EP1532848B1 - Gasentladungslampe - Google Patents

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EP1532848B1
EP1532848B1 EP03792583A EP03792583A EP1532848B1 EP 1532848 B1 EP1532848 B1 EP 1532848B1 EP 03792583 A EP03792583 A EP 03792583A EP 03792583 A EP03792583 A EP 03792583A EP 1532848 B1 EP1532848 B1 EP 1532848B1
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EP
European Patent Office
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opening
gas discharge
discharge lamp
plasma
cathode
Prior art date
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EP03792583A
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Dominik Vaudrevange
Klaus Bergmann
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Koninklijke Philips NV
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Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
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    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/84—Lamps with discharge constricted by high pressure
    • H01J61/86—Lamps with discharge constricted by high pressure with discharge additionally constricted by close spacing of electrodes, e.g. for optical projection
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02—Details
    • H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
    • H01J61/06—Main electrodes
    • H01J61/073—Main electrodes for high-pressure discharge lamps
    • H01J61/0732—Main electrodes for high-pressure discharge lamps characterised by the construction of the electrode
    • H—ELECTRICITY
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    • H01J61/02—Details
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    • H01J61/06—Main electrodes
    • H01J61/073—Main electrodes for high-pressure discharge lamps
    • H01J61/0735—Main electrodes for high-pressure discharge lamps characterised by the material of the electrode

Definitions

  • the invention relates to a gas discharge lamp for generating extreme ultraviolet and / or soft X-radiation according to the preamble of claim 1.
  • Preferred fields of application are those which require extreme ultraviolet (EUV) radiation or soft X-radiation in the wavelength range of about 1-20 nm, in particular by 13 nm, such as EUV lithography or X-ray microscopy.
  • the gas discharge lamp typically consists of an electrode system with anode and cathode, which is connected to a current pulse generator.
  • the discharge space located between the electrodes is gas-filled at pressures in the range of about 1 Pa to 100 Pa. In the discharge space is created by a pulsed current with currents in the single-digit kilo-ampere range up to max.
  • a hollow cathode plasma which is based on Fig. 1 is shown schematically.
  • the electrode system consists here of anode 1 and cathode 2, respectively
  • the discharge space 6 is located on the symmetrical axis 7 shown in phantom a plasma channel 8 before.
  • the plasma emits the radiation, which is indicated by the arrows.
  • the cathode 2 further has a cavity 9, in which charge carriers, in particular electrons, are produced by suitable means for pre-ionization.
  • the starting electrons are formed in self-breakdown.
  • the self-breakdown can be controlled by a trigger electrode in the space 9, whereby the radiation pulses can be triggered precisely in time.
  • a gas pressure of approximately 1 Pa to 100 Pa is present in the discharge space 6.
  • Gas pressure and geometry of the electrodes are chosen so that the ignition of the plasma takes place on the left branch of the Paschen curve. The ignition then takes place in the region of the long electric field lines which occur in the area of the boreholes 3 and 4, respectively.
  • an ionization of the gas takes place along the field lines in the borehole area.
  • This phase creates the conditions for the formation of a plasma in the hollow cathode, which is why we speak of a hollow cathode plasma.
  • This plasma then leads to a low-resistance channel in the electrode gap.
  • a pulsed current which is generated by the discharge of electrically stored energy in a capacitor bank 10, is sent via this channel. The current leads to the compression and heating of the plasma, so that conditions for the efficient emission of characteristic radiation of the used discharge gas in the EUV range are achieved.
  • working gas discharge lamps are, for example, in the WO 99/29145 A1 and the WO 01/01736 A1 described.
  • the latter document also provides various measures to increase the efficiency of converting the injected electrical energy into radiant energy, including choosing a non-through hole conical blank in the anode. By this geometric configuration of the anode well, the radiation efficiency should be increased.
  • the WO 02/07484 A2 discloses a gas discharge lamp in which on a symmetry axis a pinch plasma is created, which emits the radiation in the relevant spectral range.
