WO2003081734A1 - Module et procede optique d'assemblage de module optique - Google Patents

Module et procede optique d'assemblage de module optique Download PDF

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WO2003081734A1
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Satoru Zama
Toshio Mugishima
Kengo Mitose
Yoshikazu Tsuzuki
Masato Sakata
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The Furukawa Electric Co., Ltd
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Definitions

  • the present invention relates to an optical module having an excellent coupling efficiency with an optical fiber and an assembling method of the optical module.
  • an optical module having a semiconductor laser element or the like (referred to as a semiconductor laser module) is used as a signal light source for optical fiber communication, in particular, a trunk line or CATV, or an excitation light source for an optical fiber bump.
  • a semiconductor laser module has a semiconductor laser device, a photo diode, and a photo diode mounted on a metal substrate mounted on a thermo module that can be controlled in temperature according to the magnitude and direction of the flowing current.
  • Optical components such as diode chips and lenses, thermistor elements, etc. are arranged and fixed at desired positions.
  • FIG. 8 is a diagram showing a conventional semiconductor laser module having a built-in thermo module. As shown in FIG.
  • thermo module 103 is mounted on a bottom plate 102 of the package via a solder joint 110, and a thermo module is further mounted.
  • a metal substrate (base substrate) 105 is mounted on 103.
  • a carrier substrate 106, a semiconductor laser element 107, a condenser lens 108, and the like are mounted on the base substrate.
  • Solder joints 110 and 111 are located between the thermo-module board 104 and the package bottom plate 102 and between the thermo-module board 104 a and the metal board 105. Is formed.
  • thermo-module board 104a and the bottom plate 102 of the package is joined using a solder made of 63% by weight Sn—37% by weight—13 alloy, and the solder joint 1 1 0 is formed.
  • solder joint 1 1 0 is formed between the thermo-module board 104a and the bottom plate 102 of the package.
  • the semiconductor laser module 101 having a configuration without the thermo module 103 inside as shown in FIG. 1C.
  • the conventional optical module has the following problems. That is, thermo When soldering the module 103 and the bottom plate 102 of the package, a load is applied while melting the solder.However, since the method of applying the load is not constant, for example, as shown in FIG. The solder thickness of the joint 110 was not uniform.
  • the solder bonding layer 110 is deformed due to a temperature change in an environment in which the optical module is used or a temperature change applied at the time of manufacturing the optical module.
  • the optical component (for example) 108 which is fixed in an optically coupled state with the optical fiber 109 via the optical fiber, is displaced.
  • the optical axis shifts as shown by the dashed line, and the coupling efficiency of the optical fiber is reduced.
  • the portions where the solder thickness is small for example, the portion indicated by 112
  • the members to be joined in FIG.
  • An object of the present invention is to provide a module assembling method. The inventor has made intensive studies to solve the above-mentioned conventional problems.
  • thermo-module and the package are joined using a predetermined Sn-Ag solder or Sn-Zn-based solder
  • the Au plating layer formed on the package surface and the bottom of the thermo module Au in Sn-Ag solder from Au layer on the surface of It was found that a substantially uniform phase was formed and that deformation cracks in the solder portion could be effectively suppressed, and that optical axis shift was unlikely to occur. That is, a lead-free Sn-Ag alloy is selected as the solder material to be used for joining between the thermo module and the package, and the amount of the alloy component metal is specified within a predetermined range.
  • the solder will be solid at a substantially uniform height and at a desired temperature. Position becomes almost constant, and the positioning of the optical component mounting member (metal substrate) becomes easy. Furthermore, since the member displacement due to the thermal expansion of the solder at a high temperature, for example, at 70 ° C., is almost constant, the amount of optical axis displacement can be significantly reduced as compared with the conventional case, and the decrease in optical output can be reduced. It has been found that it can be suppressed.
  • the present invention has been made based on the above research results, and a first aspect of the optical module according to the present invention is directed to an optical module having at least one optical component and a package containing the at least one optical component.
  • a module wherein the package further contains Au in a range of 2.0 wt% to 20.0 wt%, and Sn further contains Ag in a range of 2.0 wt% to 5.0 wt%.
  • An optical module characterized by having a junction formed of a system solder or a Sn—Zn system solder containing 6.0% by weight or more and 10.0% by weight or less of Zn.
  • a second aspect of the optical module according to the present invention accommodates at least one optical component, a thermo module that controls the temperature of the at least one optical component, and the at least one optical component and the thermo module.
  • An optical module comprising: According to a third aspect of the optical module of the present invention, at least one optical component, a thermo module for controlling the temperature of the at least one optical component, and the at least one optical component and the thermo module are housed.
  • a fourth aspect of the optical module of the present invention is the optical module, wherein the Sn—Ag-based solder contains Cu of 3% by weight or less.
  • a fifth aspect of the optical module of the invention the Sn_Ag system solder, 1.0 by weight 0/0 above 10.0 wt% or less of B i is characterized in that it further includes an optical Mogi Yunore It is.
  • a seventh aspect of the optical module according to the present invention is the optical module, wherein the at least one optical component includes a semiconductor laser element.
  • An eighth aspect of the optical module according to the present invention is an optical module characterized in that the thickness of the junction is not less than 5 ⁇ and not more than 100 / m.
  • the thickness of the bonding portion is parallel to a direction (A1-A2) of emitting light of the package, and a front end portion of the thickness of the solder ( al) and the rear end (a 2) have a difference of 90 ⁇ or less, and ⁇ , or in the direction (B l- ⁇ 2) orthogonal to the direction in which the package emits light (A1-—2),
  • the difference between one end (bl) and the other end (b2) of the solder thickness is 90 m is an optical module characterized by being equal to or less than m.
  • the bonding portion includes an Au diffusion portion in which Au is dispersed in the solder, and the Au diffusion portion is a bonding surface of the package with the thermo module.
  • An eleventh aspect of the optical module according to the present invention is characterized in that the Sn-Ag-based or Sn-Zn-based solder protrudes from the junction between the thermomodule and the package. Optical module.
  • a carrier substrate on which a semiconductor laser is mounted a base substrate on which the carrier substrate is mounted via a solder joint (A), and a solder joint (B) on which the base substrate is mounted.
  • a thermo-module comprising a Peltier element and an insulating substrate joined by a solder joint (C) and fixed thereon to control the temperature of the semiconductor laser; and connecting the thermo module through a solder joint (D).
  • the melting point of the solder of the solder joints (A), (B), (C), and (D) is Tl, ⁇ 2, ⁇ 3, and ⁇ 4, ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ 1 ⁇ 2, and ⁇ 3 ⁇ 4 ⁇ 2, wherein the melting point of the solder is ⁇ 3 240 ° C and 280 ° C ⁇ T4 ⁇ 190 ° C.
  • a thirteenth aspect of the optical module of the present invention, the solder forming the solder joint section (C) are optical module 80 weight 0 / oAu- 20 weight 0 / oS n.
  • a fourteenth aspect of the optical module of the present invention is the optical module, wherein the solder forming the solder joint (C) is a Bi—Sb alloy.
  • a first aspect of the method for assembling an optical module according to the present invention includes at least one optical component Temperature control, a thermo module provided with an Au layer on one side, and the at least one optical component containing the thermo module, and a thickness of 1 ⁇ m or more and 5 ⁇ or less on one side.
  • a method for assembling an optical module comprising: a solder joining step of joining Au from the Au layer.
  • a second aspect of the method for assembling an optical module according to the present invention includes a step of preparing a solder for joining the substrate of the thermo module and the bottom surface of the package with a Sn—Ag alloy or a Sn—Zn alloy.
  • An optical module assembling method comprising: a solder joining step of joining a bottom surface of the base substrate and an upper surface of the thermomodule.
  • the solder bonding step includes bonding using an Sn—Ag-based solder foil.
  • An optical module assembling method wherein the thickness of the optical module is larger than the surface of the thermo module provided with the Au plating layer and has a thickness in a range of 5 im to 100 ⁇ .
  • the bonding of the surface of the Sn—Ag-based solder foil is performed before bonding using the Sn—Ag-based solder foil.
  • the method for erecting an optical module further comprising a pretreatment step of removing the dani coat.
  • the Sn—Ag solder or the Sn— This is a method of assembling an optical module by pre-coating Zn-based solder.
  • the time in which the Sn—Ag solder or the Sn—Zn solder is melted is 5 seconds or more.
  • An optical module assembling method including a heating step of heating to 20 seconds or less.
  • the surface provided with the Au layer of the package and the surface provided with the Au layer of the thermo module are formed by: . and carrying out while pressing each other in ⁇ X 1 0 4 P a less load, an assembly method of the optical module.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an optical module according to the present invention.
  • FIG. 1A is a schematic plan view
  • FIG. 1B is a schematic sectional side view
  • FIG. 1C is a schematic sectional side view of an optical module without a built-in thermo module.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining the thickness of a joint in a specific direction.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a joint having an Au diffusion portion in which Au is uniformly dispersed in solder.
  • FIG. 3A is a diagram showing the case of Sn—Ag solder.
  • FIG. 3B is a diagram showing a case of Sn—Zn solder.
  • FIG. 3C is a diagram showing a case of a conventional Sn—Pb solder.
  • Fig. 4 is a diagram showing the relationship between the thermo-module board, solder, and the bottom of the package.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining a method of joining a thermo module to a package bottom plate by using a solder foil.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining a method of joining a base substrate to a thermo module.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining a method for joining another thermo module of the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a conventional optical module in which the thickness of solder is not uniform.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an optical module according to the present invention.
  • FIG. 1A is a schematic plan view
  • FIG. 1B is a schematic sectional side view
  • FIG. 1C is a schematic sectional side view of an optical module without a built-in thermo module.
  • a thermo module 3 is mounted on a bottom plate 2 of a package via a solder joint 10, and further, a metal substrate ( Base board) 5 is mounted.
  • the carrier substrate 6 and the condenser lens 8 are mounted on the base substrate. Further, on the carrier substrate 6, a laser diode element 7, a thermistor, and the like are mounted.
  • the thermo module 3 is composed of an insulating substrate 4 and a Peltier element 13.
  • the solder joints 1 between the thermo module substrate 4 and the package bottom plate 2 and between the thermo module substrate 4 and the metal substrate 5 0 and 1 1 are formed.
  • One embodiment of the optical module of the present invention is an optical module having at least one optical component and a package accommodating at least one optical component, wherein Ag is set to 2.0 at a part of the package. .% by weight or more 5 0 wt% or less, S n and the balance S n -..
  • optical module having a joint formed by Zn-based solder.
  • Another embodiment of the optical module according to the present invention includes at least one optical component, a thermo module that controls the temperature of at least one optical component, and at least one optical component.
