WO2005078001A1 - エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物 Download PDF

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WO2005078001A1
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epoxy resin
group
resin composition
naphthol
epichlorohydrin
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PCT/JP2005/001763
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English (en)
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Inventor
Hideyasu Asakage
Nobuhisa Saito
Kazuhiko Nakahara
Masashi Kaji
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
Tohto Kasei Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/063Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols with epihalohydrins
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

Definitions

  • the present invention relates to an epoxy resin and an epoxy resin composition useful for encapsulation of electric and electronic parts, circuit board materials, adhesives, paints, and the like, and a cured product thereof.
  • Patent Document 1 JP-A-3-717
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 3-90075
  • an object of the present invention is to provide applications such as lamination, molding, casting, and adhesion that are excellent in moisture resistance, heat resistance, flame retardancy, adhesion to a metal substrate, and the like and have good moldability.
  • An epoxy resin useful for the present invention a method for producing the same, an epoxy resin composition using the same, and a cured product thereof. Means for solving the problem
  • R and R represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 18 carbon atoms
  • X is a direct bond
  • This is a method for producing an epoxy resin which comprises mixing 60 parts by weight of a bisphenol compound represented by the formula (1) and then reacting the mixture with epichlorohydrin.
  • the present invention is an epoxy resin obtained by the above-described method for producing an epoxy resin.
  • This epoxy resin preferably has a softening point of 50 to 110 ° C.
  • the present invention provides an epoxy resin composition containing the epoxy resin and the curing agent, and a cured epoxy resin obtained by curing the epoxy resin composition.
  • the epoxy resin of the present invention is obtained by reacting a mixture of a naphthol resin represented by the general formula (1) and a bisphenol compound represented by the general formula (2) with epichlorohydrin. Gaining power S can. Even if the epoxidized naphthol resin has a high viscosity, an epoxy resin having excellent fluidity can be obtained by combining it with an epoxidized bisphenol compound having a low viscosity.
  • the mixing ratio of the naphthol resin and the bisphenol compound is in the range of 10 to 60 parts by weight, preferably 15 to 40 parts by weight of the bisphenol compound per 100 parts by weight of the naphthol resin. If the amount is less than this, the effect of improving the fluidity is small, and if it is more than this, heat resistance, moisture resistance and flame retardancy are reduced.
  • the naphthol resin used in the present invention has a structure represented by the above general formula (1), wherein the repeating unit n is a force having an average value of 1.1 to 4.0. S, preferably 1.2 to 3.0. If it is smaller than this, heat resistance and moisture resistance decrease, and if it is larger than this, viscosity increases and moldability decreases.
  • the softening point of the naphthol resin is usually 50 to 150 ° C, preferably 60 to 120 ° C, and more preferably 60 to 90 ° C. If it is lower than this, the heat resistance decreases, and if it is higher than this, the fluidity decreases.
  • the hydroxyl equivalent is usually in the range of 180 to 240, preferably in the range of 190 to 230.
  • the naphthol resin used in the present invention can be obtained, for example, by reacting a naphthol with an aromatic crosslinking agent such as p_xylylene diol in the presence of an acidic catalyst. In this reaction, usually 0.1 to 0.9 mol of an aromatic crosslinking agent is used per 1 mol of naphthols. After the completion of the reaction, excess naphthols are usually removed from the system by a method such as distillation under reduced pressure. Further, it is possible to remove excess naphthols out of the system by, for example, reacting the remaining naphthols with formaldehyde such as paraformaldehyde as described in JP-A-5-148333.
  • formaldehyde such as paraformaldehyde
  • a method may be used in which the dimer is left in the system as a dimer to reduce apparently remaining naphthols.
  • the naphthols are usually removed until the amount remaining in the naphthol resin becomes 5% by weight or less, preferably 2% by weight or less.
  • the naphthols used in producing the naphthol resin used in the present invention include 11-naphthol and 2-naphthol, which may be used alone or as a mixture.
  • the aromatic crosslinking agent include p-xylylene diol, 1,4-dichloromethylbenzene, 1,4-dimethoxymethylbenzene, and 1,4-diethoxymethylbenzene. You can.
  • the bisphenol conjugate used in the present invention has a structure represented by the above formula (2).
  • R and R are a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group,
  • hydrocarbon group having 118 carbon atoms such as a ruyl group, a propargyl group, a butyl group, an n-aminol group, a sec-amyl group, a tert-amyl group, a cyclohexynole group, a phenyl group or a benzyl group. And preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • X represents a direct bond, an ether group, a snolesulfide group, a sulfone group, a ketone group, a methylene group or an isopropylidene group, and is preferably a direct bond or a methylene group.
  • bisphenol compounds include 4,4'-dihydroxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'_tetramethyl-1,4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3'_dimethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylmethane, 4,4'-dihydroxydiphenylether, 3,3 ', 5,5'-tetramethinolee 4,4'dihydroxydiphenyl ether, 4,4'dihydroxydiphenylsulfide, 3,3'_dimethyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrame
  • the epoxy resin of the present invention can be produced by reacting a mixture of the naphthol resin of the general formula (1) and the bisphenol compound of the general formula (2) with epichlorohydrin. This reaction can be performed in the same manner as a usual epoxidation reaction.
  • the mixture is dissolved at 20-150 ° C, preferably 30-150 ° C in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • the amount of the alkali metal hydroxide used at this time is 0.8-1.2 monoles, preferably 0.9-1.0 monoles, based on 1 mol of the total of the hydroxyl groups of the naphthol resin and the bisphenol compound. Range.
