WO2007060944A1 - 金属窒化物の製法 - Google Patents

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WO2007060944A1
WO2007060944A1 PCT/JP2006/323203 JP2006323203W WO2007060944A1 WO 2007060944 A1 WO2007060944 A1 WO 2007060944A1 JP 2006323203 W JP2006323203 W JP 2006323203W WO 2007060944 A1 WO2007060944 A1 WO 2007060944A1
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metal nitride
chelate complex
acid
producing
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Kazumasa Hiramatsu
Hideto Miyake
Nobuyoshi Nambu
Atsushi Nakamura
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Chubu Chelest Co., Ltd.
Mie University
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a metal nitride.
  • Metal nitrides are generally widely used as heat-resistant materials and cemented carbide materials because they are generally characterized by high hardness, high melting point, and chemical stability. Recently, metal nitride has attracted attention as an electronic material. Among these, nitrides of Group III metals have wide gap semiconductor characteristics and are therefore applied to light-emitting materials.
  • Gallium nitride is known as a material with extremely high luminous efficiency, as demonstrated by blue and green light emitting diodes (LEDs) (for example, Patent No. 2791448, Patent No. 282 9319).
  • LEDs blue and green light emitting diodes
  • Group III nitride phosphors represented by gallium nitride have extremely high binding energy compared to ZnS, etc., and are extremely chemically stable. Therefore, high electron beam energy is degraded even by deep ultraviolet light. It is expected not to. Furthermore, since this phosphor does not contain harmful elements such as Cd, it is expected that its environmental conservation viewpoint will be very useful.
  • metal powder is generally used as nitrogen.
  • a nitride is obtained by heating to a high temperature in an atmosphere containing nitrogen (such as nitrogen or ammonia).
  • nitrogen such as nitrogen or ammonia
  • a direct nitridation method for example, JP-A-61-83604
  • a metal oxide in the presence of carbon This is a reduction nitriding method in which heat treatment is performed in an atmosphere (for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-297205).
  • nitrogen is taken into the metal powder or metal oxide from the processing atmosphere, it is difficult to nitrify the surface of the metal powder or metal oxide even if the surface is nitrided.
  • the nitriding reduction method has a problem that carbon used as a reducing agent is combined with a metal element to form a carbide, which is easily dissolved in the metal nitride.
  • the uniformity of the starting materials is most important.
  • a multi-element oxide is used as a starting material.
  • a useful method for obtaining the compound is a liquid phase method using a chemical process represented by a sol-gel method or a coprecipitation method.
  • the hydrolysis rate and solubility product differ depending on the type of metal compound.
  • the obtained substance is in the form of fine particles, it becomes non-uniform.
  • the method for producing a metal nitride according to the present invention uses, as a starting material, an organometallic chelate complex containing a single metal or an organometallic chelate complex having a uniform composition containing a plurality of metals, and this is used as a starting material.
  • the main point is that the heat treatment is performed in an atmosphere.
  • the organometallic chelate complex containing a single metal used in carrying out the method is an organometallic chelate obtained by reacting the metal or a metal compound thereof with an organic chelating agent. It is preferable to use an organometallic chelate complex crystal crystallized from the complex aqueous solution or an organometallic chelate complex powder obtained by spray drying the organometallic chelate complex aqueous solution.
  • an organometallic chelate complex having a uniform composition containing a plurality of metals a metal simple substance of the constituent metal element or a metal compound thereof and an organic chelating agent, and Z or an organometallic chelate complex of the constituent metal element are given in a predetermined manner. It is preferable to use an organometallic chelate complex powder obtained by spray-drying an organometallic chelate complex aqueous solution prepared by mixing so as to have a metal composition.
  • organic chelating agent at least one selected from an organic acid chelating agent and an aminocarboxylic acid chelating agent can be used.
  • organic acid chelating agent at least one selected from an organic acid chelating agent and an aminocarboxylic acid chelating agent can be used.
  • Hydroxyl carboxylic acids and z or amine salts thereof are preferably used.
  • Particularly preferred as the aminocarboxylic acid chelating agent are ditrimethyl triacetic acid, ethylene diamine tetraacetic acid, diethylene triamine pentaacetic acid, triethylene tetramine hexaacetic acid, and These salts can be used alone or in combination of two or more as required.
  • the nitrogen-containing atmosphere employed when carrying out the present invention is preferably an atmosphere containing at least one of nitrogen, dinitrogen monoxide and ammonia.
  • Examples of the metal nitride serving as a target substance of the present invention include nitrides of alkaline earth metals, transition metals, rare earth metals, and metalloids. Of these, the most practical is a mixed crystal containing one or more of BN, A1N, GaN, InN, and TiN.
  • the heating temperature of the heat treatment is set to 500 to 1600 ° C. More preferably, the temperature is in the range of 900-1500 ° C.
  • the heating temperature of the heat treatment is preferably 400 to 900 ° C, more preferably 450 to 800 ° C.
  • the metal nitride serving as a target substance of the present invention includes a composition formula of InGaAlN or InGa.
  • Group III nitride phosphors represented by the genus).
  • the heat treatment is preferred, and the heating temperature is 40.
  • M in the above composition formula is magnesium, zinc, silicon, germanium or a rare earth element.
  • Particularly preferred as the relationship of X, y, z in the composition formula is y
  • FIG. 1 is an X-ray diffraction chart of GaN obtained in Example 1.
  • FIG. 2 is an X-ray diffraction chart of TiN obtained in Example 2.
  • FIG. 3 is an X-ray diffraction chart of InN obtained in Example 3.
  • FIG. 4 is an X-ray diffraction chart of Zn or Mg-doped GaN obtained in Examples 4 and 5.
  • FIG. 5 is an emission spectrum diagram of the nitride-based phosphor (GaN: Zn, GaN: Mg, GaN: Tb) powder obtained in Examples 4 to 6.
  • FIG. 6 is an X-ray diffraction chart of the nitride-based phosphor (GaN: Zn, GaN: Mg, GaN: Tb) powder obtained in Example 6.
  • the metal nitride which is the target substance of the present invention includes alkaline earth metal, transition metal, rare earth metal, and semimetal nitrides.
  • alkaline earth metals such as Mg and Ca
  • transition metals such as Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Fe, Cu, and Zn
  • group III metals such as B, Al, Ga, and In
  • Si Ge And nitrides
  • BN, A1N, GaN, InN, TiN, and mixed crystals containing two or more of these are particularly useful, for example, as phosphors, sintering materials, and pigments. Useful.
  • the present invention is characterized in that an organometallic chelate complex is used as a raw material when producing these metal nitrides.
  • a metal nitride can be obtained by heat-treating the organometallic chelate complex in a nitrogen-containing atmosphere.
  • the organometallic chelate complex means an organometallic chelate complex containing a single metal or an organometallic chelate complex containing a plurality of metals in a uniform composition.
  • an organometallic chelate complex containing a single metal an organometallic chelate complex aqueous solution is prepared by reacting a metal or a metal compound thereof with an organic chelating agent, and crystallization is performed from the aqueous solution. It is preferable to use chelate complex crystals or powder obtained by spray drying the aqueous solution.
  • an organometallic chelate complex containing a plurality of metals in a uniform composition a metal simple substance of the constituent metal element or a metal compound thereof and an organic chelating agent, and Z or an organometallic chelate complex of the constituent metal element, a metal nitride It is preferable to use a powder obtained by preparing a clear organic metal chelate complex aqueous solution by mixing so as to have a predetermined metal composition in terms of conversion, and spray-drying the aqueous solution.
  • the present invention is configured as described above. In short, it is a method in which a powder containing an organometallic chelate complex and Z or crystal are used as a raw material for synthesizing a metal nitride and heat-treated in a nitrogen-containing atmosphere. is there. When a powder and Z or crystal containing such an organometallic chelate complex are fired or heat-treated in a nitrogen-containing atmosphere, a metal nitride is obtained. be able to.
  • the organometallic chelate complex containing single metal has a single metal element-based metal nitride, and the organometallic chelate complex containing multiple metals has highly controlled multi-metal element metal nitride. can get.
  • an organometallic chelate complex aqueous solution is prepared from an organic chelating agent and a metal ion in a solvent.
  • a method for preparing the aqueous solution of the organometallic chelate complex for example, a method of reacting in an aqueous solvent using an organic chelating agent and a metal compound.
  • the organic chelating agent is preferably ethylenediamine tetraacetic acid, 1,2 cyclohexanediamine tetraacetic acid, dihydroxyethylglycine, diaminopropanol tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediamine diacetic acid, ethylenediamine diacetic acid.
