WO2007066700A1 - レーザ光源装置、並びに露光方法及び装置 - Google Patents

レーザ光源装置、並びに露光方法及び装置 Download PDF

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WO2007066700A1
WO2007066700A1 PCT/JP2006/324387 JP2006324387W WO2007066700A1 WO 2007066700 A1 WO2007066700 A1 WO 2007066700A1 JP 2006324387 W JP2006324387 W JP 2006324387W WO 2007066700 A1 WO2007066700 A1 WO 2007066700A1
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Tsuyoshi Toki
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Nikon Corporation
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    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22—Gases
    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Definitions

  • the technique of the device and the technique of using the light as an object for example, in the process of manufacturing each chair such as a semiconductor chair, (CC, etc.), a display, etc., in order to transfer the pattern to the top. It is suitable when the device is used as a device used for.
  • the jisto was formed as the tan formed as the sk
  • Devices such as skiing stairs are used.
  • the exposure wavelength is gradually shortened to increase the resolution.
  • the beam from this source is irradiated after the beam () is applied to the academic system of the exposed body.
  • a signal is sent from the body to the Z that knows the timing of each light emission, and this light is synchronized with that signal (for example, a patent). I could't hold it until the next issue was received and the issue was sent to me. Also, for example, when an error occurs that the body light cannot continue, in the past, the Z waits for the light emission from the body to occur without any information. In the past, the spectrum of the beam and the central lamella were only recorded at the za, and the information of the lamella was not particularly used in the exposure.
  • lamellas have not been used, it is desirable to utilize those lamellae in the exposed body part, for example, to improve the quality.
  • the objective is to make effective use of the information in the case of the, and to effectively utilize the information in the case of exposure.
  • a device that can improve the qualitative control of the output by using the exposure information, and The purpose is to provide
  • the objective of 2 is to provide a technique that can utilize the information that expresses the state of the light.
  • the light is a device that supplies the light for the body part (2) of the object, and a system for adjusting the condition of the body based on the information about the work supplied from the body part. It is equipped with a control (2).
  • the qualitative output can be improved by preparing for the next time the light emission () is started using the information about the operation.
  • Another example of information on the operation includes information on the body or equipment (5) connected to the body.
  • control method by Ming is a control method of supplying the light for the processing device (2), and it is possible to obtain information on the time for the operation of the processing device. Based on the information in the meantime, it adjusts the condition of the device.
  • the second control method by Ming is a control method of the device for supplying the scanning light to the processing device (2), which is based on the light emitting signal supplied from the processing device. It is provided with that it emits the soot light and changes the condition of the device in the state of emitting the soot light before the item is supplied.
  • the information of the processing device can be used to control the position. Also, according to Ming, a method of forming a predetermined pattern on the surface using the light from the device, in which the device of the present invention is used or the device of the present invention is controlled. The method is applied. According to Ming, the qualitative controllability of the light output is improved, and the C (C ca Dmenson) difference can be obtained.
  • the state of the light emitted from the source (6) that emits the light and the body part (2) that uses the light to generate an object It is equipped with a memory (9) and a memory device (35) for storing the information of the light state of the light, which is recorded by the device, corresponding to the result of the body. According to this, by storing the information of the light condition corresponding to the result, for example, the information of the light condition can be used for the cause analysis of the result.
  • FIG. 22 is a diagram showing a state of 2 2;
  • FIG. 22 is a diagram showing a state of 2 2;
  • FIG. 8 is a diagram showing another example of a three-state device.
  • the storage / calculation unit which is supplied with information about the spectrum and the subsequent number of sensors, and this
  • part 2 contains z. ⁇ Spectrum supplied from the calculation unit and control 2 stores the gas standard values described below, and also supplies the control 2 with a report of the difference between those standard values and the actual measurement. The number in 2 is controlled so that the difference between them becomes smaller ().
  • the 6 is stored in the designated housing.
  • the 6 is
  • Jiang (Kizachi), which includes a discharge electrode consisting of Kiza () or Kisa (248), Arra of radiation 3 placed on the face of this Chan, and placed on the face of that Jan.
  • the gage for example, is composed of a constant ab pe aon (abbreviated as n) that is sequentially placed on the zab. Is a set of two stones that face each other in parallel with a predetermined space (a,). The constant is and the variable angle is. These reduce the spectrum width of the beam emitted from Za 6 to about 3 degrees of the natural oscillation spectrum width as an example. .
  • the control 2 adjusts the angle of the angle via the motion mechanism of, so that the () of the beam emitted from the 6 can be controlled within a predetermined range. It is also possible to construct the dipole in combination with a prism diffractive element, for example. It is also possible to install the die at the location of the laser installed on the surface of the discharge channel.
  • the inside of the chamber is filled with a predetermined gas, which is a gas such as krypton or an) and a gas, which is um e. Therefore, the discharge channel is connected to the end of a key gas via, and the gas () ,,,. It is connected to a gas cylinder () such as.
  • a trachea is connected to the discharge channel via.
  • the trachea is equipped with a pump that wraps the fluorine. This is because the gas is harmless by (1) and the equipment is discharged by an exhaust pump. Is controlled by control 2.
  • the discharge channel is divided into a discharge part a in which discharge is performed and a gas b that supplies the discharge part a, and the inside kind is mixed well in the gas b, and the efficiency of the discharge part a is improved. It is equipped with 4 rotations (fans) equipped with a long number for feeding.
  • a sensor 5 that detects the internal gas pressure
  • a sensor 5 that detects the internal gas temperature
  • a sensor () that outputs the force of each part separately (or that).
  • the data is stored in the storage / calculation unit with a predetermined sampling of these sensors.
  • the gas level inside is adjusted, for example, when changing the gas so that the chamber inside the discharge chamber has a predetermined ratio and force, and when the chamber is vibrating, the discharge is performed via the heater. Control the gas level inside.
  • a yatta () that opens and closes the Xam is arranged between the tram 2 beam sputter 7 and the light from the reference 3 or above on the light between the reference 3 and 8.
  • a Yatter 4 that opens and closes. Through the control of those yattas, 2 can selectively enter the deviation of light from the beam or reference 3 into tab 9.
  • 002T9 includes a Negative bumper (specta) in its part.
  • a P-type photodiode which has a high response wave number, is used as the connector.
  • the values in parentheses () of these digital assistants are supplied to the memory / arithmetic unit, and the difference from the target value is calculated.
  • the bumper for example, an ape including a line sensor, a line sensor, etc. is used.
  • Zabim branched from Zabim shoots at it, it repeats reflection and transmission between the points. At this time, only light with a predetermined angle of incidence passes through and intensifies, forming a (tan) of the tem, and the tan is detected by the line sensor.
  • Supplied to the Spectral Computation Department Each time it is detected by the line sensor, it corresponds at a predetermined interval with respect to the hand direction of the line sensor.
  • the spectrum calculation unit obtains the length and the spectrum width of the beam (or Criterion 3) that uses the result of that buffer as the parameter 9 as an example. Instead of that length, ask for the length of the spect.
  • the half value (WHM WdhHa M mm) which is the width of the wavelength at which the intensity is 2 is used, but the spectrum distribution of the spectrum between 2 lengths is the spectrum distribution of that spectrum.
  • WM WdhHa M mm which is the width of the wavelength at which the intensity is 2
  • the spectrum distribution of the spectrum between 2 lengths is the spectrum distribution of that spectrum.
