WO2004009248A1

WO2004009248A1 - 塗工用ダイヘッド、塗工装置、塗工用ダイヘッドの製造方法

Info

Publication number: WO2004009248A1
Application number: PCT/JP2003/009204
Authority: WO
Inventors: Takeaki Tsuda; Hiroshi Yoshiba; Takashi Aoki
Original assignee: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date: 2002-07-18
Filing date: 2003-07-18
Publication date: 2004-01-29
Also published as: KR20050025131A; KR100997572B1; TWI277460B; TW200404617A; CN100430151C; CN1668389A; US7160390B2; US20050000420A1

Abstract

基材１に対して相対的に移動しながらスリット１２ａから塗布液を吐出し、基板表面に塗布する塗工用ダイヘッドはリップ部１２ｂと、先端側面１２ｃとを有している。また先端側面１２ｃの塗布液に対する接触角は、リップ１２ｂの塗布液に対する接触角よりも大きくなっている。このことにより塗布時の塗布液のビートを安定させ、塗布液のすじや段むらを防止できる。このため、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする。

Description

明塗工用ダイヘッド、塗工装置、塗工用ダイヘッドの製造方法技術分野

本発明は、基材に対して塗布液を塗布する塗工用ダイヘッド、塗工装置、塗工用ダイへッドの製造方法に関する。背景細の 1 技術

従来、液晶用カラーフィルタの製造工程において、ガラス板などの基 tに対して、 R、 G、 Bの各色の層の形成、或いは表面保護層や柱材の形成のために、液状のレジストを塗布することが行われている。これらのレジストの塗布に当たっては高精度塗布が必要であることから、通常、基材表面に過剰量の液滴を供給し、基材を高速回転させて薄く均一に拡げるスピン方式が用いられている。しかし、この方法では供給したレジストの大半が周囲に飛散してしまうため、レジストの消費量が多くなり、コスト高となるという問題があつた。

そこで、これに代わる方法として、基材に対して塗工用ダイヘッドから塗布液を塗布する方法が考えられている。

しかしながら、塗工用ダイヘッドから塗布液を塗布する方法においても、塗布液中に基材の移動方向に延びるすじや基材の横方向に延びる段むらが生じることがある。発明の開示

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、液品用カラーフィルタの製造時に要求される高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッド、塗工装置、塗工用ダイへッドの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、ダイへッドを用いた塗布時のビードの安定を図るべく鋭意検討の結果、ダイヘッドの先端側面の塗布液に対する接触角を、リップ面の塗布液に対する接触角よりも大きくすることにより、ビードの最外部の液がダイへッドから離れる点を、先端側面とリツプ面との境界線であるエツジ部に保持することができることを見出し、本幾明を達成した。本宪明は、基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドにおいて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リツプ面に対して傾斜する先端側面とを備え、先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角がリップ面の塗布液に対する接触角より大きくなるように構成されていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明は、先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角が、リップ面の塗布液に対する接触角よりも 5 ° 以上大きくなるように構成されていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明は、先端側面の表面材質とリップ面の表面材質は、互いに異なっていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明は、先端側面の表面粗さとリップ面の表面粗さは、互いに異なっていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明は、先端側面とリップ面との間に境界線が設けられ、この境界線の真直度及ぴスリットに対する平行度は、いずれも 5 μ mZm以下となっており、先端側面及びリップ面の境界領域にぉレ、て塗布液に対する接触角の大きレ、領域と小さレ、領域との間に接触角境界線が設けられ、この接触角境界線と、先端側面とリップ面との境界線とのずれを、 5 μ m以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明は、基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであつて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角がリップ面の塗布液に対する接触角より大きくなるように構成されていることを特 ^:ί敷とする塗工用ダイへッドと、塗工用ダイへッドが吐出する塗布液を基材表面に塗布するよう、塗工用ダイへッドの先端を基材に近接させた状態で塗工用ダィヘッドと基材とを相対的に移動させる手段とを備えたことを特徴とする塗工装置である。

本構成により、塗布時のビードを安定させ、塗布層に生じがちであつたすじや段むらを防止できる。かくして、本発明のダイヘッドを、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、液晶カラーフィルタに要求される高精度塗布が可能となり、従来行っていたスピン工程を省略でき、コストダウンを図ることができる。本発明は、基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドにおいて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リツプ面に対して傾斜する先端側面とを備え、リツプ面の表面粗さを R m a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイヘッドである。

本発明は、リップ面の表面は鏡面研削加工が施されていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本明は、リップ面の表面は鏡面研削加工として、電解インプロセスドレッシング研削加工が施されていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明によれば、前記リップ面の表面粗さが小さくなり、前記リップ面の塗布液に対する接触角の局部的な変化が小さくなることで、塗布液が塗布幅方向に移動し易くなり、ビードの形成時間を短くすることができる。したがって、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗工開始端部での膜厚不良域を極めて短く抑制し、液晶カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッドを提供する。

本発明は、先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角が、リップ面の塗布液に対する接触角よりも大きくなるように構成されていることを特徴とする塗ェ用ダイへッドである。

本発明によれば、ビードの最外部の液がダイへッドから離れる点を、先端側面とリップ面との境界線であるエッジ面に保持することができる。したがって、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッドを提供する。

本発明は、先端側面はフッ素樹脂を 1〜： L 0 %含有した無電解二ッケルメッキ処理が施されていることを特徴とする塗工用ダイヘッドである。

本発明によれば、ビードの最外部の液がダイヘッドから離れる点を、先端側面とリップ面との境界線であるエッジ面に保持することができる。したがって、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶力ラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッドを提供する。

