WO2004051698A2 - Gasentladungslampe für euv-strahlung - Google Patents

Gasentladungslampe für euv-strahlung Download PDF

Info

Publication number
WO2004051698A2
WO2004051698A2 PCT/IB2003/005496 IB0305496W WO2004051698A2 WO 2004051698 A2 WO2004051698 A2 WO 2004051698A2 IB 0305496 W IB0305496 W IB 0305496W WO 2004051698 A2 WO2004051698 A2 WO 2004051698A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hollow cathode
opening
anode
discharge lamp
gas discharge
Prior art date
Application number
PCT/IB2003/005496
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2004051698A3 (de
WO2004051698A8 (de
Inventor
Guenther Hans Derra
Joseph Robert Rene Pankert
Willi Neff
Klaus Bergmann
Jeroen Jonkers
Original Assignee
Philips Intellectual Property & Standards Gmbh
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Intellectual Property & Standards Gmbh, Koninklijke Philips Electronics N.V. filed Critical Philips Intellectual Property & Standards Gmbh
Priority to US10/536,918 priority Critical patent/US7397190B2/en
Priority to JP2004556668A priority patent/JP4594101B2/ja
Priority to EP03812235A priority patent/EP1570507A2/de
Priority to AU2003302551A priority patent/AU2003302551A1/en
Publication of WO2004051698A2 publication Critical patent/WO2004051698A2/de
Publication of WO2004051698A3 publication Critical patent/WO2004051698A3/de
Publication of WO2004051698A8 publication Critical patent/WO2004051698A8/de

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02—Details
    • H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
    • H01J61/06—Main electrodes
    • H01J61/09—Hollow cathodes

