WO2004106580A1 - Maskenhaltevorrichtung - Google Patents

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WO2004106580A1
WO2004106580A1 PCT/EP2004/050389 EP2004050389W WO2004106580A1 WO 2004106580 A1 WO2004106580 A1 WO 2004106580A1 EP 2004050389 W EP2004050389 W EP 2004050389W WO 2004106580 A1 WO2004106580 A1 WO 2004106580A1
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frame
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spring elements
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Walter Franken
Gerhard Karl Strauch
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Aixtron Ag
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682Mask-wafer alignment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof

Definitions

  • the invention relates to a device for releasably holding a mask in the form of a rectangular frame, clamping means acting on the legs of the frame at the edge of the mask being provided.
  • a device is known by means of which a circular mask is held.
  • the device consists of a circular frame. If a radial tension is applied to the mask held by the frame, the sagging of the mask in its center is reduced.
  • aligning the mask is aligned with alignment marks on the substrate. This is done optically. In order to avoid alignment errors, the alignment marks to be aligned must be as close as possible to each other due to the limited depth of field.
  • Minimizing the sag is also important for masks that are used below a substrate, so that when used as intended, their distance from the substrate or pre-structuring on the substrate is minimal.
  • Devices for attaching masks are also known from DE 195 33402, US 5 186975 and US 4676193.
  • the invention has for its object to provide a generic device to minimize sagging of the mask.
  • Claim 1 first and foremost provides that the tensioning means have a multiplicity of individual spring elements which engage at closely adjacent locations on the edge of the mask.
  • the individual spring elements develop essentially the same tension, so that an almost homogeneous tension is applied to the edge of the mask.
  • the deformation of the mask associated with the application of the tension is therefore the same at every point.
  • the deformation of the frame legs themselves which cannot be avoided due to the rectangularity of the frame, is largely compensated for.
  • the tension of the individual spring elements is preferably applied by a common tensioning element.
  • Each of the four frame legs is preferably equipped with such a tensioning aid.
  • the individual spring elements can be leaf springs. These leaf springs can form the teeth of a comb.
  • the attack of the individual spring elements is preferably carried out on the window of the edge of the mask.
  • the edge of the mask can form a multiplicity of slit-shaped windows lying one behind the other.
  • the slot length is only slightly longer than the width of the leaf springs.
  • the distance between the slots corresponds approximately to the width of a leaf spring.
  • the ends of the leaf springs extend approximately orthogonally to the mask plane.
  • the mask can rest on an upper side of the frame.
  • the leaf springs can extend at a distance along an outside of the frame.
  • the comb web, with which the individual leaf springs are connected to one another, can be printed by a tensioning strip against a sloping flank of the frame leg.
  • the tensioning bar forms a counter cantilever.
  • the rigidity of the leaf springs is considerably lower than the spring rigidity of the frame or the mask. This compensates for an elastic deformation of the frame legs due to the tension.
  • the tension applied to the mask by the leaf springs is less than the yield point of the material of the mask. But the tension is so high that the mask, its size 370 mm x 470 mm, preferably 600 mm x 720 mm, may not sag more than 0.2 mm, preferably less than 0.1 mm in the middle.
  • the mask can be made of stainless steel or a molybdenum alloy.
  • the mask has a large number of regularly arranged openings, through which material in the form of gases or aerosols can flow onto a pre-structured surface of a substrate, in particular a mother glass, when used as intended.
  • the device is used in particular for OVPD.
  • organic layers are deposited on a glass substrate that is pre-structured.
  • Light-imitating fields (pixels) are generated with the layers, red-imitating and green-imitating fields lie adjacent to blue-imitating fields.
  • the field size ranges between 20 and 200 ⁇ m.
  • the individual fields can be separated from one another by means of spacers made of a polymer.
  • Alignment before coating the mask used in the shadow casting method above the pre-structured substrate is carried out with a minimal distance from the substrate.
  • the alignment marks to be aligned are then at a minimal distance from one another.
  • the mask lies on the substrate. For this purpose, it is lowered after alignment.
