JP2005114751A - 反射防止フィルムとその巻回体、およびその巻回体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 製造が容易で、可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能をも有する反射防止フィルムとその巻回体を提供するとともに、反射防止フィルムの特性を低下させずに反射防止フィルムの巻回体を安定して製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】 基材１と、基材１の一方の主面側に配置された反射防止膜３と、反射防止膜３の主面上に配置された保護フィルム４とを含み、反射防止膜３が位置する側とは反対側の保護フィルム４の主面の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下である反射防止フィルムを用いて巻回体を製造する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、反射防止フィルムに関し、さらに詳しくは、製造が容易で、可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能をも有する反射防止フィルムとその巻回体、およびその巻回体の製造方法に関するものである。

近年、プラズマディスプレイパネルなどに代表される高精細かつ大画面ディスプレイの開発が急速に進んでいる。従来、これらディスプレイ画面への外光の映り込みを防止するため、単層の低屈折率材からなる薄膜、あるいは低屈折率材からなる薄膜と高屈折率材からなる薄膜とを組み合わせた多層膜を、ディスプレイ画面の表面に配置することで、反射防止性能を得る方法が採用されている。

また、プラズマディスプレイパネルにおいては、プラズマ放電を起こした際に不要な近赤外線が放出され、周辺の電子機器に悪影響を与え、特にテレビやエアコンなどのリモコンの誤動作を生じさせるといった問題があった。このため、近赤外線吸収剤を含むフィルムをプラズマディスプレイパネルの前面板に貼り付けるなどして対応している。特に、最近では各フィルムの密着性改善や工程簡略化によるコストダウンを目的として、各機能を集約したフィルムの提案がなされている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。

即ち、特許文献１には、透明樹脂フィルムの一方の面に反射防止層を形成し、かつその透明樹脂フィルムの他の面に近赤外線吸収剤を含有する粘着剤層を積層してなる反射防止性フィルムが記載されている。
特開平１０−１５６９９１号公報 特開平１１−２９５５０６号公報

通常、反射防止フィルムを製造する工程においては、透明樹脂フィルム基材の表面に形成された反射防止膜の汚れや傷つきなどを防ぐために、保護フィルムをラミネートすることが必須となる。しかし、この保護フィルムをラミネートした反射防止フィルムをロール状に巻き取って巻回体を製造する際には、保護フィルムの背面（反射防止膜が位置する側とは反対側の保護フィルムの表面）の表面粗さが小さすぎると、反射防止フィルム相互間の滑りが悪くなり、巻き取り不良を生じる問題があった。

特に、反射防止膜が位置する側とは反対側の基材の表面に近赤外線吸収層を形成した場合には、保護フィルムの背面の表面粗さが小さすぎると、保護フィルムと近赤外線吸収層との相互間の摩擦が極めて大きくなって巻き取り不良を生じ、保護フィルムの背面の表面粗さが大きすぎると、近赤外線吸収層へ保護フィルムの表面粗さが転移するという問題があった。

本発明は、基材と、前記基材の一方の主面側に配置された反射防止膜と、前記反射防止膜の主面上に配置された保護フィルムとを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止膜が位置する側とは反対側の前記保護フィルムの主面の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルムを提供する。

また、本発明は、上記反射防止フィルムが巻回されていることを特徴とする反射防止フィルムの巻回体を提供する。

また、本発明は、（ａ）基材の一方の主面側に反射防止膜を配置する工程と、（ｂ）前記反射防止膜の主面上に保護フィルムを配置する工程と、（ｃ）前記保護フィルムを配置した基材を巻き取る工程とを含む反射防止フィルムの巻回体の製造方法であって、前記反射防止膜が位置する側とは反対側の前記保護フィルムの主面の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルムの巻回体の製造方法を提供する。

本発明は、製造が容易で、可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能をも有する反射防止フィルムとその巻回体を提供できる。

また、本発明は、反射防止フィルムの特性を低下させずに、特に近赤外線吸収層の品位を低下させることなく、反射防止フィルムの巻回体を安定して製造可能な製造方法を提供できる。

