WO2004009650A1 - 多孔質形成性光硬化型樹脂組成物および多孔質樹脂硬化物 - Google Patents

多孔質形成性光硬化型樹脂組成物および多孔質樹脂硬化物 Download PDF

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WO2004009650A1
WO2004009650A1 PCT/JP2003/008966 JP0308966W WO2004009650A1 WO 2004009650 A1 WO2004009650 A1 WO 2004009650A1 JP 0308966 W JP0308966 W JP 0308966W WO 2004009650 A1 WO2004009650 A1 WO 2004009650A1
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porous
resin composition
photopolymerizable monomer
cured
group
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PCT/JP2003/008966
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Yasuhiro Hegi
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Omron Corporation
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
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    • C08F20/06Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1334Constructional arrangements; Manufacturing methods based on polymer dispersed liquid crystals, e.g. microencapsulated liquid crystals

Definitions

  • the present invention provides a photocurable resin composition having a porous property, in particular, a photocurable resin composition that forms a cured porous resin having a very low surface tension, and a photocurable resin composition.
  • the present invention relates to a cured porous resin product.
  • thermoplastic resins Conventionally, porous bodies and porous membranes of thermoplastic resins and thermosetting resins have been used for a variety of applications, taking advantage of their distinctive functions.
  • thermoplastic resins there are production methods such as foaming agent decomposition, solvent diffusion, gas mixing, elution, and phase separation.
  • thermosetting For the reactive resin, there are manufacturing methods such as a solvent diffusion method and a chemical reaction method.
  • porous membranes having fine pores with an average pore size of about 0.1 Ol / m are utilized for ion exchange membranes and precision It has been used for filtration membranes, reverse osmosis membranes, separation membranes, adsorption membranes, dialysis membranes, lead battery separators, fuel cell electrodes, and bacterial filters.
  • a method for producing a porous film having water-repellent or hydrophobic micropores includes a method of forming a water-repellent or hydrophobic polymer film or a coating film on the porous film.
  • the thickness is about 20 to 200 m
  • the porosity is about 20 to 90%
  • the pore diameter is about 0.01 to: L 0
  • a method for producing a water-repellent porous membrane by polymerizing a fluorinated monomer on both the IS surface and the inner surface of pores of a hollow fiber membrane or a flat membrane having a length of about m has been proposed. Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-2888367, a porous membrane obtained by a dry-wet spinning method or the like is deaerated in a fluorine-based water repellent aqueous solution (aqueous emulsion).
  • a method of producing a hydrophobic porous membrane by immersing while drying, and then performing heat treatment has been proposed.
  • the conventional technology is to produce a porous membrane with water-repellent and hydrophobic micropores by forming a polymer coating film of a fluorine-based water repellent or hydrophobic agent on the inner and outer surfaces of the existing porous membrane. This is a manufacturing method using a post-processing method.
  • the pore size is reduced due to the post-processing method of forming a polymer film or coating film on the pore surface. -Some pores are filled with a fluorinated monomer or fluorine-based water repellent, reducing porosity.
  • the heat polymerization method and the heat drying method are adopted, the heat resistance is required for the porous film, so that the material of the porous film is restricted.
  • the present invention uses a new and completely different method from the post-processing method as in the conventional technology. It is an object of the present invention to provide a cured product of a porous resin having uniform water repellency and hydrophobicity formed from the composition.
  • the problem to be improved in the conventional technology can be solved as follows.
  • a porous resin cured film with a structure in which resin cured material microparticles with extremely low surface tension are connected in three dimensions is formed, and pores are formed on the entire inner and outer surfaces of the porous film. Irrespective of the dimensions, a uniform water-repellent (hydrophobic) function can be provided. • Since photo-curing is used, the formation of a cured porous resin film is quick and easy. ⁇ Since the cured resin particles have very low surface tension, polymerized film Unlike the conventional post-processing method of forming a coating film, there is no problem of poor adhesion.
  • the porous film can be formed into any shape.
  • 'A porous resin cured film can be formed on a substrate or between two substrates.
  • the present invention has a surface tension of 2 5 X 1 0- 5 NZ cm below of the photopolymerizable monomer
  • a porous-forming photocurable resin composition containing an initiator (D) as an essential component, and a cured porous resin formed from the resin composition.
  • the photocurable porous resin composition can be used to quickly and easily form a cured porous resin having a structure in which fine resin particles are three-dimensionally connected by photocuring. It can be formed, and the cured porous resin can have any shape other than the film shape such as a film or a sheet.
  • the formed fine particles of the cured resin have a very low surface tension, and the surface tension can be arbitrarily adjusted.
  • the average diameter of the fine particles of the cured porous resin can be adjusted in a region of 1 / m or less, and therefore, the porosity can be adjusted similarly.
  • the cured porous resin of the present invention has no relevance to the conventional technology, and is an original invention unique to the present inventors.
  • “Surface tension” is a characteristic value specific to a substance, and is a physical property value correlated with a contact angle. Specifically, when a liquid is dropped on a solid surface, the surface tension of the solid (T s ), the interfacial tension between the solid and the liquid (T / L s ), the surface tension of the liquid, and the contact angle (self- The following relational expression is established between the free surface and the angle on the inner side of the liquid at the contact point between the solid surface and the solid surface;
  • the greater the contact angle the greater the surface tension of the liquid.
  • the smaller the contact angle the lower the surface tension of the liquid No.
  • the greater the adhesion (affinity, wettability) of the liquid to the solid surface the smaller the contact angle ', less than 90 °.
  • the smaller the adhesion the larger the 'contact angle', which exceeds 90 °.
  • the porous forming photocurable resin composition of the present invention has a surface tension of 25 X 10- 5 N
  • Photopolymerizable monomer (A) of Z cm or less Photopolymerizable monomer (A) is incompatible with organic compound (B), Photopolymerizable monomer (A) is compatible with organic compound (B) It is a liquid photocurable luster composition containing a common solvent (C) and a photopolymerization initiator (D) as essential components.
  • the surface tension for use in the present invention is 25 X 10- 5 NZ cm below of the photopolymerizable monomer one (A) has one or more unsaturated bonds at the molecular end, a radical by photopolymerization available-for monomers That is. That is, it is a monomer having a photopolymerizable unsaturated group such as an attaryloyl group, a methacryloyl group, a butyl group, a allyl group, and a methallyl group as a terminal group.
  • a photopolymerizable unsaturated group such as an attaryloyl group, a methacryloyl group, a butyl group, a allyl group, and a methallyl group as a terminal group.
  • Photopolymerizable monomer (A) the surface tension of 25X 10- 5 NZcm less, preferably, important not more than 23X 10- 5 NZcm. If the surface tension of the photopolymerizable monomer (A) exceeds 25 X 10- 5 N / cm, it can not be given a very low surface tension to the porous ⁇ effect curing thereof. As a result, excellent water repellency and hydrophobicity cannot be imparted.
  • a monomer containing fluorine or silicon can be selected.
  • the fluorine-containing monomer include fluorine-containing aliphatic and alicyclic monomers, and any of these monomers can be used in the present invention.
  • Silicon-containing monomers include silane-based monomers and siloxane-based monomers.
  • the terminal unsaturated group of the fluorine- or silicon-containing monomer is (meth) atalyloyl group (both acryloyl group and metharyloyl group because of its good photocurability. And vinyl groups are preferred.
  • Preferred fluorine-containing aliphatic and alicyclic monomers are compounds represented by the general formulas (I) to (IV). ( ⁇ )
  • R f 1 is a polyfluoroalkyl group or a polyfluorocycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. However, it is preferable that the number of fluorine substitution is large, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.
  • R 2 is a hydroxyl group or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms which may have a double bond. That is, they are a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a 2-hydroxypropylene group or a propenylene group.
  • R 3 is hydrogen or a methynole group.
  • R f 4 is a multi-fluorinated alkylene group having 4 to 10 carbon atoms, more substitution number of fluorine is large
  • par full O b alkylene group is preferred especially.
  • R 5 and R 7 are hydroxyl groups or double bonds may have a carbon number from 1 to 3 alkylene group. That is, it is a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a 2-hydroxypropylene group or a probelene group.
  • R 6 and R 8 are each a hydrogen or methynole group.
  • R f 9 is Ru multi fluorinated alkyl groups der 2 4-1 carbon atoms, more substitution number of fluorine is large
  • par full O b alkyl group is particularly favorable preferable.
  • R f 1 ° is a multi-fluorinated alkylene group having 2 4 to 1 carbon atoms, more substitution number of fluorine is large
  • par full O b alkylene group is preferred especially.
  • silane-based monomer examples include, specifically, silane-based (meth) atalylate compounds such as (meth) atalyloyloxypropinoletrimethoxysilane, (meth) atalyloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and vinylinoletrimethoxy.
  • silane-based vinyl compounds such as silane and vinyltriethoxysilane can be exemplified as preferred silane-based monomers.
  • siloxane-based monomer examples include (meth) ataliloyloxy lip pentapentamethinoresisiloxane, bis ((meth) acryloyloxypropinole) tetramethyldisiloxane, bis ((meth) (Atalilloyloxypropyl) Siloxane (meta) acrylates such as dodecamethinolehexasiloxane, and siloxanes such as bininolepentamethyldisiloxane, divinyl-tetramethylinoresisiloxane, dibuldedecamethylhexasiloxane Bier compounds can be exemplified as preferred siloxane-based monomers.
  • photopolymerizable monomers can be used in combination with the above photopolymerizable monomer (A).
  • the photopolymerizable monomer (A) of the present invention and other photopolymerizable monomers do not necessarily need to be compatible with each other, but are preferably compatible.
  • Other photopolymerizable monomers are used for adjusting physical properties such as hardness, strength, and heat resistance of the cured porous resin.
  • the surface tension of the present invention 2 5 X 1 0 - 5 N / c
  • the blending amount of the photopolymerizable 4-nomer (A) is 10 to: L 0 0 to the total amount of the photopolymerizable monomer. % By weight, preferably 20 to 100% by weight. If the amount is less than 10% by weight, the amount of the photopolymerizable monomer (A) to the organic compound (B), which is an essential component of the present invention, tends to be small, and the formation of a cured porous resin tends to be poor. Also, very low surface tension cannot be imparted to the cured porous resin. As a result, excellent water repellency and hydrophobicity cannot be imparted.