  • Propionic acid Hydroxyethylene diamine triacetic acid, Glycol ether diamine tetraacetic acid, Hexamethyylene diamine tetraacetic acid, Ethylenediamine di (o-hydroxyphenol) acetic acid, Hydroxy liminodiacetic acid, Imino acetic acid, 1,3 Diaminopropane tetra Acetic acid, 1,2 diaminopropanoacetic acid, ditrimethyl triacetic acid, ditrimethyl tripropionic acid, triethylenetetramine hexaacetic acid, ethylenediamine disuccinic acid, 1,3 diaminopropane disuccinic acid, glutamic acid N, N monodiacetic acid Aspartic acid N, N— Water-soluble aminocarboxylic acid chelating agents such as diacetic acid; water-soluble organic acid chelating agents such as hydroxycarboxylic acids such as darconic acid, citrate, tartaric acid and malic acid.
  • aminocarboxylic acid-based chelating agent and the organic acid-based chelating agent their ammonium salt or amine salt can also be used.
  • Aminocarboxylic acid-based chelating agents and organic acid-based chelating agents are composed of only carbon, nitrogen, oxygen, and hydrogen. When heat-treated, carbon, oxygen, and hydrogen are removed. Metal nitride can be easily obtained.
  • aminocarboxylic acid chelating agents ditrimethyl triacetic acid, ethylenediamine tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, and triethylenetetraminehexaacetic acid can more easily obtain organometallic chelate complexes, and the resulting organic
  • the metal chelate complex is particularly preferably used because it exists more stably in an aqueous solution.
  • the metal compound include carbonates, nitrates, hydroxides, oxides, inorganic acid salts and the like.
  • the molar ratio of the organic chelating agent to the metal ion cannot be generally determined because it varies depending on the type of the organic chelating agent and the valence of the metal ion. However, there is no problem as long as it is at least the molar ratio necessary for forming a stable organometallic chelate complex in an aqueous solution.
  • the amount of the organic chelating agent used is preferably 1.0 to 1.5 times the molar equivalent of the metal ion.
  • an organometallic chelate complex is obtained from the aqueous organometallic chelate complex solution.
  • the method for obtaining the organic metal chelate complex is not particularly limited, and examples thereof include a crystallization method by concentration, a precipitation method in which a hardly soluble organic solvent is added for precipitation, and an evaporation to dryness method in which an aqueous solvent is removed by volatilization. Of these, the crystallization method is particularly preferable. With this method, a higher-purity organometallic chelate complex is easily obtained.
  • the metal compound When carbonate, hydroxide, or oxide is used as the metal compound, a method of pulverizing by evaporation to dryness is also preferable. In this case, since excess ions or the like do not remain after powderization, the obtained organometallic chelate complex has a high purity. There is no particular limitation on the evaporation to dryness method, but the spray dry method which can instantly make spherical fine particles is preferable.
  • an organometallic chelate complex aqueous solution adjusted to have a predetermined metal composition in terms of a target metal nitride.
  • the method for preparing the aqueous solution is not particularly limited, but the following method is preferable.
  • a metal or its metal compound is precisely weighed so that it becomes a predetermined metal thread in terms of the desired metal nitride, and this is reacted with an organic chelating agent to form a clear organometallic chelate complex aqueous solution To prepare.
  • an organic chelating agent equivalent to or more than each metal is used so that all the metals form an organometallic chelate complex completely.
  • the amount of the organic chelating agent used is not particularly limited as long as it is excessive with respect to the total metal ions, but preferably 1.0 to 1.5. The range is a double molar equivalent.
  • the aqueous solution of the organometallic chelate complex is prepared in an aqueous medium at a temperature of 20 ° C to a boiling point, preferably 50 to 70 ° C.
  • the concentration of the aqueous solution of the organometallic chelate complex is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 10 to 20% by mass, as the solid content concentration. If the concentration of the organic metal chelate complex aqueous solution is 1% by mass or more, the solvent can be efficiently evaporated in the subsequent spray drying, and the energy efficiency is improved. If the concentration of the aqueous solution of the organometallic chelate complex is 30% by mass or less, complete dissolution of the organometallic chelate complex is facilitated, and solid analysis at the tip of the spray nozzle or the like occurs during spray drying in the subsequent process. In addition, an organometallic chelate complex powder can be easily obtained.
  • organometallic chelate complex or the organic chelating agent When the organometallic chelate complex or the organic chelating agent is not completely dissolved, it is completely dissolved by adding ammonia-amine or the like.
  • the organic chelating agent is preferably ethylenediamine tetraacetic acid, 1,2 cyclohexanediamine tetraacetic acid, dihydroxyethyl glycine, diaminopropanol tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediamine diacetic acid, ethylenediamine diacetic acid.
  • Propionic acid Hydroxyethylene diamine triacetic acid, Glycol ether diamine tetraacetic acid, Hexamethyylene diamine tetraacetic acid, Ethylene diamine di (o-hydroxyphenol) acetic acid, Hydroxy liminodiacetic acid, Imino acetic acid, 1,3 Diaminopropane tetra Acetic acid, 1,2 diaminopropanoacetic acid, ditrimethyl triacetic acid, ditrimethyl tripropionic acid, triethylenetetramine hexaacetic acid, ethylenediamine disuccinic acid, 1,3 diaminopropane disuccinic acid, glutamic acid N, N monodiacetic acid Aspartic acid N, N— Water-soluble aminocarboxylic acid chelating agents such as diacetic acid can be mentioned, and any of these monomers, oligomers or polymers can be used.
  • a water-soluble organic acid chelating agent such as hydroxycarboxylic acid such as darconic acid, citrate, tartaric acid, malic acid or the like, or an amine salt thereof can also be used. Even when an aminocarboxylic acid chelating agent is used, it is preferable to use a free acid type, an ammonium salt or an amine salt. In this case, taking into consideration the chelate formation constant with each metal, the stability of the organometallic chelate complex, and the solubility of the organometallic chelate complex in water or an aqueous alkali solution, each metal or metal used It is desirable to select and use the appropriate one for each metal compound.
  • Mino carboxylic acid chelating agents and organic acid chelating agents are composed of only carbon, nitrogen, oxygen, and hydrogen, and carbon, oxygen, and hydrogen are removed by heat treatment. Pure metal nitride can be easily obtained.
  • aminocarboxylic acid-based chelating agents ditrimethyl triacetic acid, ethylenediamine tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetramine hexaacetic acid can easily obtain organometallic chelate complexes, and the resulting organometallic chelate complexes Is more preferably used because it exists more stably in an aqueous solution.
  • the metal compound various forms such as carbonate, nitrate, hydroxide, and oxide can be used. Particularly preferred as the metal compound are carbonates, hydroxides, and acids that have high reactivity and do not leave excessive ions after the reaction.
  • An organometallic chelate complex produced by a process for producing an organometallic chelate complex containing the above single metal can be used as a part of or all of a simple metal or its metal compound as a raw material of a constituent metal element. It is.
  • This method can be used in the case of using a metal such as chromium, which has a low reactivity as a metal, such as chromium, and which does not take the form of carbonate, nitrate, or hydroxide and in which an oxide is very stable. Thus, it is particularly effective when it does not form carbonates and has poor reactivity with organic chelating agents in the form of hydroxides or oxides.
  • an organometallic chelate complex solution using chloride, sulfate, or nitrate a high-purity organometallic chelate complex crystal is prepared by crystallization and used as a raw material. It is desirable.
  • an organometallic chelate complex produced by the process for producing an organometallic chelate complex containing a single metal as a raw material for all constituent metal elements an aqueous solution prepared by dissolving these in an aqueous solvent is: Since it has a very high purity V, it can produce metal nitrides with very few impurities!
  • Metal elements that are stable as oxoacids such as silicon, molybdenum, and tungsten, may be difficult to obtain as organic metal chelate complexes.
  • organometallic chelate complex containing a plurality of metals in a uniform composition by using these elements in combination with the organometallic chelate complex in the form of a metal inorganic acid such as oxo acid. is there .
  • a compounding method when using a metal inorganic acid together it depends on the target metal composition of the metal nitride.
  • the metal inorganic acid may be added at the raw material stage before forming the organic metal chelate complex aqueous solution !, or an appropriate amount of metal inorganic acid may be added after the formation of the organic metal chelate complex aqueous solution. Good.
  • the metal inorganic acid that may be used in combination can be obtained as a uniform amorphous powder if it is dried by spray-drying, etc., in a uniform mixed state force in an aqueous solution with the coexisting organometallic chelate complex. it can.
