WO2004043653A1 - 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法 - Google Patents

搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2004043653A1
WO2004043653A1 PCT/JP2003/014479 JP0314479W WO2004043653A1 WO 2004043653 A1 WO2004043653 A1 WO 2004043653A1 JP 0314479 W JP0314479 W JP 0314479W WO 2004043653 A1 WO2004043653 A1 WO 2004043653A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
reference position
arm mechanism
inspection light
arm
Prior art date
Application number
PCT/JP2003/014479
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroaki Saeki
Toshio Kamigaki
Original Assignee
Tokyo Electron Limited
Shinko Electric Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Limited, Shinko Electric Co., Ltd. filed Critical Tokyo Electron Limited
Priority to US10/534,709 priority Critical patent/US7167805B2/en
Publication of WO2004043653A1 publication Critical patent/WO2004043653A1/ja

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B62—LAND VEHICLES FOR TRAVELLING OTHERWISE THAN ON RAILS
    • B62D—MOTOR VEHICLES; TRAILERS
    • B62D57/00—Vehicles characterised by having other propulsion or other ground- engaging means than wheels or endless track, alone or in addition to wheels or endless track
    • B62D57/02—Vehicles characterised by having other propulsion or other ground- engaging means than wheels or endless track, alone or in addition to wheels or endless track with ground-engaging propulsion means, e.g. walking members
    • B62D57/032—Vehicles characterised by having other propulsion or other ground- engaging means than wheels or endless track, alone or in addition to wheels or endless track with ground-engaging propulsion means, e.g. walking members with alternately or sequentially lifted supporting base and legs; with alternately or sequentially lifted feet or skid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J19/00—Accessories fitted to manipulators, e.g. for monitoring, for viewing; Safety devices combined with or specially adapted for use in connection with manipulators
    • B25J19/02—Sensing devices
    • B25J19/021—Optical sensing devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00—Programme-controlled manipulators
    • B25J9/16—Programme controls
    • B25J9/1679—Programme controls characterised by the tasks executed
    • B25J9/1692—Calibration of manipulator
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67766—Mechanical parts of transfer devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus and a method for correcting a reference position in various operation directions of a transport mechanism used in a processing system such as a semiconductor wafer. Background technology
  • clustered processing systems have been introduced in order to improve throughput and yield.
  • Such a clustered processing system has a configuration in which a plurality of processing devices that perform the same or different processing from each other are mutually connected via a common transport container. This enables continuous processing of various processes without exposing the wafer to the atmosphere.
  • the semiconductor wafer is taken out of the cassette container installed at the introduction port using the transfer mechanism in the transfer container, and is taken into the transfer container.
  • the loaded wafer is aligned by the orienter, it is carried into the vacuum-loadable load lock container by the transfer mechanism.
  • the loaded wafer is loaded into the common transport container in a vacuum atmosphere using another transport mechanism in the common transport container.
  • a plurality of processing containers in a vacuum atmosphere are connected around the common transfer container. The wafers are sequentially fed into the respective processing containers centering on the common transfer container, and various processes are continuously performed. Then, the processed wafer is stored in the original cassette container, for example, by reversely passing the original path.
  • this type of processing system generally has a plurality of transport mechanisms inside. The transfer and transfer of wafers are performed automatically by these transfer mechanisms.
  • the transport mechanism is, for example, a multi-joint mechanism that can move horizontally, bend, extend, turn, and move up and down. Consisting of A pick provided at the tip of the arm directly holds the wafer as the transfer target and transfers it to a predetermined position.
  • a transfer mechanism first, two transfer arms that are capable of bending and extending with a vertical rotation axis separated from each other are provided on a single rotating base (for example, Kaihei 6—3 3 8 5 5 4). Secondly, it has a first arm pivotable on one base, and two second arms connected to the tip of the first arm so as to be horizontally rotatable independently of each other. (For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-284409).
  • a shift amount representing how much the operation coordinates at which the transport mechanism actually operates deviates from the design coordinates determined from the design dimensions of the processing system is calculated. Must be corrected (calibrated). This correction is performed in all directions in which the transport mechanism operates. That is, when the entire transport mechanism moves in the horizontal direction, the reference position is corrected in the horizontal direction (also called the X direction), and when the transport mechanism moves up and down, the reference position is corrected in the vertical direction (also called the Z direction). Is performed.
  • correction of the reference position in the turning direction (also referred to as 0 direction) of the entire arm and correction of the reference position in the bending and extending direction of the arm are performed.
  • a method of correcting the reference position there is a method of automatically correcting the coordinates of the transfer arm in the R direction and the 0 direction as described in, for example, U.S. Patent No. 5,535,306. is there.
  • the wafer holding part of the transfer arm in the common transfer container is moved in the common transfer container.
  • an optical cell having a vertical optical axis The position of the wafer holding unit is detected by a sensor.
  • the inspection light of one sensor can correct only the reference position in the R direction and the 0 direction, but cannot correct the reference position in the other directions, that is, the X direction and the Z direction. .
  • the coordinates of the transfer arm in the R, 0, and Z directions are automatically detected as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-254,359.
  • the wafer holding unit of the transfer arm in the common transfer container is moved in a processing container or the like connected to the common transfer container.
  • the first optical sensor having the vertical optical axis and the second optical sensor having the horizontal optical axis automatically detect the coordinates of the holding section in the R, 0, and Z directions.
  • the inspection light of the two sensors can correct the reference position only in the three directions of the R, ⁇ , and Z directions, and cannot correct the reference position in the other X directions. Disclosure of the invention
  • An object of the present invention is to provide a transfer mechanism that has a simple structure and can perform reference position correction in all directions of X, Z, 6 and R directions by using one inspection light.
  • An object of the present invention is to provide a correction device and a correction method for a reference position.
  • a movable body provided in a transport container so as to be movable in a horizontal direction, and a movable body which is mounted on the movable body so as to be capable of turning horizontally and moving up and down.
  • a light-emitting unit that emits light a light-receiving unit that is fixed at a position for receiving the inspection light with respect to the transport container, and detects light transmission and shading of the inspection light, and is attached to the rotating base.
  • Movement of the rotating base Barrier causes switching between the light shielding and passing light of the inspection light along with fine turning A light member, a reference position in each of horizontal, vertical and turning directions of the rotating base, based on detection of light transmission and light blocking by the light receiving unit according to movement and turning of the rotating base; And a correction means for correcting the reference position in the bending direction.
  • the correction unit corrects a reference position with respect to the horizontal direction of the rotation base based on a position at which a horizontal end of the rotation base switches between the passage of the inspection light and the shielding.
  • the reference position is corrected based on the upper end of the rotating base or the position where the light blocking member switches between the passage of the inspection light and the blocking of the inspection light.
  • the light blocking member corrects a reference position based on a position at which switching between the passage of the inspection light and light blocking, and with respect to the bending direction of the arm mechanism, The reference position is corrected based on a position where the pick or a part of the arm mechanism switches between the passage of the inspection light and the shielding.
  • the light shielding member is a light shielding plate protruding upward from the upper surface of the rotating base.
  • a first light shielding plate arranged on the center of rotation of the rotating base and a second light shielding plate arranged on the periphery of the rotating base are provided, and the light shielding plate is provided at the center of each light shielding plate. It is preferable that a light passage hole for transmitting the detection light is formed.
  • a moving body provided in the transport container so as to be movable in a horizontal direction
  • a base mounted to be movable up and down with respect to the moving body
  • a reference position correcting device for a transfer mechanism having an arm mechanism that is mounted to be horizontally pivotable and that can be bent and extended horizontally, and a pick that is mounted at the tip of the arm mechanism and that holds a transferred object.
  • a light emitting unit that is fixed in position with respect to the transport container and emits inspection light in a horizontal direction that intersects the moving direction of the moving body; and receives the inspection light with respect to the transport container.
  • a light receiving unit that detects light transmission and light blocking of the inspection light; and a light receiving unit that detects light transmission and light blocking by the light receiving unit in accordance with movement of the base.
  • Vertical reference position and front Correction means for correcting the reference position of the arm mechanism in the turning direction and the bending / extending direction, and a correction device provided with the correction means.
  • the correction unit corrects the reference position based on the position at which the horizontal end of the base switches between the passage of the inspection light and the shielding.
  • the arm mechanism or a part of the pick or the upper end of the base is based on a position where the detection light is switched between light transmission and light shielding.
  • the reference position is corrected based on the position where a part of the arm mechanism switches between the passage of the inspection light and the blocking of the inspection light with respect to the turning direction of the arm mechanism.
  • the reference position is corrected based on the position where the pick or a part of the arm mechanism switches between the passage of the inspection light and the shielding.
  • a moving body provided in the transport container so as to be movable in a horizontal direction, and a rotating base attached to the moving body so as to be capable of turning horizontally and moving up and down.
  • Two arm mechanisms which are attached to the rotating base via vertical rotating shafts spaced apart from each other, and which can be bent and stretched horizontally, and a transported object attached to the tip of each arm mechanism
  • correcting the reference position based on the position at which the light shielding member switches between the passage of the inspection light and the shielding, and with respect to the bending direction of the arm mechanism.
  • a moving body provided in the transport container so as to be movable in the horizontal direction
  • a base mounted to be movable up and down with respect to the moving body
  • Front to turning direction A step of correcting a reference position based on a position where a part of the arm mechanism switches between the passage of the inspection light and the blocking of the inspection light; and the pick or the arm mechanism with respect to the bending direction of the arm mechanism.
  • FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of a processing system including a first embodiment of a reference position correcting device for a transport mechanism according to the present invention
  • Figure 2 is a side view showing the transport mechanism of Figure 1;
  • FIG. 3 is a perspective view showing the mounting state of the transport mechanism and the reference position detecting device of FIG. 1;
  • FIG. 4 is a plan view showing the mounting state of the transport mechanism and the reference position detecting device of FIG. 1;
  • FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a state in which a reference position in the X direction is corrected by the correction device of FIG. 1;
  • FIG. 6 is a schematic longitudinal sectional view showing a state in which the reference position in the Z direction is corrected by the correction device of FIG. 1;
  • Fig. 7 shows the state when the reference position in the ⁇ direction is corrected by the correction device shown in Fig. 1.
  • FIG. 8 is a schematic side view showing a state where the reference position in the R direction is corrected by the correction device of FIG. 1;
  • FIG. 9 is a schematic plan view showing a state where the reference position in the R direction is corrected by the correction device of FIG. 1;
  • FIG. 10 is a perspective view showing a modification of the light shielding member
  • FIG. 11 is a perspective view showing a transport mechanism to which a second embodiment of the reference position correction device of the present invention is applied;
  • Figure 12 is a schematic side view of the transport mechanism shown in Figure 11;
  • FIG. 13 is a schematic plan view showing a state when the reference position in the ⁇ direction is corrected;
  • FIG. 14 is a schematic plan view showing a state when the folded state of the arm mechanism is changed.
  • this processing system 2 includes four processing containers 4, a common hexagonal transfer container 6, first and second load lock containers 8A and 8B, and an elongated introduction-side transfer container 1. 0 is provided.
  • the processing container 4 is joined to each of four sides of the common transfer container 6, and the first and second load lock containers 8A and 8B are joined to the other two side surfaces, respectively.
  • the first and second load lock containers 8A and 8B are commonly connected to the introduction-side transport container 10.
  • a first transfer mechanism 22 is provided in the introduction-side transfer container 10.
  • Gates that can be hermetically closed between the common transfer container 6 and each of the four processing containers 4 and between the common transfer container 6 and the first and second load lock containers 8A and 8B. They are joined via a valve G and are clustered. In addition, the space between each of the load lock containers 8A and 8B and the introduction-side transfer container 10 is airtight. A gate valve G which can be closed is interposed.
  • a susceptor 12 for placing a semiconductor wafer is provided in each of the four processing vessels 4.
  • the four processing vessels 4 perform the same or different types of processing on the wafers W.
  • a second articulated arm that can be bent, stretched, lowered, and swiveled is provided at a position where the two load port containers 8 A and 8 B and the four processing containers 4 can be accessed.
  • a transport mechanism 14 is provided.
  • the second transport mechanism 14 has two picks B1 and B2 that can bend and stretch independently in opposite directions, and can handle two wafers at a time. As the second transport mechanism 14, a mechanism having a single pick can be used.
  • the introduction-side transfer container 10 is formed of a horizontally long box. On one side surface of the transfer container 10, three carry-in ports for introducing a wafer are provided. Each entrance has a door 16 that can be closed. An introduction port 18 is provided corresponding to each loading port, and one cassette container 20 can be placed here. Each cassette container 20 can accommodate a plurality of wafers W, for example, 25 wafers W arranged in multiple stages at an equal pitch.
  • An orienter 26 for aligning the wafer is provided at one end of the transfer container 10.
  • the orienter 26 has a turntable 28 that is rotated by a drive motor, and rotates with the wafer W placed thereon.
  • An optical sensor 30 for detecting the peripheral portion of the wafer W is provided on the outer periphery of the turntable 28. The sensor 30 can detect a notch for positioning the wafer W, for example, a direction of a notch or an orientation flat, or a center position of the wafer W.
  • the first transfer mechanism 22 for transferring the wafer W which is a transfer object, is provided therein.
  • the first transfer mechanism 22 is slidably supported on a guide rail 24 extending horizontally in the longitudinal direction on one side of the introduction port 18 in the transfer container 10.
  • the guide rail 24 incorporates, for example, a linear motor having an encoder as a moving mechanism. By driving the linear motor, the first transport mechanism 22 moves along the guide rail 24.
  • the two ports ⁇ "lock containers 8A and 8B are respectively provided via gate valves G.
  • a mounting table 32 having a diameter smaller than the wafer diameter for temporarily mounting W is provided on the first transfer mechanism 22.
  • FIG. It has a moving body 38 including a leg portion 36 fitted in two guide grooves 34 formed in parallel with each other.
  • the linear motor 40 is provided so that the moving body 38 can be moved in the horizontal direction, that is, in the X direction along the guide rail 24.
  • a base 44 is attached to the moving body 38 via a ball screw 42 so as to be movable in the vertical direction, that is, in the Z direction. Further, a cylindrical rotating base 48 is attached to the base 44 via a rotating shaft 46 that can be driven and controlled in the horizontal turning direction, that is, in the zero direction. Therefore, the rotating base 48 is attached to the moving body 38 so as to be able to turn horizontally and move up and down.
  • two arm mechanisms 50 and 52 each composed of a multi-joint arm capable of bending and extending horizontally.
  • the two arm mechanisms 50 and 52 are mounted on vertical pivot shafts 54 and 56 which are spaced apart from each other at point symmetry with respect to the rotation center O1 of the rotation base 48. Have been.
  • Each of the arm mechanisms 50, 52 has a first arm 50A, 52A and a second arm 50B, 52B, which are connected to each other so as to be bendable.
  • Picks 58 and 60 for holding the wafer W are connected to the ends of the second arms 50B and 52B in a bendable manner.