  • the publication teaches to perform a preionization in an outdoor area by means of a pulsed sliding discharge, wherein the resulting charge carriers are to reach the discharge area via an axial aperture in one of the electrodes. It is provided here that the pre-ionization region does not optically communicate with the axis of the pinch plasma duct.
  • the invention is based on the technical problem of providing a gas discharge lamp with a plasma emitting in the EUV and / or soft X-ray wavelength range, which has an improved stability of the radiation emission.
  • the above-mentioned technical problem is solved by the provision of a gas discharge lamp in which the continuous electrode opening tapers in the direction of the outer region.
  • the diameter of the electrode opening should be larger on the side facing the discharge space than on the side facing away from the discharge space.
  • the external area is to be understood as that space area in which charge carriers can be generated, which can be transported via the through-opening into the discharge space.
  • the invention is based on the finding that an increase in the stability in the emission of radiation, ie an improved consistency in the emission from pulse to pulse, is achieved by largely decoupling the processes in the gas discharge space and in the outer area.
  • the thus improved dielectric strength of the electrode system also allows an increase in the maximum repetition frequency or the maximum repetition rate.
  • the gas discharge lamp according to the invention can be used either in the self-breakdown mode, or alternatively, additional means for pre-ionization can be provided.
  • additional means for pre-ionization can be provided.
  • the tapered cathode opening may be geometrically different. This will be in the illustrated in the illustrated preferred embodiments Fig. 2 to 7 shown an enlargement of the in Fig. 1 reproduced dashed area shown. The enlarged area is shown in the Fig. 2 to 7 across from Fig. 1 turned 90 ° counterclockwise.
  • an electrode opening that tapers in the direction of the outside area has advantages in the erosion of the electrode surface.
  • pulse energies typically several joules to several tens of J are converted. A significant proportion of this energy is concentrated in the pinch plasma, which leads to a thermal load on the electrodes.
  • the thermal load is caused by the emission of radiation and hot particles, such as ions.
  • the distance of the anode from the cathode is typically only a few Millimeters, and the diameter of the electrode opening on the discharge side is typically between 8 mm and 20 mm.
  • the cathode is designed as a hollow cathode and has the continuous, tapered opening.
  • the cavity of the hollow cathode is connected to the discharge space gaszu organizedd. This allows the ignition of a hollow cathode plasma.
  • the largest possible distance between the electrode surface and the pinch plasma would be advantageous.
  • Typical diameters for the opening of the two electrodes are in the range of a few millimeters up to several 10 millimeters. If, on the other hand, larger openings were selected, it would no longer be possible to produce a pinch plasma which emits in the desired spectral range of the EUV and / or soft X-ray radiation, because as the diameter increases, the achievable plasma temperature becomes smaller.
  • the anode opening should therefore also be chosen as large as possible, so that the decoupled from the anode opening radiation is optically accessible as well as possible from large observation angles to the pinch plasma.
  • the cathode is made in the opening area of a different material than in the other areas of the cathode.
  • the opening area may be made of a low-erosion material such as tungsten, molybdenum, or other low-erosion alloys to thereby realize less burnup and / or erosion.
  • the remaining areas of the cathode can then consist of good thermal conductivity material such as copper.
  • the anode opening has a smaller diameter than the cathode opening.
  • this causes longer electric field lines in that these field lines now extend into the opening, for example up to the step in the cathode opening according to FIG Fig. 4 .
  • This allows a reduction of the gas pressure in the Discharge space, which in turn allows an increase in the repetition frequency of the gas discharge lamp.
  • the increase in the repetition frequency leads to a higher degree of decoupled radiation energy.
  • the use of a tapered cathode opening allows a simpler operation of the gas discharge lamp.
  • the person skilled in the art has to select a total of two diameters, namely the diameter of the cathode opening on the side facing the discharge space, and additionally the diameter on the side of the cathode opening facing the outer space.
