CN107761051B - 一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙，间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料，从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题。包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。

Description

一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板具有自发光、反应快、亮度高、轻薄等诸多优点，已经逐渐成为显示领域的主流。

OLED显示面板包括阵列排布的多个子像素单元，每一个子像素单元包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机电致发光材料形成，目前主要采用掩模版并通过蒸镀工艺制作在各子像素单元中。掩模版上具有构图图案，随着屏幕PPI(Pixels Per Inch，每英寸内拥有的像素数目)的增多，掩模版上的构图图案区域也需要进一步精细化。

对于制作大尺寸OLED显示面板，由于掩模版尺寸较大，通常采用张网的方式提高掩模版的平整度，并且需要在掩模版上位于掩模图案以外的区域设置沿张网拉伸方向延伸的支撑条，以对掩模版提供支撑。

但是，一方面，在张网拉伸的作用力下，支撑条靠近中心的部分容易发生上翘变形；另一方面，支撑条通常是通过两端焊接的方式固定在掩模版上，由于焊接点通常会凸出于掩模版的表面，在将掩模版与待蒸镀基板之间贴合时，支撑条焊接固定的位置处的掩模版与待蒸镀基板之间会存在较大的间隙难以紧密贴合，这就导致在掩模蒸镀过程中，间隙位置处也侵入沉积有膜层，导致待蒸镀基板上形成的掩模蒸镀图案变形，从而导致掩模蒸镀的精度下降，甚至由于掩模蒸镀图案出错而导致待显示面板发生显示异常，致使制作完成的显示面板报废。

发明内容

本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置，能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙，间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料，从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种掩模版，包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。

进一步的，升降组件至少包括一个升降平面，支撑条的端部投影于升降平面的边界范围内，升降平面带动支撑条的端部移动。

优选的，升降平面上设置有镂空区域，镂空区域对应支撑条和掩模版框架之间的固定位置。

进一步的，升降组件还包括在升降平面背离支撑条的一侧设置的弹性元件，弹性元件能够拉动升降平面朝向掩模版框架的方向移动。

优选的，在掩模版框架设置支撑条的一侧表面设置有凹槽，升降组件设置于凹槽内。

优选的，升降平面至少在靠近支撑条的一侧边缘设置有连接板，连接板的一侧与升降平面的侧边铰接、相对的另一侧与掩模版本体铰接。

本发明实施例的另一方面，提供一种掩模蒸镀组件，包括上述任一项的掩模版，还包括载板，用于承载固定待蒸镀基板，载板承载待蒸镀基板的一侧朝向掩模版。在载板上正投影于升降组件的位置处还设置有电磁吸附部件；升降组件上设置有磁性金属部件，或者，升降组件包含磁性金属材料。

进一步的，载板朝向掩模版的一侧设置有凹陷部，电磁吸附部件设置在凹陷部内且电磁吸附部件的表面与载板朝向掩模版的一侧表面位于同一平面内。

优选的，在电磁吸附部件和/或磁性金属部件表面还设置有缓冲层。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室，以及设置在蒸镀腔室内的蒸镀源，还包括上述的掩模蒸镀组件。

本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置，包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。通过设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置的升降组件，在掩模版本体与待蒸镀基板之间对位贴合时，由升降组件带动支撑条的端部朝向待蒸镀基板的方向移动，从而减小掩模版本体靠近支撑条焊接位置处与待蒸镀基板之间的较大的间隙，提高掩模版与待蒸镀基板之间的贴合程度，优化待蒸镀基板的蒸镀效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种掩模版的结构示意图之一；