本発明は、先端側面とリップ面との間に境界線が設けられ、この境界線の真直度及びスリットに対する平行度は、いずれも 2 μ ηι/ηι以下となっていることを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本発明によれば、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗工開始端部での]]莫厚不良域を極めて短く抑制すると共に、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶カラーフィルタ製造に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッドを提供する。

先端側面及びリップ面の境界領域において塗布液に対する接触角の大き V、領域と小さい領域との間に接触角境界線が設けられ、この接触角境界線と、先端側面とリップ面との境界線とのずれを、 2 μ m以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドである。

本努明によれば液晶カラーフィルタの製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイへッドを提供する。

本発明は、基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであつて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リツプ面に対して傾斜する先端側面とを備え、リップ面の表面粗さを R ni a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドと、塗工用ダイへッドが吐出する塗布液を基材表面に塗布するよう、塗工用ダイへッドの先端を基材に近接させた状態で塗工用ダイへッドと基材とを相対的に移動させる手段とを備えたことを特徴とする塗工装置である。

本発明によれば、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗布開始端部での膜厚不良域を極めて短く抑制すると共に、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行なうことを可能とする塗工装置を提供する。 ,

本発明は、基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであつて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、リツプ面の表面粗さを R m a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドの製造方法において、リップ面の表面に鏡面研削加工を施したことを特徴とする塗工用ダイへッドの製造方法である。

本発明によれば、前記リップ面の表面粗さが小さくなり、前記リップ面の塗布液に対する接触角の局部的な変化が小さくなることで、塗布液が塗布幅方向に移動し易くなり、ビードの形成時間を短くすることができる。したがって、液晶カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗工開始端部での膜厚不良域を極めて短く抑制し、液晶カラーフィルタ製造時に要求されるような高精度塗布を行なうことを可能とする塗工用ダイへッドの製造方法を提供する。

なお、本発明の塗工用ダイヘッド並びに塗工装置は、液晶カラーフィルタ製造用と以:^の塗布に用いても良いことは言うまでもない。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の第 1実施の形態に係る塗工用ダイへッドの概略斜視図及びその一部の拡大断面図である。

図 2は図 1に示すダイへッドの先端部を拡大して示す概略斜視図である。

図 3 ( a ) ( b ) は、図 1に示すダイへッドの製造工程を説明する概略斜視図である。

図 4は、図 1のダイへッドで基材表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。

図 5は、本発明の他の実施の形態に係るダイへッドの先端部の概略斜視図である。図 6は、本発明の更に他の実施の形態に係るダイへッドの先端部の概略斜視図である。

図 7は、比較例のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略斜視図でめる。

図 8は、比較例のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。

図 9は、比較例の他のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。

図 1 0は、本発明の第 2の実施の形態に係る塗工用ダイへッドの概略斜視図及びその一部の拡大断面図である。図 1 1は、図 1 0に示すダイへッドの先端部を拡大して示す概略斜視図である。図 1 2 ( a ) ( b ) は、図 1 0に示すダイヘッドの製造工程を説明する概略斜視図である。

図 1 3は、図 1 0のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。

図 1 4 ( a ) ( b ) ( c ) は、各々ダイヘッドから塗布液が吐出している状態を示す概略斜視図、リップ面表面を遊離砥粒にて研磨した場合のリップ面表面の拡大断面図、リップ面表面を E L I D研削加工にて研磨した場合のリップ面表面の拡大断面図である。

図 1 5 ( a ) ( b ) は、各々リツプ面表面を遊離砥粒にて研磨した場合に形成される初期ビードを示す概略断面図、リップ面表面を E L I D研削加工にて研磨した場合に形成される初期ビードを示す概略断面図である。

図 1 6は、本発明の他の実施形態に係るダイへッドの先端部の概略斜視図である。図 1 7は、本発明の更に他の実施の形態に係るダイヘッドの先端部の概略斜視図である。

図 1 8は、比較例のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略斜視図である。

図 1 9は、比較例のダイヘッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。

'図 2 0は、比較例の他のダイへッドで基板表面に塗布液を塗布する状態を示す概略断面図である。発明を実施するための最良の形態

第 1の発明の実施の形態

本明の塗工用ダイへッドの基本的な形態は、ダイへッドの先端側面の塗布液に対する接触角を、リップ面（リップ部ともいう）の塗布液に対する接触角よりも大きくするという構成としたものである。

この構成により、塗布中、リップ部と基材との間に形成するビードを安定させ、高速高精度塗布を行うことができる。ここで、ダイへッドの先端側面の塗布液に対する接触角とリップ部の塗布液に対する接触角との差は、あまり小さいとビードを安定させる効果が小さくなつてしまうので、少なくとも、 5度以上とすることが好ましい。また、この差は大きければ大きいほど、ビードを安定させる効果が大きくなり、塗布速度を大きくするなどの塗布条件を過酷とした場合にも対応可能となるので、大きく設定することが好ましく、具体的には、 1 0度以上とすることが更に好ましく、 2 0 度以上とすることが一層好ましい。

ダイへッドの先端側面の塗布液に対する接触角を、リップ部の塗布液に対する接触角よりも大きくするための手段としては、先端側面とリップ部のいずれか一方若しくは双方の表面に、メツキ、コーティング等の表面処理を施す、ないし又は先端側面とリップ部とを別部品として製造することなどによって、前記先端側面の表面材質とリップ部の表面材質とを互いに異ならせることを挙げることができる。また、前記先端側面の表面粗さとリップ部の表面粗さとを互いに異ならせることも有効である。更には、これらを組み合わせてもよい。

