WO2006132347A1 - 水銀除去システムおよびその方法 - Google Patents

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Makoto Susaki
Shintaro Honjo
Shuji Kameyama
Masaki Nakahara
Akira Kisei
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Chubu Electric Power Co., Inc.
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Kyushu Electric Power Co., Inc.
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Abstract

 石炭や重質油ガス化ガス等および石油精製等の湿式ガス精製において、ガス中に微量に存在する水銀成分を効果的に除去する水銀除去システム及び方法を提供する。水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗塔と、水洗塔から排出される吸収液をフラッシュさせてガス成分と排水に分離するフラッシュドラム10とを含む湿式ガス精製における水銀除去システムにおいて、フラッシュドラム10の前段にて、吸収液に酸化剤を添加する酸化処理手段1と、フラッシュドラム10の後段にて、分離された排水中に含有する水銀成分を、凝集沈澱処理にて汚泥の一部として排出する排水処理手段13とを備える水銀除去システム、並びに本システムを用いた水銀除去方法。 

Description

水銀除去システムおよびその方法
技術分野
[0001] 本発明は、ガス中の水銀成分を除去する湿式ガス精製における水銀除去システム およびその方法に関し、詳しくは、石炭や重質油ガス化ガス等および石油精製等の 湿式ガス精製において、ガス中に微量に存在する水銀成分を効果的に除去する水 銀除去システムおよびその方法に関する。
背景技術
[0002] ガス化複合発電(Integrated Gasification Combined Cycle:以下 IGCC)は、石炭の 他、重油、石油残渣油、石油コータス、オリマルジヨン等の化石燃料を部分酸化プロ セスを用いてガス化し、生成した CO、 Hを主成分とする合成ガスを原料とした複合
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発電設備により発電する電力生産システムである。具体的には、空気吹き二段噴流 床ガス化炉、湿式ガス精製設備、ガスタービンを組み合わせた石炭利用高効率発電 プラントなどが挙げられる。 IGCCは、発電設備として簡素化、合理化を図り、経済性 及び信頼性を大幅に向上したシステムであり、従来の発電システムに比べ効率が 10 〜20%向上し、同率の CO削減が可能となると同時に、灰をスラグイ匕する為、灰容積
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が少なくなり、かつ非溶出性なので、取り扱いが容易である。
[0003] ところで、例えば既火力発電所においては、石炭中に含まれる水銀力排ガス中に 含まれており、通常の排煙処理システム (電気集塵器、湿式排煙脱硫装置等)では完 全に除去できず、何らかの対策を講じなければ一部排出されてしまう。水銀は微量成 分であり且つ非常に高い蒸気圧と、特に金属水銀は水に不溶な性質を有しているの で、集塵器で回収することや、スクラバーで洗浄することでは完全な除去が困難であ る。
上記したガス化複合発電 (IGCC)におけるガス精製では、例えば石炭ガス中に含 まれる Hgについては、水洗浄工程にてガス中力も約 70%の除去ができている。しか し、その吸収液を高圧下から常圧へ減圧する際には、液中の Hgがフラッシュして、ォ フガス中に排出されてしまうおそれがある(例えば、特開 2003— 138277号公報など ) o
[0004] 一方、オフガス中にフラッシュした Hgの除去については、活性炭を設置して、オフ ガス中の Hgを吸着除去する方法が提案されている。図 3に、活性炭を用いた場合の 水銀除去設備の概略構成を示す。
この設備では、冷却塔力もの Hgを含む排水は、フラッシュドラム 10にて減圧されて 気液分離される。この際、水銀の多くはガス成分に含まれて分離され、このガス成分 はオフガス炉 20で燃焼後、集塵装置 (QCZEP) 21、排煙脱硫装置 (FGD : Flue Ga s Desulforization)22の順で流下し、処理される。排煙脱硫処理を行った排ガスは、 排気される前に活性炭 25を通して、該排ガス中に含まれる有害成分 Hg等が吸着除 去される。