  • the length and spectrum width are stored in the storage / calculation unit, where the difference from the target value is obtained, and this difference is supplied to control 2. In step 2, the difference will be corrected. Adjust the position of.
  • the reference 3 which consists of, for example, Z is used when the key is used. Then, as reference 3, the Z (union 2 harmonic Z) is used. It is very close to the 248 253 of this and the 248 385 of the kiss. In the case of a flaw, if the center having a near-center length to the corresponding center length is used as the reference 3, 002 Here, we will simply explain the absolute key by the spectral calculator.
  • the operation to obtain this set is an absolute key.
  • the memory / arithmetic unit adds the set to the length of the Xavim supplied from the spectrum calculation unit to increase the length of the Xavim. Can be calculated. You can do that regularly, for example.
  • the beam which is emitted from the beam 6 and passed the beam spotter 7, illuminates a beam as an exposure beam through the illumination system in the body 2 as an exposure beam.
  • Body part 2 holds its system, a class that holds and moves, a system that projects an image of that tank onto a cloth covered with (), and holds and moves c.
  • the main control light intensity that controls the stage and its operation.
  • the exposed body 2 is connected with a ta-deve 5 for applying a giist to the cue and supplying it to the body 2, and for forming an image of the exposed gyst.
  • the exposure amount system in the body part 2 of 002 sends P to the 2 of the 6 to the timing of the series of light beams through a predetermined line, and the main part in the body part 2 of the exposure is sent.
  • Control system 2 is supplied to control 2 via the same or different signal line, including information about the operation. Furthermore, the information on the light intensity is supplied to 2 of the 6 in advance of, for example, the processing of the light.
  • the stop time is scheduled for c (the end of light is exchanged for the next one), etc., and the emission of light from the stop 6 of the exposure unit 2 starts.
  • the gas level in (b3) is kept low for the waiting period, and the period ends (
  • the frequency By raising the frequency to the level of oscillation just before (e.g., when) comes, it is possible to prolong the life of the discharge channel and to stably emit light with the instructed energy immediately after the start of light emission.
  • the oscillating frequency is high, the qualitativeness of the spectrum and output can be improved by gradually increasing 4 in (b4).
  • Kanegi (Senegi), which can be controlled not only by the pressure of (b5) Jiang, but also by (b) gas in Jiang and (b3) gas in Jiang.
  • the qualities of the money when the oscillation frequency is high are also present in 4 of the chain of (b4).
  • 003 (c2) spectrum which can be controlled to some extent by the gas (ratio) in the chamber of (b2).
  • the length of (c3), and the following (c3) to (c6) can be adjusted to some extent by the above mentioned method, but it also depends on the qualitative conditions of the above (b) to (b5).
  • the conditions of the 6 are adjusted based on the supply to the outside of the main body 2 to the 2 of the 6). It is possible to stabilize the lamella including the onions of Zabim. As a result, the C difference, which is the difference between the lines of the tan image transferred on the exposed body 2 side, can be reduced, and a chair with a fine tan can be manufactured every time.
  • the control system of the body 2 will be changed to the 6-2.
  • the light whose light is stopped by La is transmitted (La).
  • Control 2 places Za 6 in the standby state. Then, when the exposure body section 2 sends a report to the control 2 that the laser has recovered, the control 2 returns the 6 to the oscillation-enabled state, thereby extending the life of the discharge channel. , The oscillation can be stabilized.
  • step 2 indicates the position of a scanning step including the 6-body part 2, and the 6 of 2 (for which the base 3 sensor 5 5 is) is the same as 6.
  • step 2 the zab emitted from the exposure 6 enters the faculty of the body 2 through the layer 222.
  • the lined line of the former is installed in the conjugate of the line (g) of, and the lined line of the former is It is placed on a surface that is a certain amount away from the surface. After passing through the line 27, it illuminates the spot-shaped illumination area of the tan surface as a disc through the densans 28, 2 densans 29, and la 3 for bending.
  • An academic system was formed that includes Bim 23 to La 3.
  • the image of the tan in the region of is a predetermined (0 is, for example, 45 etc.) through the projection system P, and is placed on the image plane of the projection system P as W (). It is transcribed into the stud-like exposed areas of the distant gyst layer.
  • the Z axis is taken parallel to the axis of the projection system P, the axis is taken in the scanning direction in the plane perpendicular to the Z axis (the direction parallel to the plane 2 in this case), and the Here, the X axis is taken in the direction (perpendicular to the plane 2).
  • the cage S can be moved in the cube () direction and can be finely moved in the X and rotational directions.
  • the dual position of Custe S () is timed by The.
  • the master control 32 controls the operation of the class S via the stage 34.
  • U W is adsorbed on Stage WS via UHODA 3, and along the plane of U Bes (), the projection system P and the normal X plane. 2 move. Measured at the time by the X around the WS, orientation, X around the Z axis, and the Z around the Z axis.
  • the master control 32 controls the operation of the step WS via the step 34. Also equipped with an alignment sensor () for W alignment. Furthermore, the light intensity 33 controlled by the main control 32 is based on the result of the sensor (integer sensor) that measures the amount of exposure, so that the optimum intensity can be obtained on W. Of the integrated sensor of The light timing is sent separately at P. Control 32 supplies control 2 with the above.
  • the normal operation is to irradiate the exposure (Zabim) to W and synchronize it with the projection system P by using the projection rate as the velocity ratio through the class S stage WS.
  • the operation of stopping and driving the step WS to step W is returned by the step-and-skip Yang method. By this work, the image of the tan in the whole area on W is transferred.
  • the length of the beam and the state of the spectrum may affect the result. Therefore, in order to obtain the exposure result (including factor analysis),
  • the spectrum calculation part of the 6 (from the control 32 of the body part 2 to the part 3), the dew for each of the u shows the following (e) to (e7) states of the beam, or at least a part of them.
  • the transmitted information is stored in the storage device 35 connected to the main control 32 (), as a part of the result () of each record.
  • step 2 in the main control 32, as an example, the relationship between the above-mentioned (e) to (e7) Zabim states of the W C, which was developed after completion, is analyzed, and (e) to (e7 ) Find the range. Subsequent dew will show the state of the beam transmitted from the 6 to the main control 32, for example, when the light from the head of the cot (if not within the allowable range of (a) to (a7) above). It is possible to change the state of the beam by instructing from the main control 32 to the side of the 6 to adjust the state of the beam.
  • section 3 with a similar sign to the part corresponding to, section 6 of 2 and section 6 of 2, which have almost the same configuration, are arranged in parallel. However, in, it is not installed in the standard Za 6 which emits the light of the beam in Ta 9. In addition, between the 6 and the tra 2
  • a dice () is installed between the two.
  • the gadget can also be installed at Arla 3. Then, in Za 6 of 2 the output is small but the center length and the spectral width are highly controlled, and in Za 6 of the output, a power is amplified. Su, this body is the body 2 body.
  • the beam is reflected by the bem sputter 8 to the 6 of the 6 and the amplified beam of the 6 is emitted from the 6.
  • the reference 3 of the reference g is arranged, and by closing the yatta () on the side of the 6 and opening the yatta 4, it is possible to switch the beam and transfer the reference light from the reference 3 to the target g via the ra 8. Is configured. Ta By doing so, it is possible to obtain the dose of the beam, and thus the length of the beam, with reference to the wavelength of the reflected light.
  • the state of the beam including the information on the wavelength obtained by the spectrum calculation section is transmitted to the interface 52 to the body 2 according to the data S from the exposure body 2.
