JPH0870029A - ウェハ搬送装置 - Google Patents
ウェハ搬送装置Info
- Publication number
- JPH0870029A JPH0870029A JP27030594A JP27030594A JPH0870029A JP H0870029 A JPH0870029 A JP H0870029A JP 27030594 A JP27030594 A JP 27030594A JP 27030594 A JP27030594 A JP 27030594A JP H0870029 A JPH0870029 A JP H0870029A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pick
- elevator
- detection sensor
- cassette
- wafer
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 交換に伴ってピックの位置がエレベータの昇
降方向にずれても、エレベータ上のカセットとピックの
相対位置を容易にかつ正確に制御することを可能にす
る。 【構成】 エレベータ３３にセットしたカセット３４内
のウェハＷの昇降方向位置を検知するためなどの位置検
知センサ３５により、ピック２６、２７をそれぞれ検知
し、これらの検知信号に基づいてエレベータ３３に対す
るピック２６、２７の位置を制御するために制御部３７
に記憶されている基準位置データに補正を加えることに
より、ウェハＷに対するピック２６、２７の位置決めが
正確に行われる。
降方向にずれても、エレベータ上のカセットとピックの
相対位置を容易にかつ正確に制御することを可能にす
る。 【構成】 エレベータ３３にセットしたカセット３４内
のウェハＷの昇降方向位置を検知するためなどの位置検
知センサ３５により、ピック２６、２７をそれぞれ検知
し、これらの検知信号に基づいてエレベータ３３に対す
るピック２６、２７の位置を制御するために制御部３７
に記憶されている基準位置データに補正を加えることに
より、ウェハＷに対するピック２６、２７の位置決めが
正確に行われる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、エレベータ上にセット
されたカセットに対してロボットによりウェハを搬出入
する方式のウェハ搬送装置に係わり、特にウェハサイズ
の変更などによりロボットの先端アームであるピックを
交換した際に生じるピックの位置ずれによる動作不良の
防止に関する。
されたカセットに対してロボットによりウェハを搬出入
する方式のウェハ搬送装置に係わり、特にウェハサイズ
の変更などによりロボットの先端アームであるピックを
交換した際に生じるピックの位置ずれによる動作不良の
防止に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のウェハ搬送装置におけるロボッ
トのピックは、破損や汚れまたはウェハサイズの変更な
どにより比較的頻繁に交換される。従来は、単にピック
を交換するだけであったが、例えば、同一構造、同一寸
法のピックに交換しても多少の位置ずれは避けられず、
エレベータの昇降方向については、通常０．１〜０．５
ｍｍ、場合によってはそれ以上の誤差を生じる。
トのピックは、破損や汚れまたはウェハサイズの変更な
どにより比較的頻繁に交換される。従来は、単にピック
を交換するだけであったが、例えば、同一構造、同一寸
法のピックに交換しても多少の位置ずれは避けられず、
エレベータの昇降方向については、通常０．１〜０．５
ｍｍ、場合によってはそれ以上の誤差を生じる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、カセットに
収納されているウェハの間隔は比較的狭いため、これら
の間に挿入するピックの位置を正確に制御する必要があ
る。交換に伴う位置ずれを小さく抑えるためには、ピッ
クの加工精度と取付精度を高める必要があるが、限度が
あり、特にコスト的な面から好ましくない。
収納されているウェハの間隔は比較的狭いため、これら
の間に挿入するピックの位置を正確に制御する必要があ
る。交換に伴う位置ずれを小さく抑えるためには、ピッ
クの加工精度と取付精度を高める必要があるが、限度が
あり、特にコスト的な面から好ましくない。
【０００４】本発明は、交換に伴ってピックの位置がず
れても、エレベータ上のカセットに対するピックの位置