  • the metal ion is oxidized into water by contact with the air of the metal ion or other acid-oxidation reduction action. It may change to an insoluble compound or become an unstable phase in an aqueous solution.
  • a reducing agent or an antioxidant examples include ascorbic acid, isoascorbic acid, oxalic acid, hydrazine, and the like.
  • titanium when titanium is included as a metal, it is better to stabilize titanium (III) by adding a reducing agent or an antioxidant.
  • the aqueous solution of the organometallic chelate complex prepared as described above is then spray-dried to obtain an organometallic chelate complex containing a plurality of metals in a uniform composition.
  • the conditions during spray drying may be adjusted as appropriate according to the concentration of the solution, the solution processing speed, the amount of spray gas, the amount of hot air, and the like.
  • the drying temperature for spray drying is the upper limit of the temperature at which organic substances are not decomposed, and the lower limit is the temperature at which sufficient drying is possible.
  • a preferred drying temperature is in the range of 100 to 200 ° C, more preferably 140 to 180 ° C.
  • the organic chelating agent used in the present invention is preferably one that does not thermally decompose at a temperature of 200 ° C. or lower.
  • the organometallic chelate complex containing a plurality of metals with a uniform composition obtained by the above production method is amorphous (amorphous) and has a uniform composition at the molecular level.
  • the organometallic chelate complex containing a plurality of metals with a uniform composition exhibits a halo pattern due to scattering of incident X-rays, and is amorphous in terms of crystal structure.
  • an aqueous solution of an organometallic chelate complex having a uniform composition is instantaneously dried by a spray drying method or the like, it becomes a solid phase while maintaining a homogeneous phase, and the resulting powder is an organometallic chelate complex containing a plurality of metals.
  • Each metal chelate molecule is uniformly mixed at the molecular level. It becomes the amorphous thing which agglomerated without taking the form of a crystal
  • organometallic chelate complex containing a plurality of metals in a uniform composition can be clearly differentiated from a crystalline organometallic chelate complex whose difference in regularity is extremely small compared to the above-mentioned conventional technology. .
  • the appearance of the organometallic chelate complex powder containing a plurality of metals in a uniform composition is substantially spherical.
  • the organometallic chelate complex containing a plurality of metals used in the present invention in a uniform composition is produced as described above, the types and composition ratios of the component elements can be easily designed.
  • the organometallic chelate complex produced as described above is subjected to nitriding treatment in the next step to obtain a metal nitride.
  • Nitriding is performed by heat treatment in a nitrogen-containing atmosphere.
  • Examples of the nitrogen-containing atmosphere include nitrogen, dinitrogen monoxide, ammonia, and the like. Any atmosphere containing at least one of them may be used, and ammonia is particularly preferable. The use of ammonia is preferable because nitriding can be performed at a lower temperature than when other nitrogen gas is used. Ammonia is also preferred because it is inexpensive.
  • the heating temperature is set to 500 to 1600 °. C, more preferably in the range of 900-1500 ° C.
  • the heating temperature should be 400 to 900 ° C, more preferably 450 to 800 ° C.
  • organometallic chelate complex must always be directly nitrided! /, Not necessarily! / !.
  • the nitriding treatment may be performed after the organometallic chelate complex is preheated at a temperature equal to or lower than the heat treatment temperature of the nitriding treatment in an atmosphere such as air, oxygen, nitrogen, or argon.
  • the Group III nitride phosphor obtained by the production method of the present invention is a composition formula of InGaAlN or
  • nitrides such as magnesium, dumbbell, silicon or rare earth elements.
  • the relationship between X, y, and z is as described above.
  • y is 0.7 or more and (x + z) is 0. 3 or less, more preferably y force 0.8 or more and (x + z) 0.2 or less. That is, it is particularly preferable that the main group element is Ga.
  • a gallium nitride-based phosphor in which y is 1 and (x + z) is 0. If the main group III element is Ga, a nitride-based phosphor can be produced relatively easily.
  • the main group III element is a nitride-based phosphor of In or A1
  • the characteristics as a phosphor are not necessarily inferior.
  • elements other than Ga, that is, In and A1-based nitride phosphors are also effective.
  • These also use powder of the organometallic chelate complex obtained by spray drying the organometallic chelate complex aqueous solution as a raw material, and heat treat this to nitriding to achieve a uniform composition as intended. It can be obtained as a nitride-based phosphor.
  • the element represented by M in the composition formula is an element useful as an activator for imparting fluorescence characteristics, and includes various elements such as alkaline earth metals, transition metals, rare earth metals, and semimetals.
  • the element M is preferably a group 2A element such as Mg, a group 2B element such as Zn, a group 4B element such as Si or Ge, and a rare earth element such as Ce, Pr, Eu, Tb, and Tm. It is an element.
  • particularly preferred are rare earth elements such as Mg, Zn, Si, Ge, and Ce, Pr, Eu, Tb, Tm.
  • the group m nitride phosphor obtained by the production method of the present invention can be controlled in conductivity, and can be a cathode ray tube (CRT), a plasma display (PDP), a field emission display (FED), It is extremely useful as a phosphor material used in fluorescent display tubes and fluorescent lamps.
  • CTR cathode ray tube
  • PDP plasma display
  • FED field emission display
  • an organic metal chelate complex is used as a starting material for synthesizing a metal nitride, and this is nitrided in a nitrogen-containing atmosphere, whereby the metal nitride can be easily obtained. Can get to.
  • the obtained metal nitride has an extremely high composition control.
  • the group III nitride phosphor obtained by the production method of the present invention can be effectively used as a phosphor material.
  • the X-ray diffraction chart of Fig. 1 was obtained.
  • the X-ray diffractometer used was an MPD type manufactured by Philips (hereinafter, the X-ray diffractometer is the same). It was clarified that single-phase GaN was obtained by heat treatment above 800 ° C.
  • Ethylenediamine amine indium ammonium salt 1 Og was placed in a tube furnace and heat-treated at 500 ° C. for 3 hours in an ammonia atmosphere to obtain 0.3 g of a black powder.
  • the crystal phase of the obtained powder was identified with an X-ray diffractometer, it was confirmed to be a single-phase InN as shown in the X-ray diffraction chart of FIG.
  • This powder was measured by a force sword luminescence measuring device (excitation voltage: 3 kV).
  • the force sword luminescence measuring device is manufactured by Ehime Bussan Co., Ltd. (hereinafter, the force sword luminescence measuring device is the same device).
  • the obtained emission spectrum is as shown in FIG. 5, and the emission peak wavelength is 430 nm.
  • the obtained Zn-doped GaN was a blue-violet phosphor GaN: Zn having a uniform metal-containing composition.
  • this powder When the crystal phase of this powder was identified with an X-ray diffractometer, the X-ray diffraction chart shown in FIG. 4 was obtained. This X-ray diffraction chart matches the peak of GaN even if it contains Mg, and no impurity peak is seen, so this powder is GaN with Mg uniformly dissolved (Mg-doped GaN) It was confirmed.
  • This powder was measured with a force-sword luminescence measuring device (excitation voltage: 3 kV).
  • the obtained emission spectrum is as shown in FIG. 5, and the emission peak wavelength was 430 nm.
  • a 100 ml beaker 19.21 g of ethylenediamine tetraacetic acid was added, water was added to make the total amount 200 g, and 8.94 g of 25% aqueous ammonia was added and dissolved. While stirring this solution, 12.05 g of acid terbium was added little by little to this solution, and the temperature was raised to 100 ° C. And stirred for 30 minutes. By adding water to this solution to make a total amount of lOOOOg, a colorless and transparent aqueous solution of terbium-ethylenediaminetetraacetic acid (Tb-EDTA) complex was obtained. .
  • Tb-EDTA terbium-ethylenediaminetetraacetic acid
  • Tb EDTA complex solution (Tb content: 0.29 wt%) 4 and 46 g, Echirenjiamin tetraacetate moth Riumuanmo - ⁇ beam (EDTA'Ga'NH) (Ga content: 18. 0 wt 0/0) 20 58g each
  • This powder was measured with a force-sword luminescence measuring device (excitation voltage: 3 kV).
  • the obtained emission spectrum is as shown in FIG. 5, and the peak wavelength of emission was 545 nm.
  • this X-ray diffraction chart coincided with the peak of GaN even if it contained In, and an impurity peak due to In was observed. As a result, it was confirmed that this powder was GaN in which In was uniformly dissolved (In-doped GaN).