  • the 6 6 adjusts the conditions of the 6 based on the exposed body 2 and
  • the exposure unit 2 sends the data S to the interface 52, and in response thereto, the information on the length of the X-ray detected by the tag spectral unit is transmitted. Sent to Part 2. It is also paid to 2 of The 6 as part of the chief of the Zabim. In this section 2, the difference between the length of the previous Xam and the length of is set as a set, and after that, the length of the Xam determined by the spectrum calculation unit is corrected by that set. As a result, the length of the xavim can be controlled with respect to the target value. In addition, information on the wavenumber, sene, center length, spectrum, and degree of polarization of the beam used in the exposure is also provided as exposure 1 to the 6-2 before exposure.
  • the conductive chair is subjected to a step of measuring the chair, a step of manufacturing the chair based on this step, a step of forming a material, Depending on the position, the step of exposing the turned pattern to the exposure, the step of forming the pattern such as stitching, the step of standing up, the step of bonding, the step of cage), the step) And so on.
  • the light can also be applied to the scene at the position. It can also be applied to a step-and-stitch type exposure in which at least two tans are partially overlapped and transferred on the c. Also, it can be applied to a exposure device that closely contacts a disc that does not use a projection system as exposure. Also, for example, light can be applied to the operation disclosed in WO 99 495 4. Also, the light can be applied to the case where the outside light () of wavelength to OO degrees is used as a beamer. At this time, the exposure beam is not limited to light emission and may be continuous light.
  • the device is not limited to devices made of semiconductor devices, for example, a device formed on a glass plate, a device such as a plasma display, or a device (CC, etc.), or an icon. It can also be widely used in equipment for manufacturing chairs such as paddles, S-chips, and so on. Further, it can also be applied to the exposure step () when manufacturing the masks on which the chairs of various chairs are formed (such as male and female) by using the manufacturing method.
  • a measuring step equipped with a step capable of holding and moving a substrate such as (c) and various materials and / or a sensor. It can also be applied to a device equipped with.
  • a disc with a predetermined tan (or tan tan) formed on the transient, or a disc with a predetermined tan formed on the emissive is used.
  • a tan or a reflection tan or a luminescence tan is formed based on the data of the exposure tan (also called a morpho-form tan, for example, the image display ()).
  • Species (Dg a M ... mo Dev ...) etc. are included.
  • the so-called two light beam can be applied to the light exposure unit that is actually exposed to the light beams by a plurality of bundles. It is disclosed in the law and, for example, in International Publication No. 3568.
  • Kaki (248) Kaki (93, Zah (57), etc., but also (436) (3), etc. can be used for the position to which Ming is applied. Not only the reduction of the system but also the deviation of the equal system and the system.
  • stages WST and RS may be of a type that moves along a guide or a guide type that does not have a guide.
  • a moving mechanism of the 006 stage it is also possible to use a flat plate which drives a stage by a magnetic force which opposes a two-dimensionally arranged stone and an two-dimensionally arranged armature. In this case, connect one side of the magnet and the electric machine to the stage, and connect the one side of the magnet and the electric side to the moving surface of the stage. Please set it on the side.