  • the other photopolymerizable monomer is not particularly limited as long as it can be photocopolymerized with the photopolymerizable monomer (A), but a compound having a (meth) atalyloyl group is used because of its good photocurability. Is preferred. Further, since the purpose is to adjust the physical properties of the cured porous resin as described above, a compound having two or more (meth) acryloyl groups is more preferable.
  • the compound having two or more (meth) atalyloyl groups include 1,3-butanediol / residue (meth) atalylate, 1,4-butanediol di (meth) atalylate, 1,6- Hexanediol di (meth) acrylate, 1, 9-nonanediol di
  • (Meth) acrylate trimethylolpropanetri (Meth) acrylate, pentaerythritol tonoletri (Meth) acrylate, dipentaerythritol hex (Meth) acrylate, ethanediol diglycidyl ether ⁇ (Meth) atorinooleic acid 2 mol addition (Represents an addition reaction product of atrialic acid or methacrylic acid.
  • the polyvalent (meth) acrylate ester compound a prevolimer polyvalent (meth) acrylate ester compound can be used as the polyvalent (meth) acrylate ester compound.
  • the prepolymer described herein is a low molecular weight polymer (sometimes called an oligomer) having a degree of polymerization of 2 to 20, preferably 2 to 10, and is a prepolymer such as polyester, polyurethane, or polyether. is there.
  • the prepolymer-based polyvalent (meth) atalylate compound is a compound having at least two or more (meth) atalyleinole groups at the terminal of such a prepolymer.
  • prebolimer polyvalent (meth) atalylate compound examples include (adipic acid / 1,6-hexanediol) n di (meth) atalylate (where n is adipic acid and 1,6-hexane). It indicates the degree of polymerization of the low molecular weight polyester obtained from the diol, and this polymer is a prepolymer, and represents a compound in which hydroxyl groups at both terminals of this prepolymer are (meth) acrylated, and n is 2 to 20.
  • one selected from the above-mentioned polyvalent (meth) atalylate compounds and the prebolimer-based polyvalent (meth) atalylate compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the compounding ratio of polyvalent (meth) Atari Rate compound and Pureborima based polyvalent (meth) Atari rate compound 1 0 0: 0 to 4 0: 6 0 (wt 0/0) Ru der.
  • the compounding of the prepolymeric polyvalent (meth) acrylate compound is effective for improving the adhesion to the substrate in addition to the above-mentioned physical properties.
  • a monovalent (meth) acrylate compound or a monovalent prepolymer-based (meth) atalylate compound may be further used as the other photopolymerizable monomer in a small amount.
  • monovalent (meth) acrylates include n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and Xinole (meta) acrylate, isovo / leninole (meta) atarilate, feninole (meta) atalylate, benzinole (meta) atalylate, fenokishetti / let (meta) atalylate, poly (ethylene glycolone) n ( (Meth) phthalate (n is 2 to 20.
  • Methoxy poly (ethylene glycolone) n (meth) acrylate, phenoxy poly (ethylene glycol) n (meth) acrylate Aliphatic, alicyclic, aromatic, and prebolimeric monovalent (meth) acrylates .
  • the organic conjugate (B) in the present invention is incompatible with the photopolymerizable monomer (A), and is incompatible with the photopolymerizable monomer (A) even when mixed at around room temperature.
  • Such an organic compound (B) is easily associated with one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a ketone bond, a sulfide bond, a sulfoxide bond, and a cyclic amide bond, or a molecule having a bond and a bond. , An organic compound.
  • organic compound (B) examples include ethylene glycol, 1,3_propanediol, 1,4_butanediol, 1,5-pentanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, pentanoleanolone, Ethylenediamine, diethylenetriamine, benzinoleamine, quinoline, methylphenylketone, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolanolamine, 2,2, -thiojetanole, dimethinolesulfoxide, N-methylpyrrolidone, etc. Yukyi ⁇ compound also, the surface tension is 4 0 X 1 0- 5 N / cm or more.
  • Specific examples of the particularly preferable organic compound (B) include lower aliphatic amino alcohols such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and 2,2, -thiodiethanol.
  • the ability to use one kind of such an organic compound alone, or two or more kinds can be used in combination.
  • the organic compound (B) is used in combination with monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2,2-thiojetanol or water.
  • the photopolymerizable monomer (A) and the common solvent (C) which is incompatible with the organic compound (B) or water which is incompatible with the photopolymerizable monomer (A) are at room temperature.
  • organic solvents (C) include aromatic or alicyclic hydrocarbon solvents, oxygen-containing solvents such as alcohols, ethers, esters, ketones and ether alcohols, and nitrogen-containing solvents such as amines and amides. There are solvents.
  • organic solvent (C) examples include aromatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, tetralin, and decalin, ethanol, n- and i-propanol, n- and t-butanol, n-Pentanol, n-hexanol, n-otanol, 2-ethylinohexanole, n-decanol, cyclohexano 1 / re, etc., anoreconoreles lj, tetrahydrofuran, etinolefeninole Ether solvents such as aethenole, anisol, dioxane, diethyleneglyconoresime / leatenole, ester solvents such as cyclohexyl acetate, methyl benzoate, and acetate , Ethyl methyl ketone, ketone,
  • the surface tension is in the vicinity of 25 X 10- 5 ⁇ 35 X 10 one 5 N / cm, in particular, 30 X 1 0 one 5 ⁇ 35 X 1 0- 5 N / cm Yes
  • Organic solvents are particularly effective and suitable as the common solvent in the present invention.
  • Such organic solvents include toluene, ethylbenzene, xylene, decalin, tetralin, n-otatanole, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, ethylphenylenoleether, cyclohexyl acetate, hexanyl hexanone, 1 , 2-Ethanediol monomethinoleate, 1,2-ethanediol monoethynoleate, diethylene glycol monomethyl ether, piperidine, cyclohexylamine, dimethylformamide, dimethinoleacetamide and so on.
  • the above-mentioned various organic solvents in the present invention may be used alone, or two or more of the same type of solvents may be used in combination, or two or more of different types of solvents may be used in combination. .
  • the boiling point at normal pressure of the organic solvent (C) used alone or in combination in the present invention is preferably in the range of 50 to 250 ° C, and more preferably in the range of 70 to 200 ° C. If the boiling point is less than 50 ° C, it is easy to vaporize around room temperature and difficult to handle, and it is difficult to control the blending amount in the photocurable liquid resin composition of the present invention. On the other hand, if the boiling point exceeds 250 ° C., the formation of the cured porous resin of the present invention is hindered, which is not preferable.
  • a photopolymerizable monomer (A) containing fluorine or silicon, monoethanolanolamine, diethanolamine, and triethanolamine are used.
  • surface tension 50 X 10- 5 N / cm or more organic compounds such as (B) or water and a surface tension of 30 to 3 5 X 1 0 one 5 N / cm around a common solvent is an organic solvent (C)
  • the combination of 1 is most preferred.
  • the photopolymerizable monomer (A) of the present invention (when other photopolymerizable monomers are used in combination, the total amount of light-compatible monomer of the photopolymerizable monomer (A) and the other photopolymerizable monomer is simply referred to as “ ⁇ )),
  • the photopolymerizable monomer ( ⁇ ) is incompatible with the organic compound ( ⁇ ) (when water is used in combination, the mixture of the organic compound ( ⁇ ) and water is converted into an organic compound).
  • the photopolymerization initiator (D) used in the present invention is an essential component for curing the photocurable liquid resin composition of the present invention by light irradiation to form the porous resin cured product of the present invention. It is. Of course, it is unnecessary when curing by electron beam irradiation, but it is very expensive as a curing method and cannot be said to be general.
  • photopolymerization initiator (D) there is no compound as limited to the present invention, and generally used photopolymerization initiators, i.e., acetophenones, benzophenones, diacetinoles, benzinoles, benzoins , Benzoin ethers, penzinoresyl methyl ketals, benzoinolebenzoates, hydroxyphenyl ketones, aminophenol ketones, and other carboyl compound-based photopolymerization initiators, thiazamide sulfides, thioxanthones, and other organic sulfur compound-based photopolymerization initiators And organic photoinitiators based on organic compounds such as acyl phosphoxides and acyl phosphinates.
  • photopolymerization initiators i.e., acetophenones, benzophenones, diacetinoles, benzinoles, benzoins , Benzoin ethers, penzinoresyl methyl
  • the addition amount of the photopolymerization initiator (D) may be small, and the photopolymerization monomer ( ⁇ or A ′), that is, 0.1 to 3.0% by weight based on the total amount of the photopolymerization monomer. Although the amount of addition is common, curability is good even at 0.5 to 1.5% by weight / 0 .
  • a photopolymerization initiator (D) is dissolved in a photopolymerizable monomer ( ⁇ or A ′), and then other essential components are dissolved. Generally, they are mixed and dissolved to form a uniform transparent solution.
  • substrates such as glass, ceramic, plastic, and paper can be used.
  • the photocurable liquid resin thread composition of the present invention is directly applied onto a substrate to form a coating film of a predetermined thickness, and then light cured.
  • a method of applying the photocurable liquid resin composition of the present invention to a substrate to a predetermined thickness a dropping method, a bar coating method, a knife coating method, a spin coating method, or the like is employed.
  • various types of mouthcoat methods such as direct roll coating, reverse mouthcoating, and gravure mouthcoating can be used.
  • the thickness of the coating film is not particularly limited, but is generally in the range of 5 to 100 ⁇ HI, but may be thicker or thinner than this range.
  • a light source that generates ultraviolet light is most suitable.
  • photo-curing by irradiation with ultraviolet light is performed by irradiating ultraviolet light such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, or a xenon lamp used for an ultraviolet-curable resin.
  • a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp having a relatively large amount of ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is used.
