WO2006090593A1 - 走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを用いた走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents

走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを用いた走査型プローブ顕微鏡 Download PDF

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WO2006090593A1
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WO
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light
cantilever
axis
displacement detection
detection mechanism
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Masato Iyoki
Hiroyoshi Yamamoto
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Sii Nanotechnology Inc.
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Publication of WO2006090593A9 publication Critical patent/WO2006090593A9/ja
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q10/00Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
    • G01Q10/04Fine scanning or positioning
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q30/00Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
    • G01Q30/18Means for protecting or isolating the interior of a sample chamber from external environmental conditions or influences, e.g. vibrations or electromagnetic fields
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/02Probe holders

Definitions

  • the materials for metals, semiconductors, ceramics, fats, polymers, biomaterials, and insulation materials are specified in the region, and the scanning probe microscope is used as an indicator of the property information material of the sample.
  • SP cann ng P obe M o scope is known.
  • the efficiency can be determined by performing the initial observation and specifying the location before the determination of the sample. Therefore, by arranging the objective illumination on or under the sample or the cantilever, the sample can be obtained, and by this, for example, scratches on the surface of the material can be observed and a specific place can be specified.
  • the objective illumination is placed above or below the sample or cantilever in order to improve the measurement rate, the space for installing the above and the receiver will be small, and the light from the above part will be The reflection cannot be applied vertically. There Therefore, it is possible to irradiate the light from a part obliquely with reflection.
  • the cantilever position is fixed to the holding part after the cantilever and extends toward the cantilever on the upper surface, and extends in the direction opposite to the cantilever direction. It is characterized in that, in the area delimited by X and from the area of the cantilever, the object is radiated to the X axis with respect to the X axis.
  • the light from the part of the cant region in the region demarcated by X and the part from the part is reflected to the X axis. To this you can use the released space above the canch It is possible to easily reach the light without blocking the light from the area.
  • the light that has entered the reflection may be reflected in the opposite regions across the axis with respect to the X and axis.
  • the reflected light from the reflecting surface is not blocked and the reflected light is received.
  • the traveling direction changing means for changing the traveling direction of the light emitted from the part on a plane parallel to the X plane including X, the irradiation from the part
  • the traveling direction of the emitted light may be changed by the traveling direction changing means.
  • a plurality of the row direction changing means are provided on the light emitted from the part, and the plurality of row direction changing means and the above
  • the light is partially arranged in a ring shape on the upper surface, and the light from the part reaches the reflection while changing its row direction by a plurality of row direction changing means, Let the light reach the receiver.
  • the traveling direction changing means, the light, and the light are arranged in a substantially annular shape, and therefore, in the cantilever area, they travel in an annular manner as the upper surface. Therefore, even if an objective lens or the like is placed on the cantilever side, it will proceed without being affected by the objective lens or the like.
  • the bright microscope mechanism is characterized in that the objectives are arranged in a position where any one of the above-mentioned microscope, the cantilever, and the sample can be observed.
  • the objective lens at the position of the probe, the cantilever, or the sample without the objective mechanism being disturbed by the microscope mechanism, and it is possible to provide the objective lens.
  • the bright microscope it is a feature that any one of the probe, the cantilever, and the sample is irradiated with light from an arbitrary direction.
  • the cantilever or the sample may be slightly moved by the skier.
  • the probe can be accurately and reliably scanned on the sample.
  • the skier may be provided so as to be oriented in the direction of extension of the z-axis, which is perpendicular to the X-axis, and the illumination may be passed through this passage.
  • an objective lens is provided at a position where the displacement of the probe, the cantilever, or the sample can be observed through the above, or the cantilever or below the cantilever along the z-axis.
  • the objective can be further provided to the slide, the cantilever, or the sample deviation without the objective being disturbed by the skier, and the objective can be provided.
  • the skier is provided with an X skier that moves the cantilever along the X and axis, so that the cantilever can be finely moved along the X and axis.
  • the skier is provided with a Z skier that moves the cantilever along the Z axis that is perpendicular to the X and axis, and ensures that the cantilever is along the Z axis. Even if you can move a little.
  • the skier is provided with an XZ skier that moves the cant along the X and these Z and the Z that is fixed to the axis. Even if it is possible to make fine movements along the Z axis.
  • a condenser lens is provided on the above-mentioned point which is reflected from the surface and reaches the above-mentioned point, so that the light reflected from the reflection surface passes through the condenser lens.
  • the size of the spot that reaches is set to an appropriate size so that it can be set within, and even if the reflected light is deviated due to the quality of the light traveling or the type of cantilever, Can be collected.
  • the scanning microscope structure can be made thin, it is possible to use a lens illumination lens, and an optical microscope image with high resolution can be obtained. This makes it possible to combine the scanning microscope and the optical microscope, and by using this microscope, the subject can be more frequently measured, and the scanning microscope image can be measured once more.
  • FIG. 10A is a diagram showing a microscope according to Mitsui, (a) is a plan view of the scanning microscope, and (b) is a region thereof in (a).
  • FIG. 3 is an enlarged plan view of the stage 2 moving mechanism.
  • FIG. 33 is a plan view showing a stage moving mechanism of 32.
  • FIG. 4 is an enlarged plan view of the 4th driving mechanism.
  • FIG. 5 is a plan view showing a state in which displacement is provided in the push mechanism of 54.
  • Figure 8 is a simplified view of a simplified version of 8 5 and developed on a straight line.
  • 9 is a diagram in which light rays from the 9th cantilever are projected onto the XZ plane. 10 a) A plan view.
  • FIG. 3 is a front view showing the second of the microscope according to the first embodiment.
  • the cantilever is oscillated near the resonance frequency and close to the sample, and according to the amount of the phase, a test (D namcFoce Mode) is performed to keep the separation of the sample constant. .
  • This 004 microscope is combined with an inverted microscope, and as shown in () and (b), it is provided on the main body 3 installed at 2 and as shown in () and (b). 4 and the microscope 8 provided for the measurement 4 and the illumination 5 provided for the measurement 4.
  • Microscope 8 is set to 2 via X stage 3. Further, 9 is provided at the end of the inverted microscope 8, and 9 are provided with a plurality of lenses each having a different rate. Then, by turning 9, the positions of the plurality of lenses can be changed, and the plurality of lenses can be selectively arranged for observation. Is for the sample S and for observing S.
  • the body portion 3 is configured by including a flat plate-shaped 3 supported by 2 extending vertically from 2.
  • a mouth 5 is formed in 3 and a step 6 for holding the sample S is provided in the mouth 5.
  • a stage mouth 7 is formed.
  • the 005 stage 6 can move along the direction by the stage moving mechanism 27.
  • Z is an axis that passes through the reflection 4 described later and extends perpendicularly to the sample 6 and the step 6 and an axis that is described later as the X and the axis straightened to the axis.
  • the Z direction is the direction in which the Z axis extends and the direction of the scanning microscope.
  • the stage moving mechanism 27 has a rectangular shape as shown in 2 and 3.
  • the body portion 86 and the body portion 86 are provided 87 in a direction (that is, X) intersecting with (that is,) of the mechanism body portion 86.
  • the above-mentioned step 6 is provided in 005487.
  • the body portion 86 is provided with a body 9 extending in a direction opposite to the direction of 87. 9 is fixed to the fixed position of 3 shown in, by which the mechanism 86 is cantilevered.
  • a cavity 93 is provided in the mechanism 86. At the end of the 93 inner wall 94 in the X direction, at the end of the force with the body 9
  • the lower part 2 is provided at the end of the force where 87 is provided.
  • 87 is provided at the end of the force provided with 3 and 3 at the end of the force provided with the main body 9 at the end of 4 are provided.
  • the lower part 2 has a lower part 95 that extends downward from the upper inner wall 94
  • the lower part 4 has an upper part 96 that extends upward from the lower inner wall 97. That is, the lower part 95 and the upper part 96 are arranged opposite to each other, extending in opposite directions.
  • a moving portion 85 is provided between the lower portion 95 and the upper portion 96.
  • the Z moving unit 85 is physically separated from the moving unit 5 and the X moving unit 52, which will be described later, and provided separately, and functions independently.
  • the Z moving portion 85 is composed of the Z piezoelectric element 9 oriented in the X direction.
  • the Z piezoelectric element 9 has its end fixed to the lower part 95 and is fixed to the upper part 96.
  • Reference numeral 8 indicates an electrostatic sensor. By detecting the amount of movement of the mechanism 86 by this sensor 8, the position of the amount of movement of the stage 6 in the Z direction can be detected or detected. Depending on the position, the stage 6 can be moved into shape with respect to the voltage applied to the Z piezoelectric element 9.
  • the above-mentioned 4 is installed on the surface of the stage 6.
  • 4 includes a push mechanism (X scanner) 26, and the push mechanism 26 is provided with a crank-shaped crank 3. Then, by the crank 3, the push mechanism 26 is installed so that its center coincides with the step opening 7.
  • the driving mechanism 26 is provided with the lawless mu 48 and mu 49, and these mu 48 and mu 49 are formed in a rat shape by expanded iron.
  • the mu 48 and mu 49 are concentrically connected to each other through the moving part 5 and the X moving part 52, and are arranged as mu 48 and mu 49.
  • the moving part 5 is installed in 57 along the X axis formed in the frame 48, and the X moving part 52 is also installed in X6 along the axis.
  • the 006 moving part comprises a piezoelectric element 54 oriented in the X direction.
  • the piezoelectric element 54 has a diamond-shaped upper surface so as to cover the surrounding area.
  • a large 55 is provided.
  • the large 55 is then connected to the 49 via 56.
  • the X moving part 52 also includes an X piezoelectric element 6 oriented in the direction.
  • a diamond-shaped X large 62 is provided around the X piezoelectric element 6, and the X large 62 is connected to the hole 49 via X 63.
  • a parallel line 67 is installed at the corner of the M49.
  • a shape 68 is provided, and 68 is provided parallel to the X plane including X and.
  • a cantilever 2 supported by a holder 22 is provided.
  • the direction is the direction in which the axis extends and the direction of the scanning microscope's row.
  • X is assumed to pass through the reflection 4 and extend in the direction orthogonal to the above plane.
  • the X direction is the direction in which the X axis extends and the direction of the scanning microscope.
  • the 4 regions demarcated by these Xs will be referred to as C regions in the counterclockwise direction from the upper right region to 4 in the upper surface. That is, with the X and axis as coordinates, the limit is the range, the second limit is the range, the third limit is the range C, and the fourth limit is the range.
  • the cantilever 2 has a region, and the tip has a region C.