本発明のダイヘッドは上記したように、先端側面の塗布液に対する接触角を、リツプ部の塗布液に対する接触角よりも大きくして、ビードの最外部の液がダイへッドから離れる点を、先端側面とリップ部との境界線上に保持するものである。この境界線の真直度、並びに、スリットに対する平行度も、塗布むら抑制に重要であり、カラーフィルタ製造のように高精度塗布が望まれる場合には、この真直度及び平 ί亍度を極力小さくすることが望ましく、具体的には、 5 / mZm以下とするのが良い。更に、前記先端側面とリクプ部との境界領域をミクロ的に見ると、先端側面及び/又はリップ部は、力ならずしも前記境界線まで一定の接触角となっているとは限らない。

例えば、先端側面にコーティングを施して接触角を大きくする場合、例え、リップ部にマスクをして先端側面のみにコーティングを施したとしても、コーティングで形成された表面層の端縁はかならずしも前記境界線に一致するとは限らず、場所によつては前記境界線に届かなかったり、境界線を越えたりする。

このため、接触角の大きい領域と小さい領域との間の接触角境界線は、厳密には前記した先端側面とリップ部との境界線とは一致しない場合がある。この差が大きいと、塗布むらの原因となる。そこで、カラーフィルタ製造のように高精度塗布が望まれる場合には、接触角の大きい領域と小さい領域との間の接触角境界線と、先端側面とリップ部との境界線とのずれを、極力小さくすることが好ましく、具体的には 5 111ノ m以下とするのが良い。本発明の塗工装置は、上記構成の塗工用ダイヘッドと、該塗工用ダイヘッドが吐出する塗布液を基材表面に塗布するよう、前記塗工用ダイへッドの先端を前記基材に近接させた状態で前記塗工用ダイヘッドと基材とを相対的に移動させる手段とを備えるという構成としたものであり、この構成により、基材に対して高精度塗布を行うことができる。

本宪明の塗工用ダイへッド並びに塗工装置は、高精度塗布が可能であるので、液晶用カラーフィルタの製造工程において、ガラス板などの基材に対して、 R、 G、 Bの各色の層の形成、或いは表面保護層や柱材の形成のために、液状のレジストを塗布するために用いることができ、スピン工程を加えることなく、所望の精度の塗布を行うことができる。なお、この用途以外の塗布に用いても良いことは言うまでもない。以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。図 1は本発明の一実施の形態に係る塗工用ダイへッド 1 2を示す概略斜視図及びその一部の拡大断面図、図 2はそのダイへッド 1 2の先端部を拡大して示す概略斜視図である。

このダイへッド 1 2も従来のものと同様に、塗布すべき塗布液を吐出するスリット 1 2 aと、その先端両ィ則に該スリット 1 2 aにほぼ直角に形成されたリップ面（リップ部） 1 2 bと、その外側に位置し、リップ部 1 2 bに対して傾斜した先端側面 1 2 c とを有している。このダイヘッド 1 2は、全体がステンレス鋼によって形成されている。

リップ面（リップ部） 1 2 1>の幅(1は、通常0 . 1〜 1 . O mm程度に設定されている。また、リップ部 1 2 bは、ダイへッド 1 2の母材をそのまま露出させた形態であり、表面を R m a x O . 1〜 0. 4程度に仕上げしている。一方、先端側面 1 2 c は、母材表面を R m a X 0 . 1〜0 . 4程度に仕上げした後、その上に塗布液に対して濡れ性の悪い材料をメツキ或いはコーティングして表面層 1 3を形成している。従つて、先端側面 1 2 Cは、塗布液に対して濡れ性の悪レヽ (接触角の大きい)表面となつている。 ·

ここで、表面層 1 3の形成には、無電解ニッケルメツキ、フッ素樹脂を混合した無電角军ニッケノレメツキ、フッ素樹脂コーティング等の表面処理を挙げることができる。表面層 1 3の材質選定に当たっては、塗布液に対する接触角が、リップ部 1 2 bの塗布液に対する接触角よりも大きくなるように、例えば、 5度以上大きくなるように、好ましくは 1 0度以上、更に好ましくは 2 0度以上大きくなるように選定する。更に具体的には、塗布液として、液晶用カラーフィルタの製造に用いる液状のレジストを用いる場合、リップ部 1 2 bの塗布液に対する接触角が 7〜 1 0度程度であるので、表面層 1 3を無電解二ッケルメッキで形成すると、接触角が 2 0度程度となり、 1 0度以上の差を確保できる。また、表面層 1 3をフッ素樹脂コーティングで形成すると、接触角が 5 0度程度となり、 4 0度以上の大きい差を確保できる。なお、フッ素樹脂の単独コーティングは、無電解ニッケルメツキに比べると接触角は大きくできるものの耐久性の点で劣るが、無電解ニッケルメツキにフッ素樹脂を混入させることで、接触角を無電解ニッケルメツキに比べて大きくし且つ耐久性をフッ素樹脂コーテイングに比べて向上できる。従って、ニッケルとフッ素樹脂の混合割合を、所望の特性に応じて適切に選択すればよい。表面層 1 3を形成する領域は、少なくとも、塗布時に塗布液が回り込む恐れのある領域とすればよい。

図 2に示すように、先端側面 1 2 cに形成する表面層 1 3は、リップ部 1 2 bと先端側面 1 2 cとの境界線に一致する位置まで正確に形成されている。更に、リップ部 1 2 bと先端側面 1 2 cの表面層 1 3との境界線 1 4は直線状に形成されると共に、その境界線 1 4の真直度及スリット 1 2 aに対する平行度は、いずれも 5 μ mZm以下となるように作られている。