  • a metal nitride can be easily obtained by using an organometallic chelate complex as a starting material for synthesizing a metal nitride and heat-treating it in a nitrogen-containing atmosphere. . Further, the obtained metal nitride is highly controlled in composition.
  • the group III nitride phosphors obtained by the manufacturing method of the present invention are phosphor materials used in cathode ray tubes (CRT), plasma displays (PDP), field emission displays (FED), fluorescent display tubes, fluorescent lamps, etc. Can be used extremely effectively.

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Abstract

 単一の金属を含む有機金属キレート錯体または複数の金属を含む均一組成の有機金属キレート錯体を、窒素含有雰囲気中で加熱処理することによって、金属窒化物を効率よく製造する。本発明の製造方法により得られる金属窒化物は、高度に組成制御されたものとなる。

Description

明 細 書
金属窒化物の製法
技術分野
[0001] 本発明は金属窒化物の製法に関するものである。
背景技術
[0002] 金属窒化物は一般的に高硬度、高融点でィ匕学的に安定であるという特徴を有して いることから、耐熱材料や超硬材料などとして広く実用化されている。金属窒化物は 、最近では、エレクトロニクス材料としても注目されている。中でも III族金属の窒化物 はワイドギャップ半導体特性を有して 、ることから、発光材料などにも応用されて 、る
。窒化ガリウムは、青や緑の発光ダイオード (LED)で実証されているように、非常に 発光効率の高い材料として知られている(例えば、特許第 2791448号、特許第 282 9319号)。窒化ガリウムに代表される III族窒化物系蛍光体は、結合エネルギーが Z nSなどに比べて非常に大きぐ化学的に極めて安定であることから、高い電子線ェ ネルギーゃ深紫外光によっても劣化しないことが期待される。さらに、この蛍光体は C dなどの有害な元素を含まないので、環境保全の観点力もも非常に有用なものとして 期待される。
[0003] 金属窒化物を製造する方法として一般的に採用されているのは、金属粉末を窒素
(窒素やアンモニアなど)含有雰囲気中で高温に加熱することによって窒化物を得る 直接窒化法 (例えば、特開昭 61— 83604号公報)、および金属酸ィ匕物を炭素の共 存下に窒素雰囲気中で熱処理する還元窒化法 (例えば、特開昭 63— 297205号公 報)である。しかしこれらの方法では、窒素が処理雰囲気から金属粉末や金属酸ィ匕 物に取り込まれるため、金属粉末や金属酸化物の表面は窒化されても、内部まで窒 化することは難しい。また窒化還元法では、還元剤として用いる炭素が金属元素と結 合して炭化物を形成し、これが金属窒化物中に固溶しやす 、と 、う問題点がある。
[0004] 多元素系の窒化物を製造する場合、出発物質の均一性が最も重要である。出発物 質自体を均一なものとするには、原料から均一系の状態を経て出発物質を合成する ことが望ましい。例えば上記還元窒化法では、出発物質として多元素系酸化物のよう な組成の均一な多元素系化合物を準備する必要があり、それを得るための有用な方 法は、ゾルーゲル法や共沈法に代表される化学的プロセスを用いた液相法である。 しかしこれら従来の液相法では、原料溶液が均一であったとしても、金属化合物の種 類によって加水分解速度や溶解度積などが異なるため、加水分解や中和あるいは 沈殿生成などの過程を経ることで、得られる物質は微粒子状ではあっても不均一に なる。
[0005] すなわち上記のような従来法では、金属糸且成比や金属元素のドープ量などをどれ だけ高精度に制御したとしても、また個々の粒子に含まれる金属の組成比を所望通 りに制御できたとしても、粒子内の金属分布までも均一な金属窒化物を得ることは原 理的に不可能である。
発明の開示
[0006] 本発明にかかる金属窒化物の製法は、単一の金属を含む有機金属キレート錯体ま たは複数の金属を含む均一組成の有機金属キレート錯体を出発物質として使用し、 これを窒素含有雰囲気中で加熱処理するところに要旨を有している。
[0007] 前記方法を実施する際に使用される前記単一の金属を含む有機金属キレート錯体 としては、当該金属もしくはその金属化合物と有機キレート剤とを反応させることによ り得られる有機金属キレート錯体水溶液から晶析した有機金属キレート錯体結晶、ま たは当該有機金属キレート錯体水溶液を噴霧乾燥して得た有機金属キレート錯体粉 末を用いることが好ましい。また、複数の金属を含む均一組成の有機金属キレート錯 体としては、当該構成金属元素の金属単体もしくはその金属化合物と有機キレート 剤、および Zまたはその構成金属元素の有機金属キレート錯体を、所定の金属組成 となるように混合して調製した有機金属キレート錯体水溶液を噴霧乾燥して得た有機 金属キレート錯体粉末を用いることが好ま 、。
[0008] 前記有機キレート剤としては、有機酸系キレート剤およびアミノカルボン酸系キレー ト剤力 選ばれる少なくとも 1種を使用することができる。有機酸系キレート剤としては
、ヒドロキシルカルボン酸および zまたはそのアミン塩が好ましく使用される。上記アミ ノカルボン酸系キレート剤として特に好ましいのは、二トリ口三酢酸、エチレンジァミン 四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、およびそれらのァ ミン塩であり、これらは単独で使用できるほか、必要により任意の組合せで 2種以上を 併用することも可能である。
[0009] 本発明を実施する際に採用される前記窒素含有雰囲気としては、窒素、一酸化二 窒素およびアンモニアの少なくとも 1種を含む雰囲気が好ましい。
[0010] 本発明の目的物質となる前記金属窒化物としては、例えば、アルカリ土類金属、遷 移金属、希土類金属および半金属の窒化物が挙げられる。これらの中でも特に実用 性の高いのは、 BN, A1N, GaN, InN, TiNのいずれか 1種、またはそれらの 2種以 上を含む混晶である。
[0011] 上記金属窒化物として、 BN, A1N, GaN, TiNのいずれ力 1種またはそれらの 2種 以上を含む混晶を製造する際には、前記加熱処理の加熱温度を 500〜1600°C、よ り好ましくは 900〜1500°Cの範囲とするのがよい。 InNまたはそれを含む混晶を製 造する際には、前記加熱処理の加熱温度を 400〜900°C、より好ましくは 450〜800 °Cの範囲とするのがよい。
[0012] 本発明の目的物質となる前記金属窒化物には、組成式 In Ga Al Nまたは In Ga
x y z x y
A1 N : M (ただし x+y+z= l、 0≤x≤l, 0≤y≤l、 0≤z≤l, Mは金属または半金 z
属を表す)で表される III族窒化物系蛍光体も挙げられる。
[0013] 前記 ΠΙ族窒化物系蛍光体を製造する際、前記加熱処理の好ま 、加熱温度は 40
0〜 1600。Cの範囲である。
[0014] 前記組成式中の Mとして好まし!/、のは、マグネシウム、亜鉛、ケィ素、ゲルマニウム または希土類元素である。前記組成式中の X, y, zの関係として特に好ましいのは、 y
≥0. 7力つ x + z≤0. 3、あるいは y= lかつ x=z = 0である。
図面の簡単な説明
[0015] [図 1]実施例 1で得た GaNの X線回折チャートである。
[図 2]実施例 2で得た TiNの X線回折チャートである。
[図 3]実施例 3で得た InNの X線回折チャートである。
[図 4]実施例 4, 5で得た Znまたは Mgドープ GaNの X線回折チャートである。
[図 5]実施例 4〜6で得た窒化物系蛍光体(GaN : Zn、 GaN : Mg、 GaN :Tb)粉末の 発光スペクトル図である。 [図 6]実施例 6で得た窒化物系蛍光体 (GaN:Zn、 GaN : Mg、 GaN :Tb)粉末の X線 回折チャートである。
発明を実施するための最良の形態
[0016] まず、本発明の金属窒化物を製造する方法の概略を説明する。