图2为图1的A-A剖视图之一；

图3为本发明实施例提供的一种掩模版的结构示意图之二；

图4为图3的P区域的局部放大图；

图5为图1的A-A剖视图之二；

图6为图1的A-A剖视图之三；

图7为图1的A-A剖视图之四；

图8为本发明实施例提供的一种掩模蒸镀组件的结构示意图之一；

图9为本发明实施例提供的一种掩模蒸镀组件的结构示意图之二；

图10为本发明实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图。

附图标记：

10-掩模版本体；11-掩模版框架；110-凹槽；12-掩模部分；121-掩模图案区域；122-无效区域；20-支撑条；30-升降组件；31-升降平面；311-镂空区域；32-弹性元件；33-连接板；40-待蒸镀基板；50-掩模版；60-载板；61-电磁吸附部件；62-凹陷部；63-缓冲层；70-蒸镀腔室；80-蒸镀源；90-掩模蒸镀组件；P-局部放大区域。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种掩模版，如图1所示，包括：掩模版本体10，掩模版本体10包括掩模版框架11以及掩模版框架11环绕的掩模部分12，掩模部分12包括多个掩模图案区域121以及相邻掩模图案区域121之间的无效区域122。支撑条20，支撑条20的两端固定在掩模版框架11上，且支撑条20跨设于掩模部分12并投影于无效区域122内，用于支撑掩模版本体10。如图2所示，还包括升降组件30，升降组件30设置在掩模版框架11上对应支撑条20的端部位置，升降组件30能够带动支撑条20的端部沿垂直于掩模版框架11所在平面朝向远离掩模版框架11的方向移动。

需要说明的是，第一，如图1所示，本发明实施例中掩模版本体10包括的掩模版框架11通常为矩形框架，矩形框架中心所环绕的同为矩形的区域为掩模部分12，掩模部分12即在膜层蒸镀时用于在待蒸镀基板的显示区域形成膜层图案的部分。本发明实施例中对于掩模版本体10中的掩模版框架11以及掩模部分12的具体形状不做限定，本领域技术人员可以根据待蒸镀基板所需蒸镀的图案形状进行具体设置，只要保证掩模版框架11为首尾相接的封闭环形，掩模部分12包围于掩模版框架11的封闭环形内即可。

第二，通常情况下，如图1所示，掩模部分12中包括有多个掩模图案区域121，用于对应待蒸镀基板上显示区域以蒸镀形成对应的膜层图案，在相邻的掩模图案区域121之间还包括有无效区域122，通常，无效区域122对应于待蒸镀基板的非显示区域部分，无效区域122在蒸镀时通常为遮挡状态，即不在无效区域122的位置处蒸镀形成膜层。示例的，对于精细金属掩模，通常为将包括有多个掩模图案的掩模条在张网拉伸的状态下，两端分别焊接固定在掩模版框架11上相对的两侧边，在同一掩模条上相邻掩模图案之间，或者在相邻两掩模条之间，均为无效区域122。

第三，如图2所示，支撑条20的两端固定在掩模版框架11上，通常支撑条20是在沿其长度方向张网拉伸的状态下，通过焊接的方式，将支撑条20的两端固定在掩模版框架11相对的两侧边上表面。如图1所示，支撑条20跨设于掩模部分12以对掩模版本体10的掩模部分12进行支撑。本领域技术人员应当知晓，为了避免在蒸镀操作时跨设于掩模部分12的支撑条20对掩模图案区域121造成遮挡，支撑条20应当设置在投影于无效区域122内的位置。

第四，如图2所示，张网拉伸状态下焊接固定在掩模版框架11上的支撑条20，在其靠近中心的部分容易发生上翘变形，在掩模版向上移动与待蒸镀基板(图2中未示出，以如图2所示的位置关系，待蒸镀基板应设置在掩模版的上方)贴合时，支撑条20的上翘的部分首先与待蒸镀基板之间贴合，以使得支撑条20与待蒸镀基板之间存在较大的间隙难以贴合。而且，支撑条20两端的焊接位置相对于其他位置凸起，也使得焊接位置周边与待蒸镀基板之间难以紧密贴合。因此，在掩模版框架11上对应支撑条20的端部位置设置升降组件30，以使得升降组件30能够沿如图2中箭头所示的方向带动支撑条20的端部移动，从而提高支撑条20的端部与待蒸镀基板之间的贴合度。