  • the mask is essentially mounted on the frame in two
  • the tensioning bar is released, i.e. with untensioned leaf springs
  • the metal mask is placed on the top of the frame.
  • the ends of the leaf spring loosely reach through the associated window of the edge of the mask.
  • the ridge which forms the fixed ends of the leaf springs, lies in an open, oblique gap. If the tensioning strip is moved towards the frame by applying a force, the leaf springs are bent. Along with this, a tension force, which is directed in the direction of the mask plane, is applied to the mask.
  • the angle of inclination of the sloping flank against which the ridge is printed is so on the position of the window of the mask or. the stiffness of the leaf spring is adjusted so that the clamping force is sufficiently high, but below the yield point of the material of the mask.
  • 1 is a top view of a mask on a frame in the tensioned position
  • FIG. 2 is a side view according to arrow ⁇ in Fig. 1,
  • FIG. 3 shows a section along the line 111-111 in FIG. 1, shown in broken lines the position of a leaf spring in the untensioned state
  • FIG. 4 shows a representation according to FIG. 3 before tensioning, but after assembly
  • Fig. 5 shows a detail according to V in Fig. 1 from the surface of the mask
  • FIG. 6 shows a section along the line VI-VI in FIG. 5.
  • the device that is described in the exemplary embodiment is used for the production of flat screens.
  • Individual light-imitating fields are placed on a substrate in a grid that corresponds to the pixel resolution of the screen.
  • the substrate which consists in particular of a mother glass, is pre-structured.
  • the substrate can have a size of 370 x 470 mm 2 or 600 x 720 mm 2 .
  • a rectangular field grid 14 is first applied to the substrate 15. These are elongated fields, of which three fields form a unit. One of the fields imitates red, blue or yellow. 5
  • the width of the fields D can be between 20 and 200 ⁇ m.
  • masks 1 are ended which have mask openings 12 which, after the position has been adjusted in the plane of the mask, lie above the fields, that is to say between the supports 14. In the case of the 10 deposition of the highly limiting layers, only a third of the fields is provided with a mask opening 12. Through this mask opening 12, organic starting materials diffuse as aerosols or gases in order to condense on the layer structure 13.
  • the mask 1 lying flat on the top 2 'and made of stainless steel or a molybdenum alloy is stretched uniformly in its plane of extension. This is the only way to achieve that the mask 1 sags minimally in the middle and that the distortion generated by the application of the surface tension is homogeneous and thus in the construction of the mask.
  • the edge of the mask is perforated. It has windows 6 lying one behind the other in a row. The length of the individual windows 6 essentially corresponds to their distance. The windows are approximately 10 to 25 20 mm apart.
  • the outer sides 2 ′′ of the frame legs 2, 3 form oblique flanks 8 lying away from the upper side 2 ′.
  • a counter-oblique 10 with the same slope, which is associated with a tensioning strip 5.
  • the tensioning bar 5 lies on a step 9, which adjoins the underside of the frame leg 2.
  • the ends 4 'of the leaf springs 4 pass through the windows 6 of the edge 1' of the mask 1 such that the end sections 4 'of the leaf springs 4 extend approximately orthogonally to the mask plane.
  • the leaf springs 4 engage in the tensioned state, in which the comb web 7 lies flat against the oblique flank 8 or the counter bevel 10, in the windows 6.
  • a non-tensioned spring is shown in dash-dotted lines. With a the span of the leaf spring 4 is designated.
  • the leaf springs 4 are evenly spaced from one another. Their distance corresponds essentially to their width.
  • the space between the individual leaf springs 4 has a rounded bottom 11.
  • the leaf spring is made of steel or some other suitable material.
  • Each of the four frame legs 2, 3 can be provided with such clamping means.
  • the tensioning means which are assigned to the narrow legs 2 can have different spring stiffnesses than the tensioning means which are assigned to the longitudinal legs 3.
  • the frame is fitted in the released position of the leaf spring shown in FIG. 4.
  • the clamping bar 5 is displaced back in such a way that the inclined gap between the inclined flank 8 and the counter bevel 10 is wider than the thickness of the comb web 7.