  • reference numeral 78 8 indicates an electrostatic sensor
  • reference numeral 7 78 indicates a target
  • these sensors 78 8 detect the movement of Mu 49 and the movement in the X direction. Then, the difference in the amount of movement of the cantilever 2 in the X direction is calculated, and with respect to the voltage applied to the piezoelectric element 54 and the X piezoelectric element 6, the movement 49 can be moved in a shape.
  • a glass holder 23 made of glass is provided as shown in 6. This glass holder 23 forms a film due to the viscosity of the liquid between the glass holder 23 and the sample glass holder 23. It is for doing.
  • the cantilever 22 has a columnar section that extends along the axis. 9 is provided, and at the end of the supporting portion 9, there is provided a hanging portion 8 that hangs downward from this end. A wire is provided at the end of the lower part 8.
  • the 0070 cantilever 2 is provided toward the stage mouth portion 7. Cant
  • a sharpened tip 2 is provided, and on the upper surface, a reflection 4 for reflecting light is provided. Further, after the cantilever 2 (2a is bonded to the glass holder 23 via 28, and is secured to the support 24 by the wire provided in the lower portion 8 described above. 2 is cantilevered so that the tip provided with probe 2 is free.
  • a mechanism 33 for moving the cantilever 2 in the direction of 37 is provided, and 34 of the mechanism 33 is fixed to 3 of the main body section 3.
  • An X stage 35 is provided on the surface of the Z mechanism 33, and the crank 3 is fixed to the surface of the X stage 35.
  • the 5 is equipped with 4 which emits illumination and a condenser 4 which collects these 4 components.
  • the lens unit 4 is arranged above the moving mechanism 26 by a holding unit 42 connected to the inverted microscope 8 and is supported by the moving mechanism 26 so as to be vertically movable.
  • the drive mechanism 26 in the present embodiment is configured such that the displacement 2 for detecting the position of the cantilever 2 is provided on the surface of 68 as shown in 5.
  • 2 has the length of ambient light as a hint, and the sun and suns diode (below, S
  • S (, low hint) 4 of 68 After that, it is installed in the area. Then, when S 4 is driven, the hint light traveling along the X-axis is emitted toward the pair of regions that sandwich the axis, that is, the C region.
  • An optical system 5 is installed on the original light from S 4 and from S 4. School 5 has a condensing lens 7 located opposite S 4. In addition, aberrations 8 and lid 9 are arranged in the direction from the lens 7 to the region C.
  • the lenses 789 that make up graduate school 5 form an image of the light from S 4 on the can 4 of can 2.
  • the 007nd and 9th are provided on the and to correct the spread of the spot of reflection 4.
  • the (line direction changing means) 22 is provided in the area C after the above.
  • 22 of S 4 is arranged along the X-ray with S 4 and science system 5, so that the light from S 4 passes through the optical system 5 and reaches 22 of.
  • 22 of the above reflects the light that reaches it, changes its row direction, and advances the reflected light along the axis.
  • 2 (row direction changing means) 23 shown in 5 and 7 are provided, and between these 22 2 and 23, a flat glass (positive ) 26 are provided. That is, 22 of, glass of compensation 26 and 23 of 2 are aligned along the axis.
  • the glass 26 is detachably supported from above by the glass holder 27, and when the correction glass 26 is attached to a predetermined position, the light from 22 passes through the correction glass 26. Then, when the glass 26 is attached and when the glass 26 is removed, the change due to the fact that the correction glass 26 does not fold.
  • the length is different when the constant is performed and when the atmospheric is determined. Because the light of reflection 4 is broken by passing the nutrient solution. is there.
  • the correction glass 26 is set so that the length becomes suitable for constant temperature, and when the correction glass 26 is removed, the length becomes suitable for constant atmospheric temperature.
  • the light condensing the light such as a lens 28 and a detector divided into four parts (). 2 are provided.
  • the reflection 4 has 2
  • the 23 rays are emitted from the C area toward the X and the axis, and further toward the area toward the X and the axis.
  • displacement 2 moves iterator 2 in the Z direction.
  • Z stage 3 S 4 and academic system 5
  • Z stage 32 which moves in the Z direction.
  • Z stage 3 is
  • Z stage 32 makes it possible to adjust the positions of S 4 and School 5 in the Z direction.
  • a directional step 9 is formed at 87 in this embodiment.
  • the objective lens can be moved up and down by operating the wing diamond 8a provided on the microscope 8 as shown in (4), and S can be observed by the objective lens via the stage 9. I can do it.
  • the sample is set to step 6 via the cell. Then, turn on 4 and irradiate on sample S. Then,
  • the glass holder 23 of the cantilever 22 and the sample are passed in order, and further through the stage opening 7 to reach the objective arranged for observation.
  • the state of the sample S is observed through the objective.
  • turning 9 displaces the first lens from the observation and places the other lens in the observation. This will select the appropriate rate of index.
  • the horn diamond 8a is operated, the objective lens moves upward, the objective lens comes close to the sample S, and is tuned.
  • the X stage 3 moves and positions the inverted microscope 8.
  • 8 is the quality of the enclosure of 22, 22, 23, glass hodder 23, and cantilever 2, and is expanded on a straight line. Therefore, it should be reflected in the actual situation.
  • the light passes through the correction glass 26, it reaches 23 of 2 and is reflected there.
  • this emitted light is focused on the X and Z axes by a predetermined degree and forms an image on the reflection 4 from the C region.
  • the spot size of S in reflection 4 is about diameter. After that, it reflects and then spreads out again and progresses toward the area. That is, it travels toward the area after being separated by a predetermined number of times with respect to the X and Z axes.
  • the condenser lens 28 By passing the condenser lens 28, the four images toward the detector 2.
  • the irradiation from S 4 progresses in a ring shape over the upper surface of C region and region.
  • the position of 4 changes.
  • light is refracted by the medium (body or air) between the glass holder 23 sump S, the reflection 4 changes, and the imaging position shifts in the X plane.
  • the position of the optical axis also changes.
  • the imaging device can be moved in the X plane, and the spot of the reflection 4 S 4 can be imaged.
  • the compensation glass 26 can be used to change the orientation, and it is also possible to correct the orientation in different directions.
  • FIG. 9 shows a diagram in which the 4 rays of cantilever 2 are projected on the x Z plane.
  • the human incident light illuminates the human eye in the light state, so that no light enters the objective lens and it is difficult to observe the spot. Therefore, in the case of light, as a matter of fact, by means of mechanism 33, a gap is provided between the cantilever 2 sample S, scattering 4 is inserted between them, and the cantilever 2 of the light scattered on scattering 4 is observed with the objective. Then, after locating the spot at the reflection 4, the scatter 4 was pulled out and the Z 2 was brought closer to the S by the Z mechanism 33. In the case of waving by 4, the nutrient solution was put between the scattering glass holders 23 to prevent the slippage.
  • 011 S4 is outside light having a wavelength of 830 nm. There is a point at which the light is excited by the use of outside light, such as when the iosump is on time.
  • the CC camera (not shown) has a sensitivity to the infrared light by taking into consideration the safety, so it is possible to observe even in the visible light.
  • the scattering 4 may be arranged between the surfaces of the objective sample S. Alternatively, the spot may be observed with a reflecting microscope placed on the sample S.
  • the angle of incidence of the light emitted from the reflection 4 differs depending on the above-mentioned angle, and also changes depending on the quality. Therefore, the reflected light is uncertain. Also, the light spreads again after being focused on the reflection 4.
  • the condenser 28 by arranging the condenser 28 at a position where the light from the reflection 4 to the surface of the photodetector 2 is cut, the light is imaged toward the photodetector 2 and an appropriate spot size is set so that the light falls within the surface of the photodetector 2.
  • the condensing lens 28 allows the light beam to be focused to a particular area. With this configuration, the photodetector 2 Z stage 3 can be downsized, and the photodetector 2 can be easily operated.
  • Pr 2 raster scans the sample S at a predetermined time.
  • the electrostatic sensor 788 detects the amount of movement in the X-direction, and the difference between the X-direction and the X-direction is corrected. In this way, by correcting the amount of movement in the X, direction, the piezoelectric element 54 and the X piezoelectric element 6 are not affected by the hysteresis and operate in the X, direction shape.
  • the atomic force will cause the surface of the sample S to be attracted.
  • the state of 2 changes and the phase changes.
  • an iterator divided by 4 is used as iterator 2
  • it is input to the ,,, and Z dock paths of this phase.
  • a voltage is applied to the Z piezoelectric element 9 shown in 2 so that the phases are the same due to the Z dock and f.
  • the piezoelectric element 9 repeats expansion and contraction at high speed when a voltage is applied.
  • the Z piezoelectric element 9 expands and contracts, the stage 6 moves in the direction at a very high frequency via 87, and the sample S on the stage 6 moves in the Z direction. Thereby, the distance between the surface of the pre-sample S and the above-mentioned investigation is always kept constant.
  • the electrostatic sensor 8 detects the amount of movement of the mechanism body 86, and the difference in the amount of movement of the stage 6 in the Z direction is generated according to the result. The difference in direction is corrected. This allows Stage 6 to move in the Z direction. [0111] It is also possible to detect the amount of fine movement by the electrostatic sensor 8 and display it as a report of the scanning microscope. In this case, higher speed scanning becomes possible. [0112] In this manner, the voltage applied to the X, Z piezoelectric elements 54 69 is input to the image, and the image of the surface of the sample S can be measured by imaging. In addition, by measuring various forces and physical forces acting with the sample S, the sex, the cloth of the sample S, the cloth of the surface of the sample S, and the sex information of the species of the proximity are determined.
  • the reflection 4 from the C region is reflected toward the region by being reflected with respect to the X and Z axes, so that the line of the irradiation is not blocked and the detector 2 is easily reached.
  • the device can be thinned, and the condenser 4 can be arranged in the middle of the structure.
  • the space above 68 can be used more effectively.
  • the correction glass 26 is detachably provided, the correction glass 26 can be attached and detached. By doing so, it is possible to easily correct the light required for the constant and the light required for the atmospheric constant. As a result, it is not necessary to provide a moving mechanism in the direction of the optical axis or to replace the cantilever 22 depending on the quality, and the device can be downsized and the order can be improved.
  • the push mechanism 26 can reliably move the probe 2 in the X-direction, and the probe 2 can be accurately and reliably scanned on the sample S. 0120 Further, the push mechanism 26 is provided with a push 7,
  • the displacement 2 can be configured as, a fine lens can be used, and the image of the inverted microscope 8 becomes clear with high resolution.
  • the objective lens can be further attached to the sample S, and the lens can be provided to perform accurate measurement.
