WO2003076695A1 - Solution pour dorure et procede de dorure - Google Patents

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WO2003076695A1
WO2003076695A1 PCT/JP2003/002857 JP0302857W WO03076695A1 WO 2003076695 A1 WO2003076695 A1 WO 2003076695A1 JP 0302857 W JP0302857 W JP 0302857W WO 03076695 A1 WO03076695 A1 WO 03076695A1
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WO
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gold
plating solution
gold plating
weight
iodide
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PCT/JP2003/002857
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French (fr)
Inventor
Fumikazu Mizutani
Hiroshi Takaha
Makoto Ishikawa
Yasuhiro Kawase
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corporation
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/48Electroplating: Baths therefor from solutions of gold

Definitions

  • the present invention relates to a gold plating solution, and more particularly to a non-cyanide electrolytic plating solution.
  • a cyan plating solution As a gold plating solution, a cyan plating solution has been known for a long time. By using a cyan-based gold plating solution, a gold plating film having excellent characteristics such as dense and smooth can be deposited. In addition, cyan gold plating solutions are widely used because they are stable and easy to manage. However, cyanide is highly toxic and has many problems in the working environment and waste liquid treatment.
  • a gold plating solution in which a gold compound selected from the group consisting of various gold complexes such as an acetyl cysteine gold complex and acetyl cysteine as a complexing agent is dissolved, and at least one kind of alkanesulfonic acid or alkanolsulfonic acid, Gold plating solutions containing gold ions and nonionic surfactants have been proposed (see Patent Documents 3 and 4). However, all are monovalent as gold plating solution containing gold sulfite Therefore, there is a problem of instability of gold due to the reaction of 3 Au + ⁇ 2 Au + Au 3 + .
  • Patent Document 1 JP-A-11-61480
  • Patent Document 3 JP-A-10-317183
  • Patent Document 4 JP-A-8-41676
  • Patent Document 5 JP-A-11-293487
  • Patent Document 6 JP-A-2000-204496
  • Patent Document 7 JP 2000-355792 A
  • Patent Document 8 JP 2001-110832 A Patent Document 8 JP 2001-110832 A
  • gold is known as a solution to dissolve the gold iodide complex ions, focused on an aqueous solution containing iodine (1 2) and iodide ion (I-).
  • gold plating electrolytic gold plating
  • electrolysis of water is performed by performing gold plating in the presence of a non-aqueous solvent.
  • the gist of the present invention resides in a gold plating solution containing iodide ions, gold iodide complex ions and a non-aqueous solvent, and a gold plating method using the same.
  • the gold plating solution of the present invention contains iodide ions (1-), gold iodide complex ions, and a non-aqueous solvent.
  • the iodide ion in the gold plating solution of the present invention is preferably prepared using an iodide salt or the like.
  • Any cation of the iodide salt may be used as long as it stably dissolves gold and does not adversely affect gold plating.
  • Specific examples include alkali metal ions, ammonium ions, 1, 2, 3 or quaternary alkyl ammonium ions, phosphonium ions and sulfonium ions.
  • it is an alkali metal ion such as a sodium ion or a potassium ion, and particularly preferably, it is a lithium ion. These cations may be used alone or in combination of two or more.
  • the gold iodide complex ion in the gold plating solution of the present invention can be prepared according to the following formula (1) or (2). That is, a method in which gold is dissolved by electrolytic dissolution in a solution containing iodide ions and a non-aqueous solvent or a solution in which an oxidizing agent is added thereto, or a solution containing iodide ions, a non-aqueous solvent, and an oxidizing agent For example, a method of preparing by dissolving gold in water.
  • iodine (1 2) iodate (HI 0 3), over-iodate (HI 0 4) and these Among them, when preparing the gold plating solution of the present invention in consideration of solubility in a solution, stability in the solution, and the like, it is preferable to use iodine (I 2 ).
  • the content of the iodine element in the gold plating solution of the present invention may be appropriately selected depending on the amount of gold iodide complex ions to be contained in the gold plating solution.
