WO2006004119A1 - 光記録媒体 - Google Patents

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recording medium
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Shigeyuki Furomoto
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Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium capable of high-speed recording and having good recording reproduction characteristics.
  • optical recording media such as CD-R, CD-RW, and MO can store a large amount of information, and there are also media that can be easily accessed at random, such as DVD-RAM. It has been developed and widely recognized as an external storage device in information processing devices such as computers.
  • a typical CD-R having an organic dye-containing recording layer has a dye recording layer and a reflective layer in this order on a transparent disk substrate, and a laminate having a protective layer covering these recording layers and the reflective layer.
  • the structure is such that recording and reproduction are performed with a laser beam through the substrate.
  • a multilayer optical recording medium in which a plurality of recording layers are provided on one medium has been developed.
  • a two-layer type optical recording medium having two dye recording layers on an intermediate layer made of an ultraviolet curable resin is reported (see Patent Document 1).
  • Such a two-layer optical recording medium is a photo-curable resin layer formed by forming two disk substrates on which a 2P (Photo Polymerization) method using a transparent stamper and a recording layer and a reflective layer are laminated.
  • the method of sticking through is known.
  • a photocurable resin material is applied on a first substrate provided with a first recording layer and a first reflective layer, and a transparent stamper having an uneven shape is formed on the coated surface.
  • the photocurable resin raw material is cured, and then the transparent stamper is peeled off to transfer the irregularities to the surface of the photocurable resin, and the second recording layer and the second recording layer are further formed on the irregular surface.
  • the reflective layer is sequentially formed, and the second substrate is finally bonded.
  • recording / reproducing light incident from the first substrate side is used to record / reproduce optical information.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-311384 (see columns (0008) to (0019))
  • an optical recording medium provided with a recording layer containing an organic dye has a problem that the occurrence of crosstalk in high-speed recording applications is further suppressed.
  • the dye that has absorbed the condensed recording laser beam is usually decomposed, the thickness of the portion decreases, the pressure increases, and the recording layer is exposed to a high temperature.
  • the periphery is deformed to form a recording part.
  • the deformed recording portion expands to the adjacent track portion, and when recording is performed on a plurality of tracks, the crosstalk tends to increase, resulting in a phenomenon that good jitter is not obtained.
  • MT (%) the jitter when information is recorded on a plurality of tracks and the signals recorded on the adjacent tracks are reproduced.
  • ST (%) the jitter obtained by reproducing the portion recorded on only one track when there is no recording on the adjacent track.
  • MT (%) includes the effects of crosstalk, while ST (%) does not include the effects of crosstalk.
  • the recording pulse is shortened in the case of high-speed recording, it is necessary to decompose the dye using a recording laser beam having a higher performance than in the case of low-speed recording.
  • the recording layer is exposed to a higher temperature than in the case of low speed recording, the increase in crosstalk tends to be remarkable.
  • Such crosstalk occurs particularly in the second layer on the back side from the incident surface of the recording / reproducing light in the two-layer optical recording medium formed by the method of adhering two disc substrates. It is prominent in the eye recording layer.
  • the method of attaching two disc substrates The second recording layer of the two-layer type optical recording medium formed by the above is provided on a disc substrate having a reverse laminate in which a reflective layer and a recording layer are laminated on a substrate.
  • a reverse laminate when optical information is recorded in the inter-groove portion of the substrate, it is necessary to increase the thickness of the recording layer in the inter-groove portion in order to ensure the recording modulation degree.
  • the adjacent track of the recording portion is a groove portion of the substrate
  • the recording layer film thickness tends to be thicker than the portion between the grooves. For this reason, as the recording layer film thickness in the groove portion increases, the recording mark spreads laterally, and crosstalk tends to increase. Such a difference in recording film thickness between the groove and the groove is likely to occur when an organic dye solution is applied.
  • the second substrate provided on the back side of the incident surface force of recording / reproducing light in the two-layer optical recording medium has a conventional guide groove depth in order to ensure the reflectance of the recording / reproducing light. It is set shallower than. For this reason, the physical barrier effect of the guide groove is reduced, and excessive deformation occurs due to flow deformation of the substrate grease during recording, and crosstalk is likely to increase.
  • the present invention has been made to solve such a problem.
  • an object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of obtaining good recording / reproducing characteristics in high-speed recording applications.
  • the product (EX t) of the elastic modulus (E) and thickness (t) of the transparent resin layer in contact with the reverse laminate is specified. Adjust to the range! /
  • the substrate comprises a reverse laminate having a reflective layer and a recording layer in this order, and a transparent resin layer provided on the recording layer side of the reverse laminate,
  • An optical recording medium is provided in which the product 1 of the thickness (t) and the inertia ratio at 25 ⁇ 5 is equal to or higher than 2.0 ⁇ 10 4 ⁇ & ⁇ / ⁇ ⁇ .
  • the product (E x t) of the thickness (t) of the transparent resin layer and the elastic modulus ( ⁇ ) at 25 ⁇ 5 ° C is 30
  • the elastic modulus ( ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ) at 25 ⁇ 5 ° C of the resin constituting the transparent resin layer is 3.0 X 10 3 M
  • the recording layer constituting the reverse laminate is
  • the organic dye is preferably contained.
  • 2 as shown in Figure 1 below.
  • cross-talk is reduced when recording is performed on a reverse laminate comprising a substrate, a reflective layer, and a recording layer, and MT (%) is improved.
  • MT MT (%) is improved.
  • other layers may be provided as appropriate between the substrate and the reflective layer, or between the reflective layer and the recording layer.
  • the optical recording medium to which the present invention is applied it is preferable to further provide an intermediate layer between the recording layer constituting the reverse laminate and the transparent resin layer in contact therewith.
  • the intermediate layer it is possible to prevent the component exuding from the transparent resin layer from contaminating or dissolving the recording layer in contact with the transparent resin layer.
  • the second reflective layer, the second recording layer, and the transparent substrate on the opposite side of the transparent resin layer in contact with the reverse laminate to the reverse laminate side can be developed in a multilayer optical recording medium.
  • the present invention relates to a recording layer on which optical information is recorded and reproduced by light irradiation, a transparent resin layer provided on the light incident surface side of the recording layer, and a light incident surface of the recording layer.
  • the product (EX t) of the thickness (t) of the transparent resin layer and the elastic modulus (E) at 25 ⁇ 5 ° C is 2.0 ⁇ 10 4 ⁇ & ⁇ / ⁇ ⁇ or more can be grasped as an optical recording medium. That is, for an optical recording medium having a configuration in which a transparent resin layer having a specific value of Xt) is provided on the light incident surface side of the recording layer having a reflective layer on the side opposite to the light incident surface.
  • Such an improvement in performance is not limited to the film surface incident type optical recording medium, but is remarkable in the recording layer provided on the back side from the light incident surface in the multilayer type optical recording medium.
  • the transparent resin layer is preferably made of a transparent resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. It is considered that by forming a transparent resin layer using such a transparent resin, the hardness of the transparent resin layer is increased and jitter is improved.
  • an optical recording medium having a substrate, a reflective layer, a recording layer, and a transparent resin layer in this order, and the reflective layer is mainly composed of silver (Ag).
  • An optical recording medium comprising a metal and having a film thickness of 30 nm to 80 nm is provided.
  • the optical recording medium to which the present invention is applied has a reverse laminated structure having a substrate, a reflective layer, a recording layer, and a transparent resin layer in this order, and is a reflective layer containing a metal mainly composed of silver. film
  • the thickness is 30 nm or more and 80 nm or less, a part of the light beam incident on the reflection layer from the recording layer side can be transmitted. In this case, energy for recording information on the recording layer is diffused.
  • the recording mark protrudes to an adjacent track (crosstalk). ) Phenomenon is suppressed, and as a result, jitter can be improved.
  • the reflective layer contains 50% or more of Ag. Further, Ag is a main component, and 0.1 atom of one or more elements of Ti, Bi, Zn, Cu, Pd and rare earth metal is contained. % To 15 atomic% is preferable.
  • an optical recording medium capable of obtaining good recording / reproducing characteristics in high-speed recording applications can be obtained.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a first embodiment of an optical recording medium to which this embodiment is applied (in this example, a single-sided incident dual-layer DVD).
  • Figure 1 shows a disk substrate (reverse laminate 11) in which a reflective layer and a recording layer are laminated on a transparent substrate, and a disk substrate (normal laminate 12) in which a recording layer and a reflective layer are sequentially laminated on a transparent substrate.
  • a two-layer optical recording medium 100 is shown.
  • an optical recording medium 100 includes a disc-shaped light-transmitting substrate (1) 101 in which grooves and lands or pits are formed as an inverse laminate 11, and this substrate ( 1) A reflection layer (1) 102 provided on the incident surface side of the laser beam 110 of 101, a recording layer (1) 103 containing a dye, and an intermediate layer 104. Further, as the regular laminate 12, a disk-shaped light-transmitting substrate (2) 109 in which grooves and lands or prepits are formed, and a recording layer (2) containing a dye provided on the substrate (2) 109 108, a translucent reflective layer (2) 107 that distributes the power of the incident laser beam 110 from the substrate (2) 109 side, and a protective coating layer 106 provided on the reflective layer (2) 107 And having.
  • the reverse laminate 11 and the regular laminate 12 are laminated via the transparent resin layer 105 so that the intermediate layer 104 and the protective coat layer 106 are opposed to each other, and the two-layer type optical recording medium 100 is formed. It is composed.
  • the recording layer (1) 103 and the recording layer (2) 108 perform recording / reproduction of optical information by the laser beam 110 on which the side force of the substrate (2) 109 of the positive laminate 12 is also incident.
  • the reverse laminate 11 includes a substrate (1) 101, a reflective layer (1) 102, a recording layer (1) 103, and an intermediate layer 104 (hereinafter referred to as “laminated”) on the substrate (1) 101. , Sometimes referred to as the L1 layer).
  • the material constituting the substrate (1) 101 is desirably optically transparent and has excellent optical properties such as a low birefringence. In addition, it is desirable to have excellent moldability such as easy injection molding. Furthermore, it is desirable that the hygroscopicity is small. Furthermore, it is desirable to provide shape stability so that the optical recording medium 100 has a certain degree of rigidity.
  • a material is not particularly limited. For example, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, polyolefin resin (especially amorphous polyolefin), polyester resin, polystyrene resin. , Epoxy resin, glass and the like.
  • substrates such as glass
  • polycarbonate is preferable in terms of high productivity such as optical characteristics and moldability, cost, low hygroscopicity, shape stability and the like.
  • Amorphous polyolefin is preferred from the standpoints of chemical resistance and low hygroscopicity.
  • a glass substrate is preferable from the viewpoint of high-speed response.
  • the substrate (1) 101 does not necessarily need to be light transmissive, it can be provided with a backing having an appropriate material strength in order to increase mechanical stability and increase rigidity.
  • a backing having an appropriate material strength in order to increase mechanical stability and increase rigidity.
  • A1 alloy substrates such as Al—Mg alloys containing A1 as the main component
  • Mg alloy substrates such as Mg—Zn alloys containing Mg as the main component
  • a substrate or a combination thereof may be mentioned.
  • the groove depth of the guide groove portion of the substrate (1) 101 constituting the reverse laminate 11 is usually ⁇ or more, preferably 2 ⁇ 00 or more, more preferably, based on the recording / reproducing wavelength. 3 ⁇ ⁇ 0 0 or more, provided that ⁇ 6 or less is preferable.
  • the groove depth of the substrate (1) 101 is usually 6.6 nm or more, preferably 13 nm or more, more preferably 20 nm or more. It is.
  • the upper limit of the groove depth of the substrate (1) 101 is preferably llOnm or less.
  • the light quantity and the reflected light quantity of the laser light 110 incident on the recording layer (1) 103 via the substrate (2) 109 and the transparent resin layer 105 are Since the recording layer (2) 108 and the reflection layer (2) 107 are attenuated and the reflectance is lowered, the upper limit of the preferable groove depth is 7 ⁇ or less.
  • the groove depth of the substrate (1) 101 is preferably 46.2 nm or less. More preferably, it is 6 ⁇ 100 or less.
  • the groove width of the substrate (1) 101 in the reverse laminated body 11 is usually TZ10 or more, preferably 2TZ10 or more, more preferably 3TZ10 or more, where T is the track pitch. However, it is usually 8TZ10 or less, preferably 7TZ10 or less, more preferably 6TZ10 or less. If the groove width of substrate (1) 101 is within this range, tracking can be performed satisfactorily and sufficient reflectance can be obtained. For example, when the track pitch is 740 nm, the groove width of the substrate (1) 101 is usually 74 nm or more, preferably 148 nm or more, and more preferably 222 nm or more.
  • the upper limit is usually 592 nm or less, more preferably 518 nm or less, and still more preferably 444 nm or less.
  • the substrate (1) 101 is preferably thick to some extent.
  • the thickness of the substrate (1) 101 is usually preferably 0.3 mm or more. However, it is 3mm or less, preferably 1.5mm or less.
  • the material constituting the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 11 is not particularly limited.
  • Metals and metalloids can be used alone or as an alloy.
  • Au, Al, and Ag are preferred.
  • a metal material containing 50% or more of Ag is preferred because of its low cost and high reflectance.
  • a group force consisting mainly of Ag and made of Ti, Zn, Cu, Pd, Au and rare earth metals It is preferable to contain at least one element selected from 0.1 atomic% to 15 atomic%.
  • the content of each element may be 0.1 to 15 atomic%, but the total content thereof The amount is preferably from 0.1 atomic% to 15 atomic%.
  • the alloy composition contains Ag as a main component, and contains 0.1 atomic% to 15 atomic% of at least one element selected from the group force consisting of Ti, Bi, Zn, Cu, Pd, and Au. If necessary, it contains at least one rare earth element in the range of 0.1 atomic% to 15 atomic%. Among rare earth metals, neodymium is particularly preferable. Specifically, AgPdCu, AgCuAu, AgCu AuNd, AgCuNd, AgBi, AgBiNd, and the like. The composition ratio of the alloy used in the present embodiment is in the above-mentioned range.
  • Ag as the main component means that the Ag force in the alloy composition is usually 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more. It is also possible to use pure Ag.
  • the reflective layer (1) 102 a layer having only Au is suitable because it has small crystal grains and excellent corrosion resistance. It is also possible to use a layer comprising S as the reflective layer (1) 102. Further, a multilayer film can be formed by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and can be used as a reflective layer.
  • Examples of the method for forming the reflective layer (1) 102 include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.
  • the reflective layer (1) 102 in the reverse laminate 11 has high reflectivity and high durability.
  • the thickness of the reflective layer (1) 102 is usually 30 nm or more, preferably 40 nm or more, more preferably 50 nm or more.
  • it is usually 400 nm or less, preferably 300 nm or less.
  • the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 11 includes a metal whose main component is silver
  • the reflective layer (1) 102 The film thickness is more preferably in the range of 30 ⁇ m to 80nm.
  • the film thickness of the reflective layer (1) 102 containing silver as a main component is in the range of 30 nm to 80 nm, the decrease in the reflectance of the reflective layer (1) 102 and the increase in the transmittance are balanced to provide energy. Diffusion occurs, resulting in a cross Tend to be improved.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the thickness of the reflective layer and the transmittance (T), and the thickness of the reflective layer and the reflectance (R).
  • Figure 5 (a) shows the relationship between the thickness of the reflective layer and the transmittance (T), and Fig.
  • the transmittance (T) increases when the thickness of the reflective layer is less than about 80 nm, and the transmittance (T) exceeds 5% when the thickness is less than 30 nm.
  • the reflectance (R) decreases when the thickness of the reflective layer is thinner than around 80 nm, and the reflectance (R) is less than 85% when the thickness is thinner than 30 nm.
  • the reflective layer (1) 102 By forming the reflective layer (1) 102 to be thinner than the conventional one, the reflective layer (1) 102 tends to cover (trace) the shape of the groove of the substrate more strictly. Therefore, even when the track pitch is narrowed, the groove and the inter-groove portion are clearly separated, so that crosstalk may be reduced.
  • the film thickness of the recording layer (1) 103 is preferably 30 nm or more, more preferably 40 nm or more.
  • the thickness of the reflective layer containing a metal whose main component is silver is lOOnm or more. In this case, almost no energy diffusion occurs because the transmittance (T) is low. Therefore, the film thickness of the recording layer (1) 103 is preferably 80 nm or less.
  • the reflective layer (1) 102 is formed with a film thickness thinner than the usual lOOnm, The time can be shortened and the temperature rise of the substrate (1) 101 is reduced during sputtering. This mitigates the spattering of the sputtered atoms, potentially creating a reflective layer (1) 102 with small particle size, good quality and low surface roughness, and improved cost performance. Is done.
  • the recording layer (1) 103 in the reverse laminate 11 usually contains a dye having the same sensitivity as that of a recording layer used for a single-sided recording medium such as CD-R, DVD-R, DV D + R, etc. .
  • a dye having a maximum absorption wavelength ⁇ max in the visible light to near infrared region of about 350 nm to 900 nm and suitable for recording with a blue to near microwave laser is preferable.
  • a dye suitable for recording by a so-called blue laser or the like having a wavelength of 660 nm, 680 nm, or a wavelength of 410 nm or 515 ⁇ m is more preferable. It is also possible to use a phase change material.
  • the dye used in the recording layer (1) 103 is not particularly limited, but an organic dye material is usually used.
  • organic dye materials include macrocyclic azanulene dyes (phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, etc.), pyromethene dyes, polymethine dyes (such as cyanine dyes, merocyanine dyes, and sillilium dyes), anthraquinone dyes.