  • Dose of ultraviolet / ⁇ will generally be at 5 0 0 m J / cm 2 or more, 1 0 0 0 ⁇ 2 0 0 0 m J / cm 2 is preferred.
  • the photocurable liquid resin composition of the present invention is applied to the above-mentioned substrate, and then irradiated with ultraviolet rays from the above-mentioned ultraviolet light source, to thereby obtain a photopolymerizable monomer contained in the composition.
  • (A or A,) is light-cured to form a cured porous resin having a structure in which the fine particles of the resin-hardened object are three-dimensionally connected.
  • This UV irradiation is applied as it is Irradiation may be used, but in order to stabilize the curability of the coating film and maintain the surface smoothness of the cured porous resin, and to maintain the formed porous resin cured product, a gas plate or transparent plastic is used.
  • -It is better to irradiate ultraviolet rays by coating the surface of the coating film with a film.
  • the cured porous resin formed by photocuring contains an organic compound (B), in some cases water, and a common solvent (C) .
  • B organic compound
  • C common solvent
  • a heating vaporization method under normal pressure or reduced pressure a hot air vaporization method, a solvent elution method using a low boiling point solvent such as methanol, ethanol, and acetone, and the like.
  • An optimal method may be adopted depending on the boiling point and solubility of B) or water and the common solvent (C).
  • the cured porous resin having a structure in which the microparticles of the cured resin of the present invention are three-dimensionally connected has a uniform surface not only on the surface but also on the entire surface inside the pores, regardless of the dimensions of the pores. Has very low surface tension. For example, a contact angle with water of 90 to 160 °, particularly 120 to 150 ° is achieved.
  • the fine particles of the cured resin are a cured product containing fluorine or silicon, they also have functions such as a low refractive index, good light resistance, and good electrical characteristics. Therefore, the cured porous resin as a whole has a low refractive index, good light resistance, or good electrical properties.
  • the average size of the pores contained in the cured porous resin of the present invention can be adjusted in the range of l / im or less, but is generally in the range of 0.01 to 0.5 Aim. .
  • the porosity of the pores can be adjusted, it is generally in the range of 10 to 80%.
  • the cured porous resin comprising fine pores of the present invention not only has a very low surface tension between the outer surface and the inner surface, but also has a low refractive index, excellent light resistance and good electrical characteristics. Have. Such a function can be adjusted according to the content of fluorine or silicon contained in the cured porous resin of the present invention.
  • the cured porous resin of the present invention must be used effectively in applications that require the features of the cured porous resin and very low surface tension, low refractive index, and excellent functions such as light resistance and electrical properties. Is possible. Such applications include inorganic or Uses a porous resin cured product as a carrier material in a state filled with an organic functional material-and uses a porous resin cured product with nothing filled in pores .
  • the porous resin cured material as a carrier material with the pores filled with an inorganic or organic functional material include display elements, recording materials, printing ink receiving base materials, and optical functional members.
  • the cured porous resin (porous film) of the present invention can improve not only the function as a carrier material but also the function of a filled functional material.
  • the porous resin cured product of the present invention having minute pores is applied to a carrier material such as a liquid crystal display element and a liquid crystal recording material by taking advantage of its very low surface tension and low refractive index.
  • a carrier material such as a liquid crystal display element and a liquid crystal recording material
  • refractive index as a carrier material can be adjusted.
  • the measurement of the characteristic values in the examples and the comparative examples was performed according to the following measurement method.
  • the cured porous resin film with micropores formed on the glass substrate is peeled off, and 7K silver is pressed into it using Autopore IV (available from Shimadzu Micromeritics Co., Ltd .: 9520 type). It was measured by the method. The average pore diameter was measured by assuming that the pores were cylindrical and calculating the pore radius in inverse proportion to the pressure applied to mercury. The porosity was determined by measuring the pore size (r: A) distribution from about 0.005 111 to about 70/111 and the pore volume fraction (d
  • Vp / d log r ml / g
  • porosity is calculated by converting the sum of the pore volume ratios into specific gravity. /. '. cm 3 / cm 3 X 100%).
  • the surface tension is determined by measuring the contact angle (0) that correlates with the surface tension and determining the height.
  • the contact angle after 0.5 seconds of pure water dropped on the surface of the cured porous resin film having micropores formed on the glass substrate is measured by an automatic contact angle meter (Kyowa Interface Science ( Co., Ltd .: CA-V type).