  • the mounting portion 58A, 6OA of each pick 58, 60 to the second arm 50B, 52B is formed by other parts of the pick 58, 60 for structural and strength reasons.
  • the thickness in the vertical direction is larger than that (see Fig. 8).
  • Each arm mechanism 50, 52 rotates the corresponding rotation shaft 54, 56 by a drive motor (not shown), so that each pick 58, 60 moves the rotation shaft 54, 56. It bends and stretches horizontally to advance and retreat in the center radial direction (R direction).
  • the processing system 2 is provided with a reference position correcting device 64 according to the present invention.
  • the reference position compensator 64 includes a light emitting unit 66 and a light receiving unit 68 fixed in position with respect to the transport container 10, It includes a light-shielding member 70 (see FIG. 3) mounted on the transfer base 48 and correction means for correcting the reference position in each moving direction based on the detection result of the light receiving unit 68.
  • the processing system 2 is provided with a control unit 62 composed of, for example, a microcomputer for controlling the operation of the entire system, and the control unit 62 has a function as a correction unit for correcting a reference position. ing.
  • the light emitting section 66 emits the inspection light L in a horizontal direction crossing the moving direction (X direction) of the moving body 38.
  • the light receiving section 68 is fixed at a position for receiving the inspection light L, and detects whether the inspection light L is transmitted or not.
  • the light-shielding member 70 causes the inspection light L to pass through and to be switched between light-shielding and light-shielding as the rotation base 48 (moving body 38) moves and the rotation base 48 turns.
  • Such a reference position correcting device 64, the first transfer mechanism 22 and the introduction-side transfer container 10 constitute a transfer system.
  • the light-emitting unit 66 and the light-receiving unit 68 are respectively mounted at predetermined positions on the mutually facing side walls 1OA of the transport container 10.
  • the light emitting section 66 an LED element or a laser element can be used.
  • the mounting position of the light emitting part 66 ⁇ light receiving part 68 is considered so as not to hinder the operation of other members, for example, the introduction port 18 and the load lock containers 8A and 8B.
  • the control unit 62 as a correction unit performs an X direction, a Z direction, a 6 direction, and an R direction based on a position where each unit of the first transport mechanism 22 switches between the passage of the inspection light L and the shielding. Is corrected. As shown in FIG.
  • the light-shielding member 70 is composed of first and second light-shielding plates 72 and 74 provided to protrude upward from the flat upper surface of the rotating base 48.
  • Light passing holes 72A and 74A are formed substantially at the centers of the light shielding plates 72 and 74, respectively.
  • the length and width of each of the light shielding plates 72 and 74 is about 12 mm ⁇ 18 mm, and the diameter of the light passing holes 72 A and 74 A is about 2 mm.
  • the first light shielding plate 72 is located on the rotation center O 1 of the rotating base 48 as shown in FIGS. 2 and 3. Further, as shown in FIG. 3, the second light-shielding plate 74 is located at the periphery of the rotating base 48. Then, when the rotation base 48 is at a predetermined rotation angle, the inspection light L passes through each light passage hole 72 A and 74 A and reaches the light receiving section 68 as shown in FIGS. It is set to arrive. This allows the rotation The switching between the passage of the inspection light L and the blocking of the light can be caused when the base 48 turns within a small turning angle range.
  • the position where each part of the first transport mechanism 22 should switch between the passage of the inspection light L and the blocking of the inspection light L is as follows.
  • the design coordinates in each direction are obtained in advance as the design reference position, that is, the origin of the coordinates.
  • the correction is performed so that the actual reference positions in the X direction, the Z direction, the ⁇ direction, and the R direction of the first transport mechanism 22 coincide with the design reference positions. . All the operation data and the reference position correction data at this time are stored in the control unit 62 as the correction means.
  • the mechanical dimensional error at the reference position usually occurs about ⁇ 10 mm in the X direction, about ⁇ 4 mm in the Z direction, about ⁇ 2 degrees in the 0 direction, and about ⁇ 5 mm in the R direction.
  • the reference position correction in the X direction will be described with reference to FIG.
  • the light shielding plates 72 and 74 are not used.
  • the position where the rotation center O 1 of the rotation base 48 intersects the inspection light L is defined as the reference position (origin) of the X axis.
  • the first transport mechanism 22 (the base 44 and the rotating base 48) is slightly moved in the X direction from the inspection light L, for example, to a position about 3 O mm away. Move it. Then, the position in the Z direction is adjusted so that the rotating base 48 on the base 44 has substantially the same horizontal level as the inspection light L. In the illustrated example, the first transport mechanism 22 is located to the left of the inspection light L. In this state, the inspection light L emitted from the light emitting unit 66 is being received by the light receiving unit 68.
  • the first transport mechanism 22 slowly moves toward the inspection light L. Then, when the horizontal end ′ of the rotating base 48 (the end in the X direction that is the moving direction of the moving body) blocks the inspection light L and the inspection light L stops entering the light receiving unit 68 Is obtained and stored.
  • the first transport mechanism 22 is moved from the inspection light L in the X direction, to the opposite side to that in FIG. 5 (A), that is, slightly to the right in the figure, for example. Move to a position about 30mm away.
  • the first transport mechanism 22 is slowly moved toward the detection light L. Then, the position coordinate ⁇ 2 at the time when the horizontal end of the rotary base 48 blocks the inspection light L and the inspection light L does not enter the light receiving unit 68 is obtained and stored.
  • the first transport mechanism 22 is approached from both sides in the X direction with respect to the inspection light L to obtain two position coordinates ⁇ 1 and ⁇ 2, thereby improving the accuracy of the reference position correction. Then, only one of the position coordinates ⁇ X1 or ⁇ 2 is obtained, and the difference from the radius of the rotation base 48 is used as the displacement ⁇ of the rotation center ⁇ 1 (FIG. 4) to correct the reference position. May be performed.
  • the reference position correction in the ⁇ direction will be described with reference to FIG.
  • the position where the upper ends of the light shielding plates 72 and 74 provided on the rotating base 48 intersect with the inspection light L is defined as the reference position (origin) of the ⁇ axis.
  • the first transport mechanism 22 (the base 44 and the rotating base 48) is moved slightly downward from the inspection light L in the ⁇ direction, for example, to a position about 15 mm away. Keep it. Then, the position of the rotation base 48 in the X direction in which the reference position correction is completed is adjusted so that the light shielding plates 72 and 74 are located immediately below the inspection light L. In this case, since the reference position correction in the X direction has already been completed, the rotation base 48 can be accurately positioned immediately below the inspection light L. '
  • the first transport mechanism 22 is slowly raised toward the inspection light L. Then, the upper ends of the light shielding plates 72 and 74 block the inspection light L and receive the inspection light L.
  • the position coordinates when the inspection light L is no longer incident on the light part 68 are stored as the deviation amount ⁇ . Then, the reference position is corrected for the design reference position (coordinate origin) in the ⁇ direction by the amount of deviation ⁇ ⁇ . Thereby, the correction of the reference position in the ⁇ direction is completed.
  • the reference position in the ⁇ direction may be corrected by determining the position at which the upper end of the rotating base 48 switches between the passage of the inspection light L and the shielding.
  • the reference position correction in the 0 direction will be described mainly with reference to FIG.
  • the position where the inspection light L passes through the center of the light passage holes 72 7 and 74 7 of the light shielding plates 72 and 74 is defined as the reference position (origin) of the 0 axis.
  • the first transport mechanism 22 is moved in the X direction and the Z direction where the reference position correction is completed, and the emission direction of the inspection light L is adjusted to the two light shielding plates 7 2 and 7 4 attached to the upper surface of the rotating base 48. Adjust so that it substantially matches the central part of.
  • the rotating base 48 is slightly turned counterclockwise in the 0 direction (as viewed from above), for example, about 7 degrees, and the detection light L Take it to a position outside the light passage hole 74 A of the second light blocking plate 74.
  • the detection light L Take it to a position outside the light passage hole 74 A of the second light blocking plate 74.
  • the amount of movement of the first light shielding plate 72 located on the rotation center of the rotating base 48 is very small, the state where the inspection light L has passed through the light passage hole 72A is maintained.
  • the amount of turning movement of the second light-shielding plate 74 around the rotation base 48 is small, it is shown as a parallel movement.
  • the inspection light L passes through the light passage hole 74A of the second light shielding plate 74 as shown in FIG.
  • the detection light L passes through the other edge of the second light shielding plate 74 as shown in FIG. Switch from light blocking to light passing.
  • the inspection light L is slightly separated from the second light shielding plate 74 as shown in FIG. 7 (F).
  • the position coordinate ⁇ 0 1 at the time when the switching from the passage of the inspection light L to the light shielding is performed for the second time (FIG. 7D) is obtained and stored.
  • the rotating base 48 is slowly turned counterclockwise (as indicated by the dashed arrow) in the order of (F) to (A) in FIG.
  • the switching from the passage of the inspection light L to the shielding is performed for the second time (FIG. 7 (C))
  • the position coordinates ⁇ 0 2 are obtained and stored.
  • the first transport mechanism 22 is moved in the X, ⁇ , and 0 directions where the reference position correction is completed, and the arm mechanism 50 is set to a predetermined reference. Adjust the position by bending at an angle. For example, when the overall reach (reach) of the arm mechanism 50 is about 58 O mm, the arm mechanism 50 is bent so that the distance from the rotation center O 1 (FIG. 2) to the pick center is about 55 O mm. Keep it.
  • the horizontal level of the mounting portion 58 A which is the thick portion of the pick 58, and the inspection light L are adjusted to be substantially the same. Also, as shown in Fig. 9 (A), adjust so that the mounting portion 58A is separated from the inspection light by about 20 mm to one side in the X direction (to the right in Fig. 9). '
  • the correction of the reference position in the R direction is similarly performed for the other arm mechanism 52.
  • the inspection light L is supplied to the pick 58 or the arm mechanism 50 by another part capable of blocking the inspection light L instead of the mounting portion 58 5. You may make it cut off.
  • the position is adjusted so that the horizontal levels of the second arm 50B and the inspection light L are substantially the same.
  • the entire first transport mechanism 22 is slowly moved to one side in the X direction (to the right in FIG. 9).
  • the reference position in the R direction may be corrected based on the movement amount when the inspection light L is shielded at the distal end of the second arm 5OB and the light is switched from light transmission to light shielding.
  • the reference positions of the four axes in the X, Z, 0, and R directions are obtained. Corrections can be made. As a result, the operating coordinates at which the transport mechanism actually operates can be made to substantially match the design coordinates when there is no error such as a manufacturing error of the processing system.
  • the first light shielding plate having a light passage hole 72 A also at the rotation center of the rotating base 48 is provided. 72 was provided. However, without providing this, only the second light shielding plate 74 around the rotating base 48 may be provided.
  • the light passage hole 74 A in the light shielding plate 74 switching between light transmission and light shielding frequently occurs within a small turning angle of the rotating base 48. Then, by recognizing this on the light receiving section 68 side, it can be understood that the reference position correcting operation has been properly performed. However, when the first light shielding plate 72 is omitted and only the second light shielding plate 74 is provided, the light passing hole 74A may not be provided. In this case, the detection hole L is changed from light transmission to light shielding by the left and right ends of the second light shielding plate 74, or The position where the light is switched from light-shielded to light-transmitted may be used as a reference.
  • FIG. 1 ⁇ is a perspective view showing a modified example of the light shielding member, omitting the description of the arm mechanism and the like.
  • a diametrical groove 76 through which the inspection light L can pass is formed on the upper surface of the rotating base 48, so that the periphery of the groove 76 of the rotating base 48 is shaded.
  • the transport mechanism 80 in the present embodiment has a columnar base 82.
  • the base 82 is fixed to, for example, a base 44 (FIG. 2) that is movable in the Z direction.
  • the base 82 is provided with two arm mechanisms 84 and 86 in which the turning axis and the bending / extending axis are coaxial.
  • Each arm mechanism 8 4
  • Picks 88 and 90 for holding the wafer are attached to the tip of 86, respectively.
  • the arm mechanisms 84 and 86 have a common first arm 92 whose base end is mounted on the center of the base 82 so as to be able to turn horizontally, and a vertical arm with respect to the tip of the first arm 92. And second arms 94 and 96 to be connected. Each of the second arms 94 and 96 is horizontally rotatable independently of each other with respect to the first arm 92.
  • One pick 88 is attached to the tip of the upper second arm 96 so as to be horizontally rotatable.
  • the other pick 90 is attached to the tip of the lower second arm 94 so as to be horizontally rotatable via a horizontal U-shaped auxiliary arm 98 for avoiding interference with the pick 88. ing. As shown in FIG.
  • the distal ends (ends on the picks 88 and 90) of the second arms 94 and 96 have a planar shape that forms an arc having a radius of curvature r 1. .
  • the illustration of the auxiliary arm 98 is omitted in FIGS. 12 and 13.
  • a horse driving motor 100 for rotating the second arms 94 and 96 is provided at a connecting portion between the first arm 92 and the second arms 94 and 96.
  • the case of performing the reference position correction in the X direction is the same as in the case of the first embodiment. That is, the position (X coordinate) at which the passage of the detection light L and the light shielding are switched while the base 82 is moved at a low speed in the X direction is obtained. The reference position in the X direction is corrected based on the shift amount obtained as described above.
  • the reference position correction in the Z direction is performed is the same as the case of the first embodiment.
  • no light-blocking member such as a light-blocking plate
  • the light transmission and the light-blocking of the inspection light L are switched by the upper surface (upper end) of the base 82. That is, while the base 82 is raised at a low speed in the Z direction, the position (Z coordinate) at which the upper end of the base 82 blocks the inspection light L and switches from passing through to blocking is obtained.
  • the reference position in the Z direction is corrected based on the shift amount obtained as described above.
  • the passage of the inspection light L and the shielding of the inspection light L may be switched by a part of the arm mechanisms 84, 86 or the picks 88, 90.
  • the reference position is corrected by determining the 0-axis coordinate at which the inspection light L is switched between light transmission and light shielding by the second arms 94 and 96.
  • the reference positions are corrected in exactly the same way for both arm mechanisms 84 and 86, and the case where the reference position of one arm mechanism 84 is corrected will be described here.
  • the base 82 is moved in the corrected X and Z directions, and the second arm 94 of one arm mechanism 84 is moved.
  • the tip of the The position is adjusted to be slightly away from the light L in the X direction and to be almost the same level in the Z direction.
  • the arm mechanism 84 is bent at a predetermined bending angle. In the illustrated example, the arm mechanism 84 is largely bent and folded.
  • the first arm 92 of the arm mechanism 84 is slowly rotated in the ⁇ direction (counterclockwise in FIG. 13) while maintaining such an attitude. Then, the position ( ⁇ coordinate) at the time when the tip of the second arm 94 blocks the inspection light L and switches from light transmission to light shielding is obtained. The reference position in the 0 direction is corrected based on the deviation amount in the ⁇ direction thus obtained.
  • the case where the reference position correction in the R direction is performed is the same as the case of the first embodiment. That is, the base 82 is moved in the X direction at a low speed while one of the transfer arm mechanisms, for example, the arm mechanism 84 is bent at a predetermined angle. Then, the position (X coordinate) at which the thick mounting portion 90 A (FIG. 11) of the pick 90 of the arm mechanism 84 blocks the inspection light L and switches from light transmission to light shielding is obtained. The reference position in the R direction is corrected based on the deviation amount in the R axis direction obtained from this.
  • the present invention is not limited to this.
  • the present invention can be applied to a case where a transport mechanism having a single arm mechanism is used.
  • the reference position correction in each direction of the transport mechanism may be performed not only at the time of assembling or remodeling the system, but also periodically or irregularly in consideration of aging and the like.
  • the transfer mechanism provided in the introduction-side transfer container has been described as an example.However, if the transfer mechanism operates in the four axis directions of X, ⁇ , ⁇ , and R directions, it is provided anywhere. It is needless to say that the present invention can be applied to the transport mechanism provided.
  • the transported object is not limited to a semiconductor wafer, but may be an LCD substrate,
  • the present invention can be applied to a case of a glass substrate or the like (