  • the spot reaching the detector 2 can be made to have an appropriate size so as to be within the plane of the detector 2 and can be collected in the area.
  • 0126 is the same as the element described in And attach a check mark.
  • the microscope in this embodiment is a combination of the microscopes 8, the microscope 8 is provided with 4, and the main body 3 is provided with the lens 4 at 4 thereof.
  • the stage 4 is equipped with a stage moving mechanism 27.
  • the stage moving mechanism 27 is composed of a piezoelectric element 9, and the Z piezoelectric element 9 is installed in the Z direction.
  • the Z piezoelectric element 9 is formed with () oriented in the Z direction, through which 4 and others are passed.
  • an objective is provided for observation on the side of the moving mechanism 26.
  • the push mechanism 26 observes push 2 or cantilever 2. It is designed so that it can move up and down during observation, and if it moves down, it will enter P7.
  • the stage moving mechanism 27 is provided with, and since the illumination is passed through this, it is possible to determine the frequency without illuminating.
  • the spot of S is located at the cantilever, it becomes possible by arranging the scattering between the cantisumps as in the first case and observing with a microscope. In this case, it is desirable to construct scattering on top of reflectivity such as semiconductors.
  • the objective lens can be further provided in the cantilever 2 S, and the lens can be provided for frequent measurement.
  • the push mechanism 26 for slightly moving the cantilever 2 in the X direction is provided as the X skier, but the present invention is not limited to this. You can also make a slight movement in the Z direction. In this case, the stage 6 as the X skier moves the stage 6 in the X direction.
  • the push mechanism 26 and the stage move mechanism 27 are provided, the present invention is not limited to this, and it is also possible to provide three actuators as the XZ skier. At this time, the three actuators may be arranged on the side of the pump and the side of the sump. [0135] In the above, the scanning microscope and the cantilever are used.
  • the sample is configured as a movable skier, but it may be configured independently of the skier, or if it is not provided with all or part of the XZ skier.
  • the cantilever 2 is not limited to the cantilever but may be a cantilever having a triangular shape on the upper surface or a top end of a close-up microscope having a sharp cross-section with a sharp end.
  • microscope that uses as a microscope and the mirror that reflects light, are also included.
  • the objective lens can be placed at a position where the end of the microscope can be observed at any time, so that the focusing rate in the vicinity can be improved.

Abstract

 試料やカンチレバーの上方や下方に対物レンズや照明系を配置しても、迅速かつ高精度に測定することができる走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを含む走査型プローブ顕微鏡を提供することを課題とする。  カンチレバー20を支持する支持部22と、反射面14に光を照射する光源部114と、前記反射面14によって反射された光を受光する受光部121とを備え、この受光部121の受光位置によってカンチレバー20の変位を検出する走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構112において、前記カンチレバー20の後端部が、前記支持部22に固定され、上面視して前記カンチレバー20の長さ方向に延びるY軸と、前記反射面14を通り前記Y軸と直交する方向に延びるX軸とによって区画される領域A,B,C,Dのうち、前記カンチレバー20の先端側の領域B,Cの上方から、前記X軸およびY軸に対して傾けて前記反射面14に前記光を入射させるようにした。

Description

明 細 書
走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを用いた走査型プロ ーブ顕微鏡
技術分野
[0001] 本発明は、試料の表面にプローブを近接させて走査することにより、試料の表面形 状や粘弾性等の各種の物性情報を測定する走査型プローブ顕微鏡用変位検出機 構およびこれを有する走査型プローブ顕微鏡に関するものである。
背景技術
[0002] 周知のように、金属、半導体、セラミック、榭脂、高分子、生体材料、絶縁物等の試 料を微小領域にて測定し、試料の粘弾性等の物性情報や試料の表面形状の観察等 を行う装置として、走査型プローブ顕微鏡(SPM : Scanning Probe Microscope)が知 られている。
[0003] これら走査型プローブ顕微鏡の中には、反射面を有する長尺状のカンチレバーと、 このカンチレバーを片持ち支持するカンチレバーホルダと、光を照射する光源部と、 この光源部力 照射された光を受光する受光部と、を備えたものが周知となっている (例えば、特許文献 1参照)。
[0004] このような構成のもと、光源部力 反射面に光を照射すると、反射面によって反射さ れた光が受光部に到達する。このとき、例えば試料の凹凸形状に応じてカンチレバ 一が橈むと、受光部への到達ポイントがズレることになる。そこで、それら到達ポイント を測定することにより、試料の凹凸形状を測定することができる。
[0005] ここで、試料の詳細測定を行う前に、初期観察を行って測定箇所を特定すると、効 率の良い詳細測定が可能となる。そのため、試料やカンチレバーの上方や下方に、 対物レンズや照明系を配置することにより、試料の光学像が得られ、これにより、例え ば試料の表面の傷などが観察されて測定すべき箇所が特定される。
[0006] しかし、測定効率を向上させるために、試料やカンチレバーの上方や下方に、対物 レンズや照明系を配置すると、上述の光源部ゃ受光部を設置するスペースが少なく なるため、光源部からの光を上方力も垂直に反射面にあてることができなくなる。そこ で、光源部力 の光を斜めから反射面に照射することが考えられる。
特許文献 1:特開 2000— 346784号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] し力しながら、単に斜め力も照射するだけでは、対物レンズや照明系、カンチレバ 一ホルダ、あるいは、カンチレバーと一体に成形されたベース部分などに光源部から の光があたってしまい、その進行が遮られてしまう。そのため、反射面ゃ受光部など に適切に光を到達させることができず、測定自体が困難になるという問題がある。
[0008] 本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、試料やカンチレバーの 上方や下方に対物レンズや照明系を配置しても、迅速かつ高精度に測定することが できる走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを含む走査型プローブ顕 微鏡を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0009] 上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
[0010] 試料の表面に近接させるプローブが設けられたカンチレバーを支持する支持部と、 前記カンチレバーに設けられた反射面に光を照射する光源部と、該光源部から照射 されて前記反射面によって反射された光を受光する受光部とを含み、該受光部の受 光位置によってカンチレバーの変位を検出する走査型プローブ顕微鏡用変位検出 機構において、前記カンチレバーの後端部が、前記支持部に固定され、上面視して 前記カンチレバーの長さ方向に延びる Y軸と、前記反射面を通り前記 Y軸と直交する 方向に延びる X軸とによって区画される領域のうち、前記カンチレバーの先端側の領 域の上方から、前記 X軸および Y軸に対して傾けて前記反射面に前記光を入射させ ることを特徴とする。
[0011] 上記の構成力もなる SPM走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構においては、 X 軸と Y軸とによって区画される領域のうち、カンチレバーの先端側の領域の上方から 、光源部力ゝらの光が X軸および Y軸に対して傾けられて反射面に入射するようになる
[0012] これにより、カンチレバーの先端側上方の開放されたスペースを利用することができ 、光源部力 の光の進行を遮らせることなぐその光を反射面に容易に到達させるこ とがでさる。
[0013] また、上記の SPM走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、反射面に入 射した光が、 Y軸を挟んで反対側の領域の上方に、 X軸および Y軸に対して傾けて 反射するようにしてもよ ヽ。
[0014] これにより、反射面からの反射光の進行を遮らせることなぐその反射光を受光部に 容易に到達させることができる
上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記 X軸と Y軸とを含む
