WO2004016060A1 - 電磁波遮蔽用シート - Google Patents

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WO2004016060A1
WO2004016060A1 PCT/JP2003/010022 JP0310022W WO2004016060A1 WO 2004016060 A1 WO2004016060 A1 WO 2004016060A1 JP 0310022 W JP0310022 W JP 0310022W WO 2004016060 A1 WO2004016060 A1 WO 2004016060A1
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electromagnetic wave
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Fumihiro Arakawa
Yasuhiko Ishii
Daisuke Hashimoto
Yukihiro Kyoden
Eiji Ohishi
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • Y10T428/24322—Composite web or sheet
    • Y10T428/24331—Composite web or sheet including nonapertured component

Definitions

  • the present invention relates to a sheet for shielding electromagnetic waves (also referred to as “sino-reed”). More specifically, the present invention is arranged on a front surface of a display such as a CRT or a PDP to shield electromagnetic waves generated from the display, and And an electromagnetic wave shielding sheet using a metal layer (thin film) mesh.
  • Electromagnetic noise disturbance (ElectrOmagnetEnticInt erferfenc; EMI) has been increasing with the advancement of functions and increasing use of electric and electronic equipment.
  • Electromagnetic noise is roughly divided into conduction noise and radiation noise.
  • conduction noise there is a method using a noise filter or the like.
  • radiation noise electromagnetically insulates the space.
  • methods such as using a metal case for the case, inserting a metal plate between circuit boards, and winding a cable with metal foil.
  • a plasma display panel is a combination of a glass having a data electrode and a fluorescent layer and a glass having a transparent electrode, and when operated, generates a large amount of electromagnetic waves, near-infrared rays, and heat.
  • a front panel is provided on the front of the plasma display panel to shield electromagnetic waves.
  • the shielding performance of electromagnetic waves generated from the front of the display must have a function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz.
  • ⁇ , near-infrared light with a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front of the spray can cause malfunctions of other VTRs, remote control devices for air conditioners, and other devices, so they need to be shielded. is there.
  • the metal mesh (line) for shielding electromagnetic waves is difficult to see, so that the display image on the display is clearly visible. It is necessary to have appropriate transparency (visible light transmittance, visible light transmittance).
  • plasma display panels are characterized by large screens, for example, 37-inch, 42-inch, and even larger sizes.
  • the number of lines of the electromagnetic wave shielding sheet usually extends to several thousands in the vertical and horizontal directions, and a plurality of openings surrounded by the lines are provided.
  • the adhesive layer since the adhesive layer is exposed, the opening receives an attack of the etching solution during the etching, and the adhesive layer is colored or an alkaline stripping solution for stripping the resist film after the etching is formed.
  • the adhesive layer is deteriorated.
  • the front panel is shielded from electromagnetic waves and has appropriate transparency (transmittance of visible light). There is a need for an improved mesh structure.
  • Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 5-283898 discloses an electromagnetic wave shielding material having a mesh structure, which comprises a transparent anchor layer on a substrate / an electroless plating layer in a mesh pattern. Further, a method of forming a metal mesh of an electromagnetic wave shielding sheet by a photoresist method is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H09-293939. Furthermore, an electromagnetic wave shielding structure in which a plastic film with a copper foil, in which a geometric figure is formed on a copper foil by a photolithography method, is laminated on a plastic plate, is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-335885. ing.
  • the electromagnetic wave shielding sheet also has a mesh structure.
  • the layer is formed over the entire surface of the base material and the adhesive layer only at the mesh portion of the metal layer. Neither is it suggested to be formed on the entire surface.
  • the electromagnetic wave shielding sheet usually has a drawback that it is difficult to take the ground from the grounding electrode portion because the base material side is the observation side.
  • a method of forming a pattern is to provide a black substrate and a patterned metal layer on a patterned resist, wash away the resist, and then provide a transparent substrate.
  • An electromagnetic wave shielding material having a / black layer / patterned metal layer / a protective layer is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1288.185.
  • the present invention has been made to solve such a problem. Its purpose is to place it on the front of a display such as a CRT or PDP to shield both electromagnetic waves and near-infrared rays generated from the display, and to eliminate haze rise due to residual air bubbles in the adhesive layer.
  • An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding sheet having excellent image visibility at a low cost without increasing the number of laminating steps.
  • the present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet, comprising: a transparent base material; a transparent protection layer provided on one surface of the base material; and a line portion provided on the protection layer and forming an opening.
  • An electromagnetic wave shielding sheet comprising a metal layer in the form of a mesh, wherein the protection layer is provided on both the line portion and the portion corresponding to the opening.
  • the present invention is arranged in front of a display such as a PDP to shield electromagnetic waves generated from the display, and the line portion of the mesh is invisible, and has both characteristics of electromagnetic wave shielding and transparency. Filling and either side may be the observation side.
  • a display such as a PDP
  • Electromagnetic wave shielding that can A shielding sheet is provided.
  • This endeavor is an electromagnetic wave shielding sheet characterized in that the line width of the line portion of the metal layer is 5 to 25: m and the pitch between the line portions is 150 to 500 ⁇ . is there.
  • ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the line part of a mesh is invisible, and the sheet for electromagnetic wave shielding which satisfies both characteristics of electromagnetic wave shielding property and transparency is provided.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding sheet, wherein a blackening treatment layer is provided on one surface of a metal layer.
  • the line part of a mesh is invisibility, and the sheet
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding sheet, characterized in that a pudding-proofing layer is provided on the surface of the metal layer opposite to the base material.
  • the base material surface may be installed on the PDP side, the number of steps for drawing out the electrodes is reduced, the frame-shaped black printing is not required, the visibility of the image is not glare, and the electromagnetic wave shielding is excellent. Sheet is provided.
  • the present invention is an electromagnetic wave shielding sheet, characterized in that a transparent resin is filled into openings of a mesh-shaped metal layer so that the metal layer and the transparent resin become flat.
  • corrugation of an opening is provided.
  • the transparent resin to be filled into the openings of the mesh-like metal layer is a color-correction light-absorbing agent that absorbs light in the wavelength range of 570 to 65 nm in visible light, and Z or near-infrared light.
  • the present invention provides a color tone correcting light absorber layer for absorbing light in a wavelength range of 570-605 nm in visible light, and a Z or near red light, which is located outside either the substrate or the additional protective layer.
  • An electromagnetic wave shielding sheet provided with a near-infrared absorber layer that absorbs light in a wavelength range of 800 to 110 nm.
  • produce from a PDP are shielded, and the bad effect resulting from these is prevented.
  • FIG. 1 is a plan view of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 3A is a sectional view taken along the line AA of FIG.
  • FIG. 3B is a sectional view taken along the line BB of FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the conductive material layer.
  • FIG. 5A is a plan view for explaining processing in a winding roll shape.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view for explaining processing in a winding roll shape.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention adhered to a display surface.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing an electromagnetic wave shielding sheet having an adherend.
  • FIG. 8 is a diagram showing a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding sheet. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1 is a plan view of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention includes a transparent base material 11, a mesh portion 103 provided on the base material 11, and a mesh portion 10 It consists of a grounding frame 101 surrounding 3.
  • the mesh portion 103 includes a line portion 107 having a plurality of openings (also referred to as cells) 105 as shown in FIG.
  • the grounding frame 101 is grounded when installed on a display.
  • the line portion 107 is bonded to one surface of the transparent base material 11 via an adhesive layer 13, and the line portion 107 is formed from the conductive material layer 109 having a laminated structure. I'm familiar.
  • the conductive material layer 109 can be directly formed on the substrate 11 by electroless plating, vapor deposition, or the like. In this case, the adhesive layer 13 may be omitted.
  • the line portion 107 is a grid-like mesh in which the openings 105 are closely arranged in a plane.
  • the line portion 107 and the opening portion 105 constitute a mesh portion 103.
  • the width of the line portion 107 is referred to as a line width W, and an interval between the lines is referred to as a pitch P.
  • FIG. 3A and FIG. 3B are a sectional view taken along the line AA and a sectional view taken along the line BB of FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the conductive material layer.
  • FIG. 3A shows a cross section crossing the opening, and the opening 105 and the line 107 are alternately formed.
  • FIG. 3B shows a cross section that passes through the line 107.
  • a line 107 composed of a conductive material layer 109 is formed continuously.
  • the conductive material layer 109 is formed of a metal layer 21 and, preferably, at least a blackened layer 23 provided on the observation surface of the metal layer 21. A or 23 B. More preferably, the protection layers 25 A and Z or 25 B are provided so as to cover the blackening layers 23 A and Z or 23 B. It should be set on the A side.
  • the protection layer 25A that is also present in the openings 105 of the mesh portion is a transparent layer.
  • the protection layer 25B provided only on the line portion 107 of the mesh portion may be either transparent or opaque.
  • the protection layers 25 A and 25 B have the protection function of the metal layer 21 and the blackening treatments 23 A and 23 B, and the blackening treatment layers 23 A and 23 B are also prevented from falling off. To prevent. Also, surprisingly, the protective layers 25 A and 25 B protect the adhesive layer 13 after being laminated with the base material 11 via the adhesive layer 13. . As described above, if necessary, the blackening layer 23B and the protection layer 25B (additional protection layer 25B) may be provided on the other surface of the metal layer 21 as well. The blackening layers 23 A and 23 B and the anti-reflection layers 25 A and 25 B may be provided on both sides of the metal layer 21. In the most preferable mode, a blackening layer 23A and a protection layer 25A are provided on the observation side.
  • the etching of the metal layer 21 is further advanced to the protection layer, and the protection layer 25A is left only in the line 107.
  • the etching is stopped when all the layers of the metal layer 21 are removed by etching, and the protection layer 25A is also left in the openings 105 of the mesh on the base material 11 side. Keep, that is, all It has been found that by adopting a form in which a protective layer 25 A is provided on the surface, the protective layer 25 A protects the adhesive layer 13.
  • the adhesive layer 13 is exposed in the conventional opening portion 105, it is colored by receiving the attack of the etching solution at the time of etching, and is deteriorated by an alkaline stripping solution that strips the resist film after etching. Deterioration deteriorates the adhesive strength, but the presence of the protective layer 25A of the present invention can prevent this phenomenon. In addition, contamination of the etching solution by iron or sodium and the metal (ion) ) Can be prevented from discoloring the light absorber.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 usually has the substrate 11 side as the observation side in many cases.
  • the blackening layer 23 A surface is usually used. If necessary, both the blackening layers 23A and 23B are provided with the same protection layers 25A and 25B. Even if it is provided on the surface opposite to 1, the blackening treatment layer 23B is protected by the protection layer 25B, so that particles do not easily fall off, so that it is easy to set either side as the observation side. Assuming that the metal layer 21 is on the observation side, the grounding frame portion 101 (functionally an electrode portion) is exposed, so that it is easy to ground.
  • the protective layer (additional protective layer) 25 B and the blackening layer 23 B are extremely thin layers and do not hinder grounding.
  • the grounding frame portion 101 can use the blackening treatment at the time of forming the blackening treatment layer 23A or 23B formed by the blackening treatment, which is advantageous in terms of process shortening and cost. Become.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention is mainly described for displays such as CRT and PDP, but it goes without saying that it can be used for electromagnetic waves other than displays.
  • the PDP features a large screen, and the size (external dimensions) of the electromagnetic wave shielding sheet 1 is, for example, about 62 ⁇ 80 ⁇ 30 mm for the 37 type, and about 580 ⁇ 9 for the 42 type. There is also about 8 O mm, and there is also a large size.
  • the number of lines of the electromagnetic wave shielding sheet depends on the size of the mesh, but is usually several thousand in the vertical and horizontal directions. The width of the line must be formed within a certain range with an accuracy of "xm". If the opening 105 is also colored undesirably, when a human observes a display image, the human feels a very strong sense of discomfort.
  • the transparent waterproof layer 25 A is formed on the entire surface including the opening 105.
  • the adhesive layer 13 or the base material 11 is not colored, has electromagnetic wave shielding properties and appropriate transparency, and thus has excellent image visibility.
  • there is a difference in the refractive index between the barrier layer 25A and the adhesive layer 13 or a flattening layer 29 described later and the refractive index of the barrier layer 25A is relatively high, and the adhesive layer 13 Alternatively, the refractive index of a flattening layer 29 described later is low, and optical effects such as antireflection and improvement of contrast can be expected.
  • At least one surface of the metal layer 21 is provided with a blackening treatment 23A and / or 23B.
  • a protection layer 25A and / or 25B is provided on the surface of the conductive material portion 109 on the side of the base material 11 at any position of the line portion and the opening.
  • the opening 105 is filled with a transparent resin to flatten the metal layer side as a flattening layer 29, and if necessary, emit near-infrared light of a specific wavelength or near-infrared light and visible light of a specific wavelength.
  • Light absorbing agent layers 31A and 31B to be absorbed are provided.
  • an electromagnetic wave shielding sheet When such an electromagnetic wave shielding sheet is placed on the front of the display, it shields electromagnetic waves and near-infrared rays generated from the display, there is no fogging or whitening due to bubbles in the adhesive layer, there is no unevenness of mesh density, black or The number of white dotted linear defects is extremely small, and it has appropriate transparency, so that an image displayed on a display can be viewed well.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention is prepared by first preparing a conductive material layer 109 having a blackening treatment and a protective layer provided on the base material 11 side at least on the observation side. After laminating the conductive material layer 109 on one side of the transparent film-shaped base material 11 via an adhesive, a resist layer 109a is formed on the conductive material layer 109 surface in a mesh pattern. To be provided. After the conductive material layer 109 not covered with the resist layer 109 a is removed by etching except for the protection layer 25 A, the resist layer 109 a is removed. do it. In addition, existing equipment can be used, and many of these manufacturing processes can be performed continuously, resulting in high quality, high yield, and high production efficiency (Fig. 8).
  • the conductive material layer 109 for shielding electromagnetic waves is made of, for example, gold, silver, copper, iron, It has a metal layer 21 such as nickel, chromium, or the like, which has sufficient conductivity to shield electromagnetic waves.
  • the metal layer 21 is not limited to a simple substance, but may be an alloy or a multilayer.
  • Copper or copper alloy foil is preferred from the viewpoint of easy electrodeposition.
  • the copper foil a rolled copper foil or an electrolytic copper foil can be used, but the thickness uniformity, the blackening treatment and the adhesion to the no or chromate (treatment) layer, and the formation of a thin film of 10 ⁇ or less. From the viewpoint that the copper foil can be formed, copper foil is preferred.
  • the thickness of the metal layer 21 is about 1 to 100 ⁇ m, preferably 5 to 20 // m. When the thickness is smaller than this, the mesh processing by the photolithography method becomes easy, but the electric resistance value of the metal increases and the electromagnetic wave shielding effect is impaired. Above this thickness, the desired high-definition mesh shape cannot be obtained.
