CN107354427A - 掩膜板载台和蒸镀系统 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种掩膜板载台和蒸镀系统，属于蒸镀工艺领域。所述掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具；所述至少两个矫正夹具被配置为将放置在所述底座上蒸镀用金属掩膜板的框架夹紧在所述底座上，所述底座上设有用于供有机材料通过的第一开口。本发明实施例提供的掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具，底座上设有第一开口，用于供有机材料通过，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜板载台上的至少两个矫正夹具压住金属掩膜板的框架，避免框架发生变形，这样当基板与金属掩膜板的表面压合后，基板与金属掩膜板之间的间隙减小甚至消除，蒸镀得到的图案形状及轮廓清晰，尺寸正常，达到改善混色不良、提高产品良率的目的。

Description

掩膜板载台和蒸镀系统
技术领域
本发明涉及蒸镀工艺领域，特别涉及一种掩膜板载台和蒸镀系统。
背景技术
现有的有机发光二极管(英文Organic Light Emitting Diode，简称OLED)有机蒸镀镀膜的技术，是利用高精度的金属掩膜板作为模具，加热有机材料使其高温挥发后以材料分子状态透过掩膜板的开口蒸镀到基板上。
具体地，金属掩膜板包括框架和设置有开口的金属掩膜板，金属掩膜板焊接在框架上，蒸镀时，将框架设置在中空的载台上，将待蒸镀基板贴合放置在金属掩膜板上，在待蒸镀基板的背向金属掩膜板的一面设置磁力装置，将金属掩膜板吸合在待蒸镀基板上，在载台下方加热有机材料，有机材料高温挥发后穿过载台和框架并透过开口蒸镀到基板上。
其中，金属掩膜板是通过焊接固定到框架上的，在将金属掩膜板焊接到框架后，框架可能发生变形(例如边缘翘曲)，造成焊接在框架上的金属掩膜板也发生变形。当待蒸镀基板放置在金属掩膜板上时，待蒸镀基板和金属掩膜板之间会存在间隙，由于位于框架中部的金属掩膜板只有两端焊接在框架上，在磁力装置的磁力作用下被吸附贴合在待蒸镀基板上，而位于框架边缘的金属掩膜板整个焊接在框架上，框架变形时，磁力装置的磁力无法将其吸附到待蒸镀基板上，所以位于框架边缘的金属掩膜板和待蒸镀基板间存在较大的间隙。当有机材料从金属掩膜板的开口蒸镀到基板时，会在待蒸镀基板和金属掩膜板之间的间隙扩散，导致靠近框架边缘的蒸镀图形尺寸比正常像素大，厚度比正常厚度薄，最终导致OLED面板发生混色不良，产品良率下降。
发明内容
为了解决现有技术中由于框架变形造成有机材料开口蒸镀到基板时，靠近框架边缘的蒸镀图形尺寸比正常像素大，厚度比正常厚度薄的问题，本发明实施例提供了一种掩膜板载台和蒸镀系统。所述技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜板载台，所述掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具；所述至少两个矫正夹具被配置为将放置在所述底座上蒸镀用金属掩膜板的框架夹紧在所述底座上，所述底座上设有用于供有机材料通过的第一开口。
在本发明实施例的一种实现方式中，每个所述矫正夹具均包括支撑杆、L型连接杆和用于压紧所述框架的压合盘，所述支撑杆的一端安装在所述底座上，所述支撑杆的另一端连接所述L型连接杆的一端，所述L型连接杆的另一端设置有所述压合盘，所述压合盘用于提供夹紧所述框架的力。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述底座内部设有容纳腔，所述底座的顶面设置有与所述容纳腔连通的第二开口；所述矫正夹具具有第一状态和第二状态，当所述矫正夹具处于第一状态时，所述矫正夹具容置在所述容纳腔内，当所述矫正夹具处于第二状态时，所述矫正夹具将所述框架夹紧在所述底座上；所述第二开口用于供所述矫正夹具由所述第一状态转换为所述第二状态时穿过。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述支撑杆的一端可转动安装在所述容纳腔内，且所述支撑杆可绕所述支撑杆的一端在第一位置和第二位置间转动，当所述支撑杆处于所述第二位置时，所述支撑杆的长度方向与所述底座的顶面垂直，当所述支撑杆处于所述第一位置时，所述矫正夹具位于所述容纳腔内。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述第二开口包括长条槽和连接在所述长条槽一端的端部孔，所述长条槽的长度方向与所述支撑杆的一端转动所绕的转动轴垂直，所述支撑杆在所述底座的顶面的投影位于所述长条槽内，所述端部孔用于供所述L型连接杆和所述压合盘在所述支撑杆转动时穿过。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述矫正夹具还包括用于带动所述支撑杆转动的动力单元，所述动力单元与所述支撑杆连接。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述动力单元包括电机，所述电机设置在所述容纳腔内，所述电机的输出轴与所述支撑杆的转动轴同轴连接。