  • the person skilled in the art gains a further degree of freedom in the operation of the system, by means of which it is easier for him to select suitable operating parameters.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampe zur Erzeugung extremer Ultraviolett- und/oder weicher Röntgenstrahlung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Bevorzugte Anwendungsgebiete sind solche, die extreme Ultraviolett- (EUV-) Strahlung oder weiche Röntgenstrahlung im Wellenlängenbereich von ca. 1-20 nm benötigen, insbesondere um 13 nm, wie zum Beispiel die EUV-Lithographie oder die Röntgenmikroskopie.
  • Es ist allgemein bekannt, ein dichtes heißes Plasma als strahlungsemittierendes Medium zur Erzeugung von EUV- und/oder weicher Röntgenstrahlung einzusetzen. Die Gasentladungslampe besteht dabei typischerweise aus einem Elektrodensystem mit Anode und Kathode, welches an einen Strompulsgenerator angeschlossen ist. Der zwischen den Elektroden befindliche Entladungsraum ist gasgefüllt bei Drücken im Bereich von ca. 1 Pa bis 100 Pa. Im Entladungsraum entsteht durch einen gepulsten Strom mit Stromstärken im einstelligen Kiloamperebereich bis max. 100 kA und Pulsdauern im Bereich von 10 ns bis einigen 100 ns ein sogenanntes Pinchplasma, welches durch ohmsche Heizung und Kompression durch den Pulsstrom auf Temperaturen von einigen 10 eV und Dichten gebracht wird, bei denen es charakteristische Strahlung des verwendeten Arbeitsgases im interessierenden Spektralbereich emittiert.
  • Um das strahlungsemittierende Plasma bereitzustellen ist es erforderlich, Ladungsträger in den Entladungsraum zwischen Anode und Kathode einzubringen oder aber dort zu erzeugen. Hierzu sind geeignete Mittel zur Vorionisierung eines Gases erforderlich, so zum Beispiel ein Oberflächengleitfunkentrigger, ein hochdielektrischer Trigger ein ferroelektrischer Trigger oder ein Glimmentladungstrigger.
  • Weiterhin ist bekannt, Ladungsträger über ein Hohlkathodenplasma bereitzustellen, was anhand von Fig. 1 schematisch dargestellt ist. Das Elektrodensystem besteht hier aus Anode 1 und Kathode 2 mit jeweils gegenüberliegenden Öffnungen 3 bzw. 4 und einem dazwischen befindlichen elektrischen Isolator 5. Im Entladungsraum 6 liegt auf der gestrichtelt dargestellten Symmetrieachse 7 ein Plasmakanal 8 vor. Das Plasma emittiert die Strahlung, was durch die Pfeile angedeutet wird. Die Kathode 2 weist ferner einen Hohlraum 9 auf, in dem Ladungsträger wie insbesondere Elektronen durch geeignete Mittel zur Vorionisierung erzeugt werden.
  • Alternativ zur aktiven Bereitstellung von Startelektronen durch Mittel zur Vorionisierung kann auch ein Betrieb vorgesehen sein, bei dem die Startelektronen im Selbstdurchbruch entstehen. Der Selbstdurchbruch kann hierbei durch eine Triggerlektrode im Raum 9 gesteuert werden, wodurch die Strahlungspulse zeitlich präzise ausgelöst werden können. Hierbei liegt im Entladungsraum 6 ein Gasdruck von ca. 1 Pa bis 100 Pa vor. Gasdruck und Geometrie der Elektroden sind so gewählt, dass die Zündung des Plasmas auf dem linken Ast der Paschenkurve erfolgt. Die Zündung erfolgt danach im Bereich der langen elektrischen Feldlinien, die im Bereich der Bohrlöcher 3 bzw. 4 auftreten. Zur Bereitstellung des strahlungsemittierenden Plasmas erfolgt zunächst eine Ionisierung des Gases entlang der Feldlinien im Bohrlochbereich. Diese Phase schafft die Bedingungen zur Ausbildung eines Plasmas in der Hohlkathode, weshalb von einem Hohlkathodenplasma gesprochen wird. Dieses Plasma führt dann zu einem niederohmigen Kanal im Elektrodenzwischenraum. Über diesen Kanal wird ein gepulster Strom geschickt, der durch die Entladung elektrisch gespeicherter Energie in einer Kondensatorbank 10 generiert wird. Der Strom führt zur Kompression und Aufheizung des Plasmas, so dass Bedingungen für die effiziente Emission charakteristischer Strahlung des genutzten Entladegases im EUV-Bereich erreicht werden.