  • epichlorohydrin is used in excess of the total amount of hydroxyl groups in the naphthol resin and the bisphenol compound in general. is there.
  • a solvent such as dimethyl sulfoxide, diethylene glycol dimethyl ether, or triethylene glycol dimethyl ether may coexist.
  • the epoxy resin of the present invention is obtained by the above-mentioned production method, and has a hydroxyl group strength in a naphthol resin represented by the general formulas (1) and (2) and a bisphenol-conjugated product glycidyl ether. Mainly those that have changed into groups (preferably 90 wt% or more), and include small amounts of those where some of the epoxy groups have expanded and oligomerized. This epoxy resin has a soft point of 50-110. C is desirable.
  • the epoxy resin of the present invention can employ a method of further contacting the epoxy resin obtained by the above reaction with a basic substance in order to reduce hydrolyzable chlorine.
  • This reaction is usually performed in a solvent such as toluene, xylene, n-butanol, methyl isobutyl ketone.
  • the basic substance include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide.
  • the amount of hydrolyzable chlorine in the epoxy resin of the present invention is preferably small from the viewpoint of improving the reliability of the electronic component to be sealed. Although not particularly limited, it is preferably 100 ppm or less, more preferably 500 ppm or less.
  • the hydrolyzable chlorine refers to a value measured by the following method. That is, 0.5 g of the sample was dissolved in 30 ml of dioxane, 10 ml of 1N-K ⁇ H was added, and the mixture was boiled under reflux for 30 minutes, cooled to room temperature, and 100 ml of 80% acetone water was added. Is the value obtained by potentiometric titration.
  • the epoxy resin composition of the present invention comprises an epoxy resin and a curing agent, and contains the epoxy resin of the present invention as an essential component as an epoxy resin component.
  • the epoxy resin composition of the present invention may contain, in addition to the epoxy resin of the present invention, a normal epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule.
  • a normal epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule.
  • Such epoxy resins include, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resole Divalent phenols such as syn, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o_cresol novolak, etc.
  • glycidyl ether derivatives derived from halogenated bisphenols such as phenols having a valency or higher and tetrabromobisphenol A.
  • epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of these compounds may be within a range that does not impair the object of the present invention, but is usually preferably within 50% by weight based on the epoxy resin of the present invention.
  • curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention all those generally known as curing agents for epoxy resins can be used. Examples include dicyandiamide, polyhydric phenols, acid anhydrides, aromatic and aliphatic amines.
  • polyvalent phenols examples include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, and resorcinol.
  • the softening point of the phenolic curing agent is preferably 40 to 150 ° C, more preferably 50 to 120 ° C. If it is lower than this, there is a problem of blocking during storage, and if it is higher than this, there is a problem in kneadability and moldability in preparing the epoxy resin composition. Further, the melt viscosity at 150 ° C. is preferably not more than 20 boys, more preferably not more than 5 boys. Higher than this In addition, there is a problem in kneadability and moldability during preparation of the epoxy resin composition.
  • Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, nadic anhydride, and trimellitic anhydride Etc.
  • amines examples include 4,4, -diaminodiphenylmethane, 4,4, -diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine.
  • aromatic amines such as amines and aliphatic amines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine.
  • one or more of these curing agents can be used in combination.
  • the epoxy resin composition of the present invention is useful for sealing.
  • the inorganic filler to be added to the epoxy resin composition for sealing include silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, One or more of spinel, mullite, titania, etc. may be mentioned, and the form thereof may be powder, spherical beads and the like. Of these, spherical fused silica is preferred from the viewpoint of increasing the packing of the inorganic filler. Usually, silica is used in combination with one having several types of particle size distribution. The range of the average particle size of the silica to be combined is 0.5- ⁇ .
  • the compounding amount of the inorganic filler is 75% by weight or more, preferably 80% by weight or more of the entire epoxy resin composition. If less than this, the effect of improving solder heat resistance and flame retardancy is small.
  • the epoxy resin composition of the present invention may be added with a conventionally known curing accelerator, for example, amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids and the like.
  • a conventionally known curing accelerator for example, amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids and the like.
  • 1,8-diazabicyclo (5,4,0) pandecene-7 triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol Tertiary amines, such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazoles such as 4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, trif Enylphosphine, diphenylphosphine Organic phosphines such as fin
  • tetraphenylboron salts such as ethynole-4-methylimidazolone'tetraphenylborate, N_methylmorpholine.tetraphenylporate and the like.
  • the amount of addition is usually 0.210 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
  • the epoxy resin composition of the present invention includes a coupling agent such as a release agent such as carnauba wax or an ester wax, an epoxy silane, an amino silane, a ureido silane, a butyl silane, an alkyl silane, an organic titanate, or an aluminum alcoholate.
  • a coupling agent such as a release agent such as carnauba wax or an ester wax, an epoxy silane, an amino silane, a ureido silane, a butyl silane, an alkyl silane, an organic titanate, or an aluminum alcoholate.
  • the above-mentioned raw materials are sufficiently mixed in a predetermined amount by a mixer or the like, then kneaded by a mixing roll, an extruder, or the like, cooled, and pulverized to seal the electronic component.
  • An epoxy resin composition suitable for stopping can be prepared.
  • a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method or a compression molding method is also possible.
  • FIG. 1 shows a GPC chart of the epoxy resin A obtained in Example 1.
  • the epoxy equivalent was 248, the softening point was 72 ° C, the melt viscosity at 150 ° C based on the ICI cone-plate method was 0.13 Pa's, and the hydrolyzable chlorine was 320 ppm.
