CN1795283A - 荫罩保持装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种以矩形框架的形式可移动地固定荫罩(1)的装置,在所述矩形框架的边(2,3)上设置夹紧装置以夹紧所述荫罩(1)的所述边(1′)。依照本发明,所述夹紧装置包括多个单个弹簧元件(4),其夹紧所述荫罩边(1′)上的紧密邻近的点。所述单个弹簧元件(4)分配到所述框架的一个边(2,3)上且具体化为板簧(4),所述板簧以梳型方式相互连接,所述单个弹簧元件能通过共有的辅助夹紧构件(5)从将所述荫罩(1)能安装在所述框架上的安装位置移动到夹紧位置。
Description
技术领域
本发明涉及一种将荫罩以矩形框架的形式可释放地保持的装置,即张紧装置,其在所设置的所述荫罩的边缘处作用于所述框架的边。
背景技术
装置由WO 03/04719 AL所公知,圆形荫罩通过所述装置被支撑。所述装置包括圆形框架。如果对所述框架支撑的所述荫罩施加径向应力,所述荫罩中心的下垂被减小。在用于荫蔽过程中的荫罩的情况下,重要的是将所述下垂最小化以使所述荫罩定位在衬底之上短距离处。在定位过程中,所述荫罩使用定位标记排列在所述衬底上。这通过光学的方法完成。为了避免定位错误,必须被排成行的所述定位标记由于有限的景深需要尽可能的靠拢在一起。将所述的下垂最小化对使用在衬底下面的荫罩同样重要,以使得当它们在被预期使用时位于离所述衬底或所述衬底上的初步结构最小距离处。用于固定荫罩的装置同样由DE195 33 402,US5 186 975以及US 4 676 193可公知。
发明内容
本发明基于提供一种使荫罩下垂最小化的一般类型装置的目的。
所述目的是通过在权力要求书中所述的发明而获得的。
最先和最重要的,权力要求1所提供的是,所述张紧装置具有多个单个弹簧元件,其在紧密邻近的位置结合在所述荫罩边缘上。所述的单个弹簧元件产生基本相同的张力,以使得实质上均匀的张力施加在所述荫罩的边缘上。与施加的应力相关联的荫罩变形因而在任何点处是相等的。由于所述框架的矩形形状而对所述框架边自身产生的不可避免的变形尽可能地被补偿。对所述单个弹簧元件施加应力优选地通过共有的辅助张紧构件实现。全部四个框架边的每一个优选地装备该类型的共有的辅助张紧构件。所述单个弹簧构件可以是板簧。这些板簧能形成梳尖。所述单个弹簧元件优选地作用于所述荫罩边缘的窗状开口中。为此目的,所述荫罩的边缘形成多个类似槽的窗状开口,所述窗状开口相互跟随。在该情况中,槽的长度仅比所述板簧的宽度稍长。槽间的距离大致对应于所述板簧的宽度。而且,重要的是使所述板簧的末端沿相对于所述荫罩平面大概垂直的方向延伸。所述荫罩在该情况中能搁置所述框架的顶边上。所述板簧可以隔开地沿所述框架的外侧延伸。将所述单个板簧相互连接起来的所述梳状交叉部件能通过张紧带被压靠在所述框架边的斜侧面上。为此目的,所述张紧带形成配合斜面。所述板簧的硬度显著地小于所述框架的弹性硬度或所述荫罩的弹性硬度。结果是,所述框架边由于张紧的弹性变形得以补偿。通过板簧施加在所述荫罩上的应力小于所述荫罩材料的屈服强度。然而,所述应力足够高以使得所述荫罩在中心的下垂不大于0.2mm,优选地小于0.1mm,所述荫罩的尺寸可以是370mm×470mm,优选地是600mm×720mm。所述荫罩由不锈钢或钼合金组成。所述荫罩具有多个规则布置的开口,当按预期使用时,材料以气体或浮质的形式能通过所述开口流到衬底的预先构造的表面上,特别是对原玻璃来说。所述装置特别地使用于OVPD。在此过程中,有机层沉积在被预先构造的玻璃衬底上。所述层产生光模拟区域(像素),红色模拟和绿色模拟区域位于蓝色模拟区域附近。所述区域尺寸在20和200μm的范围内。所述单个区域可以用由聚合物制成的隔离物相互隔离。对在预先构造衬底上在荫蔽过程中使用的荫罩进行涂覆之前的定位发生在离所述衬底的最小距离处。将要排成列的定位标记因而以彼此间距最小设置。在涂覆操作期间,所述荫罩搁置在所述衬底上。为此目的,其在被定位后被放下。
所述荫罩在所述框架上的安装基本发生于两个步骤。随着所述张紧带松开,即所述板簧未受力时,所述金属荫罩放置在所述框架的顶边上。在该过程中,所述板簧的末端松弛地穿过在所述荫罩边缘中的相关联的窗状开口。形成所述板簧的固定端的所述梳状交叉部件在该情况下位于敞口的、斜向延伸的间隙中。如果所述张紧带沿所述框架的方向被施加的作用力移置,所述的板簧弯曲。这和沿所述荫罩平面方向施加在所述荫罩上的张紧力相关联。所述梳状交叉部件压靠其上的所述斜侧面的倾斜角与所述荫罩中窗状开口的位置或所述板簧的硬度以如此方式相匹配以使得所述张紧力足够高但低于所述荫罩材料的屈服应力。
附图说明
参考附图,本发明的示范性实施例说明如下,其中:
图1显示位于张紧位置而搁置在框架上的荫罩的平面图;
图2显示沿图1中箭头II所指示方向的侧视图;
图3显示沿图1中线III-III剖开的截面,板簧的位置位于如虚线所示的未受力状态;
图4如同图3,显示在张紧前但在装载后的图示;
图5显示由荫罩表面截取的与图1中V相对应的细节;
图6显示沿图5中线VI-VI剖开的截面。
具体实施方式
示范性实施例中所描述的装置是被用来产生平直的荧光屏。在此过程中,单个光模拟区域应用于格栅中的衬底上,所述格栅与荧光屏的像素分辨率相对应。为此目的,由原玻璃特别构成的衬底被预先构造。所述衬底的尺寸可以是370×470mm2或600×720mm2。首先,矩形区域格栅14通过感光性树脂或某些其它聚合体放置在衬底15上。矩形格栅包括细长的区域,在各情况中,这些区域中的三个所述区域形成一个单元。在各情况中,这些单元中的一个区域模拟红色、蓝色或黄色。