  • the process of establishing the system from the system includes mechanical connection, connection of electrical circuits, and air pressure between various systems. It goes without saying that there is a system stand-up process before this system stand-up process. After the process of setting up the system is completed, the overall adjustment is performed and the degree as an exposed body is secured. In addition, it is desirable that the exposure temperature and kun are controlled.
  • the present invention is not limited to the above-mentioned state, and it is possible to take a configuration within a range not deviating from the clarification.
  • all of the specification of the specification, the patent, the drawings, and the reference number 2 5 3575, which is attached to the reference numeral 2 5 3575, are incorporated in the present application as they are.

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Abstract

　露光装置本体側の情報をレーザ光源装置側で有効に活用する。ウエハを露光する露光装置本体部（２０）のためにレーザ光（ＬＢ）を供給するレーザ光源装置（１６）であって、露光装置本体部（２０）から供給される露光動作に関する露光情報（ＥＩ）に基づいて、レーザ光源装置（１６）の運転条件を調整する制御部（１２）を備えた。その露光情報（ＥＩ）の一例は、発光開始までの待機時間又は発光継続時間に関する情報であり、その運転条件の一例は、レーザ光を発光する放電チャンバ（１）内のガス圧、放電チャンバ（１）内の温度、及び放電チャンバ（１）内のブロア（４）の回転数である。

Description

細 書
ザ 置、並びに露光 、法及び
術分野
０００1 、 ザ 置の 術及び ザ光を用 物体を する 術に関し、例えば半導体 イス、 (CC 等)、 デイスプ イ 等の各 イスを製造するための グラ 程で、 上に スク タ ンを 転写するために使用される 置の として ザ 置を用 場合 に好適なものである。
０００2 えば半導体 イスの製 程の である グラ 程にお ては、 ス クとしての に形成された タ ンが としての ジストが 布された
(又はガラスプ ト等) 露光される。これには、ステッ 等の
スキヤ ングステッ 等の の 置が使用されて 。これらの 置にお ては、解像 を高めるために、露光波長が次第に短波長 。
として主に キ ザ( 248 )や キ ザ( )等の放 スペクト ス 振を行 キ ザ が用 られて 。この ザ 源 ら ス された ザビ ムは、露光 体部の 学系にお ビ ム ( )の 理が施されて に照射される。
０００3 、露光 体部にお 前に発光 ス ネ ギ
光周波数を設定し、その後は ス毎の発 タイ ングを知ら る 号を 体部 ら ザ に送信し、その 号に同期して ザ ス 光を行 て ( えば、特許 )。 まり、次の ザビ ムを す き 、 ザ では 号が送られて来るまで は持 て な た。また、例えば 体部 光を継続できな ラ が発生した際に、従来は ザ では何らの 報のな 態で 体 部 ら発光の (ト )が来るのを待 て 機して 。 ０００4 また、従来は、 ザビ ムのスペクト や中心 ラメ タは、 ザ でのみ タされており、露光 ではその ラメ タの の 報は 特に利用して な た。
1 2 48344 報
発明の
明が解決しよ とする課題
０００5 導体 イスの タ ンは しており、その製造に際して られる 置にお ては転写された微細な タ ン像の線 であるC (C 。 m。n n)の 差を低減するために、露光量の 度を向上する必要がある。そのために は、 ザ でも、 ザビ ムの ス毎の ネ ギ の 度を高めて 、出力の 定性、即 ザビ ムの ネ ギ 定性を向上する必要がある。 ０００6 し しながら、従来の 体部 ら送信される 号のみに基 て ザ が発光を行 御方法では、必要となる制御 度を維持した状 態で ス 光を行 ことは困難であ た。さらに、露光 体部で 光を一時中 断する ラ が発生した場合でも、従来の ザ 源は単に露光 体部 らの 号を待 て た。このため、仮に待機 態が長引 た 場合に は、必要となる制御 度が得られる状態を維持することが困難であ た。その 果、 ラ が解消されて 光を再開した際に、 ザビ ムの ネ ギ 定性が低下 する恐れがあ た。さらに、露光 ス ではな を発生する で ある場合にも、発生する の 力の 定性を高める必要がある。
０００7 また、従来は 体部 では ザビ ムのスペクト や中心
ラメ タは使用して な たが、例えば りの 上のために、露光 体部 でもそれらの ラメ タを利用することが望ま 。
る点に 、 ザ として る場合に、 ザ では の の 報を 効に活用し、露光 の では ザ の 報を 効に活用することを目的とする。
具体的に、 、露光 の の 報を用 て出力の 定性 制御 度を向上できる ザ 置、 びこの ザ 置を用 る を提供することを の 的とする。
また、 、 ザ として る場合に、 ザ光の状態を表 す 報を利用できる 術を提供することを 2の 的とする。
題を解決するための
０００8 明による ザ 、物体を する 体部(2 )のために ザ光を供給する ザ 置であ て、その 体部 ら供給される 作に関する情報に基 て、その ザ 置の 件を調整する制 御 ( 2)を備えたものである。
る 明によれば、その ザ でその 作に関する情報を用 て次に発光( )が開始される際の準備をしてお ことによ て、出力の 定性 出力の 度を向上できる。
０００9 明にお て、その 作に関する情報の 、発光 始までの
間及び 続時間の な とも一方に関する情報であり、その 件の 、その ザ光を発光するチヤン 内のガス 、そのチヤン 内の温度、 びそのチ ヤン 内の の な とも一 の 件を含むものである。また、その 作に関する情報の他の例は、その 体部の ラ 報、又はその 体部に接続された装置(5 )の ラ 報を含むものである。
００1０ また、 明による の ザ 置の 御方法は、処理装置(2 )のために ザ光を供給する ザ 置の 御方法であ て、その 理装置の 作に 関する時間の 報を得ることと、その 間の 報に基 て、その ザ 置 の 件を調整すること、とを備えたものである。
また、 明による 2の ザ 置の 御方法は、処理装置(2 )のために ス光を供給する ザ 置の 御方法であ て、その 理装置 ら供給さ れる発光ト 号に基 て、前記 ス光を発光することと、その ス光を 発光して な 態におけるその ザ 置の 件を、その ト 号が供給される前に変 さ ること、とを備えたものである。
これらの 明の 御方法によ て、その 理装置 の 報を用 て、 ザ 置の 御を行 ことができる。 また、 明による 、 ザ 置 らの ザ光を用 て、 上 に所定の タ ンを形成する 法であ て、その ザ 置に本 明の ザ 置を用 る 、又は本 明の ザ 置の 御方法を適用するも のである。 明によれば、 ザ光の出力の 定性 制御 度が向上して ため、C (C ca Dmenson) 差の ことができる。