  • Ag is preferably used in an amount of 2.0% by weight or more and 5.0% by weight or less, more preferably 3.0% by weight or more and 3.5% by weight or less for joining optical components.
  • Sn-Ag solder containing Zn or 6.0 wt% or more and 10.0 wt% or less, preferably 8.5 wt% Zn Since plastic deformation is unlikely to occur with respect to the strain applied to the joint, deformation of the solder joint layer due to a temperature change in the environment in which the optical module is used and a temperature change applied during the manufacturing of the optical module can be suppressed. It has been found that Sn-Ag solder and Sn-Zn solder have higher tensile strength than conventional Sn-Pb solder. In other words, plastic deformation is less likely to occur due to strain caused by changes in environmental temperature. In the optical module of the present invention, the Sn-Ag-based solder described above may contain 3% by weight or less of Cu.
  • Cu has a function of lowering the melting point of solder.
  • the Sn-Ag-based solder described above may further contain 10.0% by weight or less of Bi.
  • the Sn-Zn-based solder described above may contain 5.0% by weight or less of Bi.
  • Bi has a function of improving the wettability of the solder.
  • Cu has a function of lowering the melting point of the solder, and Bi has a function of improving the wettability of the solder.
  • the at least one optical component described above is an optical module including a semiconductor laser element. That is, it is necessary to align the semiconductor laser element and the optical axis of the optical fiber, and the deviation of the optical axis greatly affects the performance of the optical module. Therefore, for example, if the thickness of the solder is partially biased with respect to the temperature change, the optical axis shift will increase and the optical output will decrease.
  • the present invention can be applied to a configuration in which the semiconductor laser module 1 does not include a thermo module as shown in FIG. 1C.
  • the carrier substrate and the base substrate on which the condenser lens is mounted are directly fixed to the package bottom plate by soldering. That is, the solder joint 10 is formed between the base substrate and the package bottom plate.
  • the thickness of the above-mentioned joint that is, the solder is 5 jum or more and 100 tm or less.
  • the thickness of the solder part is thin and less than 5 ⁇ m, deformation distortion such as warpage or bending of the package bottom plate is concentrated, and there is a possibility that cracks may occur in the solder part.
  • the thickness of the solder portion exceeds 100 / zm and is too thick, the solder is easily plastically deformed with a small distortion.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining the thickness of a joint in a specific direction. As shown in FIG. 2, the direction in which light is emitted from the package is defined as (Al- ⁇ 2), and the direction orthogonal to (Al- ⁇ 2) is defined as (B1-B2).
  • the solder thickness just below the four ends of the thermo module board is indicated by the front end (a1) and the rear end (a2)
  • the (Bl-B2) direction for example, the solder thickness just below the four ends of the thermoelectric circuit board is indicated by one end (bl) and the other end (b2).
  • the solder thickness The measuring point of the height may be a fixed position from any place on the package.
  • the thickness of the above-mentioned joint is parallel to the direction (A1-A2) of emitting light of the package, and the front end (al) of the thickness of the solder is In the case where the difference between the rear end (a 2) is 90 m or less and Z or the direction (B 1 -B 2) perpendicular to the light emitting direction (A 1 -A 2) of the package, the thickness of the solder is The difference between one end (b 1) and the other end (b 2) is 90 jum or less.
  • the thickness of the solder including the B1—B2 direction of a1 and a2, and the A1—A2 direction of 131 and 1 ⁇ 2, their maximum and minimum values, or any number of points
  • the average value of For the thickness of the solder, the maximum value, minimum value, or average value measured between the bottom surface of the thermo module substrate and the bottom surface of the package may be used (see Fig. 2B). That is, when the thickness of the joint is parallel to the direction of light emission of the package (A1-A2), the difference between the front end (al) and the rear end (a2) of the solder thickness is 90 im.
  • the position of the thermo module can be kept almost constant even when the temperature becomes high. Therefore, the positioning of the optical component mounting member becomes easy, and even when the temperature becomes high, the displacement of the member due to the thermal expansion of the solder becomes constant. As a result, the amount of optical axis shift can be reduced, and a decrease in optical output can be reduced. Further, in the optical module of the present invention, the above-mentioned joint portion contains not less than 2.0% by weight and not more than 10.0% by weight of Au.
  • the Sn—Ag based solder or the Sn—Zn based solder further contains Au in an amount of 2.0% by weight or more and 20.0% by weight or less.
  • the compound of Au and Sn Sn 4 Au, etc.
  • Au is uniformly dispersed, the ductility of the solder is reduced, and creep deformation due to thermal stress can be prevented.
  • Au is less than 2.0% by weight, there is a problem that a sufficient effect of reducing ductility cannot be obtained.
  • Au exceeds 20.0% by weight the melting point of the solder excessively rises, and the solder is fixed from the portion where the melting point has risen.
  • the above-mentioned bonding portion has an Au diffusion portion in which Au is dispersed in the solder, and the Au diffusion portion has a bonding surface with the thermomodule of the package, and a thermoelectric module. It is formed by diffusion from an Au plating layer with a thickness of 1 Aim or more and 5 ⁇ or less formed on at least one of the bonding surfaces of the module and the package.
  • FIG. 3 is a view for explaining a joint having an Au diffusion portion in which Au is dispersed in solder.
  • FIG. 3A is a diagram showing the case of Sn—Ag solder.
  • FIG. 3B is a diagram showing a case of Sn—Zn based solder.
  • FIG. 3C is a diagram showing the case of a conventional Sn—Pb-based solder.
  • the bonding portion of the present invention formed between the substrate of the thermo module and the bottom surface of the package includes an Au plating layer formed on the bottom surface of the thermo module substrate and the package.
  • the Au—Sn compound (such as Sn 4 Au) is uniformly dispersed in the Sn—Ag alloy phase.
  • a structure such as Sn 4 Au having a diameter of about 5 to 10 / zm is uniformly dispersed, and a uniform phase is formed in the entire joint.
  • the Au_Sn compound is contained in the Sn—Zn alloy phase by diffusion from the Au plating layer formed on the substrate of the thermo module and the bottom surface of the package. Evenly dispersed.
  • Au is uniformly dispersed, acts as reinforcement, and is less likely to be tallied, so that the optical axis of the module is less likely to be misaligned. Also, at least one of the bottom of the thermo module substrate and the package bottom, or the bottom of the base substrate on which the LD chip lens is mounted and the top of the thermo module.
  • the Au plating layer may be as thin as 0.01 ⁇ m or more and 1 im or less, or at least the Au plating layer on the bottom surface of the base substrate may be eliminated to reduce the amount of Au diffusion into the solder alloy.
  • the solder that joins the thermo-module board and the bottom of the package is Sn-Ag alloy or Sn-Zn alloy, and joins the bottom of the base board on which the LD chip and lens are mounted to the top of the thermo-module.
  • the solder is Sn-Bi alloy
  • at least one Au layer on the bottom surface of the base substrate and the upper surface of the thermo module is as thin as 0.01 ⁇ or more and 1 ⁇ or less, or at least A u on the bottom surface of the base substrate.
  • the method for assembling an optical module according to the present invention includes a thermo module for controlling the temperature of at least one optical component, a thermo module having an Au layer on one surface, and containing the at least one optical component and the thermo module.
  • thermo-module board in the range of 0 wt% or more 5.0 wt% or less 3 1 1 8 based solder, or, and a solder bonding step of bonding by S n-Zn-based solder containing Zn in the range of 6.0 wt% or more 10.0% by weight
  • assembly of the optical module Is the way.
  • Fig. 4 is a diagram showing the relationship between the thermo-module board, solder, and the bottom of the package. As shown in Fig. 4, for example, the package is 20% by weight.
  • At least an Ni layer is formed on the surface of 11-80 wt% W, and a 1.5-2.0 ⁇ m Au layer is further formed on the Ni layer.
  • Substrate of the thermo module alumina ( ⁇ 1 2 ⁇ 3) Ya least N i layer on an aluminum nitride (A 1 N) is formed, Au layer of 0. 3 tm on the N i layer is formed I have.
  • the substrate and package of the above-mentioned thermo module are arranged so that each Au layer faces each other, and a solder foil having a thickness of 50 to 80 ⁇ is arranged between them.
  • the thickness of the bonding surface of at least one of the bonding surface with the thermo module of the package, which is the member to be bonded, and at least one of the bonding surfaces with the package of the thermo module is determined in advance.
  • An Au layer with a thickness of 5 ⁇ or less is formed so that during heating during solder bonding, Au diffuses from these Au plating layers into Sn-Ag solder or Sn-Zn solder.
  • the soldering step described above includes joining using an Sn—Ag solder foil. It is larger than the surface provided with the u-plate layer and has a thickness in the range of 5111 to 100 ⁇ .
  • the solder bonding step described above includes a step of treating a surface of the Sn—Ag solder foil before bonding using the Sn—Ag solder foil. Is further included. For example, by etching the surface of the Sn—Ag-based solder foil with an acid, the oxide film on the solder surface can be removed, and the wettability of the solder can be improved.
  • the etching is not limited to the acid. Further, the oxide film may be removed by dry etching or mechanically, for example, by polishing.
  • the surface of the thermo module provided with the Au layer is preliminarily coated with Sn—Ag solder or Sn—Zn solder. Done by
  • the soldering step described above is performed so that the time during which the Sn—Ag solder or the Sn—Zn solder is melted is 5 seconds or more and 120 seconds or less.
  • a heating step of heating is included. If the melting time of the solder is less than 5 seconds, the Au plating will not melt enough. Also, if the melting time of the solder exceeds 200 seconds, the molten solder cannot be prevented from spreading to the bottom of the package.
  • the heating step described above includes the steps of: a surface of the package having the Au plating layer and a surface of the thermo module having the Au plating layer of 3.0 ⁇ 10 4 Pa Press against each other with the following load.
  • the solder foil supplied in the solder bonding process is heated while pressing with a load of 3.0 ⁇ 10 4 Pa or less to melt the solder, and solder bonding is performed.
  • the thickness of the Sn-Ag solder or Sn-Zn solder at the solder joint was changed to the supplied solder foil or pre-coated. Since the thickness can be substantially the same as that of the solder, the controllability of the thickness and its uniformity can be improved.
  • the optical module according to the present invention includes a carrier substrate on which a semiconductor laser element is mounted, a base substrate on which the carrier substrate is mounted via a solder joint (A), and a base substrate on which the base substrate is mounted via a solder joint (B).
  • thermo-module comprising a Peltier element and an insulating substrate joined by a solder joint (c), which is fixed on the semiconductor laser element to control the temperature of the semiconductor laser element; and the thermo-module is connected via a solder joint (D) If the melting point of the solder at the solder joints (A), (B), (C), and (D) is Tl, ⁇ 2, ⁇ 3, and ⁇ 4, ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ 1 ⁇ 2 And ⁇ 3 ⁇ 4 ⁇ 2, wherein the melting point of the solder is ⁇ 3 ⁇ 240 ° C and 2 80 ° C ⁇ T4 ⁇ 190.