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Transportation (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Manipulator (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)

Abstract

搬送容器（１０）内に搬送機構（２２）が設けられる。この搬送機構は、水平方向へ移動可能に設けられた移動体（３８）と、この移動体に対して水平旋回および昇降可能に取り付けられた回転基台（４８）と、この回転基台に対して水平に屈伸可能な２つのアーム機構と有する。この搬送機構のための基準位置補正装置は、搬送容器に対して位置固定された検査光（Ｌ）を射出および受光する発光部（６６）および受光部（６８）と、補正手段（６２）とを備える。補正手段は、回転基台の移動および旋回に応じた受光部による通光と遮光の検知に基づいて、回転基台の水平、垂直および旋回の各方向の基準位置とアーム機構の屈伸方向の基準位置とを補正する。回転基台に対しては、その移動および旋回に伴って検査光の通光と遮光との切り換えを生じさせる遮光部材が取り付けられている。

Description

明 細 書 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法 技 術 分 野
本発明は、 半導体ゥェハ等の処理システムに用いられる搬送機構の種々の動作 方向に対する基準位置を補正するための装置および方法に関する。 背 景 技 術
一般に、半導体集積回路を製造するためにはウェハに対して成膜、エッチング、 酸化、 拡散等の各種の処理が行われる。 そして、 半導体集積回路の微細化および 高集積化によって、 スループットおよび歩留りを向上させるために、 いわゆるク ラスタ化された処理システムが導入されている。 そのようなクラスタ化された処 理システムは、 互いに同一または異なる処理を行う複数の処理装置を、 共通の搬 送容器を介して相互に結合した構成を有する。 これにより、 ウェハを大気に晒す ことなく各種工程の連続処理が可能となる。
この種の処理システムにあっては、 搬送容器内の搬送機構を用いて、 導入ポー トに設置したカセット容器より半導体ウェハを取り出して、 搬送容器内へ取り込 む。 取り込まれたウェハは、 オリエンタにて位置合わせされた後、 搬送機構で、 真空引き可能なロードロック容器内へ搬入される。 搬入されたウェハは、 共通搬 送容器内の他の搬送機構を用いて、 真空雰囲気の共通搬送容器内に搬入される。 この共通搬送容器の周囲には、 真空雰囲気の複数の処理容器が連結されている。 この共通搬送容器を中心として、 各処理容器にウェハを順次送り込んで各種の処 理を連続的に行う。 そして、 処理済みのウェハは、 例えば元の経路を逆に通って 元のカセット容器へ収容される。
上述したように、 この種の処理システムにあっては一般に、 内部に複数の搬送 機構を有している。 そして、 ウェハの受け渡し、 および搬送はこれらの搬送機構 により自動的に行われる。
搬送機構は、 例えば水平移動、 屈伸、 旋回および昇降自在になされた多関節ァ ムよりなる。 そして、 アーム先端に設けたピックで、 被搬送体としてのウェハ を直接保持して所定の位置まで搬送するようになっている。 例えば、 そのような 搬送機構としては、 第 1に、 1つの回転基台の上に、 互いに離間した垂直の回動 軸を有して屈伸可能な 2本の搬送アームを設けたもの （例えば特開平 6— 3 3 8 5 5 4号公報） がある。 第 2に、 1つの基台上で旋回可能な第 1のアームと、 こ の第 1のアームの先端に互いに独立して水平回動可能に連結された 2つの第 2ァ 一ムとを有するもの （例えば特開平 1 1— 2 8 4 0 4 9号公報） がある。
この場合、 搬送機構の動作中にアームやピックやウェハが他の部材と干渉した り衝突したりすることを避けなければならない。 また、 ある一定の場所に置かれ ているウェハを適正に保持し、 且つこのウェハを目的とする位置まで搬送し、 そ の位置へ、 例えば ± 0 . 2 O mm以内の高い位置精度で受け渡す必要がある。 このため、 搬送機構を含むシステムの組立の際や大きな装置改造を行った際な どには、 いわゆるティーチングという操作が行われている。 こ 操作は、 搬送機 構のピックの移動経路においてウェハの受け渡しを行う場所などの重要な位置 を、 コンピュータ等の制御部に位置座標として覚えこませるものである。
上述のようにシステムの組立の際や大きな装置改造を行った際には、 各部材の 加工誤差、 組立誤差、 エンコーダの分解能に起因する誤差等が生ずることは避け られない。 そこで、 ティーチング操作を行うに先立って、 処理システムの設計上 の寸法から定まる設計座標に対して、 実際に搬送機構が動作する動作座標がどの 程度ずれているかを表すずれ量を求めて、 基準位置を補正 （較正） しなければな らない。この補正は搬送機構が動作する全ての方向について行われる。すなわち、 搬送機構の全体が水平方向へ移動する場合には、 水平方向 （X方向とも称す） へ の基準位置の補正、 昇降する場合には垂直方向 （Z方向とも称す） への基準位置 の補正が行われる。 また、 アーム全体の旋回方向 （0方向とも称す） への基準位 置の捕正と、アームの屈伸方向（R方向とも称す）の基準位置の補正も行われる。 このような基準位置補正の手法としては、 例えば米国特許第 5 , 5 3 5 , 3 0 6号明細書に記載されたような、 搬送アームの R方向および 0方向の座標を自動 補正するものがある。 その手法では、 共通搬送容器内の搬送アームにおけるゥェ ハ保持部を共通搬送容器内.で移動させる。 そして、 垂直方向の光軸を有する光セ ンサでウェハ保持部の位置を検出する。 この場合、 1本のセンサの検査光で R方 向と 0方向の 2方向の基準位置補正しかできず、 それ以外の方向、 すなわち X方 向と Z方向については基準位置捕正することができない。
また、 基準位置補正の他の手法としては、 特開平 1 1一 2 5 4 3 5 9号公報に 記載されたような、 搬送アームの R方向、 0方向および Z方向の各座標を自動検 出し、 それらの座標に基づいて基準位置を補正するものがある。 その手法では、 共通搬送容器内の搬送アームにおけるウェハ保持部を、 共通搬送容器に接続され た処理容器等の中で移動させる。 そして、 垂直方向の光軸を有する第 1光センサ および水平方向の光軸を有する第 2光センサで、 保持部の R方向、 0方向および Z方向の各座標を自動検出する。 この場合、 2本のセンサの検査光で R方向、 Θ 方向および Z方向の 3方向の基準位置補正しかできず、 他の X方向については基 準位置補正することができない。 発 明 の 開 示
本発明は、 以上のような問題点に着目し、 これを有効に解決すべく創案された ものである。 本発明の目的は、 構造が簡単で、 しかも 1本の検査光を用いること により X方向、 Z方向、 6方向および R方向の全ての方向の基準位置補正を行う ことが可能な、 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法を提供することに ある。
この目的を達成するために、 本発明の第 1の局面によれば、 搬送容器内に水平 方向へ移動可能に設けられた移動体と、 この移動体に対して水平旋回および昇降 可能に取り付けられた回転基台と、 この回転基台に対して互いに離間した垂直の 回動軸を介して取り付けられた水平に屈伸可能な 2つのアーム機構と、 各アーム 機構の先端部に取り付けられて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機構の ための基準位置捕正装置であって、 前記搬送容器に対して位置固定され、 前記移 動体の移動方向に対して交差するような水平方向へ検查光を射出する発光部と、 前記搬送容器に対して前記検査光を受光する位置に固定され、 前記検査光の通光 と遮光を検知する受光部と、 前記回転基台に対して取り付けられ、 前記回転基台 の移動および旋回に伴って前記検査光の通光と遮光との切り換えを生じさせる遮 光部材と、 前記回転基台の移動および旋回に応じた前記受光部による通光と遮光 の検知に基づいて、前記回転基台の水平、垂直および旋回の各方向の基準位置と、 前記アーム機構の屈伸方向の基準位置とを補正する補正手段と、 を備えたことを 特徴とする補正装置が提供される。
この場合、 例えば前記補正手段は、 前記回転基台の水平方向に対しては、 前記 回転基台の水平方向端部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づい て基準位置の補正を行い、 前記回転基台の垂直方向に対しては、 前記回転基台の 上端部または前記遮光部材が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づ いて基準位置の補正を行い、 前記回転基台の旋回方向に対しては、 前記遮光部材 が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行 い、 前記アーム機構の屈伸方向に対しては、 前記ピックまたは前記アーム機構の 一部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を 行う。
例えば前記遮光部材は、前記回転基台の上面より上方へ突出した遮光板である。 その場合、 前記回転基台の旋回中心上に配置された第 1の遮光板と、 前記回転 基台の周辺部に配置された第 2の遮光板とが設けられ、 各遮光板の中央に前記検 查光を通すための光通過孔が形成されていることが好ましい。
これによれば、 遮光板の光通過孔に検査光が通っていることを確認することに より、 基準位置補正操作がより適正に行われていることを確認することが可能と なる。
本発明の第 1の局面によれば、 さらに搬送容器内に水平方向へ移動可能に設け られた移動体と、 この移動体に対して昇降可能に取り付けられた基台と、 この基 台に対して水平旋回可能に取り付けられ水平に屈伸可能なアーム機構と、 このァ ーム機構の先端部に取り付けられて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機 構のための基準位置補正装置であって、 前記搬送容器に対して位置固定され、 前 記移動体の移動方向に対して交差するような水平方向へ検查光を射出する発光部 と、 前記搬送容器に対して前記検査光を受光する位置に固定され、 前記検査光の 通光と遮光を検知する受光部と、 前記基台の移動に応じた前記受光部による通光 と遮光の検知に基づいて、 前記基台の水平方向および垂直方向の基準位置と、 前 記アーム機構の旋回方向および屈伸方向の基準位置とを補正する補正手段と、 を 備えたことを特徴とする捕正装置が提供される。
この場合、 例えば前記補正手段は、 前記基台の水平方向に対しては、 前記基台 の水平方向端部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位 置の補正を行い、 前記基台の垂直方向に対しては、 前記アーム機構もしくは前記 ピックの一部、 または前記基台の上端部が、 前記検查光の通光と遮光とを切り換 える位置に基づ 1/、て基準位置の補正を行 、、 前記ァーム機構の旋回方向に対して は、 前記アーム機構の一部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づ いて基準位置の補正を行い、 前記アーム機構の屈伸方向に対しては、 前記ピック または前記アーム機構の一部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基 づいて基準位置の補正を行う。
