WO2004112123A1 - 双極型静電チャック - Google Patents

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WO2004112123A1
WO2004112123A1 PCT/JP2004/008679 JP2004008679W WO2004112123A1 WO 2004112123 A1 WO2004112123 A1 WO 2004112123A1 JP 2004008679 W JP2004008679 W JP 2004008679W WO 2004112123 A1 WO2004112123 A1 WO 2004112123A1
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WO
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electrode member
electrostatic chuck
mounting surface
chuck
annular
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PCT/JP2004/008679
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Kinya Miyashita
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Creative Technology Corporation
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    • H01L21/6833Details of electrostatic chucks
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N13/00Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect

Definitions

  • the present invention relates to a bipolar electrostatic chuck used in a semiconductor manufacturing apparatus, a liquid crystal manufacturing apparatus, and the like.
  • the present invention relates to a bipolar electrostatic chuck in which a chuck main body and an electrode member constituting an electrostatic chuck can be easily separated and reused after use. Background technology
  • the dry process has rapidly progressed, and semiconductor manufacturing such as plasma etching equipment, plasma CVD equipment, ion implantation equipment, associating equipment, electron beam lithography equipment, and X-ray lithography equipment have been performed.
  • An apparatus is used, and in such an apparatus, a sample such as a semiconductor wafer is often processed in a vacuum.
  • a mechanical chuck by a mechanical method as a means for holding the sample, a mechanical chuck by a mechanical method, a vacuum chuck using a pressure difference from the atmospheric pressure, an electrostatic chuck using an electrostatic attraction force, and the like are used.
  • the electrostatic chuck is advantageous in keeping the sample and the holder thermally uniform and highly reliable in a vacuum.
  • a bipolar electrostatic chuck is used as one of such electrostatic chucks.
  • the bipolar electrostatic chuck includes, for example, a first electrode which is a larger portion and serves as a base, and a second electrode which is disposed on the upper surface of the first electrode and has a central opening and has an annular shape. And two electrodes.
  • a DC power source is connected between the first electrode and the second electrode, and a sample such as a semiconductor wafer is placed on a sample adsorption surface formed by the upper surface of the first electrode and the upper surface of the second electrode. Then, between the bottom surface of the sample and the sample adsorption surface, The sample is attracted and held by the generated electrostatic attraction.
  • a first electrode serving as a base has an electrode recess formed by machining on an upper surface thereof, and a second electrode having an annular shape is provided with an electrode recess. It is held in the electrode recess (for example, Patent No. 261011, Patent No. 261011, Patent No. 2614, 21 and See Japanese Patent Publication No. 26144442).
  • a small gap is formed between the second electrode provided in the electrode recess and the first electrode, and the gap is set to be small. Accurate manufacturing is important in reliably holding samples such as wafers by electrostatic attraction.
  • a roundness having a predetermined radius of curvature is provided to the corner of the bottom of the recess (for example, see Patent No. 2,610,112 and Patent No. 2,610,113).
  • an electrode member provided in a concave groove provided near the center of a main member serving as a base an electrode member formed outside the concave groove near the center of the main member.
  • a DC power supply is connected to an outer electrode member provided in a concave groove (for example, see US Pat. No. 5,213,439).
  • the bipolar electrostatic chuck of the type in which the electrode recess is formed on the upper surface of the first electrode and the second electrode is held in the electrode recess as described above a slight gap between the electrodes is provided. Forming and rounding the corners of the electrode recesses require complex machining that requires processing accuracy.
  • a groove is formed near the center of the main member serving as the base and outside thereof, and a DC power supply is connected to two electrode members provided in these grooves to form a bipolar type.
  • highly precise and complicated machining is required for forming the above-mentioned concave groove and assembling the main member and the electrode member.
  • Electrostatic chucks are intended to protect against plasma irradiation when used in plasma etching equipment, etc., or to function as a dielectric film. Therefore, an oxide film is often formed on the surface.
  • the above-mentioned oxide film is affected by corrosion or reduction due to electrochemical action of ions, electrons and radicals contained in the plasma.
  • a tool or the like may erroneously damage an oxide film on a sample adsorption surface or the like by a tool or the like.
  • Deterioration or scratching of the oxide film of the electrostatic chuck causes a decrease in electrical insulation and an increase in leakage current between the bipolar electrodes, or a decrease in adsorption force to a sample such as a wafer. Cause. Therefore, even if the surface of the electrostatic chuck that has deteriorated as a result of its use is completely healthy except for the oxide film on the surface, it will be discarded as it is, or if it is reused without being discarded, it will be deteriorated or damaged. It is necessary to regenerate the oxide film that has been lost.
  • the adhesive layer fixing the circular electrode inside the concave or concave groove must be disassembled.
  • it is difficult to disassemble the bipolar electrostatic chuck once assembled for example, it is necessary to perform a heat treatment or remove the annular electrode by mechanical means.
  • the separated first electrode and main member, etc. Due to the complicated shape of the surface on which the poles and electrode members are attached, the polishing and regenerating of the oxide film required for reuse are complicated and diversified, and are used again as electrostatic chucks. Requires a large number of processing steps, resulting in high regeneration costs.
  • the regenerated oxide film may have insufficient film strength at the interface of the regenerated electrode, resulting in poor durability.
  • the electrodes etc. that have undergone the various processes required for regeneration will have a greater amount of dimensional reduction than those before regeneration, and will be assembled again as an electrostatic chuck.
  • the number of times that the reproduction process can be performed is very limited even if it is reused, and it is often difficult to reuse the used electrostatic chuck. Disclosure of the invention
  • the present inventors can easily manufacture the electrostatic chuck compared with the conventional bipolar electrostatic chuck, and can easily separate and assemble the electrostatic chuck after use.
  • a sample adsorption surface that adsorbs the sample is formed by the electrode members attached to the attachment surface of the chuck body via an adhesive layer, and after use, Has completed the present invention which solves the above-mentioned problems by enabling each electrode member to be easily separated from the mounting surface.
  • an object of the present invention is to make it easier to manufacture than a conventional bipolar electrostatic chuck, and to easily separate the chuck body and the electrode member constituting the electrostatic chuck after use.
  • An object of the present invention is to provide a bipolar electrostatic chuck capable of performing efficient reuse.
  • the present invention provides a chuck body having a mounting surface, an annular electrode member formed in a ring shape having a central opening, and being fixed to a mounting surface of the chuck body via a bonding layer.
  • the electrode member is disposed within the central opening of the electrode member at a predetermined distance from the annular electrode member.
  • An inner electrode member fixed to the outer surface of the annular electrode member at a predetermined distance from the annular electrode member, and an outer electrode fixed to the mounting surface via the adhesive layer.
  • a bipolar electrode wherein the inner electrode member and the outer electrode member form a first electrode, and the annular electrode member forms a second electrode.
  • the present invention also provides a chuck body having a mounting surface, a ring-shaped electrode member having a central opening and formed in a ring shape, and being fixed to a mounting surface of the chuck body with an adhesive layer interposed therebetween.
  • An inner electrode member disposed in the center opening of the member at a predetermined distance from the annular electrode member and fixed to the mounting surface via a bonding layer; and a predetermined outer ring member outside the annular electrode member.
  • an outer electrode member fixed to the mounting surface via an adhesive layer.
  • the chuck body, the inner electrode member, and the outer electrode member constitute a first electrode, A bipolar electrostatic chuck, wherein the annular electrode member constitutes a second electrode.
  • the chuck body only needs to have a mounting surface on which the annular electrode member, the inner electrode member, and the outer electrode member can be mounted.
  • the shape of the chuck body is a general bipolar electrostatic chuck.
  • a flange or the like may be provided on the outer peripheral surface of the chuck main body so that the chuck main body can be attached to and detached from a semiconductor manufacturing apparatus or the like.
  • the annular electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via an adhesive layer may be a member formed in an annular shape having a central opening. It can be formed according to the size and shape of the sample. That is, since this annular electrode member constitutes the second electrode in the bipolar electrostatic chuck of the present invention, its shape, area, and the like are set so that the electrostatic attraction force to the sample can be optimally exhibited. It can be designed and formed. For example, if the sample to be adsorbed is a circular sample such as a semiconductor wafer, this ring
  • the shape of the polar member is preferably an annular electrode member in which both the outer peripheral shape and the center opening shape are circular.
  • the outer peripheral shape is It is preferable to use a rectangular ring-shaped electrode member having a square shape and a central opening shape.
  • the inner electrode member fixed to the attachment surface of the chuck body via an adhesive layer is disposed within the central opening of the annular electrode member at a predetermined distance from the annular electrode member. Any material can be used, and it can be formed according to the size and shape of the sample to be absorbed. That is, in the bipolar electrostatic chuck according to the present invention, the inner electrode member constitutes the first electrode together with the outer electrode member or the outer electrode member and the chuck main body.
  • the sample to be adsorbed is a circular sample such as a semiconductor wafer
  • a circular shape having an outer diameter slightly smaller than the center opening diameter in correspondence with the shape of the center opening of the annular electrode member as described above.
  • the shape of the center opening of the annular electrode member is set to be smaller than the shape of the center opening. It is preferable to use a slightly smaller square inner electrode member.
  • the outer electrode member fixed to the attachment surface of the chuck body via an adhesive layer is provided outside the annular electrode member at a predetermined distance from the annular electrode member. It can be formed according to the size and shape of the sample to be adsorbed. That is, in the bipolar electrostatic chuck of the present invention, the outer electrode member constitutes the first electrode together with the inner electrode member or the inner electrode member and the chuck main body. It can be designed and formed in a shape, area, etc. that can optimally exhibit the electro-adsorption force.
  • the sample to be adsorbed is a circular sample such as a semiconductor wafer or the like, a circle having a central opening slightly larger than the outer diameter of the annular electrode member corresponding to the outer shape of the annular electrode member described above.
  • a circle having a central opening slightly larger than the outer diameter of the annular electrode member corresponding to the outer shape of the annular electrode member described above.
  • the sample is a square sample such as a square liquid crystal glass substrate, it is slightly larger than the annular electrode member corresponding to the outer peripheral shape of the annular electrode member. It is preferable to use a rectangular annular outer electrode member having a rectangular central opening.
  • An oxide film is formed on each surface of the annular electrode member, the inner electrode member, and the outer electrode member, and an oxide film is formed on at least the mounting surface and the outer peripheral surface of the chuck body. Then, when the annular electrode member, the inner electrode member, and the outer electrode member are fixed to the mounting surface of the chuck body via an adhesive layer, the upper surfaces of the annular electrode member, the inner electrode member, and the outer electrode member (the chuck body).
  • a sample adsorption surface for adsorbing a sample such as a semiconductor wafer or the like is formed on the surface opposite to the mounting surface side.
  • the predetermined interval formed between the annular electrode member and the inner electrode member and the predetermined interval formed between the annular electrode member and the outer electrode member are determined based on the optimum static distance for the sample. It can be appropriately designed so as to exhibit the electroadsorption force.