  • azurenium dyes metal-containing azo dyes, metal-containing indoor-phosphorus dyes, and the like.
  • metal-containing azo dyes are preferable because they are excellent in recording sensitivity, durability and light resistance. These dyes may be used alone or in combination.
  • the recording layer (1) 103 includes a transition metal chelate compound (eg, acetyl acetyltonate chelate, bisulfate) as a singlet oxygen quencher in order to improve the stability and light resistance of the recording layer.
  • a recording sensitivity improver such as a metal compound may be included for improving the recording sensitivity, such as sugar dithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio oc-diketone, etc.).
  • the metal compound means a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, an ethylenediamine complex, an azomethine compound, etc.
  • a metal such as a transition metal
  • it does not specifically limit as a metal atom, It is preferable that it is a transition metal.
  • the recording layer (1) 103 can be used in combination with a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, and the like, if necessary.
  • binders include polybutyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone series resin, acrylic series resin, polystyrene series resin, urethane series resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, and polyolefin. Can be mentioned.
  • the film-forming method of the recording layer (1) 103 is not particularly limited, but is generally performed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, an immersion method, or the like.
  • a wet film formation method such as a spin coating method is preferable.
  • the vacuum evaporation method is preferable from the viewpoint that a uniform recording layer can be obtained.
  • the spin speed is preferably 10 rpm and 15000 rpm, and then heat treatment is generally performed to remove the solvent.
  • the coating solvent for forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or a dipping method is not particularly limited as long as it is a solvent that does not attack the substrate.
  • ketone alcohol solvents such as diaceton alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone
  • cellosolv solvents such as methyl solvate and cetyl sorb
  • chain hydrocarbon solvents such as n-xane and n-otatan
  • Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane, cyclooctane; tetrafluoroprono-V
  • perfluoroalkyl alcohol solvents such as kutafluoropentanol and hexafluorobutanol
  • hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl 2-hydroxyisobutyrate.
  • the heat treatment for removing these solvents removes the solvents and uses simple equipment. Is usually performed at a temperature slightly lower than the boiling point of the solvent used.
  • the heat treatment method is not particularly limited.
  • a film containing a dye-containing solution is formed on the substrate (1) 101 to form the recording layer (1) 103, and then a predetermined temperature is applied. And a predetermined time (usually 5 minutes or more, preferably 10 minutes or more, but usually within 30 minutes, preferably within 20 minutes).
  • a method of heating the substrate (1) 101 by irradiating infrared rays or far infrared rays for a short time for example, 5 seconds to 5 minutes.
  • an organic dye and, if necessary, recording layer components such as various additives are put in a crucible installed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is filled with an appropriate vacuum pump. After evacuating to about 10 2 to 10 _5 Pa, the crucible is heated to evaporate the recording layer components and deposited on the substrate placed facing the crucible.
  • the thickness of the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 11 is usually 50 nm or more, preferably 60 nm or more, but is usually 150 nm or less, preferably lOO nm or less.
  • the thickness of the recording layer (1) 103 is within this range, it is possible to suppress a decrease in sensitivity while ensuring a sufficient recording signal amplitude. Also, if the recording layer (1) 103 is excessively thick, the sensitivity may decrease.
  • the intermediate layer 104 is provided in the reverse laminated body 11 as necessary.
  • the intermediate layer 104 is formed between the recording layer (1) 103 and the transparent resin layer 105 in order to prevent components from the transparent resin layer 105 from contaminating or dissolving the recording layer (1) 103.
  • the thickness of the intermediate layer 104 is usually 1 nm or more, preferably 2 nm or more. If the thickness of the intermediate layer 104 falls within this range, the components that exude from the transparent resin layer 105 can be effectively suppressed. However, the thickness of the intermediate layer 104 is 2000 nm or less, more preferably 500 nm or less. If the thickness of the intermediate layer 104 is within this range, it is possible to prevent a decrease in light transmittance.
  • the intermediate layer 104 is a layer made of an inorganic material, it may take time to form a film. Therefore, in order to suppress a decrease in productivity and increase the film stress within a favorable range. 200 nm or less is preferable. In particular, when a metal is used for the intermediate layer 104, the light transmittance is excessive.
  • Examples of the material constituting the intermediate layer 104 include dielectrics such as a metal thin film, silicon oxide, silicon nitride, MgF, and SnO ZnS-SnO.
  • the substrate (1) 101 and the recording layer (1) 103 between the substrate (2) 109 and the recording layer (2) 108, and between the recording layer (2) 108 and the reflective layer (2) 107.
  • layers made of the same material as the intermediate layer 104 may be provided.
  • the transparent resin layer 105 in the two-layer type optical recording medium 100 to which the present embodiment is applied has a light transmitting property such that the laser beam 110 incident also on the substrate (2) 109 side force reaches the recording layer (1) 103. Constructed from a temporary material.
  • the product (EX) of the elastic modulus (E) (unit: MPa) of the transparent resin layer 105 and the thickness (t) (unit: m) of the transparent resin layer 105 t) (Unit: MPa '/ zm) Force
  • the recording layer of the reverse laminate 11 (1) In the optical information recording of 103, it is adjacent to the track part and excessive deformation Can be suppressed.
  • transparent of the transparent resin layer 105 means t ⁇ without having a structure for scattering the laser light 110 incident on the optical recording medium 100.
  • scattering refers to scattering that has a great influence on the recording / reproducing characteristics of the optical recording medium 100.
  • the elastic modulus of the transparent resin layer 105 (unit: MPa, measured at a temperature of 25 ⁇ 5 ° C) and transparent.
  • the product (EXt) (unit: MPa '/ zm) of the thickness (t) (unit: / zm) of the resin layer 105 is 2.0X10 4 MPa./zm or more, preferably 2.5X10 4 MPa' or more More preferably 4.0X10 4 MPa '/ zm or more, more preferably 5.0 ⁇ 10 4 ⁇ & ⁇ / ⁇ or more, particularly preferably 7.0X10 4 MPa- ⁇ m or more, and particularly preferably 9.0X10 4 MPa- ⁇ m.
  • the upper limit of (wm) is usually 30. OX 10 4 MPa-, um or less, preferably ⁇ or 21.0 ⁇ 10 4 ⁇ & ⁇ / ⁇ or less, more preferably ⁇ or 17.5 X 10 4 MPa-, um or less, more preferably 13. Less than SXlC ⁇ MPa'wm.
  • the upper limit of (EXt) is 30. OX 10 4 MPa- ⁇ m or less, the L1 layer (Fig.
  • the two-layer optical recording medium 100 can be favorably applied, and the recording layer (1) 103 can be properly recorded and reproduced. Further, for example, in the case of a film surface incident type optical recording medium, the focal length of the objective lens can be reduced, and high-density recording can be performed satisfactorily.
  • the resin constituting the transparent resin layer 105 usually has an elastic modulus (E) of 1.0X10 3 MPa or more, preferably 2. OX 10 3 MPa or more, more preferably 3. OX 10 3 MPa or more, more preferably 4.0X10 3 MPa or more.
  • E elastic modulus
  • the transparent resin layer 105 can be formed by a solution method such as coating, which is industrially advantageous.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the thickness (t) of the transparent resin layer.
  • Fig. 3 (a) shows the case where the transparent resin layer is composed of a single resin
  • Fig. 3 (b) shows the case where the transparent resin layer is composed of a plurality of resin layers. is there. That is, the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is such that the transparent resin layer 105 is composed of a single resin (case a) and the transparent resin layer 105 is composed of a plurality of resin layers.
  • the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is such that the transparent resin layer 105 is composed of a single resin (case a) and the transparent resin layer 105 is composed of a plurality of resin layers.
  • case (case b) it is explained as follows.
  • the transparent resin layer in contact with the reverse laminate when the transparent resin layer in contact with the reverse laminate is composed of a single resin, l / 2 (hZ2) of the film thickness (h) of the transparent resin layer In this case, the thickness of the portion on the side in contact with the reverse laminate is defined as the thickness (t) of the transparent resin layer.
  • the transparent resin layer 105 is composed of a single resin, it is in contact with the reverse laminate 11 of the transparent resin layer 105 that greatly affects the crosstalk of the L1 layer of the reverse laminate 11. It is thought that this is a part.
  • the portion of the transparent resin layer 105 on the side not in contact with the reverse laminated body 11 is a local layer that suppresses expansion in the adjacent track direction when optical information is recorded on the recording layer (1) 103 of the L1 layer. It seems to be lacking in the ability to give a strong binding force. Therefore, when the transparent resin layer 105 is made of a single resin, it is a half of the distance between the L1 layer and the L0 layer (see Fig. 1), and is the part on the side in contact with the reverse laminate 11 Is the thickness (t) of the transparent resin layer 105.
  • the film thickness (h) of the transparent resin layer 105 is usually 200 ⁇ m or less, preferably 100 ⁇ m, more preferably 80 ⁇ m. It is as follows. In particular, in the DVD double-layer disc standard, the distance between the L1 layer and the L0 layer is preferably 40 ⁇ m to 70 ⁇ m. In this case, the film thickness (h) of the transparent resin layer 105 is The following is preferred. For example, the thickness (t) of the transparent resin layer 105 in (case a) is usually 20 m or more. If the film thickness (h) of the transparent resin layer 105 is 5 m or less, the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is 5 ⁇ m. When the thickness (h) of the transparent resin layer 105 is 35 ⁇ m or more, the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is 35 ⁇ m.
  • the thickness (t) force of the transparent resin layer 105 In this range, the L1 layer of the two-layer type optical recording medium 100 is favorably focused. Thus, the L0 layer and the L1 layer can be optically separated and reproduced satisfactorily, and the recording layer (1) 103 can be appropriately recorded and reproduced. Further, for example, as will be described later, in the case of a film surface incident type optical recording medium as shown in FIG. 2, the focal length of the objective lens can be reduced, and high-density recording can be performed satisfactorily.
  • the thickness (t) of the transparent resin layer 105 in the case (a) is most preferably 20 ⁇ m to 28 ⁇ m!
  • the transparent resin layer has a plurality of resin layers (transparent resin layer (1), transparent
  • the thickness of the resin layer in contact with the reverse laminate is selected from the transparent resin layers. Thickness (t). However, if the thickness of the transparent resin layer (1) in contact with the reverse laminate is 35 ⁇ m or more, the thickness (t) of the transparent resin layer shall be 35 ⁇ m.
  • a light-transmitting resin A is applied on the reverse laminated body 11 having the L1 layer, while the positive laminated body having the L0 layer.
  • a method of preparing a two-layer disc by applying resin B on 12 and bringing resin A and resin B into contact with each other and curing.
  • the resin layer on the side of the transparent resin layer 105 that is not in contact with the reverse laminate 11 is the L1 recording layer (1) 103
  • optical information is recorded on the disk, it is considered that it does not work well to provide local restraining force that suppresses expansion in the adjacent track direction.
  • the transparent resin layer 105 is preferably formed by laminating a flexible resin layer that can relieve the overall stress and a resin layer having a (EXt) of a predetermined value or more.
  • the total film thickness of the transparent resin layer 105 of the two-layer optical recording medium 100 is usually 200 ⁇ m or less, preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 80 ⁇ m or less.
  • the distance between the L1 layer and the L0 layer is 40 / ⁇ ⁇ to 70 m.
  • the film thickness of the resin layer (Fig. 3 (b) transparent resin layer (1)) in contact with the reverse laminate 11 is 35 ⁇ m or more. In this case, the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is 35 ⁇ m.
  • 3 (b) transparent resin layer (1)) in contact with the reverse laminate 11 is usually 3 m or more, more preferably 4 m or more, and even more preferably 10 / ⁇ ⁇ , particularly preferably 15 m or more. If the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is excessively small, the effect of reducing crosstalk may not be sufficiently exhibited.
  • the resin layer in contact with the reverse laminate 11 (Fig. 3 (b) transparent resin layer (1)) has a film thickness of 5 If the thickness is less than ⁇ m, the thickness (t) is 5 ⁇ m and (EXt) is calculated by the following method. That is, the product (EX t) of the elastic modulus (E) of the transparent resin layer 105 and the thickness (t) of the transparent resin layer 105 is equal to the thickness (t) of the resin layer corresponding to 5 ⁇ m.
  • the composite is calculated from the transparent resin layer (1) and the transparent resin layer (2). That is, for example, the reverse laminate 11
  • the elastic modulus of the resin layer in contact with the resin (Fig. 3 (b) transparent resin layer (1)) has a film thickness of 5 If the thickness is less than ⁇ m, the thickness (t) is 5 ⁇ m and (EXt) is calculated by the following method. That is, the product (EX t) of the elastic modulus (E) of the transparent resin layer 105 and the thickness (t) of the transparent resin layer
  • Examples of the material constituting the transparent resin layer 105 include thermoplastic resin, thermosetting resin, electron beam curable resin, and ultraviolet curable resin (including delayed curing type).
  • the material constituting the transparent resin layer 105 is appropriately selected from these materials.
  • a thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in an appropriate solvent as necessary to prepare a coating solution, coating it, and drying (heating).
  • the ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving in an appropriate solvent, and then applying the coating solution and irradiating it with ultraviolet light to cure. These materials can be used alone or in combination.
  • a spin coating method or a coating method such as a cast method is used. Of these, the spin coating method is preferable.
  • High viscosity resin can also be applied and formed by screen printing. It is preferable to use a UV curable resin that is liquid at 20 ° C to 40 ° C. This is because productivity can be improved because it can be applied without using a solvent.
  • the viscosity of the coating solution is preferably adjusted to be 20 mPa ′s to l.OX 10 3 mPa ′s.
  • an ultraviolet curable resin is preferable because of its high transparency and short curing time, which is advantageous in production.
  • the UV curable resin include radical UV curable resins and cationic UV curable resins, and V deviation can also be used.
  • the radical ultraviolet curable resin a composition containing an ultraviolet curable compound and a photopolymerization initiator as essential components is used.
  • the ultraviolet curable compound monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate can be used as the polymerizable monomer component. These can be used alone or in combination of two or more. .
  • the attalate and the meta acrylate are collectively referred to as a (meth) acrylate.
  • Examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, 2-ethylhexyl, octyl, noel, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, cyclohexyl, Benzyl, methoxyethyl, butoxychetyl, phenoxycetyl, nonylphenoxy cetyl, tetrahydrofurfuryl, glycidyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-chloro-2-hydroxypropyl, dimethylaminoethyl, jetylaminoethyl, nonylphenol (Meth) atalylate having a group such as enochetyl tetrahydrofurfuryl, force prolatatone, modified tetrahydrofurfuryl, isobornyl, dicyclopental
  • polyfunctional (meth) acrylates examples include 1,3-butylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6- Di (xanediol, neopentyl glycol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, tricyclodecane dimethanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, etc.
  • di (meth) atalylate such as (meth) atalylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate.
  • di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol, 2 mol of ethylene oxide or propylene per 1 mol of bisphenol A
  • Di- (meth) acrylate trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (2) of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of phthalate, bisphenol A Meta) Atarilate, Dipentaerythrito Poly (meth) Atari rate, ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) Atari rate, Echireno Kisaido modified alkylated phosphoric acid (meth) Atari
  • those that can be used simultaneously with these polymerizable monomers include polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, epoxy (meth) ) Acrylate, urethane (meth) acrylate, and the like.
  • a photopolymerization initiator is usually added to the radical ultraviolet curable resin.
  • the photopolymerization initiator is preferably a molecular cleavage type or a hydrogen abstraction type.
  • molecular cleavage types include, for example, benzoin isobutyl ether, 2, 4 jetyl thioxanthone, 2 isopropyl thixanthone, benzyl, 2, 4, 6-trimethylbenzoyl diphosphine phosphine.
  • 1-hydroxycyclohexyl phenol ketone, benzoin ether, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy 2-methyl 1-phenylpropane 1-one, 1- (4-isopropyl phenol) 2-Hydroxy-1,2-methylpropane-1-one and 2-methyl-11- (4-methylthiophenol) 2 morpholinopropane 1-one may be used in combination.
  • the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator include benzophenone, 4-phenol penzophenone, isophthalphenone, 4-benzoyl 4, monomethyldiphenylsulfide and the like.
  • a sensitizer can be used in combination with these photopolymerization initiators.
  • the sensitizer include, for example, trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-ethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzoate, p-dimethylaminobenzoate isamyl, N, N dimethylbenzylamine.
  • 4,4,1bis (jetylamino) benzophenone 4,4,1bis (jetylamino) benzophenone.
  • Examples of the cationic ultraviolet curable resin include an epoxy resin containing a cationic polymerization type photoinitiator.
  • Examples of the epoxy resin include bisphenol A-epoxyhydrin type, alicyclic epoxy, long chain aliphatic type, brominated epoxy resin, glycidyl ester type, glycidyl ether type, and heterocyclic type. Is mentioned. It is preferable to use an epoxy resin having a low content of free chlorine and chlorine ions. The amount of chlorine is preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less.
  • Examples of the cationic polymerization type photoinitiator include sulfo-salts, ododonium salts, and disulfide salts.
  • diodonium salt is Funoleo Mouth Phosphade, Diphenol-Hole Hexafunoleo Antimonate, Diphenol-Rhodonium Tetrafluoroborate, Diphenol-Rhodonium Tetrakis (Pentafluorophore) Borate, Bis (dodecylphenol) ) Ododo-umhexafluorophosphate, bis (dodecylfe-l) odo-umhexafluoroantimonate, bis (dodecyl-fe-l) odonum tetrafluoroborate, Examples thereof include bis (dodecylphenol) odo-mu-tetrakis (pentafluorophenol) borate.