先ず、本発明の反射防止フィルムの実施の形態を説明する。本発明の反射防止フィルムの一例は、基材と、上記基材の一方の主面側に配置された反射防止膜と、上記反射防止膜の主面上に配置された保護フィルムとを含み、上記反射防止膜が位置する側とは反対側の上記保護フィルムの主面（背面）の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする。

背面の表面粗さＲａが上記範囲の保護フィルムを用いることにより、反射防止フィルムの表裏相互間の滑りが適度となり、反射防止フィルムを巻き取っても巻き取り不良や反射防止フィルムの特性が低下しない。特に、反射防止膜が位置する側とは反対側の基材の表面に後述する近赤外線吸収層を形成した場合には、保護フィルムの背面の表面粗さＲａが０．０１μｍ未満では、保護フィルムと近赤外線吸収層との相互間の滑りが悪くなって巻き取り不良を生じ、保護フィルムの背面の表面粗さＲａが１．０μｍを超えると、近赤外線吸収層へ保護フィルムの表面粗さが転移して近赤外線吸収層の特性が低下する。

上記保護フィルムの全光線透過率は、８０％以上９５％以下であることが好ましい。保護フィルムの全光線透過率が８０％未満では、反射防止膜の塗布状態の検査が困難となり、９５％を超えると保護フィルムの表面粗さＲａを０．０１μｍ以上とすることが困難になる。

また、上記反射防止膜が配置された上記基材の主面側とは反対側に近赤外線吸収層をさらに配置することが好ましい。より具体的には、上記近赤外線吸収層を配置することにより、波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域において分光透過率を０．１％〜２０％とすることが好ましく、特に９００ｎｍ〜１１００ｎｍの全領域において分光透過率を０．１％〜１０％とすることがより好ましい。これにより、不要な近赤外線の放出を防止でき、特に本実施形態の反射防止フィルムをプラズマディプレイパネルの前面板に貼り付けることにより、不要な近赤外線の放出が防止され、周辺の電子機器に悪影響を与えことがなくなる。

また、上記近赤外線吸収層と上記反射防止膜との間のいずれかの部分に紫外線吸収剤をさらに含ませることが好ましい。これにより、太陽光などの外光による近赤外線吸収層の劣化を防止することができる。上記紫外線吸収剤は、上記基材中に含ませるのが製造上有利である。

また、上記反射防止膜は、上記基材の側から順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層から形成されていることが好ましい。これにより、可視光線波長領域における反射率を低減することができる。

また、上記基材と上記反射防止膜との間にハードコート層をさらに形成することが好ましい。これにより、より優れた耐擦傷性を付与することができる。

次に、本発明の反射防止フィルムの巻回体の実施の形態を説明する。本発明の反射防止フィルムの巻回体の一例は、上記で説明した反射防止フィルムが巻回されていることを特徴とする。上記反射防止フィルムを巻回体とすることにより、可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能をも有する反射防止フィルムの取り扱いや運搬が容易となる。

続いて、本発明の反射防止フィルムの巻回体の製造方法の実施の形態を説明する。本発明の反射防止フィルムの巻回体の製造方法の一例は、基材の一方の主面側に反射防止膜を配置する工程と、上記反射防止膜の主面上に保護フィルムを配置する工程と、上記保護フィルムを配置した基材を巻き取る工程とを含み、上記反射防止膜が位置する側とは反対側の上記保護フィルムの主面（背面）の表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする。

表面粗さＲａが上記範囲の保護フィルムを用いることにより、反射防止フィルムの表裏相互間の滑りが適度となり、反射防止フィルムを巻き取る際に巻き取り不良や反射防止フィルムの特性が低下しない。表面粗さＲａが０．０１μｍ未満では反射防止フィルムの表裏相互間の滑りが悪くなって巻き取り不良が発生し、表面粗さＲａが１．０μｍを超えると保護フィルムが配置されていない側の基材の表面に保護フィルムの表面粗さが転移して、反射防止フィルムの特性が低下する。

特に、反射防止膜が位置する側とは反対側の基材の表面に後述する近赤外線吸収層を形成した場合には、保護フィルムの背面の表面粗さＲａが０．０１μｍ未満では、保護フィルムと近赤外線吸収層の相互間の滑りが悪くなって巻き取り不良を生じ、保護フィルムの背面の表面粗さＲａが１．０μｍを超えると、近赤外線吸収層へ保護フィルムの表面粗さが転移して、近赤外線吸収層の特性が低下する。