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述动力单元包括伸缩缸和安装座，所述支撑杆的一端所绕的转动轴固定在所述安装座上，所述伸缩缸的一端可转动连接在所述容纳腔的底部上，所述伸缩缸的另一端可转动连接在所述支撑杆的中部，当所述伸缩缸伸长到第一长度时，所述支撑杆处于所述第二位置，当所述伸缩缸缩短到第二长度时，所述支撑杆处于所述第一位置。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述支撑杆为可伸缩杆。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述掩膜板载台还包括控制单元，所述控制单元用于在收到第一指令时，控制所述动力单元带动所述支撑杆从所述第一位置转动到所述第二位置，并在所述支撑杆处于所述第二位置时，控制所述支撑杆缩短；在收到第二指令时，控制所述支撑杆伸长，并在所述支撑杆伸长后，控制所述动力单元带动所述支撑杆从所述第二位置转动到所述第一位置。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述容纳腔内还设置有滑道，所述滑道从所述第二开口的下方延伸到所述底座的中部，所述矫正夹具可滑动的安装在所述滑道上。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述矫正夹具的支撑杆可转动地设置在所述底座上，所述支撑杆转动时带动所述压合盘在第三位置和第四位置之间变换，当所述压合盘处于第三位置时，所述压合盘压住所述框架，当所述压合盘处于第四位置时，所述支撑杆在所述底座的顶面上的投影，位于所述压合盘在所述底座的顶面上的投影和所述框架在所述底座的顶面上的投影之间。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述掩膜板载台包括4个矫正夹具，所述4个矫正夹具分别设置在矩形的四边或四顶点，所述矩形的四顶点与所述底座上的框架的四角对应。
第二方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀系统，包括蒸镀腔室、以及设置在所述蒸镀腔室内的掩膜板载台和金属掩膜板，所述金属掩膜板设置在所述掩膜板载台上，所述掩膜板载台为如第一方面任一项所述的掩膜板载台。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例提供的掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具，底座上设有第一开口，用于供有机材料通过，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜板载台上的至少两个矫正夹具压住金属掩膜板的框架，避免框架发生变形，这样当基板与金属掩膜板的表面压合后，基板与金属掩膜板之间的间隙减小甚至消除，蒸镀得到的图案形状及轮廓清晰，尺寸正常，达到改善混色不良、提高产品良率的目的。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是一种蒸镀系统的结构示意图；
图2是一种蒸镀系统的结构示意图；
图3是一种蒸镀系统的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种掩膜板载台的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图7是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图10是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图11是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图12是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图13是本发明实施例提供的另一种掩膜板载台的结构示意图；
图14是本发明实施例提供的一种底座的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
为了便于后文的描述，下面先结合附图1-图3对本发明实施例提供的掩膜板载台的应用场景进行说明：
图1是一种蒸镀系统的结构示意图，图2是图1提供的蒸镀系统的俯视结构图，参见图1和图2，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜板载台1设置在蒸镀腔室内，掩膜板载台1上设置有框架2，框架2上设置有金属掩膜板3(模具)。
其中，掩膜板载台1的外轮廓为柱状或台状，且掩膜板载台1中部设置有第一通孔10，第一通孔10贯穿掩膜板载台1的上下表面。框架2为台阶结构(包括具有第一平面21的第一级台阶，和具有第二平面22的第二级台阶，第二级台阶位于第一级台阶上，第一平面21即台阶结构的台阶面)，框架2可以通过螺栓连接等方式固定在掩膜板载台1的顶面上，框架2的中部设置第二通孔20，第二通孔20贯穿框架2的上下表面。金属掩膜板3通过焊接的方式固定在框架2的顶面的第二通孔20的开口处。金属掩膜板3上布置有与待蒸镀的有机膜层的图形对应的开口30。
图3是采用图1和图2所示的蒸镀系统进行的蒸镀过程示意图，参见图3，蒸镀时，将基板4需要生成有机膜层的一面贴合在金属掩膜板3上，在基板4的背向金属掩膜板3的一面设置磁力装置，将金属掩膜板3吸合在基板4上，在掩膜板载台1下方设置坩埚5，坩埚内5装有有机材料50，加热坩埚内的有机材料50，有机材料50高温挥发后穿过掩膜板载台1和框架2并透过开口30蒸镀到基板4上，形成有机膜层。