[0005] フラッシュドラム 10にて分離された液成分には、例えば石炭などを原料とする生成 ガスの精製では、タールなどの油分を含んでいる。よって、灯油などを用いて油液分 離処理 (HC処理) 11を行い、油分はオフガス炉 20に燃料の一部として送る。分離さ れた排水分は、アンモニア (NH )ストリッピング処理 12を行ってアンモニア分を除去
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する。それを更に、有害成分を汚泥として除去する排水処理を行い、排水処理後に 放流する。
し力しながら、これまでの活性炭を用いる方法では、発生するオフガスライン全てに 活性炭の設置が必要なため、処理ガス量は少な!、が設置する活性炭の数が多くなる 等の問題点があった。また、設置に適さない箇所や、運転中での活性炭の交換が行 えな 、箇所も含まれてしま 、、メンテナンス面でも多くの欠点があった。
特許文献 1 :特開 2003— 138277号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 本発明者らは、上記問題点に鑑み、ガス中の微量成分である水銀を効果的に高効 率に除去可能であるとともに、システムの運転に際して活性炭等を用いてガス中の水 銀成分を除去する操作を回避して、除去操作や除去性能の維持管理が簡単で容易 な方法を開発すベぐ鋭意検討した。
その結果、本発明者らは、例えば石炭ガスを高圧下にて水洗浄した後、排水を減 圧する前に排水中に存在する Hgを固定化し、減圧してもオフガス側へ水銀をフラッ シュしないシステムを構築することによって、上記課題が解決されて水銀除去が可能 になることを見出した。ガス化ガス中に特定の成分が共存すると金属水銀の多くは水 中へ移行し、補集された水銀は該水を減圧 (フラッシュ)する際にガス中へ放散され てしまう。このことから湿式ガス精製においては、水洗工程にて Hgを吸収液に移行し て除去すると同時に、水洗工程にて捕集した Hg含有の排水を加圧下力 常圧に戻 しても、 Hgがガス中に放散されないように除去することが必要である。本発明は、か 力る見地より完成されたものである。
課題を解決するための手段
本発明の第 1は、排水中にて Hgを固定ィ匕する方法として、フラッシュ前の排水中に 酸化剤 (NaCIOなど)を添加して Hgを酸ィ匕し、液中に水銀イオンとして残留 ·固定ィ匕 し、減圧後凝集沈澱にて水銀成分を系外へ汚泥として排出する方法を提供するもの である。すなわち、水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を 移行させる水洗塔と、該水洗塔力 排出される吸収液をフラッシュさせてガス成分と 排水に分離するフラッシュドラムとを含む湿式ガス精製における水銀除去システムで あって、該フラッシュドラムの前段にて、該吸収液に酸化剤を添加する酸化処理手段 を備えるとともに、該フラッシュドラムの後段にて、分離された排水中に含有する水銀 成分を、凝集沈澱処理にて汚泥の一部として排出する排水処理手段を備える水銀 除去システムを提供するものである。ここで上記水洗塔は、通常、ガス冷却塔とガス 洗浄塔に分けられている。また、吸収液のフラッシュは、吸収液を低圧条件下に噴霧 することなどにより行うことができる。
同システムの湿式ガス精製における水銀除去方法は、水銀成分を含有する対象ガ スを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗工程と、該水洗工程カゝら排出さ れる吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と排水に分離するフラッシュ工程とを含み、 該フラッシュ工程の前流にて、酸化剤を添加する酸化処理工程を有するとともに、該 フラッシュ工程の後流にて、分離された排水中に含有する水銀成分を、凝集沈澱処 理にて汚泥の一部として排出する排水処理工程を有する。ここでの水銀処理方法と しては、上記水洗工程にて、例えば 0. 2〜5. OMPaの加圧条件下、硫化水素と共 存させて吸収液に水銀成分を十分に溶存させることが好適である。
このような本発明によれば、フラッシュ前の排水に酸化剤を添加して、 Hgを酸化処 理することにより、液中に水銀イオンを固定ィ匕する。そして、液中に固定化した Hgを 排水処理工程で凝集沈澱処理する。また、酸化処理工程における酸化剤添加を液 体で行えるため、ポンプアップが可能であり、操作が容易である。さらに、フラッシュェ 程にて Hg成分をガス中に移行させな 、ため、排ガス処理用の活性炭がシステム内 に不要である。