Definitions

  • the invention relates to a gas discharge lamp for extreme ultraviolet radiation according to the preamble of claim 1.
  • Preferred areas of application are those which require extreme ultraviolet (EUN) radiation, preferably in the wavelength range from approximately 10 to 20 nm, for example semiconductor lithography. It is generally known as a dense hot plasma
  • WO 01/91532 A2 teaches the use of an EUV radiation source with a plurality of partial electrodes arranged in the form of a segment of a circle, between which ion beams are accelerated.
  • the ion beams open into a plasma discharge space and form a dense, hot plasma there, which emits radiation in the EUN wavelength range.
  • means are also provided for the electrical neutralization of the ions.
  • X-ray radiation is disclosed in WO 01/01736 AI, in which two main electrodes are provided, between which there is a gas-filled intermediate space.
  • the main electrodes have one or more openings.
  • the configuration of the main electrodes means that the plasma ignites only within the cylinder determined by the diameter of the two central openings and is subsequently compressed to an even smaller cylinder due to the pinch effect. In this respect, only a single plasma channel is formed.
  • the invention is based on the technical problem of providing a gas discharge lamp with a pinch plasma emitting in the EUN wavelength range, in which a spatially highly localized one
  • a gas discharge lamp for extreme ultraviolet radiation with an anode and a hollow cathode, in which the hollow cathode has at least two openings and the anode has a through opening, and in which the longitudinal axes of the hollow cathode openings have a common intersection S, which lies on the axis of symmetry of the anode opening.
  • the invention is based on the finding that cathode erosion can be reduced by distributing the entire electron current emanating from the cathode over several cathode openings.
  • the cathode of a gas discharge source has to deliver a very high electron current of several kiloamps during a current pulse. This leads to the formation of so-called cathode spots in the inner surface of the cathode opening and in the immediately adjacent surface area of the cathode facing the anode. The electrons preferentially emerge from these cathode spots. At these locations, however, erosion of the cathode material can go far beyond the purely thermal evaporation. By selecting several hollow cathode openings, the current density occurring at a cathode spot is reduced. Overall, this leads to less erosion of the cathode, in particular in the opening area, and to an improved service life of the gas discharge lamp.
  • 1 shows a gas discharge lamp according to the invention with an anode
  • Anode 1, cathode 2 and cavity 8 are in a gas atmosphere at pressures of typically 1 to 100 Pa.
  • a voltage is applied to the electrode system. Gas pressure and electrode spacing are selected such that the plasma is ignited on the left branch of the Paschen curve, ie the ionization processes start along the long electrical field lines, which is preferred occur in the area of the openings of the anode and cathode.
  • the hollow cathode space 8 is not potential-free, rather the potential protrudes or the electrical field lines also protrude into the hollow cathode space 8.
  • a hollow cathode plasma is created there with high efficiency of plasma formation due to oscillating electrons.
  • FIG. 1 shows an arrangement with planar electrodes 1, 2 which is technically particularly simple to implement.
  • An arrangement in the form of a segment of a circle is also possible, for example in FIG. 3 with a hollow cathode 2 in the form of a segment of a circle.
  • This arrangement has the advantage that the electrode walls are further away from the plasma, the cooling of the electrodes is easier, and there are also larger angles to the axis of symmetry 6 can be realized.
  • the wall 7 opposite the respective cathode opening 3, 3 ', 3 can be perpendicular to the longitudinal axis 5, 5', 5" of this opening, and can thus contribute by ionization in the electrode interspace, preferably in the area of the common Intersection S has a high electrical conductivity.
  • the current pulses used advantageously have amplitudes with a two-digit kiloampere number and period durations in the two- to three-digit ⁇ anosecond range.
  • the plasma is adequately compressed and heated in that it reaches the temperature required for the radiation emission.
  • Xenon is mainly used as the working gas of the discharge source, in pure form or in a mixture with other gases.
  • gases with other emitters such as lithium or tin, in elemental form or as a chemical compound, can also be used to ensure the highest possible radiation efficiency.
  • the working pressure is in the range of 1-100 Pascal.
  • the working point is chosen so that the product of the electrode distance and discharge pressure lies on the left branch of the Paschen curve. In this case, the ignition voltage rises with falling gas pressure with a fixed electrode geometry.
  • a plasma 13 is generated in the hollow cathode 2 according to FIG. 2a.
  • this plasma 13 passes through the cathode openings and forms conductive channels 11 between the cathode and anode, cf. see Fig. 2b.
  • the beam 11 of ions and electrons emerging from the hollow cathode openings has a certain spatial extent.
  • the common intersection point S should also be understood to be that spatial area 12 within which these spatially extended beams intersect or overlap.
  • a rapid increase in the current occurs along the channels 11, as a result of which the plasma is magnetically compressed to a small volume 14 on the axis of symmetry 6 of the arrangement according to FIG. 2c.
  • a cigar-shaped plasma can be realized on and in the direction of the main axis of symmetry 6.
  • the length of this plasma region in the axial direction is approximately 2 to 5 mm, and perpendicular to this approximately 0.5 to 2 mm.
  • the focus of this plasma area is approximately at the intersection S. Due to the sharp rise in temperature, the gas atoms in it are ionized several times and emit the desired EUV radiation.
  • the alignment of the hollow cathode openings to a common one
  • Intersection S has the effect that the electron or plasma rays generated in the initial phase of the discharge meet at one point, namely the intersection S, and thus predetermine current channels directed to a spatial point. In the later phase of high current flow, a very localized plasma is formed in this way due to the pinch effect.
  • At least two cathode openings are provided; the use of an even larger number of cathode openings is advantageous.
  • the use of a larger number of cathode openings increases the electrode area even more and reduces the stress that each individual cathode opening experiences. If desired, this reduces the erosion of the cathode.
  • the longitudinal axis 5 of the respective hollow cathode opening 3 is substantially perpendicular to the part of the hollow cathode wall 7 opposite the hollow cathode opening 3, ie the rear wall of the hollow cathode space, see FIG. 3.
  • the orientation of the hollow cathode wall 7 is in relation to the longitudinal axis of the hollow cathode opening namely, strong influence on the direction of the electron or plasma beam and on its current intensity when it emerges from the cathode opening.
  • electrons are namely emitted from the rear walls 7 of the hollow cathode or the hollow cathodes, in each case perpendicular to the wall.
  • a hollow cathode can also be understood to mean a cathode with at least two openings 3, 3 ′ with at least one assigned hollow cathode space 8.
  • Hollow cathode 2 has no opening on the axis of symmetry 6, see FIGS. 5a and 5b. If there is an opening at this point, determine experimentally that the current flow from this opening often significantly exceeds the current flows from the other openings 3, 3 '. By not providing an opening at this point, one avoids the risk that this opening is subject to particularly severe erosion. In other words, the distribution of the total current over the individual flows is particularly uniform.
  • a variant not shown in the drawing, consists in choosing a continuous hollow cathode opening on the axis of symmetry, the diameter of which is smaller than the diameter of the other hollow cathode openings.
  • the central hollow cathode opening that is to say the hollow cathode opening on the (main) axis of symmetry of the electrode arrangement, plays no role in the ignition of the plasma.
  • one or more hollow cathode openings 3, 3 ',... are designed as a blind hole, see FIGS. 6a and 6b. This design is particularly easy to manufacture.
  • the arrangement more tolerant of erosion in the opening area. Play any rounding or existing removal of the cathode on the edge of the opening in the case of a blind hole for the transport of electricity and thus for the pinch plasma, it is not as important as in a geometry with a continuous opening. In the latter case, the geometry of the pinch plasma is essentially determined by the current approach and its development over time in the opening, experience having shown that the eroded edge has a negative effect on the pinch geometry. The pinch plasma becomes longer and means that less radiation can be coupled out. In this respect, the blind hole means that despite erosion, the plasma remains unchanged in terms of position and geometry.
  • the anode 1 contains a continuous central main opening 4 on the axis of symmetry 6.
  • the anode 1 can have at least two further openings 4 ', 4 ".
  • the plasma volume to be compressed will turn out to be smaller overall. This compresses the plasma to an even smaller volume. This has the advantage that an even higher proportion of the EUV radiation generated can be coupled out along the axis of symmetry 6 and made usable for the application. Since lower pulse energies are required to achieve a specified EUV output power, the erosion of the cathode material can be restricted further.
  • the additional anode openings can be designed differently. Viewed from S, behind the anode opening 4 ', 4 "in FIG. 7 there is an open space area, in FIG. 8a this space area is closed.
  • the closed design has the consequence that the plasma cannot be disturbed by processes in said space area , and the plasma emission takes place in a particularly trouble-free manner.
  • the variant according to FIG. 8b is structurally particularly simple in that the closed spatial area consists of an anode opening 4 ', 4 "designed as a blind hole.
  • the main opening 4 can also be designed as a grid, the open areas of which are strip-like or checkerboard-like. In this case, the grid acts as electrical shielding during the ignition phase of the plasma.
  • This configuration the central main opening of the anode is mainly at
  • trigger devices are provided for the hollow cathode space or spaces. In this way, the Trigger the ignition of the discharge precisely as required, in particular the simultaneity of the ignition of the partial discharges can also be improved.
  • an additional electrode 10 can be provided in the cavity 8 as a trigger device.
  • This additional electrode 10 can be prevented by igniting the discharge by igniting it at a positive potential with respect to the cathode 2. If the trigger electrode is switched to cathode potential by a control pulse on the trigger electronics, the discharge is ignited in a precisely controllable manner. The same applies in the event that a dielectric trigger is used.
  • a pulsed high-frequency source 10, 10 ', 10 can be used as
  • Trigger device can be provided, and for example a microwave source can be used to trigger the discharge.
  • the radio frequency is injected through the opening in the direction of the dash-dotted axes into the hollow cathode space or spaces 8, 8 ', 8 ", and there triggers the build-up of the hollow cathode plasma and finally the main discharge.
  • Glow discharge units can also be provided for triggering according to FIG. 10b.
  • a glow discharge is maintained within these units before the main discharge.
  • Electrons are then extracted from the glow plasma by applying a positive voltage pulse to the grid electrode facing the hollow cathode 2, which electrons initiate the main discharge in the hollow cathode space 8, 8 ', 8 "and in the space between the anode and cathode, that is to say in the space between the electrodes.
  • laser beams 15, 15 ', 15 "of a pulsed laser beam source focused on the respective hollow cathode openings can be used to trigger primary electrons from the cathode surface and to ignite the discharge.
  • One or more focused laser beams can be used both from the anode side, see FIG. 10d, and through openings from the cathode side, see FIG. 10c.
  • FIG. 11 shows a double plasma arrangement with an auxiliary anode 17.
  • the auxiliary anode and anode 1 are electrically connected to one another via lines 19.
  • a plasma builds up in the hollow cathode spaces 8, 8 ', 8 ", from which an electron beam propagates in the direction of the anode 1 and also in the direction of the auxiliary anode 17.
  • space 18, 18' 18 "between the openings 16, 16 ', 16" and auxiliary anode 17 a plasma which in turn emits an ion beam in the direction of the hollow cathode 2.
  • the ion beam crosses the hollow cathode space 8,8', 8 “and passes through the openings 3,3 ', 3 "into the gap between the electrodes.
  • Embodiments of cathode, anode (s), respective openings and associated trigger devices can also be combined as desired.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampe für EUV-Strahlung, mit einer Anode (1) und einer Hohlkathode (2), bei der die Hohlkathode (2) mindestens zwei Öffnungen (3,3') und die Anode (1) eine durchgehende Öffnung (4) aufweist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Längsachsen (5,5') der Hohlkathodenöffnungen (3) einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben der auf der Symmetrieachse (6) der Anodenöffnung (4) liegt.