在上述结构中，由于金属掩膜板3是通过焊接固定到框架2上的，在将金属掩膜板3焊接到框架2后，框架2可能发生变形(例如边缘翘曲)，造成焊接在框架2上的金属掩膜板3也发生变形，导致基板4和金属掩膜板3之间存在间隙，由于位于框架2中部的金属掩膜板3只有两端焊接在框架2上，在磁力装置的磁力作用下被吸附贴合在基板4上，而位于框架2两侧的金属掩膜板3整个焊接在框架2上，框架2变形时，磁力装置的磁力无法将其吸附到基板4上，所以位于框架2两侧的金属掩膜板3和基板4间存在较大的间隙。当有机材料50从金属掩膜板3的开口30蒸镀到基板4时，会在基板4和金属掩膜板3之间的间隙扩散，导致靠近框架2两侧的图形尺寸比正常尺寸大，厚度比正常厚度薄，最终导致OLED面板发生混色不良，产品良率下降。
为了解决上述问题，本发明实施例提出了一种具有矫正夹具的掩膜板载台。
图4是本发明实施例提供的一种掩膜板载台的结构示意图，参见图4，该掩膜板载台包括底座100和相互间隔设置在所述底座100上的至少两个矫正夹具101；所述至少两个矫正夹具101被配置为将放置在所述底座100上蒸镀用金属掩膜板的框架2夹紧在所述底座100上，所述底座100上设有用于供有机材料通过的第一开口100A。
本发明实施例提供的掩膜板载台包括底座100和相互间隔设置在所述底座100上的至少两个矫正夹具101，底座100上设有第一开口，用于供有机材料通过，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜板载台上的至少两个矫正夹具压住金属掩膜板的框架，避免框架发生变形，这样当基板与金属掩膜板的表面压合后，基板与金属掩膜板之间的间隙减小甚至消除，蒸镀得到的图案形状及轮廓清晰，尺寸正常，达到改善混色不良、提高产品良率的目的。
其中，底座100为一柱形结构，包括但不限于圆柱、棱柱等结构。框架2固定在底座100顶面的中部，框架2位于第一开口100A的上方，其中，第一开口100A与框架2的第二通孔20连通，且第二通孔20在底座100顶面上的投影位于第一开口100A内，或者第二通孔20在底座100顶面上的投影与第一开口100A重合。第一开口100A的形状可以为圆形、矩形等规则图形，也可以为不规则图形。
如图4所示，每个所述矫正夹具101均包括支撑杆111、L型连接杆112和用于压紧框架2的压合盘113，所述支撑杆111的一端安装在所述底座100上，所述支撑杆111的另一端连接所述L型连接杆112的一端，所述L型连接杆112的另一端设置有所述压合盘113，所述压合盘113用于提供夹紧所述框架的力。矫正夹具101包括支撑杆111、L型连接杆112和压合盘113，其中支撑杆111一端安装在底座100上，保证了矫正夹具101的安装固定，在支撑杆111的另一端通过L型连接杆112设置压合盘113，通过压合盘113的压合平面实现对框架的装夹作用。
在本发明实施例中，支撑杆111和L型连接杆112的截面形状可以为圆形、矩形等。支撑杆111和L型连接杆112可以为金属杆，保证整个夹具的强度。
在本发明实施例中，压合盘113的作用是对框架进行压紧，其形状可以为圆柱形或者棱柱形，方便制作和使用。
在本发明实施例中，L型连接杆112包括横杆以及与横杆连接的竖杆。支撑杆111、L型连接杆112的横杆和竖杆之间的连接方式包括如下两种：第一种连接方案，支撑杆111和L型连接杆112之间、L型连接杆112的横杆和竖杆之间采用固定连接，例如采用螺纹连接，或者在制作时采用一体成型设计；第二种连接方案，支撑杆111和L型连接杆112之间、L型连接杆112的横杆和竖杆之间采用可转动方式连接，例如可以采用铰接的方式实现支撑杆111和L型连接杆112之间、L型连接杆112的横杆和竖杆之间的转动连接。
在第二种连接方案中，由于支撑杆111和L型连接杆112之间、L型连接杆112的横杆和竖杆之间可以相互转动，所以为了实现压合盘113的压紧作用，其具体可以采用如下两种设计，在一种实现方式中，压合盘113可以依靠自身重力对框架进行压紧，此时压合盘113的重量较大，例如可以采用高密度的金属(例如铜)制成；在另一种实现方式中，压合盘113还可以依靠外部动力对框架进行压紧，例如，该矫正夹具101还包括压力组件，该压力组件用于在压合盘113位于框架上方时，对压合盘113施加作用力，使其压紧框架，例如图4所示，可以在L型连接杆112和底座100间连接一弹性部件(例如弹簧)101A，在框架2及金属掩膜板3装配完成前，弹性部件101A一端固定在L型连接杆112或底座100上，另一端松开，当框架2及金属掩膜板装3配完成后，将弹性部件101A的另一端连接到底座100或L型连接杆112上，从而对压合盘113施加向下的拉力，使其压紧框架2，如图4所示。具体地，可以在底座100或L型连接杆112上设置一个卡环或者卡钩，以方便弹性部件101A的另一端与之连接。
图4示出的是矫正夹具101工作时的结构示意图，为了便于矫正夹具101的使用，本发明实施例提供的实施例可以具有两种状态，一种工作状态和一种非工作状态，非工作状态可以采用如下两种设计：具体参见图5-图13所示。
在本发明实施例的一种实现方式中，本发明实施例提供的掩膜板载台可以采用如图5-图7所示的结构。