  • Nach diesem Funktionsprinzip arbeitende Gasentladungslampen werden zum Beispiel in der WO 99/29145 A1 und der WO 01/01736 A1 beschrieben. Die letztgenannte Druckschrift sieht zudem diverse Maßnahmen vor, um die Effizienz bei der Umwandlung der eingespeisten elektrischen Energie in Strahlungsenergie zu erhöhen, dazu gehört auch die Wahl einer nicht durchgehenden Öffnung konischen Zuschnitts in der Anode. Durch diese geometrische Ausgestaltung der Anodenvertiefung soll die Strahlungsausbeute erhöht werden.
  • Die WO 02/07484 A2 offenbart eine Gasentladungslampe, bei der auf einer Symmetrieachse ein Pinchplasma geschaffen wird, welches die Strahlung im relevanten Spektralbereich emittiert. Die Druckschrift lehrt, in einem Außenbereich mittels einer gepulsten Gleitentladung eine Vorionisierung vorzunehmen, wobei die entstandenen Ladungsträger über eine axiale Apertur in einer der Elektroden in den Entladungsbereich gelangen sollen. Hierbei ist vorgesehen, dass der Vorionisierungsbereich nicht mit der Achse des Pinchplasmakanals optisch kommuniziert.
  • Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde eine Gasentladungslampe mit einem im EUV- und/oder weichen Röntgenwellenlängenbereich emittierenden Plasma bereitzustellen, die eine verbesserte Stabilität der Strahlungsemission aufweist.
  • Die Lösung dieses technischen Problems erfolgt durch die Merkmale des unabhängigen Anspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen werden durch die abhängigen Ansprüche angegeben.
  • Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass das oben genannte technische Problem durch die Bereitstellung einer Gasentladungslampe gelöst wird, bei der sich die durchgehende Elektrodenöffnung in Richtung des Außenbereichs verjüngt. Mit anderen Worten soll der Durchmesser der Elektrodenöffnung auf der dem Entladungsraum zugewandten Seite größer sein als auf der dem Entladungsraum abgewandten Seite.
  • Als Außenbereich ist derjenige Raumbereich zu verstehen, in welchem Ladungsträger erzeugbar sind, welche über die durchgehende Öffnung in den Entladungsraum transportierbar sind.
  • Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass eine Steigerung der Stabilität bei der Strahlungsemission, d. h. eine verbesserte Konstanz bei der Emission von Puls zu Puls, dadurch erreicht wird, dass die Vorgänge im Gasentladungsraum und im Außenbereich weitestgehend entkoppelt werden. Die Vorionisierungsvorgänge im Außenbereich mit der Erzeugung von Ladungsträgern beeinflussen nämlich den Entladungsvorgang im Zwischenraum und führen zu einer Destabilisierung der Strahlungsemission.
  • Es wurde gefunden, dass der Nachteil eines Entladungsaufbaus im Entladungsraum zwischen Anode und Kathode vor Erreichen der angestrebten Haltespannung, d. h. der so genannte Selbstdurchbruch, dadurch gemindert werden kann, dass weniger Ladungsträger vom Außenbereich, zum Beispiel von der Hohlkathode, in den Elektrodenzwischenraum übertragen werden. Hierzu dient die durchgehende Öffnung in der Elektrode, sei es die Anode oder die Kathode, die sich in Richtung des Außenbereichs verjüngt.
  • Die auf diese Weise verbesserte Spannungsfestigkeit des Elektrodensystems erlaubt ferner eine Erhöhung der maximalen Wiederholfrequenz bzw. der maximalen Wiederholrate.