  • it is required for the desired amount of dissolved gold may be selected as required oxidant amount of 1 2 or the like.
  • the iodine element content in the gold plating solution of the present invention refers to the iodide ion or gold iodide complex ion in the gold plating solution, and the remaining amount of I 2 when using I 2 to dissolve gold.
  • a value obtained by converting the total amount into an iodine element is shown. This value can be determined by measurement, but can also be determined by calculating from the amount of the raw materials used for preparing the plating solution of the present invention.
  • the content of the iodine element in the gold plating solution of the present invention is usually at least 1% by weight, preferably at least 0.5% by weight, more preferably at least 1% by weight, and particularly preferably, based on the whole gold plating solution. Is at least 5% by weight.
  • the upper limit of the content is usually 75% by weight or less, preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, and particularly preferably 20% by weight or less.
  • iodine (1 2) and the weight ratio of iodide ions Is capable of stably dissolving gold and is not particularly limited as long as the intended effect of the present invention is not impaired.
  • the content of iodine (I 2 ) in the gold plating solution of the present invention is preferably low as long as the performance as a plating solution is not impaired.
  • Gold is used as a gold source, and iodine and iodide are used as a source of iodine.
  • a weight ratio of the time of charging (iodine (1 2): iodide-ion) is 1: 2: 1: 1 0 0 0, preferably 1: 3 to 1: 1 0 0 The ratio is more preferably 1: 5 to 1:30.
  • the gold plating solution of the present invention is characterized by further containing a non-aqueous solvent. If it contains a non-aqueous solvent, it may contain water. There are no particular restrictions on the type of non-aqueous solvent as long as it has good melting characteristics and sufficient solubility in solutes. However, a compound having an alcoholic hydroxyl group and Z or a phenolic hydroxyl group or an aprotic organic solvent is preferred.
  • Examples of the compound having an alcoholic hydroxyl group include, for example, monohydric alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and isopropanol; dihydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol; and trihydric or higher polyhydric alcohols. it can.
  • those having two or more alcoholic hydroxyl groups for example, dihydric alcohol and trihydric alcohol are preferable, and among them, ethylene glycol and propylene glycol are preferable, and ethylene glycol is particularly preferable.
  • Examples of the compound having a phenolic hydroxyl group include unsubstituted phenols having one hydroxyl group, alkylphenols such as o-Zm-Zp-cresols and xylenols, and two phenolic hydroxyl groups.
  • Resorcinols can be used as the compound, and pyrogallols can be used as the compound having three phenolic hydroxyl groups.
  • Solvents having a functional group other than an alcoholic hydroxyl group and a phenolic hydroxyl group in the molecule can also be used as long as the intended effect of the present invention is not impaired.
  • a solvent having an alcoholic hydroxyl group as well as an alcoholic group, such as methyl sorb and sorb, can be used.
  • the aprotic organic solvent may be a polar solvent or a non-polar solvent.
  • the polar solvent include aptyloractone, avalerolactone, and a lactone-based solvent such as 5-valerolactone; a carbonate-based solvent such as ethylene carbonate, propylene-butanoate, and butylene-potato; Amide solvents such as N-methylformamide, N-ethylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-getylformamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone; Examples thereof include nitrile solvents such as 3-methoxypropyl pionitol and glulononitrile; and phosphate solvents such as trimethyl phosphate and triethyl phosphate.
  • the non-polar solvent include hexane, toluene, and silicone oil.
  • a particularly preferred non-aqueous solvent is ethylene glycol or T-butyrolactone alone or a mixture with any of the above-mentioned non-aqueous solvents.
  • the content of the nonaqueous solvent in the gold plating solution of the present invention is usually 10% by weight or more, preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and particularly preferably, It is 55% by weight or more, usually 95% by weight or less, preferably 90% by weight or less, more preferably 85% by weight or less, and particularly preferably 80% by weight or less.