  • the gap at a predetermined interval formed between these electrode members is such that a part of the adhesive layer left when the electrode members are fixed to the mounting surface enters even though the space is formed. It is good.
  • the mounting surface of the chuck body according to the present invention includes an outer convex portion for positioning the outer electrode member in the height direction with respect to the mounting surface and / or a height position of the inner electrode member with respect to the mounting surface. It is preferable to provide an inner convex portion for determining, and more preferably, to provide both the outer convex portion and the inner convex portion.
  • the outer convex portion is provided at a position corresponding to the bottom surface (the surface opposite to the surface forming the sample adsorption surface) of the outer electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via an adhesive layer. When fixing the member to the mounting surface, it becomes the standard for mounting in the height direction with respect to the mounting surface.
  • the inner convex portion is provided at a position corresponding to the bottom surface (the surface opposite to the surface forming the sample adsorption surface) of the inner electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via an adhesive layer.
  • the electrode member When attaching the electrode member to the mounting surface, it becomes the mounting reference in the height direction to the mounting surface ⁇ PC Lan Listen 08679
  • the shape of the outer convex portion and the inner convex portion there is no particular limitation on the shape of the outer convex portion and the inner convex portion.
  • the convex portion provided on the ridge may be used. There may be.
  • the adhesive layer is provided in a space partitioned by the outer convex portion and / or the inner convex portion on this mounting surface.
  • the outer convex portion is provided with a ridge convex portion provided at a position corresponding to the outer peripheral edge of the outer electrode member on the mounting surface, so that the outer electrode member is mounted on the mounting surface of the check body.
  • the adhesive layer since the adhesive layer is no longer exposed between the main body of the chuck and the outer electrode member, when the electrostatic chuck is used in a plasma etching apparatus or the like, the adhesive layer may be directly exposed to plasma. Absent.
  • the inner convex portion is a ridge convex portion provided at a position corresponding to a peripheral edge which is an outer periphery of the inner electrode member on the mounting surface, and a ridge convex portion provided at a position corresponding to the outer electrode member.
  • the height of the ridge protrusion corresponding to the outer electrode member and the height of the ridge protrusion corresponding to the inner electrode member can be aligned with high accuracy.
  • the height position of the upper surface of the outer electrode member and the height position of the upper surface of the inner electrode member are accurately matched with respect to the mounting reference.
  • a positioning pin is provided.
  • the shape of the pin is not limited as long as each electrode member is positioned horizontally with respect to the mounting surface of the chuck body. For example, if one end of the pin is A positioning pin that engages with the mounting surface of the main body and has the other end engaged with the electrode member may be used.
  • the positioning pins provided between the chuck body and the annular electrode member it is preferable to provide two or more pins so that they are arranged at equal angles on the same circumference on the mounting surface.
  • the positioning pins provided between the inner body and the inner electrode member it is preferable that two or more pins are provided on the same circumference on the mounting surface so as to be arranged at an equal angle to each other.
  • the positioning pins provided between the outer electrode member and the outer electrode member it is preferable that two or more pins are provided so as to be arranged at equal angles on the same circumference on the mounting surface. Provision of the pins as described above is advantageous in that horizontal positioning of the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body can be easily performed. .
  • the first electrode when the first electrode is formed from the chuck body, the inner electrode member, and the outer electrode member, the first electrode is provided between the chuck body and the inner electrode member.
  • at least one of the positioning pins also serves as a conduction pin that enables electrical connection between the chuck body and the inner electrode member.
  • the positioning pin is provided between the chuck body and the outer electrode member. It is preferable that at least one of the positioning pins also serves as a conduction pin that enables electrical conduction between the chuck body and the outer electrode member.
  • at least one of the positioning pins provided between the chuck body and the inner electrode member and at least one of the positioning pins provided between the chuck body and the outer electrode member are provided.
  • the first electrode composed of the chuck body, the inner electrode member, and the outer electrode member can be configured by also serving as the conduction pin.
  • All of the positioning pins provided therebetween need to be formed of a material that can keep the annular electrode member and the chuck body electrically insulated.
  • the first electrode when the first electrode is composed of the inner electrode member and the outer electrode member, the first electrode is formed between the chuck body and the inner electrode member, and the chuck body and the annular electrode are formed.
  • the member and each positioning pin provided between the chuck body and the outer electrode member are formed of a material that can keep these electrode members electrically insulated from the chuck body. There is a need.
  • the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member fixed to the attachment surface of the chuck body via an adhesive layer is provided on the attachment surface of the chuck body.
  • the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member are preferably fixed in a complementary shape to the mounting surface of the chuck body. Is good. For example, when an annular electrode member is described as an example, a part of a vertical cross section of the annular electrode member is formed such that two surfaces intersect at a bottom portion (a portion opposite to the sample adsorption surface) of the annular electrode member.
  • a tapered groove corresponding to the shape of the bottom portion of the annular electrode member may be formed on the attachment surface of the chuck body to which the annular electrode member is fixed.
  • the bottom surface portion of the annular electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via the adhesive layer is mounted in a shape complementary to the mounting surface of the chuck body, thereby forming an annular shape.
  • the annular electrode member can perform horizontal positioning of the annular electrode member with respect to the mounting surface instead of using the above-described positioning pin.
  • the inner electrode member and the outer electrode member and by having complementary shapes in relation to the corresponding mounting surfaces, it is possible to position each electrode member in the horizontal direction with respect to the mounting surface. it can.
  • a positioning for positioning the annular electrode member in the height direction with respect to the mounting surface is provided between the chuck body and the annular electrode member.
  • a spacer may be interposed.
  • the positioning spacer must be electrically insulating so that the annular electrode member and the chuck body can be kept electrically insulated from each other.
  • the upper surface of the annular electrode member fixed to the mounting surface by interposition should be flush with the upper surface of the inner electrode member and the outer electrode member similarly fixed to the mounting surface via an adhesive layer. is there.
  • the adhesive layer for fixing the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member to the mounting surface of the chuck body is preferably a silicone-based adhesive or a polyvinyl butyral-based adhesive.
  • the adhesive layer is preferably made of one or two selected from agents, more preferably an adhesive layer made of a silicone-based adhesive.
  • each electrode member of the present invention when each electrode member of the present invention is fixed to the mounting surface of the chuck body to form an electrostatic chuck, the electrostatic chuck is disassembled.
  • such heating may cause annealing of a material (for example, aluminum material or the like) constituting the electrostatic chuck, and may decrease mechanical strength as the material.
  • the electrostatic chuck of the present invention is configured using a silicone-based adhesive as an adhesive layer
  • the release agent made of toluene, xylene, or the like can be used without using heat treatment or mechanical means.
  • Each electrode member fixed to the mounting surface can be easily separated, without reducing the mechanical strength of the material that forms the electrostatic chuck after separation, and because no mechanical treatment is required.
  • the electrostatic chuck can be separated without damaging it.
  • the silicone-based adhesive it is preferable to use a gel-based adhesive or an elastomer-based adhesive, and more preferably an elastomer-based adhesive from the viewpoint of more excellent plasma resistance.
  • TJP2004 / 008679 a gel-based adhesive or an elastomer-based adhesive, and more preferably an elastomer-based adhesive from the viewpoint of more excellent plasma resistance.
  • the gel type has a hardness of 20 to 80 (mm / 10) in penetration (JISK2207), and the elastomer type has a hardness of 50 to 120 in JIS type A. It can be used preferably.
  • the silicone-based adhesive a type containing a heat transfer filler is preferable.
  • any type that includes a heat transfer filler is suitable for the electrostatic chuck of the present invention, which has high thermal conductivity and is configured by mounting each electrode member on the mounting surface of the chuck body.
  • the thermal conductivity is usually about 0.1 to 0.5 (W / m'K), and can be said to be high at about 0.8 to 4 (W / m'K).
  • those having a thermal conductivity of 0.1 (W / m'K) or more can be suitably used.
  • each electrode member fixed to the mounting surface can be easily heated by heating at a relatively low temperature of about 150 ° C. Because they can be separated, they do not reduce the mechanical strength of the material that forms the electrostatic chuck.
  • At least one of the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member, preferably, the three electrode members of the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member are made of pure aluminum. It is good to form. Specific examples of such pure aluminum include JIS A1050, JIS A1060, JIS A1070, JIS A1080, and JIS AllOO, and preferably HS A1100.
  • Each of the above electrode members forms an oxide film on the surface by a commonly performed anodic oxidation treatment or the like. However, when each of the electrode members is formed of pure aluminum as described above, the oxide film formed on the surface thereof is formed.
  • the electrostatic chuck according to the present invention When the electrostatic chuck according to the present invention is configured by using the inner electrode member, the annular electrode member, and the outer electrode member formed using pure aluminum as described above, when used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, it has a problem such as plasma resistance. It has excellent surface performance and the electrical insulation performance of the oxide film is stable for a long period of time, extending the life of the product as an electrostatic chuck.
  • the chuck body in the present invention is required to have high mechanical strength, and is therefore preferably formed using a wrought structural material.
  • a wrought material for structure examples include I IS A606L @ IS A5056 and J IS A505.
  • the chuck body formed of the above-mentioned material forms an oxide film on at least each of the mounting surface and the outer peripheral surface to which the above-mentioned electrode members are fixed by an anodic oxidation treatment or the like generally performed.
  • the inner electrode member and the outer electrode member are equal.
  • a DC power supply is connected between the first electrode composed of the inner electrode member and the outer electrode member and the annular electrode member of the second electrode to form a bipolar electrostatic chuck. .
  • the inner electrode member and the outer electrode member need to be electrically connected to the chuck body, respectively, as described above.
  • the respective positioning pins provided between the inner electrode member and the chuck body and between the outer electrode member and the chuck body at least one of the positioning pins may also serve as a conduction pin.
  • a separate conduction pin may be provided between the chuck body and the inner electrode member and between the chuck body and the outer electrode member.
  • an inner electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via an adhesive layer has a portion that directly contacts the chuck body, and the chuck body and the inner electrode at this contact portion are provided.
  • the chuck main body and the inner electrode member may be electrically connected via the contact portion.
  • a portion of the oxide film may be removed at a portion that comes into contact with the chuck body, so that the outer electrode member may be electrically connected to the chuck body.
  • the bipolar electrostatic chuck of the present invention is formed by a chuck body having a mounting surface, an annular electrode member fixed to the mounting surface via an adhesive layer, an inner electrode member, and an outer electrode member. It is easier to manufacture than a conventional bipolar electrostatic chuck.
  • the adhesive layer as an adhesive layer made of a silicone adhesive or a polyvinyl butyral adhesive
  • the annular electrode member, the inner electrode member, and The bipolar electrostatic chuck of the present invention formed by fixing the outer electrode member is used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, and then easily used as a chuck body, an annular electrode member, an inner electrode member, and an outer electrode using a release agent. It can be separated from the electrode member.
  • the annular electrode member, the inner electrode member, and the outer electrode member fixed to the mounting surface of the chuck body via a silicone-based adhesive can be easily removed from the mounting surface without heating or mechanical processing. Can be removed. For this reason, there is no problem such as a decrease in mechanical material strength of the chuck body or the like due to heating or a problem such as damage due to machining.