Description

Gasentladungslampe für EUN-Strahlung
Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampe für Extrem-Ultraviolett- Strahlung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Bevorzugte Anwendungsgebiete sind solche, die Extrem- Ultraviolett- (EUN-) Strahlung, bevorzugt im Wellenlängenbereich von ca. 10 bis 20 nm, benötigen, wie zum Beispiel die Halbleiter-Lithographie. Es ist allgemein bekannt, ein dichtes heißes Plasma als
Strahlungsemittierendes Medium zur Bereitstellung von EUN- Strahlung einzusetzen.
Die WO 01/91532 A2 lehrt hierzu den Einsatz einer EUV- Strahlungsquelle mit einer Vielzahl von kreissegmentförmig angeordneten Teilelektroden, zwischen denen lonenstrahlen beschleunigt werden. Die lonenstrahlen münden in einen Plasma-Entladungsraum und bilden dort ein dichtes heißes Plasma welches Strahlung im EUN- Wellenlängenbereich emittiert. Um die Divergenz der lonenstrahlen zu mindern, und darüber ein besonders kleines Plasmavolumen zu schaffen, sind zudem Mittel zur elektrischen Νeutralisierung der Ionen vorgesehen. Eine Vorrichtung zur Erzeugung von EUN- und weicher
Röntgenstrahlung offenbart die WO 01/01736 AI, bei der zwei Hauptelektroden vorgesehen sind, zwischen denen sich ein gasgefüllter Zwischenraum befindet. Die Hauptelektroden weisen dabei eine oder mehrere Öffnungen auf. Die Konfiguration der Hauptelektroden bewirkt, dass das Plasma nur innerhalb des durch den Durchmesser der beiden zentralen Öffnungen bestimmten Zylinders zündet und nachfolgend infolge des Pincheffekts auf einen noch kleineren Zylinder komprimiert wird. Es wird insofern nur ein einziger Plasmakanal ausgebildet.
Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine Gasentladungslampe mit einem im EUN- Wellenlängenbereich emittierenden Pinchplasma bereitzustellen, bei der ein räumlich stark lokalisiertes
BESTATIGUΝGSKOPIE Plasma erzeugt wird und gleichzeitig die Erosion des Kathodenmaterials möglichst gering ist.
Die Lösung dieses technischen Problems erfolgt durch die Merkmale des unabhängigen Anspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen werden durch die abhängigen Ansprüche angegeben.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass das oben genannte technische Problem gelöst wird durch eine Gasentladungslampe für Extrem-Ultraviolett-Strahlung mit einer Anode und einer Hohlkathode, bei der die Hohlkathode mindestens zwei Öffnungen und die Anode eine durchgehende Öffnung aufweist, und bei der die Längsachsen der Hohlkathodenoffnungen einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben, der auf der Symmetrieachse der Anodenöffnung liegt.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass die Kathodenerosion dadurch gemindert werden kann, dass der gesamte, von der Kathode ausgehende Elektronenstrom über mehrere Kathodenöffnungen verteilt wird. Die Kathode einer Gasentladungsquelle muss nämlich während eines Strompulses einen sehr hohen Elektronenstrom von mehreren Kiloampere liefern. Dies führt zur Ausbildung von sogenannten Kathodenflecken in der Innenfläche der Kathodenöffnung sowie im unmittelbar angrenzenden, der Anode zugewandten Oberflächenbereich der Kathode. Aus diesen Kathodenflecken treten die Elektronen bevorzugt aus. An diesen Orten kann jedoch eine weit über die rein thermische Abdampfung hinausgehende Erosion des Kathodenmaterials stattfinden. Durch die Wahl mehrerer Hohlkathodenoffnungen wird die an einem Kathodenfleck auftretende Stromdichte gemindert. Dies führt insgesamt zu einer geringeren Erosion der Kathode, insbesondere im Öffnungsbereich, und zu einer verbesserten Standzeit der Gasentladungslampe. Fig. 1 zeigt eine erfindungsgemäße Gasentladungslampe mit einer Anode
1 und einer Hohlkathode 2, wobei letztere drei Kathodenöffnungen 3,3 ',3" zu einem Hohlraum 8 aufweist.
Anode 1, Kathode 2 und Hohlraum 8 befinden sich in einer Gasatmosphäre bei Drücken von typischerweise 1 - 100 Pa. An das Elektrodensystem wird eine Spannung angelegt. Gasdruck und Elektrodenabstand werden so gewählt, dass die Zündung des Plasmas auf dem linken Ast der Paschenkurve erfolgt, d.h. die Ionisationsprozesse starten entlang der langen elektrischen Feldlinien, welche bevorzugt im Bereich der Öffnungen von Anode und Kathode auftreten. Im Verlaufe der Entladung ist der Hohlkathodenraum 8 nicht potentialfrei, vielmehr ragt das Potential bzw. ragen die elektrischen Feldlinien auch in den Hohlkathodenraum 8 hinein. Dort entsteht ein Hohlkathodenplasma mit hoher Effizienz der Plasmabildung aufgrund pendelnder Elektronen.
Als Folge dieses Hohlkathodenplasmas und insbesondere auch durch den im Hohlkathodenplasma erzeugten Elektronenstrahl, der sich durch die Öffnungen 3,3',3" in Richtung der Anode bzw. in Pfeilrichtung ausbreitet, vgl. auch Fig. 2a, entsteht ein hoch leitfähiges Plasma im Bereich zwischen Anode und Kathode. Die elektrische Leitfähigkeit ist insbesondere im Bereich des Schnittpunktes S besonders hoch.