００11 次に、 明による 、 ザ光を発光する ザ ( 6)と、その ザ光を用 て物体を する 体部(2 とを有する 置にお て 、その ザ 源 ら発光された ザ光の状態を タ タ (9 )と 、その タ 置で タされたその ザ光の状態の 報をその 体部 での 果に対応して記憶する記憶装置(35)とを備えたものである。 明によ れば、その ザ光の状態の 報を 果に対応して記憶してお ことによ て、 例えばその 果の 因解析 にその ザ光の状態の 報を利用できる。 なお、 明を分 り するために 態を表す 面に対応 けて説明し たが、 明がその 態に限定されるものでな ことは までもな 。また、図 面に対応 けた実施 態の 良してもよ 、また、少な とも一部を他の 構 に代替さ てもよ 。 ００12 の 態の ステムを示す図である。
2 2の 態の 置を示す図である。
3 態の ザ 置の他の例を示す図である。
4 光度の の 例を示す図である。
号の
００13 … チャン 、4… ア、6… ザ 、9… タ 、 …スペクト 算部、 … ・ 算部、 2… 、 3… 、 6 6 6 … ザ 置、 2 … 体部
発明を実施するための 良の
００14 の
下、本 明の の 態に き を参照して説明する。 、 ス する ザ 置に本 明を適用したものである。
は ザ 6を含む ステムの ック図であり、この にお て、 ザ 6は、 ザ 6、この ザ 6 ら 出され る ザビ ム ( ザ )の 上に設置された 97 度のビ ムス プ ッタ7、このビ ムスプ ッタ7の 射光 上に順次 置された ラ (又は ビ ムスプ ッタ)8 タ 9、基準 3、 タ 9 らの 号が入力 されるスペクト ０、このスペクト 算部 らのスペクト 等及び後 の 数のセンサの 報が供給される記憶・ 算部 、並びにこの ザ
6の 作を制御する制御 2を備えて る。 2には、その 作を制御する ンピ を含む 部の他に、 ザ 含まれ て る。 ・ 算部 、制御 2 ら供給されるスペクト 後述 のガス の 標値を記憶するとともに、それらの 標値と実測 との 差の 報を 求めて制御 2に供給する。 2中の発 、それらの 差が小さ なるよ にその ザ イ ド ック 御する( )。
００15 ザ 6は所定の ウジング内に収納されて る。 ザ 6は、
キ ザ( )又は キ ザ( 248 )より なる放電電極を含む チヤン ( キ ザチ ) 、この チヤン の 面に配置された 射の ア ラ 3、その チヤン の 面に配置された
( )のフ ント ラ 2、 チヤン ント ラ 2との間 に配置された ジ ( )等を含む。この 合、 ア ラ 3 ン ト ラ 2とによ て、共振 成されて る。
００16 その の ジ は、一例として ザビ ム の 上に順次 置される 定の ァ ル ・ ン( ab Pe o e aon)( 下、 ン 称する) 角の とを含んで構成される。 は、2枚の石 を所定の ( ア 、 )を空けて平行に対向さ たもので、一種の ンド イ として働 。 定の は 、可変 角の は である 。これらの は、 ザ 6 ら 出される ザビ ム のスペクト 幅 を、一例として自然発振スペクト 幅の約 ～ 3 度に狭めて 。また、制御 2が の 動機構を介してその 角の の 角を調 整することにより、 ザ 6 ら 出される ザビ ム の ( ) を所定 囲で トできる。なお、その ジ を、例えばプ ズム 回折 子とを組み合わ て構成することも可能である。また、その ジ を 、放電チヤン の 面に設置された ラ の 置に設置することも可能であ る。
００17 チヤ 内には、所定の ザ にれは ガスであるクリプ ン 又はア ン )、 ッ ッ である ウム e ら成る 充 填されて る。そのため、放電チヤン には、 の を介して キ なガス の 端が接続され、このガス の ( )、 、 。 などのガスボンベ( )に接続されて る。また、放電チヤン には、 の を介して例えば キ 気管が接続されて る。この 気管 には、 ッ素を ラップする イ ポンプなどが設けられて る。こ れは、 イ により ガスを無害 した後に排気 ポンプにより 置の 部 出することにしたものである。 は、制御 2によ て開閉 御さ れる。
００18 また、放電チヤン は、放電が行われる放電部 aと、放電部 aに を供給する ガス bとに分 れ、ガス b内に内部の 類の を良好に混合 さ て、 電部 aに効率 給するための 長 数の 備えた回 転 ( ァン) らなる 4が設置されて る。 ザの 振時に制御 2は、駆 動 タ4aを介して 4の ( )
「 を制御して、放電チヤン 部で ザ を所定の さ る。
００19 また、放電チヤン 内には、内部のガス圧を検出する カセンサ5 、内部のガス 度を検出する センサ5 、 部の 類の の 力を個別に(又は その の ) 出する センサ( )が 着され、これらのセンサの 所定のサンプ ング トで記憶・ 算部 供給されて る。
2は、例えばガス 換の 、放電チヤ 内の ザ が所定の 比 及び 力になるよ に調整し、 ザの 振時には、 ヒ タを介して放電 内のガス 度を制御する。
００2０ また、 ント ラ 2 ビ ムスプ ッタ7との間に ザビ ム の を開閉す る ヤッタ( )が配置され、基準 3 ラ 8との間の光 上には、 基準 3 らの光の光 を開閉する ヤッタ 4が設けられて る。 2が それらの ヤッタの 制御することによ て、 タ 9には ザビ ム 又 は基準 3 らの光の ずれ を選択的に入 さ ることができる。
００21 タ 9は、その 部に ネ ギ タ ビ ム タ(スペクト タ)とを含 む。その ネ ギ タとしては、高 応答 波数を有するP 型 ォトダイオ ドな どの 子が用 られる。この ネ ギ タ らの ( )は 記憶・ 算部 供給されて、 目標値との 差が 出される。 方、ビ ム タとしては、例えば ン、テ メ タ ンズ ラインセンサ等を含む ァ ペ が用 られて る。その に ザビ ム ら分岐された ザビ ムが人射すると、その の での 間 で反射と透過とを繰り返す。このとき、所定人射角の光のみが を 過して強 め合 、これにより、テ メ タ ンズの ( タ ン)が形成さ れ、 タ ンがラインセンサによ て検出され、検出 果がスペクト 算 部 に供給される。そのラインセンサで検出される 度の 、その に おけるラインセンサの 手方向に関して所定 隔で、その 対応する
ザビ ム のスペクト の 報を含んで る。
００22 スペクト 算部 は、一例としてそのビ ム タの 果を用 て タ 9に する ザビ ム(又は基準 3の )の 長、 スペクト 幅を求める。その 長の わりにスペクト の 長を求めてもよ 。スペ クト としては、強度がピ クの 2となる波長の幅である半値 ( WHM WdhHa M m m)を用 るが、その他に2 の 長間のスペクト の 度分布の がそのスペクト の 度分布の に対して95 になるときの幅である 95 ネ ギ を用 ることも可能である。その 長及びスペクト 幅の 計 記憶・ 算部 供給され、ここで目標値に対する 差が求められ、 この 差が制御 2に供給される。 2ではその 差を補正するよ に、上記 の の ジ を調整する。
００23 また、その 長の真の値( 下では、便宜上この真の値を 呼ぶ)を 求める際に、 キヤ ョンを 際に、例えば ザ よりなる基準 3が用 られる。 では、基準 3として、 ザ (ア ンイオン2 調波 ザ )が用 られて る。この ザ の 248 253 と、 キ ザの 248 385 に非常に近 その ァ ンスとして好適である。 キ ザの 合には 、対応する中心 長に近 中心 長を持 ザ を基準 3とすればよ ００24 ここで、 タ 9 スペクト 算部 による絶対 キヤ ョンに て 単に説明する。この際に、先ず ヤッタ 4のみを閉じて、 ザビ ム ら 分岐した ザビ ムのみを タ 9で 、この ザビ ムに対応する タ ンの 報を得、その 報をスペクト 算部 部の メ りに記憶す る。次に、 ザ 6側の ヤッタを閉じ、 ヤッタ 4を開 て、基準 3 らの光を タ 9に さ る。そして、このときに得られる タ ンとそ の メ 内の タ ンとを 較して、 ザビ ム の 長の 長 らのずれを求めることで、 ザビ ム の 長に対するそれまでの セットを求め、この セットを記憶・ 算部 に記憶 に記憶する。こ の セットを求める動作が絶対 キヤ ョンであり、その 、記憶・ 算部 では、スペクト 算部 ら供給される ザビ ム の 長の にその セットを加算することで、 ザビ ム の 長を高 度に計算できる 。その キヤ ョンは、例えば 前 に定期的に行えばよ 。 ００25 次に、 ザ 6 ら 出されてビ ムスプ ッタ7を 過した ザビ ム は、露光ビ ムとして 体部2 内の照 学系を介して スクとしての を照明する。 体部2 は、その 学系、 を保持して 移動する ク ステ ジ、その の タ ンの像を基 ( )としての ジ ストが 布された 上に投影する 学系、ウ を保持して移動する ステ ジ、 びその 作を統括 御する主制御 光量 備えて 。また、露光 体部2 には、ウ に ジストを塗布して 体部2 に供給し、露光 みの の ジストの 像を行 ための タ・デベ ッ 5 が 接続されて 。