を容易にかつ正確に制御することができるウェハ搬送装
置を提供することを目的としている。
れても、エレベータ上のカセットに対するピックの位置
を容易にかつ正確に制御することができるウェハ搬送装
置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、エレベータと、このエレベータ上にセット
され複数のウェハを多段に収納するカセットと、このカ
セット内のウェハを搬送すべく前記カセットに対して出
入されるとともにエレベータとの相対的な昇降移動によ
りウェハの授受を行うピックを有するロボットとからな
るウェハ搬送装置において、エレベータの昇降方向に沿
う方向の前記ピックの位置を検知すべく取り付けられた
位置検出センサと、この位置検出センサからの検出信号
によりピックの基準取付位置からの位置ずれ量を求め、
この位置ずれ量から前記ロボットまたはエレベータの前
記昇降方向の位置を制御するための基準位置データに補
正を加えてエレベータとピックとの相対的な移動を制御
する制御部とを有するものである。
の本発明は、エレベータと、このエレベータ上にセット
され複数のウェハを多段に収納するカセットと、このカ
セット内のウェハを搬送すべく前記カセットに対して出
入されるとともにエレベータとの相対的な昇降移動によ
りウェハの授受を行うピックを有するロボットとからな
るウェハ搬送装置において、エレベータの昇降方向に沿
う方向の前記ピックの位置を検知すべく取り付けられた
位置検出センサと、この位置検出センサからの検出信号
によりピックの基準取付位置からの位置ずれ量を求め、
この位置ずれ量から前記ロボットまたはエレベータの前
記昇降方向の位置を制御するための基準位置データに補
正を加えてエレベータとピックとの相対的な移動を制御
する制御部とを有するものである。
【０００６】なお、ピックが、エレベータの昇降方向に
移動可能に構成されている場合には、位置検知センサ
は、エレベータの昇降方向に沿う方向の予め定められた
所定位置に前記ピックが位置するときこれを検知して信
号を生じるように構成され、この位置検知センサからの
検知信号を受けたときのピックの昇降方向位置制御用の
検出位置と該方向の基準位置とのずれ量から位置ずれ量
を求めるように構成されていることが好ましい。また、
このとき、位置検知センサは、カセット内のウェハ位置
を検知するためのものであることが好ましい。
移動可能に構成されている場合には、位置検知センサ
は、エレベータの昇降方向に沿う方向の予め定められた
所定位置に前記ピックが位置するときこれを検知して信
号を生じるように構成され、この位置検知センサからの
検知信号を受けたときのピックの昇降方向位置制御用の
検出位置と該方向の基準位置とのずれ量から位置ずれ量
を求めるように構成されていることが好ましい。また、
このとき、位置検知センサは、カセット内のウェハ位置
を検知するためのものであることが好ましい。
【０００７】さらにまた、ピックが昇降移動を行わない
場合には、位置検知センサは、エレベータに取り付けら
れ、エレベータの昇降位置からピックの位置を検知する
ように構成されていることが好ましい。さらにまた、位
置検知センサは、エレベータの昇降方向のピックの絶対
位置を検出可能に構成してもよく、ロボットが複数のピ
ックを有する場合には、制御部は各ピック毎に基準位置
データを補正可能に構成することが好ましい。
場合には、位置検知センサは、エレベータに取り付けら
れ、エレベータの昇降位置からピックの位置を検知する
ように構成されていることが好ましい。さらにまた、位
置検知センサは、エレベータの昇降方向のピックの絶対
位置を検出可能に構成してもよく、ロボットが複数のピ
ックを有する場合には、制御部は各ピック毎に基準位置
データを補正可能に構成することが好ましい。
【０００８】
【作用】ピックを交換した際、位置検知センサにより、
エレベータの昇降方向のピック位置を検知し、この検知
信号に基づいてピックの該方向の基準位置とのずれ量を
制御部が自動的に算出し、ピックの基準位置データに補
正を加える。これはピックが複数ある場合には、各ピッ
ク毎に行うことが好ましい。この補正によりピックの交
換に伴う位置ずれがあっても、エレベータ上のカセット
に対するピックの位置は正確に制御され、動作不良のな
い的確な搬送が可能になる。
エレベータの昇降方向のピック位置を検知し、この検知
信号に基づいてピックの該方向の基準位置とのずれ量を
制御部が自動的に算出し、ピックの基準位置データに補
正を加える。これはピックが複数ある場合には、各ピッ