次に、 本発明の第 2の局面によれば、 搬送容器内に水平方向へ移動可能に設け られた移動体と、 この移動体に対して水平旋回および昇降可能に取り付けられた 回転基台と、 この回転基台に対して互いに離間した垂直の回動軸を介して取り付 けられた水平に屈伸可能な 2つのアーム機構と、 各アーム機構の先端部に取り付 けられて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機構の基準位置を補正する方 法であって、前記搬送容器に対してそれぞれ位置固定された発光部から受光部へ、 前記移動体の移動方向に対して交差するような水平方向へ検査光を射出する工程 と、 前記回転基台の水平方向に対して、 前記回転基台の水平方向端部が前記検査 光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う工程と、 前 記回転基台の垂直方向に対して、 前記回転基台の上端部または前記回転基台に取 り付けられた遮光部材が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて 基準位置の補正を行う工程と、 前記回転基台の旋回方向に対して、 前記遮光部材 が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う 工程と、 前記アーム機構の屈伸方向に対して、 前記ピックまたは前記アーム機構 の一部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の捕正 を行う工程と、 を備えたことを特徴とする補正方法が提供される。
本発明の第 2の局面によれば、 さらに搬送容器内に水平方向へ移動可能に設け られた移動体と、 この移動体に対して昇降可能に取り付けられた基台と、 この基 台に対して水平旋回可能に取り付けられ水平に屈伸可能なアーム機構と、 このァ ーム機構の先端部に取り付けられて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機 構の基準位置を補正する方法であって、 前記搬送容器に対してそれぞれ位置固定 された発光部から受光部へ、 前記移動体の移動方向に対して交差するような水平 方向へ検査光を射出する工程と、 前記基台の水平方向に対して、 前記基台の水平 方向端部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補 正を行う工程と、 前記基台の垂直方向に対して、 前記アーム機構もしくは前記ピ ックの一部、 または前記基台の上端部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える 位置に基づいて基準位置の捕正を行う工程と、 前記アーム機構の旋回方向に対し て、 前記アーム機構の一部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づ いて基準位置の補正を行う工程と、 前記アーム機構の屈伸方向に対して、 前記ピ ックまたは前記アーム機構の一部が前記検查光の通光と遮光とを切り換える位置 に基づいて基準位置の補正を行う工程と、 を備えたことを特徴とする補正方法が 提供される。
以上のように、 本努明によれば、 1本の検查光を用いることにより X方向、 z 方向、 0方向および R方向の全ての方向の基準位置補正を行うことが可能な、 搬 '送機構の基準位置の補正装置およぴ補正方法が提供される。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明による搬送機構の基準位置補正装置の第 1実施形態を含む処理 システムの一例を示す構成図；
図 2は、 図 1の搬送機構を示す側面図；
図 3は、 図 1の搬送機構と基準位置捕正装置の取り付け状態を示す斜視図； 図 4は、 図 1の搬送機構と基準位置捕正装置の取り付け状態を示す平面図； 図 5は、 図 1の補正装置により X方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す 縦断面模式図；
図 6は、 図 1の補正装置により Z方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す 縦断面模式図；
図 7は、 図 1の補正装置により Θ方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す 水平断面模式図；
図 8は、 図 1の補正装置により R方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す 側面模式図；
図 9は、 図 1の補正装置により R方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す 平面模式図；
図 1 0は、 遮光部材の変形例を示す斜視図；
図 1 1は、 本発明の基準位置補正装置の第 2実施形態を適用する搬送機構を示 す斜視図；
図 1 2は、 図 1 1に示す搬送機構の側面模式図；
図 1 3は、 Θ方向の基準位置の補正を行う時の状態を示す平面模式図； 図 1 4は、 アーム機構の折り畳み状態が変わった時の状態を示す平面模式図。 発明を実施するための最良の形態
以下に、 本発明に係る搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法の実施形 態を添付図面に基づいて詳述する。
まず、 図 1〜図 1 0を参照して、 本発明による搬送機構の基準位置捕正装置の 第 1実施形態を含む処理システムについて説明する。
図 1に示すように、 この処理システム 2は、 4つの処理容器 4と、 六角形状の 共通搬送容器 6と、 第 1および第 2ロードロック容器 8 A、 8 Bと、 細長い導入 側搬送容器 1 0とを備えている。
具体的には、 共通搬送容器 6の 4つの側面にそれぞれ処理容器 4が接合され、 他の 2つの側面に、 第 1およぴ第 2ロードロック容器 8 A、 8 Bがそれぞれ接合 される。 そして、 この第 1およぴ第 2ロードロック容器 8 A、 8 Bに、 導入側搬 送容器 1 0が共通に接続される。 導入側搬送容器 1 0内には、 第 1搬送機構 2 2 が設けられている。
共通搬送容器 6と 4つの各処理容器 4との間、 並びに共通搬送容器 6と第 1お よび第 2ロードロック容器 8 A、 8 Bとの間は、 それぞれ気密に閉鎖可能になさ れたゲートバルブ Gを介して接合されて、 クラスタツールイ匕されている。 また、 各ロードロック容器 8 A、 8 Bと導入側搬送容器 1 0との間にも、 それぞれ気密 に閉鎖可能になされたゲートバルブ Gが介在されている。
4つの処理容器 4内には、 それぞれ半導体ウェハを载置するサセプタ 1 2が設 けられている。 4つの処理容器 4は、 ウェハ Wに対して互いに同種の、 或いは異 種の処理を施すようになつている。 共通搬送容器 6内において、 2つのロード口 ック容器 8 A、 8 Bおよび 4つの処理容器 4にアクセスできる位置に、 屈伸、 畀 降およぴ旋回可能になされた多関節アームよりなる第 2搬送機構 1 4が設けられ ている。 この第 2搬送機構 1 4は、 互いに反対方向へ独立して屈伸できる 2つの ピック B 1、 B 2を有し、 一度に 2枚のウェハを取り扱うことができるようにな つている。 なお、 第 2搬送機構 1 4としては、 単一のピックを有しているものも 用いることができる。
導入側搬送容器 1 0は、 横長の箱体により形成されている。 この搬送容器 1 0 の一側面には、 ウェハを導入するための 3つの搬入口が設けられている。 各搬入 口には、 閉鎖可能なドア 1 6が設けられる。 各搬入口に対応させて、 導入ポート 1 8が設けられ、 ここに 1つずつカセット容器 2 0を載置できるようになってい る。 各カセット容器 2 0には、 複数枚、 例えば 2 5枚のウェハ Wを等ピッチで多 段に载置して収容できるようになっている。
また、 搬送容器 1 0の一端側には、 ウェハの位置合わせを行うオリエンタ 2 6 が設けられる。 オリエンタ 2 6は、 駆動モータによって回転される回転台 2 8を 有し、 この上にウェハ Wを載置した状態で回転するようになっている。 この回転 台 2 8の外周には、 ウェハ Wの周縁部を検出するための光学センサ 3 0が設けら れている。 このセンサ 3 0により、 ウェハ Wの位置決め用の切り欠き、 例えばノ ツチやオリエンテーションフラットの向きや、 ウェハ Wの中心位置を検出できる ようになっている。
搬送容器 1 0内には、 その内部で被搬送体であるウェハ Wを搬送するための上 記第 1搬送機構 2 2が設けられる。 この第 1搬送機構 2 2は、 搬送容器 1 0内の 導入ポート 1 8側の一側面で長手方向に水平に延びる案内レール 2 4上にスライ ド可能に支持されている。 この案内レール 2 4には、 移動機構として例えばェン コーダを有するリニアモータが内蔵されている。このリニアモータの駆動により、 第 1搬送機構 2 2が案内レール 2 4に沿って移動する。 搬送容器 1 0の他側面には、 前記 2つの口 ^"ドロック容器 8 A、 8 Bがそれぞ れゲートバルブ Gを介して設けられる。 各ロードロック容器 8 A、 8 B内には、 ウェハ Wを一時的に载置するためのウェハ径ょりも小さい直径の載置台 3 2が設 置されている。 第 1搬送機構 2 2は、 図 2にも示すように、 案内レール 2 4と並 行に形成された 2本の案内溝 3 4内に嵌装された脚部 3 6を含む移動体 3 8を有 している。 この移動体 3 8と案内レール 2 4との間に、 上記リニアモータ 4 0が 設けられている。 これにより、 移動体 3 8を案内レール 2 4に沿って水平方向、 すなわち X方向へ移動できるようになつている。
また、 この移動体 3 8には、 ボールネジ 4 2を介し ベース 4 4が垂直方向、 すなわち Z方向へ移動可能に取り付けられている。そして、このベース 4 4には、 水平旋回方向、 すなわち 0方向へ駆動制御可能な回転軸 4 6を介して、 円筒形の 回転基台 4 8が取り付けられている。 従って、 この回転基台 4 8は、 移動体 3 8 に対して水平旋回および昇降可能に取り付けられている。
そして、 この回転基台 4 8上に、 水平に屈伸可能な多関節アームよりなる 2つ のアーム機構 5 0、 5 2が設けられている。 両アーム機構 5 0、 5 2は、 それぞ れ回転基台 4 8の回転中心 O 1に対して点対称の位置に互いに離間して配置され た垂直の回動軸 5 4、 5 6に取り付けられている。