上記保護フィルムの全光線透過率は、８０％以上９５％以下であることが好ましい。保護フィルムの全光線透過率が８０％未満では、反射防止膜の塗布状態の検査が困難となり、９５％を超えると保護フィルムの表面粗さＲａを０．０１μｍ以上とすることが困難になる。

また、本実施形態の製造方法では、上記反射防止膜が配置された上記基材の主面側とは反対側に近赤外線吸収層を配置する工程をさらに含むことが好ましい。これにより、反射防止フィルムに近赤外線吸収機能を付与できる。

また、本実施形態の製造方法では、上記近赤外線吸収層と上記反射防止膜との間のいずれかの部分に紫外線吸収剤を配置する工程をさらに含むことが好ましい。これにより、太陽光などの外光による近赤外線吸収層の劣化を防止することができる。上記紫外線吸収剤は、上記基材中に含ませるのが製造上有利である。

また、上記反射防止膜は、上記基材の側から順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層から形成することが好ましい。これにより、可視光線波長領域における反射率を低減することができる。

また、本実施形態の製造方法では、上記基材と上記反射防止膜との間にハードコート層を配置する工程をさらに含むことが好ましい。これにより、より優れた耐擦傷性を付与することができる。

次に、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。

（実施形態１）
図１は、本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図である。本実施形態の反射防止フィルムは、基材１と、基材１の一方の主面上に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された３層からなる反射防止膜３と、反射防止膜３の上に配置された保護フィルム４と、基材１の他方の主面上に形成された近赤外線吸収層５とを備えている。また、反射防止膜３と接する側とは反対側の保護フィルム４の背面４ａの表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下に設定されている。さらに、反射防止膜３は、基材１の側から順に中屈折率層３ａ、高屈折率層３ｂ、低屈折率層３ｃから形成されている。

基材１の材料は、透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。フィルム状またはシート状への加工方法としては、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。基材１の厚さは、１０μｍ〜５００μｍ程度であることが好ましい。なお、上記樹脂には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。

ハードコート層２の材料は、硬度が高く透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系などの熱硬化型樹脂組成物、あるいは多官能または単官能のアクリレートモノマー、オリゴマーと光重合開始剤、各種添加剤とを含有する放射線硬化型樹脂組成物などを用いることができるが、特に表面硬度が高い放射線硬化型樹脂組成物が好ましい。さらに、上記樹脂に無機微粒子を添加することにより、より高い表面硬度が得られるとともに、樹脂の硬化による収縮を緩和できる。無機微粒子の材料としては、例えば、二酸化ケイ素（シリカ）、錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化ジルコニウムなどを用いることができる。

基材１の上にハードコート層２を形成する方法については特に制限はなく、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法により形成できる。ハードコート層２の厚さは、１μｍ〜１０μｍが好ましく、２μｍ〜７μｍがより好ましい。

中屈折率層３ａの材料は、屈折率ｎ_mが１．５５〜１．６５、より好ましくは１．５７〜１．６３で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、屈折率の高い無機微粒子を熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。上記無機微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化錫、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ＩＴＯ)、アンチモンドープ酸化錫(ＡＴＯ)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの微粒子を用いることができる。中でも高い導電性を有するＩＴＯ微粒子またはＡＴＯ微粒子を用いることでフィルムの帯電を防止する効果が得られるので特に好ましい。

ハードコート層２の上に中屈折率層３ａを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。中屈折率層３ａの屈折率ｎ_mとその厚さｄ_mとの積ｎ_mｄ_m（光学厚さ）は、１００ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましく、１１０ｎｍ〜１４０ｎｍがより好ましい。

高屈折率層３ｂの材料は、屈折率ｎ_hが１．７５〜１．８５、より好ましくは１．７６〜１．８４で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、屈折率の最も高い無機微粒子である酸化チタン微粒子を熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。高屈折率層３ｂは、このコーティング組成物が強固に架橋した膜として形成される。また、酸化チタン微粒子のうち、アナターゼ構造のものには光触媒作用があり、紫外線の照射により塗膜を構成する樹脂成分や基材などの有機物を分解してしまう問題がある。そのため、光触媒作用が弱く、かつ屈折率も高いルチル構造の酸化チタン微粒子が好適に使用される。酸化チタン微粒子の量は、硬化後の高屈折率層３ｂの全重量に対して５０重量％〜６５重量％が好ましい。