  • the comb web 7 lies here loosely in the inclined slot. If the mask 1 is now on the top 2 ', 3' Frame legs placed, the ends 4 'of the leaf springs 4 can be loosely threaded into the associated window 6. Then the clamping strips 5 are acted on in the direction of the arrow shown in FIG. 4. This can be done simultaneously on all frame legs 2, 3. Along with the displacement of the tensioning strips 5 in the direction of the arrow, the leaf spring 4 is bent.
  • the comb web 7 can also be angled at an angle to the leaf springs 4.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur lösbaren Halterung einer Maske (1) in Form eines rechteckigen Rahmens, wobei an den Schenkeln (2, 3) des Rahmens am Rand (1’) der Maske (1) angreifende Spannmittel vorgesehen sind. Erfindungsgemäss ist vorgesehen, dass die Spannmittel eine Vielzahl von Einzelfederelementen (4) aufweisen, die an nahe einander benachbarten Stellen am Maskenrand (1’) angreifen, wobei die einem Rahmenschenkel (2, 3) zugeordneten Einzelfederelemente (4) von einem gemeinsamen Spannhilfsglied (5) von einer Bestückungsstellung, in welcher der Rahmen mit der Maske (1) bestückbar ist, in eine Spannstellung bringbar sind, und als kammartig miteinander verbundene Blattfedern (4) ausgebildet sind.

Description

Maskenhai tevorrichtung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur lösbaren Halterung einer Maske in Form eines rechteckigen Eahmens, wobei an den Schenkeln des Rahmens am Rand der Maske angreifende Spannmittel vorgesehen sind.
Aus der WO03/ 04719 AI ist eine Vorrichtung bekannt, mittels welcher eine kreisrunde Maske gehalten wird. Die Vorrichtung besteht aus einem kreisrunden Rahmen. Wird auf die von dem Rahmen aufgenommene Maske eine ra- diale Spannung aufgebracht, so verringert sich das Durchhangen der Maske in ihrer Mitte. Bei Masken, die im Schattenwurf- Verfahren verwendet werden, ist es von Bedeutung, dass sie möglichst wenig durchhängen, um sie mit geringem Abstand oberhalb des Substrates ausrichten zu können. Die Maske wird beim Ausrichten mit Justiermarken auf dem Substrat in Deckung gebracht Dies erfolgt optisch. Zur Vermeidung von Ausrichtfehlern müssen die in Dek- kung zu bringenden Justiermarken aufgrund der begrenzten Schärfentiefe möglichst dicht beieinander hegen. Das Durchhängen zu minimieren ist auch für Masken, die unterhalb eines Substrates verwendet werden, von Bedeutung, damit bei ihrer bestimmungsgemaßen Verwendung ihr Abstand zum Substrat bzw. einer Vorstrukturierung auf dem Substrat minimal ist. Vorrichtungen zum Befestigen von Masken sind ferner aus den DE 195 33402, US 5 186975 und US 4676193 vorbekannt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine gattungsgemaße Vorrichtung zur Minimierung des Durchhangens der Maske anzugeben.