本発明の第 2は、排水中にて Hgを固定ィ匕する方法として、フラッシュ前の排水中に て凝集助剤を添加し、凝集沈澱処理を実施して排水力 汚泥として系外へ排出する 方法を提供するものである。すなわち、水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸 収液中に水銀成分を移行させる水洗塔と、該水洗塔から排出される吸収液をフラッ シュさせてガス成分と排水に分離するフラッシュドラムとを含む湿式ガス精製における 水銀除去システムであって、該フラッシュドラムの前段にて、該吸収液に凝集助剤を 添加して吸収液中から水銀成分を汚泥の一部として除去する凝集沈澱手段を備える 水銀除去システムを提供するものである。ここで上記水洗塔は、通常、ガス冷却塔と ガス洗浄塔に分けられている。また、吸収液のフラッシュは、吸収液を低圧条件下に 噴霧することなどにより行うことができる。
同システムの湿式ガス精製における水銀除去方法は、水銀成分を含有する対象ガ スを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗工程と、該水洗工程カゝら排出さ れる吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と排水に分離するフラッシュ工程とを含み、 該フラッシュ工程の前流にて、凝集助剤を添加して吸収液中から水銀成分を汚泥の 一部として除去する凝集沈澱工程を有する。ここで上記水洗工程では、例えば 0. 2 〜5. OMPaの加圧条件下、硫化水素と共存させて吸収液に水銀成分を十分に溶存 させることが好適である。
このような本発明によれば、フラッシュ前の排水中にて凝集沈澱を行うため、副次的 にその他の重金属成分についても凝集沈澱にて除去されるため、後流の排水処理 での凝集沈澱処理を軽減することができる。そして、フラッシュ前の排水に凝集助剤 を添加して、 Hgを凝集沈澱により、汚泥の一部として排出する。凝集沈澱処理後の 排水については、 HC処理後、アンモニアストリツビング処理する。加えて、フラッシュ 工程にて Hgをガス中に移行させな 、ため、排ガス処理用の活性炭がシステム内に 不要である。
[0009] 本発明では上記システムに更にカ卩えて、前記水洗塔から送られる水洗ガスを導入 し、アミンィ匕合物を含む吸収液を用いて硫ィ匕水素を吸収除去する硫ィ匕水素吸収塔と 、該硫ィ匕水素吸収塔力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と再生塔に 送る吸収液に分離する第 2のフラッシュドラムとを含む水銀除去システムをも提供する ものである。また、上記方法に更に加えて、前記水洗工程力 送られる水洗ガスを導 入し、アミンィ匕合物を含む吸収液を用いて硫ィ匕水素を吸収除去する硫ィ匕水素吸収 工程と、該硫ィ匕水素吸収工程力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と 再生塔に送る吸収液に分離する第 2のフラッシュ工程とを含む水銀除去方法をも提 供するものである。
また、上記対象ガスとしては、ガス化炉でィ匕石燃料をガス化して得られる生成ガス の他、燃焼炉でィ匕石燃料を燃焼して排出される排ガスも使用することができる。 発明の効果
[0010] 本発明の水銀除去システムによれば、ガス中の微量成分である水銀を効果的に高 効率に除去可能であるとともに、システムの運転に際して活性炭等を用いてガス中の 水銀成分を除去する操作を回避できる。つまり、オフガスに水銀成分を含有させない ため、オフガスライン全てに活性炭を設置するような必要がなぐ設置に適さない高 圧の条件下への設置や、運転中での交換が行えない箇所への設置などを避けること ができる。そして、長時間システムを運転しても、吸着剤の性能劣化や交換の必要な どが起こらないため、メンテナンスが極めて容易となる。
このように本発明によれば、ガス中の微量成分である水銀を効果的に高効率に除 去可能であり、システムの運転によって生じる水銀除去のコストを下げることができる 図面の簡単な説明
[0011] [図 1]本発明の湿式ガス精製における水銀除去システムの好適な一例を示す概略構 成図である。 [図 2]本発明の湿式ガス精製における水銀除去システムの好適な他の一例を示す概 略構成図である。
[図 3]湿式ガス精製における水銀除去システムの全体構成の一例を示す概略構成図 である。
[図 4]従来の湿式ガス精製における水銀除去システムの一例を示す概略構成図であ る。
発明を実施するための最良の形態
[0012] 以下、本発明に係る湿式ガス精製方法について、添付図面を参照しながら、その 具体的な実施形態を説明する。
(実施の形態その 1)