参见图5-图7，所述底座100内部设有容纳腔100B，所述底座100的顶面(设有框架2的一面)设置有与所述容纳腔100B连通的第二开口100C；所述矫正夹具101具有第一状态(也即前文的非工作状态)和第二状态(也即前文的工作状态)，当所述矫正夹具101处于第一状态时，所述矫正夹具101容置在所述容纳腔100B内，当所述矫正夹具101处于第二状态时，所述矫正夹具101将所述框架2夹紧在所述底座100上；所述第二开口100C用于供所述矫正夹具101由所述第一状态转换为所述第二状态时穿过。通过底座100的容纳腔100B来收纳不工作时的夹具，避免在蒸镀前对装配框架、基板等过程造成影响。
如图5-图7所示，容纳腔100B和第一开口100A相互连通，方便底座100的制作加工。
如图5-图7所示，所述支撑杆111的一端可转动安装在所述底座100的容纳腔100B内，且所述支撑杆111可绕所述支撑杆111的一端在第一位置和第二位置间转动，当支撑杆111处于第二位置时，所述支撑杆111的长度方向与所述底座100的顶面垂直(如图6、图7所示)，当支撑杆111处于第一位置时，所述矫正夹具101位于容纳腔100B内(如图5所示)。在转动支撑杆111的过程中，整个矫正夹具101通过第二开口100C伸出或缩回容纳腔100B。
进一步地，为了保证整个矫正夹具101能够顺利通过第二开口100C，该第二开口100C包括两个部分，具体包括长条槽100D和连接在长条槽100D一端的端部孔100E，其中，长条槽100D的长度方向与支撑杆111的一端转动所绕的转动轴垂直，支撑杆111在底座100的顶面的投影位于长条槽100D内，端部孔100E用于供L型连接杆112和压合盘113在所述支撑杆111转动时穿过。其中，端部孔100E具体可以为圆形、矩形等。
在本发明实施例中，所述矫正夹具101还包括带动支撑杆111转动的动力单元，所述动力单元与所述支撑杆111连接。
参见图6和图7所示，在该实现方式中，所述动力单元包括电机114，电机114设置在底座100的容纳腔100B内，电机114的输出轴与支撑杆111的转动轴同轴连接。当电机114转动时，带动支撑杆111在第一位置和第二位置之间转动，从而实现整个矫正夹具101的运动。
为了保证动力单元能够提供足够的动力，支持支撑杆111转动，动力单元除了包括电机114外，还可以包括减速机，减速机连接在电机114的输出轴和支撑杆111的转动轴之间(也即减速机的输入轴与电机的输出轴同轴连接，减速机的输出轴与支撑杆的转动轴同轴连接)，减速机用于降低转速，增加转矩，从而保证动力单元提供给支撑杆111的动力。
除了采用图6和图7提供的动力单元实现支撑杆111的转动外，本发明实施例还提供了一种动力单元的形式，如图8和图9所示，具体图8和图9示出的为底座100的截面图。参见图8和图9，动力单元包括伸缩缸115和安装座116，支撑杆111的转动轴固定在安装座116上，伸缩缸115的一端可转动连接在底座100中容纳腔100B的底部上，伸缩缸115的另一端可转动连接在支撑杆111的中部，当伸缩缸115伸长到第一长度时，支撑杆111处于第二位置，当伸缩缸115缩短到第二长度时，支撑杆111处于第一位置。通过控制伸缩缸115的伸缩，即可实现对整个矫正夹具101的状态控制。其中，安装座116固定在容纳腔的底部，且位于第二开口100C下方。
其中，伸缩缸包括但不限于液压缸和气缸。当伸缩缸115为液压缸和气缸时，容易知道，该动力单元还包括用于向液压缸和气缸内泵入液体或其他的泵。
在本发明实施例中，当采用图5-图7所示的方案或者图8-图9所示的方案，将非工作状态的矫正夹具101收纳在容纳腔100B中时，除了需要控制支撑杆111转动外，还要保证支撑杆111转动过程不会被框架2挡住，当支撑杆111转动到第二位置时，压合盘113能够顺利压紧框架2，所以在从第一位置转动到第二位置的过程中，支撑杆111的长度应该大于支撑杆111到达第二位置后的长度。
为了实现该目的，本发明实施例提供的支撑杆111可以为可伸缩杆，支撑杆111在转动过程中，支撑杆111处于伸长状态，当支撑杆111达到第二位置时，支撑杆111开始缩短，从而带动压合盘113压住框架2。
在该实现方式中，压合盘113可以通过支撑杆111收缩的拉力压紧框架2。为了保证支撑杆111收缩时能够压紧框架2，矫正夹具101采用前述第一种连接方案，即支撑杆111和L型连接杆112之间、L型连接杆112的横杆和竖杆之间采用固定连接。
其中，该可伸缩杆可以为液压杆、电动升降螺杆等，本发明实施例对此不做限制。当可伸缩杆为液压杆时，容易知道，该支撑杆111还包括用于向液压杆泵入液体或其他的泵。
在本发明实施例中，所述掩膜板载台还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述动力单元工作，所述控制单元还用于控制所述支撑杆111的长度。采用控制单元控制动力单元和支撑杆111工作，保证矫正夹具101的正常工作。
具体地，控制单元用于在收到第一指令时，控制动力单元带动支撑杆从第一位置转动到第二位置，在支撑杆处于第二位置时，控制支撑杆111缩短；在收到第二指令时，控制支撑杆111伸长，并在支撑杆111伸长后，控制动力单元带动支撑杆从第二位置转动到第一位置。其中，第一指令和第二指令可以由工作人员输入，第一指令用于指示矫正夹具101开始工作，而第二指令用于指示矫正夹具101结束工作。
其中，当动力单元或支撑杆采用液压缸或液压杆时，控制单元控制时直接控制为其提供液体的泵即可。