所述区域的宽度D可以在20和200μm之间。荫罩1具有荫罩开口12,所述荫罩开口在位置调整后位于所述区域上面的荫罩平面中,即在支撑14之间,所述荫罩1用来将层结构13沉积在所述区域内。在沉积光模拟区域期间,在各情况中,只有三分之一的区域被设置荫罩开口12。有机原材料以浮质或气体的形式通过该荫罩开口12扩散从而凝结在层结构13上。
重要的是,平搁在顶边2′上且包括不锈钢或钼合金的所述荫罩1在其延伸平面内均匀受力。只有以此方法才可能确保荫罩1中心的最小下垂,且才可能使因施加表面张力所产生的扭曲均匀,因此在荫罩结构中可以考虑这种方法。
所述荫罩的边缘被穿孔。所述的边缘具有窗状开口6,所述窗状开口彼此排成一行的方式设置。在该情况中,单个窗状开口6的长度基本上与它们之间的间距对应。在尺寸方面,窗状开孔相互之间大约为10至20mm。
框架边2,3的外侧2″形成斜侧面8,其位于离所述顶边2′的某一距离处。与所述斜侧面8相对的地方存在具有相同倾斜度的配合斜面10,该斜面与张紧带(steering strip)5关联。所述张紧带5位于台阶9上,所述台阶9与框架边2的下侧邻接。单个板簧4从梳状交叉部件7上以尖叉形式导出,所述梳状交叉部件位于由所述斜侧面8和所述配合斜面10形成的该斜槽中。在所述过程中,板簧4的末端4′以如此方式啮合穿过所述荫罩1的边缘1′中的窗状开口6,即使得所述板簧4的端部4′沿相对于所述荫罩平面大约垂直的方向延伸。在张紧的状态中,在所述梳状交叉部件7平直压向所述斜侧面8或所述配合斜面10,所述板簧4以预张力的方式啮合于所述窗状开孔6中。
未受力弹簧在图3中用虚线示出。在该图中,a表示板簧4在受力时移动的距离。
从图2可看出,所述板簧4相互之间均匀隔开。其间的距离基本与它们的宽度相等。单个板簧4之间的空间具有园形底部11。所述板簧由钢或另外的合适材料组成。
全部四个框架边2,3的每一个可以设置这种类型的张紧装置。在该情况中,与窄边2相关联的张紧装置可以具有与纵向边3相关联的张紧装置不同的弹簧硬度。
框架在如图4所示的板簧的释放位置被加载。在此位置,张紧带5以如此方式向后移置,即使得所述斜侧面8和所述配合斜面10之间的倾斜间隙10宽于梳状交叉部件7的厚度。所述梳状交叉部件7在此松弛地位于斜槽内部。如果所述荫罩1随后放置在框架边的顶边2′,3′之上,所述板簧4的末端4′能宽松地穿过所关联的窗状开口6。然后,所述张紧带5沿图4所示箭头的方向被作用于其上。这能在所有边2,3上同时发生。所述板簧4与所述张紧带5沿箭头方向的位移相关联而被弯曲。其末端4′于是在所述荫罩的延伸平面内在所述荫罩1上施加张力。由于所述板簧4的弹簧特性的平坦曲线,作用于所述框架边2,3整个长度上的所述张力实际上相等。作为所述斜面8的一种可替换方式,也可能使梳状交叉部件7相对于所述板簧4倾斜地形成一角度。
所有公开的特征与本发明(内在地)有关。相关的/所附的优先权文件(先前申请的副本)的公开内容以其整体在此引入到本申请的公开内容中,部分地考虑到将这些文件的特征合并在本申请的权力要求中。
权利要求书
(按照条约第19条的修改)
1.一种将荫罩(1)以矩形框架的形式可释放地保持的装置,即张紧装置,其在所设置的所述荫罩的边缘(1′)处作用于框架的边(2,3),所述张紧装置具有多个单个弹簧元件(4),其结合在所述荫罩边缘(1′)上以相邻位置设置的窗状开口中,其特征在于,所述单个弹簧元件是板簧(4),其自由端(4′)沿相对于所述荫罩平面大约垂直的方向延伸,结合在所述荫罩(1)中的所述窗状开口(6)中。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,与框架边(2,3)相关联的所述单个弹簧元件(4)能由共用的辅助张紧构件(5)从所述荫罩(1)能被所述框架装载的装载位置带入张紧位置。
3.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述板簧(4)以梳状式样相互连接在一起。
4.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述单个弹簧元件(4)配合在所述荫罩(1)的窗状开口(6)中。
5.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,由梳状交叉部件(7)特别形成的所述板簧(4)的固定端能由形成所述辅助张紧构件的张紧带(5)作用于其上而靠着所述框架边(2,3)的斜侧面(8)。
6.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述荫罩(1)搁靠在所述框架顶边(2′,3′),且所述斜侧面(8)在从其开始的某距离处与所述框架外侧(2″,3″)相关联。
7.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,所述板簧(4)在其张紧位置区域的弹性特征比所述框架(2,3)和/或所述荫罩(1)的弹性硬度平坦。
8.如上述权利要求之一所述的装置,其特征在于,在所述单个弹簧元件(4)的所述张紧位置处施加在所述荫罩(1)上的应力低于所述荫罩的所述材料的屈服点,但足够高以使得所述荫罩在中心处的下垂不大于0.2mm,优选地小于0.1mm,所述荫罩的表面积大于或等于360mm×470mm,优选地大于或等于600mm×720mm。
Claims (10)
1.一种将荫罩(1)以矩形框架的形式可释放地保持的装置,即张紧装置,其在所设置的所述荫罩的边缘(1′)处作用于框架的边(2,3),其特征在于,所述张紧装置具有多个单个弹簧元件(4),其在紧密邻接的位置结合在所述荫罩边缘上(1′)。