XY平面に平行な平面上に、前記光源部から照射された光の進行方向を変更する進 行方向変更手段が設けることで、光源部から照射された光の進行方向が、進行方向 変更手段により、変更できるようにしてもよい。
[0015] これにより、 XY平面上のスペースを有効利用することができ、小型化を容易にする ことができる。
[0016] さらに、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記進行方向変 更手段が、前記光源部力 照射された光の光路上に複数設けられており、これら複 数の進行方向変更手段と前記光源部と前記受光部とが、前記カンチレバーの先端 側の領域において、上面視して略環状に配置されるようにして、光源部からの光が、 複数の進行方向変更手段により、その進行方向を変更しながら、反射面に到達し、 その反射光が受光部に到達するようにしてもよい。ここで、進行方向変更手段、光源 部および受光部は、略環状に配置されていることから、前記光は、カンチレバーの先 端側の領域において、上面視して略環状に進行する。そのため、カンチレバーの上 方に対物レンズやコンデンサレンズなどを配置しても、前記光は、それら対物レンズ やコンデンサレンズなどに遮られることなく進行する。
[0017] これにより、 XY平面上のスペースをより有効利用することができる。
[0018] さらに、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記光源部から 照射された光の光路上に、光路長のズレを補正する光路長補正手段を備えることで
、光路長変更手段により、光路長のズレが補正してもよい。
[0019] これにより、液中測定と空気中測定とで光路長にズレが生じても、迅速かつ容易に そのズレを補正することができる。
[0020] さらに、本発明の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構では、前記プローブ、力 ンチレバーまたは試料の少なくとも一つが観察可能な任意の位置に対物レンズを配 置したことを特徴とする。
[0021] これにより、前記走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構によって対物レンズが邪 魔されることなぐプローブ、カンチレバーまたは試料のいずれか一つに対物レンズ を一層近づけることができ、そのため高 NAの対物レンズを設けることができる。
[0022] さらに、本発明の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構では、前記プローブ、力 ンチレバーまたは試料の少なくとも一つに任意の方向から照明光を照射することを特 徴とする。
[0023] これにより、前記走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構によって照明光が邪魔さ れることなぐ高精度な初期観察を行うことができる。
[0024] さらに、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記カンチレバ 一または試料を微動させるスキャナを備えることで、スキャナによってカンチレバーま たは試料が微動させてもよ!ヽ。
[0025] これにより、プローブを試料に精度よく確実に走査させることができる。
[0026] 上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構にぉ 、て、前記スキャナが、前記 X 軸および Y軸に直交する Z軸の延在する方向に向けられた貫通孔を備え、さらにこの 貫通孔に照明光が通すようにしてもよい。
[0027] これにより、スキャナによって照明光が邪魔されることなぐ高精度な初期観察を行う ことができる。
[0028] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記貫通孔を介し て、前記プローブ、カンチレバーまたは試料のいずれか一つが観察可能な位置に、 Z軸に沿って前記カンチレバーの上方または下方に対物レンズを備えるようにしても よい。
[0029] これにより、スキャナによって対物レンズが邪魔されることなぐプローブ、カンチレ バーまたは試料のいずれか一つに対物レンズを一層近づけることができ、そのため 高 NAの対物レンズを設けることができる。 [0030] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構にぉ 、て、前記スキャナが、 前記 X軸および Y軸に沿って前記カンチレバーを微動させる XYスキャナを備えて、 カンチレバーを X軸および Y軸に沿って確実に微動させるようにしてもよい。
[0031] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記スキャナが、 前記 X軸および Y軸に直交する Z軸に沿って前記カンチレバーを微動させる Zスキヤ ナを備えて、カンチレバーを z軸に沿って確実に微動させることができるようにしても よい。
[0032] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記スキャナが、 前記 X軸および Y軸と、これら X軸および Y軸に直交する Z軸とに沿って前記カンチレ バーを微動させる XYZスキャナを備えて、カンチレバーを X軸、 Y軸および Z軸に沿 つて確実に微動させることができるようにしてもょ 、。
[0033] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構にお!、て、前記光源部が、低 コヒーレント光源にしてもよ 、。
[0034] これにより、干渉縞の発生を抑制することができ、高精度な測定を行うことができる。
[0035] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記光源部から照 射された光の光路上に、シリンドリカルレンズが設けて、光源部から照射された光が、 シリンドリカルレンズを透過するようにしてもよい。
[0036] これにより、非点収差を補正することができ、高精度な測定を行うことができる。
[0037] また、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記反射面から反 射され、前記受光部に至る前記光の光路上に、集光レンズが設けて、反射面から反 射した光が集光レンズを透過するようにしてもよ!、。
[0038] これにより、受光部に到達するスポットを、受光面内に収まるように適切な大きさに するとともに、光が進む媒質やカンチレバーの種類の違いにより、反射光がずれた場 合でも、受光可能な一定の領域に光を集光することができる。
[0039] さらに、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構において、前記プローブと 対向する位置に散乱板を配置し、前記プローブを有するカンチレバーの上方または 下方の任意の位置に対物レンズを配置し、前記光源部から照射させた光を散乱板に より散乱させて、前記対物レンズによりカンチレバーと散乱光のスポットを観察しなが ら、前記カンチレバーの反射面にスポットの位置合わせを行うようにしてもよい。
[0040] これにより、対物レンズの光軸に対して光源部からの光を斜め力 照射させた場合 でも、散乱光を観察することにより光のスポットを観察することができ、カンチレバーの 反射面にスポットの位置合わせを容易に行うことができる。
[0041] また、本発明は、上記の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構を備えた走査型プ ローブ顕微鏡であることを特徴とする。
[0042] この発明に係る走査型プローブ顕微鏡においては、上記請求項 1から請求項 16の いずれかの発明と同様の効果を奏することができる。
発明の効果
[0043] 本発明によれば、試料やカンチレバーの上方や下方に対物レンズや照明系を配置 しても、光源部力 の光の進行を遮らせることなぐその光をカンチレバーの反射面に 容易〖こ到達させることができる。
[0044] また、走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構を薄型に構成することができるため、 高 NAの対物レンズや照明系のコンデンサレンズを使用することが可能となり、分解 能が高く鮮明な光学顕微鏡像を得ることができる。これにより、走査型プローブ顕微 鏡と光学顕微鏡を組み合わせ、この光学顕微鏡によって、より高精度に被測定箇所 の位置決めを行うことができ、迅速かつ高精度に走査型プローブ顕微鏡像を測定す ることがでさる。
図面の簡単な説明
[0045] [図 1]本発明に係る走査型プローブ顕微鏡の第 1の実施例を示す図であって、(a)は 走査型プローブ顕微鏡の正面図、(b)は (a)において符号 Eによって示す領域の拡 大図である。
[図 2]図 1のステージ微動機構部を拡大して示す平面図である。
[図 3]図 2のステージ微動機構部を示す底面図である。
[図 4]図 1のプローブ微動機構部を拡大して示す平面図である。
[図 5]図 4のプローブ微動機構部に変位検出機構部が設けられた様子を示す平面図 である。
[図 6]図 4の変位検出機構部によって、反射面に光が入射する様子を示す説明図で ある。
[図 7]図 5の I I線矢視図である。
[図 8]図 5の変位検出機構部の光路を一部簡略ィ匕して直線上に展開した光路図であ る。
[図 9]カンチレバーの反射面への入射光線を X— Z平面に投影した光路図である。
[図 10] (a)散乱板の平面図である。
[0046] (b) (a)の M— M断面図である
[図 11]本発明に係る走査型プローブ顕微鏡の第 2の実施例を示す正面図である。 符号の説明
[0047] 1 走査型プローブ顕微鏡
10 対物レンズ
14 反射面
20 カンチレバー
20a 後端 (後端部)
21 プローブ
22 カンチレバーホルダー(支持部)
26 プローブ微動機構部 (XYスキャナ)
70 プローブ側貫通孔
109 ステージ側貫通孔
110 筒孔 (貫通孔)
112 変位検出機構部
114 SLD (光源部、低コヒーレント光源)
119 シリンドリカノレレンズ
121 フォトディテクタ (受光部)
122 第 1の反射部 (進行方向変更手段)
123 第 2の反射部 (進行方向変更手段)
126 補正ガラス (光路補正手段)
128 集光レンズ 140 散乱板
S 試料
発明を実施するための最良の形態
[0048] (実施例 1)
以下、本発明の第 1実施例における走査型プローブ顕微鏡について、図面を参照 して説明する。本実施例においては、カンチレバーを共振周波数付近で振動させな 力 試料に近づけ、振巾や位相の変化量により、プローブと試料間の距離を一定に 保ちながら走査する DFMモード(Dynamic Force Mode)による液中測定を行うものと する。
[0049] この走査型プローブ顕微鏡 1は、倒立顕微鏡と組み合わせたものであり、図 1 (a)お よび (b)に示すように、基台としての除振台 2に設置された本体部 3と、この本体部 3 の上方に設けられた測定部 4と、測定部 4の下方に設けられた倒立顕微鏡 8と、測定 部 4の上方に設けられた照明部 5とを備えている。
[0050] 倒立顕微鏡 8は、 XYステージ 31を介して除振台 2に載置されている。そして、倒立 顕微鏡 8の上端には、レボルバ 9が設けられており、このレボルバ 9に、それぞれ倍率 の異なる複数の対物レンズ 10が設けられている。そして、レボルバ 9を回すことにより 、複数の対物レンズ 10の配置が変更されるようになっており、複数の対物レンズ 10を 観察位置 Kに選択的に配置することができるようになつている。観察位置 Kとは、試 料 Sの下方であって試料 Sを観察するための位置をいう。
[0051] 本体部 3は、除振台 2から垂直に延びる支柱 12に支持された、平板状のベース 13 を備えて構成されるものである。ベース 13の中央部には、ベース開口部 15が形成さ れており、このベース開口部 15内に、試料 Sが載置されるステージ 16が設けられて いる。このステージ 16の中央にはステージ開口部 17が形成されている。
[0052] ステージ 16は、ステージ微動機構部 27により、 Z軸方向に沿って移動するようにな つている。なお、 Z軸とは、後述する反射面 14を通り、試料 Sの表面およびステージ 1 6に垂直に延びる軸をいい、後述する X軸、 Y軸に直交する軸をいう。また、 Z軸方向 とは、 Z軸の延びる方向をいい、走査型プローブ顕微鏡 1の高さ方向をいう。