[0017] 本発明の目的物質である金属窒化物とは、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類 金属および半金属の窒化物などである。例えば、 Mg, Ca等のアルカリ土類金属; Ti , Zr, V, Nb, Ta, Cr, Fe, Cu, Zn等の遷移金属; B, Al, Ga, In等の III族金属; Si , Ge等の半金属;などの窒化物が挙げられる。これらの中でも特に実用性の高いの は BN, A1N, GaN, InN, TiN、およびこれらの 2種以上を含む混晶などであり、これ らは、例えば、蛍光体、焼結原料、顔料として極めて有用である。
[0018] 本発明では、これらの金属窒化物を製造する際に、原料として有機金属キレート錯 体を使用するところに特徴を有している。前記有機金属キレート錯体を窒素含有雰 囲気中で加熱処理することにより、金属窒化物を得ることができる。
[0019] ここで用いられる有機金属キレート錯体とは、単一の金属を含む有機金属キレート 錯体または複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体を意味して 、る。単 一の金属を含む有機金属キレート錯体としては、金属もしくはその金属化合物と有機 キレート剤とを反応させることによって有機金属キレート錯体水溶液を調製し、該水溶 液から晶析することにより得られる有機金属キレート錯体結晶、または該水溶液を噴 霧乾燥して得られる粉末を使用することが好ま Uヽ。複数の金属を均一組成で含む 有機金属キレート錯体としては、当該構成金属元素の金属単体もしくはその金属化 合物と有機キレート剤、および Zまたは当該構成金属元素の有機金属キレート錯体 を、金属窒化物換算で所定の金属組成となるように混合して澄明な有機金属キレー ト錯体水溶液を調製し、該水溶液を噴霧乾燥することによって得られる粉末を使用す ることが好ましい。
[0020] 本発明は上記のように構成されるが、要するに、有機金属キレート錯体を含む粉末 および Zまたは結晶を金属窒化物の合成原料として用い、これを窒素含有雰囲気中 で加熱処理する方法である。このような有機金属キレート錯体を含む粉末および Zま たは結晶を、窒素含有雰囲気中で焼成または加熱処理すれば、金属窒化物を得る ことができる。単一の金属を含む有機金属キレート錯体力 は単金属元素系の金属 窒化物が得られ、複数の金属を含む有機金属キレート錯体からは、高度に組成制御 された多金属元素系金属窒化物が得られる。
[0021] 次に、上記有機金属キレート錯体を製造する方法について説明する。まず、単一の 金属を含む有機金属キレート錯体を製造する方法について説明する。
[0022] 単一の金属を含む有機金属キレート錯体を製造する場合は、まず、溶媒中で有機 キレート剤と金属イオンとから有機金属キレート錯体水溶液を作製する。有機金属キ レート錯体水溶液を作製する方法に格別の制限はなぐ例えば有機キレート剤と金 属化合物を用いて水溶媒中で反応させる方法が挙げられる。
[0023] 前記有機キレート剤としては、好ましくは、エチレンジァミン四酢酸、 1, 2 シクロへ キサンジァミン四酢酸、ジヒドロキシェチルグリシン、ジァミノプロパノール四酢酸、ジ エチレントリアミン五酢酸、エチレンジァミン二酢酸、エチレンジァミン二プロピオン酸 、ヒドロキシエチレンジァミン三酢酸、グリコールエーテルジァミン四酢酸、へキサメチ レンジアミン四酢酸、エチレンジアミンジ(o ヒドロキシフエ-ル)酢酸、ヒドロキシェチ ルイミノ二酢酸、イミノニ酢酸、 1, 3 ジァミノプロパン四酢酸、 1, 2 ジァミノプロパ ン四酢酸、二トリ口三酢酸、二トリ口三プロピオン酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ェ チレンジァミン二こはく酸、 1, 3 ジァミノプロパン二こはく酸、グルタミン酸 N, N 一二酢酸、ァスパラギン酸 N, N—二酢酸等の如き水溶性のアミノカルボン酸系キ レート剤;ダルコン酸、クェン酸、酒石酸、リンゴ酸等のヒドロキシカルボン酸の如き水 溶性の有機酸系キレート剤が挙げられる。前記アミノカルボン酸系キレート剤および 有機酸系キレート剤は、それらのアンモ-ゥム塩またはアミン塩を使用することもでき る。アミノカルボン酸系キレート剤および有機酸系キレート剤は炭素、窒素、酸素、水 素のみから構成され、加熱処理すると炭素、酸素、水素が除去されるため、これらの キレート剤を用いると高純度の金属窒化物を容易に得ることができる。アミノカルボン 酸系キレート剤の中でも、二トリ口三酢酸、エチレンジァミン四酢酸、ジエチレントリアミ ン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸は、より容易に有機金属キレート錯体を得るこ とができ、得られた有機金属キレート錯体は水溶液中でより安定に存在するため、特 に好ましく用いられる。 [0024] 前記金属化合物としては、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、酸化物、無機酸塩等が挙 げられる。
[0025] 有機キレート剤の金属イオンに対するモル比は、有機キレート剤の種類や金属ィォ ンの価数により異なるため、一概には定めることができない。しかし、水溶液中で安定 な有機金属キレート錯体を形成するために最低限必要なモル比以上であれば問題 ない。有機キレート剤の使用量は、金属イオンに対し、 1. 0〜1. 5倍モル当量とする ことが好ましい。
[0026] 次に、前記有機金属キレート錯体水溶液から有機金属キレート錯体を得る。有機金 属キレート錯体を得る方法も特に制限されず、濃縮による晶析法、難溶性有機溶媒 を添加して沈殿させる沈殿法、水溶媒を揮発除去する蒸発乾固法などが挙げられる 。中でも特に好ましいのは晶析法であり、該方法であれば、より高純度の有機金属キ レート錯体が得られやすい。
[0027] 前記金属化合物として炭酸塩や水酸化物、酸ィ匕物を用いる場合は、蒸発乾固法に よって粉体化する方法も好ましい。この場合、粉体化した後に余分なイオン等が残ら ないため、得られる有機金属キレート錯体は、高純度のものとなる。蒸発乾固法にも 格別の制限はないが、好ましいのは、瞬時に球状の微細な粒子にすることのできるス プレードライ法である。
[0028] 次に、前記複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体を製造する方法に ついて説明する。
[0029] 複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体を製造するに当たっては、ま ず、目的とする金属窒化物に換算して所定の金属組成となるように調整された有機 金属キレート錯体水溶液を作製する。該水溶液の作製方法は特に制限されないが、 好ましいのは以下に示すような方法である。
[0030] 目的とする金属窒化物に換算して所定の金属糸且成となるように金属またはその金 属化合物を精秤し、これを有機キレート剤と反応させて澄明な有機金属キレート錯体 水溶液を調製する。このとき、全ての金属が完全に有機金属キレート錯体を形成する ように、各金属に対し当量以上の有機キレート剤を用いる。有機キレート剤の使用量 は、全金属イオンに対し過剰量であれば特に制限されないが、好ましくは 1. 0〜1. 5 倍モル当量の範囲である。
[0031] 有機金属キレート錯体水溶液の調製は、水性媒体中で温度 20°C〜沸点、好ましく は 50〜70°Cの範囲で行われる。
[0032] 有機金属キレート錯体水溶液濃度は、固形分濃度として、好ましくは 1〜30質量% 、より好ましくは 10〜20質量%である。有機金属キレート錯体水溶液濃度が 1質量% 以上であれば、後工程の噴霧乾燥において、効率的に溶媒を蒸発させることができ 、エネルギー効率が向上する。有機金属キレート錯体水溶液濃度が 30質量%以下 であれば、有機金属キレート錯体の完全な溶解が容易となり、また後工程の噴霧乾 燥において噴霧ノズル先端等での固形分析出が起こりに《なるため、有機金属キレ 一ト錯体粉末を容易に得ることができる。
[0033] 有機金属キレート錯体または有機キレート剤が完全に溶解しな ヽ場合は、アンモ- ァゃァミン等をカ卩えて完全溶解させる。