  • the GPC chart of the obtained resin is shown in FIG.
  • the GPC measurement was performed using an apparatus: HLC-82A (manufactured by Tosoh Corporation) and a force ram: three TSK-GEL 2000 X and one TSK-GEL4000 X (both manufactured by Tosoh Corporation).
  • Example 2 170 g of the naphthol resin obtained in Synthesis Example 2 and 30 g of 4,4, dihydroxybiphenyl are dissolved in 640 g of epichlorohydrin and 96 ⁇ Og of diethylene glycol dimethyl ether, and 48% sodium hydroxide at 65 ° C. under reduced pressure (about 140 mmHg). An aqueous solution of 94. Og was added dropwise over 4 hours. During this time, the generated water was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the addition, the reaction was continued for another 30 minutes.
  • Synthesis Example 1 obtained in naphthol resin 200g of E peak chlorohydrin 640 g, and ⁇ military diethylene glycol Honoré dimethylcarbamoyl Honoré ether Honoré 96. 0 g, under reduced pressure (about 140mmHg), 48 0/0 water at 65 ° C acid 77.2 g of an aqueous sodium chloride solution was added dropwise over 4 hours. During this time, the generated water was removed from the system by azeotropy with the hydrin at the epichloro mouth, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the addition, the reaction was continued for another 30 minutes.
  • Example 13 Epoxy resin synthesized in 1-3, Comparative Examples 1 and 2, 0-cresol novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 197, softening point 54 ° C, melt viscosity at 150 ° C 90 mPa's; EOC N-1020, manufactured by Nippon Kayaku; epoxy resin F), phenol novolak (OH equivalent: 104, softening point: 46 mC, melt viscosity at 150 ° C: 20 mPa's; phenol resin A) and phenol aralkyl resin ( OH equivalent 175, softening point 75 ° C, melt viscosity at 150 ° C 0.32 Pa-s; MEH-780 0S, manufactured by Meiwa Kasei; phenol resin B), 1-naphthol aralkyl resin (OH equivalent 205, softening Melt viscosity at 77 ° C and 150 ° C 40mPa's; SN_475L, manufactured by Nippon Steel Chemical; phenolic
  • the epoxy resin composition was molded at 175 ° C, post-cured at 175 ° C for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements.
  • the glass transition point was determined with a thermomechanical measuring device at a temperature rising rate of 7 ° C / min. Bending test at room temperature and 240 ° C
  • the flexural modulus at high temperature and flexural modulus were measured by the three-point bending method.
  • Adhesive strength was measured at 175 ° C using a compression molding machine at 25 ° C x 12.5mm X O.5mm between two copper or iron plates, and post-cured at 175 ° C for 12 hours. It was evaluated by determining the tensile shear strength.
  • the blocking ratio after standing at 25 ° C. for 24 hours using powder of an lmm pass of the epoxy resin composition was expressed in terms of% by weight.
  • the storage stability was represented by a residual spiral flow after the epoxy resin composition was left at 25 ° C. for one week.