2.如权利要求1所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,与框架边(2,3)相关联的所述单个弹簧元件(4)能由共用的辅助张紧构件(5)从所述荫罩(1)能被所述框架装载的装载位置带入张紧位置。
3.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,所述单个弹簧元件是板簧(4)。
4.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,所述的板簧(4)以梳状式样相互连接在一起。
5.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于所述的单个弹簧元件(4)配合在所述荫罩(1)的窗状开口(6)中。
6.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,结合在所述荫罩(1)窗状开口(6)中的板簧(4)自由端(4′)相对于所述荫罩平面大致垂直。
7.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,由梳状交叉部件(7)特别形成的所述板簧(4)固定端能由形成所述辅助张紧构件的张紧带(5)作用于其上而靠着所述框架边(2.3)的斜侧面(8)。
8.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,所述荫罩(1)搁靠在所述框架顶边(2′,3′),且所述斜侧面(8)在从其开始的某距离处与所述框架外侧(2″,3″)相关联。
9.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,所述板簧(4)在其张紧位置区域的弹性特征比所述框架(2,3)和/或所述荫罩(1)的弹性硬度平坦。
10.如上述权利要求的一项或多项所述的或特别地如其所述的装置,其特征在于,在所述单个弹簧元件(4)的所述张紧位置时施加在所述荫罩(1)上的应力低于所述荫罩的所述材料的屈服点,但足够高以使得所述荫罩在中心处的下垂不大于0.2mm,优选地小于0.1mm,所述荫罩的表面积大于或等于360mm×470mm,优选地大于或等于600mm×720mm。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10324202A DE10324202A1 (de) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | Maskenhaltevorrichtung |
DE10324202.3 | 2003-05-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1795283A true CN1795283A (zh) | 2006-06-28 |
CN100489146C CN100489146C (zh) | 2009-05-20 |
Family
ID=33441400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200480014707.2A Expired - Fee Related CN100489146C (zh) | 2003-05-28 | 2004-03-29 | 掩膜保持装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060124055A1 (zh) |
EP (1) | EP1639148A1 (zh) |
JP (1) | JP2007505222A (zh) |
KR (1) | KR20060003103A (zh) |
CN (1) | CN100489146C (zh) |
DE (1) | DE10324202A1 (zh) |
TW (1) | TW200501308A (zh) |
WO (1) | WO2004106580A1 (zh) |
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- 2004-03-29 KR KR1020057021758A patent/KR20060003103A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-03-29 JP JP2006530164A patent/JP2007505222A/ja active Pending
- 2004-03-29 EP EP04724026A patent/EP1639148A1/de not_active Withdrawn
- 2004-03-29 WO PCT/EP2004/050389 patent/WO2004106580A1/de active Application Filing
- 2004-04-30 TW TW093112117A patent/TW200501308A/zh unknown
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JP2007505222A (ja) | 2007-03-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090520 Termination date: 20170329 |