  • These metal layers 21 are usually made into a metal layer in advance and bonded to the base material 11 via an adhesive layer 13 to be laminated. Alternatively, it may be formed directly on the base material 11 by a method such as electroless plating (or electrolytic plating may be further performed on the electroless plating layer) or vapor deposition. In this case, the adhesive layer 13 can be omitted.
  • the surface roughness of the metal layer 21 is preferably 0.5 to 10 ⁇ m in binary. Below this, the external light is specularly reflected even if the blackening process is performed, and the visibility of the image is degraded. Above this, when applying adhesives or resists, they may not spread all over the surface or generate bubbles.
  • the surface roughness Rz is an average value of 10 points measured according to JIS-B0601.
  • the metal layer 21 of the mesh-like conductive material 109 is black on the observation side. It is necessary to perform a conversion process to give a sense of contrast.
  • the blackening treatment may be performed by roughening the surface of the metal layer 21 and Z or blackening the metal layer 21.
  • Metal oxides and metal sulfides can be formed, and various methods can be applied. In the case of iron, it is usually exposed to steam at a temperature of about 450 to 470 ° C for 10 to 20 minutes to form an oxide film (blackening film) of about 1 to 2 ⁇ m.
  • an oxidized film (blackened film) by chemical treatment such as concentrated nitric acid may be used.
  • the copper foil is placed in an electrolytic solution comprising sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate, etc.
  • Cathodic electrodeposition in which a cathodic particle is adhered by performing an electrolysis treatment, is preferred.
  • the cationic particles roughening is achieved, and at the same time, black color is obtained.
  • the thione particles copper particles and alloy particles of copper and other metals can be used, and preferably copper-coparte alloy particles.
  • the roughening and the blackening are collectively referred to as a blackening process.
  • the preferred black density of the blackening treatment is 0.6 or more.
  • the black density was measured using the GREOR SPM100-11 (COLOR CO NTROL SYSTEM, product name, manufactured by Kimoto Co., Ltd.) with an observation viewing angle of 10 degrees, an observation light source of D50, and an illumination type of standard ANS IT. Set and measure the test piece after white calibration.
  • the light reflectance of the blackening treatment is preferably 5% or less. Glow spring reflectance is J
  • the cationic particles copper particles and alloy particles of copper and other metals can be applied, but copper-cobalt alloy particles are preferable.
  • the use of copper-cobalt alloy particles significantly increases the degree of blackening and absorbs visible light well.
  • the color tone was represented by a color system “L *, a *, b *, ⁇ *” based on JIS-Z8729.
  • the absolute values of “a *” and “b *” are smaller, the conductive material portion 109 becomes invisible, the contrast of the image is enhanced, and as a result, the visibility of the image is excellent.
  • “a * J” and “b *” can be reduced to nearly zero as compared with copper particles.
  • the average particle size of the copper-cono-noreto alloy particles is preferably from 0.1 to 1 ⁇ m. Above this, when the particle diameter of the copper-coparte alloy particles is increased, the thickness of the metal layer 21 becomes thinner, and the copper foil is cut in the step of laminating with the base material 11 to deteriorate workability, and However, the appearance of dense particles is lacking in density and unevenness is noticeable. Below this point, the visibility of the image is degraded due to the lack of roughness.
  • At least the blackening treatment layer 23A obtained by blackening the metal layer 21 is used.
  • a protective layer 25A and / or 25B is provided on 23B.
  • the barrier layers 25 A and 25 B may be nickel and Z or zinc and / or copper oxide, or chromate-treated layers. Can be applied. Nickel and / or zinc and / or copper oxide may be formed by a known plating method, and the thickness is about 0.01 to 1 ⁇ , preferably about 0.00.
  • chromate treatment In the chromate treatment, a chromate treatment liquid is applied to the material to be treated.
  • a roll coat, a curtain coat, a squeeze coat, an electrostatic atomization method, an immersion method, or the like can be applied. After the application, the coating may be dried without washing. If chromate treatment is to be applied to one side, it may be applied to one side by roll coating or the like, and if it is to be applied to both sides, it may be carried out by the dipping method.
  • the chromate treatment solution a conventional C r 0 2 using an aqueous solution containing 3 g Z l.
  • a chromate treatment solution in which a part of hexavalent chromium is reduced to trivalent chromium by adding a different oxycarboxylic acid compound to an aqueous solution of chromic anhydride can also be used.
  • the color changes from pale yellow to yellowish brown depending on the amount of hexavalent chromium deposited, but trivalent chromium is colorless, and if trivalent and hexavalent chromium are controlled, transparency without practical problems can be obtained.
  • carboxylic acid compound tartaric acid, malonic acid, citric acid, lactic acid, glycolic acid, glyceric acid, tropic acid, benzylic acid, hydroxyvaleric acid and the like are used alone or in combination. Since the reducibility differs depending on the compound, the amount of the additive is determined while grasping the reduction to trivalent chromium.
  • Chromate treatment is particularly preferred in order to further enhance the effect of the blackening treatment.
  • the blackening layers 23A and 23B may be provided at least on the observation side, and the protection layers 25A and 25B may be provided at least on the substrate 11 side.
  • the visibility and properties of the image are improved. Further, it may be provided on the other surface, that is, on the display surface side, and stray light generated from the display can be suppressed, so that the visibility of the image is further improved.
  • a transparent substrate 11 is laminated on the protection layer 25 A with an adhesive 13.
  • substrate As the material of the substrate 11, various materials can be applied as long as they have usage conditions, transparency, insulation, heat resistance, mechanical strength, and the like that can withstand production.
  • Polyester resin such as polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer Terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer
  • Polyester resin such as polyethylene terephthalate / polyethylene naphthalate coextruded film, nylon 6 Nylon 6 6
  • Polyamide resins such as nylon 610
  • polypropylenePolyolefin resins such as polymethyl pentene
  • vinyl resins such as polyvinyl chloride
  • poly acrylatesPoly methacrylatesAcrylics such as polymethyl methacrylates Polyimide, Polyamide, Polyimide, Polyimide, etc.
  • Engineering resins such as polyethersulfone
  • the substrate 11 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including alloys), or a laminate composed of a plurality of layers.
  • the substrate may be a stretched film or an unstretched film, but is preferably a film stretched uniaxially or biaxially for the purpose of improving strength.
  • the thickness of the substrate is usually preferably 50 to 700 ⁇ ⁇ , to which about 12 to 100 / m can be applied, and most preferably 100 to 500 / m. If the thickness is less than this, warpage or sagging occurs due to insufficient mechanical strength, and if it is more than this, excessive performance is caused and waste of cost is caused.
  • the substrate 11 is used as a film, sheet, or board formed of at least one layer of these resins, and these shapes are collectively referred to as a film in this specification.
  • a polyester film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferably used because of its transparency, heat resistance, and low cost, and polyethylene terephthalate is most suitable. The higher the transparency, the better, but the visible light transmittance is preferably 80% or more.
  • Base material 11 is applied to the coating surface prior to coating, by corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called anchor coat, adhesion promoter, and easy adhesive) coating treatment, pre-heat treatment
  • An easy-adhesion treatment such as a dust removal treatment, a vapor deposition treatment, an alkali treatment, or the like may be performed.
  • the resin film may be filled with a filler, An additive such as an agent or an antistatic agent may be added.
  • the lamination method (also referred to as lamination) is to apply an adhesive or a pressure-sensitive adhesive to one of the base material 11 or the conductive material layer 109 and dry it as necessary, without heating or heating. By applying pressure, the base material 11 and the conductive material layer 109 are joined via an adhesive 13. Thereafter, aging (curing) may be performed at a temperature of 30 to 80 ° C, if necessary.
  • the base material 11 itself or the base material 11 may have a plurality of layers and the lamination surface may be, for example, an ionomer resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene-acrylic acid copolymer, or an ethylene-acrylate copolymer. If it is a heat-adhesive resin such as a united resin, it is only necessary to apply pressure under heating.
  • the adhesive 13 is not particularly limited, but, for example, an acrylic resin, a polyester resin, a urethane resin, an epoxy resin, a vinyl chloride-butyl acetate copolymer resin, or the like can be used. Further, a method called a dry lamination method (also referred to as a dry lamination method) by those skilled in the art using a thermosetting resin which is less likely to be stained or deteriorated by an etching solution and has good workability is preferable. Further, an ionizing radiation curable resin which is cured (reacted) by ionizing radiation such as ultraviolet (UV) and electron beam (EB) is also preferable.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • ionizing radiation-curable resins include prepolymers (polyester (meth)) such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth).
  • prepolymers polymers such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth).
  • a monomer such as atalylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or a mixture thereof is used (here, (meth) atalylate means acrylate or methacrylate).
  • the dry lamination method is to apply an adhesive dispersed or dissolved in a solvent, apply it, dry it, laminate it, and then aged at 30 to 120 ° C for several hours to several days. In this way, the adhesive is cured and the two materials are laminated.
  • a non-sono-revention lamination method which is an improved version of the dry lamination method, may be applied.
  • the adhesive itself is applied without being dispersed or dissolved in a solvent, dried, and the laminated base material is laminated. This is a method in which two kinds of materials are laminated by aging at 0 to 120 ° C for several hours to several days to cure the adhesive.
  • thermosetting adhesive an adhesive that can be cured by heat or ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams
  • a thermosetting adhesive specifically, a two-component curing type adhesive, for example, a urethane-based adhesive composed of a polyester urethane-based resin, a polyether urethane-based or an acrylic urethane-based resin, an acrylic adhesive, a polyester Adhesives, polyamide adhesives, polyvinyl acetate adhesives, epoxy adhesives, rubber adhesives and the like can be applied, but a two-part curable urethane adhesive is preferred.
  • the two-part curable urethane-based resin include, for example, a polymer obtained by reacting a polyfunctional isocyanate with a hydroxy group-containing compound.
  • Aromatic polyisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, or hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate
  • Polyfunctional isocyanates such as aliphatic (or alicyclic) polyisocyanates such as isophorone diisocyanate and hydroxyl group-containing compounds such as polyether polyols, polyester polyols and polyacrylate polyols
  • a two-part urethane resin obtained by the reaction can be used.
  • the adhesive is a mixture of a polyesterpolyurethane modified with a styrene-maleic acid copolymer, which is not stained or deteriorated by an etching solution, and an aliphatic polyesterate.
  • an adhesive composition containing these components as a main component is dissolved or dispersed in an organic solvent, and is used for, for example, roll coating, reverse roll coating, gravure coating, gravure reverse coating, gravure offset coating, and kiss.
  • Coating, wire coating, comma coating, knife coating, dip coating, flow coating, spray coating, etc., are applied, and the solvent is dried to form the adhesive layer for lamination of the present invention. be able to.
  • the thickness of the adhesive layer 13 is about 0.1 to 20 m (dry state), preferably 1 to 10 / im.
  • the adhesive is cured by aging at 30 to 120 ° C for several hours to several hours. And glue them together.
  • the surface to which the adhesive is applied may be either the base material side or the conductive material part side.
  • generation of bubbles in the laminate is suppressed over the entire rough surface.
  • the non-solvent lamination method is basically the same as the dry lamination method, except that the adhesive composition is used as it is without dissolving or dispersing the adhesive composition in an organic solvent. In some cases, the adhesive composition is heated and heated in order to reduce the adhesiveness. .
  • the pressure-sensitive adhesive As the pressure-sensitive adhesive, a known pressure-sensitive adhesive that can be adhered with pressure sensitivity can be used.
  • the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited.For example, natural rubber, butyl rubber 'polyisoprene, polyisobutylene ⁇ polychloroprene ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ a synthetic rubber resin such as styrene-butadiene copolymer resin, and silicone-based resin such as dimethylpolysiloxane Resin, acryl-based resin, polyvinyl acetate Vinyl acetate resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer, urethane-based resin, acrylonitrile, hydrocarbon resin, anolequinolephenone resin, rosin 'rosin triglyceride' hydrogen Gin-based resins such as mouth gins can be applied.
  • the rubber-based adhesive includes chloroprene rubber, nitrile butadiene rubber, atalinole rubber, styrene butadiene rubber, styrene isoprene styrene, styrene butadiene styrene, styrene ethylene butadiene styrene, butino rubber, polyisobutylene rubber,
  • One or more rice occupied rubbers such as natural rubber and polyisoprene rubber, phenolic resin, modified phenolic resin, ketone resin, alkyd resin, rosin resin, cumarone resin, styrene resin, petroleum resin, biel chloride resin
  • One or more tackifiers are effective.
  • Rubber adhesives have better chemical resistance, swelling resistance, resistance, adhesiveness, and peel strength than acrylic adhesives, so the adhesive part is exposed to acid I raw or alkaline substances. No peeling occurs. Rubber-based adhesives hardly hydrolyze in acidic or alkaline chemicals, and have a long adhesive life.
  • FIG. 5A and FIG. 5B are a plan view and a side view illustrating processing in a winding roll shape.
  • FIG. 5A is a plan view in which the electromagnetic wave shielding sheet 1 is imposed at regular intervals in a state where the sheet is unwound from a winding roll and expanded.
  • FIG. 5B is a side view in which the conductive material layer 109 and the base material 11 are laminated. First, the blackening layers 23A and 23B and the protection layers 25A and 25B are formed on the metal layer 21 of the winding roll to obtain the conductive material layer 109.
  • the adhesive 13 is applied to the heat-insulating layer 25 A of the conductive material layer 109 and dried, and then the base material 11 is overlaid and pressed. Further, if necessary, aging (curing, curing) for several hours to several days is performed in an atmosphere at 30 to 80 ° C. to obtain a winding roll 2.
  • a resist layer 109a is provided in a mesh pattern on the conductive material layer 109 of the laminate, and the conductive material layer is not covered with the resist layer 109a. Is removed by etching and then formed into a mesh by photolithography to remove the resist layer 109a.
  • the surface of the conductive material layer 109 of the laminate of the base material 11 and the conductive material layer 109 is formed into a mesh shape by photolithography.
  • a roll-shaped laminate continuously wound in a belt shape is processed. While transporting the laminate continuously or intermittently, masking, etching, and resist peeling are performed in a stretched state without looseness.
  • a photosensitive resist 109a is applied to the entire surface of the conductive material layer 109, dried, and then exposed in close contact with a predetermined pattern (line portion of a mesh) plate (mask). To expose in a predetermined pattern.
  • a predetermined pattern line portion of a mesh plate (mask).
  • the pattern is such that the opening is light-shielded and the line part is translucent. If the photosensitive resist is positive type (the exposed part is dissolved), the opening is a transparent pattern and the line part is a light-shielding pattern.