ク毎に行うことが好ましい。この補正によりピックの交
換に伴う位置ずれがあっても、エレベータ上のカセット
に対するピックの位置は正確に制御され、動作不良のな
い的確な搬送が可能になる。
【０００９】
【実施例】以下本発明の実施例について図１ないし図３
を参照して説明する。図１において、１は搬送室、２は
ロボット、３，４はカセット室、５，６はプロセス室、
７〜１２はゲートバルブである。
を参照して説明する。図１において、１は搬送室、２は
ロボット、３，４はカセット室、５，６はプロセス室、
７〜１２はゲートバルブである。
【００１０】ロボット２は、旋回中心軸２１を中心に回
転される第１アーム２２と、この第１アーム２２の先端
の軸２３を中心に回転される第２アーム２４とを有し、
第２アーム２４の先端には軸２５を介して対称的に配置
されたピック２６、２７が取り付けられている。ピック
２６、２７は、第１、第２アーム２２、２４の回転に同
期して軸２５を中心に回転され、向きを変えることなく
旋回中心軸２１の半径方向へ移動される半径方向移動
と、第１，第２アーム２２，２４及びピック２６，２７
の相対的な回転を固定してこれらを一体的に旋回中心軸
２１の回りに旋回させる旋回移動とを行い得るようにな
っている。
転される第１アーム２２と、この第１アーム２２の先端
の軸２３を中心に回転される第２アーム２４とを有し、
第２アーム２４の先端には軸２５を介して対称的に配置
されたピック２６、２７が取り付けられている。ピック
２６、２７は、第１、第２アーム２２、２４の回転に同
期して軸２５を中心に回転され、向きを変えることなく
旋回中心軸２１の半径方向へ移動される半径方向移動
と、第１，第２アーム２２，２４及びピック２６，２７
の相対的な回転を固定してこれらを一体的に旋回中心軸
２１の回りに旋回させる旋回移動とを行い得るようにな
っている。
【００１１】また、ピック２６，２７は、旋回中心軸２
１の上下動により昇降され、かつ軸２５を中心に、図１
に示す位置と１８０゜回転（反転）した位置とを取るよ
うになっている。
１の上下動により昇降され、かつ軸２５を中心に、図１
に示す位置と１８０゜回転（反転）した位置とを取るよ
うになっている。
【００１２】上記の半径方向移動、旋回移動、昇降及び
反転は、図２に示すように、制御部３７によって制御さ
れる駆動部２８により与えられる。
反転は、図２に示すように、制御部３７によって制御さ
れる駆動部２８により与えられる。
【００１３】カセット室３，４は図１において左右対称
であるため、以下図２を参照してカセット室３の構成に
ついて説明する。カセット室３内には、制御部３７によ
って制御されるモータ３１、昇降駆動機構３２により昇
降位置を制御可能に作動されるエレベータ３３が設けら
れ、エレベータ３３上にカセット３４をセットするよう
になっている。カセット３４内には、水平に置かれた複
数のウェハＷが所定の間隔をもって多段に収納されてい
る。
であるため、以下図２を参照してカセット室３の構成に
ついて説明する。カセット室３内には、制御部３７によ
って制御されるモータ３１、昇降駆動機構３２により昇
降位置を制御可能に作動されるエレベータ３３が設けら
れ、エレベータ３３上にカセット３４をセットするよう
になっている。カセット３４内には、水平に置かれた複
数のウェハＷが所定の間隔をもって多段に収納されてい
る。
【００１４】カセット室３内には、ウェハＷを横切るよ
うに投光器３５ａと受光器３５ｂとからなる位置検知セ
ンサ３５が設けられている。なお、投光器３５ａと受光
器３５ｂは、図１に示すように、カセット３５内のウェ
ハＷの授受位置に挿入されたピック２６または２７をも
横切るように配置されている。
うに投光器３５ａと受光器３５ｂとからなる位置検知セ
ンサ３５が設けられている。なお、投光器３５ａと受光
器３５ｂは、図１に示すように、カセット３５内のウェ
ハＷの授受位置に挿入されたピック２６または２７をも
横切るように配置されている。
【００１５】図３は、ピック２６が投光器３５ａと受光
器３５ｂからなる位置検知センサ３５によって検知され
る直前の状態を示しており、位置検知センサ３５はピッ
ク２６が光ビーム３６を遮断することにより検知信号を
出力するようになっている。図３においては、光ビーム
３６をピック２６の下面ないし上面と平行に配置した例
を示したが、斜めにしたものなど種々の方式の位置検知
センサを用いることができる。
器３５ｂからなる位置検知センサ３５によって検知され
る直前の状態を示しており、位置検知センサ３５はピッ