ここで、表面層 1 3を、リップ部 1 2 bと先端側面 1 2 cとの境界線に一致する位置まで正確に形成し、且つ境界線 1 4の真直度及スリット 1 2 aに対する平行度を 5 // mZm以下とするには、図 3 ( a ) に示すように、ダイヘッド 1 2の先端側面 1 2 cのみならず、リップ部 1 2 bにもメツキ、コーティング等によって表面層 1 3を形成し、その後、図 3 ( b ) に示すように、リップ部 1 2 bを研磨して、その部分の表面層 1 3を除去し且つ境界線 1 4を所望の真直度、平行度となるようにすればよい。このダイへッド 1 2を用いて塗布を行うには、図 4に示すように、チャック台（図示せず）に保持された基材 1の表面にダイヘッド 1 2の先端を近接配置し、基材 1をダイヘッド 1 2に対して移動させながらダイへッド 1 2から塗布液を吐出し、リップ部 1 2 bと基材 1との間にビード 3を形成し、そのビード 3の塗布液を基材 1の表面に塗布する。

ここで、ダイへッド 1 2の先端側面 1 2 cを、ビード 3が接触しているリップ部 1 2 bよりも、塗布液に対する接触角が大きくなるように、従って塗布液に対する濡れ性が悪くなるようにしているので、塗工中、ビード 3の最外部の液がダイへッドから離れる点 A、 Bは、濡れ性の良いリップ部 1 2 bと濡れ性の悪い先端側面 1 2 cとの境界線 1 4であるエッジ部に保持され、ほとんど変動しない。このため、塗工中、ビード 3が安定しており、基材 1上に形成される塗布層 4には、従来生じていたすじや段むらがほとんど発生せず、きわめて厚さむらの小さレ、（例えば、厚さの ± 3 %以下の）塗布層を形成できる。このため、このダイヘッド 1 2を、液晶用カラーフィルタの製造におけるレジスト塗布に用いることにより、液晶用カラーフィルタに要求される塗布精度 (例えば、厚さむらが厚さの ± 3 %以下)の塗工を行うことができ、従来行つていたスピン工程を省略できる。

なお、上記した実施の形態では、リップ部 1 2 bは母材のままの表面とし、ダイべッド 1 2の先端側面 1 2 cに塗布液に対する濡れ性の悪い (接触角の大きい)表面層 1 3を形成し、リップ部 1 2 bよりも接触角が大きくなるようにしている力本発明はこの構成に限らず、リップ部 1 2 bに、濡れ性の良い材料の表面層を形成し、先端側面 1 2 cは母材のままの表面とすると、リップ部 1 2 bには、濡れ性の良い材料の表面層を形成し、先端側面 1 2 cには濡れ性の悪い材料の表面層を形成する等の変更を加えても良い。

更に、リップ部 1 2 b及び先端側面 1 2 cの接触角を変更する方法は、メツキ、コ一ティング等の表面処理に限らず、適宜変更可能である。例えば、図 5に示すダイへッド 1 2 Aは、リップ部 1 2 bを形成する部分 1 6と先端側面 1 2 cを形成する部分 1 7とを別部材で形成し、その材料を変えている。また、図 6に示すダイヘッド 1 2 Bは、全体を同一材料で構成するが、リップ部 1 2 bの表面粗さを大きくして塗布液に対して濡れやすくし (接触角を小さくし)、先端側面 1 2 cの表面粗さを小さくして塗布液に対して濡れにくく（接触角を大きく）している。これらの構成によっても、先端側面 1 2 cの接触角を、リップ部の接触角よりも大きくできる。なお、リップ部 1 2 b及び先端側面 1 2 cの接触角を変更するには、リップ部 1 2 b及び先端側面 1 2 cの表面材質を異ならせることと、表面粗さを異ならせることを適: ¾aみ合わせる方法を採用してもよい。

また先端側面 1 2 cとリップ部 1 2 bの境界領域において、塗布液に対する接触角が大きい領域と小さい領域との間に接触角境界線 1 4 aが生じることがあるが、この接触角境界線 1 4 aは先端側面 1 2 cとリップ部 1 2 bとの境界線 1 4に近接することが好ましく、両者のずれは 5 μ πι以下となることが望ましい（図 4 ) 。次に本発明の比較例を図 7乃至図 9により説明する。

図 7に示すように、基材 1をチャック台 5に保持させ、その基材 1の表面に一般構造のリップ部と先端側面とを有する塗工用ダイへッド 2の先端を近接配置する。次に基材 1をダイへッド 2に対して相対的に移動させながらダイへッド 2から液状のレジストを吐出し、基材表面にレジストを塗布して塗布層 4を形成する。その後直ちに、基材 1を高速回転させて塗布層 4の厚さを均一にしている。ここで、基材 1にレジストを塗布した後、基材 1を高速回転させて膜厚を均一化させるのは、ダイヘッド 2による塗工では、下記するように、塗布層 4にすじ 4 aや段むら 4 bを生じ、塗布厚のむらを許容範囲内に抑えることができないためである。しかしながら、この方法では、ダイヘッドによる塗布工程と、その後のスピン工程の 2工程が必要となるため、やはりコスト高となる。

次に、ダイヘッド 2による塗布における塗布厚のむらの発生原因を説明する。ダイヘッド 2は、図 8に示すように、塗布すべきレジスト（塗布液という）を吐出するスリット 2 aと、その先端両側に該スリットにほぼ直角に形成されたリップ部 2 bと、その外側に位置し、リ Vプ部 2 bに対して傾斜した先端側面 2 cとを有しており、塗布時には、リップ部 2 bと基材 1との間に塗布液の溜まり（ビード） 3を形成し、そのビード 3の塗布液を基材 1の表面に塗布している。塗布中、このビード 3が安定し、一定の形状を保つておれば、すなわち、ビード 3の最外部の液がダイヘッド 2から離れる点 A、 Bが、ダイヘッド 2のリップ部 2 bと先端側面 2 cとの境界線 (ェッジ部)上に保持されておれば、塗布層 4の厚さむらはほとんど発生しない。