  • the ratio of the cationic polymerization type photoinitiator per 100 parts by weight of the cationic ultraviolet curable resin is usually 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight. It is.
  • a known photosensitizer can be used in combination. Examples of the photosensitizer at this time include anthracene, phenothiazine, benzylmethyl ketal, benzophenone, and acetophenone.
  • UV curable resin for ultraviolet curable resin, as necessary, other additives such as thermal polymerization inhibitors, hindered phenols, hindered amines, phosphites, etc.
  • Agents and silane coupling agents such as epoxy silane, mercapto silane, (meth) acryl silane and the like can be added for the purpose of improving various properties. These are selected from those having excellent solubility in ultraviolet curable compounds and those that do not impair ultraviolet transparency.
  • the specific means for setting to / ⁇ ⁇ or more is not particularly limited, but in order to expand the adjustment range of the film thickness while preparing the appropriate hardness of the resin in the optimum film thickness range, The method is mentioned.
  • the ultraviolet ray curable resin described above has 2 or more, preferably 3 or more, methacryloyl groups in the molecule.
  • a method of increasing the composition of the monomer component to be polymerized; a method of increasing the composition of the side chain-containing polymer diol component such as polyester diol mixed with the linear polymer diol; the side chain of the oligomer component whose main chain is the hard segment is reduced A method of increasing the intramolecular bond by adjusting the molecular weight; a method of adding a predetermined amount of a crosslinking agent such as polyisocyanate compound, amino resin, epoxy compound, silane compound, metal chelate compound, etc. Can be mentioned.
  • the elastic modulus of the transparent resin layer 105 itself is increased, and the glass transition temperature (Tg) of the resin constituting the transparent resin layer 105 is increased to, for example, more than 150 ° C. Can be high.
  • ultraviolet curable resins cationic ultraviolet curable resins that can be applied by spin coating are preferred because of their low light scattering properties and low viscosity. Furthermore, when the transparent resin layer 105 has a thickness of 10 m or more, it is not necessary to consider the inhibition of curing by oxygen. It is preferable to use rosin.
  • the transparent resin layer can also be detected from an optical recording medium (product) by the following method.
  • the composition of the resin can be specified to some extent in relation to the reference spectrum. If there is a difference in the infrared absorption spectrum between the transparent resin layers in the thickness direction, it is understood that the layers are different. Their composition can also be specified to some extent by comparison with the above reference sample.
  • the transparent resin layer can be analyzed by pyrolysis GC-MS to know the composition of the resin.
  • the transparent resin layer is peeled off and taken out, and its Tg and elastic modulus can be directly measured by a dynamic viscoelasticity measuring device.
  • the positive laminate 12 constituting the optical recording medium 100 to which this embodiment is applied will be described.
  • the positive laminate 12 includes a substrate (2) 109 having an incident surface of a laser beam 110 as recording / reproducing light, and a recording layer (2) 108, a reflective layer on the substrate (2) 109.
  • (2) 10 7 and protective coat layer 106 are sequentially laminated (hereinafter also referred to as L0 layer).
  • the substrate (2) 109 of the positive laminate 12 is made of the same material as the substrate (1) 101 of the reverse laminate 11. However, the substrate (2) 109 needs to be light transmissive.
  • the groove width (half width) of the substrate (2) 109 is usually 2TZ10 or more, preferably 3TZ9 or more, where T is the track pitch. If it is this range, a sufficient reflectance can be secured.
  • the groove width of the substrate (2) 109 is usually 148 nm or more, preferably 246 nm or more.
  • the groove width of the substrate (2) 109 is usually 7TZ10 or less, preferably 6TZ10 or less.
  • the groove width of the light-transmitting substrate (2) 109 is usually 518 nm or less, preferably 444 nm or less, because the groove shape transferability can be improved.
  • the groove depth of the substrate (2) 109 is usually preferably ⁇ Z10 or more when the recording / reproducing light wavelength is used, because a sufficient reflectance can be secured. More preferably, ⁇ 8 or more, and further preferably ⁇ 6 or more.
  • the groove depth of the substrate (2) 109 is usually 66 nm or more, preferably 83 nm or more, and more preferably lOnm or more. It is.
  • the upper limit of the groove depth of the substrate (2) 109 is usually 2 ⁇ 5 or less, more preferably 2 ⁇ 7 or less, because the groove-shaped transferability can be improved.
  • the recording / reproducing wavelength is 660 nm, it is usually 264 nm or less, preferably 189 nm or less.
  • the recording layer (2) 108 of the positive laminate 12 contains the same dye as the recording layer (1) 103 of the reverse laminate 11.
  • the thickness of the recording layer (2) 108 of the positive laminate 12 is not particularly limited because the suitable film thickness varies depending on the recording method etc., but in order to obtain a sufficient degree of modulation, it is usually 20 ⁇ m or more, preferably It is 30 nm or more, and particularly preferably 40 nm or more. However, since it is necessary to transmit light, it is usually 200 nm or less, preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less.
  • the thickness of the recording layer (2) 108 is the thickness of the thick film portion (substrate (2 ) 109 groove recording layer (2) 108 thickness).
  • the reflective layer (2) 107 of the regular laminate 12 is made of the same material as the reflective layer (1) 102 of the reverse laminate 11.
  • the reflective layer (2) 107 of the positive laminate 12 has a light transmittance of 40% or more, which is low in absorption of the laser beam 110, which is recording / reproducing light incident from the substrate (2) 109 side. It is necessary to have an appropriate light reflectance of 30% or more. For example, an appropriate transmittance can be provided by providing a thin metal with high reflectivity. In addition, it should have some degree of corrosion resistance.
  • the recording layer (2) 108 located below the reflective layer (2) 107 is not affected by other components that exude from the upper layer of the reflective layer (2) 107 (here, transparent resin layer 105). It is desirable to have such blocking properties.
  • the thickness of the reflective layer (2) 107 is usually 50 nm or less, preferably 30 nm or less, more preferably 25 nm or less in order to ensure that the light transmittance is usually 40% or more.
  • the recording layer (2) 108 is not affected by the component that exudes the upper layer force of the reflective layer (2) 107, it is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more.
  • the protective coating layer 106 of the regular laminate 12 is provided on the transparent resin layer 105 side of the reflective layer (2) 107 for the purpose of preventing oxidation of the reflective layer (2) 107, and preventing dust or scratches.
  • the material of the protective coating layer 106 is not particularly limited as long as it protects the reflective layer (2) 107.
  • the organic material include thermoplastic resin, thermosetting resin, electron beam curable resin, and ultraviolet ray curable resin.
  • examples of the inorganic substance include dielectrics such as silicon oxide, silicon nitride, MgF, and SnO. Above all, an ultraviolet curable resin layer is laminated.
  • the protective coating layer 106 may be directly formed on the reflective resin layer (2) 107 which is not necessarily provided.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a second embodiment of an optical recording medium to which the present embodiment is applied.
  • FIG. 2 shows a film surface incident type optical recording medium 200 in which optical information is recorded / reproduced by recording / reproducing light incident on a force opposite to the substrate side.
  • the optical recording medium 200 includes a substrate 201, a reflective layer 202 provided on the substrate 201, and a reflective layer.
  • the optical recording medium 200 information is recorded and reproduced by a laser beam 210 irradiated on the recording layer 203 from the transparent resin layer 205 side.
  • the intermediate layer 204 is provided as necessary, and is not necessarily essential.
  • the substrate 201 constituting the inverse laminate is formed using the same material as the substrate (1) 101 of the inverse laminate 11 in the optical recording medium 100 of the first embodiment.
  • the materials constituting the reflective layer 202, the recording layer 203, and the intermediate layer 204 are the reflective layer (1) 102, the recording layer of the reverse laminate 11 of the optical recording medium 100 of the first embodiment, respectively.
  • the same materials as those described for the layer (1) 103 and the intermediate layer 104 can be used.
  • the thickness of each layer is the same as the range described for the optical recording medium 100 described above.
  • the transparent resin layer 205 is formed using the same material as the transparent resin layer 105 in the optical recording medium 100 described above, and the elastic modulus (E) and thickness (t) of the transparent resin layer 205
  • the product (EXt) is adjusted in the same range as the transparent resin layer 105 in the optical recording medium 100 of the first embodiment. That is, the thickness (t) of the transparent resin layer 205 is the same as that of the transparent resin layer 105 in the optical recording medium 100 of the first embodiment, and the transparent resin layer 205 is formed of a single resin.
  • the thickness (t) of the transparent resin layer 205 is half the thickness (h) of the transparent resin layer 205 (hZ2). To do.
  • the film thickness of the resin layer in contact with the reverse laminate among the plurality of resin layers is set to the thickness of the transparent resin layer 205 (t ).
  • the thickness (t) of the transparent resin layer 205 is 35 ⁇ m.
  • a two-layer optical recording medium having a reverse laminate was prepared, and MT (%) and ST (%) of optical information recorded in the recording layer (1) constituting the reverse laminate were measured. did.
  • polycarbonate was injection molded to form a groove with a pitch of 0.74 ⁇ m, a width of 330 nm, a depth of 30 nm, a diameter of 120 mm, and a thickness.
  • a 60 mm substrate (1) was formed.
  • a reflective layer (1) was formed on the substrate (1) by sputtering an Ag—Bi—Nd alloy at 80 nm.
  • the thickness of the recording layer (1) is determined by the film thickness of the groove (the recording layer thickness of the groove of the reverse laminate in FIG. 1) and the film thickness of the groove (recording layer of the groove of the reverse laminate in FIG. 1). The film thickness was about 80 nm.
  • a polycarbonate substrate (2) having guide grooves having a depth of 160 nm, a width of 300 nm, and a track pitch of 740 nm was prepared, and the above-mentioned metal-containing element was formed on the surface of the substrate (2) where the guide grooves were formed.
  • the recording layer (2) was formed by drying at ° C for 30 minutes.
  • the thickness of the recording layer (2) ( Figure 1: Recording of the groove of the positive laminate) The layer thickness was about lOOnm.
  • an Ag—Bi alloy (Bi: 1.0 atomic%) is sputtered to a thickness of 17 nm to form a reflective layer (2), and further, UV-cured on the reflective layer (2).
  • Fat (SD347) was spin-coated and cured to form a protective coating layer having a thickness of 3 ⁇ m, and a positively laminated disk 2 was prepared.
  • the disc 1 and the disc 2 each coated with the resin are overlapped so that the surfaces coated with the resin face each other, and then the substrate (2) side cover of the disc 2 (regular laminate). UV light is applied to cure resin A and resin F to form a transparent resin layer composed of resin A and a transparent resin layer composed of resin F, respectively.
  • a recording medium was prepared (Sampnore 1).
  • a two-layered optical recording medium was prepared by forming a transparent resin layer composed of a resin (Sample 3, Sample 5, Sample No. 6, Sample No. 7).
  • the thickness (t) of the transparent resin layer shown in Table 1 is as follows: Sample 1, Sample 3, Sample 5, Sample 6 and Sample 7 having a transparent resin layer composed of two types of resins.
  • the thickness of the resin layer in contact with the reverse laminate (the case is a transparent resin layer made of a single resin and Sample 4 is transparent).
  • the total thickness of the transparent resin layer in the optical recording media of sample 1 to sample 7 is 46 ⁇ m (case a). .
  • Optical information is recorded under the following high-speed recording conditions on the recording layer (1) constituting the reverse laminate in the optical recording medium (Sample 1 to Sample 7) prepared as described above, and the recorded optical information is reproduced. MT (%) and ST (%) were measured. The results are shown in Table 1.
  • the resin F was applied on the protective coating layer of the disk 2 as a positive laminate so as to have a film thickness of 23 m.
  • resin E and resin C having a predetermined elastic modulus (E) are respectively placed on the intermediate layer of the inverse laminate.
  • the grease was applied to the disc 1 coated with these resins and the disc 2 coated with the grease F, so that the thickness (t) shown in Table 1 was applied.
  • the thickness (t) of the transparent resin layers of Samples 8 to 10 is the same as that of the optical recording media of Sample 8 and Sample 9 each having a transparent resin layer composed of two types of resins.
  • the thickness of the resin layer in contact with the reverse laminate in the case of the sample 10 optical recording medium having a transparent resin layer made of a single resin, the thickness of the entire transparent resin layer is (Case a)
  • the total film thickness of the transparent resin layer in the optical recording media of Samples 8 to 10 is 46 ⁇ m.
  • Table 1 shows the elastic modulus (E (unit: MPa)) of the resin used for preparing the transparent resin layers in Samples 1 to 10, and the thickness (t (units)) of the transparent resin layer. M)) and glass transition temperature (Tg (unit: ° C)) are also shown.
  • the elastic modulus (E) was measured using a dynamic viscoelasticity tester (manufactured by Leopybron: DDV series) under the conditions of a measurement frequency of 3.5 Hz and a heating rate of 3 ° C Zmin.
  • the thickness of the transparent resin layer was measured based on a secondary electron beam observation image (SEM image) obtained by a scanning electron microscope or a cross-sectional image obtained by a transmission electron microscope. Thickness (t) is the average value of the 5-point measurement results.
  • the resin used for preparing the transparent resin layer is as follows.
  • Resin A Radical UV cured resin manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. (elastic modulus: 1.4 X 10 3 MPa / (150 ° 0)
  • Resin B Radical UV curing resin manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. (elastic modulus: 1.05 X 10 3 MPa / (150 ° 0)
  • Resin C Radical UV Cured Resin SD-347 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. (elastic modulus: 340MPa / (150 ° C))
  • Resin D Radical UV Cured Resin SD—394 (Durability: 66MPa / (150 ° C))
  • Resin E Radical UV Cured Resin SD- 318 (Durability: 280MPa / (150 ° C))
  • Resin F Dainippon Ink Co., Ltd. Radical UV Cured Resin SD— 6036 (Elastic Modulus: OMP a / (150 ° C))
  • a predetermined elastic modulus (E) is obtained by combining an acrylic monomer having a high crosslinking density with an acrylic monomer having a rigid structure in the crosslinked structure by the method described above.
  • the glass transition temperature (Tg) was controlled.
  • Fig. 4 is a diagram for explaining the relationship between (EXt) and MT (%) for samples 1 to 10.
  • Fig. 4 shows the results of the elastic modulus (E) and the thickness (t) of the transparent resin layer in contact with the reverse layered product in Samples 1 to 10 based on the results shown in Table 1.
  • the value of MT (%) based on the reproduction signal of the optical information recorded in the recording layer (1) of the reverse laminate is plotted against the product (EX t) (horizontal axis).
  • (EX t) is 2.0 x 10 4 MPa '/ zm or more, MT (%) is 8% or less, 4.0 x 10 4 MPa' / zm Over 7.5%, 6. OX 10 4 MPa 'm, about 7%. Furthermore, if it exceeds 6.9 X 10 4 Pa ⁇ i um, MT (%) will be around 6.5%, and MT (%) will be stable at 9.0 X 10 4 MPa • / zm or more. Good value of around 5% is obtained. Furthermore, it is shown that 10. (%) Is in an ideal state where the minimum value is maintained at about 10. 0 0 10 4 ⁇ & ⁇ / ⁇ ⁇ .
  • the glass transition temperature of the transparent resin layer in contact with the reverse laminate is preferably 150 ° C or higher. It is considered that a hard transparent resin layer can be formed with a resin having a higher glass transition temperature.
  • the preferable conditions for the evaluation method are as follows: a semiconductor laser with a wavelength of 662 nm is installed as the evaluator, and an evaluator with an objective lens numerical aperture (NA) O. 65 is used. (Recording linear velocity: 15.3mZs) and playback is performed at 1x DVD speed using the same evaluator. The shortest mark length for recording is 0.44 m.
  • the hardness and strength as a Balta indexed by the product (EX t) of the elastic modulus (E) and thickness (t) of the transparent resin layer in contact with the reverse laminate are within a specific range.
  • the MT (%) force is a value that reflects the signal quality of the optical disc.
  • MT (%) generally needs to be less than 10%, preferably 8% or less, and more preferably 7% or less. Above 10%, errors tend to increase.
  • MT (% ) Is usually 8% or less, preferably 7.5% or less, more preferably 7% or less. If MT (%) exceeds 8%, the manufacturing margin may not be fully guaranteed.
  • ST (%) when recording / reproducing with the above evaluator is usually required to be 7% or less. If this value is exceeded, MT (%) tends to be 8% or more in continuous recording.
  • the power margin for obtaining MT (%) of 9% or less is preferably 2.5 mW or more, more preferably 3 mW or more, and further preferably 4 mW or more.
  • the power margin is excessively small, the light amount fluctuation of the laser light source accompanying the temperature change becomes larger than the power margin, and there is a possibility that good recording characteristics cannot be obtained.
  • Samples 1 to 10 all had good recording power margins of 3 mW or more.
  • a two-layer optical recording medium having a reverse laminate was prepared, and MT (%) and ST (%) of optical information recorded in the recording layer (1) constituting the reverse laminate were measured. did.
  • the recording layer (1) was formed by drying at 70 ° C. for 30 minutes.
  • the thickness of the recording layer (1) is determined by the film thickness of the groove (in FIG. 1, the recording layer thickness of the groove of the reverse laminate 11) and the film thickness of the inter-groove (in FIG. 1, the reverse laminate 11).
  • the thickness of the recording layer in the groove portion was about 80 nm.
  • an intermediate layer made of an inorganic material was formed on the recording layer (1) to prepare a disc 1 having a reverse laminate.
  • a positive laminate was prepared in the same manner as in Example 1.
  • disc 1 and disc 2 each coated with grease are stacked so that the surfaces coated with grease are facing each other, and then the substrate of disk 2 (regular laminate) (2)
  • a two-layer type optical recording medium was prepared by irradiating ultraviolet rays from the side cover to cure the resin B and forming a transparent resin layer.