  • Die crfindungsgemäßen Gasentladungslampe kann entweder im Selbstdurchbruchbetrieb genutzt werden, oder es können alternativ zusätzliche Mittel zur Vorionisierung vorgesehen sein. Durch eine derartige Zündvorrichtung kann erreicht werden, dass die Strahlungsimpulse zeitlich präzise ausgelöst werden, falls es die Anwendung erfordert.
  • Die sich verjüngende Kathodenöffnung kann geometrisch unterschiedlich beschaffen sein. Dies wird in den in den dargestellten bevorzugten Ausführungsbeispielen Fig. 2 bis 7 gezeigt, die eine Vergrößerung des in Fig. 1 dargestellten gestrichelten Bereichs wiedergeben. Der vergrößert dargestellte Bereich ist in den Fig. 2 bis 7 gegenüber Fig. 1 um 90° im Gegenuhrzeigersinn gedreht.
  • Möglich sind kontinuierliche oder stufenförmige Übergänge in der Öffnung gemäß Fig. 2 und 4 bis 7, und auch die Bereitstellung einer Öffnung mit einer Einschnürung, vgl. Fig. 3, d. h. einer Verkleinerung des Durchmessers, welcher eine Vergrößerung des Durchmessers folgt.
  • Weiterhin zeigt eine sich in Richtung des Außenbereichs verjüngende Elektrodenöffnung Vorteile bei der Erosion der Elektrodenoberfläche. Bei der Erzeugung eines Pinchplasmas werden nämlich Pulsenergien von typischerweise einigen Joule bis mehreren 10 J umgesetzt. Ein wesentlicher Anteil dieser Energie wird im Pinchplasma konzentriert, was zu einer thermischen Belastung der Elektroden führt. Die thermische Belastung entsteht hierbei durch die Emission von Strahlung und von heißen Teilchen, wie zum Beispiel Ionen. Zur Veranschaulichung dieses Sachverhalts sei angemerkt, dass der Abstand der Anode von der Kathode typischerweise nur einige Millimeter beträgt, und der Durchmesser der Elektrodenöffnung auf der Entladungsseite typischerweise zwischen 8 mm und 20 mm.
  • Vorzugsweise ist die Kathode als Hohlkathode ausgeführt und weist die durchgehende, sich verjüngende Öffnung auf. In diesem Fall ist der Hohlraum der Hohlkathode mit dem Entladungsraum gaszuleitend verbunden. Dies ermöglicht die Zündung eines Hohlkathodenplasmas.
  • Zur Minderung der thermischen Belastung wäre ein möglichst großer Abstand der Elektrodenoberfläche zum Pinchplasma vorteilhaft. Typische Durchmesser für die Öffnung der beiden Elektroden liegen im Bereich einiger Millimeter bis zu einigen 10 Millimetern. Würden demgegenüber größere Öffnungen gewählt, so könnte zunehmend kein Pinchplasma mehr erzeugt werden, welches im angestrebten Spektralbereich der EUV- und/oder weichen Röntgenstrahlung emittiert, denn mit zunehmender Vergrößerung des Durchmessers wird die erreichbare Plasmatemperatur kleiner. Die Anodenöffnung sollte zudem auch deshalb möglichst groß gewählt werden, damit die aus der Anodenöffnung ausgekoppelte Strahlung auch aus großen Beobachtungswinkeln zum Pinchplasma optisch möglichst gut zugänglich ist.
  • Es hat sich experimentell als zweckmäßig erwiesen, den Durchmesser der Kathodenöffnung so zu-wählen, dass er sich bis zum Außenbereich um etwa ein Faktor 2 verjüngt.
  • Es kann ferner vorgesehen sein, dass die Kathode im Öffnungsbereich aus einem anderen Material gefertigt ist als in den anderen Bereichen der Kathode. So kann der Öffnungsbereich zum Beispiel aus einem niedererosiven Material wie Wolfram, Molybdän oder anderen niedererosiven Legierungen bestehen, um dadurch einen geringeren Abbrand bzw. eine geringe Erosion zu realisieren. Die restlichen Bereiche der Kathode können dann aus gut wärmeleitfähigem Material wie beispielsweise Kupfer bestehen.