[0034] 前記有機キレート剤としては、好ましくは、エチレンジァミン四酢酸、 1, 2 シクロへ キサンジァミン四酢酸、ジヒドロキシェチルグリシン、ジァミノプロパノール四酢酸、ジ エチレントリアミン五酢酸、エチレンジァミン二酢酸、エチレンジァミン二プロピオン酸 、ヒドロキシエチレンジァミン三酢酸、グリコールエーテルジァミン四酢酸、へキサメチ レンジアミン四酢酸、エチレンジアミンジ(o ヒドロキシフエ-ル)酢酸、ヒドロキシェチ ルイミノ二酢酸、イミノニ酢酸、 1, 3 ジァミノプロパン四酢酸、 1, 2 ジァミノプロパ ン四酢酸、二トリ口三酢酸、二トリ口三プロピオン酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ェ チレンジァミン二こはく酸、 1, 3 ジァミノプロパン二こはく酸、グルタミン酸 N, N 一二酢酸、ァスパラギン酸 N, N—二酢酸等の如き水溶性のアミノカルボン酸系キ レート剤を挙げることができ、これらのモノマーやオリゴマーあるいはポリマーのいず れも使用できる。また、前記キレート剤として、ダルコン酸、クェン酸、酒石酸、リンゴ 酸等のヒドロキシカルボン酸等やそのアミン塩等のように水溶性の有機酸系キレート 剤を使用することもできる。アミノカルボン酸系キレート剤を使用する場合でも、遊離 酸タイプやアンモ-ゥム塩またはアミン塩を使用することが好ましい。この場合、各金 属とのキレート生成定数や、有機金属キレート錯体の安定性、さらには有機金属キレ ート錯体の水またはアルカリ水溶液への溶解性などを考慮し、使用する各金属また はそれらの金属化合物ごとに適切なものを適宜選択して使用することが望ま 、。了 ミノカルボン酸系キレート剤および有機酸系キレート剤は炭素、窒素、酸素、水素の みから構成され、加熱処理すると炭素、酸素、水素が除去されるため、これらのキレ 一ト剤を用いると高純度の金属窒化物を容易に得ることができる。アミノカルボン酸系 キレート剤の中でも、二トリ口三酢酸、エチレンジァミン四酢酸、ジエチレントリアミン五 酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸は、より容易に有機金属キレート錯体を得ることが でき、得られた有機金属キレート錯体は水溶液中でより安定に存在するため、特に好 ましく用いられる。
[0035] 前記金属化合物としては、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、酸ィ匕物など、様々の形態 のものを使用できる。前記金属化合物として特に好ましいのは、反応性が高くかつ反 応後に余分なイオン等が残らない炭酸塩や水酸ィ匕物、酸ィ匕物である。
[0036] 構成金属元素の原料である金属単体もしくはその金属化合物の一部または全部に 、前記単一の金属を含む有機金属キレート錯体の製法により製造した有機金属キレ 一ト錯体を用いることも可能である。この方法は、クロムのように金属としての反応性 が乏しい場合、チタンのように炭酸塩、硝酸塩、水酸化物の形態を取らず、かつ酸化 物が非常に安定な金属を用いる場合、 Gaのように炭酸塩を形成せず、水酸化物や 酸ィ匕物の形態では有機キレート剤との反応性が乏しい場合等に特に有効である。こ れらの場合、塩化物や硫酸塩、硝酸塩を用いて有機金属キレート錯体溶液を製造し た後、晶析などにより高純度の有機金属キレート錯体結晶を作製し、これを原料とし て使用することが望ましい。全ての構成金属元素の原料として、前記単一の金属を 含む有機金属キレート錯体の製法により製造した有機金属キレート錯体を用いる場 合は、これらを水溶媒中に溶解させることにより作製した水溶液は、極めて純度の高 V、ものとなるので、不純物の極めて少な!/、金属窒化物を作製することができる。
[0037] ォキソ酸等として安定な金属元素、例えばケィ素、モリブデン、タングステンは、有 機金属キレート錯体として得ることが困難なこともある。この場合、これらの元素につ いては、ォキソ酸の如き金属無機酸の形態で前記有機金属キレート錯体と併用する ことで、複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体を得ることも可能である 。金属無機酸を併用する際の配合方法としては、金属窒化物の目標金属組成に応じ て、有機金属キレート錯体水溶液を形成する前の原料段階で金属無機酸を配合して お!、てもよ 、し、あるいは有機金属キレート錯体水溶液の形成後に適量の金属無機 酸を配合してもよい。併用されることのある前記金属無機酸は、共存する前記有機金 属キレート錯体との水溶液中での均一な混合状態力 噴霧乾燥などによって乾燥す れば、均一なアモルファス状の粉末として得ることができる。
[0038] 金属の種類によっては、水溶液中で有機金属キレート錯体を形成していても、金属 イオンの空気との接触またはその他の酸ィ匕還元作用により、金属イオンが酸化を受 けて水に不溶な化合物に変化したり、水溶液中で不安定な相になることがある。この ような現象を防止するためには、有機金属キレート錯体水溶液を作製する際に、金属 化合物を加える前に還元剤や酸化防止剤を加えるのがよい。前記還元剤または酸 化防止剤としては、ァスコルビン酸、イソァスコルビン酸、シユウ酸、ヒドラジン等が例 示される。例えば、金属としてチタンが含まれる場合は、還元剤や酸化防止剤を加え ることによりチタン (III)の安定ィ匕を図るのがよ 、。
[0039] 上記のようにして調製された有機金属キレート錯体水溶液は、次 、で噴霧乾燥され 、複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体が得られる。噴霧乾燥時の条 件は、溶液の濃度や溶液処理速度、噴霧気体量、熱風量などによって適宜に調整 すればよい。噴霧乾燥の乾燥温度は、有機物が分解しない温度を上限とし、また十 分に乾燥可能な温度を下限とする。好ましい乾燥温度は 100〜200°C、より好ましく は 140〜180°Cの範囲である。また、こうした乾燥温度を考慮すると、本発明で使用 される前記有機キレート剤は、少なくとも 200°C以下の温度では熱分解しないものが 好ましい。
[0040] 上記製造方法により得られた複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体 は、アモルファス状 (非晶質)であって分子レベルで均一な組成を有している。前記 複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体は、入射 X線の散乱によるハロ 一図形を示し、結晶構造的に非晶質のものである。すなわち、均一組成である有機 金属キレート錯体水溶液を、噴霧乾燥法などによって瞬時に乾燥すると、均一相を 保ったままで固相となり、得られる粉末は、複数の金属を含む有機金属キレート錯体 でありながら各金属キレート分子が分子レベルで均一に混合されたものとなり、各成 分が結晶の形態をとらないままで凝集した非晶質のものとなる。ミクロ的に見ると、非 晶質構造内に残存する規則性には、若干の差異が見られるのが一般的である。しか し、前記複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体では、前掲の従来技 術に比較するとその規則性の差異は極めて小さぐ結晶質の有機金属キレート錯体 とは明確に差別ィ匕できる。
[0041] 前記複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体粉末の外観は、略球形 である。
[0042] 本発明で用いられる複数の金属を均一組成で含む有機金属キレート錯体は上記 のように製造されるため、成分元素の種類や組成比を容易に設計することができる。
[0043] 次に、有機金属キレート錯体力も金属窒化物を製造する方法について説明する。
[0044] 以上のように作製された有機金属キレート錯体は、次!ヽで窒化処理されることによ つて金属窒化物が得られる。窒化処理は、窒素含有雰囲気中で熱処理することによ つて行われる。
[0045] 窒素含有雰囲気としては窒素、一酸化二窒素、アンモニア等が挙げられ、それらの 少なくとも 1種を含む雰囲気であればよいが、特に好ましいのはアンモニアである。ァ ンモユアを用いた場合、他の窒素ガスを用いる場合と比較して、低い温度で窒化処 理を行うことができるため好ましい。また、アンモニアは安価である点も好ましい。
[0046] 窒素含有雰囲気中での熱処理は、例えば、 BN, A1N, GaN, TiNのいずれ力 1種 、またはそれらの 2種以上を含む混晶を製造する場合は、加熱温度を 500〜1600°C 、より好ましくは 900〜1500°Cの範囲とするのがよい。 InNまたはそれを含む混晶を 製造する場合は、加熱温度を 400〜900°C、より好ましくは 450〜800°Cの範囲とす るのがよい。加熱温度を前記範囲とすることで、金属窒化物の分解反応を抑えつつ、 金属窒化物の生成反応を効率的に進めることができる。
[0047] 有機金属キレート錯体は必ずしも直接窒化処理されなければならな!/、訳ではな!/ヽ。
場合によっては、有機金属キレート錯体を、例えば空気、酸素、窒素、アルゴン等の 雰囲気中、前記窒化処理の熱処理温度以下の温度で予め熱処理した後、前記窒化 処理を行うことも可能である。
[0048] 次に、本発明の製造方法により得られる III系窒化物系蛍光体について説明する。 [0049] 本発明の製造方法により得られる ΠΙ族窒化物系蛍光体とは、組成式 In Ga Al Nま