Durch einen gepulsten Strom im einstelligen bis zweistelligen Kiloamperebereich wird dieses Plasma komprimiert und auf Temperaturen aufgeheizt, dass es Strahlung im Extrem-Ultraviolettbereich erzeugt. Die Strompulse werden hinsichtlich Amplitude und Periodendauer derart gewählt, dass das Plasma Quelle für EUN-Strahlung ist. Dieses Plasma entsteht bevorzugt im Bereich des Schnittpunktes S. Fig. 1 zeigt hierbei eine Anordnung mit planaren Elektroden 1,2 die sich technisch besonders einfach realisieren lässt. Auch möglich ist eine kreissegment- förmige Anordnung wie zum Beispiel in Fig. 3 mit einer kreissegmentförmigen Hohlkathode 2. Diese Anordnung hat den Vorteil, dass die Elektrodenwände weiter vom Plasma entfernt sind, die Kühlung der Elektroden einfacher fällt, und sich auch größere Winkel zur Symmetrieachse 6 realisieren lassen. Bei dieser Bauform kann die der jeweiligen Kathodenöffnung 3,3',3" gegenüberliegende Wand 7 jeweils senkrecht zur Längsachse 5, 5', 5" dieser Öffnung stehen, und so durch Ionisation im Elektroden- Zwischenraum dazu beitragen, dass bevorzugt im Bereich des gemeinsamen Schnittpunktes S eine hohe elektrische Leitfähigkeit vorliegt.
Die verwendeten Strompulse weisen vorteilhafterweise Amplituden mit zweistelliger Kiloamperezahl und Periodendauern im zwei- bis dreistelligem Νanosekundenbereich auf. Insbesondere bei diesen Parametern für die Strompulse wird das Plasma hinreichend komprimiert und dadurch aufgeheizt, dass es die erforderliche Temperatur für die Strahlungsemission erreicht. Als Arbeitsgas der Entladungsquelle wird hauptsächlich Xenon verwendet, in reiner Form oder im Gemisch mit anderen Gasen. Es können aber auch Gase mit anderen Strahlern wie z.B. Lithium oder Zinn, in elementarer Form oder als chemische Verbindung, eingesetzt werden, um eine möglichst hohe Strahlungseffizienz zu gewährleisten. Der Arbeitsdruck liegt etwa im Bereich von 1-100 Pascal. Der Arbeitspunkt wird dabei so gewählt, dass das Produkt aus Elektrodenabstand und Entladungsdruck auf dem linken Ast der Paschenkurve liegt. Die Zündspannung steigt in diesem Fall mit sinkendem Gasdruck bei fester Elektrodengeometrie.
Am Anfang der Entladung, d.h. bei beginnendem Stromfluss, wird gemäß Fig. 2a in der Hohlkathode 2 ein Plasma 13 erzeugt, hn Verlauf der Entladung tritt dieses Plasma 13 durch die Kathodenöffnungen hindurch und bildet leitfähige Kanäle 11 zwischen Kathode und Anode, vgl. hierzu Fig. 2b. Aus dem Vorstehenden ergibt sich, dass der aus den Hohlkathodenoffnungen austretende Strahl 11 aus Ionen und Elektronen eine gewisse räumliche Ausdehnung hat. Als gemeinsamer Schnittpunkt S soll dabei auch derjenige Raumbereich 12 verstanden werden, innerhalb dessen sich diese räumlich ausgedehnten Strahlen kreuzen bzw. überlappen.
Längs der Kanäle 11 kommt es zu einem schnellen Anstieg des Stroms, wodurch das Plasma gemäß Fig. 2c magnetisch auf ein kleines Volumen 14 auf der Symmetrieachse 6 der Anordnung komprimiert wird. Es kann hierbei ein zigarrenformiges Plasma auf und in Richtung der Haupt-Symmetrieachse 6 realisiert werden. Die Länge dieses Plasmagebietes in Achsrichtung beträgt ca. 2 bis 5 mm, und senkrecht hierzu ca. 0.5 bis 2 mm. Der Schwerpunkt dieses Plasmagebietes liegt ca. im Schnittpunkt S. Aufgrund des starken Temperaturanstiegs werden die darin befindlichen Gasatome mehrfach ionisiert und emittieren die gewünschte EUV-Strahlung. Die Ausrichtung der Hohlkathodenoffnungen auf einen gemeinsamen
Schnittpunkt S bewirkt, dass sich die in der Anfangsphase der Entladung erzeugten Elektronen- bzw. Plasmastrahlen in einem Punkt, nämlich dem Schnittpunkt S, treffen, und somit auf einen Raumpunkt gerichtete Stromkanäle vorgeben. In der späteren Phase hohen Stromflusses bildet sich auf diese Weise infolge des Pincheffektes ein sehr lokalisiertes Plasma aus.
Erfindungsgemäß sind mindestens zwei Kathodenöffnungen vorgesehen, vorteilhaft ist die Verwendung einer noch größeren Anzahl von Kathodenöffnungen. Die Verwendung einer größeren Anzahl von Kathodenöffhungen vergrößert die Elektrodenfläche noch mehr und verringert die Belastung, die jede einzelne Kathodenöffnung erfährt. Wunschgemäß mindert dies die Erosion der Kathode. Es ist günstig, wenn die Längsachse 5 der jeweiligen Hohlkathodenöffnung 3 weitgehend senkrecht auf dem der Hohlkathodenöffnung 3 gegenüberliegenden Teil der Hohlkathodenwand 7, d.h. der Rückwand des Hohlkathodenraums, steht, siehe Fig. 3. Die Orientierung der Hohlkathodenwand 7 in Relation zur Längsachse der Hohlkathodenöffnung hat nämlich starken Einfluss auf die Richtung des Elektronen- bzw. Plasmastrahls und auf seine Stromstärke beim Austritt aus der Kathodenöffnung.
In der Startphase der Entladung werden nämlich Elektronen von den Rückwänden 7 der Hohlkathode oder der Hohlkathoden emittiert, und zwar jeweils senkrecht zur Wand. Dies führt zur Ausbildung eines Elektronenstrahls, gefolgt von einem Strahl neutralen Plasmas, welcher durch die jeweiligen Öffnungen 3,3 ',3" in Richtung Anode propagiert. Da die primäre Elektronenemission senkrecht zur Wand der Hohlkathode erfolgt, treten die Ladungsträger dann möglichst vollständig aus den Öffnungen aus, wenn die Längsachse der Öffnungen senkrecht auf der Hohlkathodenrückwand steht.
Die eingangs erwähnten Ausfiihrungsformen haben die Gemeinsamkeit, dass die mindestens zwei Hohlkathodenoffnungen zu einem einzigen und insofern gemeinsamen Hohlkathodenraum führen.