中屈折率層３ａの上に高屈折率層３ｂを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。高屈折率層３ｂの屈折率ｎ_hとその厚さｄ_hとの積ｎ_hｄ_h（光学厚さ）は２１０ｎｍ〜２６０ｎｍが好ましく、２２０ｎｍ〜２５０ｎｍがより好ましい。

また、上記高屈折率層３ｂ中の有機成分の一部に、屈折率が１．６０〜１．８０、より好ましくは１．６５〜１．７５の範囲内にある有機成分を含有させることが好ましい。これにより、高屈折率層３ｂ中の酸化チタン微粒子の量を低減しても屈折率を高めることができる。また、酸化チタン微粒子の量を低減することにより、高屈折率層３ｂ中における有機成分の架橋性の低下が防止でき、有機成分（樹脂）の硬化が促進されて、反射防止フィルムの耐擦傷性が向上する。上記有機成分の屈折率が１．６０未満では、高屈折率層３ｂ中の酸化チタン微粒子の量の低減効果が不十分となり、１．８０を超えると反射光の黄色味が強くなる傾向があり好ましくない。屈折率が１．６０〜１．８０の範囲内にある有機成分となり得る高屈折率有機材料としては、芳香環、硫黄、臭素などを含有する有機化合物が挙げられ、例えば、ジフェニルスルフィドおよびその誘導体などを用いることができる。

低屈折率層３ｃの材料は、屈折率ｎ_lが１．３５〜１．４５、より好ましくは１．３５〜１．４３で透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、フッ素系またはシリコーン系の有機化合物、シリカ、フッ化マグネシウムなどの無機微粒子などを、熱硬化型樹脂組成物または放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物が好適に用いられる。特に、放射線硬化型樹脂組成物のうち紫外線硬化型樹脂組成物を用いる場合には、酸素による重合阻害を防止するため、窒素などの不活性ガスをパージして酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下程度になる条件下にて紫外線照射を行うことが好ましい。

高屈折率層３ｂの上に低屈折率層３ｃを形成する方法については特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。低屈折率層３ｃの屈折率ｎ_lとその厚さｄ_lとの積ｎ_lｄ_l（光学厚さ）は、１２０ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍがより好ましい。

保護フィルム４の材料は、透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンなどを用いることができる。背面４ａの表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下に設定する必要がある。背面４ａの表面粗さＲａをこの範囲にする方法としては、通常フィルムの内部あるいは表面に超微粒子を含有させる方法が用いられ、超微粒子の粒子径および含有量を調整することによりフィルムの表面粗さＲａを制御できる。

低屈折率層３ｃの上に保護フィルム４を配置する方法については特に制限はないが、通常、保護フィルム４は粘着剤を介してセパレータに貼り付けた状態で提供され、このセパレータを剥がしながら上記低屈折率層３ｃにラミネートされる。また、保護フィルム４の厚さは、５μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１００μｍがより好ましい。

近赤外線吸収層５の材料は、近赤外線を吸収する透光性を有する材料であれば特に制限されない。通常は、近赤外線を吸収する化合物を分散させた樹脂が用いられる。近赤外線を吸収する化合物としては、近赤外領域に最大吸収波長を有する有機色素が好ましく、例えば、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、ポリメチン系などの有機色素を用いることができる。

上記樹脂としては、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、セルロース、ポリブチラール、ポリエステルなどを用いることができ、またこれらの樹脂の２種以上がブレンドされたポリマーブレンドも用いることができる。

近赤外線吸収層５は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する材料を含んでいることが好ましい。近赤外線吸収層５が上記化合物を含んでいると、波長４００ｎｍ〜８５０ｎｍの可視光の透過率を大きく低減させることなく、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低減させることが可能となる。８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する材料としては、上記有機色素を単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。これにより、本実施形態の反射防止フィルムをプラズマディスプレイパネルなどの近赤外線吸収フィルターとしても好適に用いることができる。