  • the coated glass plate is removed, and the obtained cured porous resin film is thoroughly washed with acetone to remove triethanolamine and isopropyl alcohol, and then air-dried to obtain a porous film having fine pores. A cured resin film was obtained.
  • the coated glass plate was removed, and the resulting cured porous resin film was thoroughly washed with acetone to remove triethanolamine and isopropyl alcohol. Thereafter, the resultant was air-dried to obtain a cured porous resin film having micropores of the present invention.
  • the coated glass plate is removed, and the obtained cured porous resin film is allowed to stand under heating under reduced pressure to remove monoethanolamine and cyclohexanone, thereby having the micropores of the present invention.
  • a cured porous resin film was obtained.
  • the coated glass plate was removed, and in accordance with the same procedure and conditions as in Example 3, jetanolamine and methylene glycol monomethyl ether were removed, and a cured porous resin film having micropores was removed.
  • the change in the parallel light transmittance of the prototype self-supporting liquid crystal film with respect to the voltage was measured in the same manner as in Example 6, and the result shown in FIG. 3 was obtained.
  • the change rate of the parallel light transmittance in the range of 0 to 100 V was 26.4%.
  • the ratio (contrast) of the parallel light transmittance at 0 V and 100 V was 1.5.
  • the porous resin cured product formed from the porous forming photocurable resin composition of the present invention is completely different from the production method according to the prior art, and is different from the production method according to the prior art in that the photocuring method (the resin cured product microparticles formed thereby are used). It has a three-dimensionally connected structure, and not only its surface, but also the entire surface inside the pores is uniform, and has a very low surface tension. Therefore, various applications can be developed.
  • Fig. 1 is an electron micrograph (magnification: 20,000) of the surface of the cured porous resin film (Example 1).
  • FIG. 6 Prototype self-supporting liquid crystal film (Example 6) ⁇ Relationship between P voltage and parallel light transmittance.
  • Figure 3 is a graph showing the relationship between the voltage and the parallel light transmittance of the prototype self-supported liquid crystal film (Comparative Example 4).

Abstract

 表面張力が25×10−5N/cm以下の光重合性モノマー(A)と、光重合性モノマー(A)とは非相溶の有機化合物(B)と、光重合性モノマー(A)と有機化合物(B)とに相溶する共通溶媒(C)および光重合開始剤(D)を必須成分とする多孔質形成性光硬化型樹脂組成物および該組成物を光硬化させて形成される非常に低い表面張力を有する多孔質樹脂硬化物。

Description

明 細 書 多孔質形成性光硬化型樹脂組成物およぴ多孔質樹脂硬化物 技術分野
本発明は、 多孔質形成性光硬化型樹脂組成物、 特に、 非常に低い表面張力の多 孔質樹脂硬化物を形成する光硬化型樹脂組成物および該樹脂組成物を光硬化させ ることにより形成される多孔質樹脂硬化物に関する。
背景技術
従来から、 熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の多孔質体や多孔質膜は、 その特徴あ る機能を活かして、 多様な用途に使用されてきた。 多孔質体や多孔質膜の製造方 法としては、 熱可塑性樹脂では、 発泡剤分解法、 溶剤気散法、 気体混入法、 溶出 法、 相分離法などの製造方法があり、 一方、 熱硬化性樹脂では、 溶剤気散法、 化 学反応法などの製造方法がある。 多孔質体や多孔質膜の中でも、 細孔径が平均数 〜0 . O l / mのような微細な空孔を有する多孔質膜は、 その特殊な機能を活か して、 イオン交換膜、 精密濾過膜、 逆浸透膜、 分離膜、 吸着膜、 透析膜、 鉛電池 セパレータ、 燃料電池電極、 細菌フィルターなどに使用されてきた。
このような微細な空孔を有する多孔質膜に、 例えば、 撥水性、 疎水性、 親水性、 親油性などの新しい機能を付与して、 既存の多孔質膜の機能を向上させる検討が なされ、 新しい機能付与に関する製造方法が提案されてきた。 これらの新しい機 能付与の製造方法のうち、 撥水性や疎水性の微細孔を有する多孔質膜の製造方法 としては、 多孔質膜に撥水性や疎水性の重合膜または塗布膜を形成する方法があ る。 例えば、 特開平 6— 7 3 2 2 9号公報では、 膜厚が 2 0〜 2 0 0 m程度、 空孔率が 2 0〜 9 0 %程度、 細孔径が 0 . 0 1〜: L 0 m程度の中空糸膜や平膜 の両^ IS面および細孔内表面に、 フッ素化モノマーを付着させた状態で重合させ て撥水性多孔質膜を製造する方法が提案されている。 また、 特開 2 0 0 0— 2 8 8 3 6 7号公報では、 乾湿式紡糸法などによって得られた多孔質膜を、 フッ素系 撥水剤水溶液 (水性ェマルジヨン) 中に脱気操作を行いながら浸漬し、 乾燥させ たのち、 加熱処理して疎水性多孔質膜を製造する方法が提案されている。 これら の従来の技術は、 既存の多孔質膜の内外部表面に、 フッ素系の撥水剤や疎水剤の 重合膜 塗布膜を形成して、 撥水性や疎水性の微細孔の 孔質膜を製造する方法 であり、 後加工方法による製造方法である。
発明の開示
(発明が解決しようとする課題)
従来の技術のように、 既存の多孔質膜の内外部表面に、 フッ素系の撥水剤や疎 7剤の重合膜や塗布膜を形成して、 撥水性や疎水性を付与するという製造方法に は、 以下のようないくつかの問題点があった。
•非常に微細な細孔には、 フッ素化モノマーやフッ素系撥水剤は浸入しないので、 細孔の全表面に撥水性や疎水性を均一に付与することは不可能である。
-寸法の異なる細孔表面に均質で均一な厚みの重合膜や塗布膜を形成することは 不可能である。
•細孔表面に重合膜や塗布膜を形成する後加工方法のため、 細孔径が小さくなる。 -一部の細孔は、 フッ素化モノマーやフッ素系撥水剤によって充填されるため、 空孔率が減少する。
-加熱重合法や加熱乾燥法が採用されるので、 多孔質膜には耐熱性が必要となる ため、 多孔質膜素材が制約される。
•細孔表面とフッ素系の重合膜や塗布膜とは密着性が不良である。
本発明は、 上記したような従来の技術の改良すべき課題を解決するために、 従 来の技術のような後加工方法とは全く異なる新し 、方法により、 多孔質形成性光 硬化型樹脂組成物から形成された、 撥水性や疎水性が均一に付与された多孔質樹 月旨硬化物を提供することを目的としている。
本発明によれば、 従来の技術の改良すべき課題は、 以下のように解決すること ができる。
■光硬化により、 表面張力の非常に低い樹脂硬化物微小粒子が三次元的に連なつ た構造の多孔質樹脂硬化膜が形成されるので、 多孔質膜の内外部の全表面に、 細 孔寸法には関係なく、 均質な撥水性 (疎水性) の機能を付与することができる。 •光硬化法による硬化のため、 多孔質樹脂硬化膜の形成が迅速で容易である。 ■樹脂硬化物微小粒子そのものが非常に低い表面張力を示すので、 表面に重合膜 や塗布膜を形成する従来の後加工方法とは異なり、 密着性不良の問題は全く発生 しない。
•多孔質形成性光硬化型樹脂組成物は液状であるため、 多孔質膜は任意の形状に 形成することができる。
'基板上においても、 あるいは、 2枚の基板間においても、 多孔質樹脂硬化膜の 形成が可能である。
(その解決方法)
本発明は、 表面張力が 2 5 X 1 0— 5 NZ c m以下の光重合性モノマー
(A) 、 光重合性モノマー (A) とは非相溶の有機化合物 (B ) 、 光重合性モノ マー (A) と有機化合物 (B ) とに相溶する共通溶媒 ( C ) および光重合開始剤 (D ) を必須成分とする多孔質形成性光硬化型樹脂組成物および該樹脂組成物よ り形成される多孔質樹脂硬化物である。
本発明によれば、 多孔質形成性光硬化型樹脂組成物は、 光硬化により、 迅速で、 しかも容易に、 樹脂硬化物微小粒子が三次元的に連なつた構造の多孔質樹脂硬化 物が形成でき、 その多孔質樹脂硬化物は、 フィルムやシートのような膜状のほか に任意の形状とすることができる。 形成された樹脂硬化物微小粒子は非常に低い 表面張力を有し、 その表面張力は任意に調整することもできる。 多孔質樹脂硬化 物微小粒子の平均径は 1 / m以下の領域で調整でき、 したがって、 空孔率の調整 も同様に可能である。
上記した本発明の特長から明白なように、 本発明の多孔質樹脂硬化物は、 従来 の技術との関連性は全くなく、 本発明者による独自で新規な発明である。
「表面張力」 とは物質固有の特性値であって、 接触角と相関する物性値である。 詳しくは、 液体を固体表面に着滴させると、 固体の表面張力 (T s ) 、 固体と液 体の間の界面張力 (T/ L s ) 、 液体の表面張力 ) および接触角 (液体の自 由表面と固体表面との接点における液体内部側にある角; 0 ) との間に次の関係 式が成立する。