  • the epoxy resin composition of the present invention is excellent in moisture resistance, heat resistance, flame retardancy, adhesion to a metal substrate, and the like, and has good moldability, and is used as a sealing material for electronic and electric parts. It can be suitably used. Further, the epoxy resin cured product of the present invention and sealing with the same The obtained electronic parts have excellent heat resistance and electrical insulation. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the manufacturing method of the epoxy resin of this invention, epoxidation progresses easily and industrial implementation becomes possible.

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Description

明 細 書
エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物
技術分野
[0001] 本発明は電気'電子部品類の封止、回路基板材料、接着剤、塗料等に有用なェポ キシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、更にはその硬化物に関するものである。
背景技術
[0002] 近年、特に先端材料分野の進歩にともない、より高性能なベース樹脂の開発が求 められている。例えば、半導体封止の分野においては、近年の高密度実装化に対応 したパッケージの薄形化、大面積化、更には表面実装方式の普及により、パッケージ クラックの問題が深刻化しており、これらのベース樹脂としては、耐湿性、耐熱性、金 属基材との接着性等の向上が強く求められている。更に最近では、環境負荷低減の 観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたベース樹脂が求 められている。
[0003] 本発明に関連する先行文献として次に示すものがある。
特許文献 1:特開平 3 - 717号公報
特許文献 2:特開平 3 - 90075号公報
[0004] し力 ながら、従来より知られているエポキシ樹脂には、これらの要求を満足するも のは未だ知られていない。例えば、特開平 3—717号公報ゃ特開平 3—90075号公 報には低吸湿性、高耐熱性に優れるものとして、ナフタレン型のエポキシ樹脂が提案 されているが、ナフタレン構造を有するエポキシ樹脂は粘度の高いものが多ぐ成形 性に劣る欠点があった。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 従って、本発明の目的は、耐湿性、耐熱性、難燃性及び金属基材との接着性等に 優れるとともに、良好な成形性を有する積層、成形、注型、接着等の用途に有用なェ ポキシ樹脂、その製造方法、それらを用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物 を提供することにある。 課題を解決するための手段
すなわち、本発明は、下記一般式(1)、
[化 1]
Figure imgf000004_0001
(但し、 nは平均値で 1. 1から 4. 0の数を示す。)で表されるナフトール樹脂 100重量 部に対して、下記一般式 (2)、
[化 2]
Figure imgf000004_0002
(但し、 R、 Rは水素原子又は炭素数 1一 8の炭化水素基を示し、 Xは直接結合、ェ
1 2
一テル基、スノレフイド基、スルホン基、ケトン基、メチレン基又はイソプロピリデン基を 示す。)で表されるビスフヱノール化合物 10 60重量部を混合したのち、ェピクロロヒ ドリンと反応させることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法である。
ここで、ビスフエノール化合物としては、 4, 4'—ジヒドロキシビフエニル又は 3, 3 ', 5
, 5,—テトラメチル _4, 4,—ジヒドロキシジフエニルメタンが好ましく例示される。
[0007] また、本発明は前記のエポキシ樹脂の製造方法によって得られたエポキシ樹脂で ある。このエポキシ樹脂は、軟化点が 50 110°Cであることが好ましい。更に、本発 明は、前記のエポキシ樹脂及び硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物及びこれ を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
[0008] 以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1)で表されるナフトール樹脂と一般式 (2) で表されるビスフエノール化合物の混合物をェピクロルヒドリンと反応させることにより 得ること力 Sできる。ナフトール樹脂のエポキシ化物が高粘度であっても、低粘性のビス フエノール化合物のエポキシ化物と組み合わせることにより、流動性に優れたェポキ シ樹脂とすることができる。ナフトール樹脂とビスフエノールイ匕合物の混合割合は、ナ フトール樹脂 100重量部に対してビスフエノール化合物 10— 60重量部の範囲であり 、好ましくは 15— 40重量部の範囲である。これより少ないと流動性の向上効果が小さ ぐこれより多いと耐熱性、耐湿性及び難燃性が低下する。
[0009] 本発明に用いるナフトール樹脂は、上記一般式(1)で表される構造を有しており、 ここで繰り返し単位 nは、平均値として 1. 1から 4. 0の数である力 S、好ましくは 1. 2か ら 3. 0である。これより小さいと耐熱性及び耐湿性が低下し、これより大きいと粘度が 高くなり成形性が低下する。
[0010] このナフトール樹脂の軟化点範囲は、通常、 50 150°Cである力 好ましくは、 60 一 120°Cの範囲であり、更に好ましくは 60— 90°Cである。これより低いと耐熱性が低 下し、これより高いと流動性が低下する。また、水酸基当量は、通常、 180— 240の 範囲であり、好ましくは 190— 230の範囲である。