Gelost wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung. Der Anspruch 1 sieht zunächst und im Wesentlichen vor, dass die Spannmittel eine Vielzahl von Einzelfederelementen aufweisen, die an nahe einander benachbarten Stellen am Maskenrand angreifen. Die Einzelfederelemente entwickeln im Wesentlichen die gleiche Spannkraft, so dass auf den Rand der Maske eine nahezu homogene Zugspannung aufgebracht wird. Die durch die mit der Aufbringung der Spannung einhergehende Verformung der Maske ist somit an jeder Stelle gleich. Die zufolge der Rechteckigkeit des Rahmens nicht zu vermeidende Verformung der Rahmenschenkel selbst wird weitestgehend kompensiert. Die Aufbringung der Spannung der einzelnen Einzelfederelemente erfolgtvorzugsweise durch ein gemeinsames Spannhilfsglied. Jeder der insgesamt vier Rahmenschenkel ist vorzugsweise mit einem derartigen Spannhilfs- glied bestuckt. Die Einzelfederelemente können Blattfedern sein. Diese Blattfedern können die Zinken eines Kamms bilden. Der Angriff der Einzelfederelemente erfolgt vorzugsweise an Fenster des Randes der Maske. Hierzu kann der Rand der Maske eine Vielzahl hintereinander liegender, schlitzförmiger Fenster ausbilden. Die Schlitzlange ist dabei nur unwesentlich langer, als die Breite der Blattfedern. Der Abstand der Schlitze entspricht etwa der Breite einer Blattfeder. Ferner ist es von Bedeutung, dass die Enden der Blattfedern sich etwa orthogonal zur Maskenebene erstrecken. Die Maske kann dabei auf einer Oberseite des Rahmens aufliegen. Die Blattfedern können sich mit Abstand entlang einer Außenseite des Rahmens erstrecken. Der Kammsteg, mit welchem die einzelnen Blattfedern miteinander verbunden sind, kann von einer Spannleiste gegen eine Schragflanke des Rahmenschenkels gedruckt werden. Hierzu bildet die Spannleiste eine Gegenschrage aus. Die Steifigkeit der Blattfedern ist erheblich geringer, als die Federsteifigkeit des Rahmens oder der Maske. Hierdurch wird eine elastische Verformung der Rahmenschenkel infolge der Spannung kompensiert. Die Spannung, die von den Blattfedern auf die Maske aufgebracht wird, ist geringer, als die Fließgrenze des Materials der Maske. Die Spannung ist aber so hoch, dass die Maske, deren Große 370 mm x 470 mm, bevorzugt 600 mm x 720 mm, betragen kann, nicht mehr als 0,2 mm, bevorzugt weniger als 0,1 mm in der Mitte durchhangt. Die Maske kann aus Edelstahl oder einer Molybdenlegierung bestehen. Die Maske besitzt eine Vielzahl von regelm ßig angeordneten Offnungen, durch welche beim bestimmungsgemaßen Gebrauch Material in Form von Gasen o der Aero solen auf eine vorstrukturierte Oberflache eines Substrats, insbesondere eines Mut terglases strömen kann. Die Vorrichtung wird insbesondere zur OVPD verwendet Bei diesem Verfahren werden organische Schichten auf ein Glassubstrat, welches vorstrukturiert ist, abgeschieden. Mit den Schichten werden lichtimitierende Felder (Pixel) erzeugt, rot imitierende und grün imitierende Felder liegen benachbart zu blau imitierenden Feldern. Die Feldgroße hegt im Bereich zwischen 20 und 200 um. Die einzelnen Felder können mittels Abstandshalter aus einem Polymer voneinander getrennt sein. Das Ausrichten vor der Beschichtiing der im Schattenwurfverfahren verwendeten Maske ober- halb des vorstrukturierten Substrates erfolgt mit minimalem Abstand zum Substrat. Die in Deckung zu bringenden Justiermarken haben dann einen minimalen Abstand voneinander. Beim Beschichtungsvorgang liegt die Maske auf dem Substrat auf. Sie wird hierzu nach dem Ausrichten abgesenkt.
Die Montage der Maske auf dem Rahmen erfolgt im Wesentlichen in zwei
Schritten. Bei gelöster Spannleiste, also mit ungespannten Blattfedern, wird die Metallmaske auf die Oberseite des Rahmens gelegt. Dabei durchgreifen die Enden der Blattfeder lose die ihnen zugeordneten Fenster des Randes der Maske. Der Kammsteg, welcher die festen Enden der Blattfedern bildet, liegt dabei in einem offenen, schräg verlaufenden Spalt. Wird die Spannleiste in Richtung auf den Rahmen zu durch Aufbringung einer Kraft verlagert, so werden die Blattfedern gebogen. Finhergehend damit wird auf die Maske eine Spannkraft, die in Richtung der Maskenebene gerichtet ist, aufgebracht. Der Neigungswinkel der Schragflanke, gegen welche der Kammsteg gedruckt wird, ist so auf die Lage der Fenster der Maske bzw . die Steifϊgkeit der Blattfeder abgestimmt, dass die Spannkraft ausreichend hoch, aber unterhalb der Fließgrenze des Materials der Maske liegt.