  • the solder forming the solder joint (C) may be 80% by weight Au—20% by weight Sn.
  • the solder forming the solder joint (C) may be Bi—Sb. According to the above-described embodiment, by increasing the melting point of the solder inside the thermo module, it is possible to increase the melting point of the solder used for joining the thermo module and the package. Axis misalignment is reduced, and durability at high temperatures is significantly improved, and reliability can be improved.
  • thermo-module with a package with a gold plating of 1.5 ⁇ ⁇ ⁇ on the bottom surface and a board with a size of 8 mm x 8 mm and a thickness of 2 mm was prepared.
  • the surface of the thermo-module substrate is plated with gold with a thickness of 0.2 ⁇ .
  • the composition was Sn-3.0% by weight Ag-0.5% by weight.
  • Package 2 prepared by using approximately plate-shaped solder pellets 10 (also referred to as solder foil) of 12 mm X 8 mm X 0.05 mm consisting of 11, with the gold-plated surfaces facing each other 2
  • the thermo module 3 were joined as follows. That is, immediately before soldering, the solder pellet was immersed in 3% hydrochloric acid for 10 minutes to remove the oxide film on the solder surface, and then thoroughly washed with water. After that, the package was placed on the stage, the solder foil was mounted in the center of the bottom plate of the package, and the thermo module was placed on the solder foil.
  • thermo module a positioning jig (jig) weighing 5 g was placed at the top of the thermo module to prevent the thermo module from moving significantly due to the molten solder when the solder foil melted.
  • the load applied to the solder by positioning jig of this 5 was 7. 7 X 10 2 P a. That is, since the jig load is less than a predetermined value, even when the solder is melted, Solder surface Even if a jig is used due to tension, the initial solder thickness is maintained.
  • the atmosphere was replaced with nitrogen. For example, the package on the stage was heated after the oxygen concentration became 100 ppm or less.
  • the peak temperature of the stage was set at 225 ° C, and the stage temperature was controlled so that the solder melting time of 3! 1 011 solder melting point 217 ° C or more was 20 seconds. Since the melting time of the solder is as short as 20 seconds and the thickness of the gold plating of the package is as large as 1.5 ⁇ , the amount of the solder protruding from the bottom of the package due to the melting of the solder could be extremely small. Therefore, the thickness of the solder at the joint was almost the same as that of the original solder pellet, and was 40 to 50 ⁇ . (If the time is long, the amount of solder protruding outside increases, the solder thickness becomes uneven, and voids are easily generated.)
  • the atmosphere may be an inert gas such as nitrogen or a mixed gas, and may contain oxygen as little as possible.
  • the content of gold dissolved in the solder was about 8.0%, and the ductility of the solder itself was reduced, making it difficult for tallip deformation due to thermal strain to occur.
  • the base substrate 5 on which the photodiode 14, the LD chip 7, the lens 8, and the polarizer 15 were mounted was soldered on the thermo module 3.
  • S ⁇ -Bi solder Place the Sn-Bi solder pellet 11 on the upper surface of the thermo-module 3, align the base substrate 5, and heat the package 2 to 17 5 The solder was melted and joined.
  • an optical fiber was attached to the package, and the laser was focused on the optical fiber to complete the optical module.
  • a temperature cycle test (repeating from 140 to 85 ° C) and a high-temperature storage test (85 ° C) were performed on an example of the optical module of the present invention thus assembled.
  • the temperature cycle test (repeated from -40 ° C to 85 ° C)
  • the deterioration of the light output after 1000 cycles in the case of conventional Sn-Pb solder was 8% on average, but the light output after 1000 cycles
  • the output degradation was 4% on average, indicating that the optical axis shift was significantly reduced with temperature change.
  • thermo module used was an internal Peltier element and upper and lower insulating thermo module substrates joined by a 80 n% 11-20 n% 3 n solder.
  • Sn—57 weight. / oB i—1.0% by weight Ag solder was coated in advance so as to have a thickness of 100 ⁇ at the center.
  • the lower surface (heating surface) of the thermo module was coated with Sn-7.5 weight% 211-3.0 weight% i solder to a thickness of 100 im at the center. The coating was performed by melting a predetermined amount of solder with a soldering iron while heating the thermo- module on a hot plate, and coating the substrate from high temperature Sn-Zn-Bi solder.
  • the coating may use a solder paste.
  • the thermo module was placed in the center of the bottom plate of the package and aligned with a 20 g jig. Thereafter, the package was placed in a reflow furnace in a nitrogen atmosphere, and the solder was heated and joined. The temperature of the furnace was set so that the ultimate temperature of the package was 210 ° C, and the transfer speed in the furnace was 100 cm / min. Therefore, the time at which the Sn—Zn—Bi solder melts at 190 ° C. or higher was set to 30 seconds. Next, a base substrate including a semiconductor laser element and a lens was bonded on the thermo module.
  • the base substrate was moved to determine the proper position in the package. After replacing the package in a nitrogen atmosphere while holding the base substrate at that position, the stage was heated. The package was heated to 170 ° C, and only the SnBi-Ag solder on the top of the thermo module was melted and joined to the base substrate. A load was applied to the base substrate with a pressing force of 20 g to melt the solder for about 30 seconds. After that, the optical fiber was fixed to the package with the optical axis aligned, and the optical module was completed. A temperature cycle test (repeating from ⁇ 40 ° C.
  • 28 joints between the carrier substrate and the base substrate are made up of 80% by weight of Au—20% by weight of 3n. It was formed by soldering at a temperature of C.
  • the joint between the Peltier element and the upper and lower thermojudically insulating substrates was formed by soldering at a temperature of 280 ° C with 80 wt% Au-20 wt% Sn.
  • the joint between the thermo module and the package was formed by soldering with Sn-3.0 wt% Ag-0.5 wt% Cu at a temperature of 217 ° C.
  • the joint between the thermomodule and the base substrate was formed by soldering at a temperature of 138 ° C. with Sn—57% by weight Bi_1.0% by weight Ag.
  • Example 4 The joint portion between the carrier substrate and the base substrate was formed by soldering at a temperature of 280 by using 11% to 20% by weight of 311 at 80% by weight.
  • the joint between the Peltier device and the upper and lower thermo-module insulating substrates was formed by soldering at a temperature of 271 ° C using Bi-Sb.
  • the joint between the thermo module and the package is Sn-2.0 weight 0 / oAg-0.5 weight. / oCu—formed by soldering at a temperature of 213 ° C with a weight of 0 / oBi.
  • the junction between the thermo module and the base substrate was formed by soldering at a temperature of 157 ° C. with In.
  • Example 5 The joint portion between the carrier substrate and the base substrate was formed by soldering at a temperature of 280 by using 11% to 20% by weight of 311 at 80% by weight.
  • the joint between the Peltier device and the upper and lower thermo-module insulating substrates was formed
  • the junction between the carrier substrate and the base substrate was formed by soldering at a temperature of 280 ° C. using 80% by weight 11-20% by weight 3n.
  • the joint between the Peltier element and the upper and lower thermomodule insulating substrates was formed by soldering at 230 ° C. with Sn—5% by weight Sb.
  • thermo-module and the base substrate formed by solder bonding at a temperature of about 138 ° C by S n-57 wt% B i- 1. 0 wt 0/0 A g.
  • the optical axis deviation with respect to a temperature change is remarkably reduced, and the durability at high temperatures is also significantly improved, as compared with the conventional optical module.
  • the trust 'I students were growing.
  • the solder at the joint from a conventional Sn-Pb-based alloy to Sn-Ag or Sn-Zn alloy, the deformation of the joint can be reduced, and the optical axis can be reduced. Deviation can be made less likely.
  • solder when the solder is melted, gold (Au) diffuses from the gold plating layer applied to the bottom surface of the package and the bottom surface of the thermo module substrate to the solder joint to form a uniform structure, so that the solder is less likely to creep. Furthermore, by setting the solder thickness in the range of 5 to 100 im, it was possible to suppress the generation of cracks due to thermal strain and to minimize the creep deformation. Control of the solder thickness, using a solder pellet, small load (3. 0X l 0 4 Pa or less) can be effectively controlled by adding.
  • the size of the solder pellet By making the thermo module sufficiently larger than the substrate of the thermo module, when the thermo module is mounted on the package bottom plate, misalignment can be ignored and the thickness of the completed solder joint can be supplied. Since the thickness can be made substantially the same as the thickness of the solder pellet, the controllability of the solder joint thickness is improved, which is effective. Furthermore, since lead-free solder is used, it is environmentally preferable. Example 6
  • thermo module 3 of this embodiment is provided with a solder or solder ball of Sn-7.5 wt% Zn-3.0 wt% Bi on one surface of the thermo module in advance.
  • solder or solder ball of Sn-58.0 wt% Bi is formed on the other side.
  • the volume of the solder to be formed and the solder balls were adjusted so that the average solder coating thickness was in the range of 5 to 100, depending on the size, the fixing interval and the number of each.
  • the pressing load is reduced to 10 g in order to control the solder thickness to the specified value
  • the solder that has partially protruded from the end of the thermo module is drawn to the solder joint by surface tension.
  • the thickness of the solder can be increased. It is desirable to perform the soldering process by heating and cooling in a short time in order to suppress the precipitation of Bi in the Sn-Zn-Bi solder and the Sn-Bi solder.
  • half of Sn—7.5% by weight 211—3.0% by weight 81 Heating and cooling were performed so that the melting time of the paddy was about 140 and 90 seconds.
  • the base board is pressed with a load of 100 g, heated to the melting temperature of Sn-Bi solder or higher, and the base board is heated. They were rubbed and joined. At the time of joining, work was performed in an oxygen atmosphere controlled to an oxygen concentration of 100 ppm or less to prevent reoxidation of the solder.
  • the deviation of the optical axis with respect to the temperature change is remarkably reduced, and the durability at a high temperature is significantly improved, and the reliability is increased.
  • the reliability is increased.
  • the use of lead-free solder suppresses the occurrence of deformation and cracks in the solder part, prevents optical axis misalignment, and provides excellent coupling efficiency with optical fibers.
  • An optical module assembling method can be provided.