各アーム機構 5 0、 5 2は、 それぞれ、 互いに屈曲可能に連結された第 1ァー ム 5 0 A、 5 2 Aおよび第 2アーム 5 0 B、 5 2 Bを有している。 各第 2アーム 5 0 B、 5 2 Bの先端には、 ウェハ Wを保持するためのピック 5 8、 6 0が屈曲 可能に連結されている。 各ピック 5 8、 6 0における第 2アーム 5 0 B、 5 2 B への取付部 5 8 A、 6 O Aは、 構造上および強度上の理由により、 当該ピック 5 8、 6 0の他の部分よりも垂直方向の厚さが大きくなつている （図 8参照）。 各 アーム機構 5 0、 5 2は、 図示しない駆動モータにより対応する回動軸 5 4、 5 6を回動させることにより、 各ピック 5 8、 6 0が、 回動軸 5 4、 5 6を中心と する半径方向 （R方向） へ進退するよう、 水平に屈伸する。
次に、 図 1に戻って、 この処理システム 2は、 そして、 この処理システム 2に は、 本発明に係る基準位置補正装置 6 4が設けられる。 この基準位置補正装置 6 4は、 搬送容器 1 0に対して位置固定された発光部 6 6および受光部 6 8と、 回 転基台 4 8上に取り付けられた遮光部材 7 0 (図 3参照） と、 受光部 6 8の検出 結果に基づいて各移動方向の基準位置を補正する補正手段とを備えている。 この 処理システム 2は、 システム全体の動作を制御するための、 例えばマイクロコン ピュータ等よりなる制御部 6 2を備え、 この制御部 6 2が基準位置を補正する補 正手段としての機能を有している。
発光部 6 6は、 移動体 3 8の移動方向 （X方向） に対して交差するような水平 方向へ検査光 Lを射出する。 また、 受光部 6 8は、 検査光 Lを受光する位置に固 定され、 検査光 Lの通光と遮光を検知する。 遮光部材 7 0は、 回転基台 4 8 (移 動体 3 8 ) の移動および回転基台 4 8旋回に伴って検査光 Lの通光と遮光との切 り換えを生じさせる。
このような基準位置補正装置 6 4と、 第 1搬送機構 2 2および導入側搬送容器 1 0とで搬送システムが構成されている。
具体的には、 発光部 6 6と受光部 6 8は、 それぞれ搬送容器 1 0の互いに対向 する側壁 1 O Aの所定の位置に取り付けられている。 発光部 6 6としては、 L E D素子やレーザ素子を用いることができる。 発光部 6 6ゃ受光部 6 8の取り付け 位置は、 他の部材、 例えば導入ポート 1 8やロードロック容器 8 A、 8 Bの.動作 に対して障害とならないように考慮される。 そして、 補正手段としての制御部 6 2は、 第 1搬送機構 2 2の各部が検査光 Lの通光と遮光との切り換えを行う位置 に基づいて、 X方向、 Z方向、 6方向および R方向の基準位置の補正を行う。 図 3に示すように、 遮光部材 7 0は、 回転基台 4 8の平坦な上面より上方へ突 出させて設けた第 1および第 2の遮光板 7 2、 7 4よりなる。 各遮光板 7 2、 7 4の略中央には、 光通過孔 7 2 A、 7 4 Aが形成されている。 例.えば、 各遮光板 7 2、 7 4の縦横の大きさは 1 2 mm X 1 8 mm程度であり、 その光通過孔 7 2 A、 7 4 Aの直径は 2 mm程度である。
ここで、 第 1の遮光板 7 2は、 図 2および図 3に示すように、 回転基台 4 8の 回転中心 O 1上に位置されている。 また、 第 2の遮光板 7 4は、 図 3に示すよう に、 回転基台 4 8の周辺部に位置されている。 そして、 回転基台 4 8が所定の旋 回角度にある時に、 図 3および図 4に示すように検査光 Lが各光通過孔 7 2 A、 7 4 Aを通過して受光部 6 8まで届くように設定されている。 これにより、 回転 基台 4 8の僅かな旋回角度の範囲内での旋回に対して検査光 Lの通光と遮光との 切り換えを生じさせることができるようになつている。
次に、 以上のように構成された基準位置補正装置 6 4を用いて行われる第 1搬 送機構 2 2の基準位置補正方法について説明する。
まず、 処理システム 2の設計図面等に基づいて、 第 1搬送機構 2 2の各部が検 査光 Lの通光と遮光とを （例えば通光から遮光へ） 切り換えることになるはずの 位置を、 設計上の基準位置、 すなわち座標の原点として各方向の設計上の座標が 予め求められる。
そして、 第 1搬送機構 2 2の X方向、 Z方向、 Θ方向、 R方向の各方向の実際 の動作上の基準位置が、 設計上の基準位置と一致するように補正を行うことにな る。 この時の動作データや基準位置捕正データは全て、 補正手段としての制御部 6 2に記'慮さ;^ることになる。
なお、 基準位置の機械的な寸法誤差は、 通常、 X方向は ± 1 0 mm程度、 Z方 向は ± 4 mm程度、 0方向は ± 2度程度、 R方向は ± 5 mm程度生ずる。
< X方向の基準位置補正〉 '
まず、 図 5を参照して、 X方向の基準位置補正について説明する。 なお、 X方 向の基準位置補正の場合には、 遮光板 7 2、 7 4は用いない。 また、 ここでは回 転基台 4 8の回転中心 O 1が検査光 Lと交差する位置を X軸の基準位置 （原点） としている。
最初に、 図 5 (A) に示すように、 第 1搬送機構 2 2 (ベース 4 4および回転 基台 4 8 ) を検査光 Lから X方向へ僅かに、 例えば 3 O mm程度離れた位置まで 移動させておく。 そして、 ベース 4 4上の回転基台 4 8が検査光 Lと略同一水平 レペルになるように Z方向の位置を調整する。 図示例では、 検査光 Lの左側に第 1搬送機構 2 2が離れて位置している。 この状態では、 発光部 6 6より射出され た検査光 Lは受光部 6 8にて受光されている状態となっている。
次に、 図 5 (B ) に示すように、 第 1搬送機構 2 2を検査光 Lに向けてゆつく りと移動して行く。 そして、 回転基台 4 8の水平方向端部 ' (移動体の移動方向で ある X方向の端緣） が検査光 Lを遮光して受光部 6 8に検査光 Lが入射しなくな つた時の位置座標 Δ 1を求めて記憶する。 次に、 図 5 (C) に示すように、 第 1搬送機構 22を検査光 Lから X方向に、 図 5 (A) の場合とは反対側へ、 すなわち図中右側方向へ僅かに、 例えば 30m m程度離れた位置まで移動する。
次に、 図 5 (D) に示すように、 この第 1搬送機構 22を検查光 Lに向けてゆ つく りと移動して行く。 そして、 回転基台 48の水平方向端部が検査光 Lを遮光 して受光部 68に検査光 Lが入射しなくなつた時の位置座標 ΔΧ2を求めて記憶 する。
このようにして、 2つの位置座標 ΔΧ 1、 ΔΧ 2が得られたならば、 （ΔΧ1 +厶 Χ2) ノ 2 =厶 Xを演算することにより位置ずれ量 ΔΧを求める。 そして、 この位置ずれ量 ΔΧだけ、 X方向の設計上の基準位置 （座標原点） に対して基準 位置の補正を行う。 これにより、 X方向における基準位置の補正が完了すること になる。
ここでは検査光 Lに対して X方向の両側から第 1搬送機構 22を接近させて 2 つの位置座標 ΔΧ 1および ΔΧ 2を求めることで、 基準位置補正の精度を高める ようにした。 し力 し、いずれか一方の位置座標 Δ X 1または ΔΧ2のみを求めて、 その回転基台 48の半径との差を回転中心 Ο 1 (図 4)の位置ずれ量 Δ として、 基準位置の補正を行うようにしてもよい。
く Ζ方向の基準位置捕正〉
次に、 図 6を参照して、 Ζ方向の基準位置補正について説明する。 なお、 ここ では回転基台 48に設けた遮光板 72、 74の上端が検査光 Lと交差する位置を Ζ軸の基準位置 （原点） としている。
まず、 図 6 (Α) に示すように、 第 1搬送機構 22 (ベース 44および回転基 台 48) を検査光 Lから Ζ方向の下側へ僅かに、 例えば 15 mm程度離れた位置 まで移動させておく。 そして、 基準位置補正が完了している X方向の回転基台 4 8の位置を、 検査光 Lの直下に遮光板 72、 74が位置するように調整する。 こ の場合、 X方向の基準位置補正がすでに完了しているので、 検査光 Lの直下に回 転基台 48を正確に位置決めすることができる。 '
次に、 図 6 (B) に示すように、 第 1搬送機構 22を検査光 Lに向けてゆつく りと上昇させて行く。 そして、 遮光板 72、 74の上端が検査光 Lを遮光して受 光部 6 8に検査光 Lが入射しなくなった時の位置座標をずれ量 Δ Ζとして記憶す る。 そして、 このずれ量 Δ Ζだけ Ζ方向の設計上の基準位置 （座標原点） に対し て基準位置補正を行う。 これにより、 Ζ方向における基準位置の補正が完了する ことになる。
なお、 遮光板 7 2、 7 の代わりに、 回転基台 4 8の上端が検査光 Lの通光と 遮光とを切り換える位置を求めることにより、 Ζ方向の基準位置の補正をしても よい。
< 0方向の基準位置補正 >
次に、 主に図 7を参照して、 0方向の基準位置補正について説明する。 なお、 ここでは検査光 Lが遮光板 7 2、 7 4の光通過孔 7 2 Α、 7 4 Αの中央を通過す る位置を 0軸の基準位置 （原点） としている。
まず、 第 1搬送機構 2 2を基準位置補正が完了した X方向および Z方向へ移動 させて、 検査光 Lの射出方向が回転基台 4 8の上面に取り付けた両遮光板 7 2、 7 4の略中央部に一致するように調整する。
この状態で、 図 7 (A) に示すように、回転基台 4 8を 0方向で（上から見て） 反時計回りに僅かに、 例えば 7度程度旋回させて、 検查光 Lが第 2の遮光板 7 4 の光通過孔 7 4 Aから外れる位置までもって行く。 この場合、 回転基台 4 8の回 転中心上に位置する第 1の遮光板 7 2の移動量は微少なので、 その光通過孔 7 2 Aに検査光 Lが通過した状態が維持される。 なお、 図示例では、 回転基台 4 8周 辺部の第 2の遮光板 7 4の旋回移動量は僅かなので、 これが平行移動したように 示している。
次に、 この回転基台 4 8をゆつくりと （実線矢印で示すように） 時計回りに旋 回させて行く。 すると、 まず、 図 7 (B ) に示すように、 検査光 Lは第 2の遮光 板 7 4の一側のエッジで遮光されて通光から遮光に切り換わる。 更に旋回が進む と検査光 Lは、 図 7 (C) に示すように第 2の遮光板 7 4の光通過孔 7 4 A内へ 移動して遮光から通光に切り換わる。 ·
そして、 更に旋回が進むと検査光 Lは、 図 7 (D ) に示すように第 2の遮光板 7 4の光通過孔 7 4 Aを過ぎて通光から遮光に切り換わる。 更に旋回が進むと検 查光 Lは、 図 7 (E) に示すように第 2の遮光板 7 4の他側のエッジを通過して 遮光から通光に切り換わる。
そして、 更に旋回が進むと検査光 Lは、 図 7 (F ) に示すように第 2の遮光板 7 4から僅かに離れた状態となる。 ここで、 例えば検査光 Lの通光から遮光への 切り換えが 2回目に行われた時 （図 7 (D) ) の位置座標 Δ 0 1を求めて記憶す る。
次に、回転基台 4 8を反対に（破線矢印で示すように）反時計回りに図 7の（F) 〜 （A) の順にゆっくりと旋回させる。 検査光 Lの通光から遮光への切り換えが 2回目に行われた時 （図 7 (C) ) の位置座標 Δ 0 2を求めて記憶する。
そして、 2つの位置座標 Δ Θ 1 Δ 0 2が得られたならば、 （ Δ 0 1 + Δ S 2 ) ノ 2 = Δ 0を演算することにより、 位置ずれ量 Δ 0を求める。 そして、 この位置 ずれ量 Δ Θだけ Θ方向の設計上基準位置 （座標原点） に対して補正を行う。 これ により、 0方向における基準位置の補正が完了することになる。