Gemäß Fig. 4a und 4b ist es aber auch möglich, dass jeder Hohlkathodenöffnung 3,3',3" ein separater Hohlkathodenraum 8,8', 8" zugeordnet ist. Allgemeiner kann insofern unter einer Hohlkathode auch eine Kathode mit mindestens zwei Öffnungen 3,3' mit mindestens einem zugeordneten Hohlkathodenraum 8 verstanden werden.
Separate Hohlkathodenräume sind kleiner als ein gemeinsamer Hohlkathodenraum. Aufgrund der geringeren Größe hat man den Vorteil, dass das Plasma schneller rekombiniert und damit höhere Repetitionsraten möglich sind. Ebenfalls vorteilhaft ist eine Ausgestaltung der Erfindung, bei der die
Hohlkathode 2 keine Öffnung auf der Symmetrieachse 6 aufweist, siehe hierzu Fig. 5a und Fig. 5b. Bei Vorhandensein einer Öffnung an dieser Stelle lässt sich nämlich experimentell feststellen, dass der von dieser Öffnung ausgehende Stromfluss häufig den von den anderen Öffnungen 3,3' ausgehenden Stromflüssen deutlich übersteigt. Indem man keine Öffnung an dieser Stelle vorsieht, vermeidet man die Gefahr, dass diese Öffnung einer besonders starken Erosion unterliegt. Mit anderen Worten ist die Verteilung des Gesamtstroms auf die Einzelströme besonders gleichmäßig.
Während Fig. 5a und Fig. 5b Varianten ohne Hohlkathodenöffnung auf der Symmetrieachse 6 darstellen, bei denen diese Öffnungen 3,3' einen einzigen gemeinsamen Hohlraum aufweisen, gelten die obigen Ausführungen sinngemäß ebenfalls, wenn wie in Fig. 4a oder Fig. 4b separate Hohlräume 8,8', 8" vorgesehen sind.
Eine zeichnerisch nicht dargestellte Variante besteht darin, dass eine durchgehende Hohlkathodenöffnung auf der Symmetrieachse gewählt wird, deren Durchmesser kleiner als die Durchmesser der übrigen Hohlkathodenoffnungen ist. In diesem Falle spielt die zentrale Hohlkathodenöffnung, also die Hohlkathodenöffnung auf der (Haupt-) Symmetrieachse der Elektrodenanordnung, für die Zündung des Plasmas keine Rolle. Vorteilhaft bei dieser Variante ist, dass eine Erosion durch Teilchen, welche bei der Kompression des Pinchplasmas in axiale Richtung emittiert werden, vermieden werden kann.
Bei einer anderen Variante kann vorgesehen sein, dass eine oder mehrere Hohlkathodenoffnungen 3,3',... als Sackloch ausgebildet sind, siehe Fig. 6a und Fig. 6b. Diese Bauform ist besonders einfach herstellbar.
Untersuchungen haben ferner ergeben, dass bei nicht optimierten Betriebsparametern der Schwerpunkt des Plasmas nicht am Punkts S, sondern häufig in Richtung Kathode verschoben ist. Speziell mit einem Sackloch 3' auf der Symmetrieachse 6, wie in Fig. 6c und Fig. 6d dargestellt, lässt sich der Abstand des Plasmas von der Kathodenwand vergrößern, insbesondere wenn der Durchmesser des Sacklochs größer ist als der Durchmesser der weiteren Hohlkathodenoffnungen 3 bzw. 3'. Der vergrößerte Abstand des Plasmas von der Kathodenwand führt zu einer weiteren Minderung der Kathodenerosion. Weiterhin ist für den Fall eines Sacklochs auf der Hauptsymmetrieachse
6 die Anordnung toleranter gegenüber Erosion im Öffnungsbereich. Eventuelle Abrundungen bzw. vorhandener Abtrag der Kathode an der Kante der Öffnung spielen für den Fall eines Sacklochs für den Stromtransport und damit für das Pinchplasma eine nicht so große Rolle wie in einer Geometrie mit einer durchgehenden Öffnung. Im letztgenannten Fall wird die Geometrie des Pinchplasmas wesentlich durch den Stromansatz und dessen zeitliche Entwicklung in der Öffnung bestimmt, wobei sich erfahrungsgemäß die erodierte Kante auf die Pinchgeometrie negativ auswirkt. Das Pinchplasma wird länger und führt dazu, dass weniger Strahlung ausgekoppelt werden kann. Insofern führt das Sackloch dazu, dass trotz auftretender Erosion das Plasma bzgl. Lage und Geometrie unverändert bleibt.
Die Anode 1 enthält eine durchgehende zentrale Hauptöffnung 4 auf der Symmetrieachse 6. Die Anode 1 kann neben der durchgehenden zentralen Hauptöffnung 4 mindestens zwei weitere Öffnungen 4',4" aufweisen. Die Längsachsen 9' bzw. 9" dieser zusätzlichen Anodenöffnungen 4' bzw. 4" sind jeweils identisch mit der Längsachse einer Hohlkathodenöffnung 3' bzw. 3", siehe hierzu Fig. 7. Insofern gibt es zu jeder zusätzlichen Anodenöffnung 4',4" eine gegenüberliegende, nicht auf der Symmetrieachse befindliche Hohlkathodenöffnung 3 ',3 " . In diesem Fall gibt es überlappende Plasmakanäle am Ort S, und die weiteren Anodenöffnungen 4',4" definieren weitgehend das über den Pincheffekt zu komprimierende Plasmavolumen. Da die zusätzlichen Anodenöffnungen 4',4" einen kleineren Durchmesser aufweisen als die zentrale Anodenöffhung 4 auf der Symmetrieachse 6, wird das zu komprimierende Plasmavolumen insgesamt kleiner ausfallen. Das Plasma wird dadurch auf ein noch kleineres Volumen komprimiert. Dies hat den Vorteil, dass ein noch höherer Anteil der erzeugten EUV-Strahlung entlang der Symmetrieachse 6 ausgekoppelt und für die Applikation nutzbar gemacht werden kann. Da man dadurch zur Erlangung einer vorgegebenen EUV-Ausgangsleistung geringere Pulsenergien benötigt, lässt sich die Erosion des Kathodenmaterials weiter einschränken.