采用图5-图7所示的方案或者图8-图9所示的方案实现时，支撑杆111的第二位置相同，而支撑杆111的第一位置稍有不同。在图6和图7示出的实现方式中，支撑杆111位于第一位置时，支撑杆111横向(与底座100的顶面平行)布置在底座100的容纳腔100B内；而在图8和图9示出的实现方式中，参见图8，支撑杆111倾斜设置在底座100的容纳腔100B内。
可选地，所述底座100的容纳腔100B内还设置有滑道1140，所述滑道1140从所述第二开口100C的下方延伸到所述底座100的中部，所述矫正夹具101可滑动的安装在所述滑道1140上。矫正夹具101可以通过所述滑道1140在容纳腔100B内横向运动，所述横向运动为在平行于所述底座100的顶面的平面内运动，例如从第二开口100C下方运动到容纳腔100B中部，从而实现在矫正夹具101处于非工作状态时，可以完全隐藏，以实现保护。
图10和图11是以图6和图7的结构为基础示出的滑道的结构图，通过滑道1140可以实现支撑杆111、L型连接杆112、压合盘113和电机114在两个位置间运动。
其中，滑道具体可以包括滑轨、滑块和驱动电机，滑块上设置齿条，驱动电机的输出轴设置齿轮，齿轮齿条啮合，进而通过驱动电机带动滑块滑动。
进一步地，控制单元用于在收到第一指令时，先控制驱动电机，使动力单元和支撑杆被运输到第二开口下方，然后执行后续控制动作。同样，在矫正夹具101使用完毕收回容纳腔时，控制驱动电机，使动力单元和支撑杆被运输远离第二开口下方。
在本发明实施例的另一种实现方式中，本发明实施例提供的掩膜板载台可以采用如图12和图13所示的结构，参见图12和图13，所述矫正夹具101的支撑杆111可转动地设置在所述底座100上，所述支撑杆111转动时带动所述压合盘113在第三位置和第四位置之间变换，当所述压合盘113处于第三位置时(如图13所示)，所述压合盘113的压合平面压住所述框架，当所述压合盘113处于第四位置时(如图12所示)，所述支撑杆111在所述底座100的顶面上的投影，位于所述压合盘113在所述底座100的顶面上的投影和所述框架2在所述底座100的顶面上的投影之间。当矫正夹具101开始工作时，支撑杆111转动使压合盘113从第三位置转动到第四位置，当矫正夹具101结束工作时，支撑杆111转动使压合盘113从第四位置转动到第三位置。通过转动支撑杆111来调整压合盘113的位置，使得蒸镀时压合盘113能够起到矫正效果，不工作时，压合盘113不会影响框架、基板等的装配。
如图12和图13所示，在该实现方式中，支撑杆111的下端穿过底座100的顶面，与设置底座100内的动力机构117连接，动力机构117转动从而带动支撑杆111转动。具体地，底座100的顶面设有通孔100D，支撑杆111的下端穿过底座100上设置的通孔100D。其中，动力机构117可以选用电机实现。该动力机构117可以采用控制单元控制，控制单元的具体实现方式参考另一种实现方式中关于控制单元的描述，这里不做限制。
其中，通孔100D具体可以为圆形孔，或其他规则或不规则形状的通孔。
在该实现方式中，动力机构117除了可以设置在底座100内，也可以直接设置在底座100的顶面上，相比而言，将动力机构117设置在底座100内，能够节省空间。
在该实现方式中，矫正夹具101既可以采用前述第一种连接方案，也可以采用前述第二种连接方案。
在本发明实施例中，所述掩膜板载台包括4个矫正夹具101，所述4个矫正夹具101分别设置在矩形的四边或四顶点，所述矩形的四顶点与设置在所述底座100上的框架2的四角对应。其中，矩形的四顶点与设置在所述底座100上的框架2的四角对应是指，该矩形的四条边分别与框架2的四角构成的矩形的四条边平行。通过设置4个夹具，能够保证对框架各个方向的压合，保证了压合效果从而保证蒸镀图形的质量。
具体地，4个矫正夹具101分别设置在矩形的四边可以参见图5所示的结构。4个矫正夹具101分别设置在矩形的四顶点可以参见图14所示的结构，其中，图14是本发明实施例提供的一种底座的结构示意图，如图14所示，底座100可以为长方体，当掩膜板载台包括4个矫正夹具101时，底座100上的通孔100D可以如图所示，布置在长方体顶面的四角，4个通孔100D形成的矩形的四个顶点与所述底座100上的框架2的四角对应。
本发明实施例还提供了一种蒸镀系统，该蒸镀系统包括蒸镀腔室、以及设置在所述蒸镀腔室内的掩膜板载台和金属掩膜板，所述金属掩膜板设置在所述掩膜板载台上，所述掩膜板载台为图4至图14任一幅所示的掩膜板载台。
本发明实施例提供的掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具，底座上设有第一开口，用于供有机材料通过，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜板载台上的至少两个矫正夹具压住金属掩膜板的框架，避免框架发生变形，这样当基板与金属掩膜板的表面压合后，基板与金属掩膜板之间的间隙减小甚至消除，蒸镀得到的图案形状及轮廓清晰，尺寸正常，达到改善混色不良、提高产品良率的目的。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种掩膜板载台，其特征在于，所述掩膜板载台包括底座和相互间隔设置在所述底座上的至少两个矫正夹具；所述至少两个矫正夹具被配置为将放置在所述底座上蒸镀用金属掩膜板的框架夹紧在所述底座上，所述底座上设有用于供有机材料通过的第一开口。
2.根据权利要求1所述的掩膜板载台，其特征在于，每个所述矫正夹具均包括支撑杆、L型连接杆和用于压紧所述框架的压合盘，所述支撑杆的一端安装在所述底座上，所述支撑杆的另一端连接所述L型连接杆的一端，所述L型连接杆的另一端设置有所述压合盘，所述压合盘用于提供夹紧所述框架的力。