[0011] 本発明に用いるナフトール樹脂は、例えば、ナフトール類と p_キシリレンダリコール 等の芳香族架橋剤を酸性触媒の存在下に反応させることにより得ることができる。こ の反応に際しては、ナフトール類 1モルに対して、通常、 0. 1から 0. 9モルの芳香族 架橋剤が用いられる。反応終了後、過剰に残存するナフトール類は、通常、減圧蒸 留等の方法で系外に除去される。また、過剰に残存するナフトール類を系外に除くこ となぐ例えば、特開平 5-148333号公報に記載のように、残存するナフトール類とパ ラホルムアルデヒド等のホルムアルデヒドとを反応させることによりナフトール類の 2量 体として系内に残し、見かけ上、残存するナフトール類を低減させる方法を用いても よい。ナフトール類は、通常、ナフトール樹脂中に残存する量が 5wt%以下となるまで 、好ましくは 2wt%以下となるまで除去される。
[0012] 本発明に用いるナフトール樹脂を製造する際に用いるナフトール類としては 1一ナフ トール又は 2—ナフトールがあり、これらは単独で用いてもよいし、混合物として用いて もよレ、。芳香族架橋剤としては、 p—キシリレンダリコール、 1, 4—ジクロロメチルベンゼ ン、 1, 4—ジメトキシメチルベンゼン、 1, 4—ジエトキシメチルベンゼン等を例示するこ とができる。
[0013] 本発明に用いるビスフエノールイ匕合物は、上記式(2)で表される構造を有している 。式中、 R、 Rは水素原子、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、イソプロピル基、ァ
1 2
リル基、プロパルギル基、ブチル基、 n—アミノレ基、 sec—ァミル基、 tert—ァミル基、シ クロへキシノレ基、フヱニル基又はベンジル基等の炭素数が 1一 8の炭化水素基である が、好ましくは、水素原子又はメチル基である。
また、 Xは直接結合、エーテル基、スノレフイド基、スルホン基、ケトン基、メチレン基 又はイソプロピリデン基を示すが、好ましくは、直接結合又はメチレン基である。ビス フエノール化合物の具体例としては、 4, 4'—ジヒドロキシビフエニル、 3, 3 ', 5, 5'_ テトラメチル一 4, 4' —ジヒドロキシビフエニル、 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルメタン、 3 , 3'_ジメチルー 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルメタン、 3, 3' , 5, 5 '—テトラメチルー 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルメタン、 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルエーテル、 3, 3 ', 5 , 5'—テトラメチノレー 4, 4'ージヒドロキシジフエニルエーテル、 4, 4'ージヒドロキシジフ ェニルスルフイド、 3, 3'_ジメチルー 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルスルフイド、 3, 3 ' , 5, 5'-テトラメチルー 4, 4'-ジヒドロキシジフエニルスルフイド、 4, 4' -ジヒドロキシジ フエニルスルホン、 3, 3 ' , 5, 5'—テトラメチノレー 4, 4'—ジヒドロキシジフエニルスルホ ン、 4, 4,ージヒドロキシジフエ二ルケトン、ビスフエノーノレ A等が挙げられる。
[0014] 本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1)のナフトール樹脂と一般式(2)のビスフ ェノール化合物の混合物をェピクロルヒドリンと反応させることにより製造することがで きるが、この反応は通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。
[0015] 例えば、上記混合物を過剰のェピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水 酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、 20— 150°C、好ましくは、 30— 80°Cの範囲で 1一 10時間反応させる方法が挙げられる。この際のアルカリ金属水酸 化物の使用量は、ナフトール樹脂とビスフヱノール化合物の水酸基の合計 1モルに 対して、 0. 8- 1. 2モノレ、好ましく ίま、 0. 9—1. 0モノレの範囲である。また、ェピクロ ルヒドリンはナフトール樹脂とビスフヱノール化合物中の水酸基の合計に対して過剰 に用いられる力 通常、合計の水酸基 1モルに対して、 1. 5 30モル、好ましくは、 2 一 15モルの範囲である。 [0016] この反応に際しては、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコールジメチルエーテ ノレ、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の溶媒を共存させてもょレ、。
[0017] 反応終了後、過剰のェピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソプチ ルケトン等の溶剤に溶解し、濾過、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去する ことにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。
[0018] 本発明のエポキシ樹脂は、上記製造方法で得られたものであり、一般式(1)と(2) で表されるナフトール樹脂とビスフエノールイ匕合物中の水酸基力 グリシジルエーテ ル基に変化したものを主とし (好ましくは 90wt%以上)、エポキシ基の一部が開烈して オリゴマー化したものを少量含む。このエポキシ樹脂は、軟ィ匕点が 50— 110。Cである ことが望ましい。
[0019] 本発明のエポキシ樹脂は、加水分解性塩素を低減させるために、上記反応で得ら れたエポキシ樹脂をさらに塩基性物質と接触させる方法をとることができる。この反応 は、通常、トルエン、キシレン、 n—ブタノール、メチルイソブチルケトン等の溶媒中で 行われる。塩基性物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属 水酸化物を例示することができる。
[0020] 本発明のエポキシ樹脂の加水分解性塩素量は、封止する電子部品の信頼性向上 の観点から少なレ、ものがよい。特に限定するものではないが、 lOOOppm以下が好ま しぐ更に好ましくは 500ppm以下である。なお、本発明でレ、う加水分解性塩素とは、 以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料 0· 5gをジォキサン 30mlに溶 解後、 1N-K〇H、 10mlを加え 30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに 80 %アセトン水 100mlを加え、 0. 002N - AgN03水溶液で電位差滴定を行い得られ る値である。