  • a light source for the exposure for example, a mercury lamp is used. Water Develop, harden, bake.
  • the resist is applied on a winding roll-shaped belt-shaped laminate (substrate 11 and conductive material layer 10 9) While continuously or intermittently transporting, a resist such as casein, PVA, or gelatin is applied to the conductive material layer 109 by dipping (dipping), curtain coating, or flowing.
  • a dry film resist may be used instead of coating the resist, thereby improving workability.
  • baking is performed at a temperature of 200 to 300 ° C. In order to prevent warpage of the laminate, the temperature is preferably as low as possible.
  • Etching is performed after masking.
  • a solution of ferric chloride and cupric chloride which can be easily used in circulation in the present invention in which etching is performed continuously is preferable.
  • the etching is basically the same process as the equipment for manufacturing a shadow mask for a color TV cathode-ray tube for etching a strip-shaped continuous steel material, particularly a thin plate having a thickness of 20 to 80 win. . That is, the existing manufacturing equipment for the shadow mask can be diverted, and the entire process from masking to etching can be consistently and continuously produced, which is extremely efficient.
  • the substrate may be washed with water, stripped of resist with an alkaline solution, washed, and then dried.
  • the etching liquid is sprayed on the whole, so that parts other than the metal layer 21 are also attacked by the etching liquid.
  • the adhesive layer 13 is exposed in the conventional case, and the adhesive layer 13 is colored by the influence of the etching solution.
  • the color is expressed in the color system “L *, a *, b *, ⁇ *” in accordance with JIS-Z8729. * J increases and image visibility decreases.
  • the protection layer 25A existing on the substrate 11 side is left not only in the line portion 107 but also in the opening portion 105 of the mesh. Therefore, the protection layer 25 A protects the adhesive layer 13. Therefore, the adhesive layer 13 is not affected by the etching solution and is not colored, so that the visibility of the image is not reduced. Also, the adhesiveness with the flattening layer 29 does not decrease.
  • the adhesive layer 13 is usually contaminated by iron-sodium in the etching solution, but in the present invention, the adhesive layer 25 A protects the adhesive layer 13. Thus, this contamination can also be prevented. If there is no iron or sodium contamination, the electromagnetic shielding sheet rarely occurs when exposed to special environments such as high temperature and high humidity when mounted on a display. . Although the reason is not clear, it is presumed that the protection layer 25A is mainly composed of metal oxide, has high surface tension, and has good water wettability. As described above, by forming the protection layer 25A also in the opening 105, a plurality of unique effects can be exhibited.
  • the mesh portion 103 is composed of a plurality of line portions 107 having openings 105.
  • the shape of the opening 105 is not particularly limited. For example, a triangle such as a regular triangle, an isosceles triangle, and the like, a square, a rectangle, a rhombus, a trapezoid, and the like, a tetragon, a pentagon, a hexagon (turtle-shaped), An n-sided shape such as an octagon, a circle, an ellipse, etc. can be applied. A plurality of these openings are combined to form a mesh.
  • the width W of the mesh portion 103 in the straight portion of the line portion 107 is within a predetermined value of 30% soil, and is transparent.
  • the radius of curvature of the bank (the side surface around the opening) connecting the upper bottom and the lower bottom in the shape of the line cut surface (cross section) perpendicular to the bright substrate is 1.5 to 3 times the thickness of the metal layer. 0 times.
  • the line width W of the mesh portion 103 is 5 to 25/2 m, and the pitch between lines is 150 to 500 m, and the outer periphery of the mesh portion 103 is described later. For a portion of 1 to 50 mesh or 0.15 to 15 mm in the vicinity of the portion, the distribution of the width of the line portion can be out of a predetermined value ⁇ 30%.
  • the variation of the width W of the line portion 107 is, for example, assuming that the line width is 14 im, it is 14 ⁇ 4.2 ⁇ , and the range is 9.8 to 18.2 m. If this is the case, there will be no uneven shading of the mesh, and no black and / or white dot and linear defects. If the line width is wide or narrow, the mesh will be uneven. Also, when the width is large, when a human observes the display image, the wide part becomes a black point defect and the narrow part becomes a white point defect. If there are pons and white spots and / or black spots in the entire image, humans will feel extremely uncomfortable.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention by manufacturing by a continuous photolithography method and by setting the line width variation within a predetermined range, the occurrence of shading unevenness of the mesh is extremely small, and the electromagnetic wave There is no problem in the shielding property and the transparency.
  • non-uniform mesh shading and black and / or white dot and linear defects also occur when resist is sprayed onto unnecessary parts during resist coating. Manufacturing is extremely rare.
  • the outer peripheral portion of the portion in contact with the outer peripheral portion of the mesh portion 103 may be excluded. This is because the mesh part 103 ends and the entire surface becomes the grounding frame part 101 consisting of the metal layer 21.Therefore, the regularity is interrupted, and the line width extends inside the grounding frame part 101. This is because the outer peripheral portion of the mesh may be subjected to another purpose such as temporarily expanding the width toward the grounding frame portion.
  • the outer peripheral portion is 1 to 50 mesh, or 0.15 to 15 mm, preferably 1 to 25 mesh, or 0.3 to 7.5 mesh from the inner periphery of the grounding frame portion 101. mm
  • the radius of curvature of the bank connecting the upper bottom and the lower bottom in the cross-sectional shape of the line section 107 orthogonal to the transparent substrate 11 of the line section 107 is the thickness of the metal layer.
  • control is performed by the type of the resist and the conditions of the etching process.
  • a dry resist solution resist is used as the resist, and the etching conditions are such that the Baume degree of the etchant is 35 degrees or more, and an aqueous solution of cupric chloride or ferric chloride is used as the etchant. If the temperature of the etchant is 35 degrees or more, It is desirable to set the spray flow rate to 2000 ml / min or more, and to perform etching by swinging the spray nozzle or swinging it to the left and right.
  • the radius of curvature of the bank connecting the upper bottom and the lower bottom in the line section 107 was determined by slicing the line section 107 orthogonal to the transparent substrate 11 with a microtome and sputtering platinum palladium.
  • the cut surface of the line section 107 is photographed with a 200 ⁇ magnification electron microscope, and it is estimated from the photographed photograph based on the upper and lower bottom values.
  • the shape of the bank formed by etching is not necessarily a perfect circle, it may be a substantially circular circumferential line or a line close to a trapezoidal oblique line.
  • the line segment including the upper and lower right edges and the upper and lower left edges and the lower and left edges should have a radius of curvature that is 1.5 to 3.0 times the thickness of the metal layer.
  • the radius of curvature does not need to be constant and may vary, but may be in the range of 1.5 to 3.0 times the thickness of the metal layer.
  • bias angle formed by the line with the lower surface of the electromagnetic wave shielding sheet is, for example, 45 degrees in the illustration of FIG. 1, but is not limited thereto. It may be appropriately selected taking into account the arrangement of pixels and the like.
  • the line portion 107 of the mesh has a metal thickness, but the opening portion 105 becomes a cavity by removing the metal layer 21, and as a result, the line portion 107 is formed. In contrast, the opening 105 becomes a relatively concave portion.
  • the conductive material portion 109 is in such a convex state.
  • the adhesive or pressure-sensitive adhesive
  • the unevenness is filled with the adhesive or the like.
  • another member for example, a display (surface plate)
  • the inside of the recess of the opening 105 is deteriorated. Air bubbles remain, and light is scattered at the interface between the air bubbles and the adhesive, resulting in a high haze and a whitened state. Therefore, it is preferable that the concave portions are filled and flattened.
  • a transparent resin is applied to the recesses, filled and embedded, but at every corner of the recesses Otherwise, bubbles will remain and the transparency will deteriorate. Therefore, diluted or solvents or coating and drying a low viscosity, or by coating with degassed air, a planarization layer 2 9.
  • the flat layer 29 should have high transparency, good adhesion to the metal constituting the mesh, and good adhesion to the adhesive in the next step. If the surface of the flattening layer 29 has projections, dents, or unevenness, the adhesive is applied onto the flattening layer 29 and the adhesive when the other adherend 32 is laminated. The bubble residual effect is also incomplete. Further, when an electromagnetic wave shielding sheet is installed on the front of the display, moire, interference unevenness, and Newton's ring are generated, which is not preferable. As a preferred method, a heat or ultraviolet curable resin is diluted with a solvent and applied in a state of reduced viscosity, and the resin is flowed and filled in the entire area of the concave portion of the opening 105, and the solvent is dried.
  • the substrate is laminated with a substrate having excellent flatness and releasability, and the applied resin is cured by heat or ultraviolet rays to peel and remove the releasable substrate.
  • the surface of the flattening layer 29 is transferred to the surface of the flat base material to form a smooth surface.
  • the releasable substrate include biaxially stretched polyethylene terephthalate coated on the surface with a silicone resin as a release layer.
  • the resin used for the flattening layer 29 is not particularly limited, and various natural or synthetic resins, heat or ionizing radiation curable resins, and the like can be applied. However, resin durability, applicability, flattening, smoothness, flatness, etc. From prepolymers (or oligomers) such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, trimethylopropanetri (meth) atarylate, dipentaerythritolonehexa (meta) acrylate And the like, or an ultraviolet curable resin composed of a mixture of these prepolymers and monomers.
  • prepolymers or oligomers
  • a near-infrared absorber that absorbs a specific near-infrared wavelength band to the resin used for the planarizing layer 29.
  • a specific wavelength band of near infrared rays By absorbing a specific wavelength band of near infrared rays, a near infrared ray fountain radiated from the display is shielded, and malfunction of a device operated by near infrared rays such as a remote control device using the near infrared rays can be prevented.
  • the specific wavelength of the near-infrared ray is about 780 to 120011 m. In particular, it is desirable to absorb at least 80% of the wavelength band of 800 to 110 nm.
  • the near-infrared absorbing agent (referred to as NIR absorbing agent) is not particularly limited. Dyes that have steep absorption, have high light transmittance in the visible light band, and do not have large absorption at a specific wavelength in the visible light region can be used.
  • NIR absorbing agent a phthalocyanine compound, an indium compound, a dimonium compound, a dithiol metal complex compound, or the like is used. These NIR absorbers can be used alone, but preferably, two or more are used in combination. For example, a mixed system of a diimmonium compound and a phthalocyanine compound can be used.
  • the visible light region emitted from the PDP there are usually many orange colors, which are the emission spectrum of neon atoms, so that a color tone that absorbs to some extent the band around 570 to 655 nm of the visible light. It is preferable to contain a light-absorbing agent for correction.
  • the dye include cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, and dithiol complexes. Either one or both of these near-infrared absorbers and color tone correcting light absorbers may be added as necessary.
  • the NIR absorption layers 31B and 31A are provided on the flattening layer 29 side and / or on the opposite substrate 11 side, respectively.
  • the flattening layer 29 is provided on the NIR absorption layer 31 B shown in FIG. 1 when provided on the 9th surface, and the base material 11 is provided on the NIR absorption layer 31 A shown in FIG. 1 when provided on the 1st surface. is there.
  • the NIR absorption layer 31B and the NIR absorption layer 31A can be formed by laminating a commercially available film having an NIR absorber (for example, trade name: No 2832, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with an adhesive, The NIR absorbent may be contained in the binder and applied.
  • a polyester resin As the binder, a polyester resin, a polyurethane resin, an atari resin, a curing type using a reaction of an epoxy, acrylate, methacrylate, or isocyanate group which is cured by heat or ultraviolet rays can be applied.
  • the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is generally used by being laminated on another adherend via an adhesive layer.
  • the adherend 32 may be a transparent substrate (protective layer or reinforcing layer), and various functionalities formed by further forming an antireflection layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antiglare layer, etc. on the transparent substrate.
  • a sheet or a display main body may be used.
  • the adherend may be on the base material 11 side, the conductive material portion 109 side, or on both sides.
  • FIG. 7 shows a case where the adherend 32 is laminated on the conductive member 109 side. In this figure, an adherend 32 is laminated on a conductive member via an adhesive layer 33.
  • the adhesive layer 33 is not directly applied to the conductive material portion 109, but is applied to the flattening layer 29 (through the adhesive layer). Bubble B can be prevented from remaining.
  • An anti-reflection layer (referred to as an AR layer) may be provided on the observation side of the electromagnetic wave shielding sheet.
  • the anti-reflection layer is for preventing reflection of visible light, and many single-layer and multi-layer structures are commercially available.
  • the multilayer has a high refractive index layer and a low refractive index layer that are alternately laminated.
  • the high refractive index layer include niobium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and ITO. Are silicon oxide, magnesium fluoride and the like. Some have a layer having a fine uneven surface that irregularly reflects external light.
  • the antireflection (AR) layer may be provided with a hard coat layer, an antifouling layer, and an antiglare layer.
  • the hard coat layer is a layer having a hardness of H or more in a pencil hardness test of JIS-K540, and is made of polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and the like.
  • the functional (meth) acrylate is cured by heat or ionizing radiation.
  • the antifouling layer is a water-repellent and oil-repellent coat to which a siloxane-based or fluorinated alkylsilyl compound can be applied.
  • the anti-glare layer is a layer having a fine uneven surface that irregularly reflects external light.
  • the substrate has a rigidity of 1 to 1 Omm for a large display, but has a thickness of 0 to 10 mm for a small display such as a character display tube.
  • a resin film of 0.1 to 0.5 mm is used, and it may be appropriately selected according to the size and use of the display. Alternatively, it may be attached directly to the front of the spray and laminated.
  • the side of the metal layer having the mesh shape is the observation side, and at least a blackening layer may be provided on the side of the metal layer.
  • the grounding frame 101 Since the grounding frame 101 is exposed to the surface, it is easy to pull out the electrodes and to easily ground. Note that the flattening layer is not provided on the frame portion 101 for grounding. Note that the protection layer 25B and the blackening treatment 23B are extremely thin layers and do not hinder grounding. Further, since the grounding frame portion 101 is blackened and the black surface is the observation side, the black printing provided in the frame shape of the front glass plate becomes unnecessary, so that the process can be shortened and the cost can be reduced. It is advantageous. Next, specific examples will be described.
  • Example 1 As the conductive material layer 109 including the metal layer 21, black treated layers 23A and 23B made of copper-cobalt alloy particles having an average particle diameter of 0.3 ⁇ m, An electrolytic copper foil with a thickness of 10 ⁇ having a chromate (treatment) layer 25 A and 25 B provided thereon was prepared.
  • a chromate treatment layer surface of the copper foil has a thickness of 1 0 0 / transparent biaxially oriented PET (polyethylene terephthalate) of zm film A 4 3 0 0 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name) and a base material consisting of After laminating with a two-component curable polyurethane-based adhesive, aging was carried out at 56 for 4 days.