図 1および図 4に、本実施の形態に係る湿式ガス精製における水銀除去方法を実 施するのに好適なシステムの例を、模式的に示す。
先ず、図 4に示す生成ガスは、原料である石炭、石油、残さ油、バイオマス等の原 料をガス化炉(図示せず)でガス化させて得られる。このガス化炉で生成したガスには 、原料によって異なるが微量の水銀成分も含有している。この水銀成分を含有する生 成ガスを水洗塔に導入して、吸収液中に水銀成分を移行させる。
[0013] 本実施の形態のシステムでは、水洗塔はガス冷却塔 31およびガス洗浄塔 32から なる。ガス冷却塔 31、ガス洗浄塔 32では冷却 ·洗浄工程が実施される。ガス中のァ ンモユア成分を吸収する水は、例えばガス洗浄塔 32に投入される。この 2つの水洗 塔によって、ガス中のアンモニアを吸収液中に吸収除去させる。ガス洗浄塔 32に投 入された水は、ポンプで循環されてアンモニアを吸収する吸収液として作用し、その 一部は、ガス流れ方向に対して前段に設けられたガス冷却塔 31に送られて、ここで もポンプによって塔内を循環する。なお、本発明では、冷却'洗浄工程を 1つの水洗 塔で行う態様であっても良 、。
上記のようなアンモニア除去のための水洗工程において、導入されるガス中に水銀 成分が含有する場合、水洗塔 (冷却塔および洗浄塔)における加圧条件下、吸収液 中に水銀成分が移行する。この際、水銀成分の吸収液中への移行は温度の影響を 受けるので、液温が低いほど水銀のガス中の除去率は向上する。よって、ガス冷却 塔 31とガス洗浄塔 32の温度により除去率へ影響があり、後段であるガス洗浄塔 32の 温度が低ければ除去率も向上する。ガス洗浄塔 32では、通常 50°C以下、好ましくは 40°C以下にて運転すること力 硫ィ匕水素吸収塔の観点からは好ましい。
[0014] 次に、上記水洗工程の冷却塔力も排出される水銀を含む吸収液 (排水)は、フラッ シュドラム 10における減圧フラッシュの前に、酸化処理手段 1 (酸化処理工程)によつ て酸化剤が添加される。酸化剤の種類は特に限定されるものではなぐ金属水銀 (H g)を水銀イオン (Hg2+)の形態に変換できるものであれば広く用いることができる。例 えば、金属水銀を塩ィ匕水銀の形態に変換する酸化剤として次亜塩素酸ナトリウム (N aOCl)や、過酸化水素(H O )、過酸化マンガン酸カリウム (KMnO )などが好適であ
2 2 4
る。
水銀は主に 0価の金属水銀 Hg、または、塩化水銀 HgClの 2つの形態で存在する
2
。 0価の金属水銀は水にほとんど不溶であるのに対して、塩化水銀の方は水に溶解 する。よって、塩化水銀の形態に変換すれば、減圧後も排水中に水銀成分を残すこ とが可能になる。したがって、 0価の金属水銀について、酸化剤を用いて塩化水銀に 酸化処理する。
添加量については特に限定されるものではないが、例えば次亜塩素酸ナトリウムの 場合には、吸収液 1リットルに対して、 0. 05-0. 5g程度の範囲で添加することが好 適である。この酸ィ匕処理工程における酸化剤の添カ卩は、上記酸化剤を含む液体で 行うことが可能であり、加圧下の添加であってもポンプアップにより操作が容易である 。また、酸化剤の添加を pHや酸化還元電位 (ORP)で管理することも可能であり、 p Hを 5〜7の範囲、 ORPを 200〜300mVの範囲で添カ卩して運転することが好適であ る。
この酸化処理工程にて、加圧(0. 2〜5. OMPa)条件下の排水に酸化剤を添カロし て、 Hgを酸化処理することにより、液中に水銀イオンを固定ィ匕させることができる。
[0015] 次に、フラッシュドラム 10では、酸化処理手段 1から供給される吸収液を低圧(常圧 )下にフラッシュさせる。これによつて、吸収液は、ガス成分と排水に分離する。この際 、本実施の形態では、上述したように水銀成分は水銀イオンとして液中に残るので、 排水中に含有することとなる。 一般に精製処理システムにおいて、水洗工程力も排出される吸収液は高圧力であ るため、種々のガスも溶存している。そのような排水を処理するために、フラッシュドラ ム 10を通して減圧して、高圧力から開放することが行われる。これによつて、溶存して いたガスがー且、フラッシュして気体中に放散される。そして、残った排水については 水系処理プロセスに送られる。
[0016] フラッシュドラム 10にて分離された排水は、例えば石炭などを原料とする生成ガス の精製では、タールなどの油分を含んでいる。よって、灯油などを用いて油液分離処 理 (HC処理) 11を行い、油分はオフガス炉 20に燃料の一部として送る。分離された 排水分は、アンモニア (NH )ストリッピング処理 12を行ってアンモニア分を除去する。
3