Die zusätzlichen Anodenöffnungen können unterschiedlich ausgestaltet sein. Von S aus betrachtet befindet sich hinter der Anodenöffnung 4',4" in Fig. 7 ein offener Raumbereich, in Fig. 8a ist dieser Raumbereich geschlossen. Die geschlossene Ausführung hat zur Folge, dass das Plasma durch Vorgänge im besagten Raumbereich nicht gestört werden kann, und die Plasmaemission besonders störungsfrei erfolgt. Baulich besonders einfach ist hierbei die Variante gem. Fig. 8b, dass der geschlossene Raumbereich aus einer als Sackloch ausgebildeten Anodenöffnung 4',4" besteht. Unabhängig vom Vorhandensein und der Ausgestaltung der zusätzlichen Anodenöffnungen 4',4" kann die Hauptöffhung 4 auch als Gitter, dessen offene Bereiche streifenfόrmig oder schachbrettartig sind, ausgeführt sein. Das Gitter wirkt in diesem Fall während der Zündungsphase des Plasmas als elektrische Abschirmung. Diese Ausgestaltung der zentralen Hauptöffnung der Anode ist vor allem bei
Vorhandensein von zusätzlichen Anodenöffnungen von Vorteil. Dann wird nämlich der Zündprozess noch dominanter durch die zusätzlichen Anodenöffnungen 4',4" bestimmt und damit das zu komprimierende Plasmavolumen insgesamt noch kleiner ausfallen. In einer weiteren vorteilhaften Ausführung der Erfindung sind für den oder die Hohlkathodenräume Triggervorrichtungen vorgesehen. Auf diese Weise lässt sich die Zündung der Entladung präzise nach Bedarf auslösen. Insbesondere lässt sich auch die Gleichzeitigkeit der Zündung der Teilentladungen verbessern.
Als Triggervorrichtung kann gemäß Fig. 9a und Fig. 9b eine Zusatzelektrode 10 im Hohlraum 8 vorgesehen sein. Diese Zusatzelektrode 10 kann, indem sie durch eine Triggerelektronik auf positivem Potential gegenüber der Kathode 2 gehalten wird, die Entzündung der Entladung verhindern. Wird die Triggerelektrode durch einen Steuerimpuls an die Triggerelektronik auf Kathodenpotential geschaltet, erfolgt eine präzise steuerbare Zündung der Entladung. Analoges gilt für den Fall, dass ein dielektrischer Trigger eingesetzt wird. Gemäß Fig. 10a kann eine gepulste Hochfrequenzquelle 10, 10', 10" als
Triggervorrichtung vorgesehen sein, und zum Beispiel eine Mikrowellenquelle zur Auslösung der Entladung verwendet werden. Die Hochfrequenz wird durch die Öffnung in Richtung der strichpunktierten Achsen in den oder die Hohlkathodenräume 8, 8', 8" eingekoppelt, und löst dort den Aufbau des Hohlkathodenplasmas, und schließlich die Hauptentladung aus.
Zur Triggerung können auch gemäß Fig. 10b Glimmentladungseinheiten vorgesehen sein. Innerhalb dieser Einheiten wird vor der eigentlichen Hauptentladung eine Glimmentladung aufrecht erhalten. Aus dem Glimmplasma werden dann durch Anlegen einer positiven Spannungspulses an die der Hohlkathode 2 zugewandte Gitterelektrode Elektronen extrahiert, die die Hauptentladung im Hohlkathodenraum 8,8', 8" und im Raum zwischen Anode und Kathode, also im Elektrodenzwischenraum, initiieren. Gemäß Fig. 10c und Fig. lOd kann zum Triggern auf die jeweiligen Hohlkathodenoffnungen fokussierte Laserstrahlen 15, 15', 15" einer gepulst betriebenen Laserstrahlquelle zur Auslösung von Primärelektronen aus der Kathodeoberfläche und zur Zündung der Entladung verwendet werden. Es können eine oder mehrere fokussierte Laserstrahlen sowohl von der Anodenseite, siehe Fig. lOd, als auch durch Öffnungen von der Kathodenseite, siehe Fig. 10c, eingestrahlt werden.
Fig. 11 zeigt eine Doppelplasma- Anordnung mit einer Hilfsanode 17. Hilfsanode und Anode 1 werden über Leitungen 19 elektrisch miteinander verbunden. Während der Zündungsphase der Entladung baut sich in den Hohlkathodenräumen 8, 8 ',8" ein Plasma auf, von dem aus ein Elektronenstrahl in Richtung der Anode 1 und auch in Richtung Hilfsanode 17 propagiert. Im späteren Verlauf entsteht im Raum 18, 18 ',18" zwischen den Öffnungen 16, 16', 16" und Hilfsanode 17 ein Plasma, das seinerseits ein Ionenstrahl in Richtung Hohlkathode 2 emittiert. Der Ionenstrahl durchquert den Hohlkathodenraum 8,8', 8" und tritt durch die Öffnungen 3,3', 3" in den Elektrodenzwischenraum ein. Hier wird längs des Ionenstrahls eine nochmals lokal verstärkte Ionisation des Hauptplasmas zwischen Anode 1 und Kathode 2 bewirkt. Damit wird die räumliche Ausdehnung des EUV-Strahlung emittierenden Plasmavolumens nochmals verringert. Dies erlaubt eine bessere Auskopplung der bereitgestellten EUN-Strahlung. Aus den vorstehenden Ausführungen ergibt sich, dass die verschiedenen
Ausführungsformen von Kathode, Anode(n), jeweiligen Öffnungen sowie zugehörigen Triggervorrichtungen auch beliebig kombiniert werden können.
Bezugszeichenliste
1 Anode
2 Hohlkathode
3,3 ',3" Hohlkathodenöffnung
4 Anodenöffnung, durchgehend
5,5',5" Längsachse einer Hohlkathodenöffnung
6 Symmetrieachse, definiert durch die durchgehende Anodenöffnung
7 Hohlkathodenrückwand
8, 8 ',8" Hohlkathodenraum
9 Längsachse einer zusätzlichen Anodenöffnung
10 Triggervorrichtung
11 Räumlich ausgedehnter Strahl aus Elektronen und Ionen
12 Überlappungsbereich der Elektronenstrahlen
13 Plasma
14 Pinchplasma
15,15', 15" Laserstrahlen
16, 16', 16" Öffnungen der Hohlkathode, welcher der Hilfsanode zugewandt sind Hilfsanode
Zwischenraum zwischen Hohlkathode 2 und Hilfsanode 17
elektrische Leitungen, welche Anode 1 und Hilfsanode 17 miteinander verbinden