y s = y L s + y L cos 0 .
したがって、 固体が同一であれば、 接触角が大きいほど、 液体の表面張力は大 きい。 一方、 固体が同一であれば、 接触角が小さいほど、 液体の表面張力は小さ い。 液体の固体表面への付着力 (親和力、 濡れ性) が大きいほど、 接触角は小さ くなり'、 90° 未満となる。 一方、 付着力が小さいほど、'接触角は大きくなり、 90° を越える。
発明の実施の態様
本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物は、 表面張力が 25 X 10- 5 N
Z cm以下の光重合性モノマー (A) と、 光重合性モノマー (A) とは非相溶の 有機化合物 (B) と、 光重合性モノマー (A) と有機化合物 (B) とに相溶する 共通溶媒 (C) および光重合開始剤 (D) を必須成分とする液状の光硬化型樹月旨 組成物である。
本発明に使用する表面張力が 25 X 10— 5 NZ cm以下の光重合性モノマ 一 (A) は、 分子末端に 1個以上の不飽和結合を有し、 光によるラジカル重合可 能なモノマー類のことである。 即ち、 末端基としてアタリロイル基、 メタクリロ ィル基、 ビュル基、 ァリル基、 メタリル基などの光重合性不飽和基を有するモノ マー類のことである。
光重合性モノマー (A) は、 その表面張力が 25X 10— 5 NZcm以下、 好ましくは、 23X 10— 5 NZcm以下であることが重要である。 光重合性 モノマー (A) の表面張力が 25 X 10— 5 N/ cmを越えると、 多孔質榭月旨 硬化物に非常に低い表面張力を付与できない。 結果として優れた撥水性や疎水性 を付与できない。
光重合性モノマー (A) としては、 フッ素あるいはシリコンを含有するモノマ 一を選択することができる。 フッ素を含有するモノマーとしては、 フッ素を含有 する脂肪族系および脂環族系モノマーがあり、 いずれのモノマーも本発明に使用 することができる。 シリコンを含有するモノマーとしては、 シラン系モノマーと シロキサン系モノマーがある。 フッ素あるいはシリコンを含有するモノマーの末 端不飽和基としては、 光硬化性が良好なことから、 (メタ) アタリロイル基 (ァ クリロイル基とメタアタリロイル基の両者を表す。 以下の表記も同じである。 ) やビニル基が好適である。
フッ素を含有する好ましい脂肪族および脂環族系モノマーは、 一般式 (I) 〜 (IV) で表される化合物である。 (Π)
Figure imgf000006_0001
(ΠΙ)
CH2=CH-R1 °f-CH=CH2 (IV) 一般式 (I) において、 Rf 1 は、 炭素数 1〜 1 2の多フッ化アルキル基また は多フッ化シクロアルキル基であるが、 フッ素の置換数が大きいほど好ましく、 パーフルォロアルキル基が特に好ましい。 具体的には、 F (CF2 ) n基 (n = 1-1 2) 、 (CF3 ) 2 CF (CF2 ) (n= l〜: L O) 、 H (CF2 ) n基 (n = 2〜: L O) 、 CF3 CHFCF2 基、 (CF3 ) 2 CH基、 へキサフ ルォロシク口へキシル基などが、 好ましい多フッ化アルキル基と多フッ化シク口 アルキル基として例示できる。
R2 は、 ヒドロキシル基や二重結合を有していてもよい炭素数 1〜3のアルキ レン基である。 即ち、 メチレン基、 エチレン基、 プロピレン基、 2—ヒドロキシ プロピレン基またはプロぺニレン基である。
R3 は、 水素またはメチノレ基である。
一般式 (II) において、 Rf 4 は、 炭素数 4〜10の多フッ化アルキレン基で あるが、 フッ素の置換数が大きいほど好ましく、 パーフルォロアルキレン基が特 に好ましい。 具体的には、 (CF2 ) n基 (n = 4〜10) などが、 好ましい多 フッ化アルキレン基として例示できる。 R 5 および R 7 はそれぞれ、 ヒドロキシル基や二重結合を有していてもよい炭 素数 1〜 3のアルキレン基である。 即ち、 メチレン基、 エチレン基、 プロピレン 基、 2—ヒドロキシプロピレン基またはプロべエレン基である。
R 6 および R 8 は、 それぞれ、 水素またはメチノレ基である。
一般式 (III) において、 R f 9 は炭素数 4〜1 2の多フッ化アルキル基であ るが、 フッ素の置換数が大きいほど好ましく、 パーフルォロアルキル基が特に好 ましい。 具体的には、 F ( C F 2 ) n基 (n = 4〜l 2 ) などが、 好ましい多フ ッ化アルキル基として例示できる。
一般式 (IV) において、 R f 1 ° は炭素数 4〜1 2の多フッ化アルキレン基で あるが、 フッ素の置換数が大きいほど好ましく、 パーフルォロアルキレン基が特 に好ましい。 具体的には、 (C F 2 ) n基 (n = 4〜l 0 ) などが、 好ましい多 フッ化アルキレン基として例示できる。
シラン系モノマーとしては、 具体的には、 (メタ) アタリロイルォキシプロピ ノレトリメトキシシラン、 (メタ) アタリロイルォキシプロピルメチルジメ トキシ シランなどのシラン系 (メタ) アタリレート化合物、 およびビニノレトリメ トキシ シラン、 ビニルトリエトキシシランなどのシラン系ビニル化合物が、 好ましいシ ラン系モノマーとして例示できる
シロキサン系モノマーとしては、 具体的には、 (メタ) アタリロイルォキシプ 口ピルペンタメチノレジシロキサン、 ビス ( (メタ) ァクリロイルォキシプロピ ノレ) テトラメチルジシロキサン、 ビス ( (メタ) アタリロイルォキシプロピル) ドデカメチノレへキサシロキサンなどのシロキサン系 (メタ) アタリレート化合物、 およびビニノレペンタメチルジシロキサン、 ジビ-ノレテトラメチノレジシロキサン、 ジビュルドデカメチルへキサシ口キサンなどのシロキサン系ビエル化合物が、 好 ましいシロキサン系モノマーとして例示できる。
本発明においては、 上記した光重合性モノマー (A) とともに、 他の光重合性 モノマーを併用することができる。 この場合、 本発明の光重合性モノマー (A) と他の光重合性モノマーは必ずしも相溶する必要はないが、 相溶することが好ま しい。 他の光重合性モノマーは、 多孔質樹脂硬化物の硬度、 強度、 耐熱性などの 物性を調整する目的で使用される。 本発明の表面張力が 2 5 X 1 0 - 5 N/ c m以下の光重合性モノマー (A) と他の光重合性モノマーとを併用した場合、 光 重合性 4ノマー (A) の配合量は、 光重合性モノマー全量 対して 1 0〜: L 0 0 重量%、 好ましくは、 2 0〜 1 0 0重量%である。 1 0重量%未満では、 本発明 の必須成分である有機化合物 (B ) に対する光重合性モノマー (A) の配合量が 少なくなる傾向があり、 多孔質樹脂硬化物の形成性が不良となり易い。 また、 多 孔質樹脂硬化物に非常に低い表面張力を付与できない。 結果として優れた撥水性 や疎水性を付与できない。
他の光重合性モノマーとしては、 光重合性モノマー (A) と光共重合可能な限 り、 特に制限はないが、 光硬化性が良好なことから、 (メタ) アタリロイル基を 有する化合物の使用が好適である。 さらに、 上記したように多孔質樹脂硬化物の 物性の調整が目的であるから、 (メタ) ァクリロイル基を 2個以上有する化合物 がより好適である。
(メタ) アタリロイル基を 2個以上有する化合物としては、 具体的には、 1, 3 - ブタンジォ一/レジ (メタ) アタリレート、 1, 4 -ブタンジオールジ (メタ) アタリ レート、 1, 6 -へキサンジオールジ (メタ) アタリレート、 1, 9-ノナンジオールジ
(メタ) アタリレート、 ネオペンチルグリコールジ (メタ) アタリレート、 ジェ チレングリコールジ (メタ) アタリレート、 ヒドロキシビバリン酸ネオペンチル グリコールエステルジ (メタ) アタリレート、 ジメチロールトリシクロデカンジ (メタ) アタリレート、 ビスフエノール Aエチレンオキサイド 2モル付加物ジ (メタ) アタリレート、 ビスフエノール Fェチレンォキサイド 4モル付加物ジ
(メタ) アタリレート、 トリメチロールプロパントリ (メタ) アタリレート、 ぺ ンタエリスリ トーノレトリ (メタ) アタリレート、 ジペンタエリスリ トールへキサ (メタ) アタリレート、 エタンジオールジグリシジルエーテル · (メタ) アタリ ノレ酸 2モル付加物 (アタリル酸またはメタクリル酸の付加反応物を表す。 以下の 表記も同じである。 ) 、 1, 2-プロパンジオールジグリシジルエーテル · (メタ) アタリル酸 2モル付加物、 1, 4 -ブタンジオールジグリシジルエーテル · (メタ) アタリル酸 2モル付加物、 トリ -1, 2-プ口パンジォーノレジク"リシジルエーテル · (メタ) アタリル酸 2モル付加物、 1, 6-へキサンジオールジグリシジルエーテ ル' (メタ) アクリル酸 2モル付加物、 水添ビスフエノール Aジグリシジルエー テル - (メタ) アタリル酸 2モル付加物、 ビスフエノール Aジグリシジルエーテ ル · タ) アタリル酸 2モル付加物、 トリメチロ一ルヅロパントリグリシジル エーテル . (メタ) アクリル酸 3モル付加物などの脂肪族系、 脂環族系および芳 香族系の多価 (メタ) アタリレート化合物を例示できる。
本発明においては、 多価 (メタ) アタリレート化合物として、 プレボリマー系 多価 (メタ) アタリレート化合物も使用できる。 ここで言うプレボリマーとは重 合度 2〜2 0、 好ましくは 2〜1 0の低分子量ポリマー (オリゴマーと呼称され ることもある。 ) であり、 ポリエステル、 ポリウレタン、 ポリエーテルなどのプ レポリマーのことである。 プレボリマー系多価 (メタ) アタリレート化合物とは、 そのようなプレポリマーの末端に、 少なくとも 2個以上の (メタ) アタリロイノレ 基を有する化合物である。
プレボリマー系多価 (メタ) アタリレート化合物としては、 具体的には、 (ァ ジピン酸 /1, 6-へキサンジオール) n ジ (メタ) アタリレー卜 ( nはアジピン酸 と 1, 6-へキサンジオールから得られる低分子量ポリエステルの重合度を表し、 こ の重合体がプレポリマーである。 このプレボリマーの両末端のヒドロキシル基が (メタ) ァクリレート化されている化合物を表しており、 nは 2〜2 0である。 以下の表記も同じである。 ) 、 (オルソフタル酸 Zl, 2-プロパンジオール) n ジ (メタ) アタリレート、 (2, 4-トリレンジイソシァネート /1, 6-へキサンジォー /レ) n ジ (メタ) アタリレート、 (イソホロンジイソシァネート/ジエチレング リコール) n ジ (メタ) アタリレート、 ポリ (エチレングリコール) n ジ (メ タ) ァクリレート) 、 ポリ (プロピレングリコーノレ) n ジ (メタ) アタリレート、 ポリ (テトラメチレングリコール) n ジ (メタ) アタリレート、 ポリ (ジグリシ ジルビスフエノール A ) n ジ (メタ) アタリレート、 (卜リメリツト酸 ジェチ レングリコーノレ) n トリ (メタ) ァクリレートなどのポリエステル ·プレポリマ 一系、 ポリウレタン■プレポリマー系およびポリエーテル ·プレボリマー系の多 価 (メタ) アタリレート化合物を例示できる。 本発明においては、 上記した多価 (メタ) アタリレート化合物とプレボリマー系多価 (メタ) アタリレート化合物 の中から選択して 1種類を単独に、 あるいは 2種類以上を組み合わせて使用でき る。 本発明においては、 多価 (メタ) アタリレート化合物とプレボリマー系多価 (メタ) アタリレート化合物の配合比は 1 0 0 : 0 ~ 4 0 : 6 0 (重量0 /0) であ る。 プレボリマー系多価 (メタ) アタリレート化合物の配合は、 前記した物性の ほかに、 基板との密着性向上などにも有効である。
また、 本発明にあっては、 他の光重合性モノマーとして、 1価の (メタ) ァク リレート化合物や 1価のプレボリマー系 (メタ) アタリレート化合物を少量なら、 さらに使用してもよい。