それを更に、重金属の沈降剤、例えばキレート剤などを添加して凝集沈澱処理を 行う、排水処理手段 13へ送る。上記した酸化処理工程 1によって、水銀成分も排水 中に含まれているので、この排水処理手段 13によって、水銀成分は汚泥の一部とし て凝集沈澱処理し、排水中から分離される。有害成分を汚泥として除去した排水は、 排水処理 13の後に放流する。
一方、フラッシュドラム 10にて分離されたガス成分は、水銀成分を含まない。よって 、ガス成分の流路に活性炭等の装置は不要であり、該ガス成分はオフガス炉 20、集 塵装置 (QCZEP) 21、排煙脱硫装置 22の順で流下し、煙突から放出される。
[0017] なお、図 4に示す本実施の形態における水銀除去システムは、上記水洗塔から硫 化水素吸収塔 35へ送られる水洗ガスが送られるシステムである。
上記したアンモニア除去のための水洗工程において、水銀を含むガスからは吸収 液中に水銀成分が移行する。水銀成分の除かれた水洗後のガスは、湿式ガス精製 システムの後段に送られる。水洗工程の後段には、ガス中の硫ィ匕水素を除去する硫 化水素除去工程が設けられており、そこでガス中の硫ィ匕水素が除去される。硫ィ匕水 素除去工程は、通常 H S吸収塔 35と吸収液再生塔 36から構成されており、水洗ェ
2
程から送られる水洗ガスは硫化水素吸収塔 35に導入される。
硫ィ匕水素吸収塔 5の主目的は、アミンを含む吸収液を用いて硫ィ匕水素を吸収除去 することである。この硫ィ匕水素吸収塔 35において、硫化水素を含有するガスからカロ 圧条件下、吸収液中に硫ィ匕水素成分を移行させる (水洗工程)。そして、硫化水素吸 収塔 35から排出される吸収液を、第 2のフラッシュドラム 38にて低圧下にフラッシュさ せて、ガス成分と再生塔 36に送る吸収液に分離する。他方、硫化水素吸収塔 35で 精製されたガスは、ガスタービンへ送られる。
[0018] (実施の形態その 2)
図 2に、本実施の形態に係る湿式ガス精製における水銀除去方法を実施するのに 好適なシステムの例を、模式的に示す。本実施の形態においても、図 4に示すシステ ム構成部分は同じである。
本実施の形態のシステムでは、水洗工程の冷却塔力 排出される水銀を含む吸収 液 (排水)は、フラッシュドラム 10における減圧フラッシュの前に、凝集沈澱処理手段 5 (凝集沈澱工程)によって凝集助剤が添加される。凝集助剤の種類は特に限定され るものではなぐ金属水銀 (Hg)を凝集沈澱できる化合物であれば広く用いることがで きる。例えば、キレート剤、鉄塩 (FeCl、 Fe (SO ) )など、 PAC (ポリアルミニウムクロ
3 2 4 2
ライド)などが好適である。キレート剤としては、具体的にはヂチォ力ルバミン酸型キレ ート榭脂、チオール型キレート榭脂などが挙げられる。添加量についても特に限定さ れるものではないが、例えばキレート剤の場合、吸収液 1リットルに対して、 0. 1〜20 mgの範囲で添加することが好適である。
この凝集沈澱工程における凝集助剤の添カ卩により、加圧 (0. 2〜5. OMPa)下の 吸収液中から水銀成分を汚泥の一部として除去することができる。
[0019] 次に、フラッシュドラム 10では、凝集沈澱処理手段 5から供給される吸収液を低圧 ( 常圧)下にフラッシュさせる。これによつて、吸収液は、ガス成分と排水に分離する。こ の際、本実施の形態では、上述したように水銀成分は既に凝集沈澱により除去され ているので、ガス成分中および排水中ともに、水銀成分は残存しないこととなる。 フラッシュドラム 10にて分離された排水は、例えば石炭などを原料とする生成ガス の精製では、タールなどの油分を含んでいる。よって、灯油などを用いて油液分離処 理 (HC処理) 11を行い、油分はオフガス炉 20に燃料の一部として送る。分離された 排水分は、アンモニア (NH )ストリッピング処理 12を行ってアンモニア分を除去する。
3
[0020] アンモニアストリツビング処理 12によりアンモニア分を除去した排水は、特に排水処 理を行なうことなく放流することができる。必要であれば、図 2に示すように、この排水 を更に、重金属の沈降剤、例えばキレート剤などを添加して常圧下で凝集沈澱を行 う、排水処理手段 13に送ることもできる。上記した凝集沈澱処理手段 5によって、高 圧下の排水について水銀成分などの金属が既に除去されているので、排水処理手 段 13での凝集沈澱処理の負荷は軽減されている。よって、本実施の形態では、排水 処理工程における設備容量の低減が可能である。
この排水処理工程における常圧下で凝集沈澱により、重金属成分は汚泥の一部と して排水中から分離される。有害成分を汚泥として除去した排水は、排水処理手段 1 3の後段で放流する。