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Description

光モジュールおよび光モジュールの組立方法
技術分野
本発明は、 光ファイバとの結合効率に優れた光モジュールぉよび光モジュール の組立方法に関する。 背景技術
通常、 半導体レーザ素子等を有する光モジュール (半導体レーザモジュールと いう) は、 光ファイバ通信、 特に幹線系 · C A T Vの信号光源や光ファイバンプ の励起光源として用いられている。 このような半導体レーザモジュールは、 高出 力および安定動作を実現するために、 通電電流の大きさと向きによって温度コン ト口ールできるサーモモジュール上に搭載された金属基板上に半導体レーザ素子、 フォトダイオードチップ、 レンズ等の光学部品、 サーミスタ素子等を所望の位置 に配置固定している。 第 8図は、 サーモモジュールを内蔵した従来の半導体レーザモジュールを示す 図である。 第 8図に示す様に、 半導体レーザモジュール 1 0 1において、 パッケ 一ジの底板 1 0 2の上に半田接合部 1 1 0を介してサーモモジュール 1 0 3が搭 載され、 更に、 サーモモジュール 1 0 3の上に金属基板 (ベース基板) 1 0 5力 搭載されている。 ベース基板には、 キャリア基板 1 0 6、 半導体レーザ素子 1 0 7、 集光レンズ 1 0 8等が搭載されている。 サーモモジュールの基板 1 0 4とパ ッケージの底板 1 0 2との間、 サーモモジュールの基板 1 0 4 aと金属基板 1 0 5との間には、 半田接合部 1 1 0、 1 1 1が形成されている。 従来、 サーモモジ ユールの基板 1 0 4 aとパッケージの底板 1 0 2との間は、 6 3重量% S n— 3 7重量%? 13合金からなる半田を用いて接合され、 半田接合部 1 1 0が形成され ている。 なお、 第 1 C図のような、 内部にサーモモジュール 1 0 3を有していな い構成の半導体レーザモジュール 1 0 1もある。 しかし、 従来の光モジュールには、 次のような問題点があった。 即ち、 サーモ モジュール 103とパッケージの底板 102とを半田接合する際に、 半田を溶融 しながら荷重をかけるが、 この荷重のかけ方が一定でなないために、 第 8図に示 すように、 例えば、 半田接合部 110の半田厚さが不均一になっていた。 このよ うに半田厚さが不均一になると、 光モジュールが使用される環境の温度変化や、 光モジュールの製造時に加えられる温度変化によって、 半田接合層 110が変形 し、 この結果、 半田接合層 110を介して光ファイバ 109と光結合状態で固定 されている光部品 (例えば) 108が位置ずれを起こす結果、 1点鎖線で示すよ うに光軸ズレを生じて、 光ファイバの結合効率が低下し、 光出力が劣化するとい う問題がある。 また、 半田厚さの薄い部分 (例えば、 112で示す部分) では、 温度変化の際 の被接合部材 (第 8図では、 サーモモジュールの下側の基板 104 aとパッケ一 ジの底板 102) の熱膨張率差に基づく熱応力により、 半田層にクラックが発生 し、 接合強度の低下と光結合効率の変化を引き起こすという問題がある。 更に、 国内外の環境への配慮として、 鉛を含有しない (鉛フリーともいう) 半田を使用 することが望まれている。
上述した従来の光モジュールは、 特開 2000— 323731号公報、 特開 2 000— 280090号公報、 特開平 7—128550号公報、 特開平 1 1—2 95560号公報等に開示されている。 発明の開示
この発明の目的は、 鉛フリーの半田を使用し、 半田部に変形やクラックが発生 するのを抑制して、 光軸ズレを生じない、 光ファイバとの結合効率に優れた光モ ジュールおよび光モジュールの組立方法を提供することにある。 発明者は、 上述した従来の問題点を解決するために鋭意研究を重ねた。 その結 果、 サーモモジュールとパッケージの間を、 所定の S n— Ag系半田または S n —Zn系半田を用いて接合すると、パッケージの表面に形成された Auメツキ層、 および、 サーモモジュールの底部の表面の A u層から、 Auが Sn— Ag半田中 に拡散して、 ほぼ均一な相が形成され、 半田部に変形 クラックが発生するのを 効果的に抑制することができ、 光軸ズレが生じ難いことが判明した。 即ち、 サーモモジュールとパッケージ間の接合に使用する半田材として、 鉛フ リーの S n— A gの合金を選定し、 合金成分の金属の配合量を所定の範囲に規定 して、 半田接合時の圧力、 接合面の Auメツキ層からの Auの拡散量が一定にな るように加熱時間を定めると、 半田が略均一な高さ、 かつ、 所望の温度で固体ィ匕 するので、 サーモモジュールの位置がほぼ一定になり、 光学部品搭載部材 (金属 基板) の位置あわせが容易になる。 更に、高温、例えば、 70°Cになったときの、 半田の熱膨張による部材ズレがほぼ一定であるので、 光軸ズレ量を従来よりも著 しく低減することができ、光出力の低下を抑制することができることが判明した。 この発明は、 上述した研究結果に基づいてなされたものであって、 この発明の 光モジュールの第 1の態様は、 少なくとも 1つの光部品と前記少なくとも 1つの 光部品を収容するパッケージとを有する光モジュールであって、 前記パッケージ の内部に、 Auを 2. 0重量%以上 20. 0重量%以下それぞれ更に含有する、 Agを 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下含有する S n— Ag系半田、 または、 Znを 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下含有する S n— Z n系半田によって 形成された接合部を有することを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 2の態様は、 少なくとも 1つの光部品と、 前記少 なくとも 1つの光部品を温度制御するサーモモジュールと、 前記少なくとも 1つ の光部品と前記サーモモジュールとを収容するパッケージとを有する光モジユー ルであって、 前記サーモモジュールと前記パッケージとの間に、 Auを 2. 0重 量0 /0以上 20. 0重量%以下それぞれ更に含有する、 A gを 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下含有する Sn— A g系半田、または、 Znを 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下含有する S n— Z n系半田によって形成された接合部を有すること を特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 3の態様は、 少なくとも 1つの光部品と、 前記少 なくとも 1つの光部品を温度制御するサーモモジュールと、 前記少なくとも 1つ の光部品と前記サーモモジュールとを収容するパッケージとを有する光モジユー ルであって、 前記サーモモジュールと前記少なくとも 1つの光部品を搭載するべ ース基板との間に、 B iを 10重量%以上 60重量%以下含有する S n— B i系 半田によって形成された接合部を有することを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 4の態様は、 前記 Sn— Ag系半田に、 3重量% 以下の C uが含まれていることを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 5の態様は、 前記 Sn_Ag系半田に、 1. 0重 量0 /0以上 10. 0重量%以下の B iが更に含まれていることを特徴とする光モジ ユーノレである。 この発明の光モジュールの第 6の態様は、 前記 Sn— Zn系半田に、 1. 0重 量0 /0以上 5. 0重量0 /0以下の B iが含まれていることを特徴とする光モジュール である。 この発明の光モジュールの第 7の態様は、 前記少なくとも 1つの光部品は、 半 導体レーザ素子を含むことを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 8の態様は、 前記接合部の厚さは、 5 μπι以上 1 00 /m以下であることを特 f¾とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 9の態様は、 前記接合部の厚さが、 前記パッケ一 ジの光を発光する方向 (A1—A2) と平行な方向において、 前記半田の厚さの 前端部 (a l) と後端部 (a 2) の差が 90 μπι以下、 および Ζまたは、 前記パ ッケージの光を発光する方向 (A1— Α2) と直交する方向 (B l— Β 2) にお いて、 前記半田の厚さの一方の端部 (b l) と他方の端部 (b 2) の差が 90 m以下であることを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 i 0の態様は、 前記接合部は、 前記半田中に Au が分散した Au拡散部を備えており、 前記 Au拡散部は、 前記パッケージの前記 サーモモジュールとの接合面、 および、 前記サーモモジュールの前記パッケージ との接合面の少なくとも一方に予め形成された 1 /im以上 5 以下の厚さの A uメツキ層から拡散して形成されていることを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 11の態様は、 前記 S n— Ag系または前記 S n 一 Z n系半田が、 前記サーモモジュールと前記パッケージとの前記接合部からは み出していることを特徴とする光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 i 2の態様は、 半導体レーザを搭載するキャリア 基板、 前記キャリア基板を半田接合部 (A) を介して搭載するベース基板、 前記 ベース基板を半田接合部 (B) を介してその上に固定し前記半導体レーザの温度 を制御する、 半田接合部 (C) によって接合されるペルチェ素子および絶縁基板 からなるサーモモジュール、 前記サーモモジュールを半田接合部 (D) を介して その上に搭載するパッケージを備え、 前記半田接合部 (A)、 (B)、 (C)、 (D) の半田の融点を Tl、 Τ2、 Τ3、 Τ4とするとき、 Τ1≥Τ2、 且つ、 Τ3≥ Τ 4≥Τ 2である光モジュールであって、 前記半田の融点が、 Τ3 240°C、 且つ、 280°C≥T4≥ 190°Cである光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 13の態様は、 前記半田接合部 (C) を形成する 半田が 80重量0 /oAu— 20重量0 /oS nである光モジュールである。 この発明の光モジュールの第 14の態様は、 前記半田接合部 (C) を形成する 半田が B i— S b系合金である光モジュールである。 この発明の光モジュールの組立方法の第 1の態様は、 少なくとも 1つの光部品 を温度制御する、 一方の面に Au層を備えたサーモモジュール、 および、 前記少 なくとも 1つの光部品おょぴ前記サーモモジュールを収容する、 一方の面に 1 μ m以上 5 μιη以下の厚さの A u層を備えたパッケージを調製する調製工程と、 前記サーモモジュールの前記 A u層を備えた面および または前記パッケージ の前記 A u層を備えた面を、 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下の範囲内の Ag を含有する S n— A g系半田、 または、 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下の 範囲内の Z nを含有する S n— Z n系半田中に、