x y z たは In Ga A1 N : M (ただし x+y+z= l、 0≤x≤l, 0≤y≤l、 0≤z≤l, Mは金属 または半金属を表す)で表される化合物である。すなわち、 In, Ga, AUりなる ΙΠ族 金属から選ばれる少なくとも 1種の金属の窒化物、あるいは、これら ΠΙ族金属窒化物 に賦活剤元素がドープされたものである。具体的には、 GaN, InN, Ga Al N, In
i - P
Al Nなど、あるいは一般組成式 GaN: Mや InN: Mなどにお!、て、賦活剤元素 M i -p
がマグネシウム、亜鈴、ケィ素または希土類元素などである窒化物が例示される。
[0050] 前記糸且成式において、 X, y, zの関係は上記の通りである力 窒化物系蛍光体とし て特に有効なのは、 yが 0. 7以上で、(x+z)が 0. 3以下であるもの、より好ましくは、 y力 . 8以上で、(x+z)が 0. 2以下であるものである。すなわち ΠΙ族元素の主体が Gaであるものが好ましぐとりわけ好ましいのは yが 1で (x + z)が 0である窒化ガリウム 系の蛍光体である。 III族元素の主体が Gaであれば、比較的容易に窒化物系蛍光体 を作製することができる。
[0051] し力し、 III属元素の主体が Inや A1の窒化物系蛍光体であっても、蛍光体としての 特性が必ずしも劣るわけではない。用途や要求特性によっては、 Ga以外の元素、す なわち Inや A1主体の窒化物系蛍光体も有効である。これらも、前記有機金属キレー ト錯体水溶液を噴霧乾燥する方法などによって得られた有機金属キレート錯体の粉 末を原料として使用し、これを加熱処理して窒化することで、目標通りの均一組成を 有する窒化物系蛍光体として得ることができる。
[0052] 前記組成式中の Mで示される元素は、蛍光特性を与えるための賦活材として有用 な元素であり、アルカリ土類金属、遷移金属、希土類金属、半金属など様々の元素 が包含される。蛍光特性の観点から、元素 Mとして好ましいのは、 Mgなどの 2A族元 素、 Znなどの 2B族元素、 Siや Geなどの 4B族元素、および Ce, Pr, Eu, Tb, Tm等 の希土類元素である。これらの中でも、特に好ましいのは、 Mg, Zn, Si, Ge、および Ce, Pr, Eu, Tb, Tmなどの希土類元素である。
[0053] ΙΠ族金属として Gaと Al、 Inと Al、 Gaと In、あるいは Ga, In, Alの 3種を含む複合窒 化物の場合は、 Mで示される元素と併用した場合はもとより、 Mと併用せずとも蛍光 特性を発揮することがある。 [0054] 本発明の製造方法によって得られる m族窒化物系蛍光体は、導電率の制御が可 能であり、ブラウン管(CRT)やプラズマディスプレイ(PDP)、電界放射型ディスプレ ィ (FED)、蛍光表示管、蛍光ランプ等に用いられる蛍光体素材として極めて有用で ある。
[0055] 以上のように、本発明によれば、金属窒化物合成用の出発原料として有機金属キ レート錯体を使用し、これを窒素含有雰囲気中で窒化処理することにより、金属窒化 物を容易に得ることができる。また、得られる金属窒化物は、極めて高度に組成制御 されたものとなる。また、本発明の製造方法により得られる III族窒化物系蛍光体は、 蛍光体素材として有効に活用できる。
実施例
[0056] 以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はもとより下記 実施例によって制限を受けるものではなく、前 ·後記の趣旨に適合し得る範囲で適当 に変更して実施することが可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包 含される。
[0057] 実施例 1
500mlのビーカーにエチレンジァミン四酢酸ガリウムアンモ-ゥム結晶 lOOgを入れ 、これに水を加えて総量 500gとした後、撹拌して溶解させた。この溶液を噴霧乾燥 法により乾燥温度 160°Cで粉末化すると、 Ga— EDTA錯体粉末 95gが得られた。こ の錯体粉末 2. Ogを管状炉に入れ、アンモニア雰囲気中 800°C、 900°C、 1000°C、 または 1100°Cで 1時間熱処理すると、淡黄緑色の粉末 0. 4gが得られた。
[0058] この粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 1の X線回折チヤ一 トが得られた。なお、 X線回折装置はフィリップス社製の MPD型を用いた(以下、 X線 回折装置は同装置)。 800°C以上で熱処理することにより、単相の GaNが得られたこ とが明らかになった。
[0059] 実施例 2
エチレンジァミン四酢酸チタンアンモ-ゥム塩 2. Ogを管状炉に入れ、アンモニア雰 囲気中 1100°Cで 1時間熱処理することにより、こげ茶色の粉末 0. 6gを得た。
[0060] 得られた粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 2の X線回折 チャートに示す如ぐ単相の TiNであることが確認された。
[0061] 実施例 3
エチレンジァミン四酢酸インジウムアンモ-ゥム塩 1. Ogを管状炉に入れ、アンモ- ァ雰囲気中 500°Cで 3時間熱処理することにより、黒色の粉末 0. 3gを得た。得られ た粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 3の X線回折チャート に示す如ぐ単相の InNであることが確認された。
[0062] 実施例 4
100mlのビーカーにエチレンジァミン四酢酸 8. 47gを入れ、水をカ卩えて総量 50gと した後、 25%アンモニア水 3. 87gをカロえて 25°Cで溶解させた。この溶液を撹拌しな がら、この溶液に酸ィ匕亜鉛 2. 31gを少しずつ加えた後、 100°Cに昇温して 30分撹拌 した。この溶液に水をカ卩えて総量 lOOOgとすることにより、無色透明の亜鉛'エチレン ジァミン四酢酸 (Zn-EDTA)錯体水溶液を得た。得られた Zn— EDTA錯体水溶 液(Zn含量: 0. 186質量0 /0) 18. 72gと、エチレンジァミン四酢酸ガリウムアンモ-ゥ ム(EDTA.Ga'NH ) (Ga含量: 18. 0質量0 /0) 20. 58gを、それぞれ精秤して、 100
4
mlのビーカーに入れた後、水をカ卩えて総量 100gとした。次いで 30分間撹拌すること によって完全溶解し、金属成分組成が GaZZn= lZ0. 01である無色透明の(Ga, Zn) EDTA錯体水溶液を得た。この溶液を噴霧乾燥法により乾燥温度 160°Cで粉 末化すると、 (Ga, Zn)— EDTA錯体粉末が得られた。この錯体粉末 1. Ogを管状炉 に入れ、アンモニア雰囲気中、 1100°Cで 1時間熱処理すると、淡黄色の粉末 0. 2g が得られた。
[0063] この粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 4の X線回折チヤ一 トが得られた。この X線回折チャートは、 Znを含むものであっても GaNのピークと一致 し、不純物ピークも見られないことから、この粉末は Znが均一に固溶された GaN (Zn ドープ GaN)であることが確認された。
[0064] この粉末を、力ソードルミネッセンス測定装置 (励起電圧 3kV)により測定した。なお 、力ソードルミネッセンス測定装置は愛宕物産社製である(以下、力ソードルミネッセ ンス測定装置は同装置)。得られた発光スペクトルは図 5に示す通りであり、発光のピ ーク波長は 430nmである。 [0065] これらの結果より、得られた Znドープ GaNは、金属含有組成の均一な青紫色蛍光 体 GaN: Znであることが確認された。
[0066] 実施例 5
100mlのビーカーにエチレンジァミン四酢酸 35. 54gを入れ、水を加えて総量を 2 00gとした後、 25%アンモニア水 16. 23gをカ卩えて溶解させた。この溶液を撹拌しな がら、この溶液に酸ィ匕マグネシウム 4. 81gを少しずつ加えた後、 100°Cに昇温して 更に 30分撹拌した。この溶液に水をカ卩えて総量 lOOOgとすることにより、無色透明の マグネシウム ·エチレンジァミン四酢酸 (Mg-EDTA)錯体水溶液を得た。得られた Mg—EDTA錯体水溶液(Mg含量: 0. 29質量0 /0) 4. 46gと、エチレンジァミン四酢 酸ガリウムアンモ-ゥム(EDTA'Ga'NH ) (Ga含量: 18. 0質量0 /0) 20. 58gを、そ
4
れぞれ精秤して、 100mlのビーカーに入れた後、水をカ卩えて総量 100gとした。次い で 25°Cで 30分間撹拌して完全溶解し、金属成分組成が GaZMg= lZ0. 01であ る無色透明の(Ga, Mg)— EDTA錯体水溶液を得た。この溶液を噴霧乾燥法により 乾燥温度 160°Cで粉末化すると、 (Ga, Mg)—EDTA錯体粉末が得られた。この錯 体粉末 1. Ogを管状炉に入れ、アンモニア雰囲気中、 1100°Cで 1時間熱処理すると 、淡黄色の粉末 0. 2gが得られた。