[0021] 本発明のエポキシ樹脂組成物はエポキシ樹脂及び硬化剤よりなり、エポキシ樹脂 成分として本発明のエポキシ樹脂を必須成分として配合したものである。
[0022] 本発明のエポキシ樹脂組成物には、本発明のエポキシ樹脂以外に、分子中にェポ キシ基を 2個以上有する通常のエポキシ樹脂を配合してもよレ、。このようなエポキシ 樹脂としては、例えばビスフエノーノレ A、ビスフエノール F、ビスフエノール S、フルォレ ンビスフエノール、 4, 4'—ビフエノール、 2, 2'—ビフエノール、ハイドロキノン、レゾル シン等の 2価のフエノール類、トリス—(4—ヒドロキシフエニル)メタン、 1 , 1, 2, 2—テト ラキス(4—ヒドロキシフエニル)ェタン、フエノールノボラック、 o_クレゾ一ルノボラック等 の 3価以上のフエノール類、テトラブロモビスフエノール A等のハロゲン化ビスフエノー ル類から誘導されるグリシジルエーテルィ匕物などが挙げられる。これらのエポキシ樹 脂は、単独でもよいし、 2種以上を併用してもよい。これらの配合量は、本発明の目的 を損なわない範囲であればよいが、通常、本発明のエポキシ樹脂に対して 50重量% 以内がよい。
[0023] 本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬 化剤として知られているものはすべて使用できる。例えば、ジシアンジアミド、多価フ ェノール類、酸無水物類、芳香族及び脂肪族ァミン類等がある。
[0024] 具体的に例示すれば、多価フエノール類としては、例えばビスフエノール A、ビスフ エノールF、ビスフエノール S、フルオレンビスフエノール、 4, 4'—ビフエノール、 2, 2' ービフエノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、ナフタレンジオール類等の 2 価のフエノール類;トリス一(4—ヒドロキシフエニル)メタン、 1 , 1, 2, 2—テトラキス(4—ヒ ドロキシフエ二ノレ)ェタン、フエノールノボラック、 o_クレゾ一ルノボラック、ナフトールノ ポラック、ポリビエルフエノール等に代表される 3価以上のフエノール類;更にはフエノ ール類、ナフトール類又は、ビスフエノール A、ビスフエノール F、ビスフエノール S、フ ノレオレンビスフエノール、 4, 4'—ビフエノール、 2, 2'—ビフエノール、ハイドロキノン、 レゾルシン、カテコール、ナフタレンジオール類等の 1価又は 2価のフエノール類と、 ホノレムアルデヒド、ァセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、 p—ヒドロキシベンズアルデヒド 、 p_キシリレングリコール、 p_キシリレングリコールジメチルエーテル、ジビニルベン ゼン、ジイソプロぺニルベンゼン、ジメトキシメチルビフエニル類、ジビニルビフエ二ノレ 、ジイソプロぺニルビフヱニル類等の架橋剤との反応により合成される多価フヱノール 性化合物;などが挙げられる。
[0025] フエノール系硬化剤の軟化点範囲は、好ましくは 40— 150°C、より好ましくは 50 120°Cである。これより低いと保存時のブロッキングの問題があり、これより高いとェポ キシ樹脂組成物調製時の混練性と成形性に問題がある。また、好ましい 150°Cにお ける溶融粘度は 20ボイズ以下であり、より好ましくは 5ボイズ以下である。これより高い とエポキシ樹脂組成物の調製時の混練性、及び成形性に問題がある。
[0026] 酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水 フタル酸、へキサヒドロ無水フタル酸、メチルへキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水 ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。
[0027] アミン類としては、 4, 4,—ジアミノジフエニルメタン、 4, 4,—ジアミノジフエニルプロパ ン、 4, 4 '—ジアミノジフエニルスルホン、 m—フエ二レンジァミン、 p—キシリレンジァミン 等の芳香族ァミン類、エチレンジァミン、へキサメチレンジァミン、ジエチレントリァミン 、トリエチレンテトラミン等の脂肪族ァミン類がある。
[0028] 本発明の樹脂組成物には、これら硬化剤の 1種又は 2種以上を混合して用いること ができる。
[0029] 本発明のエポキシ樹脂組成物は封止用として有用である。封止用のエポキシ樹脂 組成物に配合する無機充填材としては、例えばシリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カル シゥム、炭酸カルシウム、炭化ケィ素、窒化ケィ素、窒化ホウ素、ジルコニァ、フォステ ライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニアなどの 1種又は 2種以上が挙げられ、 その形態は粉体、球形化したビーズなどが挙げられる。これらの内、無機充填材の高 充填化の観点から球状の溶融シリカが好ましい。通常、シリカは、数種類の粒径分布 を持ったものを組み合わせて使用される。組み合わせるシリカの平均粒径の範囲は、 0. 5— ΙΟΟ μ ΐη力 Sよレヽ。
[0030] この無機充填材の配合量は、エポキシ樹脂組成物全体の 75重量%以上、好ましく は 80重量%以上である。これより少ないと半田耐熱性、難燃性の向上効果が小さい
[0031] 本発明のエポキシ樹脂組成物には、従来より公知の硬化促進剤、例えばアミン類、 イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸などを添カ卩してもよレ、。具体的には、 1, 8—ジァザビシクロ(5, 4, 0)ゥンデセン— 7、トリエチレンジァミン、ベンジルジメチルァ ミン、トリエタノールァミン、ジメチルァミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フエ ノール等の三級アミン類、 2_メチルイミダゾール、 2_フエ二ルイミダゾール、 2_フエ二 ノレ一 4ーメチルイミダゾール、 2_ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブ チルホスフィン、メチルジフエニルホスフィン、トリフエニルホスフィン、ジフエ二ルホス フィン、フエニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニゥム 'テトラフ ェニルボレート、テトラフェニルホスホニゥム.ェチルトリフエニルボレート、テトラブチル ホスホニゥム.テトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホニゥム.テトラ置換ボレート、 2 —ェチノレ _4_メチルイミダゾーノレ'テトラフエニルボレート、 N_メチルモルホリン.テトラ フヱニルポレート等のテトラフヱニルボロン塩などが挙げられる。添加量としては、通 常、エポキシ樹脂 100重量部に対して 0. 2 10重量部である。