ところが、比較例によれば、ビード 3の最外部の液がダイヘッド 2から離れる点 A、 Bが、ダイヘッド 2のエツジ部に保持されず、矢印 Cで示すようにリップ部 2 bから先端側面 2 cに回り込み、先端側面 2 c上を移動すると、矢印 Dで示すように、リップ部 2 bで移動することが多く、ビード 3が不安定に変化することが多い。そして、点 A、 Bの移動がダイヘッド 2の幅方向に局部的に生じると、基材の移動方向に延びるすじ 4 a (図 7参照）を生じ、全幅に渡つて全体的に生じると、基材の横方向に延ぴる段むら 4 bを生じる。

そこで、ビード 3の最外部の液がダイへッド 2から離れる点 A、 Bを一定位置に保持してビード 3を安定させるため、図 9に示すように、リップ部 2 bの外側の端部に鋭角状のエッジ 2 dを形成したダイヘッド 2 Aも考えられている。しかしながら、この構成のダイヘッド 2 Aは、図 7に示すダイヘッド 2に比べては、ビード 3を或る程度安定させることができるが、ビード 3の最外部の液がダイへッド 2から離れる点 A、 Bの不安定な移動を十分には抑制できず、このため、すじや段むらは多少減る程度であって、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことはできない。

これに対して本願発明によれば、塗工中にビード 3を安定させて維持することができ、基材 1上に形成される塗布液 4にすじや段むらが生じることはない。具体的実施ィ列

次に本発明の具体的実施例について述べる。

( 1 ) 使用ダイへッド 12ダイへッド

ダイへッド 12の材質：ステンレス鋼

リップ部 12 b : 幅 500

表面母材 (ステンレス鋼）のまま

表面粗さ Rma x O. 4

下記の塗布液に対する接触角約 7度

先端側面 12 c : 表面無電解ニッケルメツキ

表面粗さ Rma x O. 4

下記の塗布液に対する接触角約 15度

リップ部 12 bと先端側面 12 cの境界の真直度： 5 μ mZm以下

(2) 使用塗布液

有機溶剤系カラーレジスト

粘度： 5 c P

表面張力： 25ダイン / c m

(3) 塗布条件

図 4に示すように、ダイへッド 12を下向きに配置し、その下方の基材 1を水平に、 8 OmmZ秒の速度で移動させて、塗布液を約 1 O zm程度の厚さに塗布した。

(4) 結果

塗布終了後、形成された塗布層を目視検査したところ、すじや段むらは見られなかった。その塗布層を乾燥させた後、厚さを測定したところ、厚さは 1. 5 μπιであり、塗布厚さのばらつきは、 ±2%以下であった。従って、得られた塗布層は、力ラーフィルタに要求される厚さむらの許容範囲内であり、従って、従来のようにスピンをかけることなく、カラーフィルタに用いことができることを確認でき, 'た。

以上のように、本発明の塗工用ダイへッドは、ダイへッドの先端側面の塗布液に対する接触角を、リップ部の塗布液に対する接触角よりも大きくしたことにより、塗布動作中、ビードの最外部の液がダイヘッドから離れる点を、先端側面とリップ部との境界線であるエッジ部に保持し、ビードを安定させることができる。このため塗布層に生じがちであったすじや段むらを防止でき、厚さむらをきわめて小さく抑制できるという効果を有している。そして、本発明のダイヘッドは高速高精度塗布が可能であるので、これを、液晶用カラーフィルタの製造におけるレジスト塗布に用いることにより、従来行っていたスピン工程を省略でき、コストダウンを図ることができるといつた効果が得られる。第 2の発明の実施の形態

以下、図面を参照して、本突明の実施の形態について、さらに詳しく説明する。図 10は、本発明の一実施の形態に係る塗工用ダイへッド 101を示す概略斜視図及ぴその一部の拡大断面図である。図 11はそのダイへッド 101の先端部を拡大して示す概略斜視図である。

この実施形態のダイへッド 101は、塗布すベき塗布液を吐出するスリット 111 と、その先端両側に前記スリツト 11 1にほぼ直角に形成されたリップ面（リップ部） 112と、その外側に位置し、リップ部 112に対して傾斜した先端側面 113 とを有している。このダイベッド 101は、全体がステンレス鋼によって形成されている。リップ部 112の幅 dは、通常 0. Imn！〜 1. Omm程度に設定されている。また、リップ部 112は、ダイへッド 101の母材をそのまま露出させた形態であり、表面の研磨方法として E L I D研肖加工にて、表面粗さ Rm a X 0. 05程度で仕上げている。ここで、表面粗さ Rma xは J I SB0601に準拠し、対象面全域における最大高さと定義する、なお、その測定方法としては、 J I SB 0601に準拠した餽針式測定方法とする。

ここで表面粗さ Rma X 0. 05とは、最大高さ 0. 05 μ mを表している。なお、】 I SB0601は、 I S0486—1982、 I S03276— 1975、 I SO 4287/1— 1984、 I S04287/2— 1984および I S04288— 1 985に対応している。

—方、先端側面 1 13は、その上に塗布液に対して濡れ性の悪い材料をメツキ或いはコーティングして表面層 114を形成している。従って、先端側面 1 13は、塗布液に対して濡れ性の悪い（接触角の大きい）表面となっている。ここで、表面届 11 4の形成には、フッ素樹脂を 1〜： L 0 %合有した無電解二ッケルメッキ処理を施している。