  • the separated electrostatic chuck can be reused as an electrostatic chuck again.
  • each electrode member is fixed to the chuck main body.
  • the oxide film on the mounting surface is less directly affected by the effects of plasma irradiation and the like than the electrode members forming the sample adsorption surface.
  • the chuck body separated as described above usually needs only to be cleaned by dry ice blast, or only by a cleaning process such as cleaning with an alcohol-based cleaning agent.
  • the outer peripheral surface of the check body has relatively large scratches If necessary, a process for regenerating the oxide film on the surface of the chuck body may be performed. In this regeneration treatment, the usual processes such as removal of the oxide film attached to the chuck body, polishing of the chuck body after the removal of the film, and regeneration of the oxide film by anodic oxidation treatment are performed. it can.
  • a new annular electrode member, an inner electrode member, and an outer electrode member are fixed to the mounting surface thereof via an adhesive layer.
  • the mounting surface of the chuck main body has an outer convex portion and an inner convex portion, and the positioning spacer is used between the chuck main body and the annular electrode member so that the height of each electrode member with respect to the mounting surface can be increased. Since the vertical direction is positioned, it can be reproduced as close as possible to the sample suction surface of the electrostatic chuck before reuse. Similarly, if a positioning pin is provided between the chuck body and each electrode member, the horizontal position with respect to the mounting surface can be reproduced.
  • FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view of a bipolar electrostatic check X according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is an explanatory plan view of the bipolar electrostatic chuck X according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is an explanatory sectional view of a part of the bipolar electrostatic chuck X according to the second embodiment of the present invention.
  • X bipolar electrostatic chuck
  • W semiconductor wafer
  • 1 chuck body
  • la mounting surface
  • lb flange
  • lc base surface
  • Id outer ridge
  • le inner ridge
  • FIG. 1 is a sectional view of a bipolar electrostatic chuck X according to Embodiment 1 of the present invention. Show. FIG. 2 is a plan view of the bipolar electrostatic chuck X according to the embodiment of the present invention.
  • This bipolar electrostatic chuck X is formed in a disc shape by JIS A6061 wrought structural material and has a chuck body 1 having a mounting surface la, and a gel-like silicone adhesive on the mounting surface 1a.
  • Electrode member 3 made of pure aluminum material JIS A1100 fixed via an adhesive layer 2 made of: and an annular electrode member 3 disposed in the central opening of the annular electrode member 3 and attached to the mounting surface la by the adhesive layer
  • An inner circular electrode member 4 made of pure aluminum material J IS A1100 fixed via the second circular electrode member 2 and the outer circular electrode member 3 are disposed and fixed to the mounting surface la via the adhesive layer 2.
  • an outer annular electrode member 5 made of pure aluminum material HS A1100.
  • the bipolar electrostatic chuck X uses a flange portion 1 b provided on the outer peripheral surface of the chuck body 1, and is connected to a plasma etching apparatus (not shown) through a base surface 1 c of the chuck body 1. Fixed by 6.
  • the surface of the annular electrode member 3, the surface of the inner circular electrode member 4, the surface of the outer annular electrode member 5, and the surface of the chuck body 1 (excluding the surface on the base surface lc side) are: Each has an oxide film formed by anodizing. Further, between the annular electrode member 3 and the inner circular electrodes member 4, and the annular electrode member 3 and the outer toric electrode member 5 is disposed so as to respectively a predetermined distance dpd 2.
  • As the gel-like silicone adhesive use TSE3251 manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd. (viscosity 8.5 (25 ° C Pa's), thermal conductivity 0.18 (W / m'K)). Can be
  • an outer ridge convex portion 1d is provided so as to correspond to the outer periphery of the outer annular electrode member 5, and the outer annular electrode member 5 Positioning in the height direction with respect to the mounting surface 1a is performed by the outer ridge projection 1d.
  • the mounting surface la is provided with an inner ridge protrusion le at a position corresponding to the outer periphery of the inner circular electrode member 4, and the inner circular electrode member 4 is mounted by the inner ridge protrusion le. Positioning in the height direction with respect to the surface 1a is performed. Also, 8679
  • Insulating spacers 7 made of polyimide are provided between the annular electrode member 3 and the chuck body 1 so as to be evenly distributed at 45 ° at positions corresponding to the inner and outer circumferences of the annular electrode member 3. Eight are each interposed, and the annular electrode member 3 is positioned in the height direction with respect to the mounting surface la by the insulating spacers 7.
  • the sample-adsorbing surface 8 is formed by the annular electrode member 3, the inner circular electrode member 4, and the outer annular electrode member 5, and a semiconductor wafer "W" is mounted on the sample-adsorbing surface 8.
  • a positioning conduction pin 9 made of brass is provided between the chuck body 1 and the inner circular electrode member 4.
  • One end of the positioning conduction pin 9 is fitted into a fitting hole 4 a provided on the surface of the inner circular electrode member 4 opposite to the sample suction surface 8, and the other end is made of stainless steel at the tip.
  • the conduction panel 9 a is attached, and is fitted so that the conduction panel 9 a is urged in a fitting hole 1 ⁇ ⁇ provided in the chuck body 1.
  • the four positioning conduction pins 9 are provided so as to be arranged at 90 ° equidistant positions on the circumference of the inner circular electrode member 4 inside the inner protruding ridge le on the mounting surface la.
  • a conduction pin 9 is provided between the main body 1 and the chuck body 1. With these positioning conductive pins 9, the inner circular electrode member 4 and the outer circular electrode member 5 are positioned horizontally with respect to the mounting surface 1a of the chuck body 1, and at the same time, the chuck body 1 and the inner circular electrode member 4 are positioned. And the outer annular electrode member 5 constitutes a first electrode.
  • a positioning pin 10 made of polyimide is provided between the chuck body 1 and the annular electrode member 3.
  • One end of the positioning pin 10 is fitted into a fitting hole 3 a provided on the surface of the annular electrode member 3 opposite to the sample suction surface 8, and the other end is provided on the chuck body 1. It is fitted in the fitted hole 1 g.
  • the positioning pin 10 is located at a substantially intermediate position between the inner outer circumference and the outer outer circumference of the annular electrode member 3 on the mounting surface 1 a.
  • the three are arranged on a semicircle at 90 ° intervals. With the positioning pins 10, the annular electrode member 3 is positioned horizontally with respect to the mounting surface 1 a of the chuck body 1.
  • a cooling gas passage 11 that connects the chuck body 1 and the inner circular electrode member 4 and a cooling gas passage 12 that connects the chuck body 1 and the outer annular electrode member 5 are formed.
  • the cooling gas flow path 11 connecting the chuck body 1 and the inner circular electrode member 4 also serves as a through hole for allowing a push-up pin of the semiconductor wafer W placed on the sample adsorption surface 8 to pass therethrough.
  • an inner gas groove 13 connected to the cooling gas channel 11 is formed toward the outer peripheral direction of the inner circular electrode member 4.
  • an outer gas groove 14 connected to the cooling gas flow path 12 is formed on the upper surface of the outer annular electrode member 5 forming the sample adsorption surface 8.
  • the cooling gas passages 11 and 12 are connected to the gas chambers 15, respectively, and a part of the cooling gas sent from the cooling gas passage 11 is on the upper surface of the inner circular electrode member 4.
  • the cooling gas that flows into the gap formed between the circular electrode member 4 and the annular electrode member 3 and is sent from the cooling gas passage 12 is partially formed on the upper surface of the outer annular electrode member 5. It flows into the gap d 2 formed between the outer annular electrode member 5 and the annular electrode member 3. Therefore, the distribution of the cooling gas on the sample adsorption surface 8 is made uniform.
  • a through hole is formed in the chuck body 1 so as to penetrate between the mounting surface 1a and the base surface 1c.
  • One end of the through hole is formed in the through hole and the lower surface of the annular electrode member 3 (sample adsorption).
  • (Insulation bushing 16) is installed so as to reach the surface opposite to surface 8).
  • a power supply pin hole 3b is formed on the lower surface of the annular electrode member 3 at a position substantially corresponding to the center of the insulating bush 16, and the insulating bush is formed from the base surface 1c side of the chuck body.
  • a power supply terminal 17 that fits into the power supply pin hole 3 b is mounted through the inside of the power supply pin 16, whereby the annular electrode member 3 constitutes a second electrode.
  • the power supply terminals 17 are arranged at 90 ° evenly on the same circle as the positioning pins 10 provided between the chuck body 1 and the annular electrode member 3. 9
  • the electrostatic chuck mounting seat of the plasma etching apparatus (not shown) is made of a conductive member, and the positive or negative electrode of a DC power supply (not shown) is also connected. Since an oxide film is not formed on the base surface 1 c of the chuck body 1, the base surface lc is brought into contact with and fixed to the electrostatic chuck mounting seat surface on the above-mentioned device side, so that the chuck body 1 and the device side are fixed.
  • the electrostatic chuck mounting seat surface is electrically conductive. That is, one electrode of the DC power supply is connected to the chuck body 1.
  • a power supply terminal 17 attached to the annular electrode member 3 is connected to an electrode having a polarity opposite to that of the DC power supply electrode connected to the chuck body 1. In this way, the bipolar electrostatic chuck X is formed by separately applying positive and negative voltages to the first electrode and the second electrode.
  • the bipolar electrostatic chuck X according to Example 1 After using the bipolar electrostatic chuck X according to Example 1 in a plasma etching apparatus, it was removed from the plasma etching apparatus and immersed in a xylene bath. After immersing for 8 hours while maintaining the temperature of the xylene bath at 15 ° C, the electrostatic chuck X taken out of the xylene bath swells the above-mentioned silicone-based adhesive used as the adhesive layer 2 to form an adhesive force. Because of this weakening, the electrode members of the annular electrode member 3, the inner circular electrode member 4, and the outer annular electrode member 5 can be easily removed from the mounting surface la of the chuck body 1.
  • each of the annular electrode member 3, the inner circular electrode member 4, the outer annular electrode member 5, and the conductive panel 9 attached to one end of the positioning conductive pin 9 a is discarded without reuse.
  • the surface of the chuck body 1, positioning conduction pins 9, positioning pins 10 and insulating spacers 7 were subjected to dry ice blast irradiation under the conditions of a discharge pressure of 20 Pa and an irradiation time of 5 minutes, respectively. The deposits of were removed.
  • each electrode member is formed from the same material as that before replacement, and the thickness of the oxide film formed on the surface is made uniform.
  • the fitting holes 3a, 4a, 5a provided in each electrode member are formed in the same position and the same shape as those before replacement.
  • the cooling gas flow path 11 and the inner gas groove 13 are formed for the inner circular electrode member 4, and the cooling gas flow path 12 and the outer gas groove 14 are formed for the outer annular electrode member 5.