前記 Au層から Auを含有させて接合する半田接合工程とを備えた、 光モジュ ールの組立方法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 2の態様は、 サーモモジュールの基板 とパッケージ底面を接合する半田を S n—Ag合金または S n— Z n合金で調製 する工程と、
L Dチップゃレンズ等を搭載したベース基板の底面と前記サーモモジュール上 面を接合する半田を Sn— B i合金で調製する工程と、
前記ベース基板の底面と前記サーモモジュール上面の少なくとも一方の Auメ ツキ層を 0. 01 μπι以上 1 μπι以下の厚さに調製する調製工程と、
前記ベース基板の底面と前記サーモモジュール上面を接合する半田接合工程と を備えた、 光モジュールの組立方法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 3の態様は、 前記半田接合工程は、 S n—Ag系半田箔を用いて接合することからなっており、 前記 S n— Ag系半田 箔は、前記サーモモジュールの前記 A uメツキ層を備えた面よりも大きく、且つ、 5 im以上 100 μπι以下の範囲内の厚さを有している、 光モジュールの組立方 法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 4の態様は、 前記半田接合工程は、 S n—Ag系半田箔を用いて接合する前に、 前記 S n— A g系半田箔の表面の酸ィ匕 被膜を除去する前処理工程を更に含んで 、る、 光モジュールの la立方法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 5の態様は、 前記半田接合工程は、 前 記サーモモジュールの前記 A u層を備えた面に、 前記 S n— A g系半田または前 記 S n— Z n系半田予めをコーティングすることによって行う、 光モジュールの 組立方法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 6の態様は、 前記半田接合工程は、 前 記 S n— A g系半田または前記 S n— Z n系半田が溶融している時間が 5秒以上 1 2 0秒以下となるように加熱する加熱工程を含んでいる、 光モジュールの組立 方法である。 この発明の光モジュールの組立方法の第 7の態様は、 前記加熱工程は、 前記パ ッケージの前記 A u層を備えた面と、 前記サーモモジュールの前記 A u層を備え た面とを、 3 . ◦ X 1 0 4 P a以下の荷重で互いに押し付けながら行うことを特徴 とする、 光モジュールの組立方法である。 図面の簡単な説明
第 1図は、 この発明の光モジュールを説明する図である。 第 1 A図は、 概略平 面図であり、 第 1 B図は、 概略側断面図である。 第 1 C図は、 サーモモジュール を内蔵しなレ、光モジュールの概略側断面図である。
第 2図は、 接合部の特定方向における厚さを説明する図である。
第 3図は、 半田中に A uが均一に分散した A u拡散部を備えた接合部を説明す る図である。第 3 A図は、 S n— A g系半田の場合を示す図である。第 3 B図は、 S n— Z n系半田の場合を示す図である。 第 3 C図は、 従来の S n— P b系半田 の場合を示す図である。
第 4図は、 サーモモジュールの基板、 半田、 パッケージ底面の関係を示す図で ある。
第 5図は、 半田箔によって、 パッケージ底板にサーモモジュールを接合する方 法を説明する図である。 第 6図は、サーモモジュールにベース基板を接合する方法を説明する図である。 第 7図は、 この発明の他のサーモモジュールを接合する方法を説明する図であ る。
第 8図は、 半田の厚さが不均一である従来の光モジュールを説明する図である。 発明を実施するための最良の形態
この発明の光モジュールぉよぴ光モジュールの組立方法を図面を参照しながら 詳細に説明する。
第 1図は、 この発明の光モジュールを説明する図である。 第 1 A図は、 概略平 面図であり、 第 1 B図は、 概略側断面図である。 第 1 C図は、 サーモモジュール を内蔵しない光モジュールの概略側断面図である。 第 1図に示すように、 この発 明の光モジュール 1において、 パッケージの底板 2の上に半田接合部 1 0を介し てサーモモジュール 3が搭載され、更に、サーモモジュール 3の上に金属基板(ベ ース基板) 5が搭載されている。 ベース基板には、 キャリア基板 6、 集光レンズ 8が搭載されている。 更に、 キャリア基板 6には、 レーザダイオード素子 7、 サ 一ミスタ等が搭載されている。 サーモモジュール 3は絶縁基板 4とペルチェ素子 1 3からなつており、 サーモモジュールの基板 4とパッケージの底板 2との間、 サーモモジュールの基板 4と金属基板 5との間には、 半田接合部 1 0、 1 1が形 成されている。 この発明の光モジュールの 1つの態様は、 少なくとも 1つの光部品と少なくと も 1つの光部品を収容するパッケージとを有する光モジュールであって、 パッケ 一ジの內部に、 A gを 2 . 0重量%以上 5 . 0重量%以下、 残部 S nからなる S nA g系半田、 または、 Z nを 6 . 0重量%以上 1 0 . 0重量%以下、 残部 S nからなる S n— Z n系半田によって形成された接合部を有する光モジュールで ある。 この発明の光モジュールの他の 1つの態様は、 少なくとも 1つの光部品と、 少 なくとも 1つの光部品を温度制御するサーモモジュールと、 少なくとも 1つの光 部品とサーモモジュールとを収容するパッケージとを有する光モジュールであつ て、 サーモモジュールとパッケージとの間に、 Agを 2. 0重量%以上 5. 0重 量%以下、 残部 S nからなる S n— Ag系半田、 または、 Znを 6. 0重量%以 上 10. 0重量%以下、 残部 Snからなる S n— Zn系半田によって形成された 接合部を有する光モジュールである。
3 11—八§系半田、 および、 !!ー !!系半田は、 一般的に硬く、 変形し難い という特性を備えている。 この発明の光モジュールの上述した態様においては、 光部品の接合に、 A gを 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下、 好ましくは、 3. 0重量%以上 3. 5重量%以下を含む S n— A g系半田、 または、 Znを 6. 0 重量%以上 10. 0重量%以下、 好ましくは 8. 5重量%を含む S n— Z n系半 田を用いているため、 半田接合部にかかる歪みに対して、 塑性変形を起こし難い ので、 光モジュールが使用される環境の温度変化や、 光モジュールの製造時に加 えられる温度変化による半田接合層の変形が抑えられる。 Sn— Ag系半田、 S n— Zn系半田は、 従来の Sn— Pb半田より、 いずれも引っ張り強度が大きい ことが判明している。 即ち、 環境温度変化によって生じる歪みに対して、 塑性変 形しにくい。 この発明の光モジュールにおいて、 上述した S n— A g系半田に、 3重量%以 下の Cuが含まれていてもよい。 Cuは、半田の融点を下げる機能を有している。 更に、 この発明の光モジュールにおいて、上述した S n— A g系半田に、 10. 0重量%以下の B iが更に含まれていてもよい。 更に、 この発明の光モジュール において、 上述した S n— Z n系半田に、 5. 0重量%以下の B iが含まれてい てもよレ、。 B iは、 半田の濡れ性を向上させる機能を有している。 上述したように Cuは、 半田の融点を下げる機能を有し、 B iは、 半田の濡れ 性を向上する機能を有している。 この発明の光モジュールの上述した態様におい て、 Sn— Ag系半田に Cu、 B iを添加することによって、 半田の濡れ性が向 上し、 ボイドの発生を抑えられる。 同様に、 S n— Z n系半田に B iを添加する ことによって、 半田の濡れ性が向上する。 この発明の光モジュールにおいて、 上述した少なくとも 1つの光部品は、 半導 体レーザ素子を含むことを特徴とする光モジュールである。 即ち、 半導体レーザ 素子と光ファイバの光軸との調心が必要であり、 光軸ズレによる光モジュールの 性能への影響が大きい。 従って、 温度変化に対して、 例えば、 半田の厚さが部分 的に偏ると、 光軸ズレが大きくなり、 光出力が低下するので、 光軸ズレが小さく なるように、 半田に対しても高い性能が要求される。 なお、 半導体レーザモジュール 1が、 第 1 C図のようなサーモモジュールを内 蔵していない構成にも本発明を適用することができる。 第 1 C図に示す光モジュ 一ノレにおいては、 キャリア基板、 集光レンズが搭載されたベース基板が直接パッ ケージ底板に半田によって固定される。 即ち、 ベース基板とパッケージ底板の間 に半田接合部 10が形成されている。 更に、 この発明の光モジュールにおいて、 上述した接合部 (即ち、 半田部) の 厚さは、 5 jum以上 100 tm以下である。 半田部の厚さが薄く 5 μ m未満のと きには、 パッケージ底板の反りや曲がり等の変形歪が集中し、 半田部にクラック を生じる虞れがある。 一方、 半田部の厚さが 100 /zmを超えて厚すぎると、 小 さな歪みで容易に半田が塑性変形してしまう。