  • the base agent Takerac A-310 (polyol) and curing agent A-10 (isosocyanate) both manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trade name
  • the base agent Takerac A-310 polyol
  • curing agent A-10 isosocyanate
  • Chromate treatment was performed using Alsurf 100% (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd., trade name: Chromate treatment agent) at a concentration of 0.1% for 1 minute at 40 ° C. Dried at 0 ° C for 10 minutes.
  • a production line for a color TV shadow mask which performs a process from masking to etching in a continuous band, was diverted.
  • a photosensitive resist made of casein was applied over the entire outer surface of the conductive material layer of the laminate film by a flowing method. Conveyed to the next station, with a square opening and a line width of 2 2 / im, a line spacing (pitch) of 300 // m, a bias angle of 49 degrees, and a pattern plate with a ground electrode electrode width of 5 mm ( Using a photomask, contact exposure was performed using a mercury lamp. While transporting the stations one after another, water development was performed, hard-metal processing was carried out, and further burung processing was performed at 80 ° C.
  • Example 2 An electromagnetic wave shielding sheet of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that zinc oxide was contained in the chromate (treatment) layer.
  • Example 3 An electromagnetic wave shielding sheet of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that nickel oxide was used by a plating method instead of the chromate (treatment) layer.
  • Example 4 An electromagnetic wave shielding sheet of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that nickel oxide and zinc oxide were used instead of the chromate (treatment) layer by a plating method.
  • Example 5 The electromagnetic wave shielding sheet of Example 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that nickel oxide, zinc oxide, and copper oxide were used in place of the chromate (treatment) layer by plating. Obtained.
  • Comparative Example 1 An electromagnetic wave shielding sheet of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mouth mate (treatment) layer 25A on the substrate side was not provided.
  • Example 6 A flattening layer composition having the following composition was applied to the surface of the mesh portion of the electromagnetic wave shielding sheet of Example 1, and a 50-m-thick SP—PET 20—BU (manufactured by Tocello, Inc.) After laminating a surface release treated PET film (trade name), it was exposed to 20 O mj Z cm 2 (converted to 365 nm) using a high-pressure mercury lamp. Then, when the SP-PET 20-BU was peeled off, the opening for the mesh portion was filled with the flattening layer composition to obtain the flattened electromagnetic wave shielding sheet of Example 2.
  • SP—PET 20—BU manufactured by Tocello, Inc.
  • composition for the flattening layer 20 parts by mass of N-butyl-1-pyrrolidone, 25 parts by mass of pentenyl atearylate, and oligoester acrylate (M-800, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 5 2 parts by mass and 3 parts by mass of 1-hydroxycyclohexylfurnyl ketone (Irgacure 1884, manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) were used.
  • Example 7 An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 6, except that the flattening layer composition of Example 6 contained 1 part by mass of a thiol-nickel complex.
  • Example 8 Electromagnetic wave shielding was performed in the same manner as in Example 6, except that an NIR film No. 2832 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., near-infrared absorbing film) was laminated on the flattened layer surface of Example 6 with an adhesive. I got a sheet.
  • NIR film No. 2832 manufactured by Toyobo Co., Ltd., near-infrared absorbing film
  • Example 9 (Direct application) Same as Example 1 except that the surface of the copper-cobalt alloy particles, which is not a chromate (treatment) layer, is laminated with a PET film, and further similar to Example 6. A flattening layer was formed to obtain an electromagnetic wave shielding sheet of Example 9.
  • the electromagnetic wave shielding sheets of Examples and Comparative Examples were mounted on a PDP panel, and the visibility of a displayed image was visually observed. The near infrared absorption state was also measured.
  • Comparative Example 1 the opening was slightly cloudy, and the image displayed on the PDP display had poor contrast and poor visibility.
  • the sheet for electromagnetic wave shielding of this invention it arrange

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Abstract

電磁波遮蔽用シート１は透明な基材１１と、透明な基材の一方の面へ設けられた少なくとも接着剤層１３、防錆層２５Ａ、メッシュ状の金属層２１とを有している。また、金属層２１と防錆層２５Ａとの間に黒化処理層２３Ａが設けられている。メッシュ状の金属層２１の少なくとも開口部１０５が樹脂で充填され、金属層２１面が実質的に平坦化状態となっている。

Description

明 細 書 電磁波遮蔽用シート 技 術 分 野
本発明は、 電磁波を遮蔽 （シーノレドともいう） 用のシートに関し、 さらに詳し くは、 CRT、 P DPなどのディスプレイの前面に配置して、 ディスプレイから 発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 ディスプレイの画像を良好に視認でき、 金属層 (薄膜） メッシュを用いた電磁波遮蔽用シートに関するものである。 背 景 技 術
(技術の概要） 近年、 電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、 電磁気的 なノィズ妨害 (E l e c t r o Ma g n e t i c I n t e r f e r e n c e ； EMI) が増えている。 電磁波ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノィ ズがある。 伝導ノイズはノイズフィルタなどを用いる方法がある。 一方、 放射ノ ィズは電磁気的に空間を絶縁するため、 筐体を金属にしたり、 回路基板間に金属 板を揷入したり、 ケーブルを金属箔で巻きなどの方法がある。 これらの方法は回 路ゃ電源ブロックの電磁波遮蔽の効果はあるが、 CRT、 プラズマディスプレイ パネル （以下 PDPともいう） などの、 ディスプレイ前面より発生する電磁波遮 蔽用には、 不透明であるため適さない。
プラズマディスプレイパネルは、 データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電 極を有するガラスとの組合体であり、 作動すると電磁波、 近赤外線、 及ぴ熱が大 量に発生する。 通常、 電磁波を遮蔽するためにプラズマディスプレイパネルの前 面に前面板を設ける。 ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、 30M Hz〜l GHzにおける 30 dB以上の機能が必要である。 また、 ^=、イスプレイ 前面より発生する波長 800〜1， 100 nmの近赤外線も、 他の VTR、 空調 機の遠隔操作 （リモートコントロール） 装置などの機器を誤作動させるので、 遮 蔽する必要がある。 さらに、 ディスプレイの表示画像を視認しゃすくするため、 電磁波遮蔽用の金属メッシュ (ライン) 部分が見えにくく、 電磁波遮蔽用シート としては適度な透明性 （可視光透過性、 可視光透過率） を有することが必要であ る。
さらにまた、 プラズマディスプレイパネルは大型画面を特徴としており、 例え ば、 3 7型、 4 2型、 さらに大型サイズもある。 このため、 電磁波遮蔽用シート のライン数は通常、 縦及び横方向に数千本にも及んであり、 ラインに囲まれた複 数の開口部が設けられている。 しかしながら、 該開口部は、 接着剤層がむき出し のため、 エッチング時にエッチング液のアタックを受けてしまい、 接着剤層が着 色したり、 また、 エッチング後のレジスト膜を剥離するアルカリ性の剥離液で、 接着剤層が劣化してしまうという問題点がある。
(先行技術） ディスプレイ画像の視認性を向上させるために、 前面板は、 電磁 波遮蔽と適度な透明性 （可視光の透過率） と、 所望以外の着色がなく、 剥離のな い均一で安定したメッシュ構造が求められている。
メッシュ構造を有するものでは、 基板ノ透明アンカ層/メッシュパターン状の 無電解メツキ層からなる電磁波シールド材料が、 特開平 5— 2 8 3 8 8 9号公報 で開示されている。 また、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュをフォトレジスト法 で形成する方法が、 特開平 0 9— 2 9 3 9 8 9号公報で開示されている。 さらに は、 銅箔に幾何学図形をフォトリソグラフィ法で形成した銅箔付きプラスチック フィルムをプラスチック'板に積層した電磁波遮蔽構成体が、 特開平 1 0— 3 3 5 8 8 5号公報で開示されている。 しかしながら、 いずれの方法でも、 電磁波遮蔽 シートもメッシュ構造を有しているが、 防鲭層があっても金属層のメッシュ部の みで、 基材及び接着剤層の全面にわたって層が形成されていないし、 全面に形成 する示唆もされていない。 さらにまた、 通常、 電磁波遮蔽用シートは、 基材側が 観察側となるので、 接地用電極部からアースがとりにくいという欠点もある。 また、 パターン （本発明のメッシュの相当する） の形成法が、 パターン状レジ ストの上に黒色層とパターン状金属層を設け、 レジストもろとも洗い流した後に 防鲭層を設けてなる、 透明基体/黒色層 /パターン状金属層/"防鲭層を有する電 磁波シールド材が、 特開平 1 1一 2 9 8 .1 8 5号公報で開示されている。 しかし ながら、 透明基体と黒色層又は金属層との間、 及び開口部に、 防鲭層を設けるこ とができないし、 パターン （メッシュ） の形成はエッチング法でないので、 高精 細なメッシュはできないという問題もある。 （腐食） 工程の際のエッチング液の 作用により、 開口部に露出し透光部となる接着剤層乃至は基材が黄変等の着色を 生じディスプレイの画像の色調に影響したり、 或は接着剤層の接着力を低下せし めることが有つた。 又ェツチング液中から接着剤層ゃ基材中に浸透した金属ィォ ン （F e 3+等） により色補正用に接着剤中に添加した色素や近赤外吸収用の色素 が劣化することも有った。 又図 7の如く、 電磁波遮蔽用シートを、 他の透明基材 やディスプレイと接着剤を介して積層した際にメッシ開口部の凹部に気泡 Bが残 留し、 気泡と接着剤との界面での光散乱により、 ヘイズ （曇価） が上昇すると云 う問題が有った。 又この様な電磁波遮蔽用シートに、 更に近赤外線吸収フィルタ 一層を積層し、 電磁波遮蔽性と近赤外線遮蔽性との両性能を有するフィルターを 得ることが特開 2 0 0 0 - 2 2 7 5 1 5で開示されている。