[0032] また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、カルナバワックス、エステル系ワックス等 の離型剤、エポキシシラン、アミノシラン、ウレイドシラン、ビュルシラン、アルキルシラ ン、有機チタネート、アルミニウムアルコレート等のカップリング剤、カーボンブラック 等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、シリコンオイル等の低応力化剤、高 級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩等の滑剤などを配合してもよレ、。
[0033] 一般的には、以上のような原材料を所定の配合量でミキサーなどによって十分混合 した後、ミキシングロール、押し出し機などによって混練し、冷却、粉碎することによつ て、電子部品封止用に適したエポキシ樹脂組成物を調製することができる。
[0034] このエポキシ樹脂組成物を用いて、電子部品を封止する場合の方法としては、低 圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、射出成形法、圧縮成形法によっても 可能である。
図面の簡単な説明
[0035] [図 1]実施例 1で得たエポキシ樹脂 Aの GPCチャートを示す。
発明を実施するための最良の形態
[0036] 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。
[0037] 合成例 1 (ナフトール樹脂の合成例)
2000mlの 4口フラスコ ίこ 2—ナフトーノレ lOOOg (6· 94モノレ)、ノ ラキシリレングリコー ノレ 144g (l . 04モノレ)、 卜ノレェン 550gを装人し、その後、角虫媒として p—卜ノレエンスノレホ ン酸 0. 44gを添加し、攪拌しながら昇温し 130°Cで 2時間反応させ、生成する水は 系外に除いた。反応後、炭酸ナトリウムにより中和を行い、未反応分の 2—ナフトール を減圧留去し、茶褐色状樹脂 380gを得た。得られたナフトール樹脂の水酸基当量 は 205、軟化点は 97°C、 150°Cでの溶融粘度は 0. 31Pa' sであった。 [0038] 合成例 2 (ナフトール樹脂の合成例)
2000mlの 4口フラスコ ίこ 2_ナフトーノレ 564g (3· 92モノレ)、ノ ラキシリレングリコー ノレ 200g (l . 46モノレ)を装人し、その後、角虫媒として p—卜ノレエンスノレホン酸 0· 68gを 添加し、攪拌しながら昇温し 150°Cで 2時間反応させ、生成する水は系外に除いた。 反応後、炭酸ナトリウムにより中和を行った。 150°Cに保持した後、 92%パラホルムァ ルデヒド 32. 6g (l . 0モル)を装入し生成する水を系外に除きながら 1時間後、茶褐 色状樹脂 706gを得た。得られたナフトール樹脂の水酸基当量は 205、軟化点は 10 5°C、 150°Cでの溶融粘度は 1. 05Pa' sであった。
[0039] 実施例 1
合成例 2で得たナフトール樹脂 170g、 3, 3,, 5, 5 '—テトラメチル— 4, 4' _ジヒドロ キシジフエニルメタン 30gをェピクロロヒドリン 590g、ジエチレングリコールジメチルェ ーテノレ 88. 6gに溶解した。減圧下(約 140mmHg)、 65。Cにて 48%水酸化ナトリウ ム水溶液 86. 8gを 4時間かけて滴下した。この間、生成する水はェピクロロヒドリンと の共沸により系外に除き、溜出したェピクロロヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、 更に 30分間反応を継続した。その後、水洗により生成した塩を除き、ェピクロロヒドリ ンを留去し、粗製エポキシ樹脂を得た。得られた粗製エポキシ樹脂をメチルイソプチ ルケトン 760mlに溶解した後、 80°Cに加熱し、撹拌しながら 10%水酸化ナトリウム 1 7. 6gを加え、 2時間反応させた。反応後、イオン交換水にて水洗を行った後、メチル イソプチルケトンを留去し、茶褐色のエポキシ樹脂 234gを得た(エポキシ樹脂 A)。ェ ポキシ当量は 248であり、軟化点は 72°C、 ICIコーンプレート法に基づく 150°Cでの 溶融粘度は 0. 13Pa' s、加水分解性塩素は 320ppmであった。得られた樹脂の GP Cチャートを図 1に示す。ここで GPC測定は、装置: HLC-82A (東ソ一(株)製)及び力 ラム: TSK-GEL 2000 X 3本及び TSK-GEL4000 X 1本(何れも東ソー(株)製)を用 レ、、溶媒:テトラヒドロフラン、流速: 1.0ml/分、温度: 38°C、検出器: RIの条件で行つ た。また、加水分解性塩素は、樹脂試料 0.5gを 1, 4_ジォキサン 30mlに溶解させた ものを IN KOH/メタノール溶液 5mlで 30分間煮沸還流したものを、硝酸銀溶液で 電位差滴定を行うことにより求めた。
[0040] 実施例 2 合成例 2で得たナフトール樹脂 170g、 4, 4,ージヒドロキシビフエニル 30gをェピクロ ロヒドリン 640g、ジエチレングリコールジメチルエーテル 96· Ogに溶解し、減圧下(約 140mmHg)、 65°Cにて 48%水酸化ナトリウム水溶液 94. Ogを 4時間かけて滴下し た。この間、生成する水はェピクロロヒドリンとの共沸により系外に除き、溜出したェピ クロロヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに 30分間反応を継続した。その後、 水洗により生成した塩を除き、ェピクロロヒドリンを留去し、粗製エポキシ樹脂を得た。 得られた粗製エポキシ樹脂をメチルイソプチルケトン 770mlに溶解した後、 80°Cに 加熱し、撹拌しながら 10%水酸化ナトリウム 17. 8gをカ卩え、 2時間反応させた。反応 後、イオン交換水にて水洗を行った後、メチルイソプチルケトンを留去し、茶褐色のェ ポキシ樹脂 238gを得た(エポキシ樹脂 B)。エポキシ当量は 240であり、軟化点は 91 °C、 ICIコーンプレート法に基づく 150°Cでの溶融粘度は 0. 10Pa' s、加水分解性塩 素は 320ppmであった。
[0041] 実施例 3