従って、 接合部 (即ち、 半田部) の厚さは、 5 m以上 100 μηι以下の範囲内 に限定する必要がある。 第 2図は、 接合部の特定方向における厚さを説明する図である。 第 2図に示す ように、 パッケージの光を発光する方向を (Al— Α2) とし、 (Al— Α2) と 直交する方向を (B 1—B 2) とする。 (A1—A2) 方向における、 例えば、 サ 一モモジュール基板 4端部直下の半田厚さを、 前端部 (a 1) と後端部 (a 2) で示し、 (B l— B 2) 方向における、 例えば、 サーモモジユーノレ基板 4端部直下 の半田厚さを、 一方の端部 (b l) と他方の端部 (b 2) で示す。 なお、 半田厚 さの測定場所は、 パッケージの任意の所からの決められた位置でもよい。 更に、 この発明の光モジュールにおいて、 上述した接合部の厚さが、 前記パッ ケージの光を発光する方向 (A1—A2) と平行な方向において、 前記半田の厚 さの前端部 (a l) と後端部 (a 2) の差が 90 m以下、 および Zまたは、 前 記パッケージの光を発光する方向 (A1—A2) と直交する方向 (B 1—B 2) において、 前記半田の厚さの一方の端部 (b 1) と他方の端部 (b 2) の差が 9 0 jum以下である。 また、 半田の厚さは、 a 1と a 2の B 1— B 2方向、 ならびに、 131と1^ 2の A1— A2方向も含め、 それらの最大値や最小値、 あるいは任意の何点かの平均 値であってもよい。 なお、 半田の厚さは、 サーモモジュール基板下面とパッケ一 ジ底面間を測定した最大値や最小値、 あるいは、 平均値を採用してもよい (第 2 B図参照)。 即ち、 接合部の厚さが、 パッケージの光を発光する方向 (A1—A2) と平行 な方向において、 半田の厚さの前端部 (a l) と後端部 (a 2) の差が 90 i m を超え、 そして/または、 パッケージの光を発光する方向 (A1— A2) と直交 する方向 (B l— B2) において、 半田の厚さの一方の端部 (b l) と他方の端 部 (b 2) の差が 90 jumを超えると、 高温時の半田の熱膨張によって、 部材ず れにバラツキが生じて、 光軸ズレ量が大きくなるという問題がある。 第 2図に示すように、 (Al— A2)方向における、前端部(a 1) と後端部 (a 2) の半田厚さの差、 および、 (B 1—B2) 方向における、 一方の端部 (b l) と他方の端部 (b 2) の半田厚さの差をそれぞれ所定の値以下に制御することに よって、 たとえ高温になったときにもサーモモジュールの位置をほぼ一定の状態 に維持することができるので、 光学部品搭載部材の位置合わせが容易になり、 た とえ高温になったときにも、 半田の熱膨張による部材ずれが一定になる。 その結 果、光軸ズレ量を低減することができ、光出力の低下を少なくすることができる。 更に、 この発明の光モジュールにおいて、 上述した接合部が、 2. 0重量%以 上 10. 0重量%以下の Auを含有している。 即ち、 好ましくは、 Sn— Ag系 半田、 または、 S n— Zn系半田には、 更に、 Auが 2. 0重量%以上 20. 0 重量%以下含まれている。 それぞれの半田に Auを含ませることにより、 Auと Snの化合物 (Sn4Au等) が均一に分散して半田の延性が小さくなり、 熱応力 によるクリープ変形を防止することができる。 Auが 2. 0重量%未満の場合に は、 延性の十分な低減効果を得ることが出来ないという問題がある。 また、 Au が 20. 0重量%を超える場合には、 半田の融点が過度に上昇し、 融点の上昇し た部分から固定化してしまうので位置合わせ作業性等が悪化するという問題があ る。 更に、 この発明の光モジュールにおいて、 上述した接合部は、 半田中に A uが 分散した A u拡散部を備えており、 A u拡散部は、 パッケージのサーモモジユー ルとの接合面、 および、 サーモモジュールのパッケージとの接合面の少なくとも 一方に予め形成された 1 Aim以上 5 μπι以下の厚さの Auメツキ層から拡散して 形成されている。 第 3図は、 半田中に A uが分散した A u拡散部を備えた接合部を説明する図で ある。 第 3 A図は、 S n— Ag系半田の場合を示す図である。 第 3B図は、 Sn — Z n系半田の場合を示す図である。 また、 第 3C図は、 従来の Sn— Pb系半 田の場合を示す図である。
第 3 A図に示すように、 サーモモジュールの基板とパッケージ底面との間に形 成されたこの発明の接合部には、 サーモモジュールの基板おょぴパッケージの底 面に形成された Auメツキ層から拡散して、 S n— Ag合金相中に Au— S n化 合物 (Sn4Au等) が均一に分散している。 例えば、 厚さ 100 μηιの接合部に は、 5〜10 /zm径程度の Sn4Au等の組織が均一に分散し、接合部全体として 均一な相が形成されている。 また同様に、 第 3 B図に示すように、 サーモモジュールの基板およびパッケ一 ジの底面に形成された Auメツキ層から拡散によって、 S n— Z n合金相中に A u _ S n化合物が均一に分散している。
これに対して、 従来の Sn— Pb系半田の場合には、 第 3 C図に示すように、 サーモモジュールの基板およびパッケージの底面に形成された A uメツキ層から Auが拡散して、 A u— S n合金相を形成する。 Au— Sn合金相は、 接合部の 両端から形成され、 P bリッチ相が中央部に集中する。 従って、 P bリッチ相が 中央に集まり、 接合部全体として不均一な相が形成される。 また、 中央部の P bリツチ相は低い応力で変形するため、 クリーブしやすい。 一方、 Sn— Ag合金では Auが均一に分散し、 強化として働きクリープしにく くなり、 モジュールの光軸ずれが起こりにくくなる効果がある。
また、 S n— Z n合金においても、 A uが均一に分散し、 強化として働きタリ ープしにくくなり、 モジュールの光軸ずれが起こりにくくなる効果がある。 また、 サーモモジュールの基板とパッケージ底面、 あるいは、 LDチップゃレ ンズ等を搭載したベース基板の底面とサーモモジュール上面の少なくとも一方の
Auメツキ層が 0. 01 μ m以上 1 im以下と薄い、 あるいは、 少なくともベー ス基板の底面の Auメツキ層を無くすことにより、 半田合金への Au拡散量を低 減させてもよい。 更に、 サーモモジュールの基板とパッケージ底面を接合する半田が S n— A g 合金あるいは S n— Z n合金であって、 LDチップやレンズ等を搭載したベース 基板の底面とサーモモジュール上面を接合する半田が S n— B i合金である場合、 ベース基板の底面とサーモモジュール上面の少なくとも一方の A uメツキ層が 0. 01 μπι以上 1 μπι以下と薄い、 あるいは、 少なくともベース基板の底面の A u メツキ層を無くすことにより、 半田合金への A u拡散量を低減させてもよい。 次に、 この発明の光モジュールの組立方法について説明する。 この発明の光モジュールの組立方法は、 少なくとも 1つの光部品を温度制御す る、 一方の面に Au層を備えたサーモモジュール、 および、 前記少なくとも 1つ の光部品おょぴ前記サーモモジュールを収容する、 一方の面に 1 jum以上 5 //m 以下の厚さの A u層を備えたパッケージを調製する調製工程と、
前記サーモモジュールの前記 A uメツキ層を備えた面と、 前記パッケージの前 記 Auメツキ層を備えた面とを、 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下の範囲内の 八§を含む311— 8系半田、 または、 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下の 範囲内の Znを含む S n— Zn系半田によって接合する半田接合工程とを備えた、 光モジュールの組立方法である。 第 4図は、 サーモモジュールの基板、 半田、 パッケージ底面の関係を示す図で ある。 第 4図に示すように、 例えば、 パッケージは 20重量%。11— 80重量% Wの表面に少なくとも N i層が形成され、 N i層の上に更に 1. 5〜2. 0 ^ m の Au層が形成されている。 サーモモジュールの基板は、 アルミナ (Α 12Ο3) ゃ窒化アルミ (A 1 N) の上に少なくとも N i層が形成され、 N i層の上に0. 3 t mの Au層が形成されている。 上述したサーモモジュールの基板とパッケ一 ジが、 それぞれの A u層が向かい合うように配置され、 その間に厚さ 50〜 80 μπιの半田箔が配置される。 即ち、 接合部の半田に Auを含ませる場合、 被接合部材であるパッケージのサ 一モモジュールとの接合面およぴサーモモジュールのパッケージとの接合面の少 なくとも一方に、 予め厚さが 以上 5 μπι以下の Au層を形成しておき、 半 田接合の際の加熱時に、 これらの Auメツキ層から Auが S n— Ag系半田、 ま たは、 Sn— Zn系半田に拡散するようにしてもよレ、。 このように接合面に予め Au層を被覆することによって、 被接合面の酸ィ匕を抑制することができ、 更に、 Auを含む半田合金を用いる場合と比較して、 製造工程が簡略化される。 また、 最初から Auを含んだ半田では、 半田の機械的強度が増すために、 圧延して箔を 製造するのが難しくなる。 従って、 この発明の組立方法によると製造工程 '設備 が簡略化され有利である。 形成する A u層の厚さが 1 i m未満の場合には、 延性が十分に低減しない。 ま た、 形成する A u層の厚さが 5 i mを超えると、 溶融した半田合金と A uの結合 による融点の過度の上昇を防止することができない。 この発明の光モジュールの組立方法において、 上述した半田接合工程は、 S n — A g系半田箔を用いて接合することからなっており、 S n— A g系半田箔は、 サーモモジュールの A uメツキ層を備えた面よりも大きく、 且つ、 5 111以上1 0 0 μ ηι以下の範囲内の厚さを有している。 さらに、 半田が A uメツキ層に沿つ て拡散することによって半田層の厚さが大きく変化することを防止できる。 半田 箔を、 サーモモジュールの基板よりも十分に大きくすることによって、 サーモモ ジュールをパッケージ底板上に搭載するとき、位置ズレを無視することができる。 更に、 半田厚さを 5〜1 0 0 μ πιの範囲内とすることによって、 熱歪みによるク ラックの生成を抑制し、 且つ、 クリープ変形を最小限にすることができる。 更に、この発明の光モジュールの組立方法において、上述した半田接合工程は、 S n - A g系半田箔を用いて接合する前に、 S n— A g系半田箔の表面を処理す る工程を更に含んでいる。 例えば、 酸によって S n— A g系半田箔の表面をエツ チング処理することによって、 半田表面の酸化被膜を除去することができ、 半田 の濡れ性を向上することができる。
また、エッチングは酸には限定しない。 さらに、 ドライエッチングや機械的に、 例えば、 研磨等によって酸ィ匕被膜を除去してもよい。 この発明の光モジュールの組立方法において、 上述した半田接合工程は、 サー モモジュールの A u層を備えた面に、 S n— A g系半田または S n— Z n系半田 予めをコーティングすることによって行う。
即ち、 予め、 半田をコーティングすることによって、 接合の際、 半田を塗布す る必要が無くなる。サーモモジュールを所定の位置に位置合わせするだけでよく、 半田箔を所定の位置に置く手間が省ける。 この発明の光モジュールの組立方法において、 上述した半田接合工程は、 S n — A g系半田または S n— Zn系半田が溶融している時間が 5秒以上 1 20秒以 下となるように加熱する加熱工程を含んでいる。 半田が溶融している時間が 5秒未満の場合には、 Auメツキが十分に溶け込ま ない。 また、 半田が溶融している時間が 200秒を超えると、 溶けた半田が、 パ ッケージの底面にどんどん広がっていくのを防ぐことができない。 即ち、 時間が 長いと、 半田が底板の金メッキと合金化し、 融点にばらつきが生じ融点の高い部 分から固体化するので、 例えば、 ボイドが生成する。 なお、 時間は短いほど好ま しレ、。 さらに、好ましくは、半田が溶融している時間は 60秒以下が適切である。 この発明の光モジュールの組立方法において、 上述した加熱工程は、 パッケ一 ジの Auメツキ層を備えた面と、 サーモモジュールの Auメツキ層を備えた面と を、 3. 0 X 104P a以下の荷重で互いに押し付ける。