００26 の 体部2 内の露光量 系 ら ザ 6の 2 に対して、所定の ラインを介して の 連の ス 光のタイ ングを指示 するための Pが送信され、露光 体部2 内の主制御系 ら制御 2に対しては、同一又は別の信 ラインを介して 作に関する情報を含む が供給される。さらに、その 光量 ス ネ ギ の 報を 例えば 理する ットの ウ の 前に ザ 6の 2に供給する。
００27 例として、露光 前に露光 体部2 ら制御 2に対して、その
として以下の(a ) (a2)に関する情報が供給される。
(a )ウ 内に露光が予定されて ョッ 数に に ョッ たりの 間 を乗じることで 枚の に対する 続時間( 光の 続時間)が求められる) (a2)次の露 ( )までの ザ 6の 。なお、実際 に供給するのは、 (a ) (a2)の な とも でもよ 。
また、 (a2)の ザ 6の 間には、ウ ( 光が終了した を次の に交換して )等に予定されて 止時間、露光 体部2 の ラ 等による ザ 6の 止 ら発光 始までの
間、又はあとどれ ら 機したらよ の が含まれる。
００28 体部2 らその を受け取 た制御 2は、その
に応じて ザ 6の 下の(b )～(b5)の 件を最適に調整する (b ) チヤン 内のガス 、 (b2) チヤン 内のガス 、 (b3) チ ヤン 内のガス 度、 (b4) チヤン 内の 4の 、 (b5) 振時の チヤン の 対する 。
００29 なお、実際には、例えば(b2)のガス に ては、 センサの に基 ィ ド ック 御ではな 、上記の 数の らの 体の 量を制御す ることによるオ プン プ 御でもよ 。また、 (b5)の チヤン の 圧 に ては、応答 度が極めて速 ため、露光 体部2 らの
Pが来て ら制御してもよ 。また、それ以外の の 度の 運転 件 である(b )のガス 、 (b3)のガス 度、 (b4)の 4の に ては、その 内の少な とも を制御するだけでもよ 。
００3０ 体的に、例えば次の発 始までの 間の 報が供給された場合には、 ( b3)のガス 度に て、待機 間の めの ちは低 しておき、その 間が終 わる ( えば が来る直前)に発振時の 度まで高めてお ことによ て 、放電チヤン の 命を延ばすことができるとともに、発光 始直後 ら指示された ネ ギ で安定に ス 光を行 ことができる。また、発振 波数が高 なる場 合には、 (b4)の 4の を次第に上げてお ことによ て、スペクト ， や出カ ネ ギ の 定性を高めることができる。
００31 記の(b )～(b5)の 件の 整によ て、 ザ 6 ら出力され る ザビ ム に て安定 できる主な ラメ タは以下の( )～(c6)である
( ) カ ネ ギ ( ス ネ ギ )、これは、 (b5) チヤン の 圧の他に、 (b ) チヤン 内のガス 、 (b3) チヤン 内のガス 度 によ ても 程度制御 能であり、発振 波数が高 な た場合の カ ネ ギ の 定性は(b4)の チヤン 内の 4の にも 存する。 ００32 (c2)スペクト 、これは(b2)の チヤン 内のガス ( 度比)によ て 程度制御 能である。
(c3) 長、以下の(c3)～(c6)は、上記の の ジ によ ても 程度調整 能であるが、上記の(b )～(b5)の 件の 定性にも 存する。
００33 (c4) ザビ ム のスペクト のプ ァイ 内の光 度分布、
(c5) 光度、
(c6) ヒ ンス。
このよ に ザ 6、 びこの ザ 6の 御方法( 2によ て実行される)によれば、ト P 外に予 体部 2 ら ザ 6の 2に供給される に基 て、 ザ 6の 件を調整してお ことによ て、発光 始直後 ら ザビ ム の カ ネ ギ を含む ラメ タを安定 できる。 て、露光 体 部2 側で転写される タ ン像の線 の 差であるC 差を低減することができ、 微細な タ ンを持 イスを 度に 造できる。
００34 次に、 にお て、その には、露光 体部2 にお て例えば オ ト ォ が良好に作動しな な た等で 光を継続できな な たことを示す ラ 報、又は タ・デベ 、 5 等にお て処理が停止したために露光を継 続できな な たことを示す ラ 報も含まれて る。
、露光 体部2 又はこれに接続されて る タ・デベ ッ 5 等で ラ が発生し、露光が一時的に中断された場合には、一例として 体部2 の 制御系 ら ザ 6の 2に対して、その として ラ 生によ て 光が止ま て る ( ラ )を送信する。その ラ 報に応じて、制御 2では、 ザ 6をスタン イ 態にして す る。その 、露光 体部2 ら制御 2に対して ラ が回復したとの 報が 送信されて ら、制御 2が ザ 6を発振 能な状態に復帰すること によ て、放電チヤン の 命を延ばしながら、発振時の カ ネ ギ を安定 できる。
００35 また、そのよ に露光 体部2 又はこれに接続されて る タ・デベ ッ 5 等で ラ が発生し、露光が一時的に中断された場合には、別の例として
体部2 の 制御 にお て、その ラ の 容を 下の(d )～(d5)のよ に 分類して ザ 6の 2に通知してもよ 。
(d ) 時的なもの( 秒以内に回復 )、 (d2) 分以内に回復 定のもの、 (d 3)オペ タのア スト 、 (d4) き ラ ですぐには回復の 込みが 祐 の、 (d5) 因が不明のもの。
００36 このよ に分類された形で ラ 報を受け取 た ザ 6の 2 では、その ラ の 容に応じて最適な ザ 6の ドを選ぶよ にする。 えば、 (d )の 時的な ラ に対しては放電チヤン 内のガス 度を 少し下げ、 4の も少し下げておき、 (d4)のすぐには回復の 込みが無 ラ に対してはスタン イ 態にすればよ 。このよ に ラ の 類に応じて ザ 6側の待 ドを選択することによ て、無駄な ネ ギ の 費を避けることができ、その後の発 始時には高 ネ ギ 定性が得られる。 また、露光で使用される ザビ ム の 波数や ザビ ム の ス ネ ギ 量の情報も、露光 として ザ 6の 2に露光 前に供給される。 ス ネ ギ 量は、露光 体部2 内の照 学系に設 けられた センサ(インテグ トセンサ)によ て検出される。
００37 2の
次に、 明の 2の 態に き 2を参照して説明する。この 2にお て、 に対応する部分には同一 号を付してその 細な説明を する。
2は ザ 6 体部2 を含むスキヤ ングステッ よりなる の 置を示し、 2中の ザ 6の ( のために 中の基 3 センサ5 5 は して る)は の ザ 6 同じである。 2にお て、露光 としての ザ 6 ら 出された ザビ ム は ラ 2 22を経て 体部2 の 学系に入 する。
００38 その 学系にお て、 ザビ ム は、ビ ム 23を経てオプテイカ ・インテグ タ( イザ、又は ナイザ)としての ライアイ ンズ24に する。なお、 ライアイ ンズ24の わりに回折 使用してもよ 。 ライアイ ンズ24の 出面、即 学系の には照明 件を通常 明、輪 明、複数 に設定するための り板25が配置されて る。 ００39 ライアイ ンズ24 ら 出されて開口 り板25中の所定の りを通過した ザビ ム は、露光 ( ビ ム)として ンズ系26を経て ラインド 27に する。 ラインド27は、固定 ラインド( 明視野 )
ラインド( 明視野 を備えて る。 者の ラインドは の タ ン ( ク )に対する共役 に設置され、前者の ラインドはその 面 ら所定量だけ オ カスした面に配置されて 。 ラインド27を 通過した は、 ンデンサ ンズ系28、 2 ンデンサ ンズ系29、 り曲げ用の ラ 3 を介して スクとしての の タ ン面のス ット 状の照 域を照明する。ビ ム 23 ら ラ 3 までの を含んで 学系が 成されて 。