塗布液として、液晶用カラーフィルタの製造に用いる液状のレジストを用いる場合、リップ部 112の塗布液に対する接触角が 7〜10度程度であり、表面層 114の形成にフッ素樹脂を 1〜10%含有した無電解ニッケルメツキ処理を施すと、接触角が 55度程度となり、 40度以上の差を確保できる。フッ素樹脂の含有率が 10%以内であれば、母材そのものの硬度（ロックウエノレ硬さ HRC45〜55) と同程度であり、リップ部 1 12の表面の耐磨耗性を維持できる。なお、フッ素樹脂の含有率が 1 %より少ないと、リップ部 1 12の塗布液に対する接触角が小さくなる。また、フッ素樹脂の含有率が 10 %より多いと、リップ部 1 12の表面の耐磨耗性を維持できなくなる。なお、表面層 114を形成する領域は、少なくとも、塗布時に塗布液が回り込む恐れのある領域とすればよ、。

図 11に示すように、先端側面 1 13に形成する表面層 114は、リップ部 1 12 と表面層 1 14との境界線 1 15に一致する位置まで正確に形成されている。更に、リップ部 112と先端側面 1 13の表面層 114との境界線 1 15は直線状に形成されると共に、その境界線 1 15の真直度及ぴスリット 1 11に対する平行度は、いずれも 2 m/m以下となるように作られている。

ここで、表面層 1 14を、リップ部 112と表面層 1 14との境界線に一致する位置まで正確に形成し、且つ境界線 1 15の真直度及びスリツト 1 11に対する平行度を 2 mZm以下とするには、図 12 (a) に示すように、ダイヘッド 101の先端側面 1 13のみならず、リップ部 1 12にもメツキ、コーティング等によって表面層 1 14を形成し、その後、図 12 (b) に示すように、リップ部 1 12を研磨して、その部分の表面層 114を除去し、且つ境界線 15を所望の真直度となるようにすればよい。なお、境界線 115の真直度は、 J I S B 0601に準拠した蝕針式測定方法により測定する。このダイヘッド 1 0 1を用いて塗布を行うには、図 1 3に示すように、チャック台 (図示せず）に保持された基材（基板ともいう） 1 0 2の表面にダイヘッド 1 0 1の先端を近接配置し、基板 1 0 2をダイへッド 1 0 1に対して移動させながらダイへッド 1 0 1から塗布液を吐出し、リップ部 1 1 2と基板 1 0 2との間にビード 1 0 3を形成し、そのビード 1 0 3の塗布液を基板 1 0 2の表面に塗布する。

ここで、図 1 4 ( a ) はダイヘッド 1 0 1から塗布液が吐出している状態を示す概略斜視図である。また図 1 4 ( b ) に示すように、ダイヘッド 1 0 1のリップ部 1 1 2の表面を従来の遊離砥粒にて研磨した場合には、表面粗さが大きくなり、リツプ部 1 1 2の塗布液に対する接触角の局部的な変化が大きくなるので、塗布液が塗布幅方向に移動しにくくなり、ビード 1 0 3 aの形成時間が長くなる。このため、図 1 5

( a ) に示すように、ビード 1 0 3 aを形成するための塗布液量（初期ビード量）が多くなり、基板 1 0 2上に形成される塗布層は、塗工開始端部での膜厚が厚く、塗工開始端部での膜厚が均一化するまでの膜厚不良域が長くなる。

そこで、図 1 4 ( c ) に示すように、ダイヘッド 1 0 1のリップ部 1 1 2の表面を E L I D研削加工にて研磨することにより、表面粗さが小さくなる。従って、リップ部 1 1 2の塗布液に対する接触角の局部的な変化が小さくなるので、塗布液が塗布幅方向に移動し易くなり、ビード 1 0 3 bの形成時間を短くすることができる。このため、図 1 5 ( b ) に示すように、ビード 1 0 3 bを形成するための初期ビード量を極めて少なく抑制し、基板 1 0 2上に形成される塗布層 1 0 4には、塗工開始端部での膜厚が均一化するまでの膜厚不良域が極めて短い（例えば、 5 mm以内の）塗布層 1 0 4を形成できる。このため、液晶用カラーフィルタの製造におけるレジスト塗布に用いることにより液晶用カラーフィルタの製造時に要求される塗布精度（例えば、塗ェ開始端部での)!莫厚不良域が 5 mm以内）の塗工を行うことができる。

なお、 E L I D研削加工にて研磨することによる表面粗さは Rm a x 0 . 3以下であり、リップ部 1 1 2に鏡面性を持たせ、リップ部 1 1 2の塗布液に対する接触角の局部的な変化を小さくさせ、塗布液を塗布幅方向に移動し易くし、ビード 1 0 3の形成時間を短くする上では、表面粗さを Rm a x 0 . 1とするのが好ましく、更には表面粗さを Rm a x O . 0 5とするのがより好ましい。

また、ダイへッド 1 0 1の先端側面 1 1 3を、ビード 1 0 3が接 i¾虫しているリップ部 1 1 2よりも、塗布液に対する接触角が大きくなるように、従って塗布液に対する濡れ性が悪くなるようにしているので、塗布中、ビード 1 0 3の最外部の液がダイへッドから離れる点 A、 Bは、濡れ性の良いリップ部 1 1 2と濡れ性の悪い先端側面 1 1 3との境界線であるエツジ部に保持され、ほとんど変動しない。

このため、塗布中ビード 1 0 3が安定しており、基板 1 0 2上に形成される塗布層 4には、従来生じていたすじや段むらがほとんど発生せず、極めて厚さむらの小さい (例えば、厚さの ± 1 . 5 %以内の）塗布層 1 0 4を形成できる。このため、液晶用カラーフィ^/タの製造におけるレジスト塗布に用いることにより、液晶用力ラーフィルタの製造時に要求される塗布精度（例えば、厚さむらが厚さの ± 1 . 5 %以内）の塗工を行うことができる。