即ち、 半田接合工程において供給される半田箔を、 3. 0X 104P a以下の荷 重で押圧しながら加熱して半田を溶融させつつ半田接合がされるので、 加熱 ·押 圧の際に半田が接合面内において不規則に広がることを防止できる結果、 半田接 合部における S n— A g半田、 または、 Sn— Zn半田の厚さを、 供給される半 田箔、 または、 プレコートした半田と略同一とすることができるので、 厚さの制 御性おょぴその均一性を良好なものとすることができる。 更に、この発明の光モジュールは、半導体レーザ素子を搭載するキヤリァ基板、 前記キャリア基板を半田接合部 (A) を介して搭載するベース基板、 前記ベース 基板を半田接合部 (B) を介してその上に固定し前記半導体レーザ素子の温度を 制御する、 半田接合部 (c) によって接合されるペルチェ素子および絶縁基板か らなるサーモモジュール、 前記サ一モモジュールを半田接合部 (D) を介してそ の上に搭載するパッケージを備え、 前記半田接合部 (A)、 (B)、 (C)、 (D) の 半田の融点を T l、 Τ2、 Τ3、 Τ4とするとき、 Τ 1≥Τ2、 且つ、 Τ3≥Τ 4 Τ 2である光モジュールであって、 半田の融点が Τ 3≥ 240°C、 且つ、 2 80°C≥T4≥ 1 90でである。 半田接合部 (C) を形成する半田が 80重量% Au— 20重量%S nであってもよい。 半田接合部 (C) を形成する半田が B i —S bであってもよい。 上述した態様によると、 サーモモジュール内部の半田を高融点化することによ つて、 サーモモジュールとパッケージとの接合に用いる半田を高融点化すること ができ、 その結果、 温度変化に対して著しく光軸ズレが減少し、 そして、 高温に おける耐久性も著しく向上し、 信頼性を高めることができる。
(実施例)
以下、 この発明の光モジュールおよぴ光モジュールの組立方法を実施例によつ て詳細に説明する。
実施例 1
底面に厚さ 1. 5 μΐηの金メッキが施されたパッケージ、 および、 大きさ 8 m mX 8mm、 厚さ 2 mmの基板を備えたサーモモジュールを調製した。 サーモモ ジュールの基板表面には、 厚さ 0. 2 μπιの金メッキが施されている。
第 5図に示すように、 組成が Sn— 3. 0重量%Ag— 0. 5重量%。11から なる、 12mmX 8mmX0. 05 mmの大きさの略板状の半田ペレット 10 (半 田箔ともいう) を使用して、 金メッキが施された面が相対するようにして、 調製 されたパッケージ 2とサーモモジュール 3とを次の通り接合した。 即ち、 半田付け直前に、 3%濃度の塩酸中に半田ペレットを 10分間浸して、 半田表面の酸化被膜を除去後、 よく水洗いした。 その後、 ステージ上にパッケ一 ジを配置し、 パッケージの底板の中央部に半田箔を搭載し、 半田箔の上にサーモ モジュールを重ねて配置した。 更に、 サーモモジュールの上部には、 5 gの重さ の位置決めジグ (治具) を配置して、 半田箔が溶融するときに、 溶融した半田に よってサーモモジュールが大きく移動しないようにした。 (このとき、 この 5 の 位置決め治具によって半田に加わる荷重は、 7. 7 X 102P aであった。 即ち、 治具荷重が所定値以下であるので、 半田が溶融した場合においても、 半田の表面 張力が働いて、 治具を使用しても、 初期の半田厚が維持される。) 次に、 窒素で雰囲気を置換し、 例えば、 酸素濃度が 1 O O p p m以下になって から、 ステージ上のパッケージを加熱した。 ステージのピーク温度を 2 2 5 °Cに 設定し、 3 !1— §— 0 11半田の融点2 1 7 °C以上の半田溶融時間が 2 0秒間に なるように、 ステージ温度を制御した。 半田の溶融時間が 2 0秒間と短時間であ ること、 パッケージの金メッキ厚が 1 . 5 πιと厚いため、 半田溶融による半田 のパッケージ底面へのはみ出しは非常に小さくすることができた。 そのため、 接 合部の半田厚さは、 ほぼ元の半田ペレットの厚さと変わらず、 4 0〜 5 0 μ ιη厚 であった。 (時間が長いと、 半田が外へはみ出す量が多くなつたり、 半田厚が不均 —になったり、 ボイドが生成しやすくなる。)
また、 雰囲気は窒素等の不活性ガスまたは混合ガス等であって、 酸素をできる 限り含有しないものであればよい。 接合断面を観察したところ、 パッケージ底面の金メッキ、 サーモモジュールの 金メッキとも、 半田中に溶け込んでいることを確認した。 半田中に溶け込んだ金 含有量は、 約 8 . 0 %で、 半田そのものの延性が小さくなり、 熱歪みによるタリ ープ変形が起こりにくくなった。 その後、第 6図に示すように、 ホトダイオード 1 4、 L Dチップ 7、 レンズ 8、 偏光子 1 5を搭載したベース基板 5をサーモモジュール 3上に半田接合した。 接 合には S η— B i系半田を用い、 S n— B i半田ペレツ ト 1 1をサーモモジユー ル 3上面に置き、 ベース基板 5を位置合わせして、 1 7 5 までパッケージ 2を 加熱し、 半田を溶融して接合した。
更に、 パッケージに光ファイバを取り付け、 レーザが光ファイバに集光するよ うにして、 光モジュールを完成した。 このように組立てた本発明の光モジュールの一例に対して、 温度サイクル試験 (一 4 0 から 8 5 °Cのくり返し)、高温放置試験( 8 5 °C)を行つた。その結果、 温度サイクル試験 (― 40°Cから 85°Cのくり返し) において、 従来の Sn— P b系半田の場合の 1000サイクル後光出力の劣化が平均 8%であるのに対して、 1000サイクル後光出力の劣化は平均 4%であり、 温度変化に対して著しく光 軸ズレが減少していることがわかる。 更に、 高温放置試験 (85 ) において、 従来の S n— P b系半田の場合の 2000時間後の光出力の劣化が平均 8%であ るのに対して、 2000時間後の光出力の劣化は平均 3%であり、 高温における 耐久性も著しく向上し、 信頼†生が高まっていることがわかる。 実施例 2
' この実施例は、 サーモモジュールの基板に予めプレコートした場合である。 サ 一モモジュールは、 内部のペルチェ素子と上下の絶縁性のサーモモジュール基板 と力 80重量% 11一 20重量%3 n半田で接合されたものを使用した。また、 サーモモジュールの上面 (冷却面) には、 S n— 57重量。 /oB i— 1. 0重量% Ag半田が中央部において 100 μπι厚さになるように、 あらかじめコーティン グしておいた。 一方、 サーモモジュールの下面 (加熱面) には、 Sn— 7. 5重 量%211— 3. 0重量% i半田を中央部において 100 i m厚さになるように コーティングしておいた。 コーティングは、 ホットプレート上でサーモモジユー ルを加熱しながら、 所定量の半田を半田コテで溶かして、 温度の高い Sn— Zn 一 B i半田から基板にコーティングした。
また、 コーティングは半田ペーストを用いてもよい。 サーモモジュールをパッケージの底板中央に設置し、 20 gの治具で位置合わ せした。 その後、 パッケージを窒素雰囲気のリフロー炉に入れ、 .半田を加熱接合 した。 炉は、 パッケージの到達温度が 210°Cになるように温度設定し、 炉内の 移送速度を 100 cm/分とした。 そのため、 Sn— Zn— B i半田が溶ける 1 90 °C以上の時間を 30秒間とした。 次に、 半導体レーザ素子、 レンズを含むベース基板をサーモモジュール上に接 合した。 パッケージをステージに置き、 ベース接合装置により半導体レーザ素子 を光らせながら、 ベース基板を動かし、 パッケージ内で適正位置を決めた。 その 位置にベース基板を保持したまま、 パッケージを窒素雰囲気内に置換した後、 ス テージを加熱した。 パッケージは 170°Cまで加熱し、 サーモモジュール上面の S n-B i—Ag半田のみを溶融させて、ベース基板と接合した。ベース基板は、 20 gの押し圧で荷重を加え、 約 30秒間半田を溶かした。 その後、 パッケージ に光ファイバを光軸をあわせて固定し、 光モジュールを完成させた。 このように組立てた本発明の光モジュールの一例に対して、 温度サイクル試験 (― 40°Cから 85 °Cのくり返し)、高温放置試験(85°C)を行った。その結果、 温度サイクル試験 (一 40°Cから 85°Cのくり返し) において、 従来の Sn— P b系半田の場合の 1000サイクル後光出力の劣化が平均 8%であるのに対して、 1000サイクル後光出力の劣化は平均 5%であり、 温度変化に対して著しく光 軸ズレが減少していることがわかる。 更に、 高温放置試験 (85°C) において、 従来の S n— P b系半田の場合の 2000時間後の光出力の劣化が平均 8%程度 であるのに対して、 2000時間後の光出力の劣化は平均 3%程度であり、 高温 における耐久性も著しく向上し、 信頼性が高まっていることがわかる。 更に、 次のように各種半田を用いて接合部を形成した。
実施例 3
キヤリァ基板とベース基板との接合部を、 80重量%Au— 20重量%3 nに よって 28ひ。 Cの温度で半田接合して形成した。 ペルチェ素子と上下のサーモモ ジュー^^の絶縁性基板との接合部を、 80重量% A u-20重量% S nによって 280°Cの温度で半田接合して形成した。 サーモモジュールとパッケージとの接 合部を、 Sn— 3. 0重量%Ag— 0. 5重量%Cuによって 217°Cの温度で 半田接合して形成した。 サーモモジュールとベース基板との接合部を、 Sn— 5 7重量% B i _ 1. 0重量% A gによって 138 °Cの温度で半田接合して形成し た。 実施例 4 キャリア基板とベース基板との接合部を、 80重量% 11— 20重量%311に よって 280での温度で半田接合して形成した。 ペルチェ素子と上下のサーモモ ジュールの絶縁基板との接合部を、 B i一 S bによって 271°Cの温度で半田接 合して形成した。 サーモモジュールとパッケージとの接合部を、 Sn— 2. 0重 量0 /oAg— 0. 5重量。 /oCu— 7. 5重量0 /oB iによって 213°Cの温度で半田 接合して形成した。 サーモモジュールとベース基板との接合部を、 I nによって 157 °Cの温度で半田接合して形成した。 実施例 5
キヤリァ基板とベース基板との接合部を、 80重量% 11一 20重量%3 nに よって 280°Cの温度で半田接合して形成した。 ペルチェ素子と上下のサーモモ ジュールの絶縁基板との接合部を、 S n— 5重量%S bによって 230°Cの温度 で半田接合して形成した。 サーモモジュールとパッケージとの接合部を、 Sn— 7. 5重量0 /oZn— 3. 0重量0 /oB iによって 190〜197°Cの温度で半田接 合して形成した。サーモモジュールとベース基板との接合部を、 S n— 57重量% B i— 1. 0重量0 /0 A gによって約 138 °Cの温度で半田接合して形成した。 上述した実施例 3〜 5においても、 この発明の光モジュールにおいては、 従来 の光モジュールと比較して、温度変化に対して著しく光軸ズレが減少し、そして、 高温における耐久性も著しく向上し、 信頼 'I生が高まっていた。 上述したように、 接合部の半田を従来の Sn— Pb系合金から Sn— Ag、 ま たは、 Sn— Zn合金に変更することによって、 接合部の変形を小さくすること 'ができ、 光軸ズレが起き難くすることができる。 更に、 半田溶融時にパッケージ 底面、 サーモモジュール基板の底面に施された金メッキ層から金 (Au) が半田 接合部に拡散して均一な組織を形成するので、 半田がクリープ変形しにくくなつ た。 更に、 半田厚さを 5〜100 imの範囲内とすることによって、 熱歪みによ るクラックの生成を抑制し、 且つ、 クリープ変形を最小限にすることができた。 半田厚さの制御は、 半田ペレットを用い、 微少荷重 (3. 0X l 04Pa以下) を 加えることによって効果的に制御することができる。 更に、 半田ペレットの大き さは、 サーモモジュールの基板よりも十分に大きくすることによって、 サーモモ ジュールをパッケージ底板上に搭載するとき、 位置ズレを無視することができる とともに、 完成される半田接合部の厚さを、 供給する半田ペレッ トの厚さと略同 一にできるので、 半田接合部厚の制御性が向上するので効果的である。 更に、 鉛 フリーの半田を使用するので、 環境上好ましい。 実施例 6