く R方向の基準位置捕正 >
次に、 図 8および図 9を参照して、 R方向 （アーム機構の屈伸する半径方向） の基準位置補正について説明する。
この R方向の基準位置補正は、 両アーム機構 5 0 、 5 2について同様に行うの で、 ここでは一方のアーム機構 5 0について基準位置補正する場合について説明 する。
まず、 図 8に示すように、 第 1搬送機構 2 2を、 その基準位置補正が完了した X方向、 Ζ方向および 0方向へ移動させると共に、 アーム機構 5 0を予め定めら れた基準となる角度に屈曲させて位置調整しておく。 例えばアーム機構 5 0の全 体の到達距離 （リーチ） が 5 8 O mm程度の場合には、 回転中心 O 1 (図 2 ) か らピック中心までが 5 5 O mm程度になるように屈曲させておく。
ここで、 ピック 5 8の肉厚部分である取付部 5 8 Aと検査光 Lとの水平レベル が略同一となるように調整する。 また、 図 9 (A) にも示すように、 取付部 5 8 Aが検査光 から X方向の一側 （図 9の右方） に 2 0 mm程度離れるように調整 する。 '
このような状態で、この第 1搬送機構 2 2の全体をゆつくりと X方向の他側（図 9の左方） へ移動させる。 そして、 図 9 (B ) に示すように検査光 Lが取付部 5 8 Aで遮光されて通光から遮光に切り替わった時の移動量 Δ X 3を求めて記憶す る。 そして、 この移動量 Δ Χ 3と設計上の移動量 Δ Χ 4から Δ Χ 3— Δ Χ 4 =厶 Rを演算することにより、 位置ずれ量 を求める。 そして、 この位置ずれ量厶 Rだけ R方向の設計上の基準位置 （座標原点） に対して位置補正を行う。 これに より、 R方向における基準位置の補正が完了することになる。
なお、 前述したように、 この R方向における基準位置の補正は他方のアーム機 構 5 2についても同様に行う。 また、 この R方向の基準位置の補正を行う場合、 取付部 5 8 Αに代えて、 ピック 5 8やアーム機構 5 0において検査光 Lを遮断で きるような別の部位によって、 検査光 Lを遮断するようにしてもよい。 例えば、 第 2アーム 5 0 Bと検査光 Lとの水平レベルが略同一となるように位置調整す る。 そして、 第 1搬送機構 2 2の全体をゆっくりと X方向の一側 （図 9の右方） へ移動させる。 そして、 検査光 Lが第 2アーム 5 O Bの先端部で遮光されて通光 から遮光に切り替わつた時の移動量に基づいて、 R方向における基準位置の補正 を行ってもよい。
このようにして、 1組の発光部 6 6と受光部 6 8とを設けて、 1本の検査光 L を用いるだけで、 X方向、 Z方向、 0方向および R方向の 4軸の基準位置補正を 行うことができる。 この結果、 実際に搬送機構が動作する動作座標を、 処理シス テムの製造誤差等の誤差がないとした場合の設計座標にほぼ一致させることがで きる。
上記第 1実施形態では、 検査光 Lの光束を絞り込んで光の検出精度を向上させ るために、 回転基台 4 8の回転中心にも光通過孔 7 2 Aの付いた第 1の遮光板 7 2を設けた。 しかし、 これを設けないで回転基台 4 8周辺部の第 2の遮光板 7 4 のみを設けてもよい。
また、 遮光板 7 4に光通過孔 7 4 Aを設けることによって、 通光と遮光との切 り換えが回転基台 4 8の僅かな旋回角度の範囲内で頻繁に生じる。 そして、 これ を受光部 6 8側で認識することにより、 基準位置の補正操作が適正に行われてい ることが判る。 し力 し、 第 1の遮光板 7 2を省略して第 2の遮光板 7 4のみを設 けた場合には、 これに光通過孔 7 4 Aを設けないようにしてもよい。 その場合に は、 第 2の遮光板 7 4の左右の端部によって検查孔 Lが通光から遮光へ、 或いは 遮光から通光へ切り替わつた位置を基準とすればよ 、。
また、 上記第 1実施形態にあっては、 回転基台 4 8の僅かな旋回角度の範囲内 にて検査光の通光と遮光とを切り換える遮光部材 7 0として、 遮光板 7 2、 7 4 を設けた場合を例にとって説明したが、 これに代えて図 1 0に示すようにしても よい。 図 1◦は遮光部材の変形例を、 アーム機構等の記載を省略して示す斜視図 である。 図 1 0に示す変形例は、 回転基台 4 8の上面に、 検査光 Lが通過可能な 直径方向の溝部 7 6を形成することで、 回転基台 4 8の溝部 7 6周辺を遮光部材
7 0として用いるようにしてたものである。
また、 上記第 1実施形態にあっては、 回転基台 4 8上にその旋回軸とは一致し ない屈伸軸を持つ 2つのアーム機構 5 0、 5 2を設けた場合を説明したが、 本発 明はこれに限定されない。 例えば、 上記特開平 1 1— 2 8 4 0 4 9号公報に示さ れるような、 回転しない基台上に旋回軸と屈伸軸が同軸になされた 2つの多関節 アームを備える他形式の搬送機構にも、 本発明を適用できる。
以下、図 1 1〜図 1 4を参照して、そのような他形式の搬送機構に適用される、 本発明による基準位置補正装置の第 2実施形態について説明する。 なお、 図 1お ょぴ図 2に示す上記第 1実施形態と同様の構成については説明を適宜省略する。 図 1 1〜図 1 3に示すように、 本実施形態における搬送機構 8 0は、 円柱状の 基台 8 2を有している。 この基台 8 2は、 例えば Z方向へ移動可能になされたベ —ス 4 4 (図 2 ) に固定されている。 この基台 8 2には、 旋回軸と屈伸軸が同軸 になされた 2つのアーム機構 8 4、 8 6が設けられている。 各アーム機構 8 4、
8 6の先端には、 ウェハを保持するピック 8 8、 9 0がそれぞれ取り付けられて いる。
アーム機構 8 4、 8 6は、 基端が基台 8 2の中心上に水平旋回可能に取付られ た共通の第 1アーム 9 2と、 この第 1アーム 9 2の先端に対してそれぞれ上下に 連結される第 2アーム 9 4、 9 6とを有している。 各第 2アーム 9 4、 9 6は、 第 1アーム 9 2に対して互いに独立して水平回動可能となっている。 上段の第 2 アーム 9 6の先端には、一方のピック 8 8が水平回動可能に取り付けられている。 下段の第 2アーム 9 4の先端には、 他方のピック 9 0が、 ピック 8 8との干渉を 避けるための横 U字状の補助アーム 9 8を介して、 水平回動可能に取り付けられ ている。 図 1 3に示すように、 各第 2アーム 9 4、 9 6の先端部 （ピック 8 8、 9 0側端部） は、 曲率半径 r 1の円弧をなすような平面形状を有している。 なお、 図 1 2および図 1 3には補助アーム 9 8の記載を省略している。 また、 第 1アーム 9 2と第 2アーム 9 4、 9 6との連結部には、 第 2アーム 9 4、 9 6 を回動させる馬区動モータ 1 0 0が設けられている。
次に、 このように構成された搬送機構 8 0に対して基準位置の補正を行う方法 について説明する。
く X方向の基準位置補正 >
まず、 X方向の基準位置捕正を行う場合は、 上記第 1実施形態の場合と同様で ある。 すなわち、 X方向に基台 8 2を低速で移動しつつ検查光 Lの通光と遮光と が切り替わった位置 （X座標） を求める。 これにより求められたずれ量に基づい て、 X方向の基準位置の補正を行う。
< Z方向の基準位置補正〉
Z方向の基準位置捕正を行う場合も、 上記第 1実施形態の場合と同様である。 ただし、 ここでは遮光板等の遮光部材を設けていないので、 基台 8 2の上面 （上 端） によって、 検査光 Lの通光と遮光とを切り換える。 すなわち、 基台 8 2を Z 方向に低速で上昇させつつ、 基台 8 2の上端が検査光 Lを遮断して通光から遮光 に切り替わった位置 （Z座標） を求める。 これにより求められたずれ量に基づい て、 Z方向の基準位置の補正を行う。
なお、 アーム機構 8 4、 8 6またはピック 8 8、 9 0の一部によって、 検査光 Lの通光と遮光とを切り換えるようにしてもよい。
< 6方向の基準位置補正〉
Θ方向の基準位置補正を行う場合は、 第 2アーム 9 4、 9 6によって検査光 L の通光と遮光とが切り換わる 0軸座標を求めて、 基準位置の補正を行うようにす る。 この場合、 両アーム機構 8 4、 8 6は全く同様にして基準位置の補正を行う ので、 ここでは一方のアーム機構 8 4の基準位置の補正を行う場合について説明 する。
まず、 図 1 2および図 1 3 (A) に示すように、 補正済みの X方向おょぴ Z方 向へ基台 8 2を移動して、 一方のアーム機構 8 4の第 2アーム 9 4の先端が、 検 査光 Lから X方向には僅かに離れ、 Z方向では略同一レベ^/となるように位置調 節する。 これと同時に、 アーム機構 8 4を予め定められた屈曲角度に屈曲させて おく。 図示例では、 アーム機構 8 4は大きく屈曲されて折り畳んだ状態となって いる。 また、 図 1 3 (A) に示すように、 X方向については、 アーム機構 8 4の 旋回中心と検査光 Lとの間の距離 X 5が、 第 2アーム 9 4の先端の曲率の半径 r 1と一致するように （X 5 = r 1 ) 位置決めする。
次に、 このような姿勢を維持した状態でアーム機構 8 4の第 1アーム 9 2を Θ 方向 （図 1 3では反時計回りに） にゆっくりと旋回させる。 そして、 第 2アーム 9 4の先端が検査光 Lを遮断して、 通光から遮光へ切り替わった時の位置 （Θ座 標） を求める。 これにより求めた Θ方向のずれ量に基づいて、 0方向の基準位置 の補正を行う。
この場合、 図 1 4に示すように、 アーム機構 8 4の屈曲状態が図 1 3に示す場 合と異なっていても、 基準位置の補正に影響を与えることはない。
< R方向の基準位置補正〉
R方向の基準位置補正を行う場合も、 上記第 1実施形態の場合と同様である。 すなわち、 一方の搬送アーム機構、 例えばアーム機構 8 4を予め定められた角度 で屈曲させた状態で、 基台 8 2を低速で X方向へ移動させる。 そして、 アーム機 構 8 4のピック 9 0における肉厚な取付部 9 0 A (図 1 1 ) が検査光 Lを遮断し て通光から遮光に切り替わった位置 （X座標） を求める。 これより求めた R軸方 向のずれ量に基づいて、 R方向の基準位置の補正を行う。
以上の実施形態では、 それぞれ 2つのアーム機構を有する搬送機構を用いる場 合につていて説明したが、 本発明はこれに限定されない。 例えば、 単一のアーム 機構を有する搬送機構を用いる場合にも本発明を適用できるのは勿論である。 また、 搬送機構の各方向の基準位置補正は、 システムの組み立て時や改造時の みでなく、 経年変化等を考慮して、 定期的、 或いは不定期的に行うようにしても よい。 また、 以上の実施形態では、 導入側搬送容器内に設けられた搬送機構を例 にとつて説明したが、 X、 Ζ、 θ、 R方向の 4軸方向に動作する搬送機構ならぱ、 どこに設けられた搬送機構にも適用できるのは勿論である。
また、搬送される被搬送体としては、半導体ウェハに限定されず、 L C D基板、 ガラス基板等の場合にも本発明を適用することができる (