  • optical information is recorded on the recording layer (1) constituting the reverse laminate in the optical recording medium thus prepared under the following recording conditions, the recorded optical information is reproduced, and MT (%) and ST (% ) Was measured.
  • the optical information recording conditions are as follows.
  • Example 8 the thickness of the reflective layer (1) was set to lOOnm (Comparative Example 1) and 120 nm (Comparative Example 2), respectively. Otherwise, the two-layer optical recording medium (Comparative with Comparative Example 1 was compared).
  • Example 2-2 Two samples) were prepared and 2.4X recording and 8X recording were performed in the same manner as in Example 8. The results are shown in Table 2.
  • FIG. 6 is a graph plotting the value of (MT (%) ⁇ ST (%)) against the film thickness of the reflective layer (1) based on the results shown in Table 2. As shown in Fig. 6, it can be seen that the value of (MT (%)-ST (%;)) increases and the crosstalk tends to decrease as the film thickness of the reflective layer (1) increases.
  • the value of (MT (%)-ST (%)) is a force that is almost saturated at a film thickness of lOOnm or more. Crosstalk is lower than that at a film thickness of 80nm.
  • the crosstalk (MT (%) — ST (%) can be obtained by setting the thickness of the reflective layer (1) to be less than the thickness of the conventional reflective layer (usually lOOnm or more). )) Tends to be improved.
  • the thickness of the reflective layer is 40 nm or less, the reflectance tends to decrease, and when the thickness is 30 nm or less, the reflectance is large. It tends to decrease. For this reason, it is not preferable to make the thickness of the reflective layer (1) as thin as less than 30 nm.
  • the two-layer optical recording medium is manufactured by the 2P method using the force transparent stamper described for the manufacturing method of the two-layer optical recording medium by attaching two disk substrates. Can also be manufactured.
  • an ultraviolet curable resin layer is formed on the reflective layer (2) of the positive laminate by spin coating or the like, and a transparent resin stamper is placed on the resin layer.
  • the UV curable resin layer is cured by irradiating ultraviolet rays from the transparent resin stamper side cover, etc., and when sufficiently cured, the resin stamper is peeled off and has a guide groove or a prepit on the surface.
  • a transparent resin layer is formed.
  • a recording layer (1) containing an organic dye is formed by a spin coating method or the like and dried.
  • a reflective layer having a metallic force is also formed.
  • a two-layer type optical recording medium is prepared by forming (1), further providing an adhesive layer on the reflective layer (1), and bonding the substrate (1) through an adhesive.
  • the optical recording medium 100 to which the exemplary embodiment is applied includes a transparent resin layer.
  • the recording mark When the recording mark is formed in the groove (land portion) of the substrate (1) 101 of the reverse laminate 11, the recording mark protrudes from the dye thick film portion in the groove adjacent to the groove. It is possible to suppress the increase in cross cake.
  • the present inventors can reduce the crosstalk by reducing the reflective layer (1) 102 within a specific film thickness range by using a parameter different from the thermal conductivity. I found that there is a sex.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a first embodiment of an optical recording medium to which the present embodiment is applied.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a second embodiment of an optical recording medium to which the present embodiment is applied.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the thickness (t) of a transparent resin layer.
  • FIG. 3 (a) shows a case where the transparent resin layer is composed of a single resin
  • FIG. 3 (b) shows a case where it is composed of a plurality of resin layers.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the relationship between (EX T) and MT (%) for samples 1 to 10.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the thickness of the reflective layer and the transmittance (T), and the thickness of the reflective layer and the reflectance (R).
  • FIG. 6 is a diagram plotting the value of (MT (%) ⁇ ST (%)) against the film thickness of the reflective layer (1) based on the results shown in Table 2.
  • 11 Reverse laminated body, 12 ... Forward laminated body, 100, 200 ...
  • Optical recording medium 101 ... Substrate (1), 102 ... Reflective layer (1), 103 ... Recording layer (1), 104, 204 ... Intermediate layer, 105, 205 ... Transparent resin layer, 10 6 ... Protective coating layer, 107 ... Reflective layer (2), 108 ... Recording layer (2), 109 ... Substrate (2), 110, 21 0 ... Laser light 201 ... Substrate 202 ... Reflective layer 203 ... Recording layer

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

　基板（１）１０１上に反射層（１）１０２及び記録層（１）１０３を積層したディスク基板（逆積層体１１）と、透明な基板（２）１０９上に記録層（２）１０８及び反射層（２）１０７を順次積層したディスク基板（正積層体１２）とを、透明樹脂層１０５を介して貼り合わせた２層型の光記録媒体１００は、透明樹脂層１０５の２５±５°Cにおける弾性率（Ｅ）と厚さ（ｔ）との積（Ｅ×ｔ）が２.０×１０４ＭＰａ・μｍ以上３０．０×１０４ＭＰａ・μｍ以下の範囲に調製されることにより、逆積層体１１の記録層（１）１０３に光情報を記録する際に、隣接するトラック部におよぶ過度の変形が抑制されてクロストークが低減し、高速記録用途で良好な記録再生特性が得られる。

Description

明 細 書
光記録媒体
技術分野
[0001] 本発明は光記録媒体に関し、より詳しくは、高速記録が可能で、且つ良好な記録再 生特性が得られる光記録媒体に関する。
背景技術
[0002] 近年、 CD— R、 CD-RW, MO等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶す ることができ、また、 DVD— RAMのように、ランダムアクセスが容易な媒体も開発さ れ、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知されている 。例えば、有機色素含有記録層を有する代表的な CD— R等は、透明ディスク基板上 に色素記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を 有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録 '再生が行われる。また、こ れら光記録媒体の記録容量をさらに大容量化するために、 1枚の媒体に複数の記録 層を設けた多層型光記録媒体が開発され、例えば、ディスク状の透明な第 1の基板 上に、紫外線硬化性榭脂からなる中間層を挟んで 2個の色素記録層を有する 2層型 光記録媒体が報告されて ヽる (特許文献 1参照)。
[0003] このような、 2層型光記録媒体は、透明スタンパを用いる 2P (Photo Polymerizati on)法と、記録層及び反射層を積層したディスク基板を 2枚形成し、光硬化性榭脂層 を介して貼着する方法とが知られている。例えば、 2P法では、第 1の記録層及び第 1 の反射層が設けられた第 1の基板上に、光硬化性榭脂原料を塗布し、この塗布面上 に凹凸形状を有する透明スタンパを載置した後、光硬化性榭脂原料を硬化させ、次 に透明スタンパを剥離して光硬化性榭脂の表面に凹凸を転写させ、さらにこの凹凸 表面に、第 2の記録層と第 2の反射層とを順次に形成し、最後に第 2の基板を接着す ること〖こより製造する。 2個の記録層には、第 1の基板側から入射する記録再生光を 用 、て光情報を記録 ·再生する。
[0004] 記録層及び反射層を積層したディスク基板を 2枚貼着する方法では、記録トラック 用の案内溝が形成された基板上に記録層と反射層とをこの順に積層（以下、「順積 層体」ということがある。）した第 1のディスク基板と、これに対して、基板上に反射層と 記録層とをこの順に積層（以下、「逆積層体」ということがある。）した第 2ディスク基板 と、を形成し、それぞれのディスク基板に光硬化性榭脂を塗布した後、この塗布面同 士を合わせて光硬化性榭脂を硬化させることにより製造する。 2個の記録層には、第 1のディスク基板側力 入射する記録再生光を用いて光情報が記録 '再生される。こ のようなディスク基板を 2枚貼着する方法は、 2P法のように、透明スタンパの凹凸形 状を転写する工程が不要であり、生産性に優れ、低コストィ匕が図れると考えられる。
[0005] 特許文献 1：特開 2000 - 311384号公報（（0008)欄〜（0019)欄等参照）
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] ところで、有機色素を含有する記録層を備えた光記録媒体にお!ヽては、高速記録 用途におけるクロストークの発生をより抑制した 、と 、う課題がある。
即ち、有機色素を含有する記録層は、通常、集光された記録用レーザ光を吸収し た色素が分解し、その部分の膜厚が減少すると共に圧力が高まり、高温に曝された 記録層周辺が変形して記録部が形成される。この場合、変形した記録部が隣接トラッ ク部に拡大し、また、複数トラックに記録が行われるとクロストークが増大する傾向があ り、良好なジッターが得られに《なるという現象が生じる。
ここで、複数トラックに情報を記録し、隣接する両側のトラックに記録された信号を再 生したときのジッターを MT(%)と称する。また、隣接するトラックに記録がない状態 で 1つのトラックのみに記録した部分を再生して得られるジッターを ST(%)と称する。 MT(%)には、クロストークの影響が含まれるのに対し、 ST(%)にはクロストークの影 響は含まれない。
さらに、高速記録の場合、記録パルスが短小化するため、低速記録の場合より高パ ヮ一の記録用レーザ光を用いて色素を分解する必要がある。その結果、記録層が低 速記録の場合より高温にさらされるため、クロストークの増大が顕著となりやすい。
[0007] このようなクロストークの発生は、特に、 2枚のディスク基板を貼着する方法により形 成される 2層型光記録媒体において、記録再生光の入射面から奥側の第 2層目の記 録層において顕著に見られる。前述したように、 2枚のディスク基板を貼着する方法 により形成される 2層型光記録媒体の第 2層目の記録層は、基板上に反射層と記録 層とを積層した逆積層体のディスク基板に設けられている。このような逆積層体にお いて、基板の溝間部に光情報を記録をする場合は、記録変調度を確保するために、 溝間部の記録層の膜厚を厚くする必要がある。その場合、記録部の隣接トラックは基 板の溝部であるために、溝間部よりも記録層膜厚が厚くなりやすい。このために、溝 部の記録層膜厚が厚くなる分、記録マークが横に広がり、クロストークが増大しやすく なる。このような溝部と溝間部との記録膜厚の差は、有機色素溶液を塗布する場合に 発生しやすい。
[0008] また、 2層型光記録媒体における記録再生光の入射面力 奥側に設けた第 2の基 板は、記録再生光の反射率を確保するために、案内溝の深さが従来よりも浅く設定さ れている。このため、案内溝の物理的障壁効果が小さくなり、記録時に基板の榭脂の 流動変形等による過度の変形が生じ、クロストークが増大しやす 、。
[0009] 本発明は、このような課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる 光記録媒体を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0010] カゝかる課題を解決するために、本発明においては、逆積層体に接する透明榭脂層 の弾性率 (E)と厚さ (t)との積 (E X t)を、特定の範囲に調節して！/、る。
即ち、本発明によれば、基板と、反射層と記録層とをこの順に有する逆積層体と、 逆積層体の記録層側に設けられる透明榭脂層と、を具え、透明榭脂層の厚さ (t)と 2 5± 5でにぉける弹性率 ）との積 1 が2. 0 Χ 104ΜΡ&· /ζ πι以上である光記 録媒体が提供される。
[0011] ここで、透明榭脂層の厚さ (t)と 25± 5°Cにおける弾性率 (Ε)との積 (E X t)は、 30
. 0 Χ 104ΜΡ&· /ζ πι以下であることが好ましい。
また、透明榭脂層を構成する榭脂の 25± 5°Cにおける弾性率 (Ε)が、 3.0 X 103M
Pa以上 6.0 X 103MPa以下であることが好ましい。
[0012] さらに、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体を構成する記録層が
、有機色素を含有するものであることが好ましい。特に、後述する図 1に示すような 2 層型の光記録媒体において、基板、反射層及び記録層からなる逆積層体に記録し たときのクロスストークが低減し、 MT(%)が改善される。尚、基板と反射層との間、ま たは反射層と記録層との間に、適宜他の層を設けてもよい。
[0013] また、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体を構成する記録層と接 する透明榭脂層との間に、中間層をさらに設けることが好ましい。中間層を設けること により、透明榭脂層からしみ出る成分が、透明榭脂層と接する記録層を汚濁または 溶解することを防止することができる。
[0014] さらに、本発明が適用される光記録媒体において、逆積層体と接する透明榭脂層 の、逆積層体側とは反対側に、第 2の反射層と第 2の記録層と透明基板とを順番に設 けることにより、多層型の光記録媒体に展開することができる。
[0015] 一方、本発明は、光照射により光情報の記録'再生が行われる記録層と、記録層の 光入射面側に設けられた透明榭脂層と、記録層の光入射面とは反対側に設けられ た反射層と、を有し、透明榭脂層の厚さ (t)と 25± 5°Cにおける弾性率 (E)との積 (E X t)が 2. 0 Χ 104ΜΡ&· /ζ πι以上である光記録媒体として把握することができる。 即ち、光入射面とは反対側に反射層を有する記録層の光入射面側に、特定の X t)の数値を示す透明榭脂層を設けた構成を有する光記録媒体にお!ヽて、隣接す るトラック部に及ぶ過度の変形が抑制され、高速記録でのクロストークが低減し、さら にジッターを改善することが可能である。このような性能の改善は、膜面入射型の光 記録媒体に限らず、多層型の光記録媒体において、光入射面から奥側に設けられ た記録層にお 、て顕著である。