[0053] ステージ微動機構部 27は、図 2および図 3に示すように、略長方形状に形成された 機構本体部 86と、この機構本体部 86から、機構本体部 86の厚さ方向(すなわち Z軸 方向)に交差する方向(すなわち X軸方向)に延出する延出部 87とを備えている。
[0054] 延出部 87には、上述のステージ 16が設けられている。
[0055] 機構本体部 86には、延出部 87の延出方向と反対方向に延びる本体固定部 91が 設けられている。本体固定部 91は、図 1に示すベース 13の所定の位置に固定され ており、これにより、機構本体部 86が片持ち支持されている。
[0056] また、機構本体部 86の内部には、空洞部 93が設けられている。空洞部 93の上内 壁部 94の X軸方向の両端のうち、本体固定部 91が設けられた方の端部には、第 1平 行パネ 101が設けられており、延出部 87が設けられた方の端部には、第 2平行パネ 102が設けられている。一方、下内壁部 97の X軸方向の両端のうち、延出部 87が設 けられた方の端部には、第 3平行パネ 103が、本体固定部 91が設けられた方の端部 には、第 4平行パネ 104が設けられている。また、第 2平行パネ 102の近傍には、上 内壁部 94から下方に向けて延びる下方壁部 95が設けられており、第 4平行パネ 104 の近傍には、下内壁部 97から上方に向けて延びる上方壁部 96が設けられている。 すなわち、下方壁部 95および上方壁部 96が、互いに反対方向に延ばされて対向し て配置されている。
[0057] そして、これら下方壁部 95と上方壁部 96との間に、 Z駆動部 85が設けられている。
Z駆動部 85は、後述する Y駆動部 51および X駆動部 52とは、物理的に分離して別 個に設けられたものであり、それぞれ独立して機能するものである。 Z駆動部 85は、 X 軸方向に向けられた積層型の Z側圧電素子 90からなるものである。そして、 Z側圧電 素子 90は、その一端が下方壁部 95に固定され、他端が上方壁部 96に固定されて いる。
[0058] このような構成のもと、 Z側圧電素子 90に電圧を印加すると、 Z側圧電素子 90が X 軸方向に伸縮するようになっている。 Z側圧電素子 90が伸びると、下方壁部 95およ び上方壁部 96が X軸方向外方に押圧され、上方壁部 96は固定端付近を中心に図 2 における時計方向に回転するとともに、下方壁部 95も固定端付近を中心に時計方 向に回転し、結果として、第 1から第 4の平行パネ 101 , 102, 103, 104に案内され て、延出部 87が Z軸方向に移動し、延出部 87に連結されたステージ 16が Z軸方向 に移動するようになって 、る。
[0059] なお、符号 108は静電容量センサを示すものであり、この静電容量センサ 108によ つて機構本体部 86の微動量を検出することにより、ステージ 16の Z軸方向の微動量 の変位を検出したり、検出された変位により、 Z側圧電素子 90に印加される電圧に対 して、ステージ 16を線形に移動させることができるようになつている。
[0060] さらに、図 1 (a)および (b)に示すように、ステージ 16の上面には、上述の測定部 4 が設置されている。測定部 4は、プローブ微動機構部 (XYスキャナ) 26を備えており 、このプローブ微動機構部 26には、クランク状のクランク固定部 30が設けられている 。そして、クランク固定部 30により、プローブ微動機構部 26は、その中心がステージ 開口部 17に一致するように設置されている。さらに、プローブ微動機構部 26は、図 4 に示すように、幅寸法の異なる矩形枠状の外フレーム部 48および内フレーム部 49を 備えており、これら外フレーム部 48および内フレーム部 49は、低熱膨張铸鉄によりフ ラット状に形成されている。また、外フレーム部 48と内フレーム部 49とは、 Y駆動部 5 1と X駆動部 52とを介して、互いに同心上に連結されており、外フレーム部 48および 内フレーム部 49の上面は面一にして配されている。 Y駆動部 51は、外フレーム部 48 に形成された X軸に沿って延びる Y側空洞部 57内に設置されており、 X駆動部 52は 、同様に Y軸に沿って延びる X側空洞部 60内に設置されている。
[0061] Y駆動部 51は、 X軸方向に向けられた積層型の Y側圧電素子 54を備えている。 Y 側圧電素子 54には、その周囲を取り囲むように、上面視して略ひし形の Y側変位拡 大機構部 55が設けられている。そして、 Y側変位拡大機構部 55は、 Y側連結部 56を 介して、内フレーム部 49に連結されている。
[0062] また、 X駆動部 52は、 Y軸方向に向けられた積層型の X側圧電素子 61を備えてい る。 X側圧電素子 61の周囲には、上記と同様に、略ひし形の X側変位拡大機構部 6 2が設けられており、 X側変位拡大機構部 62は、 X側連結部 63を介して、内フレーム 部 49に連結されている。
[0063] また、内フレーム部 49の四隅には、平行パネ 67が設置されている。内フレーム部 4 9の底面には、略矩形の基板部 68が設けられており、基板部 68は、 X軸と Y軸とを含 む XY平面に平行に設けられている。この基板部 68の下方には、後述するようにカン チレバーホルダー(支持部) 22に支持されたカンチレバー 20が設けられている。
[0064] このような構成のもと、 Y側圧電素子 54および X側圧電素子 61に電圧を印加するこ とにより、 Y側変位拡大機構部 55および X側変位拡大機構部 62が、それぞれ Y軸方 向、 X軸方向に拡大縮小し、これにより内フレーム部 49を Y軸、 X軸方向に微動させ て、基板部 68を介してカンチレバー 20を Y軸、 X軸方向に微動させるようになつてい る。
[0065] ここで、 Y軸とは、上面視してカンチレバー 20の長さ方向に延びる軸を 、 、、すな わち、カンチレバー 20を任意の水平面に投影した直線をいうものとする。そして、 Y 軸方向とは、 Y軸の延びる方向をいい、走査型プローブ顕微鏡 1の奥行方向をいう。
[0066] また、 X軸とは、反射面 14を通り、前記任意の水平面上において Y軸と直行する方 向に延びる軸をいうものとする。そして、 X軸方向とは、 X軸の延びる方向をいい、走 查型プローブ顕微鏡 1の幅方向をいう。
[0067] また、これら X軸と Y軸とによって区画された 4つの領域を、上面視して右上の領域 力 図 4における反時計回りに、それぞれ A, B, C, D領域と呼ぶこととする。すなわ ち、 X軸および Y軸を座標軸として、第 1象限を A領域、第 2象限を B領域、第 3象限 を C領域、第 4象限を D領域という。そして、カンチレバー 20の基端側には A、 B領域 が配され、先端側には C、 D領域が配されている。
[0068] また、符号 78, 81は静電容量センサを示し、符号 77, 80はターゲットを示すもので あり、これら静電容量センサ 78, 81によって内フレーム部 49の Y軸、 X軸方向の微動 量を検出することにより、内フレーム部 49を介してカンチレバー 20の Y軸、 X軸方向 の微動量の誤差を算出し、 Y側圧電素子 54、 X側圧電素子 61に印加する電圧に対 して、内フレーム部 49が線形に移動できるようになって 、る。
するようになっている。
[0069] また、カンチレバーホルダ 22の中央には、図 6に示すように、ガラスからなるガラス ホルダ 23が設けられている。このガラスホルダ 23は、試料 Sとガラスホルダ 23との間 に、液の粘性による膜を形成させて、これによつて液中測定時において、後述する変 位検出機構 112の光源部力 の光や、光源 40からの照明光の乱反射等を防止する ためのものである。カンチレバーホルダ 22には、 Y軸に沿って柱状に延びる支持部 材 19が設けられており、支持部材 19の先端には、この先端から下方に垂下する垂 下部材 18が設けられている。垂下部材 18の下端には、不図示のワイヤが設けられて いる。
[0070] カンチレバー 20は、ステージ開口部 17の上方に設けられている。長尺状のカンチ レバー 20の先端には、その下面側に、先鋭ィ匕されたプローブ 21が設けられており、 上面側には、光を反射させる反射面 14が設けられている。また、カンチレバー 20の 後端 (後端部) 20aは、ピエゾ素子 28を介してガラスホルダ 23に接着固定された支持 台 24に載置され、前述の垂下部材 18に設けられたワイヤにより支持台 24に固定さ れている。これにより、カンチレバー 20は、プローブ 21が設けられた先端側が自由端 となるように片持ち支持されて 、る。
[0071] このように構成されたカンチレバーホルダ 22において、ピエゾ素子 28に電圧を印 加することにより、 Z軸方向に沿って所定の周波数及び振幅でカンチレバー 20が振 動するようになっている。
[0072] また、プローブ微動機構部 26の近傍には、図 1 (a)および (b)に示すように、モータ 一 37によってカンチレバー 20を Z軸方向に粗動移動させるための Z粗動機構部 33 が設けられており、 Z粗動機構部 33のベース部材 34力 本体部 3のベース 13に固定 されている。この Z粗動機構部 33の上面には XYステージ 35が設けられており、この XYステージ 35の上面に、前記クランク固定部 30が固定されている。
[0073] さらに、プローブ微動機構部 26の上方には、上述の照明部 5が設けられている。照 明部 5は、照明光を発する光源 40と、この光源 40からの照明光を集光するためのコ ンデンサレンズ 41とを備えている。コンデンサレンズ 41は、倒立顕微鏡 8に連なるレ ンズ支持部 42によって、プローブ微動機構部 26の中心上方に配されて、プローブ微 動機構部 26に対して上下動可能に支持されている。
[0074] さらに、本実施例におけるプローブ微動機構部 26は、図 5に示すように、基板部 68 の上面に、カンチレバー 20の変位を検出する変位検出機構部 112が設けられて構 成されている。変位検出機構部 112は、低コヒーレント光源としての波長 830nmの近 赤外光の波長を持つ、スーパ一'ルミネッサンス 'ダイオード(以下、「SLD」という) 11 4を備えている。 SLD (光源部、低コヒーレント光源) 114は、基板部 68の四隅の角部 のうち、 D領域に配される角部の近傍に設置されている。そして、 SLD114を駆動す ると、 Y軸を挟んだ反対の領域、すなわち C領域に向けて、 X軸に沿って進行する低 コヒーレント光を照射するようになっている。 SLD114の近傍であって、 SLD114力 の光の光路上には、光学系 115が設置されている。光学系 115は、 SLD114に対向 して配置された集光用の非球面レンズ 117を備えている。そして、この非球面レンズ 117から、 D領域から C領域に向力う方向に、収差補正用のァクロマテックレンズ 118 、シリンドリカルレンズ 119が順番に配列されて!、る。
[0075] 光学系 115を構成するレンズ群 117, 118, 119は、 SLD114からの出射光をカン チレバー 20の反射面 14に結像させるようになって 、る。
[0076] シリンドリカルレンズ 119は、非点収差補正用に設けられたものであり、反射面 14へ の結像スポットの広がりを補正するようになって 、る。
[0077] また、前記四隅の角部のうち C領域に配される角部の近傍には、第 1の反射部 (進 行方向変更手段) 122が設けられている。第 1の反射部 122は、 SLD114および光 学系 115と X軸線に沿って配列されており、これにより SLD114力もの光力 光学系 115を透過して、第 1の反射部 122に到達するようになっている。さらに、第 1の反射 部 122は、その到達した光を反射させて、その進行方向を変更し、反射光を Y軸に 沿って進行させるようになつている。さらに、 C領域内における X軸の近傍には、図 5 および図 7に示す第 2の反射部 (進行方向変更手段) 123が設けられており、これら 第 1の反射部 122と第 2の反射部 123との間には、平板状の補正ガラス (光路補正手 段) 126が設けられている。すなわち、第 1の反射部 122、補正ガラス 126および第 2 の反射部 123は、 Y軸に沿って配列されている。
[0078] 補正ガラス 126は、ガラス支持部 127により光路上力も着脱可能に支持されており 、補正ガラス 126を所定の位置に取り付けると、第 1の反射部 122からの反射光が補 正ガラス 126を透過するようになっている。そして、この補正ガラス 126を取り付けたと きと、取り外したときとでは、補正ガラス 126による屈折の有無によって、光路長が変 わるようになっている。