ク２６が光ビーム３６を遮断することにより検知信号を
出力するようになっている。図３においては、光ビーム
３６をピック２６の下面ないし上面と平行に配置した例
を示したが、斜めにしたものなど種々の方式の位置検知
センサを用いることができる。
【００１６】位置検知センサ３５の検知信号は、図２に
示すように、制御部３７に取り込まれる。ピック２６、
２７の昇降位置を検出するため、制御部３７には旋回中
心軸２１の軸方向位置が読み込まれており、制御部３７
は位置検知センサ３５の検知信号を受けたときの該軸方
向位置を記憶し、この位置と制御部３７に予め記憶され
ており上記検知信号が出されたときピック２６が本来あ
るべき位置すなわちピック２６の昇降方向の位置を制御
すための基準位置となる基準位置データとの差を算出し
てピック２６の基準位置データを補正するようになって
いる。
示すように、制御部３７に取り込まれる。ピック２６、
２７の昇降位置を検出するため、制御部３７には旋回中
心軸２１の軸方向位置が読み込まれており、制御部３７
は位置検知センサ３５の検知信号を受けたときの該軸方
向位置を記憶し、この位置と制御部３７に予め記憶され
ており上記検知信号が出されたときピック２６が本来あ
るべき位置すなわちピック２６の昇降方向の位置を制御
すための基準位置となる基準位置データとの差を算出し
てピック２６の基準位置データを補正するようになって
いる。
【００１７】この基準位置データは、ピック２６とは別
にピック２７についても記憶されるようになっている。
なお、これらはカセット室３、４内の各エレベータ毎に
記憶するようにしてもよく、これらについてもそれぞれ
同様の補正を行うようになっている。
にピック２７についても記憶されるようになっている。
なお、これらはカセット室３、４内の各エレベータ毎に
記憶するようにしてもよく、これらについてもそれぞれ
同様の補正を行うようになっている。
【００１８】次いで本装置の作用について説明する。ゲ
ートバルブ９を閉じ、ゲートバルブ７を開いてカセット
３４をエレベータ３３上にセットしてゲートバルブ７を
閉じる。次いでゲートバルブ９を開いてカセット３４内
のウェハＷをロボット２によりプロセス室５または６へ
搬送する。
ートバルブ９を閉じ、ゲートバルブ７を開いてカセット
３４をエレベータ３３上にセットしてゲートバルブ７を
閉じる。次いでゲートバルブ９を開いてカセット３４内
のウェハＷをロボット２によりプロセス室５または６へ
搬送する。
【００１９】このウェハＷの搬送は、カセット３４内の
搬送対象のウェハＷの位置を位置検知センサ３５によっ
て検知してエレベータ３３を所定高さ位置に停止させ、
ロボット２のピック２６を搬送対象のウェハＷの下に挿
入し、次いでピック２６を所定量上昇させてウェハＷを
ピック２６上に載せて行う。
搬送対象のウェハＷの位置を位置検知センサ３５によっ
て検知してエレベータ３３を所定高さ位置に停止させ、
ロボット２のピック２６を搬送対象のウェハＷの下に挿
入し、次いでピック２６を所定量上昇させてウェハＷを
ピック２６上に載せて行う。
【００２０】このときウェハＷのピッチは数ｍｍであ
り、かつウェハＷは常にカセット３４内の正しい位置に
あるとは限らず若干の位置ずれを有しているため、ピッ
ク２６をウェハＷの下に挿入する際、ピック２６の高さ
位置すなわち昇降位置を正確に制御しないと、ピック２
６が搬送対象またはその下にあるウェハＷに当たってウ
ェハＷを破損することがある。
り、かつウェハＷは常にカセット３４内の正しい位置に
あるとは限らず若干の位置ずれを有しているため、ピッ
ク２６をウェハＷの下に挿入する際、ピック２６の高さ
位置すなわち昇降位置を正確に制御しないと、ピック２
６が搬送対象またはその下にあるウェハＷに当たってウ
ェハＷを破損することがある。
【００２１】しかして、本装置は、ピック２６、２７を
交換したとき、エレベータ３３上のカセット３４内のウ
ェハＷを横切るように設けた位置検知センサ３５によっ
てピック２６の昇降方向位置を検知し、この検知信号に
基づいてピック２６の昇降方向位置を制御するため制御
部３７内に記憶されている基準位置データを上記のよう
に補正する。その上で、ピック２６の昇降位置を制御す
るようにしたため、ピック２６の交換などによりロボッ
ト２上におけるピック２６の昇降方向位置が変化して
も、ウェハＷに対してピック２６を正確に位置決めする
ことができる。
交換したとき、エレベータ３３上のカセット３４内のウ
ェハＷを横切るように設けた位置検知センサ３５によっ