3.根据权利要求2所述的掩膜板载台，其特征在于，所述底座内部设有容纳腔，所述底座的顶面设置有与所述容纳腔连通的第二开口；所述矫正夹具具有第一状态和第二状态，当所述矫正夹具处于第一状态时，所述矫正夹具容置在所述容纳腔内，当所述矫正夹具处于第二状态时，所述矫正夹具将所述框架夹紧在所述底座上；所述第二开口用于供所述矫正夹具由所述第一状态转换为所述第二状态时穿过。
4.根据权利要求3所述的掩膜板载台，其特征在于，所述支撑杆的一端可转动安装在所述容纳腔内，且所述支撑杆可绕所述支撑杆的一端在第一位置和第二位置间转动，当所述支撑杆处于所述第二位置时，所述支撑杆的长度方向与所述底座的顶面垂直，当所述支撑杆处于所述第一位置时，所述矫正夹具位于所述容纳腔内。
5.根据权利要求4所述的掩膜板载台，其特征在于，所述第二开口包括长条槽和连接在所述长条槽一端的端部孔，所述长条槽的长度方向与所述支撑杆的一端转动所绕的转动轴垂直，所述支撑杆在所述底座的顶面的投影位于所述长条槽内，所述端部孔用于供所述L型连接杆和所述压合盘在所述支撑杆转动时穿过。
6.根据权利要求4所述的掩膜板载台，其特征在于，所述矫正夹具还包括用于带动所述支撑杆转动的动力单元，所述动力单元与所述支撑杆连接。
7.根据权利要求6所述的掩膜板载台，其特征在于，所述动力单元包括电机，所述电机设置在所述容纳腔内，所述电机的输出轴与所述支撑杆的转动轴同轴连接。
8.根据权利要求6所述的掩膜板载台，其特征在于，所述动力单元包括伸缩缸和安装座，所述支撑杆的一端所绕的转动轴固定在所述安装座上，所述伸缩缸的一端可转动连接在所述容纳腔的底部上，所述伸缩缸的另一端可转动连接在所述支撑杆的中部，当所述伸缩缸伸长到第一长度时，所述支撑杆处于所述第二位置，当所述伸缩缸缩短到第二长度时，所述支撑杆处于所述第一位置。
9.根据权利要求6所述的掩膜板载台，其特征在于，所述支撑杆为可伸缩杆。
10.根据权利要求9所述的掩膜板载台，其特征在于，所述掩膜板载台还包括控制单元，所述控制单元用于在收到第一指令时，控制所述动力单元带动所述支撑杆从所述第一位置转动到所述第二位置，并在所述支撑杆处于所述第二位置时，控制所述支撑杆缩短；在收到第二指令时，控制所述支撑杆伸长，并在所述支撑杆伸长后，控制所述动力单元带动所述支撑杆从所述第二位置转动到所述第一位置。
11.根据权利要求6所述的掩膜板载台，其特征在于，所述容纳腔内还设置有滑道，所述滑道从所述第二开口的下方延伸到所述底座的中部，所述矫正夹具可滑动的安装在所述滑道上。
12.根据权利要求2所述的掩膜板载台，其特征在于，所述矫正夹具的支撑杆可转动地设置在所述底座上，所述支撑杆转动时带动所述压合盘在第三位置和第四位置之间变换，当所述压合盘处于第三位置时，所述压合盘压住所述框架，当所述压合盘处于第四位置时，所述支撑杆在所述底座的顶面上的投影，位于所述压合盘在所述底座的顶面上的投影和所述框架在所述底座的顶面上的投影之间。
13.根据权利要求1至12任一项所述的掩膜板载台，其特征在于，所述掩膜板载台包括4个矫正夹具，所述4个矫正夹具分别设置在矩形的四边或四顶点，所述矩形的四顶点与所述底座上的框架的四角对应。
14.一种蒸镀系统，包括蒸镀腔室、以及设置在所述蒸镀腔室内的掩膜板载台和金属掩膜板，所述金属掩膜板设置在所述掩膜板载台上，其特征在于，所述掩膜板载台为如权利要求1至13任一项所述的掩膜板载台。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108660415A (zh) * 2018-05-24 2018-10-16 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板的制备方法、制备装置及掩膜板
CN113308666A (zh) * 2020-02-26 2021-08-27 皮姆思株式会社 平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法
CN113355635A (zh) * 2021-06-15 2021-09-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备
CN113829734A (zh) * 2021-09-27 2021-12-24 广东阿特斯科技有限公司 一种液晶板材手机背板生产线设备
CN114540769A (zh) * 2022-01-17 2022-05-27 合肥莱德装备技术有限公司 一种集成式蒸镀系统及多基板蒸镀装置
CN115305449A (zh) * 2022-07-15 2022-11-08 中国船舶重工集团公司第七一三研究所 一种高精度金属化掩膜装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN214327871U (zh) * 2020-12-10 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种夹具、托盘以及溅射系统

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1131810A (zh) * 1994-10-28 1996-09-25 松下电子工业株式会社 彩色阴极射线管装置