[0079] ここで、液中測定を行うときと、大気中測定を行うときとでは、光路長が異なるように なる。なぜなら、反射面 14への入射光が培養液を透過することにより屈折するからで ある。本実施例においては、補正ガラス 126を透過させることにより、液中測定に適し た光路長になるように設定され、補正ガラス 126を取り外すと、大気中測定に適した 光路長〖こなるように設定されて 、る。
[0080] 第 2の反射部 123は、第 1の反射部 122からの反射光をさらに反射させて、進行方 向を変更し、その反射光を反射面 14に向けて照射するようになって 、る。
[0081] また、 D領域におけるカンチレバー 20の近傍であって、反射面 14からの反射光の 光路上には、その反射光を集光するための、例えば両凸レンズからなる集光レンズ 1
28と、例えば四分割されて構成されたフォトディテクタ (受光部) 121とが設けられて いる。
[0082] そして、上述した SLD114、光学系 115、第 1の反射部 122、補正ガラス 126、第 2 の反射部 123、反射面 14、集光レンズ 128およびフォトディテクタ 121は、 C領域お よび D領域にわたって、上面視して略環状に配置されて 、る。
[0083] このような構成のもと、図 5および図 6に示すように、反射面 14には、第 2の反射部 1 23からの反射光力 C領域の上方から、 X軸および Y軸に対して傾けられて入射し、 さら〖こ、 D領域の上方に向けて、 X軸および Y軸に対して傾けられて出射するようにな つている。
[0084] 例えば、本実施例においては、第 2の反射部 123の設置角度は、その反射面が、 Z 軸に対して 60° 、Y軸に対して 48° になるように設定されている。これにより、第 2の 反射部 123において反射した光は、 Ζ軸に対して 50° 、Χ軸に対して 15° に傾けら れて反射面 14に入射するようになっている。また、カンチレバー 20の設置角度は、 Υ 軸に対して 9° に設定されている。
[0085] なお、これらの角度は、上述の設定に限られたものではなぐ適宜変更可能である 。特に、反射面 14への入射光は、 X軸に対して 0° を超えて 45° 以下に設定するの が好ましい。
[0086] さらに、変位検出機構部 112は、フォトディテクタ 121を Υ軸、 Ζ軸方向に移動させる 受光側 ΥΖステージ 131と、 SLD114および光学系 115を Υ軸、 Ζ軸方向に移動させ る光源側 ΥΖステージ 132とを備えている。そして、受光側 ΥΖステージ 131は、レバ 一 133を備えており、このレバー 133を操作することにより、フォトディテクタ 121の Υ 軸、 z軸方向における位置を調整することができるようになつている。同様にして、光 源側 YZステージ 132により、 SLD114および光学系 115の Y軸、 Z軸方向における 位置を調整することができるようになって 、る。
[0087] また、本実施例における基板部 68の中央には、 Z軸方向に向けられたプローブ側 貫通孔 70が形成されている。そして、このプローブ側貫通孔 70に、図 1に示す光源 4
0からの照明光が通されるようになって 、る。
[0088] また、図 2に示すように、本実施例における延出部 87には、 Z軸方向に向けられた ステージ側貫通孔 109が形成されている。さらに、図 1に示す倒立顕微鏡 8に設けら れたフォーカシングダイヤル 8aを操作することにより、対物レンズ 10が上下動するよう になっており、ステージ側貫通孔 109を介して、対物レンズ 10により試料 Sを観察す ることができるようになって!/、る。
[0089] 次に、このように構成された本実施例における走査型プローブ顕微鏡 1の作用につ いて説明する。
[0090] まず、試料 Sを不図示の液中セルを介してステージ 16に載置する。そして、光源 40 をオンにし、試料 Sに向けて照明光を照射する。すると、その照明光は、プローブ側 貫通孔 70を通り、カンチレバーホルダ 22のガラスホルダ 23、試料 Sを順に透過して、 さらにステージ側開口部 17を通ることにより、観察位置 Kに配された対物レンズ 10に 到達する。これによつて、対物レンズ 10を介して、試料 Sの状態が観察される。このと き、レボルバ 9を回すと、はじめの対物レンズ 10が観察位置 Kから外れ、他の対物レ ンズ 10が観察位置 Kに配置される。これにより、適切な倍率の対物レンズ 10が選択 される。また、フォーカシングダイヤル 8aを操作すると、対物レンズ 10が上方に移動 し、対物レンズ 10が試料 Sに近接し、フォーカシングされる。
[0091] これによつて試料 Sの初期観察が行われる。この結果に応じて、詳細な被測定箇所 を特定し、走査型プローブ顕微鏡による詳細測定が行われる。このときの測定箇所は 、 XYステージ 31により、倒立顕微鏡 8を動力ゝして位置決めされる。
[0092] 詳細測定を行うには、まず補正ガラス 126を取り付けて、さらに試料 Sの表面とプロ ーブ 21の位置を、倒立顕微鏡 8の像を見ながら、 XYステージ 35により位置合わせを する。次に、 SLD114、光学系 115およびフォトディテクタ 121の位置を調整する。す なわち、図 5に示すように、 SLD114から照射した光 L力 反射面 14に確実に入射す るように、光源側 YZステージ 132で位置調整を行う。また、フォトディテクタ 121上に スポットがくるように、受光側 YZステージ 131によって位置調整を行う。それから、モ 一ター 37を駆動して、 Z粗動機構部 33により、カンチレバー 20を粗動移動させて、 カンチレバー 20を液中セルの培養液に浸漬させる。そして、プローブ 21を試料 Sの 表面近傍に位置させる。
[0093] ここで、図 5、図 6、図 8、図 9を参照しながら、光の進行状態を説明する。なお、図 8 は、第 1の反射部 122、第 2の反射部 123、ガラスホルダ 23、カンチレバー 20の周囲 の媒質を省略して、光路を直線上に展開したものである。したがって、実際の屈折の 状態は反映されていない。
[0094] SLD114を駆動すると、 SLD114から低コヒーレントな光 Lが照射され、この光 が C領域に向力つて X軸に沿って進行する。そして、光 Lは、非球面レンズ 117を透過 することによって集光させられた状態で、ァクロマテックレンズ 118を透過する。このァ クロマテックレンズ 118透過することによって収差補正がなされ、ァクロマテックレンズ 118を透過した光はシリンドリカルレンズ 119を透過する。このシリンドリカルレンズ 11 9を透過することにより、非点収差補正がなされる。
[0095] さらに、シリンドリカルレンズ 119を透過した光 Lは、第 1の反射部 122に到達する。
そして、その光 Lは反射して B領域に向力つて Y軸に沿って進行し、補正ガラス 126 を透過する。この補正ガラス 126を透過することにより、光 Lが屈折し光路長が変更さ れて、液中測定に適した光路長になる。
[0096] さらに、補正ガラス 126を透過した光 Lは、第 2の反射部 123に到達し、そこで反射 する。この反射光は、上述したように、 X軸、 Y軸および Z軸に対して所定の角度だけ 傾けられて C領域の上方から反射面 14に結像する。本実施例では反射面 14におけ る SLDのスポットサイズは直径約 10 mである。反射面 14に入射した光 Lは、そこで 反射して、再び拡がりながら D領域に向けて進行する。すなわち、 X軸、 Y軸および Z 軸に対して所定の角度だけ傾けられて D領域の上方に向けて進行する。反射面 14 力もの光 Lは、集光レンズ 128を透過することにより、フォトディテクタ 121に向かって 結像する。 [0097] このように、 SLD114から照射された光 Lは、 C領域および D領域にわたって、上面 視して略環状に進行する。
[0098] ここでカンチレバー 20の種類や、カンチレバーホルダ 22への取付誤差などにより 反射面 14の位置が変わる。また、ガラスホルダ 23とサンプル S間の媒質 (液体や空 気)によって光が屈折し、反射面 14への入射角が変わり、 XY平面内で結像位置の ずれが生じる。また、光軸方向の結像位置も変わる。このとき、光源側 YZステージ 13 2で SLD114と光学系 115を動力ゝすこと〖こより、結像位置を XY平面内で動かすこと ができ、反射面 14へ SLD114のスポットを結像させることができる。また、補正ガラス 126により光路長を変えることができ、異なる媒質間での光軸方向の結像位置の補 正も可能である。
[0099] ここで、 SLD114から照射した光 Lを、カンチレバー 20の反射面 14に位置合わせ する場合には、倒立顕微鏡に設けられた対物レンズ 10により、カンチレバー 20と光 L のスポットを同一の視野内で観察しながら位置を調整する。位置合わせ前は、光 の スポットはカンチレバー 20の反射面 14から大きくずれているため、ある程度の視野面 積を確保できた方が位置合わせを行いやすい。このため、本実施例では、倍率 4倍 の対物レンズで観察を行った。
[0100] ここで、カンチレバー 20の反射面 14への入射光線を X—Z平面に投影した光路図 を図 9に示す。この図からわ力るように、対物レンズ 10の立体角に対して、入射光は、 暗視野照明の状態で入射するため、対物レンズ 10に光が入らず、スポットを観察す ることが困難である。そこで、本発明では、あら力じめ、 Z粗動機構部 33により、カンチ レバー 20と試料 Sの間にすきまを設け、この間に散乱板 140を挿入し、散乱板 140 上で散乱された光のスポットと、カンチレバー 20を対物レンズ 10で観察し、スポットを 反射面 14に位置合わせを行った後、散乱板 140を引き抜いて Z粗動機構部 33によ り試料 Sにプローブ 21を近接させるようにした。散乱板 140による位置合わせの際に は、光路のずれを防ぐため、散乱板 140とガラスホルダ 23の間に培養液を入れた。 散舌 L板 140は、図 10に示すようにガラスの基板 141に厚さ 20nmのクロムの膜 142を 2 mピッチで格子上に設けたものを使用した。このような散乱板 140を用いると、ク ロムの膜がっ ヽて ヽな 、部分力もガラス基板 141を透過してカンチレバー 20が観察 でき、またクロム膜 142の部分でスポットが散乱されて散乱光が対物レンズ 10により 集光され、スポット観察も可能となる。
[0101] SLD114は波長 830nmの近赤外光である。近赤外光を使うことでバイオサンプルの 測定時などに蛍光が励起されづら ヽと 、つた利点がある。対物レンズ 10でスポットを 観察する場合には、安全性を考慮して CCDカメラ(図示せず)により行うが、 CCD力 メラは赤外にも感度を持っため、可視光以外の光でも観察することが可能である。
[0102] なお、散乱板 140は、対物レンズ 10と試料 Sの下面の間に配置してもよい。また、ス ポットの観察は、試料 Sの直上に配置した反射型の顕微鏡で行ってもょ 、。
[0103] また、反射面 14からの反射光の反射角は、前述の入射角の違いにより異なり、また 、媒質の違いにより反射光の屈折角も変わる。したがって、反射光の光路は一義的 には定まらない。また、反射面 14に結像されたあと光は再び広がる。
[0104] このような条件で、フォトディテクタ 121で反射光のスポットの検出を行う場合には、 任意の方向に進行する光線上にフォトディテクタ 121を位置合わせするために、広 ヽ 領域で位置合わせ可能な受光側 YZステージ 131を準備する必要があり、また、広が る光線をフォトディテクタ 121上の受光面内に収めるためには大きな面積を持つフォ トディテクタを準備する必要がある。このような構成とした場合には装置が大型化し、 走査型プローブ顕微鏡の測定精度が低下する。また、位置合わせも非常に困難とな る。
[0105] そこで、反射面 14力もフォトディテクタ 121面に至る光路中の適切な位置に集光レ ンズ 128を配置することにより、フォトディテクタ 121に向力つて光が結像し、フォトディ テクタ 121面内に収まるような適切なスポットサイズを選択できるとともに、集光レンズ 128により、光線を屈折させて特定の領域内にスポットを集めることができる。このよう に構成することでフォトディテクタ 121や受光側 YZステージ 131を小型化でき、フォト ディテクタ 121の位置合わせも容易に行うことが可能となる。
ここで、カンチレバー 20が Z軸方向に橈んだ場合、フォトディテクタ 121面上のスポッ トは円弧の軌跡を描くが、橈み量が微小な場合には、概ね Y軸に対して 15度傾いた 方向に線形に移動する。また、摩擦力顕微鏡などで使用する場合には、カンチレバ 一 20の長軸周りのカンチレバーのねじれを検出するが、カンチレバーがねじれた場 合には、 Y—Z平面で橈みの軌跡と概ね直交する方向に移動する。