ここで、透明榭脂層が、ガラス転移温度 150°C以上を有する透明樹脂から構成され ることが好ましい。このような透明榭脂を用いて透明榭脂層を構成することにより、透 明榭脂層の硬さを増大させ、ジッターを改善すると考えられる。
[0016] また、本発明によれば、基板、反射層、記録層及び透明榭脂層をこの順番に有す る光記録媒体であって、反射層は、銀 (Ag)を主成分とする金属を含み、且つ、膜厚 が 30nm以上 80nm以下であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
即ち、本発明が適用される光記録媒体は、基板、反射層、記録層及び透明榭脂層 をこの順番に有する逆積層体構造を有し、銀を主成分とする金属を含む反射層の膜 厚を 30nm以上 80nm以下とすると、記録層側から反射層に入射した光ビームの一 部を透過させることができる。そうすると、記録層に情報を記録する際のエネルギーが 拡散するため、例えば、有機色素を含む記録層に記録マークが形成される追記型光 記録媒体の場合、隣接トラックに記録マークがはみ出す (クロストーク)現象が抑制さ れ、その結果、ジッターを改善することが可能である。
ここで、反射層が、 Agを 50%以上含むことが好ましぐさらに、 Agを主成分とし、 Ti 、 Bi、 Zn、 Cu、 Pd及び希土類金属のうち 1種以上の元素を 0. 1原子％〜15原子％ 含有することが好ましい。
発明の効果
[0017] 力べして本発明によれば、高速記録用途において良好な記録再生特性が得られる 光記録媒体が得られる。
発明を実施するための最良の形態
[0018] 以下、本発明を実施するための最良の形態 (以下、発明の実施の形態）について 説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなぐその要旨の 範囲内で種々変形して実施することが出来る。
(第 1の実施形態）
図 1は、本実施の形態が適用される光記録媒体の第 1の実施形態 (この例では、片 側入射 2層型 DVD)を説明する図である。図 1には、透明基板上に反射層及び記録 層を積層したディスク基板 (逆積層体 11)と、透明基板上に記録層及び反射層を順 次積層したディスク基板 (正積層体 12)と、カゝらなる 2層型の光記録媒体 100が示さ れている。
[0019] 図 1に示すように、光記録媒体 100は、逆積層体 11として、溝及びランド又はプリピ ットが形成されたディスク状の光透過性の基板（1) 101と、この基板（1) 101のレーザ 光 110の入射面側に設けられた反射層（1) 102と、色素を含む記録層 (1) 103と、中 間層 104と、を有している。また、正積層体 12として、溝及びランド又はプリピットが形 成されたディスク状の光透過性の基板（2) 109と、基板（2) 109上に設けられた色素 を含む記録層 (2) 108と、基板（2) 109側カゝら入射したレーザ光 110のパワーを振り 分ける半透明の反射層（2) 107と、反射層（2) 107上に設けられた保護コート層 106 と、を有する。そして、逆積層体 11と正積層体 12とは、中間層 104と保護コート層 10 6とが対向するように、透明榭脂層 105を介して積層され、 2層型の光記録媒体 100 を構成している。また、記録層 (1) 103及び記録層 (2) 108は、正積層体 12の基板（ 2) 109側力も入射したレーザ光 110により、光情報の記録再生が行われる。
[0020] (逆積層体）
次に、光記録媒体 100を構成する逆積層体 11の各層について説明する。図 1に示 すように、逆積層体 11は、基板（1) 101と、基板（1) 101上に積層された反射層（1) 102、記録層（1) 103及び中間層 104(以下、 L1層ということがある。）とから構成さ れる。
[0021] (基板 (1))
基板（1) 101を構成する材料は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等光学特性 に優れることが望ましい。また射出成形が容易である等成形性に優れることが望まし い。さらに、吸湿性が小さいことが望ましい。さらに、光記録媒体 100がある程度の剛 性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。このような材料としては、特に限 定されないが、例えば、アクリル系榭脂、メタクリル系榭脂、ポリカーボネート榭脂、ポ リオレフイン系榭脂（特に非晶質ポリオレフイン）、ポリエステル系榭脂、ポリスチレン榭 脂、エポキシ榭脂、ガラス等が挙げられる。また、ガラス等の基体上に、光硬化性榭 脂等の放射線硬化樹脂からなる榭脂層を設けたもの等も使用できる。これらの中でも 、光学特性、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点力 はポリ カーボネートが好ましい。また、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレ フィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
[0022] また、基板（1) 101は、必ずしも光透過性が必要ではないので、機械的安定性を高 め、剛性を大きくするために、適当な材料力もなる裏打ちを設けることができる。この ような材料としては、例えば、 A1を主成分とした Al— Mg合金等の A1合金基板; Mgを 主成分とした Mg— Zn合金等の Mg合金基板;シリコン、チタン、セラミックス、紙等の 基板またはこれらの組み合わせが挙げられる。
[0023] 逆積層体 11を構成する基板（1) 101の案内溝部の溝深さは、記録再生波長をえと して、通常、 λ ΖΐΟΟ以上、好ましくは、 2 λ Ζΐ00以上、さらに好ましくは、 3 λ Ζΐ0 0以上であり、但し、 λ Ζ6以下が好ましい。例えば、記録再生光の波長（記録再生 波長）がえ =660nmの場合、基板（1) 101の溝深さは、通常、 6. 6nm以上、好まし くは 13nm以上、さらに好ましくは、 20nm以上である。
[0024] また、基板（1) 101の溝深さの上限は、この例の場合には、 l lOnm以下とすること が好ましい。特に、本実施の形態が適用される光記録媒体 100の場合、基板（2) 10 9及び透明榭脂層 105を介して記録層 (1) 103に入射するレーザ光 110の光量及び 反射光量は、記録層 (2) 108及び反射層（2) 107により減衰され、反射率が低くなる ために、 7 λ ΖΐΟΟ以下が好ましい溝深さの上限となる。例えば記録再生波長をえ = 660nmとすると、基板（1) 101の溝深さは、 46. 2nm以下とするのが好ましい。よ り好ましくは 6 λ Ζ100以下である。
[0025] 逆積層体 11における基板（1) 101の溝幅は、トラックピッチを Tとして、通常、 TZ1 0以上、好ましくは、 2TZ10以上、さらに好ましくは、 3TZ10以上である。但し、通 常、 8TZ10以下、好ましくは 7TZ10以下、さらに好ましくは 6TZ10以下である。基 板（1) 101の溝幅がこの範囲であれば、トラッキングを良好に行うことができ、十分な 反射率を得ることができる。例えば、トラックピッチを 740nmとすると、基板（1) 101の 溝幅は、通常、 74nm以上、好ましくは 148nm以上、さらに好ましくは 222nm以上と する。また、上限は、この例の場合には、通常、 592nm以下、より好ましくは 518nm 以下、さらに好ましくは 444nm以下とする。基板（1) 101はある程度厚いことが好まし ぐ基板（1) 101の厚さは、通常、 0. 3mm以上が好ましい。但し、 3mm以下、好まし くは 1. 5mm以下である。
[0026] (反射層（1) )
逆積層体 11の反射層（1) 102を構成する材料としては、特に限定されないが、例 えば、 Au、 Al、 Ag、 Cu、 Ti、 Cr、 Niゝ Pt、 Ta、 Pd、 Mg、 Se、 Hf、 V、 Nb、 Ru、 W、 Mn、 Re、 Fe、 Co、 Rh、 Ir、 Zn、 Cd、 Ga、 In、 Si、 Ge、 Te、 Pb、 Po、 Sn、 Bi、希土 類金属等の金属及び半金属を単独または合金にして用いることが可能である。これ らの中でも、 Au、 Al、 Agが好ましぐ特に、 Agを 50%以上含有する金属材料はコス トが安い点、反射率が高い点から好ましい。
[0027] また、 Agを主成分とし、 Ti、 Zn、 Cu、 Pd、 Au及び希土類金属よりなる群力 選ば れる少なくとも 1種の元素を 0. 1原子％〜 15原子％含有することが好ましい。 Ti、 Bi 、 Zn、 Cu、 Pd、 Au及び希土類金属のうち 2種以上の元素を含む場合は、各々の含 有量を 0. 1〜15原子％としても力まわないが、それらの合計含有量が 0. 1原子％〜 15原子％であることが好ましい。
[0028] さらに好まし 、合金組成は、 Agを主成分とし、 Ti、 Bi、 Zn、 Cu、 Pd、 Auよりなる群 力 選ばれる少なくとも 1種の元素を 0. 1原子％〜15原子％含有し、必要に応じ、少 なくとも 1種の希土類元素を 0. 1原子％〜15原子％含有するものである。希土類金 属の中では、ネオジゥムが特に好ましい。具体的には、 AgPdCu、 AgCuAu、 AgCu AuNd、 AgCuNd、 AgBi、 AgBiNd等である。尚、本実施の形態において使用され る合金の組成比は上述した範囲のものである。
尚、「Agを主成分とする」とは、合金組成中の Ag力 通常 50%以上、好ましくは 70 %以上、より好ましくは 80%以上のことをいう。また、純 Agを用いることも可能である。
[0029] 反射層（1) 102としては、 Auのみ力もなる層は結晶粒が小さぐ耐食性に優れ好適 である。また、反射層（1) 102として S もなる層を用いることも可能である。さらに、 金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形 成し、反射層として用いることも可能である。
反射層（1) 102を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティン グ法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
逆積層体 11における反射層（1) 102は、高反射率、かつ高耐久性であることが望 ましい。高反射率を確保するために、反射層（1) 102の厚さは、通常、 30nm以上、 好ましくは、 40nm以上、さらに好ましくは 50nm以上である。但し、生産上のタクトタ ィムを短縮しコストを低減するためには、通常、 400nm以下、好ましくは 300nm以下 である。
[0030] ここで、本実施の形態が適用される光記録媒体 100において、逆積層体 11の反射 層（1) 102が銀を主成分とする金属を含む場合は、反射層（1) 102の膜厚は、 30η mから 80nmの範囲とすることがさらに好ましい。特に、銀を主成分とする反射層（1) 102の膜厚が 30nmから 80nmの範囲の場合は、反射層（1) 102の反射率の低下と 透過率の上昇とがバランスすることによりエネルギー拡散が生じ、その結果、クロスト ークが改善できる傾向にある。
逆積層体 11において、反射層（1) 102が銀を主成分とする金属を含み、且つ、膜 厚が上述した特定の範囲の場合に、クロストークが改善できる傾向にある理由は、以 下のように考えられる。即ち、反射層（1) 102の膜厚を薄くするほど、反射層（1) 102 の反射率 (R)は低下し、一方、反射層（1) 102の透過率 (T)は上昇する。ここで、図 5は、反射層の膜厚と透過率 (T)、反射層の膜厚と反射率 (R)との関係を説明する 図である。図 5 (a)は反射層の膜厚と透過率 (T)との関係を示し、図 5 (b)は反射層の 膜厚と反射率 (R)との関係を示す。図 5 (a)に示すように、反射層の膜厚が 80nm付 近より薄くなると透過率 (T)が上昇し、膜厚が 30nmより薄くなると透過率 (T)は 5%を 超える。また、図 5 (b)に示すように、反射層の膜厚が 80nm付近より薄くなると反射 率 (R)が低下し、膜厚が 30nmより薄くなると反射率 (R)は 85%未満となる。尚、図 5 において、反射率 (R)及び透過率 (T)は、波長 650nmの光の場合に、単層の銀反 射層（但し、屈折率 n=0. 05、消衰係数 k=4. 25)について計算したものである。 このように、反射層（1) 102の透過率 (T)が上昇するに伴いエネルギー拡散が生じ る。そうすると、記録層 (1) 103における記録時の記録マーク内や記録マーク間の熱 干渉が低減し、その結果、記録層 (1) 103における過度の蓄熱ゃ変化が抑制され、 クロストークが低減されると考えられる。
また、反射層（1) 102の膜厚を従来よりも薄く形成することにより、その反射層（1) 1 02が基板の溝の形状をより厳密にカバーする（トレースする)傾向がある。そのため、 トラックピッチを狭くした場合においても、溝部と溝間部とが明確に分けられるため、ク ロストークが低減される可能性がある。
尤も、反射層（1) 102の膜厚が過度に薄いと、反射率 (R)が急激に低下するため 好ましくない。そのため、記録層 (1) 103の膜厚は 30nm以上であることが好ましぐ より好ましくは 40nm以上である。また、通常、銀を主成分とする金属を含む反射層の 膜厚は lOOnm以上である力 この場合は、透過率 (T)が低いのでエネルギー拡散 がほとんど生じない。このため、記録層（1) 103の膜厚は 80nm以下であることが好ま しい。
また、反射層（1) 102を、通常の lOOnmより薄い膜厚で形成する場合は、スパッタ 時間が短縮できるとともに、スパッタの際に、基板（1) 101の温度上昇が低減される。 このため、スパッタされる原子の凝集 (migration)が緩和されるために、粒径が小さく 、良質で表面粗さの小さい反射層（1) 102が形成できる可能性があり、コストパフォー マンスも改善される。
[0031] (記録層（1) )
逆積層体 11における記録層（1) 103は、通常、例えば、 CD— R、 DVD-R, DV D+R等の片面型記録媒体に用いられる記録層と同程度の感度の色素を含有する。 このような色素は、 350nm〜900nm程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長 λ maxを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ま 、。 中でも、通常 CD—Rに用いられるような波長 770nm〜830nm程度の近赤外レーザ (例えば、 780nm、 830nm)、 DVD—Rに用いられるような波長 620nm〜690nm 程度の赤色レーザ（例えば、 635nm、 660nm、 680nm)、波長 410nm又は 515η m等のいわゆるブルーレーザ等による記録に適する色素がより好ましい。尚、相変化 型材料を使用することも可能である。
[0032] 記録層 (1) 103に使用される色素としては、特に限定されないが、通常、有機色素 材料が使用される。有機色素材料としては、例えば、大環状ァザァヌレン系色素（フ タロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、 ポリメチン系色素（シァニン色素、メロシアニン色素、スクヮリリウム色素等）、アントラキ ノン系色素、ァズレニウム系色素、含金属ァゾ系色素、含金属インドア-リン系色素 等が挙げられる。これらの中でも、含金属ァゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久 性、耐光性に優れるため好ましい。これらの色素は 1種又は 2種以上混合して用いて も良い。
[0033] また、記録層 (1) 103には、記録層の安定ゃ耐光性向上のために、一重項酸素ク ェンチヤ一として遷移金属キレートイ匕合物（例えば、ァセチルァセトナートキレート、ビ スフエ-ルジチオール、サリチルアルデヒドォキシム、ビスジチォ一 OCージケトン等） 等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有して!/、ても 良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスタ一等の 形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、ァゾメチン系 錯体、フエ-ルヒドロキシアミン系錯体、フエナント口リン系錯体、ジヒドロキシァゾベン ゼン系錯体、ジォキシム系錯体、ニトロソァミノフエノール系錯体、ピリジルトリアジン 系錯体、ァセチルァセトナート系錯体、メタ口セン系錯体、ボルフイリン系錯体のような 有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属で あることが好ましい。
[0034] さらに、記録層 (1) 103には、必要に応じて、バインダー、レべリング剤、消泡剤等 を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビュルアルコール、ポリビ -ルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系榭脂、アクリル系榭脂、ポ リスチレン系榭脂、ウレタン系榭脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオ レフイン等が挙げられる。
[0035] 記録層 (1) 103の成膜方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、ス ノ ッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行 われている薄膜形成法が挙げられる力 量産性、コスト面からはスピンコート法等の 湿式製膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が 好ましい。
[0036] スピンコート法による成膜の場合、回転数は 10rpm 15000rpmが好ましぐスピ ンコートの後、一般的に加熱処理を行い、溶媒を除去する。ドクターブレード法、キヤ スト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶 媒としては、基板を侵さない溶媒であればよぐ特に限定されない。例えば、ジァセト ンアルコール、 3—ヒドロキシー3—メチルー 2—ブタノン等のケトンアルコール系溶媒 ；メチルセ口ソルブ、ェチルセ口ソルブ等のセロソルブ系溶媒； n キサン、 n—オタ タン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロへキサン、メチルシクロへキサン、ェチルシクロ へキサン、ジメチルシクロへキサン、 n—ブチルシクロへキサン、 tert—ブチルシクロ へキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルォロプロノ V—ル、ォ クタフルォロペンタノール、へキサフルォロブタノール等のパーフルォロアルキルアル コール系溶媒；乳酸メチル、乳酸ェチル、 2—ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシ カルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
[0037] これらの溶媒を除去するための加熱処理は、溶媒を除去し、且つ、簡便な設備によ り行うという観点から、通常、使用する溶媒の沸点よりやや低い温度で行われ、通常、
60°C〜100°Cの範囲で行われる。また、加熱処理の方法は、特に限定されないが、 例えば、基板（1) 101上に記録層 (1) 103を形成するために色素を含有する溶液を 塗布して成膜した後、所定の温度で所定時間 (通常、 5分間以上、好ましくは 10分間 以上、但し、通常、 30分間以内、好ましくは 20分間以内)保持する方法が挙げられる 。また、赤外線、遠赤外線を短時間 (例えば、 5秒間〜 5分間）照射し、基板（1) 101 を加熱する方法も可能である。
