を有する化合物をさらに含む請求項１または２に記載の近赤外線遮蔽体。
4. 前記近赤外線吸収層のＨａｚｅ値が１％以下である請求項１〜３のいずれかに記載の近赤外線遮蔽体。
5. 前記粘着剤層が、色調補正をするための顔料をさらに含む請求項１〜４のいずれかに記載の近赤外線遮蔽体。
6. ハードコート層および反射防止層をさらに含み、前記ハードコート層および前記反射防止層が、前記基材の一方の主面の反対面上にこの順で配置されている請求項１〜５のいずれかに記載の近赤外線遮蔽体。
7. 基板上に、請求項１〜６のいずれかに記載の近赤外線遮蔽体が配置されていることを特徴とするディスプレイ用前面板。

Images