第五，为了避免升降组件与掩模版框架之间在相对运动过程中发生摩擦产生微粒微尘，影响掩膜蒸镀，本发明中可以在升降组件与掩膜版框架接触的一侧设置由软性不产尘的材料支撑的保护层，或者，也可以使用软性不产尘的材料制作升降组件。

本发明实施例提供一种掩模版，包括：掩模版本体，掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分，掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条，支撑条的两端固定在掩模版框架上，且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内，用于支撑掩模版本体。升降组件，设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置，升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。通过设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置的升降组件，在掩模版本体与待蒸镀基板之间对位贴合时，由升降组件带动支撑条的端部朝向待蒸镀基板的方向移动，从而减小掩模版本体靠近支撑条焊接位置处与待蒸镀基板之间的较大的间隙，提高掩模版与待蒸镀基板之间的贴合程度，优化待蒸镀基板的蒸镀效果。

进一步的，如图3所示，升降组件30至少包括一个升降平面31，支撑条20的端部投影于升降平面31的边界范围内，升降平面31带动支撑条20的端部移动。

这样一来，如图3所示，升降平面31设置在掩模版框架11与支撑条20的端部之间，升降平面31能够沿垂直于掩模版框架11的方向移动，在升降平面31的驱动作用下，支撑条20的端部随着升降平面31的移动而移动，使得的支撑条20的端部能够向待蒸镀基板的方向贴合。由于支撑条20的端部投影于升降平面31的边界范围内，可知升降平面31的表面大于支撑条20的端部的范围，以使得在升降平面31在带动支撑条20的端部移动的过程中，支撑条20端部的运动较为平稳，减轻晃动。

需要说明的是，本发明实施例的升降组件30中至少包括一个升降平面31，通过升降平面31带动支撑条20的端部移动，此外，升降组件30的其他结构本发明中不进行具体限定，示例的，本发明实施例中不限定驱动升降平面31移动的具体方式(图3中未示出驱动升降平面31的部件的具体结构和设置位置)，例如可以为驱动件驱动、电磁驱动、弹性元件驱动等。只要保证升降平面31带动支撑条20的端部的移动方向为沿垂直于掩模版框架11所在平面朝向远离掩模版框架11的方向即可。

优选的，如图4所示，升降平面31上设置有镂空区域311，镂空区域311对应支撑条20和掩模版框架11之间的固定位置。

如图4所示，在升降平面31上设置有镂空区域311，且镂空区域311的设置位置与支撑条20在掩模版框架11上的固定连接位置相对应，示例的，支撑条20通过焊接的方式固定在掩模版框架11上时，镂空区域311位于支撑条20与掩模版框架11的焊接点处，这样一来，如图2所示，由于焊接点处的支撑条20较为突出，升降平面31在带动支撑条20的端部移动时，通过设置的镂空区域311避开焊接点，而是对支撑条20焊接点周边的区域施加作用力向上移动，使得支撑条20焊接点的周边产生一定程度的形变，从而缩小支撑条20的端部与待蒸镀基板之间的间隙，而且避免支撑条20的焊接点处的突出对待蒸镀基板造成损伤。

进一步的，如图5所示，升降组件30还包括在升降平面31背离支撑条20的一侧设置的弹性元件32，弹性元件32能够拉动升降平面31朝向掩模版框架11的方向移动。

如图5所示，在升降平面31推动支撑条20与待蒸镀基板40之间贴合并完成掩模蒸镀后，可以在撤销对升降平面31的驱动力后，通过设置在升降平面31背离支撑条20的一侧的弹性元件32拉动升降平面31朝向掩模版框架11的方向移动，以使得支撑条20的端点回复初始位置。由于弹性元件32的拉动作用，能够使得升降平面31迅速并准确的回复到初始位置。示例的，弹性元件32可以为弹簧、片簧等。