[0038] 真空蒸着法の場合は、例えば、有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層 成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで 10一2〜 10_5Pa程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、 るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより行われる。
[0039] 逆積層体 11の記録層 (1) 103の厚さは、通常、 50nm以上、好ましくは、 60nm以 上であり、但し、通常、 150nm以下、好ましくは、 lOOnm以下である。記録層（1) 10 3の厚さがこの範囲とすれば、充分な記録信号振幅を確保しつつ、感度の低下を抑 制することができる。また、記録層 (1) 103の厚さが過度に大きいと、感度が低下する 場合がある。
[0040] (中間層）
中間層 104は、必要に応じて、逆積層体 11に設けられる。一般的に、中間層 104 は、透明榭脂層 105からしみ出る成分が記録層 (1) 103を汚濁または溶解することを 防止するため、記録層（1) 103と透明榭脂層 105の間に設けられる。中間層 104の 厚さは、通常、 lnm以上、好ましくは、 2nm以上である。中間層 104の厚さがこの範 囲とすれば、透明榭脂層の 105からしみ出る成分を効果的に抑制できる。但し、中間 層 104の厚さは、 2000nm以下力 子ましく、より好ましくは 500nm以下である。中間 層 104の厚さがこの範囲とすれば、光の透過率の低下を防止できる。また、中間層 1 04を無機物からなる層とする場合には、成膜に時間を要する場合があるので、生産 性の低下を抑制し、膜応力が高くなることを良好な範囲にするために、 200nm以下 とすることが好ましい。特に、中間層 104に金属を用いる場合は、光の透過率が過度
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しい。
[0041] 中間層 104を構成する材料としては、例えば、金属薄膜、酸化ケィ素、窒化ケィ素 、 MgF、 SnO ZnS-SnO等の誘電体が挙げられる。
2 2、 2
尚、基板（1) 101と記録層 (1) 103との間、基板（2) 109と記録層 (2) 108との間、 記録層 (2) 108と反射層（2) 107との間等に、それぞれ中間層 104と同様な材料か らなる層を設けても良い。
[0042] (透明榭脂層）
次に、逆積層体 11のレーザ光 110の入射面側に接して設けられた透明榭脂層 10 5について説明する。
本実施の形態が適用される 2層型の光記録媒体 100における透明榭脂層 105は、 基板（2) 109側力も入射するレーザ光 110が記録層 (1) 103に到達する程度の光透 過性材料から構成される。特に、逆積層体 11との関係においては、透明榭脂層 105 の弾性率 (E) (単位: MPa)と透明榭脂層 105の厚さ (t) (単位： m)との積 (EX t) ( 単位: MPa' /zm)力 所定の数値以上の大きさを有することにより、逆積層体 11の 記録層 (1) 103の光情報の記録において、隣接するトラック部におよび過度の変形 を抑制することができる。その結果、光記録媒体 100は、 L1層の高速記録におけるク ロストークが低減し、ジッターが改善される。ここで、透明榭脂層 105の「透明」とは、 光記録媒体 100に入射するレーザ光 110を散乱する構造を有しな ヽ、 t ヽぅ意味で ある。ここで、「散乱」は、光記録媒体 100の記録再生特性に大きな影響を与える程 度の散乱をいう。
[0043] 本実施の形態が適用される 2層型の光記録媒体 100において、透明榭脂層 105の 弾性率 ）（単位: MPa、但し、温度 25±5°Cにおける測定値。）と透明榭脂層 105 の厚さ（t) (単位： /zm)との積（EXt) (単位： MPa' /zm)は、 2.0X104MPa. /zm 以上、好ましくは、 2.5X104MPa' 以上、より好ましくは 4.0X104MPa' /zm 以上、さらに好ましくは 5.0Χ104ΜΡ&·/ζπι以上、特に好ましくは 7.0X104MPa- μ m以上であり、より特に好ましくは 9.0X104MPa- μ m以上であり、最も好ましくは 10.0X104MPa' /zm以上である。（EXt)が 2.0 X 104MPa' m以上の場合は、 透明榭脂層 105の機械強度 (剛直性)を確保することができ、 L1層（図 1)の記録層（ 1) 103の光情報の記録において、隣接するトラック部におよび過度の変形を抑制す ることがでさる。
[0044] 但し、透明榭脂層 105の弾性率 (E) (単位: MPa)と透明榭脂層 105の厚さ (t) (単 位： m)との積（EXt) (単位： MPa' wm)の上限は、通常、 30. OX 104MPa- ,u m 以下、好ましく ίま 21.0Χ104ΜΡ&·/ζπι以下、より好ましく ίま 17. 5 X 104MPa- ,u m 以下、さらに好ましくは 13. SXlC^MPa'wm以下である。（EXt)の上限が 30. OX 104MPa- μ m以下の場合、 2層型の光記録媒体 100の L1層（図 1)に対してフォー カスを良好にかけることが可能となり、記録層 (1) 103を適切に記録再生できる。また 、例えば、膜面入射型の光記録媒体の場合に、対物レンズの焦点距離を小さくでき、 高密度記録を良好に行うことができる。
[0045] 透明榭脂層 105を構成する榭脂として、通常、弾性率 (E)が、 1.0X103MPa以上 、好ましくは、 2. OX 103MPa以上、より好ましくは、 3. OX 103MPa以上、さらに好ま しくは、 4.0X103MPa以上とする。弾性率 (E)が 1.0 X 103MPa以上の榭脂を用 いて (EXt)が 2.0Χ104ΜΡ&·/ζπι以上となるように透明榭脂層 105を構成すること により、 L1層（図 1)の記録 '再生において、いわゆる閉じこめ効果がより高められる。 但し、弾性率 (Ε)の上限は、通常、 6.0X103MPa以下である。弾性率 (E)が 6.0 X103MPa以下の榭脂を用いることにより、例えば、塗布等の溶液法により透明榭脂 層 105を製膜することが可能となり、工業的に有利である。
[0046] 次に、透明榭脂層 105の厚さ (t)について説明する。図 3は、透明榭脂層の厚さ (t) について説明する図である。図 3(a)は、透明榭脂層が単一榭脂で構成されている場 合であり、図 3(b)は、透明榭脂層が複数の榭脂層から構成されている場合である。 即ち、透明榭脂層 105の厚さ (t)は、透明榭脂層 105が単一榭脂で構成されている 場合 (ケース a)と、透明榭脂層 105が複数の榭脂層から構成されて ヽる場合 (ケース b)とで、以下のように説明される。
[0047] (ケース a)
図 3(a)に示すように、逆積層体に接する透明榭脂層が単一榭脂で構成されている 場合は、透明榭脂層の膜厚 (h)の 2分の l(hZ2)であって、逆積層体に接する側の 部分の膜厚を透明榭脂層の厚さ (t)とする。 透明榭脂層 105が単一の榭脂から構成される場合、逆積層体 11の L1層のクロスト ークに大きな影響をもたらすのは、透明榭脂層 105の逆積層体 11に接して ヽる部分 であると考えられる。即ち、透明榭脂層 105の逆積層体 11に接していない側の部分 は、 L1層の記録層 (1) 103に光情報を記録する場合に、隣接トラック方向への拡大 を抑制する局所的な拘束力を与える働きに乏しいと考えられる。従って、透明榭脂層 105が単一樹脂で構成されている場合は、 L1層と L0層（図 1参照）との間隔の 2分の 1であって、逆積層体 11に接する側の部分の膜厚を透明榭脂層 105の厚さ (t)とす る。
[0048] 図 1に示す 2層型の光記録媒体 100の場合、透明榭脂層 105の膜厚 (h)は、通常 、 200 μ m以下、好ましくは 100 μ m、より好ましくは 80 μ m以下である。特に、 DVD 2層ディスク規格においては、 L1層と L0層との間隔は 40 μ m〜70 μ mが好ましいと されているため、この場合、透明榭脂層 105の膜厚 (h)は、 以下が好ましい。 例えば、（ケース a)の場合の透明榭脂層 105の厚さ（t)は、通常、 20 m以上である 。尚、もし、透明榭脂層 105の膜厚 (h)が 5 m以下の場合は、透明榭脂層 105の厚 さ（t)は、 5 μ mとする。また、透明榭脂層 105の膜厚 (h)が 35 μ m以上の場合は、透 明榭脂層 105の厚さ（t)は 35 μ mとする。
[0049] (ケース a)の場合にぉ 、て、透明榭脂層 105の厚さ（t)力 この範囲の場合は、 2層 型の光記録媒体 100の L1層に良好にフォーカスをかけることが可能となり、 L0層と L 1層を光学的に分けて良好に再生することができ、且つ、記録層 (1) 103を適切に記 録再生できる。また、例えば、後述するように、図 2に示すような、膜面入射型の光記 録媒体の場合に、対物レンズの焦点距離を小さくでき、高密度記録を良好に行うこと ができる。特に、 2層型の光記録媒体 100において、（ケース a)の場合の透明榭脂層 105の厚さ（t)は、 20 μ m〜28 μ mであることが最も好まし!/、。（ケース a)の場合の 透明榭脂層 105の厚さ (t)がこのような範囲である場合に、透明榭脂層 105の弾性 率 (E)と透明榭脂層 105の厚さ（t)との積 (E X t)を 2. 0 X 104 (MPa- μ m)以上とす れば、安定な L1層記録が可能となる。
[0050] (ケース b)
次に、図 3 (b)に示すように、透明榭脂層が複数の榭脂層 (透明榭脂層（1)、透明 榭脂層（2) · · '透明榭脂層 (n) )から構成される場合は、これら複数の榭脂層の中、 逆積層体に接する榭脂層の膜厚を透明榭脂層の厚さ (t)とする。但し、逆積層体に 接する透明榭脂層（1)の膜厚が 35 μ m以上の場合には、透明榭脂層の厚さ (t)は 3 5 μ mとする。
[0051] 2層型の光記録媒体 100を製造方法として、例えば、 L1層を有する逆積層体 11の 上に、光透過性の榭脂 Aを塗布し、一方、 L0層を有する正積層体 12の上に榭脂 B を塗布し、榭脂 Aと榭脂 Bとを接触させて硬化し、 2層ディスクを調製する方法が挙げ られる。この場合、前述したように、透明榭脂層 105の逆積層体 11に接していない側 の榭脂層（榭脂 Bから構成される榭脂層）は、 L1層の記録層 (1) 103に光情報を記 録する場合に、隣接トラック方向への拡大を抑制する局所的な拘束力を与える働き に乏しいと考えられる。従って、 L0層を有する正積層体 12側の榭脂層には、逆積層 体 11に接する側の榭脂層とは異なる紫外線硬化榭脂、紫外線硬化接着剤等を使用 することができる。また、透明榭脂層 105は、全体の応力を緩和できるような柔軟な榭 脂層と (E X t)が所定の数値以上である榭脂層とを積層することが好ましい。
[0052] また、（ケース b)の場合、 2層型の光記録媒体 100の透明榭脂層 105の全体の膜 厚は、通常、 200 μ m以下、好ましくは 100 μ m以下、より好ましくは 80 μ m以下であ る。特に、 DVD2層ディスク規格においては、 L1層と L0層との間隔は 40 /ζ πι〜70 mである。また、複数の榭脂層から構成される透明榭脂層 105の中、逆積層体 11 に接する榭脂層（図 3 (b)透明榭脂層（1) )の膜厚が 35 μ m以上の場合は、透明榭 脂層 105の厚さ (t)は 35 μ mとする。逆積層体 11に接する榭脂層（図 3 (b)透明榭脂 層（1) )の膜厚は、通常、 3 m以上が好ましぐより好ましくは 4 m以上、さらに好ま しくは 10 /ζ πι、特に好ましくは 15 m以上である。透明榭脂層 105の厚さ (t)が過度 に小さ 、場合は、クロストークの低減効果が十分に発揮されな 、おそれがある。
[0053] 尚、複数の榭脂層から構成される透明榭脂層 105の中、逆積層体 11に接する榭 脂層（図 3 (b)透明榭脂層（1) )の膜厚が 5 μ m以下の場合には、厚さ (t)を 5 μ mとし て、以下の方法により (E X t)を計算する。即ち、透明榭脂層 105の弾性率 (E)と透 明榭脂層 105の厚さ (t)との積 (E X t)は、厚さ (t) 5 μ mに相当する榭脂層の複合体 として透明榭脂層（1)と透明榭脂層（2)とから計算する。即ち、例えば、逆積層体 11 に接する榭脂層（図 3 (b)透明榭脂層（1) )の弾性率を El、膜厚が: m、逆積層体 11に接する榭脂層（図 3 (b)透明榭脂層（1) )に隣接する榭脂層（図 3 (b)透明榭脂 層（2) )の弾性率 E2とすると、（E X t)は、El X l +E2 X 4と計算される。尚、この例 は、透明榭脂層（1)と透明榭脂層（2)との合計膜厚が 5 μ m以上となる例である。例 えば、透明榭脂層（1)、透明榭脂層（2)、透明榭脂層（3)が 5 μ mとなる場合も上述 した計算例に準じて (E X t)を計算すればよ！、。
[0054] 次に、透明榭脂層 105を構成する材料の具体例にっ 、て説明する。
透明榭脂層 105を構成する材料としては、例えば、熱可塑性榭脂、熱硬化性榭脂 、電子線硬化性榭脂、紫外線硬化性榭脂 (遅延硬化型を含む)等を挙げることができ る。透明榭脂層 105を構成する材料は、これらの中から適宜選択される。熱可塑性榭 脂、熱硬化性榭脂等は、必要に応じて適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これ を塗布し、乾燥 (加熱)することによって形成することができる。紫外線硬化性榭脂は 、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し 、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの材料は単 独または混合して用いても良 ヽ。
[0055] 塗布方法としては、スピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられ、こ の中でもスピンコート法が好まし ヽ。高粘度の榭脂はスクリーン印刷等によっても塗布 形成できる。紫外線硬化性榭脂は、 20°C〜40°Cにおいて液状であるものを用いるこ とが好ましい。これは、溶媒を用いることなく塗布できるため生産性が良好となるから である。また、塗布液の粘度は 20mPa' s〜l. O X 103mPa' sとなるように調製するの が好ましい。
[0056] 透明榭脂層 105を構成する材料の中でも、紫外線硬化性榭脂は、透明度が高ぐ 硬化時間が短く製造上有利な点で好ましい。紫外線硬化性榭脂としては、ラジカル 系紫外線硬化性榭脂とカチオン系紫外線硬化性榭脂が挙げられ、 Vヽずれも使用す ることができる。ラジカル系紫外線硬化性榭脂は、紫外線硬化性化合物と光重合開 始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単 官能 (メタ)アタリレート及び多官能 (メタ)アタリレートを重合性モノマー成分として用 いることができる。これらは、各々、単独または 2種類以上併用して用いることができる 。ここで、アタリレートとメタアタリレートとを併せて (メタ)アタリレートと称する。
[0057] 単官能 (メタ）アタリレートとしては、例えば、置換基としてメチル、ェチル、プロピル、 ブチル、ァミル、 2—ェチルへキシル、ォクチル、ノエル、ドデシル、へキサデシル、ォ クタデシル、シクロへキシル、ベンジル、メトキシェチル、ブトキシェチル、フエノキシェ チル、ノニルフエノキシェチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、 2—ヒドロキシェチ ル、 2—ヒドロキシプロピル、 3—クロロー 2—ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル 、ジェチルアミノエチル、ノニルフエノキシェチルテトラヒドロフルフリル、力プロラタトン 変性テトラヒドロフルフリル、イソボル-ル、ジシクロペンタ -ル、ジシクロペンテ-ル、 ジシクロペンテ-口キシェチル等の基を有する（メタ）アタリレート等が挙げられる。
[0058] 多官能 (メタ）アタリレートとしては例えば、 1、 3—ブチレングリコール、 1、 4—ブタン ジオール、 1、 5—ペンタンジオール、 3—メチルー 1、 5—ペンタンジオール、 1、 6— へキサンジオール、ネオペンチルグリコール、 1、 8—オクタンジオール、 1、 9ーノナン ジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール 、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピ レングリコール等のジ (メタ）アタリレート、トリス（2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレート のジ (メタ）アタリレート等が挙げられる。
[0059] また、ネオペンチルグリコール 1モルに 4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロ ピレンオキサイドを付カ卩して得たジオールのジ（メタ）アタリレート、ビスフエノール A1 モルに 2モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付カ卩して得たジォ 一ルのジ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパン 1モルに 3モル以上のエチレンォ キサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ (メタ）ァ タリレート、ビスフエノール A1モルに 4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレ ンオキサイドを付カ卩して得たジオールのジ (メタ）アタリレート、トリメチロールプロパント リ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトール のポリ (メタ）アタリレート、エチレンオキサイド変性リン酸 (メタ)アタリレート、エチレンォ キサイド変性アルキル化リン酸 (メタ)アタリレート等が挙げられる。
[0060] また、これらの重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマー として、ポリエステル (メタ）アタリレート、ポリエーテル (メタ）アタリレート、エポキシ (メタ )アタリレート、ウレタン (メタ）アタリレート等が挙げられる。
[0061] さらに、ラジカル系紫外線硬化性榭脂には、通常、光重合開始剤を配合する。光重 合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。このような 光重合開始剤として、分子開裂型としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、 2、 4 ジェチルチオキサントン、 2 イソプロピルチォキサントン、ベンジル、 2、 4、 6 -トリメチルベンゾィルジフエ-ルフォスフィンォキシド、 2 -ベンジル - 2-ジメチル ァミノ一 1— (4—モルフォリノフエ-ル）一ブタン一 1—オン、ビス（2、 6 ジメトキシべ ンゾィル）—2、 4、 4 トリメチルペンチルフォスフィンォキシド等が挙げられる。
[0062] さらに、 1ーヒドロキシシクロへキシルフエ-ルケトン、ベンゾインェチルエーテル、ベ ンジルジメチルケタール、 2—ヒドロキシ 2—メチル 1 フエニルプロパン 1ーォ ン、 1— (4—イソプロピルフエ-ル） 2 ヒドロキシ一 2—メチルプロパン一 1—オン および 2—メチルー 1一（4ーメチルチオフエ-ル） 2 モルフォリノプロパン 1ーォ ン等を併用しても良い。水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフエ ノン、 4—フエ-ルペンゾフエノン、イソフタルフエノン、 4—ベンゾィル 4，一メチルー ジフエ-ルスルフイド等が挙げられる。
[0063] また、これらの光重合開始剤とともに、増感剤を併用することができる。増感剤として は、例えば、トリメチルァミン、メチルジメタノールァミン、トリエタノールァミン、 p ジェ チルアミノアセトフエノン、 p ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 p ジメチルァミノ安息 香酸イソァミル、 N、 N ジメチルベンジルァミンおよび 4、 4， 一ビス（ジェチルァミノ） ベンゾフヱノン等が挙げられる。