Claims

請求 の 範 囲
1 . 搬送容器内に水平方向へ移動可能に設けられた移動体と、 この移動体に 対して水平旋回および昇降可能に取り付けられた回転基台と、 この回転基台に対 して互いに離間した垂直の回動軸を介して取り付けられた水平に屈伸可能な 2つ のアーム機構と、 各アーム機構の先端部に取り付けられて被搬送体を保持するピ ックとを有する搬送機構のための基準位置補正装置であって、
前記搬送容器に対して位置固定され、 前記移動体の移動方向に対して交差する ような水平方向へ検査光を射出する発光部と、
前記搬送容器に対して前記検查光を受光する位置に固定され、 前記検査光の通 光と遮光を検知する受光部と、
前記回転基台に対して取り付けられ、 前記回転基台の移動および旋回に伴って 前記検査光の通光と遮光との切り換えを生じさせる遮光部材と、
前記回転基台の移動および旋回に応じた前記受光部による通光と遮光の検知に 基づいて、 前記回転基台の水平、 垂直および旋回の各方向の基準位置と、 前記ァ ーム機構の屈伸方向の基準位置とを補正する補正手段と、
を備えたことを特徴とする補正装置。
2 . 前記補正手段は、
前記回転基台の水平方向に対しては、 前記回転基台の水平方向端部が前記検査 光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行.い、
前記回転基台の垂直方向に対しては、 前記回転基台の上端部または前記遮光部 材が前記検查光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行 い、
前記回転基台の旋回方向に対しては、 前記遮光部材が前記検査光の通光と遮光 とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
前記アーム機構の屈伸方向に対しては、 前記ピックまたは前記アーム機構の一 部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の捕正を行 う、 ことを特徴とする請求項 1記載の補正装置。
3 . 前記遮光部材は、前記回転基台の上面より上方へ突出した遮光板である、 ことを特徴とする請求項 1または 2記載の補正装置。
4 . 前記回転基台の旋回中心上に配置された第 1の遮光板と、 前記回転基台 の周辺部に配置された第 2の遮光板とが設けられ、
各遮光板の中央に前記検査光を通すための光通過孔が形成されている、 ことを 特徴とする請求項 3記載の補正装置。
5 . 前記ピックにおける前記アーム機構への取付部分は、 前記ピックの他の 部分よりも垂直方向の厚さが大きくなっており、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 前記ピックの取付 部分により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴とす る請求項 1または 2記載の補正装置。
6 . 前記ピックが取り付けられる前記アーム機構の先端部は、 円弧状の平面 形状を有し、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 前記アーム機構の 先端部により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴と する請求項 1または 2記載の補正装置。
7 . 搬送容器内に水平方向へ移動可能に設けられた移動体と、 この移動体に 対して昇降可能に取り付けられた基台と、 この基台に対して水平旋回可能に取り 付けられ水平に屈伸可能なアーム機構と、 このアーム機構の先端部に取り付けら れて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機構のための基準位置補正装置で あって、
前記搬送容器に対して位置固定され、 前記移動体の移動方向に対して交差する ような水平方向へ検査光を射出する発光部と、
前記搬送容器に対して前記検査光を受光する位置に固定され、 前記検査光の通 光と遮光を検知する受光部と、
前記基台の移動に応じた前記受光部による通光と遮光の検知に基づいて、 前記 基台の水平方向および垂直方向の基準位置と、 前記アーム機構の旋回方向および 屈伸方向の基準位置とを補正する補正手段と、
を備えたことを特徴とする補正装置。
8 . 前記補正手段は、
前記基台の水平方向に対しては、 前記基台の水平方向端部が前記検査光の通光 と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
前記基台の垂直方向に対しては、 前記アーム機構もしくは前記ピックの一部、 または前記基台の上端部が、 前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づ いて基準位置の補正を行い、 .
前記アーム機構の旋回方向に対しては、 前記アーム機構の一部が前記検査光の 通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行い、
前記アーム機構の屈伸方向に対しては、 前記ピックまたは前記アーム機構の一 部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行 う、 ことを特徴とする請求項 7記載の捕正装置。
9 . 前記ピックにおける前記アーム機構への取付部分は、 前記ピックの他の 部分よりも垂直方向の厚さが大きくなっており、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 前記ピックの取付 部分により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴とす る請求項 7または 8記載の補正装置。
1 0 . 前記ピックが取り付けられる前記アーム機構の先端部は、 円弧状の平 面形状を有し、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 前記アーム機苒の 先端部により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴と する請求項 7または 8記載の補正装置。
1 1 . 前記アーム機構は、 前記基台に対して水平旋回可能に取り付けられた 第 1アームと、 この第 1アームの先端部に対して互いに独立して水平回動可能に 連結された 2つの第 2アームとを有し、 各第 2アームの先端部に、 それぞれ前記 ピックが取り付けられおり、
前記アーム機構の旋回方向に対しては、 前記第 2アームの一部により前記検査 光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴とする請求項 7または 8 記載の補正装置。
1 2 . 各ピックにおける前記第 2ァームへの取付部分は、 当該ピックの他の 部分よりも垂直方向の厚さが大きくなっており、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 各ピックの取付部 分により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴とする 請求項 1 1記載の補正装置。
1 3 . 前記ピックが取り付けられる各第 2アームの先端部は、 円弧状の平面 形状を有し、
前記アーム機構の屈伸方向に対する基準位置の補正時には、 各第 2アームの先 端部により前記検査光の通光と遮光とを切り換えるようにした、 ことを特徴とす る請求項 1 1記載の補正装置。
1 4 . 搬送容器内に水平方向へ移動可能に設けられた移動体と、 この移動体 に対して水平旋回および昇降可能に取り付けられた回転基台と、 この回転基台に 対して互いに離間した垂直の回動軸を介して取り付けられた水平に屈伸可能な 2 つのアーム機構と、 各アーム機構の先端部に取り付けられて被搬送体を保持する ピックとを有する搬送機構の基準位置を補正する方法であって、
前記搬送容器に対してそれぞれ位置固定された発光部から受光部へ、 前記移動 体の移動方向に対して交差するような水平方向へ検査光を射出する工程と、 前記回転基台の水平方向に対して、 前記回転基台の水平方向端部が前記検査光 の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う工程と、 前記回転基台の垂直方向に対して、 前記回転基台の上端部または前記回転基台 に取り付けられた遮光部材が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づ いて基準位置の捕正を行う工程と、
前記回転基台の旋回方向に対して、 前記遮光部材が前記検査光の通光と遮光と を切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う工程と、
前記アーム機構の屈伸方向に対して、 前記ピックまたは前記アーム機構の一部 が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の捕正を行う 工程と、
を備えたことを特徴とする補正方法。
1 5 . 搬送容器内に水平方向へ移動可能に設けられた移動体と、 この移動体 に対して昇降可能に取り ^けられた基台と、 この基台に対して水平旋回可能に取 り付けられ水平に屈伸可能なアーム機構と、 このアーム機構の先端部に取り付け られて被搬送体を保持するピックとを有する搬送機構の基準位置を補正する方法 であって、
前記搬送容器に対してそれぞれ位置固定された発光部から受光部へ、 前記移動 体の移動方向に対して交差するような水平方向へ検査光を射出する工程と、 前記基台の水平方向に対して、 前記基台の水平方向端部が前記検査光の通光と 遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う工程と、
前記基台の垂直方向に対して、 前記アーム機構もしくは前記ピックの一部、 ま たは前記基台の上端部が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて 基準位置の補正を行う工程と、
前記アーム機構の旋回方向に対して、 前記アーム機構の一部が前記検査光の通 光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の捕正を行う工程と、
前記アーム機構の屈伸方向に対して、 前記ピックまたは前記アーム機構の一部 が前記検査光の通光と遮光とを切り換える位置に基づいて基準位置の補正を行う 工程と、
を備えたことを特徴とする補正方法。
PCT/JP2003/014479 2002-11-14 2003-11-13 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法 WO2004043653A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/534,709 US7167805B2 (en) 2002-11-14 2003-11-13 Device for correcting reference position for transfer mechanism, and correction method