  • the chuck body 1, the positioning conduction pin 9, the positioning pin 10 and the insulating spacer 7, and the new annular electrode member 3, the inner circular electrode member 4, the outer annular electrode member 5, and the conduction By using the panel 9a to assemble the bipolar electrostatic chuck X according to the first embodiment in the same manner as described above, the bipolar electrostatic chuck X by reuse can be obtained.
  • FIG. 3 shows a modification of the relationship between the inner circular electrode member 4 in the bipolar electrostatic chuck X according to the first embodiment of the present invention and the mounting surface 1a to which the inner circular electrode member 4 is fixed.
  • the inner circular electrode member 4 has a conical bottom surface (opposite to the sample adsorption surface 8) and a conical projection 4h provided on the bottom surface.
  • An oxide film 4 i is formed on the surface of the inner circular electrode member 4 in the same manner as in Example 1 except for the surface portion of the projection 41 1 ⁇ .
  • a conical groove 1 h corresponding to the shape of the bottom surface of the inner circular electrode member 4 is formed on the mounting surface la of the chuck body 1 to which the inner circular electrode member 4 is fixed via the adhesive layer 2. Yes, Therefore, the conical groove lh and the projection 4h of the inner circular electrode member 4 are fixed in a complementary shape.
  • the oxide film 1 was formed in the same manner as in Example 1, except for the portion where the projection 4h of the inner circular electrode member 4 was in contact with the conical groove 1h. i is formed.
  • the protrusion 4h of the inner circular electrode member 4 fixed to the mounting surface 1a and the shape complementary to the protrusion 4h are formed. Since the conical groove lh on the mounting surface 1a does not have an oxide film on each other, the inner circular electrode member 4 fixed to the mounting surface la of the chuck body 1 and the chuck body 1 have the above-mentioned protrusion 4h In this case, electrical conduction can be achieved via the contact surface. Therefore, the positioning conduction pin 9 like the electrostatic check X in the first embodiment becomes unnecessary.
  • the inner circular electrode member 4 has a protrusion 4 h fixed in a complementary shape to the conical groove 1 11 formed in the mounting surface 1 a, so that the inner circular electrode member 4 The horizontal positioning of 4 is also done. Furthermore, the inner circular electrode member 4 is fixed by the above-mentioned protrusion 4 h being directly in contact with the mounting surface la, so that the chuck body 1 is mounted on the electrostatic chuck X of the first embodiment. Positioning of the inner circular electrode member 4 in the height direction with respect to the mounting surface 1a can be performed without providing the inner ridge convex portion 1e at a position corresponding to the inner circular electrode member 4 like the surface 1a. . In the relationship between the inner circular electrode member 4 according to the second embodiment and the mounting surface 1a of the chuck main body 1, portions other than those described above can be the same as in the first embodiment.
  • the disassembly of the bipolar electrostatic chuck X according to the second embodiment and the reuse of the bipolar electrostatic chuck X according to the second embodiment can be performed in the same procedure as in the first embodiment.
  • Example 1 As a silicone-based adhesive for forming the adhesive layer 2 of the bipolar electrostatic chuck X in Example 1, an elastomer-based adhesive containing a heat transfer filler was used. The procedure was the same as in Example 1 except that was used.
  • This elastomer-based silicone adhesive is available from Dow Corning Toray Silicone SE4400 (viscosity before curing 76 (25 ° C Pa's), thermal conductivity 0.92 (W / m-K) ] Can be used.
  • the bipolar electrostatic chuck of the present invention can be manufactured more easily than a conventional bipolar electrostatic chuck. After use, the electrostatic chuck can be easily separated and efficiently reused, thereby reducing the cost of recycling and assembling for reuse. The performance of the obtained electrostatic chuck can be maintained at the same level as that before reuse.

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Abstract

本発明は、取付け面を有するチャック本体と、中央開口を有して環状に形成されると共に、上記チャック本体の取付け面に接着層を介して固着される環状電極部材と、この環状電極部材の中央開口内に環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、上記取付け面に接着層を介して固着される内側電極部材と、上記環状電極部材の外側に環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、上記取付け面に接着層を介して固着される外側電極部材とからなり、上記内側電極部材と外側電極部材とが第一の電極を構成すると共に、上記環状電極部材が第二の電極を構成することを特徴とする双極型静電チャックであり、従来の双極型の静電チャックと比べて製造が容易であり、また、使用後には、静電チャックを構成するチャック本体と各電極部材とを容易に分離することができて効率的な再利用が実現できる。

Description

明 細 書
双極型静電チヤック 技 術 分 野
この発明は、 半導体製造装置、 液晶製造装置等において用いられる 双極型の静電チャックに係り、 特に、 単に確実に半導体ウェハ、 液晶 用ガラス基板等の試料を吸着できるだけでなく、 半導体製造装置等で 使用した後に、 静電チヤックを構成するチヤック本体と各電極部材と を容易に分離して、 再利用することができるようにした双極型の静電 チヤックに関する。 背 景 技 術
例えば、 半導体製造プロセスにおいては、 近年、 そのドライ化が急 速に進み、 プラズマエッチング装置、 プラズマ C V D装置、 イオン注 入装置、 アツシング装置、 電子ビームリソグラフィー装置、 X線リソ グラフィ一装置等の半導体製造装置が使用されており、 このような装 置においては、 半導体ウェハ等の試料を真空中で処理することがしば しば行われている。
また、 このような装置において、 試料を保持するための手段として は、 機械的方法によるメカニカルチャック、 大気圧との圧力差を利用 する真空チャック、 静電吸着力を利用した静電チヤック等の方法が提 案されているが、真空中で試料とホルダーとを熱的に均一に、しかも、 信頼性高く保持する上で、 静電チヤックが有利であるとされている。 そして、 このような静電チヤックのひとつとして双極型の静電チヤ ックが使用されている。 この双極型の静電チャックは、 例えば、 より 大きな部分であってベースとなる第一の電極と、 この第一の電極の上 面に配置されると共に中央開口を有して環状形状をした第二の電極と からなる。 この第一電極と第二電極との間に直流電源を接続し、 第一 の電極の上面と第二の電極の上面とから形成される試料吸着面に半導 体ウェハ等の試料を載置すると、 試料の下面と試料吸着面との間に発 生した静電引力によって試料が吸着 ·保持される。