近赤外線吸収層５には、プラズマディスプレイパネルのネオン輝線スペクトル（オレンジ色）をカットする化合物を適宜添加することも可能である。これにより、プラズマディスプレイパネルにおいて、赤色をより鮮やかに発色させることができる。ネオン輝線スペクトルをカットする化合物としては、５８０ｎｍ〜６２０ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する有機色素が使用でき、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系などの有機色素を用いることができる。

（実施形態２）
図２は、本発明の反射防止フィルムの巻回体の一例を示す側面図である。本実施形態の巻回体１１は、実施形態１の反射防止フィルム１２を芯材１３を中心として巻き取ったものである。このように、背面の表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１．０μｍ以下の保護フィルムを備えた実施形態１の反射防止フィルム１２を用いることにより、保護フィルムと近赤外線吸収層との相互間の滑りが適度となり、反射防止フィルム１２を巻き取る際に巻き取り不良が発生せず、また、近赤外線吸収層の特性が低下しない。

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
基材として、表裏両面を易接着処理した厚さ１００μｍの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ製“ルミラーＱＴ５８”）を準備した。次に、シリカ超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(ＪＳＲ製“デソライトＺ７５０１”)１００重量部とシクロヘキサノン３５重量部とを混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記ＰＥＴフィルムの一方の表面に、マイクログラビアコータ(康井精機製)を用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記ＰＥＴフィルムの一方の表面に厚さ４μｍのハードコート層を形成した。

次に、無機超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型コート材(ＪＳＲ製“オプスターＴＵ４００５”)１００重量部、多官能アクリレート(日本化薬製“ＤＰＨＡ”)５重量部、およびシクロヘキサノン２００重量部を混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記ハードコート層の上に、上記マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記ハードコート層の表面に厚さ７２ｎｍの中屈折率層（屈折率１．６０）を形成した。

続いて、酸化チタン超微粒子(石原テクノ製“ＴＴＯ５５(Ａ)”）３０重量部、ジメチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学製“ライトエステルＤＭ”)１重量部、リン酸基含有メタクリレート(日本化薬製“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”)４重量部、シクロヘキサノン６５重量部を混合した組成物をサンドグラインドミルにて分散して酸化チタン超微粒子分散体を調製し、これにアクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(三洋化成工業製“サンラッドＨ−６０１Ｒ”)１５重量部、メチルイソブチルケトン６００重量部を配合分散してコーティング液を調製した。このコーティング液を上記中屈折率層の上に、上記マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記中屈折率層の表面に厚さ１３０ｎｍの高屈折率層(固形分中に占める酸化チタン微粒子の量６０重量％、屈折率１．８０)を形成した。

さらに、フッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止材(ＪＳＲ製“オプスターＴＴ１００６”)１００重量部とメチルイソブチルケトン２０重量部とを混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記高屈折率層の上に、上記マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、１２０℃で６分間熱処理を行い、上記高屈折率層の表面に厚さ９２ｎｍの低屈折率層(屈折率１．４１)を形成した。

次に、上記低屈折率層の上に保護フィルムとして厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム(日立化成工業製“ヒタレックスＬ−８０１０”)をラミネートした。このＰＥＴフィルムは、粘着剤を介してセパレータに貼り付けた状態で提供され、このセパレータを剥がしながら上記低屈折率層にラミネートした。この保護フィルムの粘着剤が塗布された側とは反対側の背面の表面粗さＲａを触針式表面粗さ計(Ｖｅｅｃｏ製“Ｄｅｋｔａｋ３ＳＴ”)にて測定したところＲａ＝０．０４２μｍであった。また、セパレータを剥離した状態で、保護フィルムの全光線透過率を分光光度計(日本分光社製“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”)を用いて測定したところ、８８％であった。

続いて、ポリエステル樹脂(ユニチカ製“エリーテルＵＥ３６９０”)１００重量部、近赤外線吸収色素(日本化薬製“カヤソーブＩＲＧ−０２２”)９．５重量部、近赤外線吸収色素(日本触媒製“イーエクスカラーＩＲ−１２”)３．２重量部、ネオン光カット色素(旭電化工業製“アートクルズＴＹ−１００”)２．２重量部、シクロヘキサノン３７０重量部、トルエン１８５重量部、およびメチルエチルケトン６２重量部を混合攪拌して、コーティング液を調製した。このコーティング液を上記基材の他方の表面に、上記マイクログラビアコータを用いてにコーティングして乾燥し、上記基材の表面に厚さ３μｍの近赤外線吸収層を形成し、ロール状に巻き取って実施例１の反射防止フィルムの巻回体を作製した。