[0067] この粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 4の X線回折チヤ一 トが得られた。この X線回折チャートは、 Mgを含むものであっても GaNのピークと一 致し、不純物ピークも見られないことから、この粉末は Mgが均一に固溶された GaN ( Mgドープ GaN)であることが確認された。
[0068] この粉末を、力ソードルミネッセンス測定装置 (励起電圧 3kV)により測定した。得ら れた発光スペクトルは図 5に示す通りであり、発光のピーク波長は 430nmであった。
[0069] これらの結果より、得られた Mgドープ GaNは、青紫色蛍光体 GaN: Mgであること が確認された。
[0070] 実施例 6
100mlのビーカーにエチレンジァミン四酢酸 19. 21gを入れ、これに水を加えて総 量を 200gとした後、 25%アンモニア水 8. 94gを加えて溶解させた。この溶液を撹拌 しながら、この溶液に酸ィ匕テルビウム 12. 05gを少しずつ加えた後、 100°Cに昇温し て 30分撹拌した。この溶液に水を加えて総量 lOOOgとすることにより、無色透明のテ ルビゥム—エチレンジァミン四酢酸 (Tb— EDTA)錯体水溶液を得た。得られた Tb EDTA錯体水溶液 (Tb含量: 0. 29質量%)4. 46gと、エチレンジァミン四酢酸ガ リウムアンモ-ゥム(EDTA'Ga'NH ) (Ga含量: 18. 0質量0 /0) 20. 58gをそれぞれ
4
精秤して、 100mlのビーカーに入れた後、水をカ卩えて総量 100gとした。次いで 30分 間撹拌することにより完全溶解し、金属含有組成が GaZTb= l/0. 01である無色 透明の(Ga, Tb)—EDTA錯体水溶液を得た。この溶液を噴霧乾燥法により乾燥温 度 160°Cで粉末化すると、 (Ga, Tb)—EDTA錯体粉末が得られた。この錯体粉末 1 . 0gを管状炉にいれ、アンモニア雰囲気中 1100°Cで 5時間熱処理すると、淡黄色の 粉末 0. 2gが得られた。
[0071] この粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、図 6の X線回折チヤ一 トが得られた。この X線回折チャートは、 Tbを含むものであっても GaNのピークと一致 し、不純物ピークも見られないことから、この粉末は Tbが均一に固溶した GaN (Tbド ープ GaN)であることが確認された。
[0072] この粉末を力ソードルミネッセンス測定装置 (励起電圧 3kV)により測定した。得られ た発光スペクトルは図 5に示す通りであり、発光のピーク波長は 545nmであった。
[0073] これらの結果から、得られた Tbドープ GaNは、緑色蛍光体 GaN :Tbであることが確 f*i¾ れ 。
[0074] また、 Gaの一部を Inまたは A1に置換して得た窒化物にっ 、ても、発光特性を有す ることが確認された。
[0075] 実施例 7
100mlのビーカーにクェン酸 25. lgを入れ、水を加えて総量を 100gとした後、撹 拌して溶解させた。この溶液を撹拌しながら、この溶液に硝酸インジウム n水和物 15 . 7gを少しずつ加え、室温にて 30分撹拌した。この溶液に水をカ卩えて総量 200gに すると、無色透明のインジウム クェン酸 (In— Cit)錯体水溶液が得られた。得られ た In— Cit錯体水溶液 (In含量: 2. 40質量0 /0) 25. 42gと、エチレンジァミン四酢酸 ガリウムアンモ-ゥム(EDTA'Ga'NH ) (Ga含量: 18. 0質量0 /0) 20. 58gをそれぞ
4
れ精秤して、 100mlのビーカーに入れた後、水を加えて総量 100gとした。次いで 30 分間撹拌して完全溶解すると、金属成分組成が GaZln=0. 9/0. 1である無色透 明の(Ga— EDTA, In— Cit)混合錯体水溶液が得られた。この溶液を、噴霧乾燥法 により乾燥温度 160°Cで粉末ィ匕し、 (Ga-EDTA, In— Cit)混合錯体粉末を得た。 この錯体粉末 1. Ogを管状炉に入れ、アンモニア雰囲気中 500°Cで 1時間熱処理す ると淡黄色の粉末 0. 2gが得られた。
[0076] この粉末を X線回折装置により結晶相の同定を行ったところ、この X線回折チャート は、 Inを含むものであっても GaNのピークと一致し、 Inに起因する不純物ピークが見 られなかったことから、この粉末は Inが均一に固溶した GaN (Inドープ GaN)であるこ とが確認された。
[0077] この粉末を力ソードルミネッセンス測定装置 (励起電圧 3kV)により測定したところ、 青色発光が確認された。
産業上の利用可能性
[0078] 本発明によれば、金属窒化物合成用の出発原料として有機金属キレート錯体を使 用し、これを窒素含有雰囲気中で加熱処理することにより、金属窒化物を容易に得る ことができる。また、得られる金属窒化物は、高度に組成制御されたものとなる。本発 明の製造方法により得られる ΠΙ族窒化物系蛍光体は、ブラウン管 (CRT)やプラズマ ディスプレイ (PDP)、電界放射型ディスプレイ (FED)、蛍光表示管、蛍光ランプ等 に用いられる蛍光体素材として極めて有効に活用できる。

Claims

請求の範囲
[1] 単一の金属を含む有機金属キレート錯体または複数の金属を含む均一組成の有 機金属キレート錯体を、窒素含有雰囲気中で加熱処理することを特徴とする金属窒 化物の製法。
[2] 前記単一の金属を含む有機金属キレート錯体として、当該金属もしくはその金属化 合物と有機キレート剤とを反応させることにより得られる有機金属キレート錯体水溶液 力も晶析した有機金属キレート錯体結晶、または当該有機金属キレート錯体水溶液 を噴霧乾燥して得た有機金属キレート錯体粉末を使用する請求項 1に記載の金属窒 化物の製法。
[3] 前記複数の金属を含む均一組成の有機金属キレート錯体として、当該構成金属元 素の金属単体もしくはその金属化合物と有機キレート剤、および Zまたはその構成 金属元素の有機金属キレート錯体を、所定の金属組成となるように混合して調製した 有機金属キレート錯体水溶液を噴霧乾燥して得た有機金属キレート錯体粉末を使用 する請求項 1に記載の金属窒化物の製法。
[4] 前記有機キレート剤として、有機酸系キレート剤およびアミノカルボン酸系キレート 剤から選ばれる少なくとも 1種を使用する請求項 2または 3に記載の金属窒化物の製 法。
[5] 前記有機酸系キレート剤として、ヒドロキシルカルボン酸および Zまたはそのアミン 塩を使用する請求項 4に記載の金属窒化物の製法。
[6] 前記アミノカルボン酸系キレート剤として、二トリ口三酢酸、エチレンジァミン四酢酸、 ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸およびそれらのァミン塩より なる群から選ばれる少なくとも 1種を使用する請求項 4に記載の金属窒化物の製法。
[7] 前記窒素含有雰囲気として、窒素、一酸ィ匕ニ窒素およびアンモニアの少なくとも 1 種を含む雰囲気を採用する請求項 1〜6のいずれかに記載の金属窒化物の製法。
[8] 前記金属窒化物が、 BN, A1N, GaN, InN, TiNのいずれ力 1種、またはそれらの
2種以上を含む混晶である請求項 1〜7のいずれかに記載の金属窒化物の製法。
[9] 前記金属窒化物が、 BN, A1N, GaN, TiNのいずれ力 1種、またはそれらの 2種以 上を含む混晶であり、前記加熱処理の加熱温度を 500〜 1600°Cとする請求項 8に 記載の金属窒化物の製法。
[10] 前記金属窒化物が、 InNまたはそれを含む混晶であり、前記加熱処理の加熱温度 を 400〜900°Cとする請求項 8に記載の金属窒化物の製法。
[11] 前記金属窒化物が、組成式 In Ga Al Nまたは In Ga Al N : M (ただし x+y+z =
x y z x y z
1、 0≤x≤l、 0≤y≤l、 0≤z≤l、 Mは金属または半金属を表す)で表される III族 窒化物系蛍光体である請求項 1〜7のいずれかに記載の金属窒化物の製法。
[12] 前記加熱処理の加熱温度を 400〜1600°Cとする請求項 11に記載の金属窒化物 の製法。
[13] 前記組成式にぉ 、て、 Mがマグネシウム、亜鉛、ケィ素、ゲルマニウムまたは希土 類元素である請求項 11または 12に記載の金属窒化物の製法。
[14] 前記糸且成式において、 y≥0. 7, x+z≤0. 3である請求項 11〜13のいずれかに 記載の金属窒化物の製法。
[15] 前記組成式において、 y= l、 x=z = 0である請求項 11〜13のいずれかに記載の 金属窒化物の製法。
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