Ein Ausfuhrungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der beigefugten Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine auf einem Rahmen aufliegende Maske in der Draufsicht in der Spannstellung,
Fig. 2 eine Seitenansicht gemäß Pfeil π in Fig. 1,
Fig. 3 einen Schnitt gemäß der Linie 111-111 in Fig. 1, strichpunktiert dargestellt die Lage einer Blattfeder im ungespannten Zustand,
Fig. 4 eine Darstellung gemäß Fig. 3 vordem Spannen, aber nach der Bestückung,
Fig. 5 einen Ausschnitt gemäß V in Fig. 1 aus der Oberflache der Maske und
Fig. 6 einen Schnitt gemäß der Linie VI- VI in Fig. 5.
Die Vorrichtung, die im Ausfuhrungsbeispiel beschrieben wird, wird zur Her- Stellung von Flachbildschirmen verwendet. Dabei werden in einem Raster, welches der Pixel- Auflosung des Bildschirmes entspricht, einzelne lichtimitierende Felder auf ein Substrat gebracht. Hierzu wird das insbesondere aus einem Mutterglas bestehende Substrat vorstxukturiert. Das Substrat kann eine Große von 370 x 470 mm2 bzw. 600 x 720 mm2 haben. Mittels eines Fotolacks oder eines anderweitigen Polymers wird zunächst auf das Substrat 15 ein Rechteckfeldraster 14 aufgebracht. Es handelt sich dabei um längliche Felder, von denen jeweils drei Felder eine Einheit bilden. Jeweils eines der Felder imitiert rot, blau oder gelb. 5
Die Breite der Felder D kann zwischen 20 und 200 um betragen. Zur Abscheidung einer Schichtstruktur 13 innerhalb der Felder werden Masken 1 ver endet, die Maskenoffnungen 12 aufweisen, die nach erfolgter Lagejustage in der Ebene der Maske über den Feldern, also zwischen den Auflagern 14 liegen. Bei 10 der Abscheidung der hchtimitierenden Schichten ist jeweils nur ein Drittel der Felder mit einer Maskenoffnung 12 versehen. Durch diese Maskenoff ung 12 diffundieren organische Ausgangsstoffe als Aerosole oder Gase, um auf der Schichtstruktur 13 zu kondensieren.
15 Wesentlich ist, dass die auf der Oberseite 2' flachig aufliegende, aus Edelstahl oder einer Molybdenlegierung bestehende Maske 1 in ihrer Erstreckungsebene gleichmaßig gespannt wird. Nur so ist erreichbar, dass die Maske 1 in ihrer Mitte minimal durchhangt und die durch die Aufbringung der Flachenspan- nung erzeugte Verzerrung homogen und somit bei der Konstruktion der Mas-
20 ke berucksichtigbar ist.
Der Rand der Maske ist perforiert. Er besitzt in einer Reihe hintereinander liegende Fenster 6. Die Lange der Einzelfenster 6 entspricht dabei im Wesentlichen ihrem Abstand. Großenordnungsmaßig sind die Fenster etwa 10 bis 25 20 mm voneinander beabstandet.
Die Außenseiten 2" der Rahmenschenkel 2, 3bilden entfernt von der Oberseite 2' liegende Schragflanken 8 aus. Gegenüberliegend zur Schragflanke 8 befindet sich eine Gegenschrage 10 mit derselben Steigung, die einer Spannleiste 5 zu- geordnet ist. Die Spannleiste 5 liegt dabei auf einer Stufe 9, die sich der Unterseite des Rahmenschenkels 2 anschließt, auf. In diesem von der Schragflanke 8 bzw. der Gegenschräge 10 gebildeten Schrägschlitz liegt ein Kammsteg 7, von dem zinkenartig einzelne Blattfedern 4 ausgehen. Die Enden 4' der Blattfedern 4 durchgreifen dabei derart die Fenster 6 des Randes 1' der Maske 1, dass sich die Endabschnitte 4' der Blattfedern 4 etwa orthogonal zur Maskenebene erstrecken. Die Blattfedern 4 greifen im gespannten Zustand, in welchem der Kammsteg 7 flächig an der Schrägflanke 8 bzw. der Gegenschräge 10 anliegt, vorgespannt in die Fenster 6 ein.