（実施例２）
基材として、表裏両面を易接着処理した厚さ１００μｍの紫外線カット性ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ製“ルミラーＱＴ５８”）を準備した。次に、シリカ超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(日本化薬製“カヤノーバＦＯＰ−５０００”)１００重量部とシクロヘキサノン４０重量部とを混合攪拌してコーティング液を調製し、このコーティング液を上記ＰＥＴフィルムの一方の表面に、マイクログラビアコータ(康井精機製)を用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記ＰＥＴフィルムの一方の表面に厚さ４μｍのハードコート層を形成した。

次に、上記ハードコート層の上に実施例１と同様にして中屈折率層（屈折率１．６０）を形成した。

続いて、酸化チタン超微粒子(石原テクノ製“ＴＴＯ５５(Ｂ)”）３０重量部、ジメチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学製“ライトエステルＤＭ”)１重量部、リン酸基含有メタクリレート(日本化薬製“ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２１”)４重量部、シクロヘキサノン６５重量部を混合した組成物をサンドグラインドミルにて分散して酸化チタン超微粒子分散体を調製し、これにアクリレート系紫外線硬化型ハードコート材(三洋化成工業製“サンラッドＨ−６０１Ｒ”)１５重量部、メチルイソブチルケトン６００重量部を配合分散してコーティング液を調製した。このコーティング液を上記中屈折率層の上に、上記マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥した。その後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射して硬化させ、上記中屈折率層の表面に厚さ１２８ｎｍの高屈折率層(固形分中に占める酸化チタン微粒子の量６０重量％、屈折率１．８１)を形成した。

さらに、アルコキシシラン系熱硬化型低屈折率コート材(日産化学工業製“ＬＲ−２０２”)を上記高屈折率層の上に上記マイクログラビアコータを用いてコーティングして乾燥し、上記高屈折率層の表面に厚さ９５ｎｍの低屈折率層(屈折率１．４１)を形成した。

次に、上記低屈折率層の上に保護フィルムとして厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム(日立化成工業製“ヒタレックスＬ−８３１０”)をラミネートし、その後７０℃で７２時間熱処理を行った。このＰＥＴフィルムは、粘着剤を介してセパレータに貼り付けた状態で提供され、このセパレータを剥がしながら上記低屈折率層にラミネートした。この保護フィルムの粘着剤が塗布された側とは反対側の背面の表面粗さＲａを触針式表面粗さ計(Ｖｅｅｃｏ製“Ｄｅｋｔａｋ３ＳＴ”)にて測定したところＲａ＝０．０５４μｍであった。また、セパレータを剥離した状態で、保護フィルムの全光線透過率を分光光度計(日本分光社製“Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”)を用いて測定したところ、８７％であった。

続いて、上記基材の他方の表面に実施例１と同様にして近赤外線吸収層を形成し、ロール状に巻き取って実施例２の反射防止フィルムの巻回体を作製した。

（比較例１）
保護フィルムの粘着剤が塗布された側とは反対側の背面の表面粗さＲａを１．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして比較例１の反射防止フィルムの巻回体を作製した。

（比較例２）
保護フィルムの粘着剤が塗布された側とは反対側の背面の表面粗さＲａを０．００８μｍとした以外は、実施例１と同様にして比較例２の巻回体を作製しようと試みたが、巻き取り不良が発生し、巻回体を作製できなかった。

次に、実施例１、２、および比較例１で得られた巻回体の反射防止フィルムを用いて、以下の評価を行い、その結果を表１に示した。

（１）可視光線波長領域における反射率
分光光度計(日本分光社製“「Ｕｂｅｓｔ Ｖ−５７０型”)を用いて、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光線波長領域における反射防止フィルムの反射防止膜側の反射率の測定を行い、４５０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域における最小反射率を測定した。