1価の (メタ) アタリレート化合物としては、 具体的には、 n-ブチル (メタ) アタリレート、 i -ブチル (メタ) アタリレート、 2-ェチルへキシル (メタ) ァク リレート、 シク口へキシノレ (メタ) ァクリ レート、 イソボ /レニノレ (メタ) アタリ レート、 フエ二ノレ (メタ) アタリレート、 ベンジノレ (メタ) アタリレート、 フエ ノキシェチ /レ (メタ) アタリレート、 ポリ (エチレングリコーノレ) n (メタ) ァ タリレート (nは 2〜2 0である。 以下も同様な表現である。 ) 、 メ トキシポリ (エチレングリコーノレ) n (メタ) アタリレート、 フエノキシポリ (エチレング リコール) n (メタ) アタリレートなどの脂肪族系、 脂環族系、 芳香族系、 およ びプレボリマー系 1価 (メタ) アタリレート化合物を例示できる。
本発明における有機ィ匕合物 (B ) は、 光重合性モノマー (A) とは非相溶であ り、 光重合性モノマー (A) とは室温付近で混合しても相溶せず、 仮に混合攪拌 しても、 放置すると相分離する有機化合物のことである。 このような有機化合物 (B ) は、 水酸基、 アミノ基、 ケトン結合、 サルファイド結合、 スルホキサイド 結合および環式ァミド結合などの群より選ばれた 1種類以上の基またはノおよび 結合を有する分子会合し易 、有機化合物である。
有機化合物 (B) としては、 具体的には、 エチレングリコール、 1,3_プロパン ジオール、 1,4_ブタンジオール、 1, 5-ペンタンジオール、 ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、 ペンジノレアノレコーノレ、 エチレンジァミン、 ジエチレン トリアミン、 ベンジノレアミン、 キノリン、 メチルフエ二ルケトン、 モノエタノー ノレァミン、 ジエタノールァミン、 トリエタノーノレアミン、 2, 2,-チオジェタノ一 ノレ、 ジメチノレスルホキサイド、 N-メチルピロリ ドンなどであり、 いずれの有機ィ匕 合物も、 その表面張力は 4 0 X 1 0— 5 N/ c m以上である。 このような有機 化合物 (B) の中でも、 光重合性モノマー (A) との非相溶性が著しい、 表面張 力が 5'0 X 1 0— 5 N/ c m以上の有機化合物が特に好 しい。 特に好ましい 有機化合物 (B ) の具体例としては、 モノエタノールァミン、 ジエタノールアミ ン、 トリエタノールァミンなどの低級脂肪族ァミノアルコール類と 2, 2,_チォジ エタノールが例示できる。 本発明では、 このような有機化合物の 1種類を単独に 使用する力、 あるいは 2種類以上を併用することができる。
本発明においては、 有機化合物ではないが、 本努明の有機化合物 (B ) の代わ りに、 特に高い表面張力 (約 7 3 X 1 0— 5 NZ c m、 2 0 °C) を有する水も、 (B ) 成分として使用することができる。 水は、 上記した特に好ましい有機化合 物 (B ) と併用することも可能であり、 その併用比率は任意である。
本発明においては、 多孔質樹脂硬化物の形成性を最良とするためには、 フッ素 あるいはシリコンを含有する光重合性モノマー (A) と表面張力が 5 0 X 1 0 一 5 N/ c m以上の有機化合物 (B) であるモノエタノールァミン、 ジエタノー ルァミン、 トリエタノールァミン、 2, 2—チオジェタノールまたは水とを組み合 わせて使用することが最も好ましい。
本発明における光重合性モノマー (A) と、 光重合性モノマー (A) とは非相 溶の有機化合物 (B ) または水とに共通して相溶性のある共通溶媒 (C ) とは、 室温付近で光重合性モノマー (A) と有機化合物 (B ) または水と混合すると完 全に両者と相溶する有機溶剤のことである。 このような有機溶剤 (C) には、 芳 香族あるいは脂環族炭化水素系溶剤、 アルコール、 エーテル、 エステル、 ケトン、 エーテルアルコールなどの酸素含有系溶剤、 およびァミン、 アミドなどの窒素含 有系溶剤がある。
有機溶剤 (C ) としては、 具体的にはトルエン、 キシレン、 ェチルベンゼン、 テトラリン、 デカリンなどの芳香族あるいは脂環族炭化水素系溶剤、 ェタノール、 n -および i -プロパノール、 n -および t -ブタノール、 n-ペンタノール、 n -へキサノ ール、 n-オタタノ一ノレ、 2 -ェチノレへキサノーノレ、 n-デカノール、 シクロへキサノ 一/レなどのァノレコーノレ系溶斉 lj、 テトラヒ ドロフラン、 ェチノレフエニノレエーテノレ、 ァニソール、 ジォキサン、 ジエチレングリコーノレジメチ /レエーテノレなどのエーテ ル系溶剤、 酢酸シクロへキシル、 安息香酸メチルなどのエステル系溶剤、 ァセト ン、 ェチルメチルケトン、 シク口へキサノンなどのケトン系溶剤、 1, 2 -エタンジ オールモノメチルエーテル、 1,2 -エタンジオールモノェチルエーテル、 ジェチレ ングリコ—ルモノメチルェ一テル、 ジェチレングリコールモノェチルエーテルな どのエーテルアルコール系溶剤のような酸素含有系溶剤およびピぺリジン、 シク 口へキシルァミン、 ピリジン、 ジメチルァセトアミ ド、 ジメチノレホルムアミドな どの窒素含有系溶剤を例示できる。
上記した有機溶剤 (C) の中でも、 表面張力が 25 X 10— 5〜 35 X 10 一 5 N/cm、 特に、 30 X 1 0一 5〜 35 X 1 0- 5 N/c m付近にある有 機溶剤は、 本発明における共通溶媒として特に有効であり好適である。 そのよう な有機溶剤としては、 トルエン、 ェチルベンゼン、 キシレン、 デカリン、 テトラ リン、 n-オタタノ一ノレ、 2-ェチルへキサノール、 シクロへキサノール、 ェチルフ ェニノレエーテル、 酢酸シク口へキシル、 シク口へキサノン、 1, 2-エタンジオール モノメチノレエーテノレ、 1, 2 -エタンジォ一ノレモノエチノレエーテノレ、 ジエチレングリ コールモノメチルェ一テル、 ピぺリジン、 シク口へキシルァミン、 ジメチルホル ムアミ ド、 ジメチノレアセトアミ ドなどがある。
上記した本発明における多種の有機溶剤は、 単独に使用してもよく、 または同 一系の溶剤を 2種類以上組み合わせて、 あるいは異なる系の溶剤を 2種類以上組 み合わせて使用してもよい。 本発明における有機溶剤 (C) の単独での、 あるい は併用での、 常圧における沸点としては 50〜250°Cの範囲がよく、 好ましく は、 70〜200°Cの範囲である。 沸点が 50 °C未満では、 室温付近で気化しや すく、 取り扱い難いばかりでなく、 本発明の光硬化型液状樹脂組成物中の配合量 の制御が困難となる。 一方、 沸点が 250°Cを超えると本発明の多孔質樹脂硬化 物の形成に支障を生ずることになるので好ましくない。
本発明において、 多孔質樹脂硬化物の形成性を最良とするためには、 フッ素あ るいはシリコンを含有する光重合性モノマー (A) と、 モノエタノーノレアミン、 ジエタノールァミン、 トリエタノールァミンのような表面張力が 50 X 10— 5 N/ cm以上の有機化合物 (B) または水および表面張力が 30〜3 5 X 1 0一 5 N/ cm付近の有機溶剤である共通溶媒 (C) を組み合わせて使用するの 1 最も好ましい。 本発明の光重合性モノマー (A) (他の光重合性モノマーを併用する場合は光 重合 モノマー (A) と他の光重合性モノマーとの全光量合性モノマーを以下で は、 単に 「Α' 」 と表記する。 ) 、 光重合性モノマー (Α) とは非相溶の有機ィ匕 合物 (Β ) (水を併用する場合は有機化合物 (Β ) と水との混合物を、 有機化合 物 (Β) の代わりに水を使用する場合は水を以下では、 単に 「Β ' 」 と表記す る。 ) 、 および (Α) と (Β ) とに共通して相溶性のある共通溶媒 (C ) の配合 比は、 使用する各成分の分子量や沸点などにより異なった比率となるが、 通常、 (Αまたは A' ) : 〔 (Βまたは B ' ) + (C) 〕 = 8 0 : 2 0〜: L 0 : 9 0 (重量%) である。 (Αまたは A' ) の配合比が 8 0重量%を超えると、 〔 (Β または B ' ) + (C) 〕 成分量に対して多量となり過ぎて、 また配合比が 1 0重 量。/。未満では、 液状樹脂組成物中の 〔 (Βまたは B ' ) + ( C) 〕 成分量が多く なり過ぎて、 良好な多孔質樹脂硬化物の形成が困難と,なる。 一方、 (Βまたは Β, ) と (C) との配合比は、 通常、 (Βまたは Β, ) : ( C) = 8 0 : 2 0〜 2 0 : 8 0 (重量%) であり、 (Αまたは A ' ) の酉己合量に応じて、 最適な比率 で混合することができる。 (Βまたは B ' ) の酉己合量が 8 0重量%を超えても、 また 2 0重量%未満であつても、 良好な物性を有する多孔質樹脂硬化物の形成は 困難となる。
本発明で使用される光重合開始剤 (D) は、 光照射により本発明の光硬化型液 状樹脂組成物を硬化させて、 本発明の多孔質樹脂硬化物を形成するための必須成 分である。 勿論、 電子線照射により硬化させる場合は不要であるが、 硬化方法と しては非常に高価であり、 一般的であるとはいえない。
光重合開始剤 (D) としては、 本発明に限定されるような化合物はなく、 一般 的に使用されている光重合開始剤、 即ち、 ァセトフエノン類、 ベンゾフエノン類、 ジァセチノレ類、 ベンジノレ類、 ベンゾイン類、 ベンゾインエーテル類、 ペンジノレジ メチルケタール類、 ベンゾィノレべンゾエート類、 ヒ ドロキシフエ二ルケトン類、 ァミノフエ-ルケトン類などのカルボエル化合物系光重合開始剤、 チラゥムサル ファイド類、 チォキサントン類などの有機硫黄化合物系光重合開始剤、 ァシルホ スフインォキサイド類、 ァシルホスフィン酸エステル類などの有機憐ィ匕合物系光 重合開始剤などがすべて使用できる。 本発明ではこのような多種類の光重合開始 剤の中から選択して、 1種類を単独に、 あるいは 2種以上を組み合わせて使用す るこ ができる。 本発明においては、 光重合開始剤 (D) の添加量は少量でよく、 光重合 モノマー (Αまたは A' ) 、 すなわち光重合性モノマー全量に対して、 0. 1〜3. 0重量%の添加量が一般的であるが、 0. 5~1. 5重量 °/0でも硬化性は良好で ある。
本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物の調製方法としては、 まず、 光重合 開始剤 (D) を光重合性モノマー (Αまたは A' ) に溶解したのち、 他の必須成 分を混合溶解して、 均一な透明溶液とするのが一般的である。
本発明の多孔質樹脂硬化物を形成するために使用される基材としては、 ガラス、 セラミック、 プラスチック、 紙などの基材が使用できる
'本発明の多孔質樹脂硬化物の形成方法としては、 本発明の光硬化型液状樹脂糸且 成物を直接基材上に、 所定の厚さの塗布膜としたのち、 光硬化させる。 本発明の 光硬化型液状樹脂組成物を基材上に一定の厚さに塗布する方法としては、 滴下法、 バーコート法、 ナイフコート法、 スピンコート法などが採用される。 柔軟性のあ るフィルムや紙などの基材の場合には、 ダイレクト ·ロールコート法、 リバ一 ス ·口ールコート法、 グラビア■口ールコート法などの各種の口ールコート法が 採用できる。 塗布膜の厚さは、 特に制限はされないが、 一般的には、 5〜1 0 0 μ HIの範囲であるが、 この範囲より、 厚くしても薄くしてもかまわない。
本発明の光硬化型液状樹脂組成物の光硬化の光源としては、 紫外線を発生する 光源が最も適している。 紫外線照射により光硬化させるには、 一般に、 紫外線硬 化型樹脂に用いられる超高圧水銀灯、 高圧水銀灯、 低圧水銀灯、 メタルハライド 灯、 カーボンアーク灯、 キセノン灯などの紫外線を照射することによって行う。 好ましくは、 波長 3 6 5 n mを中心とした紫外線が比較的多い高圧水銀灯あるい はメタルハライド灯を使用するのがよい。 紫外/锒の照射量は、 一般的に、 5 0 0 m J / c m 2 以上であり、 1 0 0 0〜 2 0 0 0 m J / c m2 が好適である。