In der Fig. 3 ist eine nicht gespannte Feder strichpunktiert dargestellt. Mit a ist dort die Spannstrecke der Blattfeder 4 bezeichnet.
Wie der Fig. 2 zu entnehmen ist, sind die Blattfedern 4 gleichmäßig voneinan- der beabstandet. Ihr Abstand entspricht im Wesentlichen ihrer Breite. Der
Zwischenraum zwischen den einzelnen Blattfedern 4 besitzt einen gerundeten Boden 11. Die Blattfeder besteht aus Stahl oder einem anderweitigen geeigneten Werkstoff.
Jeder der insgesamt vier Rahmenschenkel 2, 3 kann mit derartigen Spannmitteln versehen sein. Dabei können die Spannmittel, die den Schmalschenkeln 2 zugeordnet sind, andere Federsteifigkeiten aufweisen, als die Spannmittel, die den Längsschenkeln 3 zugeordnet sind.
Die Bestückung des Rahmens erfolgt in der in Fig. 4 dargestellten gelösten Stellung der Blattfeder. In dieser Stellung ist die Spannleiste 5 derart zurückverlagert, dass der Schrägspalt zwischen der Schragflanke 8 und der Gegenschräge 10 weiter ist, als die Dicke des Kammsteges 7. Der Kammsteg 7 liegt hier lose in dem Schrägschlitz ein. Wird nun die Maske 1 auf die Oberseite 2', 3' der Rahmenschenkel gelegt, so können die Enden 4' der Blattfedern 4 lose in die ihnen zugeordneten Fenster 6 eingefädelt werden. Sodann werden die Spannleisten 5 in Richtung des in Fig. 4 dargestellten Pfeiles beaufschlagt. Dies kann an allen Rahmenschenkeln 2, 3 gleichzeitig erfolgen. Einhergehend mit der Verlagerung der Spannleisten 5 in Richtung des Pfeiles wird die Blattfeder 4 gebogen. Ihre Enden 4' üben dann auf die Maske 1 eine Spannkraft aus, die in der Erstreckungsebene der Maske liegt. Über die gesamte Lange der Rahmenschenkel 2, 3 ist die Spannkraft wegen des flachen Verlaufs der Federkennhnie der Blattfeder 4 nahezu gleich groß. Anstelle der Schragflache 8 kann auch der Kammsteg 7 schräg zu den Blattfedern 4 abgewinkelt sein.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/ beigefugten Prioritatsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollin- haltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen.

Claims

ANSPRUCHE
1. Vorrichtung zur lösbaren Halterung einer Maske (1) in Form eines rechteckigen Rahmens, wobei an den Schenkeln (2, 3) des Rahmens am Rand (1') der Maske (1) angreifende Spannmittel vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Spannmittel eine Vielzahl von Hnzelfederelementen (4) aufweisen, die an nahe einander benachbarten Stellen am Maskenrand (1') angreifen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die einem Rahmenschenkel (2, 3) zugeordneten Finzelfedere- lemente (4) von einem gemeinsamen Spannhilfsglied (5) von einer Bestük- kungsstellung, in welcher der Rahmen mit der Maske (1) bestückbar ist, in eine Spannstellung bringbar sind.
3. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelfederelemente Blattfedern (4) sind.
4. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Blattfedern (4) kammartig miteinander verbunden sind.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelfederelemente
(4) in Fenster (6) der Maske (1) eingreifen.
6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die in die Fenster (6) der Maske (1) eingreifenden freien Enden (4') der Blattfedern (4) sich etwa orthogonal zur Maskenebene erstrecken.
7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche 5 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die festen, insbesondere von einem Kammsteg (7) gebildeten Enden der Blattfedern (4) von einer das Spannhilfsglied bildenden Spannleiste (5) gegen eine Schrägflanke (8) des Rahmenschenkels (2, 3) beaufschlagbar sind.