[0064] カチオン系紫外線硬化性榭脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含 むエポキシ榭脂が挙げられる。エポキシ榭脂としては、例えば、ビスフエノール A—ェ ピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ榭脂、グリシ ジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ榭脂 としては、遊離した塩素および塩素イオン含有率が少な 、ものを用いるのが好ま Uヽ 。塩素の量が 1重量％以下が好ましぐより好ましくは 0. 5重量％以下である。
[0065] カチオン重合型の光開始剤としては、スルホ -ゥム塩、ョードニゥム塩、ジ了ゾユウ ム塩等が挙げられる。ョードニゥム塩としては、例えば、ジフエ-ルョードニゥムへキサ フノレオ口ホスフェード、ジフエ-ルョード-ゥムへキサフノレオ口アンチモネート、ジフエ -ルョ一ドニゥムテトラフルォロボレート、ジフエ-ルョードニゥムテトラキス（ペンタフ ルォロフエ-ル）ボレート、ビス（ドデシルフェ -ル）ョード -ゥムへキサフルォロホスフ エート、ビス（ドデシルフェ -ル）ョード -ゥムへキサフルォロアンチモネート、ビス（ドデ シルフェ -ル）ョードニゥムテトラフルォロボレート、ビス（ドデシルフェ -ル）ョード-ゥ ムテトラキス（ペンタフルォロフエ-ル）ボレート等が挙げられる。
[0066] さらに、 4 メチルフエ-ルー 4一（1ーメチルェチル）フエ-ルョードニゥムへキサフ ルォロホスフェート、 4 メチルフエ-ルー 4一（1ーメチルェチル）フエ-ルョード-ゥ ムへキサフルォロアンチモネート、 4—メチルフエ-ルー 4— (1—メチルェチル）フエ -ルョ一ドニゥムテトラフルォロボレート、 4 メチルフエ-ルー 4一（1 メチルェチル )フエ-ルョードニゥムテトラキス（ペンタフルォロフエ-ル）ボレート等が挙げられる。
[0067] カチオン型紫外線硬化性榭脂 100重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割 合は通常、 0. 1重量部〜 20重量部であり、好ましくは 0. 2重量部〜 5重量部である。 なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用する ため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えば アントラセン、フエノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフエノン、ァセトフエノ ン等が挙げられる。
[0068] また、紫外線硬化性榭脂には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合 禁止剤、ヒンダードフエノール、ヒンダードァミン、ホスファイト等に代表される酸ィ匕防 止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表 されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。 これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しな いものを選択して用いる。
[0069] 本実施の形態が適用される光記録媒体 100において、透明榭脂層 105の弾性率（ E)と厚さ（t)との積 (E X t)力 2. 0 Χ 104ΜΡ&· /ζ πι以上とするための具体的な手段 は、特に限定されないが、適度な硬さの榭脂を最適な膜厚範囲に調製する中で、膜 厚の調整範囲を拡げるためには、以下の方法が挙げられる。例えば、上述した紫外 線硬化性榭脂として、分子内にメタアタリロイル基を 2個以上、好ましくは 3個以上有 するモノマー成分の組成を増大する方法；直鎖高分子ジオールと混合するポリエス テルジオール等の側鎖含有高分子ジオール成分の組成を増大する方法；主鎖がハ ードセグメントであるオリゴマー成分の側鎖を低分子量とし、分子内結合を増大させる 方法;ポリイソシァネートイ匕合物、アミノ榭脂、エポキシィ匕合物、シラン化合物、金属キ レートイ匕合物等の架橋剤を所定量添加する方法等が挙げられる。このような手段によ り、透明榭脂層 105自体の弾性率を増大し、透明榭脂層 105を構成する榭脂のガラ ス転移温度 (Tg)を、例えば、 150°Cを超える程度迄に高くすることができる。
[0070] また、紫外線硬化性榭脂の中でも、低光散乱性且つ低粘度であることにより、スピ ンコートにより塗布可能なカチオン型紫外線硬化性榭脂が好ましい。さらに、透明榭 脂層 105の厚さが 10 m以上の場合は、酸素による硬化阻害を考慮する必要がな いため、種類が多ぐ配合比、組成の自由度が大きいことにより、ラジカル系紫外線 硬化榭脂を使用することが好ましい。
尚、光記録媒体 (商品)からも、以下の方法により透明榭脂層を検出することが可能 である。
(1)光ディスクを破壊し、取り出したディスク断面を、 2次電子顕微鏡 (SEM)で観察 し、透明榭脂層の微細構造 (組織)を観察する。もし、透明榭脂層の前記微細構造の 違いが、厚さ方向の透明榭脂層間で観察されれば、その透明榭脂層が異なる榭脂 の積層であることがわかる。
(2)透明榭脂層の断面を、顕微 FT— IR法により測定し、透明榭脂層の赤外吸収ス ベクトルを得る。参照サンプルとなる樹脂の上記方法による赤外吸収スペクトルと比 較すれば、榭脂の組成を、その参照スペクトルと関連させて、ある程度特定すること ができる。厚さ方向の透明榭脂層間で、前記赤外吸収スペクトルに差が見られれば、 異なる榭脂の積層であることがわかる。それらの組成も、上記の参照サンプルとの比 較により、ある程度特定することができる。
(3)透明榭脂層を熱分解 GC— MS法で分析し、榭脂の組成を知ることができる。
(4)透明榭脂層を剥離して取り出し、その Tg、弾性率を、動的粘弾性率測定装置に より直接測定することができる。
[0071] (正積層体） 次に、本実施の形態が適用される光記録媒体 100を構成する正積層体 12につい て説明する。図 1に示すように、正積層体 12は、記録再生光としてのレーザ光 110の 入射面を有する基板（2) 109と、基板（2) 109上に、記録層 (2) 108、反射層（2) 10 7及び保護コート層 106とが順次積層（以下、 L0層ということがある。）されている。
[0072] 正積層体 12の基板（2) 109は、逆積層体 11の基板（1) 101と同様な材料により構 成される。但し、基板（2) 109は、光透過性であることが必要である。基板（2) 109の 溝幅（半値幅）は、トラックピッチを Tとして、通常、 2TZ10以上、好ましくは 3TZ9以 上である。この範囲であれば反射率を十分に確保できる。例えば、トラックピッチを 74 Onmとすると、基板（2) 109の溝幅は、通常、 148nm以上、好ましくは 246nm以上 とする。但し、基板（2) 109の溝幅は、通常、 7TZ10以下、好ましくは、 6TZ10以 下である。例えば、トラックピッチを 740nmとすると、光透過性の基板（2) 109の溝幅 は、通常、 518nm以下、好ましくは 444nm以下とすると、溝形状の転写性を良好に できるので好ましい。
[0073] 基板（2) 109の溝深さは、記録再生光波長をえとした場合、通常、 λ Z10以上と するのが、反射率を十分確保できるので好ましい。より好ましくは、 λ Ζ8以上、さらに 好ましくは λ Ζ6以上である。例えば、記録再生光の波長（記録再生波長）がえ =66 Onmの場合、基板（2) 109の溝深さは、通常、 66nm以上、好ましくは 83nm以上、さ らに好ましくは、 l lOnm以上である。ただし、基板（2) 109の溝深さの上限は、通常、 2 λ Ζ5以下とするのが溝形状の転写性を良好にできるため好ましぐより好ましくは 2 λ Ζ7以下である。例えば、記録再生波長が 660nmの場合、通常、 264nm以下、 好ましくは 189nm以下である。
[0074] (記録層（2) )
正積層体 12の記録層 (2) 108には、逆積層体 11の記録層 (1) 103と同様な色素 が含有されている。正積層体 12の記録層 (2) 108の厚さは、記録方法等により適し た膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常、 20η m以上、好ましくは 30nm以上であり、特に好ましくは 40nm以上である。但し、光を 透過させる必要があるため、通常、 200nm以下であり、好ましくは 180nm以下、より 好ましくは 150nm以下である。尚、記録層 (2) 108の厚さは、厚膜部の膜厚 (基板（2 ) 109の溝部の記録層 (2) 108の厚さ）を示す。
[0075] (反射層（2) )
正積層体 12の反射層（2) 107は、逆積層体 11の反射層（1) 102と同様な材料か ら構成されている。正積層体 12の反射層（2) 107は、基板（2) 109側から入射する 記録再生光であるレーザ光 110の吸収が小さぐ光透過率が、通常、 40%以上あり、 且つ、通常、 30%以上の適度な光反射率を有する必要がある。例えば、反射率の高 い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度 の耐食性があることが望ましい。さらに、反射層（2) 107の上層（ここでは、透明榭脂 層 105)からしみ出る他の成分により、反射層（2) 107の下層に位置する記録層 (2) 108が影響されな 、ような遮断性を持つことが望ま 、。
[0076] 反射層（2) 107の厚さは、光透過率が通常 40%以上を確保するために、通常、 50 nm以下、好ましくは 30nm以下、さらに好ましくは 25nm以下である。但し、記録層（ 2) 108が反射層（2) 107の上層力もしみ出る成分により影響されないために、通常 3 nm以上、好ましくは 5nm以上である。
[0077] (保護コート層）
正積層体 12の保護コート層 106は、反射層（2) 107の酸化の防止、防塵又は防傷 等を目的として、反射層（2) 107の透明榭脂層 105側に設けられている。保護コート 層 106の材料としては、反射層（2) 107を保護するものであれば特に限定されない。 有機物質の材料としては、熱可塑性榭脂、熱硬化性榭脂、電子線硬化性榭脂、紫外 線硬化性榭脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケィ素、窒化ケ ィ素、 MgF、 SnO等の誘電体が挙げられる。なかでも、紫外線硬化榭脂層を積層
2 2
することが好ましい。尚、保護コート層 106は、必ずしも設ける必要はなぐ反射層（2 ) 107に、直接透明榭脂層 105を形成してもよい。
[0078] (第 2の実施形態）
次に、図 2は、本実施の形態が適用される光記録媒体の第 2の実施形態を説明す る図である。図 2には、基板側とは反対側力 入射する記録再生光により光情報の記 録再生が行われる膜面入射型の光記録媒体 200が示されて ヽる。図 2に示されたよ うに、光記録媒体 200は、基板 201と、基板 201上に設けられた反射層 202と、反射 層 202上に積層された記録層 203と、記録層 203を保護するために設けられた中間 層 204と、力もなる逆積層体に、さらにレーザ光 210の入射面側に透明榭脂層 205 が積層されている。光記録媒体 200は、透明榭脂層 205側から記録層 203に照射さ れるレーザ光 210により、情報の記録'再生が行われる。尚、中間層 204は、必要に 応じて設けられ、必ずしも必須ではない。
[0079] 逆積層体を構成する基板 201は、第 1の実施形態の光記録媒体 100における逆積 層体 11の基板（1) 101と同様な材料を用いて形成される。また、同様に、反射層 20 2、記録層 203及び中間層 204を構成する材料は、それぞれ、第 1の実施形態の光 記録媒体 100の逆積層体 11の、反射層（1) 102、記録層 (1) 103及び中間層 104 において説明した材料と同様なものを使用することができる。また、各層の厚さ等は、 前述した光記録媒体 100において説明した範囲と同様な範囲である。
さらに、透明榭脂層 205は、前述した光記録媒体 100における透明榭脂層 105と 同様な材料を用いて構成され、また、透明榭脂層 205の弾性率 (E)及び厚さ (t)との 積 (E X t)は、第 1の実施形態の光記録媒体 100における透明榭脂層 105と同様な 範囲に調製されている。即ち、透明榭脂層 205の厚さ (t)は、第 1の実施形態の光記 録媒体 100における透明榭脂層 105と同様に、透明榭脂層 205が単一榭脂で構成 されている場合は、透明榭脂層 205の膜厚 (h)の 2分の l (hZ2)であって、逆積層 体に接する側の部分の膜厚を透明榭脂層の厚さ (t)とする。透明榭脂層 205が複数 の榭脂層から構成される場合は、これらの複数の榭脂層の中、逆積層体に接する榭 脂層の膜厚を透明榭脂層 205の厚さ (t)とする。但し、逆積層体に接する榭脂層の 膜厚が 35 μ m以上の場合には、透明榭脂層 205の厚さ（t)は 35 μ mとする。
実施例
[0080] 以下、実施例に基づき本実施の形態をさらに具体的に説明する。尚、本実施の形 態は、その要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例 1〜実施例 7)
以下の通り、逆積層体を有する 2層型の光記録媒体を調製し、逆積層体を構成す る記録層 (1)に記録された光情報の MT(%)及び ST(%)を測定した。
[0081] (光記録媒体の調製） (1) (逆積層体の調製）
先ず、表面に溝が形成された Ni^タンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形す ることにより、ピッチ 0. 74 ^ m,幅 330nm、深さ 30nmの溝が形成された直径 120m m、厚さ 0. 60mmの基板（1)を形成した。次に、基板（1)の上に、 Ag— Bi— Nd合金 を 80nmスパッタして反射層（1)を形成した。次いで、有機色素化合物として、下記 化学式で表される含金属ァゾ色素の色素 Aと色素 Bとの混合物 (A： B = 60： 40重量 %)のテトラフルォロプロパノール溶液 (濃度 2重量％)を調製し、反射層（1)上に滴 下し、スピンコートした後、 70°Cで 30分間乾燥し記録層（1)を形成した。記録層 (1) の厚さは、溝部の膜厚（図 1における逆積層体の溝部の記録層膜厚)と溝間部の膜 厚（図 1における逆積層体の溝間部の記録層膜厚）とも、約 80nmであった。
[0082] [化 1]
Figure imgf000027_0001
[0083] [化 2]
色素 B )
Figure imgf000027_0002
[0084] 続いて、記録層（1)上に、 ZnS-SiO (組成比は、 80 : 20原子％)を13011111スパッ
2
タし中間層を形成し、逆積層体のディスク 1を調製した。
[0085] (2) (正積層体の調製）
深さ 160nm、幅 300nm、トラックピッチ 740nmの案内溝を形成したポリカーボネー ト製の基板 (2)を調製し、この基板 (2)の案内溝を形成した面上に、前述した含金属 ァゾ色素の色素 Aと色素 Bとの混合物（A： B = 60： 40重量％)のテトラフルォロプロ パノール溶液 (濃度 1重量％〜2重量0 /0)を滴下し、スピンコートした後、 70°Cで 30分 間乾燥し、記録層（2)を形成した。記録層（2)の厚さ（図 1 :正積層体の溝部の記録 層膜厚）は約 lOOnmであった。次いで、記録層（2)上に、 Ag— Bi合金 (Bi: 1. 0原 子％)を 17nmスパッタして反射層（2)を形成し、さらに、反射層（2)上に紫外線硬化 榭脂（SD347)をスピンコートして硬化させ、膜厚 3 μ mの保護コート層を形成し、正 積層体のディスク 2を調製した。
[0086] (3) (2層型光記録媒体の調製）
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク 1の中間層の上に、榭脂 A (大日 本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂：弾性率 (E) =4. 0 X 103MPa、ガラス 転移温度 (Tg) = 174°C)を、膜厚 23 mになるようにスピンコート回転数を調節して 塗布した。また、正積層体であるディスク 2の保護コート層の上に、榭脂 F (大日本イン キ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 SD— 6036 :弾性率 (E) =680MPa、ガラス転 移温度 (Tg) = 50°C)を、同様に膜厚 23 mになるようにスピンコート回転数を調節 して塗布した。次に、それぞれ榭脂を塗布したディスク 1とディスク 2とを、榭脂が塗布 された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板（2)側 カゝら紫外線を照射して、榭脂 A及び榭脂 Fを硬化させ、榭脂 Aからなる透明榭脂層及 び榭脂 Fカゝらなる透明榭脂層をそれぞれ形成して 2層型の光記録媒体を調製した（ サンプノレ 1)。
[0087] 続いて、サンプル 1と同様に、正積層体であるディスク 2の保護コート層上に榭脂 F を膜厚 23 mになるように塗布した。一方、逆積層体であるディスク 1については、表 1に示すように、所定の弾性率 (E)を有する榭脂 B、榭脂 C、榭脂 Dを、それぞれ逆積 層体の中間層上に、表 1に示す所定の厚さ (t)になるように塗布し、これらの榭脂を 塗布したディスク 1と、榭脂 Fを塗布したディスク 2とを、サンプル 1と同様に、榭脂が塗 布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板（2) 側から紫外線を照射して、それぞれ塗布された榭脂を硬化させ、 2種類の榭脂からな る透明榭脂層を形成して 2層型の光記録媒体を調製した (サンプル 3、サンプル 5、サ ンプノレ 6、サンプノレ 7)。
[0088] また、正積層体であるディスク 2の上には榭脂を塗布せず、一方、逆積層体である ディスク 1については、ディスク 1の中間層上に、表 1に示すように、榭脂 B、榭脂 Cを、 表 1に示す所定の厚さ (t)になるように塗布し、榭脂を塗布したディスク 1と、榭脂を塗 布しないディスク 2とを重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板（2)側から 紫外線を照射して、それぞれ塗布された榭脂を硬化させ、単一樹脂からなる透明榭 脂層を形成して 2層型の光記録媒体を調製した (サンプル 2、サンプル 4)。
[0089] 尚、表 1に示した透明榭脂層の厚さ (t)は、 2種類の榭脂からなる透明榭脂層を有 するサンプル 1、サンプル 3、サンプル 5、サンプル 6及びサンプル 7の光記録媒体に ついては、逆積層体に接する榭脂層の厚さ（ケース であり、単一樹脂からなる透明 榭脂層を有するサンプル 2及びサンプル 4の光記録媒体にっ 、ては、透明榭脂層全 体の膜厚の 2分の 1の厚さである（ケース a)。また、サンプル 1〜サンプル 7の光記録 媒体における透明榭脂層の全体の膜厚は 46 μ mである。
このように調製した光記録媒体 (サンプル 1〜サンプル 7)における逆積層体を構成 する記録層 (1)に、以下の高速記録条件で光情報を記録し、記録された光情報を再 生し、 MT(%)及び ST(%)を測定した。結果を表 1に示す。
[0090] 尚、光情報の高速記録条件は以下の通りである。
評価機：パルステック製 DDU— 1000 (波長 662nm、 NA=0. 65)
記録速度： DVDの 4倍速 (線測度 15. 3m/s)
記録パルスストラテジー： DVD— Rの規格書 Ver. 2. 1の記載に準拠した。
記録パワー： 26mW〜27. 5mW
記録パワーマージン： 3mW以上
ジッター測定： 1倍速にて再生した。
[0091] (参考例 1〜参考例 3)
以下の通り、逆積層体を有する 2層型の光記録媒体を調製し、実施例 1と同様に、 光情報の MT (%)及び ST (%)を測定した。