てピック２６の昇降方向位置を検知し、この検知信号に
基づいてピック２６の昇降方向位置を制御するため制御
部３７内に記憶されている基準位置データを上記のよう
に補正する。その上で、ピック２６の昇降位置を制御す
るようにしたため、ピック２６の交換などによりロボッ
ト２上におけるピック２６の昇降方向位置が変化して
も、ウェハＷに対してピック２６を正確に位置決めする
ことができる。
【００２２】また、上記のような位置検知センサ３５に
よってピック２６の位置を検知し、この位置を制御する
ための基準位置データを補正するよにしたため、ピック
２６の位置変化に簡単に対応することができ、操作も簡
単である。
よってピック２６の位置を検知し、この位置を制御する
ための基準位置データを補正するよにしたため、ピック
２６の位置変化に簡単に対応することができ、操作も簡
単である。
【００２３】図４は、本発明の他の実施例を示すもの
で、ウェハ位置検知用とは別の反射型の位置検知センサ
３８により、ピック２６が予め定められた所定の高さ位
置にあるとき検知して、検知信号を生じるようにしたも
のである。
で、ウェハ位置検知用とは別の反射型の位置検知センサ
３８により、ピック２６が予め定められた所定の高さ位
置にあるとき検知して、検知信号を生じるようにしたも
のである。
【００２４】図５ないし図６は、本発明のさらに他の実
施例を示すもので、ロボット２のピック２６は昇降移動
を行わず、ピック２６とカセット３４との間のウェハＷ
の移載をエレベータ３３の昇降によって行う場合の例で
ある。この実施例は、ウェハＷ用の位置検知センサ３５
とは別に、これと同様にピック２６の高さ位置を検知す
るための位置検知センサ３９をエレベータ３３に取り付
け、エレベータ３３の検出位置と位置検知センサ３９の
検知信号とからピック２６の高さ位置を検知し、これと
ピック２６が本来あるべき高さ位置を示す基準位置との
ずれ量を求めてエレベータ３３の昇降位置の制御に用い
られる基準位置データに補正を加えるようにしたもので
ある。
施例を示すもので、ロボット２のピック２６は昇降移動
を行わず、ピック２６とカセット３４との間のウェハＷ
の移載をエレベータ３３の昇降によって行う場合の例で
ある。この実施例は、ウェハＷ用の位置検知センサ３５
とは別に、これと同様にピック２６の高さ位置を検知す
るための位置検知センサ３９をエレベータ３３に取り付
け、エレベータ３３の検出位置と位置検知センサ３９の
検知信号とからピック２６の高さ位置を検知し、これと
ピック２６が本来あるべき高さ位置を示す基準位置との
ずれ量を求めてエレベータ３３の昇降位置の制御に用い
られる基準位置データに補正を加えるようにしたもので
ある。
【００２５】図７は、本発明のさらに他の実施例を示す
もので、搬送室１の天井に気密な透明窓４０を設け、こ
の窓４０を介して位置検出センサ４１によりピック２６
の高さ位置を測定するようにしたものである。この位置
検出センサ４１は、ピック２６が昇降移動しない方式に
おいてもその高さ位置を検知することができるように、
例えばビームを用いた反射型の絶対位置を検出可能なも
の、すなわち位置検知センサ４１からピック２６の被測
定面までの距離を計測することができるものを用いるこ
とが好ましい。
もので、搬送室１の天井に気密な透明窓４０を設け、こ
の窓４０を介して位置検出センサ４１によりピック２６
の高さ位置を測定するようにしたものである。この位置
検出センサ４１は、ピック２６が昇降移動しない方式に
おいてもその高さ位置を検知することができるように、
例えばビームを用いた反射型の絶対位置を検出可能なも
の、すなわち位置検知センサ４１からピック２６の被測
定面までの距離を計測することができるものを用いるこ
とが好ましい。
【００２６】この場合には、位置検知センサ４１の検知
誤差を最小にするため、ピック２６の材質は測定ビーム
の反射率が高い不透明材とするか、もしくは石英等の透
明材を用いる場合にはスリガラス加工やコーティング等
の不透明または半透明処理を検知部（被測定面）に施す
ことが好ましい。さらに、位置検知センサ４１は、１つ
に限らず、ピック２６，２７に同時に対向可能に２つ設
けてもよく、さらに搬送室１内に取り付けてもよい。
誤差を最小にするため、ピック２６の材質は測定ビーム
の反射率が高い不透明材とするか、もしくは石英等の透
明材を用いる場合にはスリガラス加工やコーティング等
の不透明または半透明処理を検知部（被測定面）に施す
ことが好ましい。さらに、位置検知センサ４１は、１つ
に限らず、ピック２６，２７に同時に対向可能に２つ設