（２）近赤外線吸収層の表面状態
反射防止フィルムの近赤外線吸収層の表面状態を目視にて判定した。その判定基準は、Ａ：無傷、Ｂ：僅かに傷あり、Ｃ：多数傷あり、とした。

(３)近赤外線波長領域における分光透過率
上記分光光度計を用いて、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線波長領域における分光透過率の最大値を測定した。

表１から明らかなように、実施例１および実施例２は、比較例１に比べて、近赤外線吸収層の表面状態が良好であり、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線波長領域における分光透過率も小さいことが分かる。比較例１では、保護フィルムの粘着剤が塗布された側とは反対側の背面の表面粗さＲａを１．２μｍと粗くしたため、この反射防止フィルムが巻き取られて巻回体を形成した際に、この背面の粗さが近赤外線吸収層に転移し、その結果、表面むら、傷などに起因するフィルムの外観不良が生じるとともに、近赤外線の透過率も上昇したものである。

なお、実施例１、２および比較例１は、いずれも可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能も高いことが分かる。

本発明は、製造が容易で、可視光線波長領域における反射率が低く、かつ近赤外線吸収機能をも有する反射防止フィルムとその巻回体を提供できる。また、本発明は、反射防止フィルムの特性を低下させずに、特に近赤外線吸収層の特性を低下させることなく、反射防止フィルムの巻回体を安定して製造可能な製造方法を提供できる。この反射防止フィルムをディスプレイ用前面板に用いることにより、ＣＲＴ、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイ画面への外光の映り込みを防止することができる。

本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面図である。 本発明の反射防止フィルムの巻回体の一例を示す側面図である。

符号の説明

１ 基材
２ ハードコート層
３ 反射防止膜
３ａ 中屈折率層
３ｂ 高屈折率層
３ｃ 低屈折率層
４ 保護フィルム
４ａ 背面
５ 近赤外線吸収層
１１ 巻回体
１２ 反射防止フィルム
１３ 芯材

Claims (14)

1. 基材と、前記基材の一方の主面側に配置された反射防止膜と、前記反射防止膜の主面上に配置された保護フィルムとを含む反射防止フィルムであって、
   前記反射防止膜が位置する側とは反対側の前記保護フィルムの主面の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
2. 前記保護フィルムの全光線透過率が、８０％以上９５％以下である請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記反射防止膜が配置された前記基材の主面側とは反対側に近赤外線吸収層をさらに配置した請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. 波長８５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の全領域において分光透過率が、０．１％以上２０％以下である請求項３に記載の反射防止フィルム。
5. 前記近赤外線吸収層と前記反射防止膜との間のいずれかの部分に紫外線吸収剤をさらに含む請求項３または４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. 前記反射防止膜が、前記基材の側から順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層から形成されている請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
7. 前記基材と前記反射防止膜との間にハードコート層をさらに含む請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムが巻回されていることを特徴とする反射防止フィルムの巻回体。
9. （ａ）基材の一方の主面側に反射防止膜を配置する工程と、
   （ｂ）前記反射防止膜の主面上に保護フィルムを配置する工程と、
   （ｃ）前記保護フィルムを配置した基材を巻き取る工程と、
   を含む反射防止フィルムの巻回体の製造方法であって、
   前記反射防止膜が位置する側とは反対側の前記保護フィルムの主面の表面粗さＲａが、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルムの巻回体の製造方法。
10. 前記保護フィルムの全光線透過率が、８０％以上９５％以下である請求項９に記載の反射防止フィルムの巻回体の製造方法。
11. 前記反射防止膜が配置された前記基材の主面側とは反対側に近赤外線吸収層を配置する工程をさらに含む請求項９または１０に記載の反射防止フィルムの巻回体の製造方法。
12. 前記近赤外線吸収層と前記反射防止膜との間のいずれかの部分に紫外線吸収剤を添加する工程をさらに含む請求項１１に記載の反射防止フィルムの巻回体の製造方法。
13. 前記反射防止膜が、前記基材の側から順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層から形成されている請求項９〜１２のいずれかに記載の反射防止フィルムの巻回体の製造方法。
14. 前記基材と前記反射防止膜との間にハードコート層を配置する工程をさらに含む請求項９〜１３のいずれかに記載の反射防止フィルムの巻回体の製造方法。

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