本発明の光硬化型液状樹脂組成物は、 前記した基材に塗布したのち、 上記した 紫外線光源からの紫外線を照射して、 組成物中に含有される光重合性モノマー
(Aまたは A, ) を光硬化させ、 樹脂硬ィ匕物の微小粒子が三次元的に連なった構 造の多孔質樹脂硬化物を形成させる。 この紫外線照射は、 塗布したままの状態で 照射してもよいが、 塗布膜の硬化性の安定化や多孔質樹脂硬化物の表面平滑性と 形成'された多孔質樹脂硬化物を保持するためには、 ガ ス板や透明なプラスチッ ク - フィルムで塗布膜表面を被覆して紫外線を照射するのがよレ、。
光硬化して形成された多孔質樹脂硬化物には有機化合物 ( B ) 、 場合によって は水、 および共通溶媒 (C ) が含有されており、 微小空孔を有する樹脂硬化物と するためには、 これらを除去する必要がある。 これらを除去する方法としては、 常圧または減圧下での加熱気化法、 熱風気化法、 メタノール、 エタノール、 ァセ トンのような低沸点溶剤による溶剤溶出法などがあり、 含有される有機化合物 (B ) あるいは水と共通溶媒 (C) の沸点や溶解性に応じて最適の方法を採用す ればよい。 加熱気化法と熱風気化法では、 使用した基材の耐熱性を考慮した温度 で行う必要がある。
本発明の樹脂硬化物の微小粒子が三次元的に連なつた構造からなる多孔質樹脂 硬化物は、 表面ばかりではなく細孔内部の全表面も、 細孔の寸法に関係なく、 均 一に非常に低い表面張力を有する。 例えば、 水に対する接触角で 9 0〜1 6 0 ° 、 特に 1 2 0〜1 5 0 ° を達成する。 また、 樹脂硬化物の微小粒子は、 フ ッ素あるいはシリコンを含有する硬化物であるため、 低い屈折率、 良好な耐光性、 あるいは良好な電気特性などの機能も有している。 したがって、 多孔質樹脂硬化 物は、 全体としても、 低い屈折率、 良好な耐光性、 あるいは良好な電気特性を均 一に有している。
本発明の多孔質樹脂硬化物に含有される細孔の平均寸法は、 l /i m以下の領域 で調整できるが、 0 . 0 1 ~ 0 . 5 Ai mの範囲にあるのが一般的である。 また、 細孔の空孔率も調整できるが、 1 0 ~ 8 0 %の範囲にあるのが一般的である。 本発明の微小な細孔からなる多孔質樹脂硬化物は、 外部表面と内部表面の表面 張力が非常に低いばかりではなく、 屈折率が低く、 耐光性と電気特性が良好であ るという特長を有している。 このような機能は、 本発明の多孔質樹脂硬化物に含 有されるフッ素あるいはシリコンの含有量に応じて調整することができる。
本発明の多孔質樹脂硬化物は、 多孔質樹脂硬化物の特長と非常に低い表面張力、 低い屈折率、 および優れた耐光性および電気特性などの機能が要求される用途に 有効に使用することが可能である。 そのような用途としては、 空孔に無機あるい は有機の機能材料を充填した状態にして多孔質樹脂硬化物を担体材料として使用 する—用途、 および空孔に何も充填しない状態のままで、—多孔質樹脂硬化物を使用 する用途がある。
産業上の利用可能性
空孔に無機あるいは有機の機能材料を充填した状態にして、 多孔質樹脂硬化物 を担体材料として使用する試みとしては、 表示素子、 記録材料、 印刷インク受理 基材、 光学機能部材などがある。 このような用途では、 本発明の多孔質樹脂硬化 物 (多孔質膜) は担体材料としての機能だけでなく、 充填された機能材料の機能 をも向上させることができる。
例えば、 本発明の微小な細孔からなる多孔質樹脂硬化物は、 非常に低い表面張 力と低い屈折率を有するという特性を活かして、 液晶表示素子、 液晶記録材料な どの担体材料に応用される場合、 細孔内における機能材料としての液晶化合物の 易可動性、 即ち、 低電圧駆動性を向上させることができるばかりではなく、 担体 材料としての屈折率も調整することが可能である。
(実施例)
以下に、 実施例により本発明を具体的に説明するが、 本発明は下記実施例に限 定されるものではない。
実施例および比較例における特性値の測定は、 次に示す測定方法にしたがつて 行った。
平均細孔径と空孔率の測定
ガラス基板上に形成された微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を剥離し、 ォ ートポア IV (島津一マイクロメリティックス (株) 製: 9 5 2 0型) を用いて、 7K銀圧入法により測定した。 平均細孔径の測定は、 細孔を円筒状と仮定し、 細孔 半径は水銀に加える圧力に逆比例の関係で算出する方法によった。 空孔率の測定 は、 約0. 005 111から約7 0 / 111までの細孔径 ( r : A) 分布と空孔容積率 (d
Vp/ d log r : ml/g) を測定し、 細孔容積率の総和を比重換算して空孔率 、。/。 '. cm3 /cm3 X 100%) とした。
接触角の測定
表面張力は、 表面張力と相関する接触角 (0 ) を測定して、 その高低を判定し た。 即ち、 ガラス基板上に形成された微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜表面 上に'着滴させた純水の 0. 5秒後の接触角を、 自動接 角計 (協和界面科学 (株) 製: CA— V型) を用いて、 0ノ 2法により測定した。
実施例 1
光重合性モノマー (A) であるパーフルォロォクチルェチルアタリレート (表 面張力 = 21. 3 X 10— 5 N/cm) 20重量部および他の光重合性モノマ 一であるトリメチロールプロパントリアタリレート (表面張力 =37. 8X 1 0一 5 N/cm) 20重量部とポリテトラメチレングリコール (重合度 =約 3) ジアタリレート (表面張力 =34. 8X 10— 5 NZ cm) (共栄社化学 (株) 製品、 商品名 : ライトアタリレート PTMGA— 250) 20重量部を混 合し、 これに光重合開始剤 (D) として、 2 -ヒドロキシ- 2 -メチル -1-フエエル- プロパン- 1-オン (チバ .スペシャルティ ·ケミカルズ (株) 製品、 商品名:ダ 口キュア 1173) 0.5重量部を混合し、 よく攪拌して溶解した。
次に、 光重合性モノマー (A) とは相溶性のない有機ィ匕合物 (B) として、 ト リエタノールアミン (表面張力 =53. 1 X 10" 5 N/cm) 80重量部と 光重合性モノマー (A) と有機ィヒ合物 (B) とに共通して相溶性のある共通溶媒 (C) として、 イソプロピルアルコール (表面張力 =25. 2X 10- 5 N/ cm) 160重量部を混合し、 透明になるまでよく攪禅して、 均質な本発明の多 孔質形成性光硬化型樹脂組成物 (I) を調製した。
この液状樹脂組成物 (I) をガラス基板上に、 スキマゲージとバーコ一ター塗 布装置を用いて均一に塗布し、 ガラス板で被覆したのち、 直ちに高圧水銀灯によ り紫外線を 120 Om J/cm2 となるまで照射したところ、 不透明に変化した 多孔質樹脂硬化物膜 ( I一 F ) (厚さ =約 10 μ m) が形成された。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜をァセト ンを用いてよく洗浄し、 トリエタノールァミンとィソプロピルアルコールを除去 したのち、 風乾し、 本発明の微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。 この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0. 21 ^ m、 空孔率 7 7%、 接触角 =137. 5° 。 本実施例の多孔質樹脂硬化物膜 (I—F ) 表面の電子顕微鏡写真を図 1に示し た。 " "
比較例 1
光重合性モノマーとして、 トリメチロールプロパントリアタリレート 4 0重量 部とポリテトラメチレングリコール (重合度 =約 3 ) ジアタリレート (前出) 2 0重量部を混合し、 これに光重合開始剤として 2 -ヒドロキシ- 2-メチル- 1 -フエ二 ル-プロパン -卜オン (前出) 0. 5重量部を混合し、 よく攪拌して溶解した。
次に、 トリエタノールァミン 8 0重量部とイソプロピルアルコール 1 6 0重 量部を混合し、 透明になるまでよく攪拌して、 均質な光硬化型樹脂組成物 (1 ) を調製した。
この液状樹脂組成物 (1 ) を用いて、 実施例 1と同じ手順と条件にしたがって、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ-約 1 0 /i m) を 形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜をァセト ンを用いてよく洗浄し、 トリエタノールァミンとイソプロピルアルコールを除去 したのち、 風乾し、 微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。
この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0 . 1 8 m、 空孔率 = 7 6 %、 接触角 = 1 4 . 5 ° 。
実施例 2
光重合性モノマー (A) であるパーフルォ口オタチルェチルァクリレートを 1 0重量部、 トリメチロールプロパントリァクリレートを 3 0重量部とした以外は、 実施例 1と同じ成分と配合量で、 同じ手順にしたがって、 多孔質形成性光硬化型 樹脂組成物 (II) を調製した。
この液状樹脂組成物 (II) を用いて、 実施例 1と同じ手順と条件にしたがって、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ 約 2 0 z m) を 形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜をァセト ンを用いてよく洗浄し、 トリエタノールァミンとイソプロピルアルコールを除去 したのち風乾し、 本発明の微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。
この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔'径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0. 2 3 μ m、 空孔率 = 7 6%、 接触角 = 1 3 6. 1° 。
実施例 3
光重合性モノマー (A) であるパーフルォロォクチルェチルアタリレートを 5 重量部、 トリメチロールプロパントリアタリレートを 3 5重量部とした以外は、 実施例 1と同じ成分と配合量で、 同じ手順にしたがって多孔質形成性光硬化型樹 脂組成物 (III) を調製した。
この液状樹月旨糸且成物 (III) を用いて、 実施例 1と同様の手順と条件にしたが つて、 ガラス基板上に、 不透明に変ィヒした多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ =約 20 /i m) を形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜をァセト ンを用いてよく洗浄し、 トリェタノ—ルァミンとイソプロピルアルコールを除去 したのち、 風乾し、 本宪明の微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。 この微小空孔を有する多孔質榭脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0. 1 9 μχη, 空孔率 == 7 接触角 = 1 3 0. 1° 。
実施例 4
光重合性モノマー (Α) である 2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5-ォクタフルォ口へキサンジォ ールジメタタリレート (表面張力 = 1 8. 6 X 1 0— 5 ΝΖ cm) 30重量部 および他の光重合性モノマーであるネオペンチルダリコールジメタタリレート (表面張力 = 3 4. 8 X 1 0- 5 N/ cm) 20重量部と 1, 4-プタンジオール ジメタタリレート (表面張力 = 34. 8 X 1 0— 5 N/ cm) 1 0重量部を混 合し、 これに光重合開始剤 (D) として、 1-ヒドロキシシクロへキシルフェ-ル ケトン (チパ■スペシャルティ ·ケミカルズ (株) 製品、 商品名:ィルガキュア 1 84) 0.5重量部を混合し、 よく撹拌して溶解した。