００4０ のもとで、 の 域内の タ ンの像が投影 学系P を介して所定の (０は例えば 4 5等)で、投影 学系P の 像 面に配置された ( )としての W上の の ョッ 上の ジスト層 のス ット状の露 域に転写される。 下、投影 学系P の 軸に平行にZ軸を 取り、Z軸に垂直な平面内で走査方向にこでは 2の 面に平行な方向)に 軸を 取り、走査方向に直 する 査方向にこでは 2の 面に垂直な方向)にX軸を 取 て説明する。
００41 2に 、 は、 ク ステ ジ S 上の保 に吸着 持され、 ク ステ ジ S は、 ク ベ ス( ) 向に 動できると 共に、X 、 、回転方向に微動できるよ に されて 。 ク ステ S ( )の2 元的な位置は ザ によ て ア タイム に計測されて 。この 果に基 主制御 32がステ ジ 34を介 して ク ステ ジ S の 作を制御する。
００42 方、ウ Wは、ウ ホ ダ3 を介して ステ ジWS 上に吸着 持さ れ、ウ ステ ジWS は、ウ ベ ス( ) 投影 学系P の 面と平 行なX 面に沿 て2 動する。ウ ステ ジWS のX 、 向の 置、 X 、 、Z軸の回りの ザ によ て ア タイ ムに計測されて 。この 果に基 主制御 32がステ ジ 34を 介して ステ ジWS の 作を制御する。また、 Wのアラ イメントを アライメントセンサ( )も備えられて 。さらに、主制御 32によ て制御される 光量 33は、露光 の 量を タする センサ( インテグ トセンサ)の 果に基 、ウ W上で最適な 度が得られる よ に、 ザ 6の 2に上記のインテグ トセンサの 果を 給し、別途 光のタイ ングを Pにて送信する。 制御 32は制御 2に上記の を供給する。
００43 常の には、露光 ( ザビ ム )を に照射して、 ク ステ ジ S ステ ジWS を介して Wを投影 学系P に対して投影 率を速度比として同期 動する動作と、露光 の 停止して ステ ジWS を駆動して Wをステップ 動する動作とがステッ プ・アン スキヤン 式で り返される。この 作によ て、ウ W上の全部の 、 域に の タ ンの像が転写 光される。
００44 さて、このよ に Wの ョッ 域に の タ ンの像を転写する際 に、 ザビ ム の 長やスペクト の 態が 果に影響を及ぼ すことがある。そこで、露光 果の ( 因解析を含む)を ために、
ザ 6のスペクト 算部 ( タ ら 体部2 の 制 御 32に対して、ウ の ョッ 毎の露 に以下の(e )～(e7)の ザビ ムの 態を示す の 又は少な とも一部を送信する。 された情報は、 主制御 32( )に接続された記憶装置35内に各 ョッ 毎の露 果の ( )の 部として記憶される。
００45 (e ) ョッ 内の ザビ ム の スペクト 、 (e2) ョッ 内のスペクト 幅の最大値及び 、 (e3) ョッ 内の ザビ ム の 長の 均値、 ( e4) ョッ 内の中 長の 大値及び 、 (e5) ョッ 内のスペクト のプ ァイ の 置の 大値及び 、 (e6) ョッ 内の ザビ ム の 光度 の 大値及び 、 (e7) ョッ 内の ザビ ム の ネ ギ 。
００46 なお、 ザビ ム の 光度を計測するには、一例 して 4に示すよ に、 ザビ ム を ラ 36 ラ 37で2 分け、これらの2 束を すればよ 。 センサ39 39 の 力 ら偏光度が計算できる。 2に戻り、主制御 32では、一例として 了後に現像された Wの ョッ C 品の 上記の(e )～(e7)の ザビ ム の 態との 係を解析して、 (e )～(e7)の ザビ ム の 態の 範囲を求める。その後の露 には、例えば ットの 頭の の 光に際し て、 ザ 6 ら主制御 32に送信される ザビ ムの 態を示す ( 記の(a )～(a7)の 許容範囲内に無 場合には、主制御 32 ら ザ 6側に ザビ ムの 態を調整するよ に指示することによ て、 ザビ ムの 態の が可能になる。
００47 なお、上記の ザ 6の わりに 3に示す ザ 5 も使用 できる。 に対応する部分に同一 似の 号を付した 3にお て、 の ザ 6とほぼ同じ構成の2 の ザ 6 6 が並列に配 置されて る。ただし、 では、 タ 9に する ザビ ムの ァ ンス 光を発生する基準 ザ 6 内には設置されて な 。また 、 の ザ 6 の ント ラ 2との間には
ジ は設置されて な が、 2の ザ 6 の
ント ラ 2との間には ジ ( )が設置されて る。また、その ジ は、 ア ラ 3の 置に設置することも可能である。そして、 2 の ザ 6 にお ては出力は小さ が中心 長及びスペクト 幅が高 度に制御された ザビ ム を ス 、 の ザ 6 に お ては、その ザビ ム の 力を増幅した ザビ ム を ス 、この ザビ ム を 体部2 で ビ ムとして て る。
００48 、 3にお て、 ザ 6 ら 出された ザビ ム は ラ
7 ビ ムスプ ッタ 8で反射されて ザ 6 の ザ 6 に 、この ザ 6で増幅された ザビ ム が ザ 6 ら 出される。
００49 また、ビ ムスプ ッタ 8を 過した ザビ ム は、 ラ 8 ラ
7 を介して タ 9 同じ構成の タ g に する。 タ g の 基準 3が配置され、 ザ 6 側の ヤッタ( )を閉じて、 ヤッタ 4を開 ことで、 ザビ ム 切り換えて基準 3 らの ァ ンス 光を ラ 8を介して タ g に できるよ に構成されて る。 タ することによ て、その ァ ンス光の波長を基準として ザビ ム 、ひ て は ザビ ム の 長の を求めることができる。スペクト 算部 で 得られる波長の の 報を含む ザビ ムの 態を示す は、露光 体部2 らのデ タ ンド Sに応じてインタ ス 52 ら 体部2 に送信される。
００5０ ザ 6 6 は、 の 態と同様に露光 体 部2 らの に基 て ザ 6の 件の 整を 、ト
Pに基 て ス 光を行 、 ザ 6 6 では、 ザビ ムの キヤ ョンは行わな 。この キヤ ョン を 際には、露光 体部2 らインタ ス 52にデ タ ンド S を送信し、これに応じて タ g スペクト 算部 にお て検出された ザビ ム の 長の の 報が 体部2 に送信される。その ザビ ム の 長の の の 部として ザ 6 の 2にも 給される。この 2では、それまでの ザビ ム の 長の の 長の に対する 差を セットとして 、それ以降は スペクト 算部 で められた ザビ ム の 長の をその セッ トで補正することによ て、 ザビ ム 、ひ ては ザビ ム の 長を目 標値に対して 度に制御できる。また、露光で使用される ザビ ム の 波数、 ス ネ ギ 、中心 長、スペクト 、偏光度 の 報も露光 1として ザ 6の 2に露光前に供給される。
００51 この例にお ても、 給される を用 ることによ て、 ス 振 時の カ ネ ギ を常に安定 することができる。
なお、上記の 態の 置を用 て半導体 イスを製造する場合、この 導体 イスは、 イスの ・ 計を行 ステップ、このステップに基 て を製造するステップ、 ン 料 ら を形成するステップ、上記の 態の 置によりアライメントを行 て の タ ンを に露光 するステップ、 ッチング等の回 タ ンを形成するステップ、 イス み立てス テッ ダイ ング 程、ボンデイング 程、 ッケ ジ 程を含む)、 ステッ 等を経て 造される。
００52 なお、 、走査 置のみならず、ステッ 等の (
)の 置で 光を行 合にも適用できることは明きら である。ま た、露光 として、ウ 上で少な とも2 の タ ンを部分的に重ねて転写す るステップ・アン スティッ 式の露 置にも適用できる。また、露光 として 、投影 学系を用 ることな スク とを密接さ て スクの タ ンを す る ティ 置にも適用できる。また、 、例えば国際公開 99 495 4号で開示されて る の 置で 光を行 合にも適用できる。ま た、 、波長 ～ OO 度の 外光( )を ビ ム ザ )として る 置で 光を行 合にも適用できる。この際に、露 光ビ ムとしては ス光のみならず、連続 であ てもよ 。
００53 また、 、半導体 イス製 の 置 の 用に限定されることな 、例えば、 ガラスプ トに形成される 子、若し はプラズ ディス プ イ等のディスプ イ の 置や、 (CC 等)、 イク ン、 ッド、 S チップ等の各 イスを製造するための 置にも広 用できる。更に、 、各種 イスの スク タ ンが形 成された スク( オト スク、 ク 等)を オト グラ ィ 程を用 て製造する 際の、露光工程( )にも適用することができる。