し力 し、 電磁波遮蔽用シートの製造工程に、 更に近赤外線吸収フィルターを接 着剤を介して積層する工程が必要となり、 工程数、 材料費も増える。 発 明 の 開 示
そこで、 本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。 そ の目的は、 C R T、 P D Pなどのディスプレイの前面に配置して、 ディスプレイ から発生する電磁波、 及び近赤外線の両方を遮蔽し、 かつ、 接着剤層中への気泡 残留によるヘイズ上昇も無く、 ディスプレイ画像の視認性に優れる電磁波遮蔽用 シートを積層工程数を増やすこと無く安価に提供することである。
本発明は、 電磁波遮蔽用シートにおいて、 透明な基材と、 基材の一方の面に設 けられた透明な防鲭層と、 防鲭層に設けられ、 開口部を形成するライン部を有す るメッシュ状の金属層を備え、 防鲭層は、 ライン部と開口部に対応する部分との 両方に設けられていることを特徴とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 P D Pなどのディスプレイの前面に配置して、 ディスプレイ から発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 メッシュのライン部分は非視認性で、 電磁 波遮蔽十生、 透明性の両特性を満たし、 かつ、 どちらの面を観察側にしてもよく、 エッチングやレジスト剥離等の製造工程時に基材ゃ接着剤層の変色、 剥離等の劣 化や変質が少なく、 画像を長期にわたって良好に視認することができる電磁波遮 蔽用シートが提供される。
本努明は、 金属層のライン部のライン幅は 5〜2 5 :m、 ライン部間のピッチ は 1 5 0〜5 0 0 μ πιとなっていることを特徴とする電磁波遮蔽用シートである。 本発明によれば、 メッシュのライン部分は非視認性で、 電磁波遮蔽性、 透明性 の両特性を満たす電磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 金属層の一方の面に黒化処理層が設けられていることを特徴とする 電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 メッシュのライン部分は非視認性で、 画像を良好に視認する ことができる電磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 金属層の基材と反対面に、 追力卩防鲭層が設けられていることを特徴 とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 基材面を P D P側へ設置してもよく、 電極の引き出し工数も 減り、 額縁状の黒印刷も要らず、 画像の視認性はギラツキもなく、 良好である電 磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 メッシュ状の金属層の開口部に透明樹脂が充填されて、 金属層と透 明樹脂とが平坦状となることを特徴とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 開口部の凹凸が埋まつて作業性に優れる電磁波遮蔽用シート が提供される。
本発明は、 メッシュ状の金属層の開口部へ充填される透明樹脂は、 可視光線中 の波長 5 7 0〜6 0 5 n m帯域の光を吸収する色調補正用光線吸収剤及び Z又は 近赤外線の波長 8 0 0〜1 1 0 0 n m帯域の光を吸収する近赤外 II吸収剤を含有 することを特徴とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明は、 基材または追加防鲭層のいずれかの外方に、 可視光線中の波長 5 7 0 - 6 0 5 n m帯域の光を吸収する色調補正用光線吸収剤層及び Z又は近赤 線 の波長 8 0 0〜 1 1 0 0 n m帯域の光を吸収する近赤外線吸収剤層を設けたこと を特徴とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 P D Pから発生する近赤外線及び電磁波の両方を遮蔽してこ れらに起因する弊害を防ぎ、 而も可塑光線は透過して、 且つ P D Pから発生する ネオン原子の発光スぺクトルに起因する黄〜橙色の発光を吸収し、 画像の色調が 橙色に着色することを防止して、 ディスプレイ画像を良好に視^ ·することができ る電磁波遮蔽用シートが提供される。 図面の簡単な説明
図 1は本発明の電磁波遮蔽用シートの平面図である。
図 2は本発明の電磁波遮蔽用シートの一部を模式的に示す斜視図である。
図 3 Aは図 2の AA断面図である。
図 3 Bは図 2の B B断面図である。
図 4は導電材層の構成を説明する断面図である。
図 5 Aは卷取りロール状での加工を説明する平面図である。
図 5 Bは卷取りロール状での加工を説明する断面図である。
図 6はディスプレイ面へ貼着する本発明の電磁波遮蔽用シートの断面図である。 図 7は被着体を有する電磁波遮蔽用シートを示す断面図である。
図 8は電磁波遮蔽用シートの製造方法を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の一実施態様について、 図面を参照して詳細に説明する。
伹し、 本発明はこの形態のみに限定される訳では無い。
図 1は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの平面図である。
図 2は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの一部を模式的に示す斜視図である。
(全体の構成） 図 1に示すように、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1は、 透明な 基材 1 1と、 基材 1 1上に設けられたメッシュ部 1 0 3と、 メッシュ部 1 0 3を 囲む接地用枠部 1 0 1とからなっている。 このうちメッシュ部 1 0 3は、 図 2に 示すように、 複数の開口部 （セルともいう） 1 0 5を有するライン部 1 0 7から なっている。 接地用枠部 1 0 1はディスプレイへ設置した場合にアースがとられ る。
また、 ライン部 1 0 7は透明な基材 1 1の一方の面へ接着剤層 1 3を介して接 着されており、 このライン部 1 0 7は積層構造の導電材層 1 0 9からなつている。 尚、 基材 1 1上に無電解メッキ、 蒸着等により直接導電材層 1 0 9を形成可能な 場合には、 接着剤層 1 3を省略しても良い。 ライン部 1 0 7は開口部 1 0 5が平 面内に於いて密に隣接配列した格子状のメッシュとなっている。
ライン部 1 0 7と開口部 1 0 5とによりメッシュ部 1 0 3が構成されている。 ライン部 1 0 7の幅は、 図 2に示すようにライン幅 Wと称し、 ラインとラインと の間隔をピッチ Pと称する。
図 3 Aおよぴ図 3 Bは、 図 2の AA断面図、 及び B B断面図である。
図 4は、 導電材層の構成を説明する断面図である。
(導電材層の構成） 図 3 Aは開口部を横断する断面を示し、 開口部 1 0 5とラ イン 1 0 7が交互に構成され、 図 3 Bはライン 1 0 7を縦断する断面を示し、 導 電材層 1 0 9からなるライン 1 0 7が連続して形成されている。 図 3 A、 図 3 B、 図 4に示すように、 導電材層 1 0 9は、 金属層 2 1と、 好ましくは、 少なくとも 金属層 2 1の観察面に設けられた黒化処理層 2 3 A又は 2 3 Bとを有している。 さらに好ましくは、 黒化処理層 2 3 A及び Z又は 2 3 Bを覆うように、 防鲭層 2 5 A及ぴ Z又は 2 5 Bを設けるが、 防鲭層は少なくとも黒化処理層 2 3 A側に設 ければよい。 又メッシュ部の開口部 1 0 5にも存在する防鲭層 2 5 Aは透明な層 とする。 メッシュ部のライン部 1 0 7上へのみ設けられる防鲭層 2 5 Bは透明、 或は不透明のいづれでも良い。
該防鑌層 2 5 A、 2 5 Bは金属層 2 1及び黒化処理 2 3 A、 2 3 Bの防鲭機能 を持ち、 かつ、 黒化処理層 2 3 A、 2 3 Bの脱落も防止する。 また、 驚くべきこ とに、 該防鲭層 2 5 A及び 2 5 Bは、 基材 1 1と接着剤層 1 3を介して積層した 後は、 該接着剤層 1 3を保護するのである。 上述のように、 必要に応じて、 金属 層 2 1の他方の面へも、 黒化処理層 2 3 B及ぴ防鲭層 2 5 B (追加防鲭層 2 5 B ) を設けてもよく、 金属層 2 1の両面へ黒化処理層 2 3 A、 2 3 B及ぴ防鲭層 2 5 A、 2 5 Bを設けてもよ.い。. 一番好ましい形態としては、 観察側へ黒化処理 層 2 3 A及び防鲭層 2 5 Aを設ける。
(発明のポイント） 従来技術に於いては金属層 2 1のエッチングを更に防鲭層 に迄進行せしめて、 ライン 1 0 7部のみに防鲭層 2 5 Aを残す。 但し、 本発明に 於いては、 エッチングを金属層 2 1全層がエッチング除去された時点で停止して 防鲭層 2 5 Aを基材 1 1側のメッシュの開口部 1 0 5へも残しておく、 即ち、 全 面に防鲭層 2 5 Aが設けられている形態とすることで、 該防鲭層 2 5 Aが接着剤 層 1 3を保護することを見出した。 即ち、 従来の開口部 1 0 5では接着剤層 1 3 がむき出しのため、 エッチング時にエッチング液のアタックを受けて着色したり、 また、 エッチング後のレジスト膜を剥離するアルカリ性の剥離液で劣化、 変質し て接着力が低下したりするが、 本発明の防鲭層 2 5 Aがあると、 この現象を防止 することができ、 さらに、 エッチング液の鉄やナトリウムによる汚染や、 これら 金属 （イオン） による光線吸収剤を変褪色させることを防止できる。
さらにまた、 通常、 電磁波遮蔽用シート 1はその基材 1 1側を観察側とするこ とが多いが、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1に於いて通常の場合黒化処理層 2 3 A面、 必要に応じて両方の黒化処理層 2 3 A， 2 3 Bに同質の防鲭層 2 5 A， 2 5 Bが設けられているために、 黒化処理層 2 3 Bを基材 1 1と反対面に設けても 防鲭層 2 5 Bによって保護されているので、 黒化処理層 2 3 Bの粒子落ちなどが 生じにくいため、 どちら側でも観察側とすることが容易である。 金属層 2 1を観 察側とすると接地用枠部 1 0 1 (機能的には電極部である） が露出しているので、 アースがとり易い。 なお、 防鲭層 （追加防鑌層） 2 5 B、 黒化処理層 2 3 Bは極 めて薄い層なので、 アース接地の妨げとはならない。 さらに、 接地用枠部 1 0 1 は黒ィ匕処理により形成される力 黒化処理層 2 3 A又は 2 3 Bの形成時の黒化処 理を流用でき、 工程短縮、 コスト面でも有利となる。
本明細書では、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1を C R T、 P D Pなどのディス プレイ用を主体に記載しているが、 ディスプレイ以外の電磁波遮蔽用に使用でき ることはいうまでもない。
一方、 P D Pは大型画面を特徴としており、 電磁波遮蔽用シート 1の大きさ (外形寸法） は、 例えば、 3 7型では 6 2 0 X 8 3 0 mm程度、 4 2型では 5 8 0 X 9 8 O mm程度もあり、 さらに大型サイズもある。 このため、 電磁波遮蔽用 シートのライン数はメッシュの大きさにもよるが、 通常、 縦及び横方向に数千本 にも及ぶ。 該ラインの幅は 「 x m」 単位の精度で、 一定範囲内に形成しなければ ならない。 開口部 1 0 5も、 所望以外に着色したりすると、 人間がディスプレイ 画像を観察した際に、 人間は極めて強い違和感を感ずる。 即ち、 本発明の電磁波 遮蔽用シートは、 透明な防鲭層 2 5 Aを開口部 1 0 5も含めた全面に形成するこ とにより接着剤層 1 3、 或は基材 1 1が着色せず、 電磁波遮蔽性と適度の透明性 を有しているので、 画像の視認性に優れるものである。 また、 防鲭層 2 5 Aと接 着剤層 1 3又は後述する平坦化層 2 9の屈折率に差があり、 相対的に防鲭層 2 5 Aの屈折率が高く、 接着層 1 3又は後述する平坦化層 2 9の屈折率が低く、 反射 防止、 コントラスト向上などの光学的な作用効果も期待できる。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1の導電材部 1 0 9としては、 金属層 2 1の少な くとも一方の面へ黒化処理 2 3 A及び/又は 2 3 Bを設け、 さらに、 少くとも該 導電材部 1 0 9の基材 1 1側の面へ、 防鲭層 2 5 A及び/又は 2 5 Bがライン部 及び開口部いづれの位置に於いても設けられている。
該導電材部 1 0 9を接着剤層 1 3を介して透明な基材 1 1と積層した後に、 フ オトリソグラフィ法でメッシュ状とする。 続いて透明樹脂を開口部 1 0 5内に充 填して平坦化層 2 9として金属層側を平坦化し、 さらに必要に応じて特定波長の 近赤外線或は近赤外線と特定波長の可視光線を吸収する光線吸収剤層 3 1 A, 3 1 Bを設ける。 このような電磁波遮蔽用シートをディスプレイの前面に配置する と、 ディスプレイから発生する電磁波及び近赤外線を遮蔽し、 接着剤層内の気泡 による曇り、 白化が無く、 メッシュの濃淡ムラがなく、 黒又は白の点状線状の欠 点が極めて少なく、 かつ、 適度の透明性を有し、 ディスプレイに表示された画像 を良好に視認することができる。
(製造方法の概略） 本発明の電磁波遮蔽用シート 1は、 まず、 少なくとも観察 側に、 黒化処理及ぴ基材 1 1側に防鲭層を設けた導電材層 1 0 9を用意し、 該導 電材層 1 0 9を透明なフィルム状の基材 1 1の一方の面へ接着剤を介して積層し た後に、 導電材層 1 0 9面へレジスト層 1 0 9 aをメッシュパターン状に設ける。 レジスト層 1 0 9 aで覆われていない部分の導電材層 1 0 9を防鲭層 2 5 Aを除 いてエッチングにより除去した後に、 レジスト層 1 0 9 aを除去する所謂フォト リソグラフィ法で製造すればよい。 さらに、 既存の設備を使用でき、 これらの製 造工程の多くを連続的に行うことで、 品質及び歩留まりが高く、 生産効率が高く 生産できる （図 8 ) 。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1の、 各層の材料及び形成について説明する。