US5608773A (en) * 1993-11-30 1997-03-04 Canon Kabushiki Kaisha Mask holding device, and an exposure apparatus and a device manufacturing method using the device
US5681638A (en) * 1994-04-27 1997-10-28 Canon Kabushiki Kaisha Substrate, and method and apparatus for holding the substrate
JP2000178732A (ja) * 1998-12-15 2000-06-27 Rohm Co Ltd 半導体ウエハーに対する蒸着用マスク板の重ね固定方法及びその装置
JP2001143615A (ja) * 1999-09-03 2001-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd シャドウマスク用フレームの製造方法および製造装置
CN1795283A (zh) * 2003-05-28 2006-06-28 艾克斯特朗股份公司 荫罩保持装置
KR20120113617A (ko) * 2011-04-05 2012-10-15 주식회사 케이피에스 마스크 프레임 가압변형장치 및 이를 이용한 마스크 조립체 제작시스템
US20120279445A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-08 Yong-Hwan Kim Split mask and assembling apparatus for assembling a mask frame assembly including the split mask
DE102012203404A1 (de) * 2012-03-05 2013-09-05 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrat- und Matrizenhalteeinrichtung zur Transferbedampfung von Substraten
US20140331926A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly and method for fabricating the same
CN105810853A (zh) * 2016-05-19 2016-07-27 京东方科技集团股份有限公司 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法
CN205528994U (zh) * 2016-01-21 2016-08-31 江苏辉伦太阳能科技有限公司 一种用于太阳电池背面镀膜的掩膜装置
US20160301006A1 (en) * 2013-12-27 2016-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing frame-equipped vapor deposition mask, stretching apparatus, apparatus for producing organic semiconductor device and method for producing organic semiconductor device
CN205653503U (zh) * 2016-06-01 2016-10-19 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种掩膜板框架模组
CN207176059U (zh) * 2017-09-06 2018-04-03 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板载台和蒸镀系统

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180034771A (ko) * 2016-09-27 2018-04-05 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이를 포함하는 증착 장치, 및 마스크 조립체의 제조방법

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5608773A (en) * 1993-11-30 1997-03-04 Canon Kabushiki Kaisha Mask holding device, and an exposure apparatus and a device manufacturing method using the device
US5681638A (en) * 1994-04-27 1997-10-28 Canon Kabushiki Kaisha Substrate, and method and apparatus for holding the substrate
CN1131810A (zh) * 1994-10-28 1996-09-25 松下电子工业株式会社 彩色阴极射线管装置