このような双極型の静電チヤックは、 一般的にベースとなる第一の 電極が、その上面に機械加工によって作られた電極凹部を有しており、 環状形状をした第二の電極がこの電極凹部内にて保持されるものであ る (例えば、 特許第 2 6 1 0 1 1 2号、 特許第 2 6 1 0 1 1 3号、 特 許第 2 6 1 4 4 2 1号、 及び特許第 2 6 1 4 4 2 2号の各公報参照)。 このようにして形成される双極型の静電チャックでは、 上記電極凹部 に配設された第二の電極と、 第一の電極との間に僅かな間隔が形成さ れており、 この間隔が精度よく製造されることが、 ウェハ等の試料を 静電吸着力によって確実に保持することにおいて重要となる。 また、 このような双極型の静電チャックでは、 第一の電極に形成された電極 凹部において、 凹部底面の角に対し、 所定の曲率半径を有した丸みを 設けることも行われる (例えば、 特許第 2 6 1 0 1 1 2号、 及び特許 第 2 6 1 0 1 1 3号の各公報参照)。
また、 双極型静電チャックの別の例として、 ベースとなる主体部材 の中央付近に設けられた凹溝に配設される電極部材と、 上記主体部材 の中央付近の凹溝より外側に形成された凹溝に配設される外側の電極 部材とに直流電源を接続するものがある (例えば、 米国特許第 5 2 1 3 3 4 9号公報参照)。
しかしながら、 上記のような第一の電極の上面に電極凹部を形成し てこの電極凹部内に第二の電極を保持するタイプの双極型の静電チヤ ックでは、 電極間の僅かな間隔の形成や、 電極凹部における角の丸み を施すことは、 加工精度の要求される複雑な機械加工が必要となる。 また、 ベースとなる主体部材の中央付近とその外側にそれぞれ凹溝が 形成され、 これらの凹溝に配設される 2つの電極部材に直流電源を接 続して双極型を形成するタイプの静電チャックにおいても、 同様に、 上記凹溝の形成や主体部材と電極部材の組み立てに精度の高い複雑な 機械加工が必要となる。
一方、 静電チャックは、 プラズマエッチング装置等で使用される場 合のプラズマ照射から保護する目的や、 誘電膜として機能させる目的 等から、 その表面には多くの場合酸化皮膜が形成される。 ところが、 プラズマエッチング装置等における長期の使用により、 プラズマに含 まれるイオン、 電子、 ラジカルによる電気化学的作用によって、 上記 の酸化皮膜が腐蝕したり、 還元されたりするなどの影響を受ける。 ま た、 半導体製造装置等における静電チャックの取付け ·取り外しの作 業において、 誤って工具等によって試料吸着面等の酸化皮膜に傷を付 けてしまうこともある。 このような静電チャックの酸化皮膜の劣化や 傷は、 電気的絶縁性の低下を招いて双極間の漏れ電流を増加させる原 因や、 ウェハ等の試料に対する吸着力の低下を引き起こしてしまう原 因となる。 そのため、 このように使用によって劣化した静電チャック は、 表面の酸化皮膜以外の部分は全く健全であっても、 そのまま廃棄 されてしまうか、 廃棄せずに再利用するとしても、 劣化や傷等によつ て失われた酸化皮膜を再生する必要がある。
上記のように使用済みの双極型静電チヤックを再利用するためには、 一度、 双極型の静電チャックを分解する必要がある。 すなわち、 第一 の電極の電極凹部に第二の電極を配設したタイプの双極型静電チヤッ クでは、第一の電極の電極凹部から第二の電極を分離する必要があり、 また、 主体部材の中央付近及びその外側に形成された凹溝に内側の電 極部材及び外側の電極部材がそれぞれ配設されたタイプの双極型静電 チヤックについても、主体部材から各電極部材を分離する必要がある。 そして、 上記のように分離した各電極、 電極部材、 及び主体部材につ いては、 それぞれの表面に形成された酸化皮膜を一度脱膜して、 その 表面を研摩した後、 再び酸化皮膜を形成するといつた再生処理が必要 となる。
しかしながら、 いずれのタイプの静電チャックにおいても、 電極の 凹部や凹溝に配設された環状の電極を取り外すためには、 凹部や凹溝 内で環状の電極を固着している接着層を分解するために加熱処理をし たり、 機械的手段によって環状の電極を取り外さなければならないな ど、 一度組み付けられた双極型の静電チヤックを分解するのは困難な 場合が多い。 また、 分離できた第一の電極や主体部材等は、 第二の電 極や電極部材が取付けられていた面の形状が複雑であるため、 再利用 のために必要な研摩処理や酸化皮膜の再生等の処理が複雑多岐にわた り、 再び静電チヤックとして利用するためには多数の処理工程が必要 となって再生コストが高くなつてしまう。また、再生した酸化皮膜は、 再生した電極の境界面における皮膜強度が不足することがあり、 耐久 性に劣るなどの問題もある。 更には、 各種の再生処理を行ったとして も、 再生に必要な各処理を経た電極等は、 再生前のものと比べて寸法 減少量が多くなつてしまい、 再び静電チヤックとして組み付けを行つ ても、 半導体製造装置等で再び使用することができなくなるといった 問題も生じていた。 そのため、 再利用するにしても再生処理できる回 数もごく限られた回数になってしまい、 使用済みの静電チヤックを再 利用することは実質的には困難な場合が多い。 発 明 の 開 示
そこで、 本発明者らは、 従来の双極型静電チャックと比べて容易に 製造することができ、使用後には静電チャックを容易に分離し、かつ、 組み立てることが可能であって、 効率よく再利用することができる双 極型の静電チヤックについて鋭意検討した結果、 チヤック本体の取付 け面に接着層を介して取り付けられる各電極部材によって試料を吸着 する試料吸着面を形成し、 使用後には、 この取付け面から各電極部材 を容易に分離することを可能にすることにより、 上記課題を解決する 本発明を完成させた。
従って、 本発明の目的は、 従来の双極型の静電チャックと比べて製 造が容易であり、 また、 使用後には、 静電チャックを構成するチヤッ ク本体と電極部材とを容易に分離することができて効率的な再利用が 実現できる双極型の静電チヤックを提供することにある。
すなわち、 本発明は、 取付け面を有するチャック本体と、 中央開口 を有して環状に形成されると共に、 上記チヤック本体の取付け面に接 着層を介して固着される環状電極部材と、 この環状電極部材の中央開 口内に環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面 に接着層を介して固着される内側電極部材と、 上記環状電極部材の外 側に環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面に 接着層を介して固着される外側電極部材とからなり、 上記内側電極部 材と外側電極部材とが第一の電極を構成すると共に、 上記環状電極部 材が第二の電極を構成することを特徴とする双極型静電チヤックであ る。 '
また、 本発明は、 取付け面を有するチャック本体と、 中央開口を有 して環状に形成されると共に、 上記チヤック本体の取付け面に接着層 を介して固着される環状電極部材と、 この環状電極部材の中央開口内 に環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面に接 着層を介して固着される内側電極部材と、 上記環状電極部材の外側に 環状電極部材から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面に接着 層を介して固着される外側電極部材とからなり、 上記チャック本体と 内側電極部材と外側電極部材とが第一の電極を構成すると共に、 上記 環状電極部材が第二の電極を構成することを特徴とする双極型静電チ ャックである。
本発明において、 チャック本体は、 環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材を取付けることができる取付け面を有したものであ ればよく、 その形状については一般的な双極型の静電チヤックの形状 と同様に形成することができ、 例えば、 半導体製造装置等に対して着 脱が可能となるように、 そのチヤック本体の外周面にフランジ等を設 けてもよい。
また、 本発明において、 上記チャック本体の取付け面に接着層を介 して固着される環状電極部材は、 中央開口を有した環状に形成された ものであればよく、 その形状については、 吸着する試料の大きさや形 状等に対応させて形成することができる。 すなわち、 この環状電極部 材は、 本発明における双極型の静電チヤックにおいて第二の電極を構 成するため、 試料に対する静電吸着力を最適に発揮することができる ように形状、 面積等を設計して形成することができる。 例えば、 吸着 する試料が半導体ウェハ等のような円形試料である場合、 この環状電 極部材の形状については、 外周形状及び中央開口形状を共に円形とし た円環状電極部材とするのがよく、 例えば、 一般に長方形や正方形で ある液晶用ガラス基板を保持する静電チヤックの場合、 外周形状及び 中央開口形状を共に四角にした四角環状電極部材とするのがよい。 また、 本発明において、 上記チャック本体の取付け面に接着層を介 して固着される内側電極部材は、 上記環状電極部材の中央開口内に環 状電極部材から所定の間隔をおいて配設されるものであればよく、 吸 着する試料の大きさや形状等に対応させて形成することができる。 す なわち、 内側電極部材は、 本発明における双極型の静電チャックにお いて、 外側電極部材と共に又は外側電極部材及びチヤック本体と共に 第一の電極を構成するため、 この内側電極部材は、 試料に対する静電 吸着力を最適に発揮することができるような形状、 面積等に設計して 形成することができる。 例えば、 吸着する試料が半導体ウェハ等のよ うな円形試料である場合、 上述したような環状電極部材の中央開口の 形状と対応させて、 この中央開口径より僅かに小さな外径を有した円 形の内側電極部材とするのがよく、 例えば、 試料が四角形の液晶用ガ ラス基板のような四角形試料である場合、 環状電極部材の中央開口の 形状と対応させて、 この中央開口の開口形状より僅かに小さい四角形 の内側電極部材とするのがよい。
また、 本発明において、 上記チャック本体の取付け面に接着層を介 して固着される外側電極部材は、 上記環状電極部材の外側に環状電極 部材から所定の間隔をおいて配設されるものであればよく、 吸着する 試料の大きさや形状等に対応させて形成することができる。すなわち、 外側電極部材は、 本発明における双極型の静電チャックにおいて、 内 側電極部材と共に又は内側電極部材及びチヤック本体と共に第一の電 極を構成するため、 この外側電極部材は、 試料に対する静電吸着力を 最適に発揮することができるような形状、 面積等に設計して形成する ことができる。 例えば、 吸着する試料が半導体ウェハ等のような円形 試料である場合、 上述したような環状電極部材の外周形状と対応させ て、 この環状電極部材の外径より僅かに大きい中央開口を有した円環 状の外側電極部材とするのがよく、 例えば、 試料が四角形の液晶用ガ ラス基板のような四角形試料である場合、 環状電極部材の外周形状と 対応させて、 この環状電極部材より僅かに大きい四角形の中央開口を 有した四角環状の外側電極部材とするのがよい。
上記環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材の各表面には 酸化皮膜が形成され、 チャック本体については少なくとも取付け面及 びチャック本体の外周面には酸化皮膜が形成される。 そして、 これら 環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材がチャック本体の取 付け面に接着層を介して固着されると、環状電極部材、内側電極部材、 及び外側電極部材の上面 (チヤック本体の取付け面側と反対側の面) には半導体ウェハ等の試料を吸着させる試料吸着面が形成される。 こ の際、 環状電極部材と内側電極部材との間に形成される所定の間隔、 及び環状電極部材と外側電極部材との間に形成される所定の間隔につ いては、 試料に対する最適な静電吸着力を発揮することができるよう に適宜設計することができる。 また、 これら各電極部材の間に形成さ れる所定の間隔の隙間は、 空間が形成されたままでも、 取付け面に各 電極部材が固着される際に余った接着層の一部が入り込んでいてもよ い。