  • In einem weiteren Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, dass auf der dem Entladungsraum zugewandten Seite die Anodenöffnung einen kleineren Durchmesser aufweist als die Kathodenöffnung. Bei einer auf dem linken Ast der Paschenkurve betriebenen Gasentladung bedingt dies nämlich längere elektrische Feldlinien dadurch, dass diese Feldlinien nun in die Öffnung hineinreichen, zum Beispiel bis zur Stufe in der Kathodenöffnung gemäß Fig. 4. Dies erlaubt eine Senkung des Gasdrucks im Entladungsraum, was wiederum eine Steigerung der Wiederholfrequenz der Gasentladungslampe ermöglicht. Die Steigerung der Wiederholfrequenz führt zu einem höheren Maß an auskoppelbarer Strahlungsenergie.
  • In einem weiteren Aspekt der Erfindung erlaubt der Einsatz einer sich verjüngenden Kathodenöffnung eine einfachere Betriebsweise der Gasentladungslampe. Bei einer sich verjüngenden Kathodenöffnung hat der Fachmann insgesamt zwei Durchmesser auszuwählen, nämlich den Durchmesser der Kathodenöffnung auf der dem Entladungsraum zugewandten Seite, und zusätzlich den Durchmesser auf der dem Außenraum zugewandten Seite der Kathodenöffnung. Je nach Wahl der beiden Durchmesser gewinnt der Fachmann beim Betrieb der Anlage einen weiteren Freiheitsgrad, durch den es ihm leichter fällt, geeignete Betriebsparameter zu wählen.
  • Je nach den Erfordernissen der jeweiligen Applikation kann es nämlich durchaus vorkommen, dass ein höherer Betriebsdruck erforderlich ist. Bei einer Kathodenöffnung, welche sich vom Entladungsraum beginnend in Richtung des Außenraumes verkleinert, kommt es in vielen Fällen zu einem höheren Betriebsdruck, so dass der Fachmann in diesem Fall die Maximierung der EUV-Ausbeute bei vorgegebener Pulsenergie besser vornehmen kann.
  • Bei anderen experimentellen Situationen kann jedoch genau das Gegenteil erforderlich sein, d.h. es kann erforderlich sein den Betriebsdruck zu senken. Zur Erläuterung sei angeführt, dass die maximal erreichbare Wiederholrate typischerweise mit der Zeit skaliert, mit der die Ladungsträger des Plasmas rekombinieren. In Experimenten hat sich gezeigt, dass die Vergrößerung des Kathodendurchmessers die Wahl eines niederigeren Betriebsdrucks erlaubt, und dies ermöglicht eine höhere Wiederholrate. Insgesamt wird somit je nach anwendungsspezifischen Erfordernissen eine leichtere Einstellung der Betriebsparameter möglich sein.

Claims (5)

  1. Gasentladungslampe für den Wellenlängenbereich extremer Ultraviolettstrahlung und/oder weicher Röntgenstrahlung, mit mindestens zwei Elektroden (1, 2) zur Erzeugung eines strahlungsemittierenden Plasmas (8) im zwischen diesen befindlichen Entladungsraum (6), bei der eine der Elektroden (1, 2) eine durchgehende Öffnung (4) zu einem angrenzenden Außenbereich (9) aufweist, wobei im Außenbereich (9) vor der Erzeugung des strahlungsemittierenden Plasmas (8) entweder durch. Zündung eines Hohlkathodenplasmas oder durch im Aussenbereich vorgesehene Mittel zur Vorionisierung Ladungsträger erzeugbar sind, welche über die Öffnung (4) in den Entladungsraum (6) transportierbar sind,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass sich die Elektrodenöffnung (4) in Richtung des Außenbereichs (9) verjüngt.
  2. Gasentladungslampe nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Elektroden im Öffnungsbereich aus einem Material gefertigt ist, das im Vergleich zum restlichen Elektrodenmaterial bezüglich einer Erosion durch thermische Belastung niedererosiver ist.