実施例 1で用いたサンプル 1と同様に、正積層体であるディスク 2の保護コート層上 に榭脂 Fを膜厚 23 mになるように塗布した。一方、逆積層体であるディスク 1につ いては、表 1に示すように、所定の弾性率 (E)を有する榭脂 Eと榭脂 Cとを、それぞれ 逆積層体の中間層上に、表 1に示す所定の厚さ (t)になるように塗布し、これらの榭 脂を塗布したディスク 1と、榭脂 Fを塗布したディスク 2とを、サンプル 1と同様に、榭脂 が塗布された面が対向するように重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板 (2)側から紫外線を照射して、それぞれ塗布された榭脂を硬化させ、 2種類の榭脂か らなる透明榭脂層を形成して 2層型の光記録媒体を調製した (サンプル 8、サンプル 9)。
[0092] また、正積層体であるディスク 2の上には榭脂を塗布せず、一方、逆積層体である ディスク 1については、ディスク 1の中間層上に、表 1に示すように、榭脂 Fを表 1に示 す所定の厚さ (t)になるように塗布し、榭脂 Fを塗布したディスク 1と、榭脂を塗布しな いディスク 2とを重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板（2)側カゝら紫外線 を照射して塗布された榭脂を硬化させ、単一樹脂からなる透明榭脂層を形成して 2 層型の光記録媒体を調製した (サンプル 10)。
[0093] また、サンプル 8〜サンプル 10の透明榭脂層の厚さ（t)は、 2種類の榭脂からなる 透明榭脂層を有するサンプル 8及びサンプル 9の光記録媒体にっ 、ては、逆積層体 に接する榭脂層の厚さ (ケース であり、単一樹脂からなる透明榭脂層を有するサン プル 10の光記録媒体については、透明榭脂層全体の膜厚の 2分の 1の厚さである（ ケース a)。また、サンプル 8〜サンプル 10の光記録媒体における透明榭脂層の全体 の膜厚は 46 μ mである。
このように調製した光記録媒体 (サンプル 8〜サンプル 10)について、実施例 1と同 様に、逆積層体を構成する記録層 (1)に高速記録条件で光情報を記録し、記録され た光情報を再生し、 MT(%)及び ST(%)を測定した。結果を表 1に示す。
[0094] 尚、表 1には、サンプル 1〜サンプル 10における透明榭脂層の調製に使用した榭 脂の弾性率 (E (単位: MPa) )、透明榭脂層の厚さ (t (単位： m) )、ガラス転移温度 (Tg (単位: °C))を併せて示した。尚、弾性率 (E)は、動的粘弾性試験機 (レオパイブ ロン社製: DDVシリーズ)を使用し、測定周波数 3. 5Hz、昇温速度 3°CZminの条 件で測定した。
[0095] また、透明榭脂層の厚さは、走査型電子顕微鏡による 2次電子線観察像 (SEM像) 、又は透過電子顕微鏡による断面像に基づき測定した。厚さ（t)は 5ポイント測定結 果の平均値である。
[0096] [表 1] サン
厚さ t Tg E * t MT ST プ 樹
脂 ( jU m) (°C) (Mpa - μ m) (%) (%) ル
1 1 A 4000/(25) (b)23 174 92000 6.6 5.8 実 2 2 B 3000/(30) (a)24 181 72000 6.7 6.5
3 3 B 3000/(30) (b)23 181 69000 6.6 5.9 施 4 4 C 2200/(30) (a)23 147 50600 7.4 5.9
5 5 C 2200/(30) (b)15 147 33000 7.96 6.3 例 6 6 D 1 100/(30) (b)23 76 25300 7.8 6
7 7 C 2200/(30) (b)10 147 22000 7.98 6.2 参 1 8 E 2300/(30) (b)8 149 18400 7.8 6.3 考 2 9 C 2200/(30) (b)5 147 1 1000 7.98 6.1 1 例 3 10 F 680/(30) (a)23 50 15640 8.5 6.4
[0097] 尚、表 1中、透明榭脂層を調製するために使用した榭脂は以下のとおりである。
榭脂 A：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂（弾性率： 1. 4 X 103MPa / (150°0 )
榭脂 B：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 (弾性率： 1. 05 X 103MPa / (150°0 )
榭脂 C：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 SD— 347 (弾性率： 340M Pa/ (150°C) )
榭脂 D：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 SD— 394 (弾性率： 66MP a/ (150°C) )
榭脂 E：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 SD— 318 (弾性率： 280M Pa/ (150°C) )
榭脂 F：大日本インキ (株)製ラジカル系紫外線硬化榭脂 SD— 6036 (弾性率： OMP a/ (150°C) )
特に、榭脂 A及び榭脂 Bにおいては、前述した方法により、架橋密度が高くなるよう なアクリルモノマーと架橋構造に剛直な構造を有するアクリルモノマーとを組み合わ せて所定の弾性率 (E)、ガラス転移温度 (Tg)を制御した。
[0098] 次に、表 1に示した結果について説明する。 図 4は、サンプル 1〜サンプル 10の、（E X t)と MT(%)との関係を説明する図であ る。図 4には、表 1に示した結果に基づき、サンプル 1〜サンプル 10において、逆積 層体に接する透明榭脂層の弾性率 (E)と透明榭脂層の厚さ (t)との積 (E X t) (横軸 )に対して、逆積層体の記録層 (1)に記録された光情報の再生信号に基づく MT(% )の数値をプロットしたものである。
[0099] 図 4に示すように、（E X t)が 2. 0 X 104MPa' /z m以上で、 MT(%)が 8%以下とな り、 4. 0 X 104MPa' /z mを超えると 7. 5%、 6. O X 104MPa' mで 7%前後となる。 さらに、 6. 9 X 104Pa· iu mを超ぇるとMT(%)が6. 5%前後となり、 9. 0 X 104MPa • /z m以上で、 MT(%)は安定に 6. 5%前後という良好な値が得られる。さらに、 10. 0 Χ 104ΜΡ&· /ζ πι以上では、ほぼ ΜΤ(%)が最小値を保持する理想的な状態にな ることが示されている。
[0100] また、表 1に示された榭脂のガラス転移温度を考慮すると、逆積層体に接する透明 榭脂層のガラス転移温度は、 150°C以上が好ましい。ガラス転移温度が高い榭脂ほ ど、硬い透明榭脂層が形成され得ると考えられる。
尚、評価方法の好ましい条件は、評価機として、波長 662nmの半導体レーザを搭 載し、対物レンズの開口数 (NA) O. 65の評価機を使用し、記録は、 DVDの 4倍速で 記録 (記録線速度： 15. 3mZs)し、再生は、同じ評価機を用いて、 DVDの 1倍速で 再生する。また、記録の最短マーク長は 0. 44 mである。
[0101] 図 4に示す結果から、逆積層体に接する透明榭脂層の弾性率 (E)と厚さ (t)との積
(E X t)が、一定の数値以上の場合、逆積層体における記録層 (1)に高速で記録を した場合に、隣接トラックに記録しない単一トラック記録の場合の ST(%)に比べ、トラ ックを空力さずに連続トラック記録をした場合の MT(%)が悪ィ匕するという問題を回避 することができる。
[0102] 即ち、逆積層体に接する透明榭脂層の弾性率 (E)と厚さ (t)との積 (E X t)で指標 されるバルタとしての硬さ、強度を、特定の範囲に調節することにより、逆積層体の構 造において、隣接するトラック部に及ぶ過度の変形を抑制し、高速記録でのクロスト ークが小さい、良好なジッターを有する光記録媒体を提供することが可能である。高 密度記録が可能となる例としては、たとえば記録最短マーク長 0. 44 m以下の記録 条件にお 1ヽて、良好な記録特性を確保できることがある。
[0103] 通常の光ディスク製品は、トラックを空力さず記録されるので、 MT(%)力 その光 ディスクの信号品質を反映する値となる。 MT(%)は、一般的には 10%未満である 必要があり、 8%以下が好ましぐさらに好ましくは 7%以下である。 10%を超えると、 エラーが増大する傾向となる。
[0104] サンプル 1〜サンプル 10を評価したように、民生機器とは異なり、ピックアップに搭 載された半導体レーザの個体差等変動要因を含まない評価機で記録再生する場合 には、 MT(%)は、通常、 8%以下、好ましくは 7. 5%以下、さらに好ましくは 7%以 下とする。 MT(%)が 8%を超えると、製造マージンが十分に保証できなくなる場合が ある。
同様に、上記評価機で記録再生した場合の ST(%)は、通常、 7%以下とすること が必要である。この値を超える場合には、連続記録で MT(%)が 8%以上になりやす い。
[0105] 尚、 MT(%)のパワーマージンは広いほど良い。例えば、 MT(%) 9%以下が得ら れるパワーマージンは、 2. 5mW以上が好ましぐより好ましくは、 3mW以上、さらに 好ましくは、 4mW以上である。パワーマージンが過度に小さい場合は、温度変化等 に伴うレーザ光源の光量変動がパワーマージンよりも大きくなり、良好な記録特性が 得られないおそれがある。尚、サンプル 1〜サンプル 10は、いずれも記録パワーマー ジンが 3mW以上と良好であった。
[0106] (実施例 8)
以下の通り、逆積層体を有する 2層型の光記録媒体を調製し、逆積層体を構成す る記録層 (1)に記録された光情報の MT(%)及び ST(%)を測定した。
先ず、表面に溝が形成された Ni^タンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形す ることにより、トラックピッチ 0. 74 ^ m,溝幅 330nm、溝深さ 30nmの溝が形成された 直径 120mm、厚さ 0. 60mmの基板（1)を形成した。次に、基板（1)の上に、 Ag— B i (0. 35原子％)— Nd (0. 2原子％)合金を、 80nmスパッタして反射層（1)を形成し た。次 、で、実施例 1のァゾ色素と類似の色素の混合物（重量配合比 50： 50)のテト ラフルォロプロパノール溶液 (濃度 2重量％)を調製し、反射層（1)上に滴下し、スピ ンコートした後、 70°Cで 30分間乾燥し記録層 (1)を形成した。記録層 (1)の厚さは、 溝部の膜厚 (図 1にお ヽて、逆積層体 11の溝部の記録層膜厚)と溝間部の膜厚 (図 1 において、逆積層体 11の溝間部の記録層膜厚）とも、約 80nmであった。続いて、記 録層（1)上に、無機物カゝらなる中間層を形成し、逆積層体のディスク 1を調製した。 また、実施例 1と同様にして正積層体の調製を行った。
上述した方法で調製した逆積層体であるディスク 1の中間層の上に、榭脂 B (大日 本インキ株式会社製ラジカル系紫外線硬化榭脂：弾性率 (E) = 3. O X 103MPa、ガ ラス転移温度 (Tg) = 181°C)を、膜厚 25 mになるようにスピンコート回転数を調節 して塗布した。また、正積層体であるディスク 2の膜面上に、前記榭脂 Bを、ディスク 1 と同様に膜厚 25 /z mになるようにスピンコート回転数を調節して塗布した。次に、そ れぞれ榭脂を塗布したディスク 1とディスク 2とを、榭脂が塗布された面が対向するよう に重ね合わせ、続いて、ディスク 2 (正積層体)の基板 (2)側カゝら紫外線を照射して、 榭脂 Bを硬化させ、透明榭脂層を形成して 2層型の光記録媒体を調製した。
このように調製した光記録媒体における逆積層体を構成する記録層 (1)に、以下の 記録条件で光情報を記録し、記録された光情報を再生し、 MT(%)及び ST(%)を 測定した。尚、光情報の記録条件は以下の通りである。
評価機： 2, 4X記録 Zパルステック製 DDU— 1000 (波長 662nm、 NA=0. 65)
8X記録 Zパルステック製 ODU— 1000T5 (波長 658. 5nm、 NA=0. 65) 記録速度: DVDの 2. 4倍速 (線速度 9. 22mZs :以下で 2. 4Xと記載される。尚、 1 倍速は線速度 3. 84mZsとする。）と 8倍速 (線速度 30. 72mZs :以下で、 8Xと記 載される。 )
記録パルスストラテジー： DVD+Rの規格書 Ver. 2. 1の記載に準拠した。
ジッター測定： 1倍速にて再生した。
尚、記録パワーは、 2. 4X記録が 21. 6mW、 8X記録力P0 = 50mW、 Pm= 29. 5 mWであった。結果を、以下の比較例 1及び比較例 2の結果とともに表 2に示す。 (比較例 1、比較例 2)
実施例 8において、反射層（1)の膜厚を、それぞれ lOOnm (比較例 1)と 120nm ( 比較例 2)とし、それ以外は同様の条件で 2層の光記録媒体 (比較例 1と比較例 2の 2 つのサンプル)を調製し、実施例 8と同様に、 2. 4X記録と 8X記録を行った。結果を 表 2に示す。
尚、記録パワーは、比較例 1は、 2. 4X記録で 21. 6mW、 8X記録で PO = 50mW 、 PO = 29. 5mWである。比較例 2は、 2. 4X記録で 22. 2mW、 8X記録で PO = 52 mW、 PO = 30. 5mWである。
[表 2]
Figure imgf000035_0001
[0109] 図 6は、表 2に示した結果に基づき、反射層（1)の膜厚に対して、（MT(%)— ST( %) )の値をプロットした図である。図 6に示すように、反射層（1)の膜厚が厚くなるほ ど（MT(%)— ST(%；) )の値が増大し、クロストークが低下する傾向があることが分か る。 (MT(%)— ST(%) )の値は、膜厚 lOOnm以上でほぼ飽和する力 膜厚 80nm の場合よりクロストークが低下して 、る。
図 6に示す結果から、反射層（1)の膜厚を、従来の反射層の膜厚 (通常、 lOOnm 以上）を下回る厚さにすることにより、クロストーク (MT (%)— ST (%) )が改善される 傾向が見られる。
尚、既に図 5 (b)を用いて説明したように、反射層の膜厚が 40nm以下の場合は反 射率が低下する傾向が見られ、さらに膜厚が 30nm以下では、反射率が大きく低下 する傾向にある。そのため、反射層（1)の膜厚は 30nmを下回るほど薄くすることは 好ましくない。
[0110] 尚、本実施の形態においては、 2枚のディスク基板を貼着して 2層型の光記録媒体 の製造方法について説明した力 透明スタンパを用いる 2P法により 2層型の光記録 媒体を製造することも可能である。 2P法の場合は、例えば、正積層体の反射層（2)の上に紫外線硬化性榭脂層をス ピンコート等により塗布して形成し、さらにその榭脂層に透明榭脂スタンパを載置し、 この状態で透明榭脂スタンパ側カゝら紫外線を照射する等して紫外線硬化性榭脂層 を硬化させ、十分硬化したところで榭脂スタンパを剥離し、表面に案内溝やプリピット 等を有する透明榭脂層を形成する。このようにして形成された透明榭脂層の上に、ス ピンコート法等により有機色素を含む記録層 (1)を形成し乾燥し、その記録層 (1)の 上に、金属力もなる反射層（1)を成膜し、さらにその反射層（1)上に接着層を設け、 接着剤を介して基板 (1)を貼り合わせることにより 2層型光記録媒体を調製する。
[0111] 以上、説明したように、本実施の形態が適用される光記録媒体 100は、透明榭脂層
105を設け、逆積層体 11の基板（1) 101の溝間部（ランド部）に記録マークを形成す る場合に、溝間部に隣接する溝部にある色素厚膜部に記録マークがはみ出ることに よるクロス卜ークの増大を抑制することがでさる。
[0112] さらに、本発明者らは、本検討において、反射層（1) 102を特定の膜厚の範囲で薄 くすることにより、熱伝導性とは異なるパラメータにより、クロストークを低減する可能性 があることを見出した。
[0113] 尚、本出願は、 2004年 7月 6日付きで出願された日本出願 (特願 2004— 199770 )に基づ 、ており、その全体が引用により援用される。
図面の簡単な説明
[0114] [図 1]本実施の形態が適用される光記録媒体の第 1の実施形態を説明する図である
[図 2]本実施の形態が適用される光記録媒体の第 2の実施形態を説明する図である
[図 3]透明榭脂層の厚さ (t)について説明する図である。図 3 (a)は、透明榭脂層が単 ー榭脂で構成されている場合であり、図 3 (b)は、複数の榭脂層から構成されている 場合である。
[図 4]サンプル 1〜サンプル 10の、（E X t)と MT(%)との関係を説明する図である。
[図 5]反射層の膜厚と透過率 (T)、反射層の膜厚と反射率 (R)との関係を説明する図 である。 [図 6]表 2に示した結果に基づき、反射層（1)の膜厚に対して、 (MT(%) -ST(%) ) の値をプロットした図である。
符号の説明
11…逆積層体、 12· ··正積層体、 100, 200…光記録媒体、 101…基板（1)、 102· ·· 反射層（1)、 103…記録層（1)、 104, 204…中間層、 105, 205…透明榭脂層、 10 6…保護コート層、 107…反射層（2)、 108…記録層（2)、 109…基板（2)、 110, 21 0…レーザ光、 201…基板、 202· ··反射層、 203…記録層

Claims

請求の範囲
[I] 基板と、反射層と、記録層とをこの順に有する逆積層体と、
前記逆積層体の前記記録層側に設けられる透明榭脂層と、を備え、
前記透明榭脂層の厚さ (t)と 25士 5°Cにおける弾性率 (E)との積 (E X t)が 2.0 X 1
04MPa- μ m以上であることを特徴とする光記録媒体。
[2] 前記透明榭脂層の厚さ (t)と 25± 5°Cにおける前記弾性率 (E)との積 (E X t)が 30
. 0 X 104MPa- μ m以下であることを特徴とする請求項 1記載の光記録媒体。
[3] 前記透明榭脂層を構成する榭脂の 25± 5°Cにおける前記弾性率 (E)が、 3.0 X 10
3MPa以上 6.0 X 103MPa以下であることを特徴とする請求項 1記載の光記録媒体。
[4] 前記透明榭脂層の膜厚 (h)が 20 μ m以上 200 μ m以下であることを特徴とする請 求項 1記載の光記録媒体。
[5] 前記記録層が、有機色素含有記録層であることを特徴とする請求項 1記載の光記 録媒体。
[6] 前記記録層と前記透明榭脂層との間に中間層をさらに有することを特徴とする請求 項 1記載の光記録媒体。
[7] 前記透明榭脂層の前記逆積層体側とは反対側に、第 2の反射層と第 2の記録層と 透明基板とを順番に更に設けたことを特徴とする請求項 1記載の光記録媒体。
[8] 光照射により情報の記録及び Zまたは再生が行われる記録層と、
前記記録層の光入射面側に設けられた透明榭脂層と、
前記記録層の前記光入射面とは反対側に設けられた反射層と、を有し、 前記透明榭脂層の厚さ (t)と 25士 5°Cにおける弾性率 (E)との積 (E X t)が 2.0 X 1 04MPa- μ m以上であることを特徴とする光記録媒体。
[9] 前記透明榭脂層が、ガラス転移温度 150°C以上を有する透明樹脂から構成される ことを特徴とする請求項 8記載の光記録媒体。
[10] さらに、前記透明榭脂層の前記光入射面側に直接または他の層を介して第 2の反 射層と第 2の記録層とをこの順番に有し、前記記録層と当該第 2の記録層との間隔が 40 μ m〜70 μ mであることを特徴とする請求項 8記載の光記録媒体。
[II] 基板、反射層、記録層及び透明榭脂層をこの順番に有する光記録媒体であって、 前記反射層は、銀 (Ag)を主成分とする金属を含み、且つ、膜厚が 30nm以上 80η m以下であることを特徴とする光記録媒体。
[12] 前記反射層が、 Agを 50%以上含むことを特徴とする請求項 11記載の光記録媒体
[13] 前記記録層が、有機色素材料を含むことを特徴とする請求項 11記載の光記録媒 体。
[14] 前記透明榭脂層は、 25± 5°Cにおける弾性率 (E)が、 3. O X 103MPa以上 6. O X 103MPa以下の榭脂から構成されることを特徴とする請求項 11記載の光記録媒体。
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