Claims

PATENTANSPRÜCHE:
1. Gasentladungslampe für EUV-Strahlung, mit einer Anode (1) und einer Hohlkathode (2), bei der die Hohlkathode (2) mindestens zwei Öffnungen (3,3') und die Anode (1) eine durchgehende Öffnung (4) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Längsachsen (5,5') der Hohlkathodenoffnungen (3) einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben der auf der Symmetrieachse (6) der Anodenöffnung (4) liegt.
2. Gasentladungslampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,dass die Längsachse (5) der jeweiligen Hohlkathodenöffnung (3) weitgehend senkrecht auf dem der Hohlkathodenöffnung (3) gegenüberliegenden Teil der Hohlkathodenwand (7) steht.
3. Gasentladungslampe nach Anspruch 1 oder 2,dadurch gekennzeichnet, dass jeder Hohlkathodenöffnung (3) ein separater Hohlkathodenraum (8) zugeordnet ist.
4. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass eine Hohlkathodenöffnung als Sackloch ausgebildet ist.
5. Gasentladungslampe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die auf der Symmetrieachse (6) befindliche Hohlkathodenöffnung (3) als Sackloch ausgebildet ist.
6. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Hohlkathode (2) keine Öffnung (3) auf der Symmetrieachse (6) der Anodenöffnung (4) aufweist
7. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 4,dadurch gekennzeichnet, dass die Hohlkathode (2) eine durchgehende Öffnung auf der Symmetrieachse (6) der Anodenöffitiung (4) aufweist, deren Durchmesser kleiner ist als der Durchmesser der übrigen Hohlkathodenoffnungen.
8. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Anode (1) zusätzliche Öffnungen (4', 4") aufweist, deren Längsachsen (9', 9") jeweils identisch mit der Längsachse einer Hohlkathodenöffnung ist.
9. Gasentladungslampe nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass vom Schnittpunkt S aus betrachtet der Raumbereich hinter der zusätzlichen Anodenöffnung (4',4' ') geschlossen ist.
10. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine zusätzlichen Anodenöffnung (4',4") als Sackloch ausgebildet ist.
11. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 8,9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zentrale durchgehende Anodenöffnung 4 als Gitter, dessen offene Bereiche streifenformig oder schachbrettartig sind, ausgeführt ist.
12. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass für den oder die Hohlkathodenräume (8) Triggervorrichtungen (10) vorgesehen sind, vorzugsweise eine Zusatzelektrode, ein dielektrischer Trigger, eine gepulste Hochfrequenzquelle, eine oder mehrere Glimmentladungseinheiten, oder eine gepulste Laserstrahlquelle.
13. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass als Triggervorrichtung eine Doppelplasmaanordnung mit einer Hilfsanode (17) vorgesehen ist.
PCT/IB2003/005496 2002-12-04 2003-11-28 Gasentladungslampe für euv-strahlung WO2004051698A2 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/536,918 US7397190B2 (en) 2002-12-04 2003-11-28 Gas discharge lamp for extreme UV radiation
JP2004556668A JP4594101B2 (ja) 2002-12-04 2003-11-28 Ｅｕｖ放射用放電灯
EP03812235A EP1570507A2 (de) 2002-12-04 2003-11-28 Gasentladungslampe für euv-strahlung
AU2003302551A AU2003302551A1 (en) 2002-12-04 2003-11-28 Gas discharge lamp for euv radiation

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10256663.1 2002-12-04
DE10256663A DE10256663B3 (de) 2002-12-04 2002-12-04 Gasentladungslampe für EUV-Strahlung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
WO2004051698A2 true WO2004051698A2 (de) 2004-06-17
WO2004051698A3 WO2004051698A3 (de) 2004-09-10
WO2004051698A8 WO2004051698A8 (de) 2010-11-11

Family

ID=32403701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/IB2003/005496 WO2004051698A2 (de) 2002-12-04 2003-11-28 Gasentladungslampe für euv-strahlung

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7397190B2 (de)
EP (1) EP1570507A2 (de)
JP (1) JP4594101B2 (de)
CN (1) CN100375219C (de)
AU (1) AU2003302551A1 (de)
DE (1) DE10256663B3 (de)
TW (1) TW200503045A (de)
WO (1) WO2004051698A2 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7087911B2 (en) 2002-11-21 2006-08-08 Asml Holding N.V. Method for recycling gases used in a lithography tool
US7135693B2 (en) 2003-03-20 2006-11-14 Asml Holding N.V. Method and apparatus for recycling gases used in a lithography tool
JP2006339645A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Xtreme Technologies Gmbh ガス放電プラズマによる強力短波長放射線の発生装置
WO2005060321A3 (en) * 2003-12-17 2007-10-11 Philips Intellectual Property Method and device for generating in particular euv radiation and/or soft x-ray radiation
US7557509B2 (en) * 2005-06-30 2009-07-07 Hamamatsu Photonics K.K. Gas discharge tube light source apparatus and liquid chromatograph

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10238096B3 (de) * 2002-08-21 2004-02-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungslampe
US7825390B2 (en) * 2007-02-14 2010-11-02 Asml Netherlands B.V. Apparatus with plasma radiation source and method of forming a beam of radiation and lithographic apparatus
DE102007020742B8 (de) * 2007-04-28 2009-06-18 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zum Schalten großer elektrischer Ströme über eine Gasentladung
US8493548B2 (en) * 2007-08-06 2013-07-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7872244B2 (en) * 2007-08-08 2011-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102007060807B4 (de) * 2007-12-18 2009-11-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung
US20100045160A1 (en) * 2008-08-20 2010-02-25 Manhattan Technologies Ltd. Multibeam doubly convergent electron gun
US8304973B2 (en) * 2010-08-23 2012-11-06 Hamamatsu Photonics K.K. Flash lamp
DE102011113681A1 (de) * 2011-09-20 2013-03-21 Heraeus Noblelight Gmbh Lampeneinheit für die Erzeugung optischer Strahlung
DE102013001940B4 (de) * 2013-02-05 2021-10-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von EUV-und/oder weicher Röntgenstrahlung
RU2593147C1 (ru) * 2015-05-14 2016-07-27 Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" Устройство и способ для получения высокотемпературной плазмы и эуф излучения