第 7図に示すように、 この実施例のサーモモジュール 3は、 予めサーモモジュ ールの片面に S n— 7 . 5重量%Z n— 3 . 0重量%B iの半田あるいは半田ボ ールを形成し、 もう一方の面に S n— 5 8 . 0重量%B iの半田あるいは半田ボ ールを形成した、 半田付きのサーモモジュールである。
ここで、 形成する半田はその体積、 半田ボールはその大きさやそれぞれの固着 間隔や数量によって、 平均半田塗布厚さが 5から 1 0 0 の範囲内になるよう に調製した。 上述したサーモモジュールをパッケージに接合する際、 サーモモジュールの S n - Z n - B i系半田面がパッケージ底板 2内側と接合するようにし、 位置決め 治具 2 0によりサーモモジュールを 1 0 0 gの荷重で押し付け、 半田溶融温度以 上に加熱して、半田を溶融した。次いで、 S n— Z n— B i系半田が溶融状態で、 サーモモジュールを、 例えば所定位置から少なくとも前後方向に l mm程度複数 回動かし擦ることにより、 半田表面の酸化膜を機械的に除去して、 サーモモジュ 一ルをパッケージに接合した。
なお、 擦った後、 半田厚さを所定値に制御するため、 押し付け荷重を 1 0 gに 下げると、 サーモモジュール端部より一部はみ出た半田が、 表面張力によって半 田接合部に引き寄せられる格好となり、 半田厚さを厚くすることができる。 これらの加熱.冷却による半田接合の工程は、 S n— Z n— B i系半田や S n — B i系半田の B iの析出を抑えるため短時間で作業をすることが望ましく、 こ の実施例の半田接合の工程では S n— 7 . 5重量%2 11— 3 . 0重量%8 1の半 田溶融時間約 1 4 0 で 9 0秒となるように加熱 ·冷却した。
また、 サーモモジュールとパッケージ底板内側接合後、 サーモモジュールとべ ース基板間では、 ベース基板を 1 0 0 gの荷重で押し付け、 S n— B i系半田の 溶融温度以上に加熱し、 ベース基板を擦って接合した。 なお、 接合の際、 半田の再酸化を防ぐため、 酸素濃度を 1 0 0 p p m以下に管 理された酸素雰囲気で作業を行つた。
この実施例におけるこの発明の光モジュールにおいては、 従来の光モジュール と比較して、 温度変化に対して著しく光軸ズレが減少し、 そして、 高温における 耐久性も著しく向上し、 信頼性が高まっていた。 産業上の利用性
この発明によると、 鉛フリーの半田を使用して、 半田部に変形やクラックが発 生するのを抑制して、 光軸ズレを生じにくく、 光ファイバとの結合効率に優れた 光モジュールぉよぴ光モジュールの組立方法を提供することができる。

Claims

請求の範囲
1. 少なくとも 1つの光部品と前記少なくとも 1つの光部品を収容するパッケ一 ジとを有する光モジュールであって、 前記パッケージの内部に、 Auを 2. 0重 量%以上 20. 0重量%以下それぞれ更に含有する、 Agを 2. 0重量%以上 5. 0重量0 /0以下含有する S n— Ag系半田、または、 Znを 6. 0重量0 /0以上 10. 0重量%以下含有する S n— Z n系半田によって形成された接合部を有すること を特徴とする光モジュール。
2. 少なくとも 1つの光部品と、 前記少なくとも 1つの光部品を温度制御するサ 一モモジュールと、 前記少なくとも 1つの光部品と前記サーモモジュールとを収 容するパッケージとを有する光モジュールであって、 前記サーモモジュールと前 記パッケージとの間に、 Auを 2. 0重量%以上 20. 0重量%以下それぞれ更 に含有する、 Agを 2. 0重量。 /0以上 5. 0重量%以下含有する3!1— §系半 田、 または、 Z nを 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下含有する S n— Z n系 半田によって形成された接合部を有することを特徴とする光モジュール。
3. 少なくとも 1つの光部品と、 前記少なくとも 1つの光部品を温度制御するサ 一モモジュールと、 前記少なくとも 1つの光部品と前記サーモモジュールとを収 容するパッケージとを有する光モジュールであって、 前記サーモモジュールと前 記少なくとも 1つの光部品を搭載するベース基板との間に、 B iを 10重量%以 上 60重量%以下含有する Sn— b i系半田によって形成された接合部を有する ことを特徴とする光モジュール。
4. 前記 Sn— Ag系半田に、 1. 0重量%以上 3. 0重量。 /0以下の Cuが含ま れていることを特徴とする、 請求項 1または 2に記載の光モジュール。
5. 前記 S n— Ag系半田に、 1. 0重量%以上 10. 0重量%以下の B iが更 に含まれていることを特徴とする、 請求項 4に記載の光モジュール。
6. 前記 Sn— Zn系半田に、 1. 0重量%以上 5. 0重量%以下の8 1が含ま れていることを特徴とする、 請求項 1または 2に記載の光モジュール。
7.前記少なくとも 1つの光部品は、半導体レーザ素子を含むことを特徴とする、 請求項 1カゝら 3の何れか 1項に記載の光モジュール。
8. 前記接合部の厚さは、 5 / m以上 100 以下であることを特徴とする、 請求項 1から 3の何れか 1項に記載の光モジュール。
9. 前記接合部の厚さが、 前記パッケージの光を発光する方向 (Al— A2) と 平行な方向において、 前記半田の厚さの前端部 (a 1) と後端部 (a 2) の差が 90//m以下、 および Zまたは、 前記パッケージの光を発光する方向 (A1— A 2) と直交する方向 (B l— B 2) において、 前記半田の厚さの一方の端部 (b 1) と他方の端部 (b 2) の差が 90 以下であることを特徴とする、 請求項 1から 8の何れか 1項に記載の光モジュール。
10. 前記接合部は、 前記半田中に Auが分散した Au拡散部を備えており、 前 記 A u拡散部は、 前記パッケージの前記サーモモジュールとの接合面、 および、 前記サーモモジュールの前記パッケージとの接合面の少なくとも一方に予め形成 された 1 μ m以上 5 m以下の厚さの A uメツキ層から拡散して形成されている ことを特徴とする、 請求項 1から 9の何れか 1項に記載の光モジュール。
1 1. 前記 S n— Ag系または前記 S n— Z n系半田が、 前記サーモモジュール と前記パッケージとの前記接合部からはみ出していることを特徴とする、 請求項 1力、ら 10の何れか 1項に記載の光モジュール。
12. 少なくとも 1つの光部品を温度制御する、 一方の面に A u層を備えたサー モモジユー ^、 および、 前記少なくとも 1つの光部品および前記サーモモジユー ルを収容する、 一方の面に 1 μπι以上 5 μπι以下の厚さの Au層を備えたパッケ ージを調製する調製工程と、 '
前記サーモモジュールの前記 A u層を備えた面おょぴノまたは前記パッケージ の前記 A u層を備えた面を、 2. 0重量%以上 5. 0重量%以下の範囲内の A g を含有する S n— A g系半田、 または、 6. 0重量%以上 10. 0重量%以下の 範囲内の Z nを含有する S n— Z n系半田中に、
前記 A u層から A uを含有させて接合する半田接合工程とを備えた、 光モジュ ールの組立方法。
13. サーモモジュールの基板とパッケージ底面を接合する半田を S n— A g合 金または Sn— Zn合金で調製する工程と、
LDチップやレンズ等を搭載したベース基板の底面と前記サーモモジュール上 面を接合する半田を Sn— B i合金で調製する工程と、 前記ベース基板の底面と前記サーモモジュール上面の少なくとも一方の Auメ ツキ層を 0. 01 μηι以上 1 μπι以下の厚さに調製する調製工程と、
前記ベース基板の底面と前記サーモモジュール上面を接合する半田接合工程と を備えた、 光モジュールの組立方法。
14. 前記半田接合工程は、 Sn— Ag系半田箔を用いて接合することからなつ ており、 前記 S n— A g系半田箔は、 前記サーモモジュールの前記 Auメツキ層 を備えた面よりも大きく、 且つ、 5 t m以上 100 ;um以下の範囲内の厚さを有 している、 請求項 12に記載の光モジュールの組立方法。
15. 前記半田接合工程は、 Sn— Ag系半田箔を用いて接合する前に、 前記 S n— A g系半田箔の表面の酸ィヒ被膜を除去する前処理工程を更に含んでいる、 請 求項 14に記載の光モジュールの組立方法。
16. 前記半田接合工程は、 前記サーモモジュールの前記 Au層を備えた面に、 前記 S n— Ag系半田または前記 S n— Z n系半田予めをコーティングすること によって行う、 請求項 12に記載の光モジュールの組立方法。
17. 前記半田接合工程は、 前記 S n— Ag系半田または前記 S n— Z n系半田 が溶融している時間が 5秒以上 120秒以下となるように加熱する加熱工程を含 んでいる、 請求項 12から 16の何れか 1項に記載の光モジュールの組立方法。
18. 前記加熱工程は、 前記パッケージの前記 Au層を備えた面と、 前記サーモ モジュールの前記 A u層を備えた面とを、 3. 0 X 104P a以下の荷重で互いに 押し付けながら行うことを特徴とする、 請求項 17に記載の光モジュールの組立 方法。
19.半導体レーザを搭載するキヤリァ基板、前記キヤリァ基板を半田接合部(A) を介して搭載するベース基板、 前記ベース基板を半田接合部 (B) を介してその 上に固定し前記半導体レーザの温度を制御する、 半田接合部 (C) によって接合 されるペルチヱ素子および絶縁基板からなるサーモモジュール、 前記サーモモジ ユールを半田接合部 (D) を介してその上に搭載するパッケージを備え、 前記半 田接合部 (A)、 (B)、 (C)、 (D) の半田の融点を Tl、 Τ2、 Τ3、 Τ4とす るとき、 Τ1≥Τ2、 且つ、 Τ 3≥Τ 4≥Τ 2である光モジュールであって、 前 記半田の融点が、 T3≥240°C、 且つ、 280。C≥T4 190°Cである光モ ジュ "~ノレ。
20. 前記半田接合部 (C) を形成する半田が 80重量% 11— 20重量%Sn である請求項 19の光モジュール。
21. 前記半田接合部 (C) を形成する半田が B i—S b系合金である請求項 1 9の光モジユーノレ。
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