また、 本発明におけるチャック本体の取付け面には、 好ましくは、 この取付け面に対する外側電極部材の高さ方向の位置決めを行う外側 凸部及び/又は上記取付け面に対する内側電極部材の高さ方向の位置 決めを行う内側凸部を設けるのがよく、 更に好ましくは、 外側凸部及 び内側凸部のいずれも設けるのがよい。 この外側凸部は、 チャック本 体の取付け面に接着層を介して固着される外側電極部材の底面 (試料 吸着面を形成する面と反対側の面) に対応する位置に設けられ、 外側 電極部材を取付け面に固着する際、 取付け面に対する高さ方向の取付 け基準となる。 また、 内側凸部については、 チャック本体の取付け面 に接着層を介して固着される内側電極部材の底面 (試料吸着面を形成 する面と反対側の面) に対応する位置に設けられ、 内側電極部材を取 付け面に固着する際に取付け面に対する高さ方向の取付け基準となる < PC蘭聽 08679
このような外側凸部及び内側凸部について、 その形状に特に制限はな く、 例えば、 取付け面に突設された突設凸部であっても、 突条に設け られた突条凸部であってもよい。
本発明におけるチヤック本体の取付け面が、 上記外側 ώ部及び Z又 は内側凸部を有する場合、 接着層は、 この取付け面において外側凸部 及び/又は内側凸部によって仕切られる空間に配設される。 そして、 この接着層を介して固着される外側電極部材が平板状であって容易に 反ってしまう形状を有していても、 取付け面に外側凸部が設けられて いることによって、 この外側凸部が取付け面に固着する際の取付け基 準となるため、 取付け面に対して平坦に取付けることができる。 同様 に、 内側電極部材が平板状であって容易に反ってしまう形状を有して いても、 取付け面に内側凸部が設けられていることによって、 この内 側凸部が取付け面に固着する際の取付け基準となるため、 取付け面に 対して平坦に取付けることができる。
また、 外側凸部については、 取付け面において外側電極部材の外側 外周である周縁に対応する位置に設けられた突条凸部とすることで、 チヤック本体の取付け面に外側電極部材を取付けた場合に、 チヤック 本体と外側電極部材との間に接着層が露出しなくなるため、 静電チヤ ックをプラズマエッチング装置等で使用する場合に、 プラズマによつ て直接接着層が曝されることがない。 また、 内側凸部については、 取 付け面において内側電極部材の外周である周縁に対応する位置に設け られた突条凸部として、 上記外側電極部材に対応する位置に設けた突 条凸部と同時加工にすることで、 外側電極部材に対応する突条凸部の 高さと内側電極部材に対応する突条凸部の高さとを高い精度でそろえ ることができ、 この外側凸部及び内側凸部を取付け基準とする外側電 極部材及び内側電極部材の上面の高さ位置が精度よく一致する。
また、 本発明においては、 チャック本体と、 チャック本体の取付け 面に接着層を介して固着される内側電極部材、 環状電極部材、 及び外 側電極部材との間には、 それぞれ、 上記取付け面に対する内側電極部 材、 環状電極部材、 及び外側電極部材の水平方向の位置決めを行う位 置決めピンが設けられているのがよい。 このような位置決めピンにつ いては、 チャック本体の取付け面に対して各電極部材が水平方向に位 置決めされるものであればピンの形状等に制限はなく、 例えば、 ピン の一端がチャック本体の取付け面に係合し、 他端が上記電極部材に係 合する位置決めピンであってもよい。
チャック本体と環状電極部材との間に設けられる位置決めピンにつ いては、 2本以上のピンを取付け面において互いに同一円周上に等配 角度の配置となるように設けるのがよく、 チャック本体と内側電極部 材との間に設けられる位置決めピンについては、 2本以上のピンを取 付け面において互いに同一円周上に等配角度の配置となるように設け るのがよく、 チャック本体と外側電極部材との間に設けられる位置決 めピンについては、 2本以上のピンを取付け面において互いに同一円 周上に等配角度の配置となるように設けるのがよい。 上記のようにピ ンを設けることで、 チャック本体の取付け面に固着される内側電極部 材、 環状電極部材、 及び外側電極部材の水平方向の位置決めがそれぞ れ容易にできる点で有利である。
そして、 本発明における双極型の静電チャックにおいて、 上記チヤ ック本体と内側電極部材と外側電極部材とから第一の電極を形成する 場合、 上記チヤック本体と内側電極部材との間に設けられる位置決め ピンのうち少なくとも 1本については、 チャック本体と内側電極部材 とが電気的に導通可能となる導通ピンを兼ねるのがよく、 同様に、 上 記チャック本体と外側電極部材との間に設けられる位置決めピンのう ちの少なくとも 1本については、 チャック本体と外側電極部材とを電 気的に導通可能とする導通ピンを兼ねるのがよい。 このように、 チヤ ック本体と内側電極部材との間に設けられる位置決めピンのうちの少 なくとも 1本、 及びチャック本体と外側電極部材との間に設けられる 位置決めピンのうち少なくとも 1本が導通ピンを兼ねることで、 チヤ ック本体、 内側電極部材、 及び外側電極部材とからなる第一の電極を 構成することができる。
第二の電極を形成する環状電極部材については、 チヤック本体との 679
間に設けられる全ての位置決めピンを、 環状電極部材とチヤック本体 とが電気的に絶縁状態を保つことができるような材料で形成する必要 がある。
一方、 本発明における双極型の静電チャックにおいて、 上記内側電 極部材と外側電極部材とから第一の電極を構成する場合、 上記チヤッ ク本体と内側電極部材との間、 チャック本体と環状電極部材、 及びチ ャック本体と外側電極部材との間に設けられる各位置決めピンは、 チ ャック本体に対して、 これらの各電極部材が電気的に絶縁状態を保つ ことができるような材料で形成する必要がある。
また、 本発明における静電チャックでは、 チャック本体の取付け面 に接着層を介して固着される内側電極部材、 環状電極部材、 及び外側 電極部材のうちの少なくとも 1つ以上が、 チヤック本体の取付け面と 互いに相補的な形状で固着されてもよく、 好ましくは、 上記内側電極 部材、 環状電極部材、 及び外側電極部材の全てがチャック本体の取付 け面と互いに相補的な形状で固着されているのがよい。 例えば、 環状 電極部材を例として説明すると、この環状電極部材の縦断面の一部が、 環状電極部材の底面部分 (試料吸着面と反対側の部分) において、 二 面が交差して形成される突出部を有した形状にすると共に、 この環状 電極部材が固着されるチヤック本体の取付け面にはこの環状電極部材 の底面部分の形状に対応したテーパー状の溝を形成してもよい。 この ようにチヤック本体の取付け面に接着層を介して固着される環状電極 部材の底面部分がチャック本体の取付け面と相補的な形状を有して取 付けられることで、 環状に形成されている環状電極部材は、 上述した 位置決めピンを用いる替わりに取付け面に対する上記環状電極部材の 水平方向の位置決めをすることができる。 内側電極部材及び外側電極 部材についても同様であり、 対応する取付け面との関係で相補的な形 状を有するようにすることで、 取付け面に対する各電極部材の水平方 向の位置決めをすることができる。
本発明において、 上記チャック本体と環状電極部材との間には、 上 記取付け面に対する環状電極部材の高さ方向の位置決めを行う位置決 めスぺーサ一を介装してもよい。この位置決めスぺーサ一については、 環状電極部材とチヤック本体とが電気的に絶縁状態を保つことができ るように電気絶縁性のものである必要があり、 また、 この位置決めス ぺ—サーを介装して取付け面に固着された環状電極部材の上面は、 同 じく取付け面に接着層を介して固着された内側電極部材及び外側電極 部材の上面と面一となるようにする必要がある。
本発明においてチャック本体の取付け面に対し、 内側電極部材、 環 状電極部材、 及び外側電極部材の各電極部材を固着する接着層につい ては、 好ましくはシリコーン系接着剤又はポリビニルプチラール系接 着剤から選ばれた 1種又は 2種からなる接着層であるのがよく、 更に 好ましくはシリコーン系接着剤からなる接着層であるのがよい。
例えば、 エポキシ系接着剤からなる接着層であると、 チャック本体 の取付け面に対し、 本発明における各電極部材を固着して静電チヤッ クを構成した場合、 この静電チャックを分解して、 チャック本体から 各電極部材を分離するためには、 接着層の部分を加熱し、 接着層であ るエポキシ系接着剤を炭化させる必要がある。 しかしながら、 このよ うな加熱によって、 静電チャックを構成する材料 (例えば、 アルミ二 ゥム材等) が焼き鈍しされて材料としての機械強度が低下するおそれ がある。 このような加熱による分解を避けようとすれば、 機械的な手 段により一度組み付けた静電チャックを分解する必要がある。
これに対し、 シリコーン系接着剤を接着層として用いて本発明の静 電チャックを構成すれば、 トルエン、 キシレン等からなる剥離剤を使 用することで、 加熱処理や機械的手段によらずに取付け面に固着した 各電極部材を容易に分離することができ、 分離した後に静電チヤック を形成する材料としての機械強度を低下させることなく、 さらには機 械的な処理が不要となるため、 傷つけることなく静電チヤックを分離 することができる。
本発明において、 シリコーン系接着剤については、 ゲル状のもの又 はエラストマ一系のものを使用するのが好ましく、 より耐プラズマ性 に優れている観点からエラストマ一系のものが更に好ましい。ここで、 TJP2004/008679
ゲル状とエラストマ一系との区別を例えば硬化前の粘度(25°C Pa's) では、 3〜 14をゲル状 (半流動性)、 1 5 - 3 5 0をエラストマ一系 と区別することができる。 硬化後の硬さでは、 ゲル状のものは針入度 (JISK2207)で 2 0〜 80 (mm/10)、エラストマ一系のものとしては、 J I Sタイプ Aで 5 0〜 1 20の硬さを有するものであるのが好適に 使用することができる。 更に、 シリコーン系接着剤については、 伝熱 フィラーを含有したタイプのものが好ましい。 伝熱フィラ一を含有し たタイプのものであれば、 高熱伝導性を有するため、 チャック本体の 取付け面に各電極部材を取付けて構成する本発明の静電チャックにお いて好適である。 一般に、 熱伝導率は 0. 1〜0. 5 (W/m'K) 程度で普 通、 0. 8〜4 (W/m'K) 程度で高いと言える。 本発明においては熱伝 導率 0. 1 (W/m'K) 以上のものを好適に使用することができる。
一方、 ポリビニルプチラール系接着剤を接着層として用いて本発明 の静電チャックを構成すれば、 1 50°C程度の比較的低い温度の加熱 によって、 取付け面に固着した各電極部材を容易に分離することがで きるため、 静電チヤックを形成する材料の機械的強度を低下させるお それがない。
また、 本発明においては、 内側電極部材、 環状電極部材、 及び外側 電極部材のいずれか一つ以上、 好ましくは内側電極部材、 環状電極部 材、 及び外側電極部材の三つの電極部材を純アルミニウムによって形 成するのがよい。 このような純アルミニウムの具体例としては、 JIS A1050、 JIS A1060、 JIS A1070, JIS A1080、 JIS AllOO 等を挙げるこ とができ、 好ましくは HS A1100である。 上記各電極部材は、 一般的 に行われる陽極酸化処理等によってその表面に酸化皮膜を形成するが、 各電極部材が上記のような純アルミニウムによって形成した場合、 そ の表面に形成される酸化皮膜が、 例えば; IIS A6061、 JISA5052等のァ ルミニゥム合金を基材とした場合にこれらのアルミニウム合金の表面 に形成される酸化皮膜と比べて、 電気的絶縁性能が高く、 高密度の酸 化皮膜とすることができるため、 プラズマ耐性に優れた酸化皮膜とす ることができる。 また、 JIS A1100 を用いた場合には、 その合金成分 である Si含有量が低いため、表面に形成される酸化皮膜のピンホール を少なくすることができ、 上記純アルミニウムを用いて形成された特 性に加えて更に良質な酸化皮膜を形成することができる。
上記のような純アルミニウムを用いて形成した内側電極部材、 環状 電極部材、 及び外側電極部材を用いて本発明における静電チヤックを 構成すると、 半導体製造装置等で使用した場合、 耐プラズマ性等の面 で優れた性能を発揮し、 長期にわたって酸化皮膜の電気的絶縁性能が 安定するため、 静電チャックとしての製品寿命が伸びる。