なお、上記した実施の形態では、ダイヘッド 1 0 1のリップ部 1 1 2は母材のままの表面とし、先端側面 1 1 3に塗布液に対する濡れ性の悪い（接触角の大きい）表面角 1 1 4をメツキ、コーティング等の表面処理により形成し、リップ部 1 1 2よりも接触角を大きくなるようにしているが、本努明はリップ部 1 1 2及び先端側面 ί 1 3 の接触角を変更する方法として、この構成に限らない。例えば、図 1 6に示すように、リップ部 1 1 2を形成する部分と先端側面 1 1 3を形成する部分とを別部材で形成し、その表面材質を異ならせてもよい。または、図 1 7に示すように、全体を同一材料で構成するが、リップ部 1 1 2の表面粗さを大きくして塗布液に対して濡れ易くし（接触角を小さくし）、先端側面 1 1 3の表面粗さを小さくして塗布渡に対して濡れにくく（接触角を大きく）して、表面粗さを異ならせることによつても、先端側面 1 1 3 の接触角を、リップ部 1 1 2の接触角よりも大きくできる。なお、リップ部 1 1 2及び先端側面 1 1 3の接触角を変更するには、リップ部 1 1 2及び先端側面 1 1 3の表面材質を異ならせることと、表面粗さを異ならせることを適宜組み合わせる方法を採用しても良い。

また先端側面部 1 1 3とリップ部 1 1 2の境界領域において、塗布液に対する接触角が大きい領域と小さい領域との間に接触角境界線 1 1 5 aが生じることがあるが、この接触角境界 f泉 1 1 5 aは先端側面 1 1 3とリップ部 1 1 2との境界線 1 1 5に近接することが好ましく、両者のずれは 2 μ ιη以下となることが好ましい（図 1 3 ) 。次に、本発明の比較例について図 1 8乃至図 2 0により説明する。

図 1 8に示すように、基板 1 0 2をチャック台 1 0 5に保持させ、その基板 1 0 2 の表面に一般構造のリップ部と先端側面とを有する塗工用ダイへッド 1の先端を近接配置する。次に基板 1 0 2をダイへッド 1 0 1に対して相対的に移動させながらダイヘッド 1 0 1から液状のレジストを吐出し、基板表面にレジストを塗布して塗布層 1 0 4を形成する。その後直ちに、基板 1 0 2を高速回転させて塗布層 1 0 4の厚さを均一にする。しかしながら、この方法では、ダイヘッドによる塗布工程と、その後のスピン工程の 2工程が必要となるため、やはりコスト高となる。また日本国特許第 3 2 0 1 1 9 5号公報のようなダイへッド 1 0 1による塗布工程のみで、塗布層 1 0 4 の厚さを均一にする方法も知られている。ここで、液晶用カラーフィルタの製造時の仕様において、塗布層 1 0 4の膜厚が均一化するまでの膜厚不良域を、塗布開始端部 1 0 4 aから塗布方向に 5 mm以内に抑えることが要求されてきている。ところが、ダイへッド 1 0 1による塗布では、膜厚不良域を塗布開始端部 1 0 4 aから塗布方向に 5 mm以内に抑えることが難しい。

次に、ダイへッド 1 0 1による塗布における塗布開始端部 1 0 4 aでの膜厚不良域の発生原因を説明する。ダイへッド 1 0 1は、図 1 9に示すように、塗布すべきレジスト (塗布液という) を吐出するスリット 1 1 1と、スリット 1 1 1の先端両側にスリット 1 1 1にほぼ直角に形成されたリップ部 1 1 2と、リップ部 1 1 2の外側に位置し、リップ部 1 1 2に対して傾斜した先端側面 1 1 3とを有している。塗布時には、リップ部 1 1 2と基板 1 0 2との間に塗布液の溜まり（ビード） 1 0 3を形成し、そのビード 1 0 3の塗布液を基板 1 0 2の表面に塗布している。塗布開始時に、このスリット 1 1 1から吐出される塗布液がリップ部 1 1 2の塗布幅方向に移動してビード 1 0 3を形成する。その形成時間が短ければ、塗布開始端部での膜厚が均一化するまでの膜厚不良域が短くなる。ところが、実際には、リップ部 1 1 2表面の最 mt上における研磨に関しては、研磨機の性能ないし手作業に委ねられており、表面粗さが大きく、表面の凹凸により、リップ部 1 1 2の塗布液に対する接触角が局部的に変化して、塗布液の移動を阻害する。そして、塗布液が塗布幅方向に移動しにくくなり、ビード 1 0 3の形成時間が長くなると、ビード 1 0 3を形成するための塗布液量（初期ビード量）を多く必要とするため、塗布開始端部にて膜厚が厚くなり、塗布開始端部での膜厚が均一化するまでの膜厚不良域が長くなってしまう。

また、ダイへッド 1 0 1による塗布では、下記するように、塗布層 1 0 4にすじ 1 4 1や段むら 1 4 2を生じ、塗布厚のむらを許容範囲内に抑えることができない。ここで、ダイヘッド 1による塗布における塗布厚のむらの発生原因を説明する。図 1 9 において、塗布中、ビード 1 0 3が安定し、一定の形状を保っておれば、すなわち、ビード 1 0 3の最外部の液がダイへッド 1 0 1から離れる点 A、 Bが、ダイへッド 1 0 1のリップ部 1 1 2と先端側面 1 1 3との境界,禄（エッジ部）上に保持されておれば、塗布層 1 0 4の厚さむらはほとんど発生しない。ところが、実際には、ビード 1 0 3の最外部の液がダイへッド 1 0 1から離れる点 A、 Bが、ダイへッド 1 0 1のェッジ部に保持されず、矢印 Cで示すようにリップ部 1 1 2から先端側面 1 1 3に回り込み、先端側面 1 1 3上を移動すると、矢印 Dで示すように、リップ部 1 1 2で移動することが多く、ビード 1 0 3が不安定に変化することが多い。そして、点 A、 B の移動がダイへッド 1 0 1の幅方向に局部的に生じると、基板の移動方向に延びるすじ 1 4 1 (図 1 8参照）を生じ、全幅に渡って全体的に生じると、基板の横方向に延びる段むら 1 4 2を生じていた。