合成例 1で得たナフトール樹脂 170g、 4, 4,ージヒドロキシビフエニル 30gをェピクロ ロヒドリン 640g、ジエチレングリコールジメチルエーテル 96· Ogに溶解し、減圧下(約 140mmHg)、 65°Cにて 48%水酸化ナトリウム水溶液 94. Ogを 4時間かけて滴下し た。この間、生成する水はェピクロロヒドリンとの共沸により系外に除き、溜出したェピ クロロヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに 30分間反応を継続した。その後、 水洗により生成した塩を除き、ェピクロロヒドリンを留去し、粗製エポキシ樹脂を得た。 得られた粗製エポキシ樹脂をメチルイソプチルケトン 770mlに溶解した後、 80°Cに 加熱し、撹拌しながら 10%水酸化ナトリウム 17. 8gをカ卩え、 2時間反応させた。反応 後、イオン交換水にて水洗を行った後、メチルイソプチルケトンを留去し、茶褐色のェ ポキシ樹脂 246gを得た(エポキシ樹脂 C)。エポキシ当量は 235であり、軟ィ匕点は 86 °C、 ICIコーンプレート法に基づく 150°Cでの溶融粘度は 0. 08Pa' s、加水分解性塩 素は 270ppmであった。
[0042] 比較例 1
合成例 1で得たナフトール樹脂 200gをェピクロロヒドリン 640g、ジエチレングリコー ノレジメチノレエーテノレ 96. 0gに溶角军し、減圧下(約 140mmHg)、 65°Cにて 480/0水酸 化ナトリウム水溶液 77. 2gを 4時間かけて滴下した。この間、生成する水はェピクロ口 ヒドリンとの共沸により系外に除き、溜出したェピクロロヒドリンは系内に戻した。滴下 終了後、さらに 30分間反応を継続した。その後、水洗により生成した塩を除き、ェピ クロロヒドリンを留去し、粗製エポキシ樹脂を得た。得られた粗製エポキシ樹脂をメチ ノレイソプチルケトン 770mlに溶解した後、 80°Cに加熱し、撹拌しながら 10%水酸化 ナトリウム 21. 5gをカ卩え、 2時間反応させた。反応後、イオン交換水にて水洗を行つ た後、メチルイソプチルケトンを留去し、茶褐色のエポキシ樹脂 237gを得た (ェポキ シ樹脂 D)。エポキシ当量は 283であり、軟化点は 85°C、 ICIコーンプレート法に基づ く 150°Cでの溶融粘度は 0. 36Pa' s、加水分解性塩素は 340ppmであった。
[0043] 比較例 2
合成例 2で得たナフトール樹脂 200gを用レ、、比較例 1と同様に反応を行い、茶褐 色のエポキシ樹脂 232gを得た(エポキシ樹脂 E)。エポキシ当量は 281であり、軟化 点は 83°C、 ICIコーンプレート法に基づく 150°Cでの溶融粘度は 0. 33Pa' s、加水 分解性塩素は 38 Oppmであった。
[0044] 実施例 4一 8、比較例 3、 4
実施例 1一 3、比較例 1, 2で合成したエポキシ樹脂、 0-クレゾ一ルノボラック型ェポ キシ樹脂(エポキシ当量 197、軟化点 54°C、 150°Cでの溶融粘度 90mPa' s ; EOC N-1020、 日本化薬製;エポキシ樹脂 F)、フエノールノボラック(OH当量 104、軟化 点 46°C、 150°Cでの溶融粘度 20mPa' s ;フエノール樹脂 A)及びフエノールァラルキ ノレ樹脂(OH当量 175、軟化点 75°C、 150°Cでの溶融粘度 0. 32Pa- s ; MEH-780 0S、明和化成製;フエノール樹脂 B)、 1-ナフトールァラルキル樹脂(OH当量 205、 軟化点 77°C、 150°Cでの溶融粘度 40mPa' s ; SN_475L、新日鐵化学製;フエノー ル樹脂 C)を用レ、、硬化促進剤としてトリフエニルホスフィン、シランカップリング剤とし て γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用レ、、表 1に示す配合で樹脂組成物を 得た。
[0045] このエポキシ樹脂組成物を用いて 175°Cで成形し、 175°Cで 12時間ポストキュアを 行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。ガラス転移点は、熱機械測 定装置により、昇温速度 7°C/分の条件で求めた。曲げ試験は、常温及び 240°Cで の高温曲げ強度、曲げ弾性率を 3点曲げ法により行った。接着強度は、銅板又は鉄 板 2枚の間に 25mm X 12. 5mm X O. 5mmの成形物を圧縮成型機により 175°Cで 成形し、 175°C、 12時間ポストキュアを行った後、引張剪断強度を求めることにより評 価した。吸水率は、本エポキシ樹脂組成物を用いて、直径 50mm、厚さ 3mmの円盤 を成形し、ポストキュア後 85°C、 85。/0RHの条件で 100時間吸湿させた時のものであ り、クラック発生率は、 QFP-80pin (14mm X 20mm X 2. 5mm、 194ァロイ)を成 形し、ポストキュア後、 85°C、 85%RHの条件で所定の時間吸湿後、 260°Cの半田 浴に 10秒間浸漬させた後、ノ ノケージの状態を観察し求めた。結果をまとめて表 1に 示す。
[0046] なお、ブロッキング試験の結果は、エポキシ樹脂組成物の lmmパスの粉体を用い 、 25°Cで 24時間放置後のブロッキング率を重量%で表した。また、保存安定性は、 エポキシ樹脂組成物を 25°C、 1週間放置後のスパイラルフロー残存率で表した。
[0047] [表 1]
Figure imgf000015_0001
産業上の実施可能性
本発明のエポキシ樹脂組成物は、耐湿性、耐熱性、難燃性及び金属基材との接着 性等に優れるとともに、良好な成形性を有しており、電子'電気部品の封止材として 好適に使用することができる。また、本発明のエポキシ樹脂硬化物及びこれで封止 れた電子部品は耐熱性、電気絶縁性が優れる。本発明のエポキシ樹脂の製造方法 によれば、容易にエポキシ化が進行し、工業的な実施を可能とする。

Claims

請求の範囲 下記一般式 (1)、 ( 1 ) (但し、 nは平均値で 1 · 1から 4· 0の数を示す。)で表されるナフトール樹脂 100重量 部に対して、下記一般式 (2)、 [化 2] (但し、 R
1、 Rは水素原子又は炭素数 1
2 一 8の炭化水素基を示し、 Xは直接結合、ェ 一テル基、スノレフイド基、スルホン基、ケトン基、メチレン基又はイソプロピリデン基を 示す。)で表されるビスフヱノール化合物 10 60重量部を混合したのち、ェピクロロヒ ドリンと反応させることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。
[2] ビスフエノール化合物力 4, 4,—ジヒドロキシビフエニル又は 3, 3,, 5, 5 '—テトラメ チルー 4, 4'ージヒドロキシジフエニルメタンである請求項 1に記載のエポキシ樹脂の 製造方法。
[3] 請求項 1又は 2に記載のエポキシ樹脂の製造方法によって得られたエポキシ樹脂。
[4] 軟化点が 50— 110°Cである請求項 3に記載のエポキシ樹脂。
[5] 請求項 3に記載のエポキシ樹脂及び硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物。
[6] 請求項 5に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
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