(導電材層） 電磁波を遮蔽する導電材層 1 0 9は、 例えば金、 銀、 銅、 鉄、 二 ッケル、 クロムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持つ金属層 2 1を有する。 金属層 2 1は単体でなくても、 合金あるいは多層であってもよい。 金属層 2 1としては、 鉄の場合には低炭素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼など の低炭素鋼、 N i— F e合金、 ィンバー合金が好ましく、 また、 カソーディック 電着を行う場合には、 電着のし易さから銅又は銅合金箔が好ましい。 該銅箔とし ては、 圧延銅箔、 電解銅箔が使用できるが、 厚さの均一性、 黒化処理及びノ又は クロメート （処理） 層との密着性、 及び 1 0 μ πι以下の薄膜化ができる点から、 電角军銅箔が好ましい。 該金属層 2 1の厚さは 1〜1 0 0 μ m程度、 好ましくは 5 〜2 0 // mである。 これ以下の厚さでは、 フォトリソグラフィ法によるメッシュ 加工は容易になるが、 金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれ、 これ 以上では、 所望する高精細なメッシュの形状が得られず、 その結果、 実質的な開 口率が低くなり Λ 光 ,線透過率が低下し、 さらに視角も低下して、 画像の視認性が 低下する。 これら金属層 2 1は、 通常予め金属層としたものを接着剤層 1 3を介 して基材 1 1上に接着し積層する。 伹し、 直接基材 1 1上に、 無電解メツキ （或 は無電解メツキ層の上に更に電解メツキしても良い） 、 蒸着等の方法により、 直 接形成しても良い。 この場合には、 接着剤層 1 3は省略も可能である。
金属層 2 1の表面粗さとしては、 2値で0 . 5〜 1 0 μ mが好ましい。 これ 以下では、 黒化処理しても外光が鏡面反射して、 画像の視認性が劣化する。 これ 以上では、 接着剤やレジストなどを塗布する際に、 表面全体へ行き渡らなかった り、 気泡が発生したりしてする。 表面粗さ R zは、 J I S— B 0 6 0 1に準拠し て測定した 1 0点の平均値である。
(黒化処理） 電磁波遮蔽用シート 1への外光を吸収させて、 ディスプレイの画 像の視認性を向上するために、 メッシュ状の導電材部 1 0 9の金属層 2 1観察側 に黒化処理を行って、 コントラスト感を出すことが必要である。 該黒化処理は金 属層 2 1面を粗化及び Z又は黒化すればよく、 金属酸化物、 金属硫化物の形成や 種々の手法が適用できる。 鉄の場合には、 通常スチーム中、 4 5 0〜4 7 0 °C程 度の温度で、 1 0〜 2 0分間さらして、 1〜2 μ m程度の酸化膜 （黒化膜） を形 成するが、 濃硝酸などの薬品処理による酸ィ匕膜 （黒化膜） でもよい。 また、 銅箔 の場合には、 銅箔を硫酸、 硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、 陰 極電解処理を行って、 カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好まし い。 該カチオン性粒子を設けることでより粗ィ匕し、 同時に黒色が得られる。 記力 チオン性粒子としては、 銅粒子、 銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、 好 ましくは銅-コパルト合金の粒子である。
本明細書では、 粗化及び黒色化を合わせて黒化処理という。 該黒化処理の好ま しい黒濃度は 0. 6以上である。 なお、 黒濃度の測定方法は、 COLOR CO NTROL SYSTEMの GRETAG SPM100— 1 1 (キモト社製、 商品名） を用いて、 観察視野角 10度、 観察光源 D 50、 照明タイプとして濃度 標準 ANS I Tに設定し、 白色キヤリブレイシヨン後に、 試験片を測定する。 また、 該黒化処理の光線反射率としては 5%以下が好ましい。 光泉反射率は、 J
1 S-K7105に準拠して、 ヘイズメーター HM150 (ネす上色彩社製、 商品 名） を用いて測定する。
(合金粒子） 上記カチオン性粒子としては、 銅粒子、 銅と他の金属との合金粒 子が適用できるが、 好ましくは銅-コバルト合金の粒子である。 銅-コバルト合 金の粒子を用いると、 黒化の程度が著しく向上して可視光をよく吸収する。 電磁 波遮蔽用シートの視認、性を評価する光学特性として、 色調を J I S— Z8729 に準拠した表色系 「L*、 a *、 b*、 ΔΕ*」 で表わした。 該 「a*」 及び 「b *」 の絶対値が小さい方が導電材部 109が非視認性となり、 画像のコントラス ト感が高まり、 結果として画像の視認性が優れる。 銅-コバルト合金の粒子を用 いると、 銅粒子と比較して 「a*J 及び 「b*」 を 0に近く小さくできる。
また、 銅 -コノ ノレト合金粒子の平均粒子径は 0. 1〜 1 μ mが好ましい。 これ 以上では、 銅 -コパルト合金粒子の粒子径を大きくすると金属層 21の厚さが薄 くなり、 基材 1 1と積層する工程で銅箔が切断したりして加工性が悪化し、 また、 密集粒子の外観の緻密さが欠けて、 ムラ状が目立ってくる。 これ以下では、 粗ィ匕 が不足するので、 画像の視認性が悪くなる。
(防鲭層） 金属層 21及び Z又は黒化処理への、 P方鑌機能と黒化処理の脱落や 変形を防止するために、 少なくとも金属層 21を黒化処理した黒化処理層 23 A,
23 Bに、 防鲭層 25 A及び 又は 25 Bを設ける。 該防鲭層 25 A、 25 Bと しては、 ニッケル及び Z又は亜鉛及び/又は銅の酸化物、 又はクロメート処理層 が適用できる。 ニッケル及び/又は亜鉛及び/又は銅の酸化物の形成は、 公知の メツキ法でよく、 厚さとしては、 0 . 0 0 1〜1 μ πι程度、 好ましくは 0 . 0 0
1〜0 . 1 μ ιηでめる。
(クロメート処理） クロメート処理は、 被処理材へクロメート処理液を塗布し 処理する。 該塗布方法としては、 ロールコート、 カーテンコート、 スクイズコー ト、 静電霧化法、 浸漬法などが適用でき、 塗布後は水洗せずに乾燥すればよい。 クロメート処理を片面に施す場合は、 ロールコートなどで片面に塗布し、 両面に 施す場合は、 浸漬法で行えばよい。 クロメート処理液としては、 通常 C r 02を 3 g Z lを含む水溶液を使用する。 この他、 無水クロム酸水溶液に異なるォキシ カルボン酸化合物を添加して、 6価クロムの一部を 3価クロムに還元したクロメ ート処理液も使用できる。 また、 6価クロムの付着量の多少により淡黄色から黄 褐色に着色するが、 3価クロムは無色であり、 3価と 6価クロムを管理すれば、 実用上の問題がない透明性が得られる。 ォキシカルボン酸化合物としては、 酒石 酸、 マロン酸、 クェン酸、 乳酸、 グルコール酸、 グリセリン酸、 トロパ酸、 ベン ジル酸、 ヒドロキシ吉草酸などを、 単独又は併用して用いる。 還元性は化合物に より異なるので、 添力卩量は 3価クロムへの還元を把握しながら行う。
具体的には、 アルサーフ 1 0 0 0 (日本ペイントネ土製、 クロメート処理剤商品 名） 、 P M— 2 8 4 (日本パ一カライジング社製、 クロメート処理液商品名） な どが例示できる。 また、 クロメート処理は黒化処理の効果をより高める上で特に 好ましい。
黒化処理層 2 3 A, 2 3 Bは、 少なくとも観察側に又防鲭層 2 5 A、 2 5 Bは 少くとも基材 1 1側に設ければよく、 コントラストが向上してディスプレイの画 像の視認、性が良くなる。 また、 他方の面、 即ちディスプレイ面側に設けてもよく、 ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、 さらに、 画像の視認性が向上 する。
次に、 防鲭層 2 5 Aに透明な基材 1 1を接着剤 1 3で積層する。
(基材） 基材 1 1の材料としては、 使用条件や製造に耐える透明性、 絶縁性、 耐熱 ¾Ξ、 機械的強度などがあれば、 種々の材料が適用できる。 例えば、 ポリェチ レンテレフタレート -ポリプチレンテレフタレ一ト ·ポリエチレンナフタレー PC霞睡 10022
12
ト 'ポリエチレンテレフタレート -イソフタレート共重合体 'テレフタル酸-シ クロへキサンジメタノール-エチレングリコール共重合体■ポリエチレンテレフ タレート /ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル 系樹脂、 ナイロン 6 'ナイロン 6 6 ·ナイロン 6 1 0などのポリアミ ド系樹脂、 ポリプロピレン ·ポリメチルペンテンなどのポリオレフイン系樹脂、 ポリ塩化ビ ニルなどのビュル系樹脂、 ポリアタリレート ·ポリメタァクリレート 'ポリメチ ルメタァクリレートなどのアクリル系樹脂、 ポリイミ ド ·ポリアミドィミド ·ポ リエーテルィミ ドなどのィミ ド系樹脂、 ポリアリレート 'ポリスルホン 'ポリエ ーテノレスノレホン · ポリフエ二レンエーテノレ · ポリフエ二レンスノレフィ ド （P P S ) 'ポリアラミド 'ポリエーテルケトン 'ポリエーテル二トリノレ 'ポリエーテ ルエーテルケトン .ポリエーテルサルフアイトなどのエンジニアリング樹脂、 ポ リカーポネート、 ポリスチレンなどのスチレン系樹脂などがある。
基材 1 1は、 これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、 または、 混合体 （ァロイ でを含む） 、 若しくは複数層からなる積層体であっても良い。 該基材は、 延伸フ イルムでも、 未延伸フィルムでも良いが、 強度を向上させる目的で、 一軸方向ま たは二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。 該基材の厚さは、 通常、 1 2〜1 0 0 0 /x m程度が適用できる力 5 0〜7 0 0 μ ΐηが好適で、 1 0 0〜5 0 0 / mが最適である。 これ以下の厚さでは、 機械的強度が不足して反りやたるみなど が発生し、 これ以上では、 過剰な性能となってコスト的にも無駄である。
基材 1 1は、 これら樹脂の少なくとも 1層からなるフィルム、 シート、 ボード 状として使用するが、 これら形状を本明細書ではフィルムと総称する。 通常は、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系の フィルムが透明性、 耐熱性がよくコストも安いので好適に使用され、 ポリエチレ ンテレフタレートが最適である。 また、 透明性は高いほどよいが、 好ましくは可 視光線透過率で 8 0 %以上である。
基材 1 1は、 塗布に先立って塗布面へ、 コロナ放電処理、 プラズマ処理、 ォゾ ン処理、 フレーム処理、 プライマー （アンカーコート、 接着促進剤、 易接着剤と も呼ばれる） 塗布処理、 予熱処理、 除塵埃処理、 蒸着処理、 アルカリ処理、 など の易接着処理を行ってもよい。 該樹脂フィルムは、 必要に応じて、 充填剤、 可塑 剤、 帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
(積層法） 積層 （ラミネートともいう） 法としては、 基材 1 1又は導電材層 1 0 9の一方に、 接着剤又は粘着剤を塗布し必要に応じて乾燥して、 加熱又は加熱 しないで加圧し、 基材 1 1と導電材層 1 0 9とを接着剤 1 3を介して接合する。 その後必要に応じて 3 0〜8 0 °Cの温度下で、 エージング （養生） してもよい。 また、 基材 1 1自身、 又は基材 1 1が複数層で積層面が、 例えば、 アイオノマー 樹脂、 エチレン -酢酸ビニル共重合体、 エチレン -アクリル酸共重合体、 ェチレ ン -アクリル酸エステル共重合体などの熱接着性の樹脂であれば、 加熱下で加圧 するだけでよい。
(接着剤） 接着剤 1 3としては、 特に限定されないが、 例えば、 アクリル樹脂、 ポリエステル樹脂、 ウレタン樹脂、 エポキシ樹脂、 塩化ビュル-酢酸ビュル共重 合樹脂などが適用できる。 また、 エッチング液による染色や劣化が少なく、 加工 適性のよい熱硬化型樹脂を用いた、 当業者がドライラミネーシヨン法 （ドライラ ミともいう） と呼ぶ方法が好ましい。 さらに、 紫外線 (UV) 、 電子線 （E B) などの電離放射線で硬化 （反応） する電離放射線硬化型樹脂も好ましい。 電離放 射線硬化型樹脂としては、 例えば、 ポリエステル （メタ） アタリレート、 ウレタ ン （メタ） アタリレート、 エポキシ （メタ） アタリ レート等のプレポリマー （乃 至はオリゴマー） 、 トリメチロールプロパントリ （メタ） アタリレート、 ジペン タエリスリ トールへキサ （メタ） アタリレート等の単量体、 或はこれらの混合物 が用いられる （ここで、 (メタ) アタリレートとは、 ァクリレート又はメタタリ レートを意味する） 。
(ドライラミ） ドライラミネーシヨン法とは、 溶媒へ分散または溶解した接着剤 を塗布し乾燥させて、 貼り合せ を重ねて積層した後に、 3 0〜 1 2 0°Cで数時 間〜数日間エージングすることで、 接着剤を硬化させて、 2種の材料を積層させる 方法である。 また、 ドライラミネーシヨン法を改良したノンソノレベントラミネーシ ヨン法でもよく、 溶媒へ分散または溶解せずに接着剤自身を塗布し乾燥させて、 貼 り合せ基材を重ねて積層した後に、 3 0〜 1 2 0 °Cで数時間〜数日間エージングす ることで、 接着剤を硬化させることで、 2種の材料を積層させる方法である。
ドライラミネーション法、 またはノンソルベントラミネーション法で用いる接 着層の接着剤として、 熱、 または紫外線 ·電子線などの電離放射線で硬化する接 着剤が適用できる。 熱硬化接着剤としては、 具体的には、 2液硬化型の接着剤、 例えば、 ポリエステルウレタン系樹脂、 ポリエーテルウレタン系またはアクリル ウレタン系樹脂等から成るウレタン系接着剤、 アクリル系接着剤、 ポリエステル 系接着剤、 ポリアミ ド系接着剤、 ポリ酢酸ビニル系接着剤、 エポキシ系接着剤、 ゴム系接着剤などが適用できるが、 2液硬化型ゥレタン系接着剤が好適である。
2液硬化型ウレタン系樹脂としては、 具体的には、 例えば、 多官能イソシァネ 一トとヒ ドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリマ一、 具体的には、 例えば、 トリレンジィソシアナ一ト、 ジフエニルメタンジィソシアナ一ト、 ポリ メチレンポリフエ二レンポリイソシアナ一ト等の芳香族ポリイソシアナ一ト、 あ るいは、 へキサメチレンジイソシアナ一ト、 キシリレンジィソシアナ一ト、 イソ ホロンジイソシァネート等の脂肪族 （乃至は脂環式） ポリイソシアナート等の多 官能イソシァネートと、 ポリエーテル系ポリオール、 ポリエステル系ポリオ一ル、 ポリアクリレートポリオール等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得ら れる 2液型ウレタン系樹脂を使用することができる。
好ましくは、 エッチング液による染色、 劣化がないスチレン -マレイン酸共重 合ポリマーで変性したポリエステルポリゥレタンと脂肪族ポリィシシァネートを 配合した接着剤である。
ドライラミネーション法では、 これらを主成分とする接着剤組成物を有機溶媒 へ溶解または分散し、 これを、 例えば、 ロールコーティング、 リバースロールコ 一ティング、 グラビアコーティング、 グラビアリバースコーティング、 グラビア オフセットコーティング、 キスコーティング、 ワイヤーノ ーコーティング、 コン マコーティング、 ナイフコーティング、 デップコーティング、 フローコーティン グ、 スプレイコ一ティングなどのコーティング法で塗布し、 溶剤などを乾燥して、 本発明のラミネーシヨン用接着層を形成することができる。 好ましくは、 ロール コーティング、 リバースロールコーティング法である。
該接着層 1 3の膜厚としては、 0 . 1〜 2 0 m (乾燥状態） 程度、 好ましく は l〜1 0 /i mである。 該接着層を形成したら直ちに、 貼り合せ基材を積層した 後に、 3 0〜1 2 0 °Cで数時間〜数曰間エージングすることで、 接着剤を硬化さ せることで接着する。 該接着剤の塗布面は、 基材側、 導電材部側のいずれでもよ い。 好ましくは、 粗化してある銅箔側で、 粗面の全体に行き渡って、 積層体へ気 泡の発生が抑えられる。
ノンソルベントラミネーション法は、 基本的にはドライラミネーション法と同様 であるが、 接着剤組成物を有機溶媒へ溶解または分散しないで、 接着剤 a成物その ままを用いるが、 必要に応じて、 粘度を低下させるために、 接着剤組成物を加熱加 温して用いる場合もある。 .