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0282666A1 (de) * 1985-10-03 1988-09-21 Canadian Patents and Development Limited Société Canadienne des Brevets et d'Exploitation Limitée Röntgenstrahlenquelle mit ringförmiger Einengung von Plasma, eingeleitet durch Gasentladung
WO2001001736A1 (de) * 1999-06-29 2001-01-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur erzeugung von extrem-ultraviolett- und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung
WO2001091523A2 (en) * 2000-05-22 2001-11-29 Plex Llc Extreme ultraviolet source based on colliding neutral beams
EP1248499A1 (de) * 2001-04-06 2002-10-09 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5126638A (en) * 1991-05-13 1992-06-30 Maxwell Laboratories, Inc. Coaxial pseudospark discharge switch
US5502356A (en) * 1994-05-02 1996-03-26 Plex Corporation Stabilized radial pseudospark switch
US5467362A (en) * 1994-08-03 1995-11-14 Murray; Gordon A. Pulsed gas discharge Xray laser
DE19547813C2 (de) * 1995-12-20 1997-10-16 Heraeus Noblelight Gmbh Elektrodenlose Entladungslampe mit Blendenkörper
DE19753696A1 (de) * 1997-12-03 1999-06-17 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Röntgenstrahlung aus einer Gasentladung
EP1141996A1 (de) * 1998-12-07 2001-10-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Hohlkathodenmatrix für plasmaerzeugung
TWI246872B (en) * 1999-12-17 2006-01-01 Asml Netherlands Bv Radiation source for use in lithographic projection apparatus
US6469310B1 (en) * 1999-12-17 2002-10-22 Asml Netherlands B.V. Radiation source for extreme ultraviolet radiation, e.g. for use in lithographic projection apparatus
DE10025443A1 (de) 2000-05-23 2001-12-06 Siemens Ag Vorrichtung zum Bestücken von Substraten mit elektrischen Bauteilen
US6804327B2 (en) * 2001-04-03 2004-10-12 Lambda Physik Ag Method and apparatus for generating high output power gas discharge based source of extreme ultraviolet radiation and/or soft x-rays
TW589924B (en) * 2001-04-06 2004-06-01 Fraunhofer Ges Forschung Process and device for producing extreme ultraviolet ray/weak x-ray
US6714624B2 (en) * 2001-09-18 2004-03-30 Euv Llc Discharge source with gas curtain for protecting optics from particles
DE10238096B3 (de) * 2002-08-21 2004-02-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungslampe

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0282666A1 (de) * 1985-10-03 1988-09-21 Canadian Patents and Development Limited Société Canadienne des Brevets et d'Exploitation Limitée Röntgenstrahlenquelle mit ringförmiger Einengung von Plasma, eingeleitet durch Gasentladung
WO2001001736A1 (de) * 1999-06-29 2001-01-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur erzeugung von extrem-ultraviolett- und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung
WO2001091523A2 (en) * 2000-05-22 2001-11-29 Plex Llc Extreme ultraviolet source based on colliding neutral beams
EP1248499A1 (de) * 2001-04-06 2002-10-09 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7087911B2 (en) 2002-11-21 2006-08-08 Asml Holding N.V. Method for recycling gases used in a lithography tool
US7135693B2 (en) 2003-03-20 2006-11-14 Asml Holding N.V. Method and apparatus for recycling gases used in a lithography tool
WO2005060321A3 (en) * 2003-12-17 2007-10-11 Philips Intellectual Property Method and device for generating in particular euv radiation and/or soft x-ray radiation
JP2006339645A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Xtreme Technologies Gmbh ガス放電プラズマによる強力短波長放射線の発生装置
US7557509B2 (en) * 2005-06-30 2009-07-07 Hamamatsu Photonics K.K. Gas discharge tube light source apparatus and liquid chromatograph
AU2006201679B2 (en) * 2005-06-30 2011-05-26 Hamamatsu Photonics K.K. Gas discharge tube, light source apparatus and liquid chromatograph
AU2006201679B9 (en) * 2005-06-30 2011-09-15 Hamamatsu Photonics K.K. Gas discharge tube, light source apparatus and liquid chromatograph

Also Published As

Publication number Publication date
CN100375219C (zh) 2008-03-12
WO2004051698A3 (de) 2004-09-10
AU2003302551A1 (en) 2004-06-23
WO2004051698A8 (de) 2010-11-11
TW200503045A (en) 2005-01-16
JP2006509330A (ja) 2006-03-16
JP4594101B2 (ja) 2010-12-08
US20060138960A1 (en) 2006-06-29
AU2003302551A8 (en) 2010-12-09
DE10256663B3 (de) 2005-10-13
US7397190B2 (en) 2008-07-08
CN1720600A (zh) 2006-01-11
EP1570507A2 (de) 2005-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10256663B3 (de) Gasentladungslampe für EUV-Strahlung
DE68926962T2 (de) Plasma elektronengewehr fur ionen aus einer entfernten quelle
DE4113241C2 (de) Gepulster Gasentladungslaser
DE2804393C2 (de) Verfahren zum Erzeugen und Beschleunigen von Elektronen bzw. Ionen in einem Entladungsgefäß, sowie dazugehöriger Teilchenbeschleuniger und ferner dazugehörige Anwendungen des Verfahrens
EP0772900B1 (de) Entladungsanordnung für impulsgaslaser
EP0336282B1 (de) Plasma-Röntgenröhre, insbesondere zur Röntgen-Vorionisierung von Gaslasern, Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlung mit einer solchen Röntgenröhre und Verwendung letzterer
EP1248499B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung
DE4108472C2 (de) Vorrichtung zum Vorionisieren von Gas in einem gepulsten Gaslaser
DE2046260B2 (de) Verfahren zur Erzeugung einer elektrischen Entladung in einem Gaslaser sowie Gaslaser zur Durchführung dieses Verfahrens
DE1298175B (de) Schaltfunkenstrecke von geringer Eigeninduktivitaet
DE60033458T2 (de) Vorrichtung zum Gasflusssputtern
DE3700775A1 (de) Ionenplasma-elektronenkanone
DE3782789T2 (de) Elektronenkanone mit plasmaanode.
DE19753696A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Röntgenstrahlung aus einer Gasentladung
DE3833604A1 (de) Gepulste teilchenquelle auf der basis schnell umpolarisierbarer ferroelektrika
EP0810628A2 (de) Quelle zur Erzeugung von grossflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen
DE3706981C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum gleichförmigen Ionisieren eines unter hohem Druck stehenden gasförmigen Mediums
EP1532848B1 (de) Gasentladungslampe
DE3642749C2 (de)
DE952739C (de) Entladungsroehre mit ionisierbarer Gasfuellung, Gluehkathode und Anode zur Einschaltung in einen Hauptentladungskreis
DE102021111097B4 (de) Hohlkathodensystem zum Erzeugen eines Plasmas und Verfahren zum Betreiben eines solchen Hohlkathodensystems
DE102013001940B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von EUV-und/oder weicher Röntgenstrahlung
DE2025987A1 (de) Ionenquelle
EP1168895B1 (de) Pulsbare Vorrichtung mit einer Anordnung zur Erzeugung von Strahlung sowie Verfahren zur Erzeugung von Strahlung
DE3038624C2 (de) Gasentladungs-Elektronenkanone mit einer Kaltkathode

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2003812235

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004556668

Country of ref document: JP

Ref document number: 20038A49941

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2003812235

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2006138960

Country of ref document: US

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10536918

Country of ref document: US

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10536918

Country of ref document: US

WD Withdrawal of designations after international publication