[0106] この状態から、ピエゾ素子 28に電圧を印加して、カンチレバー 20を介してプローブ 21を、 Ζ軸に沿って所定の周波数および振幅で振動させる。そして、図 4に示す Υ側 圧電素子 54および X側圧電素子 61に電圧を印加する。すると、 Υ側圧電素子 54お よび X側圧電素子 61が伸縮し、 Υ側変位拡大機構部 55および X側変位拡大機構部 62を介して、内フレーム部 49が ΧΥ軸方向に微動する。これにより、プローブ 21が試 料 S上を所定の走査速度でラスタースキャンする。
[0107] このとき、内フレーム部 49が X軸、 Υ軸方向に微動すると、静電容量センサ 78, 81 によって、その X軸、 Υ軸方向の微動量が検出されて、 X軸、 Υ軸方向の誤差が補正 される。このように、 X軸、 Υ軸方向の微動量を補正することによって、 Υ側圧電素子 5 4や X側圧電素子 61のヒステリシスやクリープに影響されず、 X軸、 Υ軸方向に線形 に動作する。
[0108] 走査の際、試料 Sの凹凸に応じて、プローブ 21と試料 Sの表面との距離が変わると 、原子間力や間欠的な接触力によりプローブ 21が斥力または引力を受けるので、力 ンチレバー 20の振動状態が変化し、振巾や位相が変わる。フォトディテクタ 121とし て受光面を四分割したディテクタを用いた場合、この振巾や位相の変化は、フォトデ ィテクタ 121の異なる 2対の分割面の出力差 (DIF信号と呼ぶ)として検出される。こ の DIF信号は、不図示の Ζ電圧フィードバック回路に入力される。そして、 Ζ電圧フィ ードバック回路は、 DIF信号により振巾や位相が同じになるように、図 2に示す Ζ側圧 電素子 90に電圧を印加する。
[0109] Ζ側圧電素子 90は、電圧が印加されることにより高速で伸縮を繰り返す。 Ζ側圧電 素子 90が伸縮すると、延出部 87を介してステージ 16が非常に高い周波数で Ζ軸方 向に移動し、ステージ 16上の試料 Sが Ζ軸方向に移動する。これにより、上記走査の 際、プローブ 21と試料 Sの表面との間の距離が常に一定に保たれる。
[0110] また、ステージ 16が Ζ軸方向に移動すると、静電容量センサ 108により、機構本体 部 86の微動量が検出され、この検出結果に応じて、ステージ 16の Ζ軸方向の微動量 の誤差が算出され、 Ζ軸方向の誤差が補正される。これにより、ステージ 16が Ζ軸方 向に線形に動作させることができる。 [0111] なお、静電容量センサ 108により微動量を検出し、それを走査型プローブ顕微鏡の 高さ情報として表示させてもよい。この場合、より高速走査が可能となる。
[0112] このようにして、 X側、 Y側、 Z側圧電素子 54、 61、 90に印加した電圧を不図示の 制御部に入力し、画像ィ匕することで試料 Sの表面の形状像を測定することができる。 また、プローブ 21と試料 Sとの間に働くいろいろな力や物理作用を測定することで、 粘弾性、試料 Sの表面電位分布、試料 Sの表面の漏れ磁界分布、近接場光学像等 の各種の物性情報の測定が行われる。
[0113] 以上より、本実施例における走査型プローブ顕微鏡 1によれば、 C領域の上方から 、 X軸、 Y軸および Z軸に対して傾けて、反射面 14に光 Lを入射させることにより、カン チレバー 20の先端側上方の開放されたスペースを有効利用することができ、カンチ レバー 20の上方にコンデンサレンズ 41を配置しても、光 Lの進行を遮らせることなぐ 光 Lを反射面 14に容易に入射させることができる。そのため、倒立顕微鏡 8と組み合 わせて、迅速かつ高精度な測定を行うことができる。
[0114] また、 C領域から反射面 14に入射した光 Lを、 X軸、 Y軸および Z軸に対して傾けて D領域に向けて反射させることにより、その反射した光 Lの進行を遮らせることなぐフ オトディテクタ 121に容易〖こ到達させることができる。
[0115] さらに、光源部 114に半導体レーザを使用した場合、カンチレバー 20の反射面 14 やサンプル Sの表面からの戻り光によりノイズが発生する力 この戻り光が抑制されて 、戻り光ノイズが少なくなる。このため、光源力もの光量を大きくすることができ、測定 感度も向上する。
[0116] また、第 1の反射部 122および第 2の反射部 123を基板部 68に設けて、 SLD114 力もの光 Lが反射面 14に向力 ように進行方向を変更させていることから、基板部 68 上のスペースを有効利用することができ、小型化を容易にすることができる。
[0117] さらに、 SLD114や第 1の反射部 122、第 2の反射部 123、フォトディテクタ 121な どを、上面視して略環状に配置しているため、装置を薄く構成でき、その環状の中央 の上方に、コンデンサレンズ 41を配置することができ、基板部 68上のスペースをより 有効的に利用することができる。
[0118] また、補正ガラス 126を着脱可能に設けていることから、補正ガラス 126を着脱する ことにより、液中測定に必要な光路長と、大気中測定に必要な光路長とのズレを迅速 かつ容易に補正することができる。これにより、光軸方向の移動機構を設けたり、媒 質によりカンチレバーホルダ 22を交換したりする必要がなぐ装置を小型化でき、操 作'性ち向上させることができる。
[0119] また、プローブ微動機構部 26によって、プローブ 21を X軸、 Y軸方向に確実に移 動させることができ、プローブ 21を試料 Sに精度よく確実に走査させることができる。
[0120] さらに、プローブ微動機構部 26にプローブ側貫通孔 70を設け、このプローブ側貫 通孔 70に照明光を通していることから、照明光の進行が変位検出機構 112によって 邪魔されることなぐ高精度に測定することができる。また、変位検出機構 112を薄型 に構成できるため、 NAの大きなコンデンサレンズが使用でき、倒立顕微鏡 8の像が より高分解能で明瞭となる。
[0121] また、ステージ微動機構部 27にステージ開口部 17を設けていることから、対物レン ズ 10を試料 Sに一層近接させることができ、高 NAの対物レンズを設けて高精度な測 定を行うことができる。
[0122] また、光源部として SLD114を設け、低コヒーレント光を照射させることから、カンチ レバー 20の反射面 14からの反射光と、サンプル Sの表面力 の反射光とが干渉する ことによって発生する干渉縞を抑制することができ、高精度な測定を行うことができる
[0123] さらに、シリンドリカルレンズ 119を設けたことから、ガラスホルダ 23を透過させて斜 め力も光を入射した場合でも、光学系の非点収差を補正することができ、小型で円形 に近 、スポット形状が得られ、一層高精度な測定を行うことができる。
[0124] また、集光レンズ 128を設けたことから、フォトディテクタ 121に到達するスポットを、 フォトディテクタ 121面内に収まるような適切な大きさにでき、狭い領域に集めることが できる。
(実施例 2)
次に、本発明の第 2の実施例について説明する。
[0125] 図 11は、本発明の第 2の実施例を示したものである。
[0126] 図 11において、図 1から図 10に記載の構成要素と同一部分については同一符号 を付し、その説明を省略する。
[0127] この実施例と上記第 1の実施例とは基本的構成は同一であり、以下の点において 異なるものとなっている。
[0128] すなわち、本実施例における走査型プローブ顕微鏡 1は、正立顕微鏡 8と組み合わ せたものであり、正立顕微鏡 8には光源 40が設けられ、本体部 3の光源 40の上方に はコンデンサレンズ 41が設けられている。また、コンデンサレンズ 41の上方にはステ ージ微動機構部 27が設けられて 、る。ステージ微動機構部 27は Z側圧電素子 90か らなり、 Z側圧電素子 90は Z軸方向に向けて設置されている。 Z側圧電素子 90には、 Z軸方向に向けられた筒孔(貫通孔) 110が形成されており、この筒孔 110に光源 40 力 の照明光が通されるようになって 、る。
[0129] また、プローブ微動機構部 26の上方には、観察位置 Kに対物レンズ 10が設けられ ている。ここでの観察位置 Kとは、プローブ微動機構部 26の上方から、プローブ 21ま たはカンチレバー 20を観察する位置をいう。対物レンズ 10は、観察位置 Kにおいて 上下動するようになっており、下方に移動させると、プローブ側貫通孔 70に挿入され るようになっている。
[0130] このような構成のもと、光源 40からの照明光は、筒孔 110を通って試料 Sを透過す る。また、対物レンズ 10を下方に移動させて、プローブ側貫通孔 70に挿入すると、対 物レンズ 10はカンチレバー 20または試料 Sに近接する。
[0131] 以上より、ステージ微動機構部 27には筒孔 110が設けられ、この筒孔 110に照明 光を通していることから、照明光の進行を邪魔することなぐ高精度に測定することが できる。
また、 SLDのスポットをカンチレバーの反射面に位置合わせする場合にも、第一の実 施例と同じぐカンチレバーとサンプルの間に散乱板を配置し、正立顕微鏡の対物レ ンズ 10で観察することにより行うことが可能となる。この場合の散乱板は半導体ゥェ ハなど反射性の基板上に散乱体を構成することが望ましい。
[0132] また、この対物レンズ 10を、プローブ側貫通孔 70に挿入することができることから、 カンチレバー 20や試料 Sに対物レンズ 10を一層近接させることができ、高 NAの対 物レンズを設けて高精度な測定を行うことができる。 [0133] なお、上記第 1および第 2の実施例では、 XYスキャナとして、カンチレバー 20を X 軸、 Y軸方向に微動させるプローブ微動機構部 26を設けたが、これに限ることはなく 、プローブ微動機構部 26を Zスキャナとして、カンチレバー 20を Z軸方向に微動させ てもよい。この場合、 XYスキャナとしてのステージ微動機構部 27によって、ステージ 16を X軸、 Y軸方向に移動させる。
[0134] また、プローブ微動機構部 26とステージ微動機構部 27とを設けたが、これに限るこ とはなぐ XYZスキャナとして 3次元ァクチユエータなどを設けるようにしてもよい。この とき、 3次元ァクチユエータは、プローブ側、サンプル側のいずれに配置してもよい。
[0135] また、上記実施例では、走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構は、カンチレバー または試料を微動させるスキャナと一体構成とした力 スキャナとは独立に構成しても よぐまた、 XYZのスキャナの一部または全部を備えていない場合も本発明に含まれ る。
[0136] また、カンチレバー 20は長尺状のものに限定されず、上面視して三角形状のもの や、断面が円形で光ファイバ一の先端を先鋭ィ匕して湾曲させた近接場顕微鏡用の ベントプローブなどでもよ 、。
[0137] また、 DFMモードによる観察とした力 これに限ることはなぐコンタクト AFMなどの 種々のモードに適用可能である。
さらに、顕微鏡として透過照明法を利用した倒立顕微鏡と正立顕微鏡の他、反射照 明法による顕微鏡も本発明に含まれる。
さらに、近接場顕微鏡にも適用することができる。近接場顕微鏡に適用すると、高 N Aの対物レンズを、プローブ先端が観察可能な位置に任意の角度で対物レンズを配 置することができるため、近接場光の励起や集光効率を向上させることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 試料の表面に近接させるプローブが設けられたカンチレバーを支持する支持部と、 前記カンチレバーに設けられた反射面に光を照射する光源部と、該光源部から照射 されて前記反射面によって反射された光を受光する受光部とを含み、該受光部の受 光位置によってカンチレバーの変位を検出する走査型プローブ顕微鏡用変位検出 機構において、
前記カンチレバーの後端部が、前記支持部に固定され、
上面視して前記カンチレバーの長さ方向に延びる Y軸と、前記反射面を通り前記 Y 軸と直交する方向に延びる X軸とによって区画される領域のうち、前記カンチレバー の先端側の領域の上方から、前記 X軸および Y軸に対して傾けて前記反射面に前記 光を入射させることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[2] 前記反射面に入射した光を、前記 Y軸を挟んで反対側の領域の上方に、前記 X軸 および Y軸に対して傾けて反射させることを特徴とする請求項 1に記載の走査型プロ ーブ顕微鏡用変位検出機構。