(粘着剤） 粘着剤としては、 公知の感圧で接着する粘着剤が適用できる。 粘着剤 としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 天然ゴム系、 ブチルゴム 'ポリ イソプレン.ポリイソプチレン 'ポリクロ口プレン'スチレン一ブタジエン共重合 樹脂などの合成ゴム系樹脂、 ジメチルポリシロキサンなどのシリコーン系樹脂、 了 クリル系樹脂、 ポリ酢酸ビニール 'エチレン-酢酸ビニール共重合体などの酢酸ビ ニーノレ系樹脂、 ウレタン系樹脂、 アクリロニトリル、 炭化水素樹脂、 ァノレキノレフエ ノ一ノレ樹脂、 ロジン'ロジントリグリセリド'水素ィヒ口ジンなどの口ジン系樹脂が 適用できる。
(ゴム系粘着剤） ここでゴム系粘着剤は、 クロロプレンゴム， 二トリルブタジェ ンゴム， アタリノレゴム， スチレンブタジエンゴム， スチレンィソプレンスチレン， スチレンブタジエンスチレン， スチレンエチレンブタジエンスチレン， プチノレゴム , ポリイソプチレンゴム， 天然ゴム， ポリイソプレンゴムなどの米占着ゴムの一又は 複数に、 フエノール系樹脂， 変性フエノール樹脂， ケトン樹脂， アルキッド樹脂， ロジン系樹脂， クマロン樹脂， スチレン系樹脂， 石油樹脂， 塩化ビエル系樹脂など の粘着付与材の一又は複数を配合したものが有効である。
ゴム系粘着剤は、 アクリル系接着材と比較して耐薬品性、 耐膨潤性、 耐 性、 粘着性、 および剥離強度に優れているので、 接着部分が酸 I生又はアルカリ性の物質 に曝されても剥離が生じない。 また、 ゴム系粘着材は、 酸性又はアルカリ性の薬液 中で加水分解をほとんど発生せず、 粘着寿命が長 ヽ。
(粘着剤による接着剤層の形成） これらの樹脂、 またはこれらの混合物を、 ラテ ッタス、 水分散液、 または有機溶媒?夜として、 スクリーン印刷またはコンマコート などの、 公知の印刷またはコーティング法で、 '印刷または塗布し必要に応じて乾燥 した後に、 一方の材料と重ねて加圧すれば良 ヽ。
図 5 Aおよび図 5 Bは、 巻取りロール状での加工を説明する平面図及ぴ側面図 である。
具体的な積層方法としては、 通常、 帯状で連続して卷き取られたロール状 （巻 取り口一ノレという） で行う。 図 5 Aは平面図で卷取りロールから卷きほぐされて 伸張された状態で、 電磁波遮蔽用シート 1が一定間隔で面付けされている。 図 5 Bは側面図で、 導電材層 1 0 9と基材 1 1とが積層されている。 まず、 巻取り口 ールの金属層 2 1に黒化処理層 2 3 A， 2 3 B及び防鲭層 2 5 A， 2 5 Bを形成 をして、 導電材層 1 0 9を得る。 次に導電材層 1 0 9の防鲭層 2 5 Aへ接着剤 1 3を塗布し乾燥した後に、 基材 1 1を重ね合わせて加圧する。 さらに、 必要に応 じて 3 0〜8 0 °Cの雰囲気で数時間〜数日のエージング （養生、 硬化） を行って、 卷取りロール 2を得る。
(フォトリソ法） 図 8の如く該積層体の導電材層 1 0 9面へ、 レジスト層 1 0 9 aをメッシュパターン状に設け、 レジスト層 1 0 9 aで覆われていない部分の 導電材層をエッチングにより除去した後に、 レジスト層 1 0 9 aを除去するフォ トリソグラフィ法で、 メッシュ状とする。
(マスキング） まず、 基材 1 1と導電材層 1 0 9の積層体の導電材層 1 0 9面 を、 フォトリソグラフィ法でメッシュ状とする。 この工程も、 帯状で連続して巻 き取られたロール状の積層体を加工して行く。 該積層体を連続的又は間歇的に搬 送しながら、 緩みなく伸張した状態で、 マスキング、 エッチング、 レジスト剥離 する。
まず、 マスキングは、 例えば、 感光性レジスト 1 0 9 aを導電材層 1 0 9上へ 全面塗布し、 乾燥した後に、 所定のパターン （メッシュのライン部） 版 （マス ク） にて密着露光して所定のパターン状に露光する。 感光性レジストがネガ型
(露光部が硬化） の場合は、 開口部が遮光、 ライン部が透光のパターンとする。 又感光性レジストがポジ型 （露光部が溶解） の場合は、 開口部が透口、 ライン部 が遮光のパターンとする。 露光の光源としては、 例えば水銀燈が用いられる。 水 現像し、 硬膜処理などを施し、 ベーキングする。
レジストの塗布は、 卷取りロール状の帯状の積層体 （基材 1 1と導電材層 1 0 9 ) を連続又は間歇で搬送させながら、 その導電材層 1 0 9面へ、 カゼイン、 P VA、 ゼラチンなどのレジストをデイツビング （浸漬） 、 カーテンコート、 掛け 流しなどの方法で行う。 また、 レジストは塗布ではなく、 ドライフィルムレジス トを用いてもよく、 作業性が向上できる。 ベーキングはカゼインレジストの場合、 2 0 0〜3 0 0 °Cで行う力 積層体の反りを防止するために、 できるだけ低温度 が好ましい。
(エッチング） マスキング後にエッチング （腐蝕） を行う。 該エッチングに用 いるエッチング液としては、 エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容 易にできる塩化第二鉄、 塩化第二銅の溶液が好ましい。 また、 該エッチングは、 帯状で連続する鋼材、 特に厚さ 2 0 ~ 8 0 w inの薄板をエッチングするカラー T Vのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備と、 基本的に同様の工程であ る。 即ち、 該シャドウマスクの既存の製造設備を流用でき、 マスキングからエツ チングまでが一貫して連続生産できて、 極めて効率が良い。 エッチング後は、 水 洗、 アルカリ液によるレジスト剥離、 洗浄を行ってから乾燥すればよい。
(着色防止効果) 該ェッチング時には、 エツチング液が全体へ吹き付けられる ので、 金属層 2 1以外の部分もエッチング液のアタックを受けてしまう。 特に開 口部 1 0 5が形成された後は、 従来の場合には接着剤層 1 3がむき出しとなって、 該接着剤層 1 3がエッチング液の影響で着色したりする。 着色すると、 J I S— Z 8 7 2 9に準拠した表色系 「L *、 a *、 b *、 Δ Ε *」 で表わした色調で、 該 厂 L *J 、 「a *J 及ぴ 「b *J が大きくなり、 画像の視認性が低下する。
ところが、 本発明に於いて基材 1 1側に存在する防鲭層 2 5 Aを、 ライン部 1 0 7のみでなくメッシュの開口部 1 0 5へも残しておく。 このため、 該防鲭層 2 5 Aが接着剤層 1 3を保護する。 このため、 該接着剤層 1 3はエッチング液の影 響を受けず、 着色しないので、 画像の視認性が低下しない。 又平坦化層 2 9との 接着性も低下しない。
(剥離防止効果） さらに、 エッチング後のレジスト膜 1 0 9 aの剥離には、 ァ ルカリ性の剥離液を用いて剥離するので、 従来の場合、 接着剤層 1 3がアル力リ 液の影響で剥離することが見られた。 ところが、 本発明では、 防鲭層 2 5 Aをメ ッシュの開口部 1 0 5へも残しておくことで、 該防鲭層 2 5 Aが接着剤層 1 3を 保護する。 このため、 該接着剤層 1 3はアルカリ性の剥離液の影響を受けず、 剥 離することがない。
(汚染防止効果） さらに、 通常、 接着剤層 1 3は、 エッチング液中の鉄ゃナト リウムによって汚染されるが、 本発明では、 防鲭層 2 5 Aが接着剤層 1 3を保護 することで、 この汚染も防止することができる。 鉄やナトリウムの汚染がないと、 ディスプレイに搭載されて高温多湿などの特殊な環境に晒された時に稀に発生す る、 電磁波遮蔽用シート 1表面の水濡れ現象がなく、 外観的にも優れる。 理由は 定かではないが、 防鲭層 2 5 Aは金属酸化物が主体で表面張力が高く、 水の濡れ 性がよいためと推定される。 このように、 防鲭層 2 5 Aを開口部 1 0 5部分にも 形成させておくことで、 複数の特異な作用効果を発現できる。
(メッシュ） メッシュ部 1 0 3は、 複数で開口部 1 0 5を有するライン部 1 0 7からなつている。 開口部 1 0 5の形状は特に限定されず、 例えば、 正 3角形、 2等辺 3角形等の 3角形、 正方形、 長方形、 菱形、 台形などの 4角形、 5角形、 6角形 （亀甲形） 、 8角形等の n角形、 円形、 楕円形などが適用できる。 これら の開口部の複数を、 組み合わせてメッシュとする。
開口率、 メッシュの非視認性、 及び画像の視認性から、 メッシュ部 1 0 3のラ イン部 1 0 7の直線部における幅 Wが所定値土 3 0 %の範囲内であり、 かつ、 透 明基板と直交したライン切断面 （横断面） の形状における上底と下底とを結ぶ土 手 （開口部の周囲の側面） の曲率半径が、 前記金属層の厚さの 1 . 5〜3 . 0倍 とする。 好ましくは、 メッシュ部 1 0 3のライン幅 Wが 5〜2 5 /2 mで、 ライン とラインのピッチが 1 5 0〜5 0 0 mとし、 また、 後述の如くメッシュ部 1 0 3の外周部近傍の 1〜5 0メッシュ、 又は 0 . 1 5〜1 5 mmの部分については ライン部の幅の分布は所定値 ± 3 0 %の範囲外とすることも可能である。
通常、 大型のプラズマディスプレイパネル用の電磁波遮蔽用シートには、 数千 本以上の直線ラインが形成されており、 そしてそれぞれが交わっている。 該ライ ン部 1 0 7のライン幅のバラツキを抑え、 かつ、 ライン部 1 0 7の切断面の形状 における上底と下底とを結ぶ土手の曲率半径を規制する。 このことにより、 電磁 波遮蔽性と適度の透明性を有し、 メッシュの濃淡ムラが少なく、 かつ、 特に黒と 白の点状及び線状欠点が少なく、 かつまた、 表示光のギラツキが少なく、 又は外 光の反射が抑えられ、 優れた画像の視認性を有する電磁波遮蔽用シート 1を得る ことができる。
ライン部 1 0 7の幅 Wのパラツキは、 例えば、 ライン幅 1 4 i mとすると、 1 4 ± 4 . 2 μ πιで、 範囲としては 9 . 8 ~ 1 8 . 2 mあり、 この範囲内であれ ば、 メッシュの濃淡ムラ、 黒及び/又は白の点状及び線状の欠点が発生しない。 もし、 ライン幅に広狭があると、 メッシュが濃淡ムラとなる。 また広狭が大きい 場合には、 人間がディスプレイ画像を観察した際に、 広い部分は黒点欠点となり、 狭い部分は白点欠点となってしまう。 全体の画像に対してポッンと白点及び/又 は黒点があると、 人間は極めて強い違和感を感ずる。
し力 し、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1によれば、 連続フォトリソグラフィ法 で製造し、 ライン幅のパラツキを所定の範囲とすることで、 メッシュの濃淡ムラ の発生は極めて少なく、 しかも、 電磁波遮蔽性及び透明性には問題はない。 また、 メッシュの濃淡ムラや黒及び/又は白の点状及ぴ線状の欠点は、 レジスト塗布時 にレジスト液の飛沫が不要な部分へ付着しても発生するが、 連続フォトリソグラ フィ法で製造することで、 極めてまれである。
また、 ライン部 1 0 7の幅 Wの制御からは、 メッシュ部 1 0 3の外周部に接す る部分の外周部の部分を除いてもよい。 これはメッシュ部 1 0 3が終わって全面 金属層 2 1からなる接地用枠部 1 0 1となるために規則性が途切れ、 また、 ライ ン幅を接地用枠部 1 0 1に内周するメッシュ外周部において、 接地用枠部に向か つて暫時拡幅したりするなどの別目的の処置をすることがあるためである。 該外 周部としては、 接地用枠部 1 0 1の内周から 1〜5 0メッシュ、 又は 0 . 1 5〜 1 5 mm、 好ましくは 1〜2 5メッシュ、 又は 0 . 3〜7 . 5 mmである
このように、 ライン部 1 0 7の透明基板 1 1と直交したライン部 1 0 7の切断 横断面の形状における上底と下底とを結ぶ土手の曲率半径が、 前記金属層の厚さ の 1 . 5〜3 . 0倍とし、 かつ、 ライン幅が所定値 ± 3 0 %にするには、 レジス トの種類やエッチング工程の条件で制御する。 例えば、 レジストとしてドライレ ジストゃ液レジストを用いたり、 また、 エッチング条件としては、 エッチング液 のボーメ度を 3 5度以上にしたり、 エッチング液として塩化第二銅又は塩化第二 鉄水溶液を用いて、 エッチング液の温度が 3 5度以上としたり、 エッチング液の スプレイ流速を 2 0 0 0 m l /分以上として、 かつ、 スプレイノズノレを首振りさ せたり、 左右に揺動させたりしてエッチングすることが望ましい。
また、 ライン部 1 0 7の曲率半径、 ライン幅を制御するには、 前述のパターン 版の線幅を得たい製品のライン幅より大きくとり、 できるだけ腐蝕する量を大き くして、 エッチング液のエッチングスピードを遅くすることによって、 曲率半径、 ラィン幅を制御しゃすくすることができる。
なお、 ライン部 1 0 7における上底と下底とを結ぶ土手の曲率半径は、 透明基 板 1 1と直交したライン部 1 0 7をミクロトームでスライスし、 白金パラジユウ ムをスパッタした後に、 該ライン部 1 0 7の切断面を 2 0 0 0倍の電子顕 ί敷鏡で 撮影し、 この撮影した写真から、 上底端値と下底端値から推定して求める。 但し、 エッチングにより形成された土手の形状は必ずしも真円形とはならないので、 略 円形の円周線、 台形の斜線に近い線でもよい。
要は上底右端と下底右端、 又は上底左端と下底左端を含む線分が、 金属層の厚 さの 1 . 5〜3 . 0倍の曲率半径となればよい。 また、 曲率半径は一定である必 要はなく、 変化していてもよいが、 金属層の厚さの 1 . 5〜3 . 0倍の範囲に収 まっていればよい。
また、 ラインが電磁波遮蔽用シートの下部面となすバイアス角は、 図 1の図示 では 4 5度を例示しているが、 これに限られず、 モアレの解消などのために、 デ ィスプレイの発光特性や画素の並びなどを加味して適宜、 選択すればよい。
(平坦化） メッシュが形成されると、 メッシュのライン部 1 0 7は金属の厚み があるが、 開口部 1 0 5は金属層 2 1が除去されて空洞となり、 その結果ライン 部 1 0 7に対して開口部 1 0 5は相対的に凹部となる。 導電材部 1 0 9は斯くの 如き回凸状態となる。 該凹凸は次工程で接着剤 （又は粘着剤） が塗布される場合 には、 該接着剤などで埋まる。 しかし、 メッシュ形成後、 直ちに他の部材 （例え ば） ディスプレイ （表面板） へ貼り込む場合には、 凹凸が露出したままで、 作業 性が悪いのみでなく、 該開口部 1 0 5の凹部内に気泡が留り、 気泡と接着剤との 界面で光が散乱して、 ヘイズが高く、 白化した状態となるので、 該凹部を埋めて 平坦化することが好ましい。
平坦化としては、 透明樹脂を該凹部に塗布し充填して埋め込むが、 凹部の隅々 まで侵入しないと、 気泡が残り透明性が劣化する。 このため、 溶剤などで稀釈し て低粘度で塗布し乾燥したり、 空気を脱気しながら塗布したりして、 平坦化層2 9を形成する。
平坦ィヒ層 2 9は透明性が高く、 メッシュを構成する金属との接着性が良く、 次 工程の接着剤との接着性がよいものであればよい。 伹し、 平坦化層 2 9の表面が、 突起、 凹み、 ムラがあると、 平坦化層 2 9上に接着剤を塗工して他の被着体 3 2 と積層する際の接着剤中の気泡残留効果も不完成となる。 更に電磁波遮蔽用シー トをディスプレイ前面へ設置した際に、 モヮレ、 干渉ムラ、 ニュートンリングが 発生したりするので好ましくない。 好ましい方法としては、 樹脂として熱又は紫 外線硬化樹脂を溶剤で稀釈し低粘度化した状態で塗布し、 該榭脂を開口部 1 0 5 の凹部内全域に流動させ充填させ、 溶剤を乾燥させた後に、 平面性に優れ剥離性 のある基材で積層し、 塗布樹脂を熱又は紫外線で硬化させて、 剥離性基材を剥離 し除去する。 平坦化層 2 9の表面は、 平面性基材の表面が転写されて、 平滑な面 が形成される。 剥離性基材としては、 例えばシリコン樹脂を離型層として表面に 塗工した 2軸延伸ポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