けてもよく、さらに搬送室１内に取り付けてもよい。
【００２７】また、ピック２６上にウェハが置かれる
と、位置検知センサ４１の出力がウェハの厚さ分だけ変
化するため、これを利用してピック２６上のウェハＷ
（図示省略）の有無検知を兼用するようにしてもよく、
さらには、このウェハＷを介してピック２６の高さ位置
を検出するようにしてもよい。
と、位置検知センサ４１の出力がウェハの厚さ分だけ変
化するため、これを利用してピック２６上のウェハＷ
（図示省略）の有無検知を兼用するようにしてもよく、
さらには、このウェハＷを介してピック２６の高さ位置
を検出するようにしてもよい。
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、位置
検知センサの信号に基づいて、エレベータとピックとの
前記昇降方向の相対的な位置ずれ量を求め、この位置ず
れ量からエレベータとピックとの相対的な位置決めを行
うための基準位置データに補正を加えてエレベータとピ
ックとの相対的な移動を制御するようにしたため、ピッ
クのエレベータ昇降方向の位置が交換に伴って変化して
も、エレベータ上のカセットに対するピックの位置を容
易にかつ正確に制御することができる。また、ピックの
位置検知センサとしてカセット内のウェハ位置を検知す
るためのものを用いれば、装置構成を簡素化できるとと
もにウェハに対するピックの位置決めをより正確に制御
することができる効果が得られる。
検知センサの信号に基づいて、エレベータとピックとの
前記昇降方向の相対的な位置ずれ量を求め、この位置ず
れ量からエレベータとピックとの相対的な位置決めを行
うための基準位置データに補正を加えてエレベータとピ
ックとの相対的な移動を制御するようにしたため、ピッ
クのエレベータ昇降方向の位置が交換に伴って変化して
も、エレベータ上のカセットに対するピックの位置を容
易にかつ正確に制御することができる。また、ピックの
位置検知センサとしてカセット内のウェハ位置を検知す
るためのものを用いれば、装置構成を簡素化できるとと
もにウェハに対するピックの位置決めをより正確に制御
することができる効果が得られる。
【図１】本発明の実施例を示す概要断面平面図。
【図２】図１のＡ−Ａ線による断面図。
【図３】ピックと位置検知センサの関係を示す拡大図。
【図４】本発明の他の実施例を示す部分断面図。
【図５】本発明のさらに他の実施例を示す一部概要断面
平面図。
平面図。
【図６】図５のＢ−Ｂ線による断面図。
【図７】本発明のさらに他の実施例を示す部分断面図。
１ 搬送室 ２ ロボット ３，４ カセット室 ５，６ プロセス室 ２６，２７ ピック ３３ エレベータ ３４ カセット ３５，３８，３９，４０ 位置検知センサ ３７ 制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ６５Ｇ 61/00 (72)発明者 後藤 泰山 静岡県沼津市大岡2068−３ 東芝機械株式 会社沼津事業所内
Claims (6)
- 【請求項１】 エレベータと、このエレベータ上にセッ
トされ複数のウェハを多段に収納するカセットと、この
カセット内のウェハを搬送すべく前記カセットに対して
出入されるとともにエレベータとの相対的な昇降移動に
よりウェハの授受を行うピックを有するロボットとから
なるウェハ搬送装置において、エレベータの昇降方向に
沿う方向の前記ピックの位置を検知すべく取り付けられ
た位置検出センサと、この位置検出センサからの検出信
号によりピックの基準取付位置からの位置ずれ量を求
め、この位置ずれ量から前記ロボットまたはエレベータ
の前記昇降方向の位置を制御するための基準位置データ
に補正を加えてエレベータとピックとの相対的な移動を
制御する制御部とを有することを特徴とするウェハ搬送
装置。 - 【請求項２】 ピックが、エレベータの昇降方向に移動
可能に構成され、位置検知センサは、エレベータの昇降
方向に沿う方向の予め定められた所定位置に前記ピック
が位置するときこれを検知して信号を生じるように構成
され、この位置検知センサからの検知信号を受けたとき
のピックの昇降方向位置制御用の検出位置と該方向の基
準位置とのずれ量から位置ずれ量を求めるように構成さ
れていることを特徴とする請求項１のウェハ搬送装置。 - 【請求項３】 位置検知センサが、前記カセット内のウ
ェハ位置を検知するためのものであることを特徴とする
請求項２のウェハ搬送装置。 - 【請求項４】 位置検知センサが、エレベータに取り付