优选的，为了避免升降平面31在回复初始位置的过程中，由于弹性元件32的拉力过大而导致与掩模版框架11之间产生较大的冲击力，还可以在升降平面31设置弹性元件32的一侧表面设置缓冲层，以缓解冲击力。

优选的，如图6所示，在掩模版框架11设置支撑条20的一侧表面设置有凹槽110，升降组件30设置于凹槽110内。

这样一来，如图6所示，升降组件30在不推动支撑条20的端部移动的情况下，能够收于凹槽110内，以保证掩模版表面的平整度，避免升降组件30的凸起可能在掩模蒸镀过程中，导致掩模版与待蒸镀基板之间产生新的间隙。

优选的，如图7所示，升降平面31至少在靠近支撑条20的一侧边缘设置有连接板33，连接板33的一侧与升降平面31的侧边铰接、相对的另一侧与掩模版本体10铰接。

如图7所示，在连接板33也设置在凹槽110内，在升降平面31向上升起并带动支撑条20的端部朝向待蒸镀基板40贴近时，连接板33与升降平面31铰接以及与掩模版本体10铰接的位置相应转动，以使得连接板33倾斜，连接板33与升降平面31连接的一端随之向上移动。这样一来，能够提高升降平面31的运动稳定性，避免升降平面31在带动支撑条20向上移动的过程中，由于升降平面31上升速度不一致，尤其是若升降平面31朝向掩模部分12的一侧边上翘，可能对支撑条20造成损伤的问题。

本发明实施例的另一方面，提供一种掩模蒸镀组件，如图8所示，包括上述任一项的掩模版50，还包括载板60，用于承载固定待蒸镀基板40，载板60承载待蒸镀基板40的一侧朝向掩模版50设置。在载板60上正投影于掩模版框架11的位置处还设置有电磁吸附部件61；掩模版50上设置有磁性金属部件(图8中未示出)，或者，掩模版50包含磁性金属材料。

示例的，如图8所示，升降组件30包含磁性金属材料，或者，至少升降平面31包含磁性金属材料，即升降组件30能够被磁铁或其他带有磁性的部件吸附。在载板60上正投影于升降组件30的位置处设置电磁吸附部件61，在掩模版50与待蒸镀基板40之间贴合对位后，需要支撑条20与待蒸镀基板40之间进一步贴合时，接通电源使得电磁吸附部件61产生较强磁性，以吸附升降平面31使得升降平面31朝向载板60的方向移动。

或者，若升降组件30采用不能够被磁性吸附的材料制作，则通过在升降组件30上设置磁性金属部件，使电磁吸附部件61通过吸附磁性金属部件而使得升降组件30移动即可。

进一步的，如图9所示，载板60朝向掩模版50的一侧设置有凹陷部62，电磁吸附部件61设置在凹陷部62内且电磁吸附部件61的表面与载板60朝向掩模版50的一侧表面位于同一平面内。

如图9所示，电磁吸附部件61设置在凹陷部62内，且电磁吸附部件61的表面与载板60朝向掩模版50的一侧表面平齐，这样一来，在支撑条20的端部与待蒸镀基板40之间贴合时，升降平面31也能够与载板60之间相贴合，同时，也避免电磁吸附部件61凸出于载板60表面可能使得在载板60承载待蒸镀基板40的过程中对待蒸镀基板40造成碰撞损伤的问题。

优选的，如图9所示，在电磁吸附部件61和/或磁性金属部件表面还设置有缓冲层。

示例的，如图9所示，以在载板60的电磁吸附部件61表面设置缓冲层63为例，设置在电磁吸附部件61和磁性金属部件(升降组件30本身包含有磁性金属材料时，磁性金属部件即指的是升降组件30)之间的缓冲层63能够提供缓冲作用力，从而避免升降组件30在电磁吸附部件61的吸附作用下向待蒸镀基板40贴合时，由于升降组件30与载板60接触的冲击力过大耳对部件造成损伤的问题，提高部件的使用寿命。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀装置，如图10所示，包括蒸镀腔室70，以及设置在蒸镀腔室70内的蒸镀源80，还包括上述的掩模蒸镀组件90。