また、 本発明におけるチャック本体については、 機械的強度が要求 されることから、 構造用展伸材を用いて形成するのがよい。 このよう な構造用展伸材として、 I IS A606 L 〗IS A5056、 J IS A505 等を例示 することができる。 上記材料によって形成したチャック本体は、 一般 的に行われる陽極酸化処理等により、 少なくとも上記各電極部材の固 着される取付け面及び外周面の各表面に酸化皮膜を形成する。
本発明の双極型静電チヤックにおいて、 第一の電極を内側電極部材 及び外側電極部材とから形成し、 第二の電極を環状電極部材から形成 する場合、 内側電極部材と外側電極部材とが等電位となるようにし、 これら内側電極部材及び外側電極部材からなる第一の電極と、 第二の 電極の環状電極部材との間に直流電源を接続して双極型の静電チヤッ クを構成する。
第一の電極をチャック本体と内側電極部材と外側電極部材とから形 成する場合、 内側電極部材及び外側電極部材はそれぞれチャック本体 と電気的に導通している必要があるため、 上述したように、 内側電極 部材とチャック本体との間、 及び外側電極部材とチャック本体との間 に設けられるそれぞれの位置決めピンのうち、 少なくとも 1本がそれ ぞれ導通ピンを兼ねてもよく、 位置決めピンとは別に、 チャック本体 と内側電極部材との間、 及びチャック本体と外側電極部材との間に別 途導通ピンを設けてもよい。 また、 チャック本体の取付け面に接着層 を介して固着される内側電極部材が、 その一部でチャック本体と直接 接触する部分を設け、 この接触部分におけるチヤック本体及び内側電 極部材の酸化皮膜をそれぞれ除去することで、 チヤック本体と内側電 極部材とがこの接触部分を介して電気的に導通をとるようにしてもよ い。 外側電極部材についても同様に、 チャック本体と接触する部分に おいてそれぞれ酸化皮膜の一部を除去して、 チヤック本体と導通をと るようにしてもよい。
本発明における双極型の静電チヤックは、 取付け面を有するチヤッ ク本体と、 この取付け面に接着層を介して固着される環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材によって形成されるため、 従来の双 極型静電チャックと比べて製造が容易である。 また、 接着層をシリコ ーン系接着剤又はポリビニルプチラール系接着剤からなる接着層とす ることで、 チヤック本体の取付け面に上記接着剤を介して環状電極部 材、 内側電極部材、 及び外側電極部材を固着して形成した本発明の双 極型の静電チャックは、 半導体製造装置等にて使用した後、 剥離剤を 用いて容易にチャック本体、 環状電極部材、 内側電極部材、 外側電極 部材とに分離することができる。 すなわち、 チャック本体の取付け面 にシリコーン系接着剤を介して固着された環状電極部材、 内側電極部 材、 及び外側電極部材は、 加熱処理や機械的な処理によらずこの取付 け面から容易に取り外すことができる。 そのため、 加熱によるチヤッ ク本体等の機械的材料強度の低下や、 機械加工による損傷等の不具合 を伴うことがない。 そして、 このようにして分離した静電チャックに ついては、 再び静電チヤックとして再利用することができる。
本発明における静電チヤックは、 チャック本体の取付け面に環状電 極部材、 内側電極部材及び外側電極部材を固着した状態で半導体製造 装置等において使用されるため、 チヤック本体において各電極部材が 固着される取付け面は、 試料吸着面を形成する各電極部材と比べて、 プラズマ照射等の影響によってその表面の酸化皮膜が直接影響を受け ることが少ない。 そのため、 上記のようにして分離したチャック本体 については、 通常はドライアイスブラストによるクリーニング、 又は アルコール系洗浄剤によるクリ一ニング等のクリ一二ング処理のみを 行えばよい。 チヤック本体の外周面等が比較的大きな傷を有している などで必要な場合には、 このチヤック本体の表面における酸化皮膜を 再生するための処理を行ってもよい。 この再生処理については、 通常 行われるような、 チャック本体に付された酸化皮膜の脱膜、 脱膜後の チヤック本体の研摩、 及び陽極酸化処理による酸化皮膜の再生等の処 理を行うことができる。
一方、 環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材については 新品に交換するのがよい。 上記チヤック本体に係る部分については、 一般的な双極型静電チヤックのように冷却ガス流路の形成や水冷によ る冷却構造の形成等を行ってもよいが、 これらの機械加工費によって 製作コストが高くなるため、 チヤック本体については再利用するのが コスト面で有効である。 これに対し、 環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材については、 チャック本体と比べて製作コストが低 いため、 新品と交換してもコスト面において特に問題とはならない。 このように環状電極部材、 内側電極部材、 及び外側電極部材について 新品に交換することは、 本発明における双極型静電チャックではこれ らの電極部材が試料を吸着する試料吸着面を形成するものであること から、 静電チヤックの重要な機能のひとつである吸着保持能力を高い 能力に維持することができる点で有利である。
上記のようにクリーニング等の必要な処理を行ったチヤック本体に ついては、 例えば、 その取付け面に接着層を介して新しい環状電極部 材、 内側電極部材、 及び外側電極部材を固着する。 この際、 チャック 本体の取付け面が外側凸部ゃ内側凸部を有し、 また、 チャック本体と 環状電極部材との間に位置決めスぺ一サーを用いることで、 取付け面 に対する各電極部材の高さ方向が位置決めされるため、 再利用する前 の静電チャックの試料吸着面に限りなく近い状態で再現することもで きる。 同様に、 チャック本体と各電極部材との間に位置決めピンを設 けていれば、取付け面に対する水平方向の位置も再現できる。そして、 このように再利用して得た静電チャックは、 試料吸着面が新しい環状 電極部材、内側電極部材、及び外側電極部材によって形成されるため、 吸着力、 温度特性、 両電極間の静電容量及び絶縁抵抗等の性能の面で 08679
も再生前の静電チャックと同程度の性能を有する。 更には、 再利用に 必要な処理や組立て工程数を可及的に減らすことができるため、 容易 に、 かつ、 低コストで上記のような双極型静電チャックを再生するこ とができる。 図 面 の 簡 単 な 説 明
図 1は、 本発明の実施例 1に係る双極型静電チヤック Xの断面説明 図である。
図 2は、 本発明の実施例 1に係る双極型静電チャック Xの平面説明 図である。
図 3は、 本発明の実施例 2に係る双極型静電チヤック Xの一部の断 面説明図である。
[符号の説明]
X…双極型静電チャック、 W…半導体ウェハ、 1…チャック本体、 la…取付け面、 lb…フランジ部、 lc…ベース面、 Id…外側突条凸 部、 le…内側突条凸部、 If…嵌合穴、 lg…嵌合穴、 lh…円錐状溝、 l i…酸化皮膜、 2…接着層、 3…円環状電極部材、 3 a…嵌合穴、 3 b 給電ピン穴、 4…内側円形電極部材、 4 a…嵌合穴、 4h…突起部、 4i 酸化皮膜、 5…外側円環状電極部材、 5 a…嵌合穴、 6…ポルト、 7··· 絶縁スぺーサ一、 8…試料吸着面、 9…位置決め導通ピン、 9 a…導通 バネ、 10…位置決めピン、 1 1…冷却ガス流路、 1 2…冷却ガス流 路、 13…内側ガス溝、 14…外側ガス溝、 1 5…ガス室、 16…絶 縁ブッシュ、 17…給電端子。 発明を実施するための最良の形態
以下、 添付図面に示す実施例に基づいて、 本発明の好適な実施の形 態を具体的に説明する。
[実施例 1]
〔双極型静電チヤック〕
図 1は、 本発明の実施例 1に係る双極型静電チヤック Xの断面図を 示す。 図 2は、 本発明の実施例に係る双極型静電チャック Xの平面図 を示す。
この双極型静電チャック Xは、 構造用展伸材 JIS A6061によって円 板状に形成されると共に、 取付け面 l a を有したチャック本体 1と、 この取付け面 1 a にゲル状のシリコーン系接着剤からなる接着層 2を 介して固着された純アルミニウム材 J IS A1100からなる円環状電極部 材 3と、 この円環状電極部材 3の中央開口内に配設され、 上記取付け 面 l a に上記接着層 2を介して固着された純アルミニウム材 J IS A1100 からなる内側円形電極部材 4と、 上記円環状電極部材 3の外側 に配設され、 上記取付け面 l a に上記接着層 2を介して固着された純 アルミニウム材 HS A1100からなる外側円環状電極部材 5とから構成 されている。 この双極型静電チャック Xは、 チャック本体 1の外周面 に設けられたフランジ部 1 bを利用し、チヤック本体 1のべ一ス面 1 c を介して図示外のプラズマエッチング装置に対してポルト 6によって 固定されている。 尚、 上記円環状電極部材 3の表面、 内側円形電極部 材 4の表面、 外側円環状電極部材 5の表面、 及びチャック本体 1の.表 面 (ベース面 l c 側の表面を除く) には、 それぞれ陽極酸化処理によ る酸化皮膜が形成されている。 また、 円環状電極部材 3と内側円形電 極部材 4、 及び円環状電極部材 3と外側円環状電極部材 5との間は、 それぞれ所定の間隔 d p d 2となるように配設されている。 尚、 上記 ゲル状のシリコーン系接着剤としては、 GE 東芝シリコーン社製 TSE3251 〔粘度 8. 5 (25°C Pa ' s)、 熱伝導率 0. 18 (W/m'K)〕 等を用い ることができる。
上記チャック本体 1の取付け面 l a の周縁には、 外側円環状電極部 材 5の外側外周に対応するように外側突条凸部 1 d が設けられており、 外側円環状電極部材 5は、 この外側突条凸部 1 dによって取付け面 1 a に対する高さ方向の位置決めがなされている。 また、 取付け面 l a に は、 内側円形電極部材 4の外周に対応する位置に内側突条凸部 l e が 設けられており、 内側円形電極部材 4は、 この内側突条凸部 l e によ つて取付け面 1 aに対する高さ方向の位置決めがなされている。 また、 8679
円環状電極部材 3とチャック本体 1との間には、 ポリイミド製の絶縁 スぺーサ— 7が円環状電極部材 3の内側外周及び外側外周に対応する 位置に 4 5 ° 等配となるようにそれぞれ 8個介装されており、 円環状 電極部材 3は、 この絶縁スぺーサ一 7によって、 取付け面 l a に対す る高さ方向の位置決めがなされている。 そして、 上記円環状電極部材 3、 内側円形電極部材 4、 及び外側円環状電極部材 5によって試料吸 着面 8が形成され、 この試料吸着面 8には半導体ウェハ" Wが載置され ている。
また、 チャック本体 1と内側円形電極部材 4との間には真ちゆう製 の位置決め導通ピン 9が設けられている。この位置決め導通ピン 9は、 その一端が内側円形電極部材 4における試料吸着面 8と反対側の面に 設けられた嵌合穴 4 a に嵌合しており、 他端はその先端にステンレス 製の導通パネ 9 a が取付けられており、 チャック本体 1に設けられた 嵌合穴 1 ί 内でこの導通パネ 9 a が付勢されるようにして嵌合されて いる。 この位置決め導通ピン 9は、 取付け面 l a において内側突条凸 部 l e より内側にて内側円形電極部材 4の円周上 9 0 ° 等配の位置に 並ぶように 4本設けられている。 チヤック本体 1と外側円環状電極部 材 5との間においても、 上記内側円形電極部材 4の場合と同様に、 外 側円環状電極部材 5に設けられた嵌合穴 5 a に嵌合する位置決め導通 ピン 9がチャック本体 1との間に設けられている。 これらの位置決め 導通ピン 9によって、 内側円形電極部材 4及び外側円環状電極部材 5 は、 チャック本体 1の取付け面 1 a に対する水平方向の位置決めがさ れると同時に、 チヤック本体 1と内側円形電極部材 4と外側円環状電 極部材 5とからなる第一の電極を構成している。