そこで、ビード 1 0 3の最外部の液がダイヘッド 1◦ 1から離れる点 A、 Bを一定位置に保持してビード 1 0 3を安定させるため、図 2 0に示すように、リップ部 1 1 2の外側の端部に鋭角状のエッジ 1 1 8を形成したダイへッド 1 0 1 Aが知られている。しかしながら、この構成のダイへッド 1 0 1 Aは、図 1 9に示すダイへッド 1 0 1に比べて、ビード 1 0 3を或る程度安定させることができるが、ビード 1 0 3の最外部の液がダイへッド 1 0 1 Aから離れる点 A、 Bの不安定な移動を十分には抑制できず、このため、すじや段むらは多少減る程度であって、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことはできない。

これに対して本発明によれば、リップ部の表面粗さが小さくなり、リップ部の塗布液に対する接触角の局部的な変ィヒが小さくなることで、塗布液が塗布幅方向に移動し易くなり、ビードの形成時間を短くすることができる。したがって、液晶用カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗工開始端部での膜厚不良域を極めて短く抑制し、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことができる。

また本発明によれば、ビードの最外部の液がダイヘッドから離れる点を、先端側面とリップ部との境界線であるエッジ部に保持することができる。したがって、液晶用カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことができる。また本発明によれば、液晶用カラーフィルタ製造におけるレジスト塗布に用いることにより、塗工開始端部での膜厚不良域を極めて短く抑制すると共に、塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことができる。

Claims

請求の範囲

1 . 基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドにおいて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、

リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、

先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角がリップ面の塗布液に対する接触角より大きくなるよう構成されていることを特徴とする塗工用ダイへッド。

2 . 先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角が、リップ面の塗布液に対する接触角よりも 5 ° 以上大きくなるよう構成されていることを特徴とする請求項 1記載の塗工用ダイへッド。

3 . 先端側面の表面材質とリツプ面の表面材質は、互いに異なっていることを特徴とする請求項 1記載の塗工用ダイへッド。

4 . 先端側面の表面且さとリツプ面の表面粗さは、互いに異なっていることを特徴とする請求項 1記載の塗工用ダイへッド。

5 . 先端側面とリツプ面との間に境界線が設けられ、この境界線の真直度及びスリットに対する平行度は、いずれも 5； u mZm以下となっており、

先端側面及びリップ面の境界領域において塗布液に対する接触角の大きい領域と小さい領域との間に接触角境界線が設けられ、この接触角境界線と、先端側面とリップ部との境界線とのずれを、 5 / m以下としたことを特徴とする請求項 1記載の塗工用タイへッド。

6 . 基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであって、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角がリップ面の塗布液に対する接触角より大きくなるよう構成されていることを特徴とする塗工用ダイヘッドと、

塗工用ダイへッドが吐出する塗布液を基す才表面に塗布するよう、塗工用ダイへッドの先端を基材に近接させた状態で塗工用ダイヘッドと基材とを相対的に移動させる手段とを備えたことを/特徴とする塗工装置。

7 . 基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドにおいて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、

リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、リップ面の表面粗さを R m a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッド、。

8 . リツプ面の表面は鏡面研削加工が施されていることを特徴とする請求項 7記載の塗工用ダイへッド。

9 . リップ面の表面は鏡面研削加工として、電ィンプロセスドレッシング研削加工が施されていることを特徴とする請求項 8記載の塗工用ダイへッド。

1 0 . 先端側面とリップ面は、先端側面の塗布液に対する接触角が、リップ面の塗布液に対する接触角よりも大きくなるよう構成されていることを特徴とする請求項 7記載の塗工用ダイへッド。

1 1 . 先端側面はフッ素樹'脂を 1〜： L 0 %含有した無電解二ッケルメッキ処理が施されていることを特徴とする請求項 1 0記載の塗工用ダイへッド。

1 2 . 先端側面の表面粗さとリップ面の表面粗さは、互いに異なっていることを特徴とする請求項 1 0記載の塗工用ダイへッド。

1 3 . 先端側面とリップ面との間に境界線が設けられ、この境界線の真直度及びスリットに対する平行度は、いずれも 2 ,i mZm以下となっていることを特徴とする請求項 7記載の塗工用ダイへッド。

1 4 . 先端側面及びリップ面の境界領域において塗布液に対する接触角の大きい領域と小さい領域との間に接触角境界線が設けられ、この接触角境界線と、先端側面とリツプ部との境界線とのずれを、 2 μ m以下としたことを特徴とする請求項 1 0項記載の塗工用ダイへッド。

1 5 . 基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであつて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リップ面に対して傾斜する先端側面とを備え、リップ面の表面粗さを R ni a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドと、

塗工用ダイへッドが吐出する塗布液を基材表面に塗布するよう、塗工用ダイへッドの先端を基材に近接させた状態で塗工用ダイへッドと基材とを相対的に移動させる手段とを備えたことを特徴とする塗工装置。

1 6 . 基材に対して塗布液を吐出するスリットを有する塗工用ダイへッドであつて、基材側の先端に位置しスリットに対して直交して形成されたリップ面と、リップ面に対して ί頃斜する先端側面とを備え、リップ面の表面粗さを Rm a X 0 . 3以下としたことを特徴とする塗工用ダイへッドの製造方法において、

リップ面の表面に鏡面研削加工を施したことを特徴とする塗工用ダイへッドの製造方法。