次に、 有機化合物 (B) として、 モノエタノールァミン (表面張力 = 5 1. 6 X 1 0- 5 N/cm) 60重量部と共通溶媒 (C) として、 シクロへキサノン (表面張力 = 3 3. 7 X 1 0— 5 N/cm) 9 0重量部を混合し、 透明になる まで ΐく撹拌して、 本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂 ¾成物 (IV) を調製した。 この液状樹脂組成物 (IV) を用いて、 実施例 1と同様の手順と条件にしたがつ て、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ =約 30 /i m) を形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜を減圧加 熱下に静置し、 モノエタノールァミンとシクロへキサノンを除去して、 本発明の 微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。
この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0. 1 5 im, 空孔率 = 6 5%、 接触角 = 1 3 6. 0。。
比較例 2
2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5 -オタタフルォ口へキサンジオールジメタクリレートを使用し ないで、 ネオペンチルグリコールジメタクリレート 4◦重量部と 1, 4-ブタンジォ 一ルジメタクリレート 20重量部を使用する以外は、 実施例 4と同様の手順と条 件にしたがって、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ 二約 3 0 μ m) を形成した。
続いて、 実施例 4と同様の手順と条件にしたがって、 モノエタノールァミンと シク口へキサノンを除去して、 微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。 この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径ニ 0. 1 7 μm 空孔率 = 6 6%、 接触角 = 2 8. 3°。
実施例 5
光重合性モノマー (A) である γ—メタクリロイルォキシプロピルペンタメチ ルジシロキサン (表面張力 = 1 5. 6 X 1 0— 5 N/cm) 30重量部および 他の光重合性モノマーであるトリメチロールプロパントリアタリレート 20重量 部とポリエチレングリコール (重合度 =約 4) ジメタタリレート (共栄社化学
(株) 製品:商品名ライトエステル 4 EG) 1 0重量部を混合し、 これに光重合 開始剤 (D) として、 ダロキュア 1 1 7 3 (前出) 0.5重量部を混合し、 よく撹 拌.して溶解した。
^に、 有機化合物 (B) としてジエタノールァミン' (表面張力 =52. 3 X 10— 5 N/cm) 30重量部と共通溶媒 (C) として、 ジエチレンダリ モノメチルエーテル (表面張力 = 31. 2X 10- 5 N/cm) 60重量部を 混合し、 透明になるまでよく撹拌して、 本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂組成 物 (V) を調製した。
この液状樹脂組成物 (V) を用いて、 実施例 1と同様の手順と条件にしたがつ て、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ =約 20 ni) を形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 得られた多孔質樹脂硬化物膜をェタノ ールを用いてよく洗浄し、 ジエタノールァミンとジエチレンダリコールモノメチ ルエーテルを除去したのち、 風乾し、 本発明の微小空孔を有する多孔質樹脂硬化 物膜を得た。
この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径= 0. 06 //in, 空孔率ニ 5 7%、 接触角 = 127. 5°
比較例 3
T メタタリロイルォキシプロピルペンタメチノレジシロキサンを使用しないで、 トリメチロールプロパントリアタリレート 40重量部とポリエチレンダリコール (重合度 約 4) ジメタタリレート (前出) 20重量部を使用する以外は、 実施 例 5と同様の手順と条件にしたがって、 ガラス基板上に、 不透明に変化した多孔 質樹脂硬化物膜 (厚さ =約 20 μ m) を形成した。
続いて、 被覆したガラス板を取り除き、 実施例 3と同様の手順と条件にしたが つて、 ジェタノールァミンとジェチレングリコールモノメチルエーテルを除去し て、 微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜を得た。
この微小空孔を有する多孔質樹脂硬化物膜の平均細孔径、 空孔率および接触角 を測定したところ、 次の結果を得た:平均細孔径 0. 07 m、 空孔率 = 5 5%、 接触角 =35. 7°
実施例― 6 実施例 1において調製した本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物 (I) を、 厚さ' 1. 1mmの I TO付きソーダライム■ガラス板上の中央部 30 X 3 Om mに、 スキマゲージとバーコ一ター塗布装置を用いて均一に塗布し、 ソーダライ ム■ガラス板で被覆したのち、 高圧水銀灯により、 紫外線を 1200mj/cm 2 となるまで照射して、 不透明に変化した多孔質樹脂硬化物膜 (厚さ =約 10 m) を形成した。
次に、 被覆していたソーダライム 'ガラス板を静かにはがし、 スキマゲージを 取り去つたのち、 エタノール中に浸漬し、 トリエタノールァミンとイソプロピル アルコールを溶出除去し、 さらに減圧下でェタノールを気化除去した。
続いて、 10 Z mのシリカビーズを約 3 %程度混入したエポキシ樹脂シール剤 を用いて、 I T O付きソーダライム ·ガラス板で多孔質樹脂硬化物膜を挟む形で シールしたのち、 真空注入法により T N液晶化合物 (Δη = 0. 243、 2 5°C) を注入して、 自己支持型液晶膜を試作した。
試作した自己支持型液晶膜の電圧に対する平行光線透過率の変化を、 J I SK 7361 - 1の試験方法にしたがって、 濁度計 (日本電色工業 (株) 製、 型式:
NDH2000) を用いて測定したところ、 図 2に示した結果を得た。 0— 10 0 Vの範囲での平行光 f泉透過率の変化率は 59. 7 %であった。 また、 0 Vと 1 00 Vにおける平行光線透過率の比率 (コントラスト) は 3. 9であった。
比較例 4
比較例 1において調製した光硬化型樹脂組成物 ( 1 ) を用いて、 実施例 6と同 じ手順と条件にしたがって、 自己支持型液晶膜を試作した。
試作した自己支持型液晶膜の電圧に対する平行光線透過率の変化を、 実施例 6 と同様にして測定したところ、 図 3に示した結果を得た。 0— 100 Vの範囲で の平行光線透過率の変化率は 26. 4 %であった。 また、 0 Vと 100 Vにおけ る平行光線透過率の比率 (コントラスト) は 1. 5であった。
比較例 4と実施例 6の結果を比較すれば、 本発明の非常に低い表面張力を有す る多孔質樹脂硬化物膜を担体材料とした自己支持型液晶膜は、 電圧に対する光透 過率の変化およびコントラストが非常に増大していることがわかる。
(従来技術より有利な効果) 本発明の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物より形成される多孔質樹脂硬化物は、 従 ¾の技術による製造方法とは全く異なり、 光硬化法 (こより形成された樹脂硬化 物微小粒子が三次元的に連なった構造をなしており、 その表面ばかりではなく、 細孔内部の全表面も均質で、 しかも非常に低い表面張力を有している。 さらに、 他の良好な機能も有しているので、 多様な用途展開が可能である。
図面の簡単な説明
図 1 多孔質樹脂硬化物膜 (実施例 1 ) の表面の電子顕微鏡写真 (20, 000倍) である。
図 2 試作した自己支持型液晶膜 (実施例 6 ) <P電圧と平行光線透過率との関 係図である。
図 3 試作した自己支持型液晶膜 (比較例 4 ) の電圧と平行光線透過率との関 係図である。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 表面張力が 25 X 10— 5 N/ cm以下の光重合性モノマー (A) と、 光重合性モノマー (A) とは非相溶の有機化合物 (B) と、 光重合性モノマー (A) と有機化合物 (B) とに相溶する共通溶媒 (C) および光重合開始剤
(D ) を必須成分とする多孔質形成性光硬化型樹脂組成物。
2. 光重合性モノマー (A) 力 フッ素あるいはシリコンを含有する光重合性 モノマーであることを特徴とする請求項 1に記載の多孔質形成性光硬化型樹脂組 成物。
3. 光重合性モノマー (A) と他の光重合性モノマーとを併用し、 他の光重合 性モノマーの配合量が光重合性モノマー全量に対して 90重量%以下であること を特徴とする請求項 1または 2に記載の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物。
4. 有機化合物 (B) 1 表面張力が 40X 10— 5 N/ cm以上の有機化 合物であることを特徴とする請求項 1〜 3のいずれかに記載の多孔質形成性光硬 化型樹脂組成物。
5. 光重合性モノマー (A) とは非相溶な成分が水であることを特徴とする請 求項 1〜 4のいずれかに記載の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物。
6. 共通溶媒 (C) 力 表面張力が 25〜35 X 10— 5 N/cmである有 機溶剤であることを特徴とする請求項 1〜 5のいずれかに記載の多孔質形成性光 硬化型樹脂組成物。
7. 光重合性モノマー (A) 1 光重合性基として、 (メタ) ァクリロイル基 あるいはビュル基を有することを特徴とする請求項 1〜 6のいずれかに記載の多 孔質形成性光硬化型樹脂組成物。
8. 有機化合物 (B) 水酸基、 アミノ基、 ケトン結合、 サルファイド結合、 スルホキサイド結合および環式ァミド結合の群より選ばれた 1種類以上の基また は/および結合を有することを特徴とする請求項 1〜 7のいずれかに記載の多孔 質形成性光硬化型樹脂組成物。
9. 共通溶媒 (C) 力 芳香族あるいは脂環族炭化水素系溶剤、 酸素含有系溶 剤および窒素含有系溶剤であることを特徴とする請求項 1〜 8のいずれかに記載 の多孔質形成性光硬化型樹脂組成物。
1 0 . 請求項 1〜 9のいずれかに記載の多孔質形 性光硬化型樹脂組成物を光 硬化して得られることを特徴とする多孔質樹脂硬化物。
1 1 . 含有される有機化合物 (B ) または水と共通溶媒 (C) を除去して得ら れることを特徴とする請求項 1 0に記載の多孔質樹脂硬化物。
1 2 . フィルム状あるいはシート状であることを特徴とする請求項 1 0または 1 1に記載の多孔質樹脂硬化物。
1 3 . 少なくとも片面に基板を有することを特徴とする請求項 1 0〜1 2のい ずれかに記載の多孔質樹脂硬化物。
1 4. 請求項 1 0〜 1 3のいずれかに記載の多孔質樹脂硬化物を担体材料とし て使用していることを特徴とする液晶表示素子。
1 5 . 請求項 1 0〜 1 3のいずれかに記載の多孔質樹脂硬化物を担体材料とし て使用していることを特徴とする液晶記録材料。
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