将本发明实施例中的掩模蒸镀组件90置于蒸镀装置的蒸镀腔室70内，蒸镀腔室70内还包括蒸镀源80。首先，通过载板60对待蒸镀基板40进行承载固定，然后将掩模版50与待蒸镀基板40之间贴合对位，在掩模版50与待蒸镀基板40之间对位并初步贴合后，控制升降组件30带动掩模版50上支撑条20的端部移动，使得原先与待蒸镀基板40之间的间隙较大的支撑条20端部位置处得到较好的贴合效果。然后，在蒸镀腔室70内蒸发待蒸镀源80以对待蒸镀基板40进行蒸镀，这样能够尽可能降低蒸镀源80激发出的蒸镀材料在掩模版50与待蒸镀基板40之间的间隙处的囤积，从而减轻制得的显示面板上横向Mura不良的产生，提高显示面板的生产良品率。

在以上对于掩模版50的具体设置方式及工作过程的说明中，已经对蒸镀装置及其蒸镀过程进行了详细的说明，此处不再进行赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩模版，其特征在于，包括：

掩模版本体，包括掩模版框架以及所述掩模版框架环绕的掩模部分，所述掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻所述掩模图案区域之间的无效区域；

支撑条，所述支撑条的两端固定在所述掩模版框架上，且所述支撑条跨设于所述掩模部分并投影于所述无效区域内，用于支撑所述掩模版本体；

升降组件，设置在所述掩模版框架上对应所述支撑条的端部位置，所述升降组件能够带动所述支撑条的端部沿垂直于所述掩模版框架所在平面朝向远离所述掩模版框架的方向移动。

2.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述升降组件至少包括一个升降平面，所述支撑条的端部投影于所述升降平面的边界范围内，所述升降平面带动所述支撑条的端部移动。

3.根据权利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述升降平面上设置有镂空区域，所述镂空区域对应所述支撑条和所述掩模版框架之间的固定位置。

4.根据权利要求2所述的掩模版，其特征在于，所述升降组件还包括在所述升降平面背离所述支撑条的一侧设置的弹性元件，所述弹性元件能够拉动所述升降平面朝向所述掩模版框架的方向移动。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩模版，其特征在于，在所述掩模版框架设置所述支撑条的一侧表面设置有凹槽，所述升降组件设置于所述凹槽内。

6.根据权利要求5所述的掩模版，其特征在于，所述升降平面至少在靠近所述支撑条的一侧边缘设置有连接板，所述连接板的一侧与所述升降平面的侧边铰接、相对的另一侧与所述掩模版本体铰接。

7.一种掩模蒸镀组件，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的掩模版，还包括载板，用于承载固定待蒸镀基板，所述载板承载所述待蒸镀基板的一侧朝向所述掩模版；

在所述载板上正投影于所述升降组件的位置处还设置有电磁吸附部件；所述升降组件上设置有磁性金属部件，或者，所述升降组件包含磁性金属材料。

8.根据权利要求7所述的掩模蒸镀组件，其特征在于，所述载板朝向所述掩模版的一侧设置有凹陷部，所述电磁吸附部件设置在所述凹陷部内且所述电磁吸附部件的表面与所述载板朝向所述掩模版的一侧表面位于同一平面内。

9.根据权利要求8所述的掩模蒸镀组件，其特征在于，在所述电磁吸附部件和/或所述磁性金属部件表面还设置有缓冲层。

10.一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室，以及设置在所述蒸镀腔室内的蒸镀源，其特征在于，还包括上述权利要求7-9任一项所述的掩模蒸镀组件。