  3. Gasentladungslampe nach Anspruch 1 oder 2,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass eine Elektrodenöffnung mit kontinuierlichem oder stufenförmigem Übergang vorgesehen ist.
  4. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass innerhalb der Elektrodenöffnung eine Einschnürung vorliegt.
  5. Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
    dadurch gekennzeichnet,
    dass die Kathode mit der sich verjüngenden durchgehenden Öffnung ausgestattet ist.
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Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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PCT/IB2003/003657 WO2004019662A1 (de) 2002-08-21 2003-08-11 Gasentladungslampe

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EP (1) EP1532848B1 (de)
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KR (1) KR100991995B1 (de)
AT (1) ATE446666T1 (de)
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DE (1) DE10238096B3 (de)
TW (1) TWI339402B (de)
WO (1) WO2004019662A1 (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6770895B2 (en) 2002-11-21 2004-08-03 Asml Holding N.V. Method and apparatus for isolating light source gas from main chamber gas in a lithography tool
DE10256663B3 (de) * 2002-12-04 2005-10-13 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungslampe für EUV-Strahlung
US6919573B2 (en) 2003-03-20 2005-07-19 Asml Holding N.V Method and apparatus for recycling gases used in a lithography tool
DE10359464A1 (de) * 2003-12-17 2005-07-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung und/oder weicher Röntgenstrahlung
DE102005025624B4 (de) * 2005-06-01 2010-03-18 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
EP1883281B1 (de) * 2006-07-28 2012-09-05 Sage Innovations, Inc. Ein Verfahren zur Erzeugung eines Impuls-Strahles von energiereichen Teilchen, und Teilchenquelle dazu
US8227771B2 (en) * 2007-07-23 2012-07-24 Asml Netherlands B.V. Debris prevention system and lithographic apparatus

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3688946T2 (de) * 1985-04-30 1994-01-13 Nippon Telegraph & Telephone Röntgenstrahlungsquelle.
DE3927089C1 (de) * 1989-08-17 1991-04-25 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
US5504795A (en) * 1995-02-06 1996-04-02 Plex Corporation Plasma X-ray source
JP2701775B2 (ja) * 1995-03-17 1998-01-21 日本電気株式会社 プラズマ処理装置
US6232613B1 (en) * 1997-03-11 2001-05-15 University Of Central Florida Debris blocker/collector and emission enhancer for discharge sources
US6016027A (en) * 1997-05-19 2000-01-18 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Microdischarge lamp
DE19753696A1 (de) * 1997-12-03 1999-06-17 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Röntgenstrahlung aus einer Gasentladung
US6700326B1 (en) * 1999-06-14 2004-03-02 Osram Sylvania Inc. Edge sealing electrode for discharge lamp
DE19962160C2 (de) * 1999-06-29 2003-11-13 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtungen zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Röntgenstrahlung aus einer Gasentladung
TWI246872B (en) * 1999-12-17 2006-01-01 Asml Netherlands Bv Radiation source for use in lithographic projection apparatus
RU2206186C2 (ru) * 2000-07-04 2003-06-10 Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации
EP1300056A2 (de) * 2000-07-04 2003-04-09 Lambda Physik AG Verfahren zur erzeugung von kurzwellen-strahlung aus einem gasentladungsplasma und zugehörige vorrichtung
DE10139677A1 (de) * 2001-04-06 2002-10-17 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung
DE10151080C1 (de) * 2001-10-10 2002-12-05 Xtreme Tech Gmbh Einrichtung und Verfahren zum Erzeugen von extrem ultravioletter (EUV-)Strahlung auf Basis einer Gasentladung
DE10256663B3 (de) * 2002-12-04 2005-10-13 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungslampe für EUV-Strahlung
DE102005041567B4 (de) * 2005-08-30 2009-03-05 Xtreme Technologies Gmbh EUV-Strahlungsquelle mit hoher Strahlungsleistung auf Basis einer Gasentladung

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