００54 また、露光 として、 354 ( 際公開 999 23692)に 開示されて るよ に、ウ 等の被 理基 を保持して移動 能な ステ ジ 、各種の 材及び 又はセンサを備えた計測ステ ジとを備えた 置にも 適用することができる。
００55 なお、上記 態にお て した動作手順、ある は の 、 組合 等は一例であ て、 明の 旨 ら 脱しな 範囲にお てプ セス 件 、設計 に基 き 能である。
００56 また、 、ウ ステ ジが複数 けられる インステ ジ型の露 置に も適用できる。ツインステ ジ型の露 置の 造及び 、例えば
63 99 報及び 2 4783 ( 6 34 7 、6 4 44 、6 549 269号及び6 59 634 )、 2 5 595 8 ( 5 969 44 )ある は米国 6 2 8 4 7号に開示され て る。さらに、 明を本願 願人が先に出願した 2 4 6848 ( 際公開2 5 22242)の ステ ジに適用してもよ 。
００57 なお、上述の 態にお ては、 過性の 上に所定の タ ン( または タ ン・ タ ン)を形成した スク、ある は 射性 の 上に所定の タ ンを形成した スクを用 たが、それらに限 定されるものではな 。 えば、そのよ スクに代えて、露光す き タ ンの デ タに基 て タ ンまたは反射 タ ン、ある は発光 タ ンを形 成する( 変成形 スクとも呼ばれ、例えば 像表示 ( ) の 種である (Dg a M。。 m o Dev。。)などを含む。
００58 また、例えば、2 光と呼ばれて るよ 、複数の 束の 渉によ て生 じる に露光するよ 置にも 明を適用することができる。そ のよ 法及び 、例えば、国際公開 35 68 ン に開示されて る。
００59 また、 明が適用される 置の には、 キ ザ(248 ) キ ザ( 93 、 ザ( 57 )等のみならず、 (436 ) (3 )等を用 ることができる。さらに、投影 学系の 縮小 のみなら ず等 および 大系の ずれでもよ 。
００6０ ステ ジ 又は ク ステ ジに ア タ(U P5623853またはU
P5528118 )を用 る場合は、 アベア ングを用 た ア 上 および 、
ン または アクタンスカを用 た 気浮上 のどちらを用 てもよ 。また、 ス テ ジWST、RS は、ガイドに沿 て移動するタイプでもよ 、ガイドを設けな ガイ ド スタイプであ てもよ 。
００61 ステ ジの 動機構としては、二次元に 石を配置した ット 、二次元 に イ を配置した電機 ットとを対向さ 磁力により ステ ジを駆動する 平面 タを用 てもよ 。この 合、磁石 、 電機 、 の ずれ 一 方をステ ジに接続し、磁石 ット 電機 ットとの 方をステ ジの 動面 側に設ければよ 。
００62 ステ ジの 動により発生する 、投影 学系に伝わらな よ に、
8 66475 ( 5 528 8 )に記載されて るよ に 、 ム を用 て機械的に ( )に逃がしてもよ 。
００63 ク ステ ジの 動により発生する 、 8 33 224 (
5 874 82 )に記載されて るよ に、 ム を用 て機械的 に ( )に逃がしてもよ 。
００64 また、露光 、 素を含む各種サ ステムを、所定の 械的 度、 電気 度、光学的 度を保 よ に、組み立てることで製造される。これら各種 度を確保するために、この 立の 後には、各種 学系に ては光学的 度を 達成するための 整、各種 に ては機械的 度を達成するための 整、 各種 に ては電気 度を達成するための 整が行われる。 サ ステム ら 置 の 立工程は、各種サ ステム 互の、機械的接続、電気 回路の 続、気圧 路の が含まれる。この サ ステム ら 置 の 立工程の前に、 サ ステム の 立工程があることは まで もな 。 サ ステムの 置 の 立工程が終了したら、総合 整が行わ れ、露光 体としての 度が確保される。なお、露光 置の 温度お よびク ン が管理されたク ン ムで ことが望ま 。
００65 また、 上述の 態に限定されず、 明の 旨を逸脱しな 範囲で の 成を取り得ることは である。また、明細書、特許 求の 、図面、 約を含む2 5 2 9 付け 出の 本国 2 5 357 5号の全て の 、そ りそのまま 用して本願に組み込まれて る。
００66 なお、法令で許容される限りにお て、露光 置などに関する全ての 例の 示を 援用して本文の 載の 部とする。
上の利用 ， ００67 明によれば、 ザ として る場合に、 ザ では の 報をより 効に活用でき、露光 では ザ の 報をより 効に活用できる。この 果、本 明の 法によれば、 ザ光の 力の 定性 制御 度が向上して るため、C (C ca Dmenson) 差の によ て、微細な タ ンを有する イスを 度に 造できる。

Claims

求の
体を する 体部のために ザ光を供給する ザ 置で あ て、
前記 体部 ら供給される 作に関する情報に基 て、前記 ザ 置の 件を調整する制御 置を備えた ザ 。
2 作に関する情報は、前記 ザ光の発 始までの 間及び 続時間の な とも一方の 報を含む に記載の ザ 。
3 、前記 ザ光を発光するチヤン 内のガス 、前記チヤン 内 の温度、 チヤン 内の の な とも一 の 件を含む 又は2に記載の ザ 。
4 作に関する情報は、前記 体部の ラ 報、又は前記 体部に接続された装置の ラ 報を含む ら3の ずれ に記載の ザ 。
5 ラ 、前記 ラ による前記 ザ 置の 間、
体部の までの 間に応じて分類された ラ 報の な とも一 を含む 4 載の ザ 。
6 ザ光は ス光であり、前記 、前記 作に関する情報と は別に前記 体部 ら供給される一連の ト 号に同期して、前 記 ザ光が ス 光されるよ に制御する ら5の ずれ に記載 の ザ 。
7 理装置のために ザ光を供給する ザ 置の 御方法であ て、 前記 理装置の 作に関する時間の 報を得ることと、
前記 間の 報に基 て、前記 ザ 置の 件を調整すること、と を備えた ザ 置の 御方法。
8 理装置の 作に関する時間の 、前記 ザ光の発 始までの 間及び 続時間の な とも一方の 報を含む 7に記載の ザ 置の 御方法。
9 、前記 ザ光を発光するチヤン 内のガス 、前記チヤン の 度、 チヤン 内の の な とも一 の 件を含む 7又は8に記載の ザ 置の 御方法。
０ 件の 、前記 ザ光の発 始までの 間に基 て、 前記チヤン 内の の を調整するものであり、前記 間中に回転 を増加する 9に記載の ザ 置の 御方法。
理装置の 作に関する時間の 、前記 理装置 前記 理装置に 接続された装置の ラ による 間の 報を含む 7 ら の ずれ に記載の ザ 置の 御方法。
2 ラ 、 ラ までの 間に応じて分類された ラ 報を 含む 記載の ザ 置の 御方法。
3 ザ 置 らの ザ光を用 て、 上に所定の タ ンを形成する 法であ て、
前記 ザ 置に請求 7 ら 2の ずれ に記載の ザ 置 の 御方法を用 る 。
4 理装置 ら前記 ザ 置に、前記 理装置の 作に関する情報を 所定の 準で分類して送信し、前記 類に応じて前記 件を調整する 3に記載の 。
5 ザ光を発光する ザ 、前記 ザ光を用 て物体を する
体部とを有する 置にお て、
前記 ザ 源 ら発光された ザ光の状態を タ タ 、 前記 タ 置で タされた前記 ザ光の状態の 報を前記 体 部での 果に対応して記憶する記憶装置とを備える 。
6 憶装置に前記 果に対応して記憶された前記 ザ光の状態の 報 を用 て、前記 果の 因解析を 置をさらに備える 5に記 載の 。
7 タ 置で タされる前記 ザ光の状 、前記 ザ光のスペクト 、中心 長、前記 ザ光のスペクト の 長、偏光度、 ザ光 の平 ネ ギ の な とも一 を含む 5又は 6に記載の 8 理装置のために ス光を供給する ザ 置の 御方法であ て、 前記 理装置 ら供給される発光ト 号に基 て、前記 ス光を発光 することと、
前記 ス光を発光して な 態における前記 ザ 置の 件を、前記 ト 号が供給される前に変化さ ること、とを備えた ザ 置の 御方法。
9 、前記 ザ光を発光するチヤン 内のガス 、前記チヤン 内 の温度、 チヤン 内の の な とも一 の 件を含む
8に記載の ザ 置の 御方法。
2０ ト 号が供給される前に、前記チヤン 内のガス 、前記チヤン 内の温度、 の な とも一 の 件を変化さ る 9に記載の ザ 置の 御方法。
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