[3] 前記 X軸と Y軸とを含む XY平面に平行な平面上に、前記光源部から照射された光 の進行方向を変更する進行方向変更手段が設けられていることを特徴とする請求項 1または請求項 2に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[4] 前記進行方向変更手段が、前記光源部から照射された光の光路上に複数設けら れており、これら複数の進行方向変更手段と前記光源部と前記受光部とが、前記力 ンチレバーの先端側の領域にぉ 、て、上面視して略環状に配置されて 、ることを特 徴とする請求項 3に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[5] 前記光源部から照射された光の光路上に、光路長のズレを補正する光路長補正手 段を備えることを特徴とする請求項 3または請求項 4に記載の走査型プローブ顕微鏡 用変位検出機構。
[6] 前記プローブ、カンチレバーまたは試料の少なくとも一つが観察可能な任意の位置 に対物レンズを配置したことを特徴とする請求項 1または請求項 5に記載の走査型プ ローブ顕微鏡用変位検出機構。
[7] 前記プローブ、カンチレバーまたは試料の少なくとも一つに任意の方向から照明光 を照射することを特徴とする請求項 1または請求項 6に記載の走査型プローブ顕微 鏡用変位検出機構。
[8] 前記カンチレバーまたは試料を微動させるスキャナを備えることを特徴とする請求 項 1から請求項 8のいずれか一項に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構
[9] 前記スキャナが、前記 X軸および Y軸に直交する Z軸の延在する方向に向けられた 貫通孔を備えることを特徴とする請求項 8に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検 出機構。
[10] 前記貫通孔に、照明光が通されることを特徴とする請求項 9に記載の走査型プロ一 ブ顕微鏡用変位検出機構。
[11] 前記貫通孔を介して、前記プローブ、カンチレバーまたは試料のいずれか一つが 観察可能な任意の位置に対物レンズを配置したことを特徴とする請求項 9または請 求項 10に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
前記スキャナが、前記 X軸および Y軸と、これら X軸および Y軸に直交する Z軸と〖こ 沿って前記カンチレバーを微動させる XYZスキャナを備えることを特徴とする請求項
8から請求項 11のいずれか一項に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[12] 前記光源部が、低コヒーレント光源であることを特徴とする請求項 1から請求項 14の いずれか一項に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[13] 前記光源部から照射された光の光路上に、シリンドリカルレンズが設けられているこ とを特徴とする請求項 1から請求項 15のいずれか一項に記載の走査型プローブ顕 微鏡用変位検出機構。
[14] 前記反射面から反射され、前記受光部に至る前記光の光路上に、集光レンズが設 けられていることを特徴とする請求項 1から請求項 16のいずれか一項に記載の走査 型プローブ顕微鏡用変位検出機構。
[15] 前記プローブと対向する位置に散乱板を配置し、前記プローブを有するカンチレバ 一の上方または下方の任意の位置に対物レンズを配置し、前記光源部から照射させ た光を散乱板により散乱させて、前記対物レンズによりカンチレバーと散乱光のスポ ットを観察しながら、前記カンチレバーの反射面にスポットの位置合わせを行うことを 特徴とする請求項 1から請求項 17のいずれか一項に記載の走査型プローブ顕微鏡 用変位検出機構。
請求項 1から請求項 18のいずれか一項に記載の走査型プローブ顕微鏡用変位検 出機構を含むことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006281437A (ja) * 2005-03-08 2006-10-19 Sii Nanotechnology Inc 走査型プローブによる加工方法
JP2008209127A (ja) * 2007-02-23 2008-09-11 Sii Nanotechnology Inc 走査型プローブ顕微鏡
KR20160115672A (ko) 2015-03-25 2016-10-06 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 주사 프로브 현미경

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5806457B2 (ja) * 2010-09-15 2015-11-10 株式会社島津製作所 表面分析装置
JP6588278B2 (ja) * 2015-09-01 2019-10-09 株式会社日立ハイテクサイエンス 走査プローブ顕微鏡および走査プローブ顕微鏡の光軸調整方法
DE102017119093A1 (de) * 2017-08-21 2019-02-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Immersionsmikroskopie
CN114184809B (zh) * 2020-09-14 2024-01-23 长春理工大学 一种原子力探针测量单个搏动心肌细胞三维动态形貌的方法及装置

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04328718A (ja) * 1991-04-30 1992-11-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 高分解能光学顕微鏡および照射スポット光作成用マスク
JPH05149732A (ja) * 1991-11-29 1993-06-15 Hitachi Maxell Ltd 表面形状計測方法および表面形状計測装置
JPH05157554A (ja) * 1991-12-09 1993-06-22 Olympus Optical Co Ltd 光学顕微鏡組込型プローブ顕微鏡
JPH07181029A (ja) * 1993-12-24 1995-07-18 Nikon Corp 原子間力顕微鏡
JPH08220114A (ja) * 1995-02-09 1996-08-30 Hitachi Constr Mach Co Ltd 走査型力顕微鏡の変位検出装置
JPH08278317A (ja) * 1995-04-10 1996-10-22 Nikon Corp 原子間力顕微鏡
JPH1090610A (ja) * 1996-09-17 1998-04-10 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
JPH10267945A (ja) * 1997-03-21 1998-10-09 Olympus Optical Co Ltd 走査型光顕微鏡
JPH11271341A (ja) * 1998-03-23 1999-10-08 Olympus Optical Co Ltd カンチレバー変位検出装置
JP2003114182A (ja) * 2001-06-19 2003-04-18 Japan Science & Technology Corp カンチレバーアレイ、その製造方法及びそれを用いた走査型プローブ顕微鏡、案内・回転機構の摺動装置、センサ、ホモダインレーザ干渉計、試料の光励振機能を有するレーザドップラー干渉計ならびにカンチレバーの励振方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5656769A (en) 1994-08-11 1997-08-12 Nikon Corporation Scanning probe microscope
US5861550A (en) * 1997-10-14 1999-01-19 Raymax Technology, Incorporated Scanning force microscope
JP3563247B2 (ja) * 1997-10-31 2004-09-08 日立建機株式会社 走査型プローブ顕微鏡
US6246652B1 (en) * 1997-12-05 2001-06-12 Hitachi, Ltd. Device using sensor for small rotation angle
JP2000346784A (ja) 1999-06-04 2000-12-15 Shimadzu Corp 粘弾性分布測定方法
US6642517B1 (en) * 2000-01-25 2003-11-04 Veeco Instruments, Inc. Method and apparatus for atomic force microscopy
JP3998931B2 (ja) * 2001-08-02 2007-10-31 日立建機ファインテック株式会社 走査型プローブ顕微鏡
EP1430486B1 (de) * 2001-09-24 2007-10-31 JPK Instruments AG Verfahren und vorrichtung zum messen einer probe mit hilfe eines rastersondenmikroskops

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04328718A (ja) * 1991-04-30 1992-11-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 高分解能光学顕微鏡および照射スポット光作成用マスク
JPH05149732A (ja) * 1991-11-29 1993-06-15 Hitachi Maxell Ltd 表面形状計測方法および表面形状計測装置
JPH05157554A (ja) * 1991-12-09 1993-06-22 Olympus Optical Co Ltd 光学顕微鏡組込型プローブ顕微鏡
JPH07181029A (ja) * 1993-12-24 1995-07-18 Nikon Corp 原子間力顕微鏡
JPH08220114A (ja) * 1995-02-09 1996-08-30 Hitachi Constr Mach Co Ltd 走査型力顕微鏡の変位検出装置
JPH08278317A (ja) * 1995-04-10 1996-10-22 Nikon Corp 原子間力顕微鏡
JPH1090610A (ja) * 1996-09-17 1998-04-10 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
JPH10267945A (ja) * 1997-03-21 1998-10-09 Olympus Optical Co Ltd 走査型光顕微鏡
JPH11271341A (ja) * 1998-03-23 1999-10-08 Olympus Optical Co Ltd カンチレバー変位検出装置
JP2003114182A (ja) * 2001-06-19 2003-04-18 Japan Science & Technology Corp カンチレバーアレイ、その製造方法及びそれを用いた走査型プローブ顕微鏡、案内・回転機構の摺動装置、センサ、ホモダインレーザ干渉計、試料の光励振機能を有するレーザドップラー干渉計ならびにカンチレバーの励振方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006281437A (ja) * 2005-03-08 2006-10-19 Sii Nanotechnology Inc 走査型プローブによる加工方法
JP2008209127A (ja) * 2007-02-23 2008-09-11 Sii Nanotechnology Inc 走査型プローブ顕微鏡
KR20160115672A (ko) 2015-03-25 2016-10-06 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 주사 프로브 현미경
US9678104B2 (en) 2015-03-25 2017-06-13 Hitachi High-Tech Science Corporation Scanning probe microscope

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