一方、フラッシュドラム 10にて分離されたガス成分は、実施の形態その 1と同様に水 銀成分を含まない。よって、ガス成分の流路に活性炭等の装置は不要であり、該ガス 成分はオフガス燃焼炉 20、集塵装置 (QCZEP) 21、排煙脱硫装置 22の順で流下 し、煙突から放出される。
[0021] 以上、本発明の実施の形態につき述べた力 本発明は既述の実施の形態に限定 されるものではなぐ本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変形及び変 更をカ卩ぇ得るものである。
産業上の利用可能性
[0022] 本発明に係る水銀除去方法によれば、システムの運転に際しても、活性炭のような 吸着剤を一切必要としないため、メンテナンスが容易であり、かつ、吸着剤交換等の ために運転を停止させる必要もない。また、生成ガスをそのまま処理する場合に比べ て、液に吸収された水銀成分を処理することでガス処理に比べて処理が容易であり、 処理に伴う運転コストも低減できる。よって、水銀除去を行いつつ効率的なシステム の運転が可能となり、産業上の意義は極めて大きい。

Claims

請求の範囲
[1] 水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗塔 と、該水洗塔力 排出される吸収液をフラッシュさせてガス成分と排水に分離するフラ ッシュドラムとを含む湿式ガス精製における水銀除去システムであって、
該フラッシュドラムの前段にて、該吸収液に酸化剤を添加する酸ィ匕処理手段を備え るとともに、該フラッシュドラムの後段にて、分離された排水中に含有する水銀成分を 、凝集沈澱処理にて汚泥の一部として排出する排水処理手段を備えることを特徴と する水銀除去システム。
[2] 水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗塔 と、該水洗塔力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と排水に分離するフ ラッシュドラムとを含む湿式ガス精製における水銀除去システムであって、
該フラッシュドラムの前段にて、凝集助剤を添加して吸収液中から水銀成分を汚泥 の一部として除去する凝集沈澱処理手段を備えることを特徴とする水銀除去システ ム。
[3] さらに加えて、
前記水洗塔から送られる水洗ガスを導入し、ァミン化合物を含む吸収液を用いて硫 化水素を吸収除去する硫化水素吸収塔と、
該硫ィ匕水素吸収塔力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と再生塔に 送る吸収液に分離する第 2のフラッシュドラムと
を備えることを特徴とする請求項 1又は 2に記載の水銀除去システム。
[4] 前記対象ガスが、ガス化炉でィ匕石燃料をガス化して得られる生成ガスであることを 特徴とする請求項 1又は 2に記載の水銀除去システム。
[5] 水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗ェ 程と、該水洗工程力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と排水に分離 するフラッシュ工程とを含む湿式ガス精製における水銀除去方法であって、
該フラッシュ工程の前流にて、酸化剤を添加する酸化処理工程を有するとともに、 該フラッシュ工程の後流にて、分離された排水中に含有する水銀成分を、凝集沈澱 処理にて汚泥の一部として排出する排水処理工程を有することを特徴とする水銀除 去方法。
[6] 水銀成分を含有する対象ガスを導入して吸収液中に水銀成分を移行させる水洗ェ 程と、該水洗工程力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と排水に分離 するフラッシュ工程とを含む湿式ガス精製における水銀除去方法であって、 該フラッシュ工程の前流にて、該吸収液に凝集助剤を添加して吸収液中から水銀 成分を汚泥の一部として除去する凝集沈澱工程を有することを特徴とする水銀除去 方法。
[7] さらにカロえて、
前記水洗工程から送られる水洗ガスを導入し、ァミン化合物を含む吸収液を用いて 硫化水素を吸収除去する硫化水素吸収工程と、
該硫ィ匕水素吸収工程力 排出される吸収液をフラッシュさせて、ガス成分と再生塔 に送る吸収液に分離する第 2のフラッシュ工程と
を含むことを特徴とする請求項 5又は 6に記載の水銀除去方法。
[8] 前記対象ガスが、ガス化炉でィ匕石燃料をガス化して得られる生成ガスであることを 特徴とする請求項 5又は 6に記載の水銀除去方法。
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