けられ、エレベータの昇降位置からピックの位置を検知
するように構成されていることを特徴とする請求項１の
ウェハ搬送装置。 - 【請求項５】 位置検知センサが、前記エレベータの昇
降方向のピックの絶対位置を検出可能に構成されている
ことを特徴とする請求項１のウェハ搬送装置。 - 【請求項６】 ロボットが複数のピックを有し、制御部
が各ピック毎に基準位置データを補正可能に構成されて
いることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項
のウェハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27030594A JP3674063B2 (ja) | 1994-06-21 | 1994-10-07 | ウェハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16265994 | 1994-06-21 | ||
| JP6-162659 | 1994-06-21 | ||
| JP27030594A JP3674063B2 (ja) | 1994-06-21 | 1994-10-07 | ウェハ搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0870029A true JPH0870029A (ja) | 1996-03-12 |
| JP3674063B2 JP3674063B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=26488368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27030594A Expired - Lifetime JP3674063B2 (ja) | 1994-06-21 | 1994-10-07 | ウェハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3674063B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11176909A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-07-02 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体ボート移送用自動水平調節エレベーター装置 |
| JPH11251401A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
| WO2000033377A1 (fr) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Dispositif de transfert de plaquettes |
| JP2001253541A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Daifuku Co Ltd | 板状体移載搬送装置 |
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| US7751922B2 (en) * | 2004-10-06 | 2010-07-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing of a semiconductor device |
| KR101356774B1 (ko) * | 2012-03-12 | 2014-01-27 | 최성훈 | 보정 지그 장치 |
-
1994
- 1994-10-07 JP JP27030594A patent/JP3674063B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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| KR101356774B1 (ko) * | 2012-03-12 | 2014-01-27 | 최성훈 | 보정 지그 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3674063B2 (ja) | 2005-07-20 |
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