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002331213A JP4277100B2 (ja) 2002-11-14 2002-11-14 搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法
JP2002-331213 2002-11-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004043653A1 true WO2004043653A1 (ja) 2004-05-27

Family

ID=32310618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2003/014479 WO2004043653A1 (ja) 2002-11-14 2003-11-13 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7167805B2 (ja)
JP (1) JP4277100B2 (ja)
KR (1) KR100779774B1 (ja)
CN (1) CN100411829C (ja)
WO (1) WO2004043653A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE45772E1 (en) 2006-07-20 2015-10-20 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4892225B2 (ja) * 2005-10-28 2012-03-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理方法、真空搬送装置および半導体処理装置
CN1876529B (zh) * 2006-07-11 2010-12-01 友达光电股份有限公司 玻璃基板移送装置
JP2008200827A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Nec Access Technica Ltd パーソナルロボット
WO2009145082A1 (ja) * 2008-05-27 2009-12-03 ローツェ株式会社 搬送装置、位置教示方法及びセンサ治具
JP5450222B2 (ja) * 2010-04-14 2014-03-26 株式会社ダイヘン 産業用ロボットのアームの基準位置決め方法、及び産業用ロボット
JP5940342B2 (ja) * 2011-07-15 2016-06-29 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法、ならびに記憶媒体
KR20130009700A (ko) * 2011-07-15 2013-01-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반송 장치, 기판 처리 시스템, 기판 반송 방법, 및 기억 매체
CN103367222B (zh) * 2012-04-10 2016-08-17 上海卓晶半导体科技有限公司 一种多片盒升降旋转系统
US9082801B2 (en) 2012-09-05 2015-07-14 Industrial Technology Research Institute Rotatable locating apparatus with dome carrier and operating method thereof
US9373534B2 (en) 2012-09-05 2016-06-21 Industrial Technology Research Institute Rotary positioning apparatus with dome carrier, automatic pick-and-place system, and operating method thereof
US20140121804A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-01 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Calibration system and method for automatic handling equipment
JP6293499B2 (ja) * 2014-01-27 2018-03-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置
CN106003027B (zh) * 2016-06-03 2019-03-01 广州视源电子科技股份有限公司 机械臂运动路径的设置方法和系统
JP6601385B2 (ja) * 2016-12-27 2019-11-06 株式会社ダイフク 学習用支持装置
JP6568165B2 (ja) * 2017-08-14 2019-08-28 ファナック株式会社 ロボットシステム及びロボット制御装置
CN108082823B (zh) * 2018-01-19 2024-07-02 江苏智维自动化设备有限公司 冷藏存储机构
JP2019203802A (ja) * 2018-05-24 2019-11-28 セイコーエプソン株式会社 電子部品搬送装置および電子部品検査装置
JP7108509B2 (ja) * 2018-09-21 2022-07-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、位置合わせ装置および位置合わせ方法
JP7433180B2 (ja) * 2020-09-23 2024-02-19 東京エレクトロン株式会社 搬送装置およびロボットアームのティーチング方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03104575A (ja) * 1989-09-18 1991-05-01 Sony Corp ロボット及び原点復帰方法
JPH10329083A (ja) * 1997-05-29 1998-12-15 Nec Corp 原点検出装置
JP2000127069A (ja) * 1998-10-27 2000-05-09 Tokyo Electron Ltd 搬送システムの搬送位置合わせ方法
JP2001156153A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置および搬送教示システム
JP2001252883A (ja) * 2000-03-09 2001-09-18 Denso Corp 移動ロボットシステム
JP2002064128A (ja) * 2000-08-22 2002-02-28 Kaijo Corp 基板搬送装置及びこれを備えた基板処理装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4545252B2 (ja) * 1999-09-01 2010-09-15 東京エレクトロン株式会社 半導体製造装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03104575A (ja) * 1989-09-18 1991-05-01 Sony Corp ロボット及び原点復帰方法
JPH10329083A (ja) * 1997-05-29 1998-12-15 Nec Corp 原点検出装置
JP2000127069A (ja) * 1998-10-27 2000-05-09 Tokyo Electron Ltd 搬送システムの搬送位置合わせ方法
JP2001156153A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置および搬送教示システム
JP2001252883A (ja) * 2000-03-09 2001-09-18 Denso Corp 移動ロボットシステム
JP2002064128A (ja) * 2000-08-22 2002-02-28 Kaijo Corp 基板搬送装置及びこれを備えた基板処理装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE45772E1 (en) 2006-07-20 2015-10-20 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE46465E1 (en) 2006-07-20 2017-07-04 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE47145E1 (en) 2006-07-20 2018-11-27 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE47909E1 (en) 2006-07-20 2020-03-17 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE48031E1 (en) 2006-07-20 2020-06-02 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE48792E1 (en) 2006-07-20 2021-10-26 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus
USRE49671E1 (en) 2006-07-20 2023-09-26 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Wafer transfer apparatus and substrate transfer apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004160613A (ja) 2004-06-10
US20060015279A1 (en) 2006-01-19
CN1711155A (zh) 2005-12-21
KR100779774B1 (ko) 2007-11-27
CN100411829C (zh) 2008-08-20
US7167805B2 (en) 2007-01-23
JP4277100B2 (ja) 2009-06-10
KR20050074576A (ko) 2005-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004043653A1 (ja) 搬送機構の基準位置の補正装置および補正方法
KR102379269B1 (ko) 통합된 얼라이너를 갖는 로봇
JP4674705B2 (ja) 搬送システムの搬送位置合わせ方法及び搬送システム
KR101745045B1 (ko) 반송 기구의 위치 결정 방법, 피처리체의 위치 어긋남량 산출 방법 및 반송 기구의 티칭 데이터의 수정 방법
US7129147B2 (en) Delivery position aligning method for use in a transfer system and a processing system employing the method
US7107125B2 (en) Method and apparatus for monitoring the position of a semiconductor processing robot
KR101446413B1 (ko) 반송 시스템
US7532940B2 (en) Transfer mechanism and semiconductor processing system
JP7220060B2 (ja) 基板検査システム、電子デバイスの製造装置、基板検査方法、及び電子デバイスの製造方法
JP6063716B2 (ja) 基板処理装置及び基板搬送方法
JP2008173744A (ja) 搬送システムの搬送位置合わせ方法
JPH11254359A (ja) 部材搬送システム
JP4576694B2 (ja) 被処理体の処理システムの搬送位置合わせ方法及び被処理体の処理システム
JP2006351884A (ja) 基板搬送機構及び処理システム
KR101915878B1 (ko) 기판 주고받음 위치의 교시 방법 및 기판 처리 시스템
KR102588876B1 (ko) 로봇의 위치 보정 방법 및 로봇
KR20130103789A (ko) 반송 장치, 진공 장치
JP2011108958A (ja) 半導体ウェーハ搬送装置及びこれを用いた搬送方法
JP2005093807A (ja) 半導体製造装置
JP2002151568A (ja) 被処理体の処理システム及び搬送方法
JP2004193344A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
KR20210103409A (ko) 반송 장치의 교시 방법 및 처리 시스템
JPH0870029A (ja) ウェハ搬送装置
WO2022259948A1 (ja) 搬送システム及び判定方法
JP2024002030A (ja) プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の運転方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): CN KR US

DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020057008311

Country of ref document: KR

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2006015279

Country of ref document: US

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10534709

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 20038A33801

Country of ref document: CN

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020057008311

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10534709

Country of ref document: US