JP2000178732A (ja) * 1998-12-15 2000-06-27 Rohm Co Ltd 半導体ウエハーに対する蒸着用マスク板の重ね固定方法及びその装置
JP2001143615A (ja) * 1999-09-03 2001-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd シャドウマスク用フレームの製造方法および製造装置
CN1795283A (zh) * 2003-05-28 2006-06-28 艾克斯特朗股份公司 荫罩保持装置
KR20120113617A (ko) * 2011-04-05 2012-10-15 주식회사 케이피에스 마스크 프레임 가압변형장치 및 이를 이용한 마스크 조립체 제작시스템
US20120279445A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-08 Yong-Hwan Kim Split mask and assembling apparatus for assembling a mask frame assembly including the split mask
DE102012203404A1 (de) * 2012-03-05 2013-09-05 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Substrat- und Matrizenhalteeinrichtung zur Transferbedampfung von Substraten
US20140331926A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly and method for fabricating the same
US20160301006A1 (en) * 2013-12-27 2016-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for producing frame-equipped vapor deposition mask, stretching apparatus, apparatus for producing organic semiconductor device and method for producing organic semiconductor device
CN205528994U (zh) * 2016-01-21 2016-08-31 江苏辉伦太阳能科技有限公司 一种用于太阳电池背面镀膜的掩膜装置
CN105810853A (zh) * 2016-05-19 2016-07-27 京东方科技集团股份有限公司 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法
CN205653503U (zh) * 2016-06-01 2016-10-19 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种掩膜板框架模组
CN207176059U (zh) * 2017-09-06 2018-04-03 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板载台和蒸镀系统

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108660415A (zh) * 2018-05-24 2018-10-16 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板的制备方法、制备装置及掩膜板
CN108660415B (zh) * 2018-05-24 2020-06-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板的制备方法、制备装置及掩膜板
CN113308666A (zh) * 2020-02-26 2021-08-27 皮姆思株式会社 平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法
CN113308666B (zh) * 2020-02-26 2023-06-30 皮姆思株式会社 平坦度得到改善的薄膜蒸镀用掩膜组装体及其制造方法
CN113355635A (zh) * 2021-06-15 2021-09-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备
CN113355635B (zh) * 2021-06-15 2023-01-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备
CN113829734A (zh) * 2021-09-27 2021-12-24 广东阿特斯科技有限公司 一种液晶板材手机背板生产线设备
CN114540769A (zh) * 2022-01-17 2022-05-27 合肥莱德装备技术有限公司 一种集成式蒸镀系统及多基板蒸镀装置
CN115305449A (zh) * 2022-07-15 2022-11-08 中国船舶重工集团公司第七一三研究所 一种高精度金属化掩膜装置

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