平坦化層 2 9に用いる樹脂としては、 特に限定されず各種の天然又は合成樹脂、 熱又は電離放射線硬化樹脂などが適用できるが、 樹脂の耐久性、 塗布性、 平坦化 しゃすさ、 平面性などから、 ウレタン (メタ) ァクリレート、 ポリエステル （メ タ） アタリレート、 エポキシ (メタ) アタリ レート等のプレボリマー (又はオリ ゴマー） 、 トリメチロー プロパントリ （メタ） アタリレート、 ジペンタエリス リ トーノレへキサ （メタ） アタリレート等の単量体、 或はこれらプリポリマーと単 量体との混合体から成る紫外線硬化樹脂が好適である。
(近赤外線吸収剤） さらに、 平坦化層 2 9に用いる樹脂へ、 近赤外線の特定波 長帯域を吸収する近赤外線吸収剤を添加することが好ましい。 近赤外線の特定波 長帯域を吸収することで、 ディスプレイから輻射される近赤外 f泉を遮蔽し、 該近 赤外線による遠隔操作装置等近赤外線で作動する機器の誤動作を防止できる。 こ こで、 近赤外線の特定波長とは、 7 8 0〜 1 2 0 0 11 m程度である。 特に 8 0 0 〜1 1 0 0 n mの波長帯域の 8 0 %以上を吸収することが望ましい。 該近赤外線 吸収剤 （N I R吸収剤という） としては、 特に限定されないが、 近赤外線領域に 急峻な吸収があり、 可視光帯域の光透過性が高く、 かつ、 可視光領域には特定の 波長の大きな吸収がない色素などが適用できる。 N I R吸収剤としては、 フタ口 シァニン系化合物、 インモユウム系化合物、 ジインモニゥム系化合物、 ジチォ一 ル金属錯体系化合物等が用いられる。 これらの N I R吸収剤は 1種単独で用いる ことも出来るが、 好ましくは、 2種以上混合して用いる。 例えば、 ジインモニゥ ム系化合物とフタロシアニン系化合物との混合系が挙げられる。 又、 P D Pから 発光する可視光領域としては、 通常、 ネオン原子の発光スペク トルであるオレン ジ色が多いので、 可視光のうち 5 7 0〜 6 0 5 n m付近の帯域をある程度吸収す る色調補正用光線吸収剤を含有することが好ましい。 該色素としては、 シァニン 系化合物、 フタロシアニン系化合物、 ナフタロシア二ン系化合物、 ナフトキノン 系化合物、 アントラキノン系化合物、 ジチオール系錯体などがある。 これら近赤 外線吸収剤と色調補正用光線吸収剤とは必要に応じていづれか片方、 或は両方を 添加する。
(N I R吸収層） N I R吸収層 3 1 B， 3 1 Aは、 平坦化層 2 9側及び/又は 逆側の基材 1 1側へ各々設ける。 平坦化層 2 9面へ設けた場合は、 図 1に図示す る N I R吸収層 3 1 Bで、 基材 1 1面へ設けた場合は、 図 1に図示する N I R吸 収層 3 1 Aである。 N I R吸収層 3 1 B及ぴ N I R吸収層 3 1 Aは、 N I R吸収 剤を有する市販フィルム （例えば、 東洋紡績社製、 商品名 N o 2 8 3 2 ) を接着 剤で積層したり、 先の N I R吸収剤をバインダへ含有させて塗布してもよい。 ノ インダとしては、 ポリエステル樹脂、 ポリウレタン樹脂、 アタリ/レ樹脂や、 熱又 は紫外線などで硬化するエポキシ、 ァクリレート、 メタァクリレート、 ィソシァ ネート基などの反応を利用した硬化タイプなどが適用できる。
本発明による電磁波遮蔽用シートは、 一般には、 更に別の被着体と接着剤層を 介して積層して用いられる。 被着体 3 2としては、 透明基板 （保護層乃至は補強 層） 、 該透明基板上に更に反射防止層、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層等を形 成して成る各種機能性シート、 或はディスプレイ本体等が挙げられる。 被着体は 基材 1 1側、 導電材部 1 0 9側、 或はその両側いずれも有り得る。 導電部材 1 0 9側に'被着体 3 2を積層する場合を図 7に示す。 此の図では導電部材上に接着剤 層 3 3を介して被着体 3 2を積層している。 此の場合には、 開口部内の空気が接 着剤によって十分に置換される様に注意して行わないと開口部内に気泡 Bが残留 してしまう。 この場合、 接着剤層 3 3は直接導電材部 1 0 9では無く、 平坦化層 2 9 (を介してその） 上に接着材を塗工すれば、 このような接着剤 3 3中への気 泡 Bの残留を防止出来る。
(反射防止層) 電磁波遮蔽用シートの観察側へ、 反射防止層 （A R層という） を設けてもよい。 反射防止層は、 可視光線をの反射を防止するためのもので、 そ の構成としては、 単層、 多層の多くが市販されている。 多層のものは、 高屈折率 層と低屈折率層を交互に積層したもので、 高屈折率層としては、 酸化ニオブ、 チ タン酸化物、 酸化ジルコェゥム、 I T Oなどがあり、 低屈折率層としては、 珪素 酸化物、 弗化マグネシウム等がある。 また、 外光を乱反射する微細な凹凸表面を 有する層を有するものもある。
(ハードコート層、 防汚層、 防眩層） さらに、 反射防止 （A R) 層には、 ハー ドコート層、 防汚層、 防眩層を設けてもよい。 ハードコート層は、 J I S— K 5 4 0 0の鉛筆硬度試験で H以上の硬度を有する層で、 ポリエステル （メタ） ァク リレート、 ウレタン （メタ） アタリレート、 エポキシ （メタ） アタリレートなど の多官能 (メタ) アタリレートを、 熱又は電離放射線で硬化させる。 防汚層は、 撥水性、 撥油性のコートで、 シロキサン系、 フッ素化アルキルシリル化合物など が適用できる。 防眩層は外光を乱反射する微細な凹凸表面を有する層である。
(シート化） 以上のように、 連続した帯状の卷取りロール状態で製造してきた 部材を切断して、 1枚毎の電磁波遮蔽用シート 1を得る。 該電磁波遮蔽用シート
1を、 被着体としてのガラス、 樹脂などの透明基板へ貼り付けられ、 また必要に 応じて、 A R層、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層と組み合されてディスプレイ 前面板となる。 該基板は、 大型のディスプレイには厚さが 1 〜 1 O mmの剛性を 持つものが、 また、 キャラクタ表示管などの小型のディスプレイには厚さが 0 .
0 1 〜 0 . 5 mmの樹脂フィルムが用いられ、 ディスプレイの大きさや用途に応 じて、 適宜選択すればよい。 或はまたスプレイの前面へ直接貼着、 積層してもよ い。
ディスプレイ表面へ本発明の電磁波遮蔽用シートを直接積層する形態の場合で ある。 03 010022
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(直接貼着） について説明する。 この場合には、 メッシュ状となった金属層側 が観察側となり、 該金属層側へ少なくとも黒化処理層を設ければよい。 接地用枠 部 1 0 1が表面へ露出するので、 電極を引き出し易くアースがとりやすい。 なお、 平坦化層は接地用枠部 1 0 1には設け無い。 尚、 防鲭層 2 5 B、 黒化処理 2 3 B は極めて薄い層なので、 アース接地の妨げとはならない。 また、 該接地用枠部 1 0 1が黒化処理されていて黒い面が観察側となるので、 前面ガラス板の額縁状に 設けていた黒色印刷が不要となり、 工程が短縮でき、 コスト面でも有利である。 次に具体的実施例について説明する。
(実施例 1 ) 金属層 2 1を含む導電材層 1 0 9として、 平均粒子径 0 . 3 μ m の銅- コバルト合金粒子から成る黒ィヒ処理層 2 3 A， 2 3 Bと、 更にその上に設 けられたクロメート （処理） 層 2 5 A, 2 5 Bとを有する厚さ 1 0 μ πιの電解銅 箔を用意した。 該銅箔のクロメート処理層面側と、 厚さが 1 0 0 /z mの透明な2 軸延伸 P E T (ポリエチレンテレフタレート） フィルム A 4 3 0 0 (東洋紡績社 製、 商品名） から成る基材とを、 2液硬化型ポリウレタン系接着剤でラミネート した後に、 5 6でで 4日間エージングした。 接着剤としては主剤タケラック A— 3 1 0 (ポリオール） と硬化剤 A— 1 0 (ィソシァネート） （いずれも武田薬品 工業社製、 商品名） を用い、 塗布量は乾燥後の厚さで 7 mとした。 クロメート 処理としては、 0. 1 %濃度のアルサーフ 1 0 0 0 (日本ペイント社製、 クロメ ート処理剤商品名） を用い、 4 0 °Cで 1分間浸漬して処理を行い、 水洗後 8 0 °C で 1 0分間乾燥した。
次いで、 フォトリソグラフィ法によるメッシュの形成は、 連続した帯状でマス キングからエッチングまでを行う、 カラー T Vシャドウマスク用の製造ラインを 流用した。 まず、 該ラミネートフイルムの導電材層外表面の全体へ、 カゼィンか ら成る感光性レジストを掛け流し法で塗布した。 次のステーションへ搬送し、 開 口部が正方形でライン幅 2 2 /i m、 ライン間隔 （ピッチ） 3 0 0 // m、 バイアス 角度 4 9度、 接地用電極部の幅 5 mmのパターン版 （フォ トマスク） を用いて、 水銀燈を用いて密着露光した。 次々とステーションを搬送しながら、 水現像し、 硬月莫処理し、 さらに、 8 0 °Cでバーユング処理をした。
さらに次のステ^^ンヨンへ搬送し、 エッチング液として 4 0 °C、 4 0 ° ポーメ の塩化第二鉄水溶液を用いて、 サイドエッチングを効かせるスプレイ法で吹きか けて開口部の電解銅箔、 黒化処理をエッチングして除去し、 基材側に位置するク 口メート処理層が残留した状態でメッシュの開口部を形成した。 次々とステーシ ヨンを搬送しながら、 水洗し、 レジストを剥離し、 洗浄し、 さらに、 8 0 °Cで乾 燥して実施例 1の電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 2 ) クロメート （処理） 層へ、 酸化亜鉛を含ませる以外は、 実施例 1 と同様にして、 実施例 2の電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 3 ) クロメート （処理) 層の代わりに、 メッキ法で酸化二ッケルを用 いる以外は、 実施例 1と同様にして、 実施例 3の電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 4 ) クロメート （処理） 層の代わりに、 メツキ法で酸化ニッケル及ぴ 酸化亜鉛を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 実施例 4の電磁波遮蔽用シー トを得た。
(実施例 5 ) クロメート （処理） 層の代わりに、 メッキ法で酸化二ッケル、 酸 化亜鉛及び酸化銅を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 実施例 5の電磁波遮 蔽用シートを得た。
(比較例 1 ) 基材側のク口メート （処理） 層 2 5 Aを設けない以外は、 実施例 1と同様にして、 比較例 1の電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 6 ) 実施例 1の電磁波遮蔽用シートのメッシュ部表面へ、 下記組成の 平坦化層組成物を塗布し、 厚さが 5 0 mの S P— P E T 2 0— B U (トーセロ 社製、 表面離型処理 P E Tフィルム商品名） をラミネートした後に、 高圧水銀灯 を用いて 2 0 O m j Z c m 2の露光 （3 6 5 n m換算） した。 そして、 S P— P E T 2 0— B Uを剥離すると、 メッシュ部の開口部が平坦化層組成物によって充 填されて平坦化した実施例 2の電磁波遮蔽用シートが得られた。
平坦化層組成物としては、 N—ビュル一 2—ピロリ ドン 2 0質量部、 ジシク口 ペンテニルアタリレート 2 5質量部、 オリゴエステルアタリレート （東亜合成 (株） 製、 M— 8 0 6 0 ) 5 2質量部、 1ーヒ ドロキシシクロへキシルフ工ニル ケトン （チバガイギ一社製、 ィルガキュア 1 8 4 ) 3質量部を用いた。
(実施例 7 ) 実施例 6の平坦化層組成物へ、 チオール一二ッケル錯体 1質量部 を含有させた以外は、 実施例 6と同様にして電磁波遮蔽用シ トを得た。 (実施例 8 ) 実施例 6の平坦化層面へ、 N I Rフィルム No 2832 (東洋紡 績社製、 近赤外線吸収フィルム商品名） を粘着剤で積層した以外は、 実施例 6と 同様にして電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 9 ) (直接貼り） 銅-コバルト合金粒子のクロメート （処理） 層でな い面と、 PETフィルムをラミネートする以外は、 実施例 1と同様にし、 さらに、 実施例 6と同様にして平坦化層を形成して、 実施例 9の電磁波遮蔽用シートを得 た。
実施例及び比較例の電磁波遮蔽性シートを、 P D Pパネルへ搭载して、 表示画 像の視認性を目視で観察した。 又近赤外線吸収性態を測定した。
(結果） 実施例 1〜8では、 PDPディスプレイに表示された画像にもギラッ キがなく、 白及ぴ Z又は黒の点状、 線状欠点、 曇り （白化） も認めらず、 視認性 が良好であった。 又自記分光透過率を測定したところ、 波長 800〜1 100 n m帯域での近赤外線透過率は 20。/。未満であつた。 実施例 9の電磁波遮蔽性シー トでは、 基材面を粘着剤で PDPディスプレイへ設置したところ、 表示光が反射 した迷光も少なく、 ギラツキもなく、 画像の視認性は良好で、 さらに電極の引き 出し工数も減り、 ガラス基板に設ける額縁状の黒印刷も要らなかった。
また、 実施例 1〜 9の接着剤層を蛍光 X線分析装置 （R I X3000、 R i g a ku社製、 商品名） で F e、 N aを測定したが、 検出されず開口部も白濁、 着 色も認められなかった。 さらに、 PDPディスプレイへ設置して、 連続 10時間 にわたつて画像表示をしたが異常は認められなかった。
比較例 1では、 開口部が若干白濁しており、 P D Pディスプレイに表示された 画像には、 コントラストが悪く、 視認性も悪かった。
本発明の電磁波遮蔽用シートによれば、 CRT、 PDPなどのディスプレイの 前面に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 メッシュの ライン部分は非視認性で、 電磁波遮蔽性、 透明性の両特性を満たし、 力つ、 どち らの面を観察側にしてもよく、 画像を良好に視認することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 電磁波遮蔽用シートにおいて、
透明な基材と、
基材の一方の面に設けられた透明な防鲭層と、
防鲭層上に設けられ、 開口部を形成するライン部を有するメッシュ状の金属層 を倫 Χ·、
防鲭層は、 ラィン部と開口部に対応する部分の両方に設けられていることを特 徴とする電磁波遮蔽用シート。
2 . 金属層のライン部のライン幅は 5〜2 5 ;u m、 ライン部間のピッチは 1
5 0 - 5 0 0 / mとなっていることを特徴とする請求項 1記載の電磁波遮蔽用シ ート。
3 · 金属層の一方の面に黒化処理層が設けられていることを特徴とする請求 項 1記載の電磁波遮蔽用シート。
4 . 金属層の基材と反対面に、 追加防鲭層が設けられていることを特徴とす る請求項 1記載の電磁波遮蔽用シート。
5 . メッシュ状の金属層の開口部に透明樹脂が充填されて、 金属層と透明樹脂 とが平坦状となることを特徴とする請求項 1記載の電磁波遮蔽用シート。
6 . メッシュ状の金属層の開口部へ充填される透明樹脂は、 可視光線中の波 長 5 7 0〜 6 0 5 n m帯域の光を吸収する色調補正用光線吸収剤及び/又は近赤 外線の波長 8 0 0〜 1 1 0 0 n m帯域の'光を吸収する近赤外線吸収剤を含有する ことを特徴とする請求項 5記載の電磁波遮蔽用シート。
7 . 基材または追加防鲭層のいずれかの外方に、 可視光線中の波長 5 7 0〜
6 0 5 11 m帯域の光を吸収する色捕正用光線吸収剤層及び Z又は近赤外線の波長 8 0 0〜1 1 0 0 n m帯域の光を吸収する近赤外 #泉吸収剤層を設けたことを特徴 とする請求項 4記載の電磁波遮蔽用シート。
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