10 8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprtiche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (1) auf der Rahmenoberseite (2, 3') aufliegt und die Schrägflanke (8) davon beabstandet der Rahmenaußenseite (2", 3") zugeordnet ist
15 9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Federkennlinie der Blattfeder (4) im Bereich ihrer Spannstellung flacher verläuft, als die Federsteifigkeit des Rahmens (2, 3) und/ oder der Maske (1).
20 10. Vorrichtung nach einem o der mehreren der vorhergehenden Ansprüche o der insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die in der Spannstellung von den Einzelfederelementen (4) auf die Maske (1) aufgebrachte Spannung unterhalb der Fließgrenze des Materials der Maske aber so hoch liegt, dass die Maske, deren Fläche gleich oder größer als 370 mm x 470 mm, be-
25 vorzugt gleich oder größer als 600 mm x 720 mm ist, nicht mehr als 0,2 mm, bevorzugt weniger als 0,1 mm in der Mitte durchhängt.
PCT/EP2004/050389 2003-05-28 2004-03-29 Maskenhaltevorrichtung WO2004106580A1 (de)

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008049639A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Airbus Deutschland Gmbh Lastpfadoptimierte schwenkbare Gepäckablage (Hatrack)
JP2011195907A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Tokyo Electron Ltd マスク保持装置及び薄膜形成装置
KR101740487B1 (ko) * 2015-10-20 2017-05-29 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 인장 용접 장치
CN107354427B (zh) * 2017-09-06 2023-10-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板载台和蒸镀系统
CN109844164B (zh) * 2017-09-27 2021-05-25 应用材料公司 用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法
CN107761051B (zh) * 2017-11-14 2019-08-27 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0569660A1 (de) * 1992-05-15 1993-11-18 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung zum Halten von Substraten
US5485495A (en) * 1992-03-31 1996-01-16 Canon Kabushiki Kaisha X-ray mask, and exposure apparatus and device production using the mask
DE19533402A1 (de) * 1995-09-09 1997-03-13 Leybold Ag Substrat- und Maskenhaltevorrichtung
US5682228A (en) * 1993-06-02 1997-10-28 Sanei Giken Co., Ltd. Alignment method and apparatus in an exposing process
JPH10121241A (ja) * 1996-10-17 1998-05-12 Nec Corp 真空蒸着装置
US6440219B1 (en) * 2000-06-07 2002-08-27 Simplus Systems Corporation Replaceable shielding apparatus

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3745401A (en) * 1972-02-15 1973-07-10 Atomic Energy Commission Filament support structure for large electron guns
US4676193A (en) * 1984-02-27 1987-06-30 Applied Magnetics Corporation Stabilized mask assembly for direct deposition of a thin film pattern onto a substrate
US5186975A (en) * 1987-10-14 1993-02-16 Enichem S.P.A. Process and machinery for step-and-repeat vacuum-deposition of large-area thin-film-electronics matrix-circuits on monolithic glass panes through small perforated metal masks
US5681195A (en) * 1993-09-30 1997-10-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Flat display device and manufacturing method thereof
JP3390142B2 (ja) * 1998-08-26 2003-03-24 松下電器産業株式会社 カラー陰極線管の製造方法及びその製造装置
US6878208B2 (en) * 2002-04-26 2005-04-12 Tohoku Pioneer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display manufactured by using the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5485495A (en) * 1992-03-31 1996-01-16 Canon Kabushiki Kaisha X-ray mask, and exposure apparatus and device production using the mask
EP0569660A1 (de) * 1992-05-15 1993-11-18 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung zum Halten von Substraten
US5682228A (en) * 1993-06-02 1997-10-28 Sanei Giken Co., Ltd. Alignment method and apparatus in an exposing process
DE19533402A1 (de) * 1995-09-09 1997-03-13 Leybold Ag Substrat- und Maskenhaltevorrichtung
JPH10121241A (ja) * 1996-10-17 1998-05-12 Nec Corp 真空蒸着装置
US6440219B1 (en) * 2000-06-07 2002-08-27 Simplus Systems Corporation Replaceable shielding apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 1998, no. 10 31 August 1998 (1998-08-31) *

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Publication number Publication date
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