また、 チャック本体 1と円環状電極部材 3との間にはポリイミ ド製 の位置決めピン 1 0が設けられている。 この位置決めピン 1 0は、 そ の一端が円環状電極部材 3における試料吸着面 8と反対側の面に設け られた嵌合穴 3 a に嵌合しており、 他端がチャック本体 1に設けられ た嵌合穴 1 g に嵌合されている。 この位置決めピン 1 0は、 取付け面 1 a において円環状電極部材 3の内側外周と外側外周との略中間位置 で半円上に 3本が 9 0 ° 間隔で並ぶように設けられている。 この位置 決めピン 1 0によって、 円環状電極部材 3は、 チャック本体 1の取付 け面 1 aに対する水平方向の位置決めがされる。
この静電チヤック Xには、 チヤック本体 1と内側円形電極部材 4と をつなぐ冷却ガス流路 1 1、 チャック本体 1と外側円環状電極部材 5 とをつなぐ冷却ガス流路 1 2がそれぞれ形成されている。 ここで、 チ ャック本体 1と内側円形電極部材 4とを結ぶ冷却ガス流路 1 1は、 試 料吸着面 8に載置した半導体ウェハ Wの突き上げピンを貫通させるた めの貫通孔も兼ねる。 試料吸着面 8を形成する内側円形電極部材 4の 上面には、 冷却ガス流路 1 1とつながる内側ガス溝 1 3が内側円形電 極部材 4の外周方向へ向けて形成されている。 また、 試料吸着面 8を 形成する外側円環状電極部材 5の上面にも、 同様に、 冷却ガス流路 1 2とつながる外側ガス溝 1 4が形成されている。 上記冷却ガス流路 1 1及び 1 2は、 それぞれガス室 1 5とつながっており、 冷却ガス流路 1 1から送られた冷却ガスは、 内側円形電極部材 4の上面においてそ の一部が内側円形電極部材 4と円環状電極部材 3との間に形成された 隙間 に流れ込み、また、冷却ガス流路 1 2から送られた冷却ガスは、 外側円環状電極部材 5の上面においてその一部が外側円環状電極部材 5と円環状電極部材 3との間に形成された隙間 d 2に流れ込む。そのた め、 試料吸着面 8における冷却ガスの分散が均一化される。
更に、チヤック本体 1には、取付け面 1 aとベース面 1 cとの間を貫 通する貫通孔が形成されて、 この貫通孔内にその一端が円環状電極部 材 3の下面 (試料吸着面 8と反対側の面) に到達するように配設した 絶縁ブッシュ 1 6が取付けられている。 また、 円環状電極部材 3の下 面には、 絶縁ブッシュ 1 6の略中央に対応する位置に給電ピン穴 3 b が形成されており、 チャック本体のベース面 1 c 側から、 この絶縁ブ ッシュ 1 6内を通してこの給電ピン穴 3 b と嵌合する給電端子 1 7が 取付けられ、 これにより円環状電極部材 3が第二の電極を構成してい る。 この給電端子 1 7は、 チャック本体 1と円環状電極部材 3との間 に設けられた位置決めピン 1 0と同一円上に 9 0 ° 等配となるように 9
取付けられる。
ここで、 図示外のプラズマエッチング装置の静電チャック取付け座 面は、 導電性部材で構成されており、 同じく図示外の直流電源の正負 いずれか片側の電極が接続されている。チヤック本体 1のべ一ス面 1 c には酸化皮膜が形成されていないため、 このベース面 l c を上記装置 側の静電チャック取付け座面に接触、 固定することにより、 チャック 本体 1と装置側の静電チヤック取付け座面は電気的に導通しているこ とになる。 すなわち、 直流電源の片側電極がチャック本体 1に接続さ れていることになる。 また、 円環状電極部材 3に取付けられた給電端 子 1 7には、 チャック本体 1に接続された直流電源の電極と反対極の 電極が接続される。 このようにして、 第一の電極及び第二の電極に正 負の電圧を振り分けて印加することにより双極型静電チヤック Xを形 成する。
〔双極型静電チヤックの分解〕
上記実施例 1に係る双極型の静電チヤック Xをプラズマエッチング 装置にて使用した後、 プラズマエッチング装置から取り外してキシレ ン浴に浸漬した。 キシレン浴の温度を 1 5 °Cに保持して 8時間浸漬し た後、 キシレン浴から取り出した静電チャック Xは、 接着層 2として 用いた上記シリコ一ン系接着剤が膨潤して接着力が弱まっているため、 チャック本体 1の取付け面 l a から円環状電極部材 3、 内側円形電極 部材 4、 及び外側円環状電極部材 5の各電極部材を容易に取り外すこ とができる。
〔双極型静電チヤックの再利用〕
次に、 上記によって分解した静電チャック Xについて、 円環状電極 部材 3、 内側円形電極部材 4、 外側円環状電極部材 5の各電極部材、 及び位置決め導通ピン 9の一端に取付けられた導通パネ 9 a は再利用 せずに廃棄する。 チャック本体 1、 位置決め導通ピン 9、 位置決めピ ン 1 0、及び絶縁スぺ一サ一 7については、それぞれ吐出圧 2 0 P a、 照射時間 5分の条件でドライアイスブラス卜照射を行って表面の付着 物を除去した。次いで、アセトン浴中に浸潰して超音波付加 1 5 0 W、 1 0分の条件で超音波洗浄を行った後、 純水浴中にて超音波付加 1 5 0 W、 5分の条件で洗浄した。 超音波洗浄後は上記電極部材等をそれ ぞれ温風乾燥した。
再利用において、 円環状電極部材 3、 内側円形電極部材 4、 外側円 環状電極部材 5の各電極部材は新しく作製したものを用いる。この際、 各電極部材は、 交換前のものと同じ材料から形成し、 その表面に形成 する酸化皮膜の膜厚もそろえたものとする。 また、 各電極部材に設け られた嵌合穴 3 a, 4 a, 5 a についても交換前のものと同じ位置に同一 形状で形成する。 更には、 内側円形電極部材 4については冷却ガス流 路 1 1及び内側ガス溝 1 3を形成し、 また外側円環状電極部材 5につ いても冷却ガス流路 1 2及び外側ガス溝 1 4を形成する。 また、 洗浄 後の位置決め導通ピン 9については、 その一端に新しく用意した導通 バネ 9 aを取付ける。
洗浄後のチャック本体 1、位置決め導通ピン 9、位置決めピン 1 0、 及び絶縁スぺーサー 7と、 上記新品の円環状電極部材 3、 内側円形電 極部材 4、 外側円環状電極部材 5、 及び導通パネ 9 a を用いて、 実施 例 1に係る双極型静電チヤック Xを上述した内容と同様にして組み立 てることで、再利用による双極型静電チヤック Xを得ることができる。
[実施例 2 ]
〔双極型静電チャック〕
図 3は、 本発明の実施例 1の双極型静電チャック Xにおける内側円 形電極部材 4と、 この内側円形電極部材 4が固着される取付け面 1 a との関係の変形例を示す。
上記内側円形電極部材 4は、 その底面側 (試料吸着面 8と反対側) が円錐状に形成されていると共に、 この底面側には更に円錐状に形成 された突起部 4 h が設けられている。 この内側円形電極部材 4の表面 には、 上記突起部 4 1ι の表面部分を除き、 実施例 1と同様にして酸化 皮膜 4 i が形成されている。 また、 この内側円形電極部材 4が接着層 2を介して固着されるチャック本体 1の取付け面 l a には、 内側円形 電極部材 4の底面側の形状に対応した円錐状溝 1 h が形成されており、 そのため、 この円錐状溝 l h と上記内側円形電極部材 4の突起部 4 h とが相補的な形状で固定されている。 さらに、 チャック本体 1の取付 け面 1 aの表面には、上記円錐状溝 1 hにおいて内側円形電極部材 4の 突起部 4 hが接触する部分を除き、実施例 1と同様にして酸化皮膜 1 i が形成されている。
.図 3に示した実施例 2に係る双極型静電チャック Xでは、 取付け面 1 aに固着される内側円形電極部材 4の突起部 4 hと、 この突起部 4 h と相補的な形状をした取付け面 1 aにおける円錐状溝 l hとが、互いに 酸化皮膜を有さないため、 チャック本体 1の取付け面 l a に固着され た内側円形電極部材 4とチャック本体 1とは、 上記突起部 4 h におけ る接触面を介して電気的に導通可能となる。 そのため、 実施例 1にお ける静電チヤック Xのような位置決め導通ピン 9は不要となる。また、 上記内側円形電極部材 4は、その突起部 4 hが取付け面 1 aに形成され た円錐状溝 1 11 と相補的な形状で固着されているため、 この取付け面 l a に対する内側円形電極部材 4の水平方向の位置決めもされる。 更 には、 この内側円形電極部材 4は、 取付け面 l a に対して上記突起部 4 h が直に接触して固着されるため、 実施例 1の静電チャック Xにお けるチヤック本体 1の取付け面 1 a のように内側円形電極部材 4に対 応する位置に内側突条凸部 1 eを設けることなく、取付け面 1 aに対す る内側円形電極部材 4の高さ方向の位置決めもなされる。 この実施例 2に係る内側円形電極部材 4とチヤック本体 1の取付け面 1 a との関 係において、 上記以外の部分については、 実施例 1の場合と同様にす ることができる。
上記実施例 2に係る双極型静電チヤック Xの分解、 及ぴ双極型静電 チヤック Xの再利用については、 実施例 1と同様の手順で行うことが できる。
[実施例 3 ]
〔双極型静電チヤック〕
実施例 1における双極型静電チヤック Xの接着層 2を形成するシリ コーン系接着剤として、 伝熱フィラーを含有したエラストマ一系のも のを使用した以外は上記実施例 1と同様にした。 このエラストマ一系 のシリコーン系接着剤としては、 東レ 'ダウコーニング 'シリコーン株 式会社製 SE4400 〔硬化前粘度 76 (25°C Pa' s)、 熱伝導率 0. 92 (W/m- K)〕 等を用いることができる。
この実施例 3に係る双極型静電チヤック Xの分解及び再利用につい ては、 実施例 1と同様の手順で行うことができる。 産業上の利用可能性
本発明における双極型の静電チヤックによれば、 従来の双極型静電 チヤックと比べて容易に製造することができる。 使用後においては、 この静電チヤックを容易に分離することができ、 効率的に再利用する ことによって、 再生コストが低減でき、 再利用のための組立ても容易 であり、 更には、 再利用して得られた静電チャックの性能は、 再利用 前のものと同程度に維持することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 取付け面を有するチャック本体と、 中央開口を有して環状に形 成されると共に、 上記チヤック本体の取付け面に接着層を介して固着 される環状電極部材と、 この環状電極部材の中央開口内に環状電極部 材から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面に接着層を介して 固着される内側電極部材と、 上記環状電極部材の外側に環状電極部材 から所定の間隔をおいて配設され、 上記取付け面に接着層を介して固 着される外側電極部材とからなり、 上記内側電極部材と外側電極部材 とが第一の電極を構成すると共に、 上記環状電極部材が第二の電極を 構成することを特徴とする双極型静電チヤック。
2 . チャック本体が、 内側電極部材と外側電極部材と共に第一の電 極を構成する請求項 1に記載の双極型静電チヤック。
3 . チャック本体の取付け面には、 この取付け面に対する外側電極 部材の高さ方向の位置決めを行う外側凸部及び/又は上記取付け面に 対する内側電極部材の高さ方向の位置決めを行う内側凸部が設けられ ている請求項 1又は 2に記載の双極型静電チャック。
4 . チャック本体と、 チャック本体の取付け面に接着層を介して固 着される内側電極部材、環状電極部材、及び外側電極部材との間には、 それぞれ、 上記取付け面に対する内側電極部材、 環状電極部材、 及び 外側電極部材の水平方向の位置決めを行う位置決めピンが設けられて いる請求項 1又は 2に記載の双極型静電チヤック。
5 . チャック本体の取付け面に接着層を介して固着される内側電極 部材、 環状電極部材、 及び外側電極部材のうちの少なくとも 1つ以上 が、 チャック本体の取付け面と互いに相補的な形状で固着されている 請求項 1又は 2に記載の双極型静電チャック。
6 . チャック本体と環状電極部材との間には、 上記取付け面に対す る環状電極部材の高さ方向の位置決めを行う位置決めスぺーサ一が介 装されている請求項 1又は 2に記載の双極型静電チャック。
7 . 内側電極部材、 環状電極部材、 及び外側電極部材が、 純アルミ ニゥムによって形成される請求項 1又は 2に記載の双極型静電チヤッ ク。
8 . 接着層が、 シリコーン系接着剤又はポリビニルプチラール系接 着剤から選ばれた 1種又は 2種からなる接着層である請求項 1又は 2 に記載の双極型静電チャック。
9 . シリコーン系接着剤が、 ゲル状又はエラストマ一系のものであ る請求項 8に記載の双極型静電チヤック。
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