  • the gold plating solution contains water
  • its content is usually 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more, more preferably 7% by weight or more, and particularly preferably 10% by weight or more, based on the whole gold plating solution.
  • the content is usually 85% by weight or less, preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and particularly preferably 30% by weight or less.
  • the ratio of water to the non-aqueous solvent is preferably 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more, more preferably 7% by weight or more, particularly preferably 10% by weight or more, and usually 90% by weight or less. It is preferably at most 60% by weight, more preferably at most 50% by weight, particularly preferably at most 40% by weight.
  • the gold plating solution of the present invention does not substantially contain cyan, it is an excellent gold plating solution that is excellent in safety, easy in disposal of waste liquid, and low in environmental load.
  • substantially free of cyan indicates that cyanide is not actively contained for the purpose of gold plating, and it is preferable that cyanide is not contained at all.
  • the content of cyan is lower, specifically, 1% by weight or less, especially 0.1% by weight.
  • the content is particularly preferably 0.01% by weight or less.
  • the gold plating solution can be suitably formed by adding a non-aqueous solvent to the gold plating solution, but the presence of the non-aqueous solvent suppresses the gas generation due to the electrolysis of water at the cathode, and It is considered that the reduction precipitation efficiency was improved.
  • the gold plating solution of the present invention may contain an additive capable of improving the properties of the plating film.
  • an additive capable of improving the properties of the plating film.
  • the additive one or more substances selected from additives and other substances used in known cyan or sulfite-based plating liquids, as long as the desired effect of the present invention is not hindered. Can be added for use.
  • the amount of the additive to be added is not particularly limited, and may be an appropriate amount in consideration of its effect and cost.
  • alloy plating may be performed by dissolving one or more metals other than gold in the gold plating solution of the present invention.
  • metals other than gold include copper, silver, and tin, which are well known as gold alloys (Kotofujita, surface technology, 47 (2), 144 (1996)), and the present invention.
  • Other metals can be used as long as they can be dissolved in the gold plating solution.
  • an anion other than iodide ion can be added to dissolve metals other than gold, as long as the desired effect of the present invention is not hindered.
  • the method for producing the gold plating solution of the present invention is not particularly limited, but can be obtained by mixing a gold source, an iodine source, a non-aqueous solvent, and other components as necessary.
  • a method in which gold or a gold alloy is dissolved in a solution containing iodine and iodide ions and a non-aqueous solvent at room temperature or, if necessary, by heating the solution is used.
  • the gold plating solution of the present invention is very stable, as can be seen from the fact that gold readily dissolves in a solution containing iodine and iodide at room temperature according to the following formula (2), the gold plating solution is free from dissolved oxygen and The gold complex can stably exist even when it comes into contact with atmospheric oxygen.
  • the gold iodide complex ion of the gold plating solution depends on the iodine (1 2 ) concentration in the solution
  • the equilibrium of the formula (3) is largely deviated to the left, and the gold ions in the gold plating solution are mainly gold iodide (I) complex ions. They can be used to efficiently perform electrolytic gold plating with a small amount of electricity.
  • the gold plating solution of the present invention preferably contains both iodine and iodide ions, the gold dissolving ability is high.
  • gold or a gold alloy is used for the material of the electrode (anode) opposite to the electrode (cathode) on the side where gold is deposited and plated.
  • gold or a gold alloy component can be replenished from the anode while plating is performed at the cathode, and stable operation with a constant gold concentration and alloy component concentration in the gold plating solution is possible. .
  • gold or a gold alloy as the anode, long-time plating can be performed, and the life of the plating solution can be extended.
  • gold or a gold alloy is used as the anode, it is preferable to appropriately adjust the composition and shape in consideration of the decomposition of the gold plating solution.
  • the plating method using the gold plating solution of the present invention can be performed by a known plating method. Usually, a constant current plating is performed, but a constant voltage plating or a pulse plating method such as a PR method may be used.
  • the current density in the case of constant current plating is usually 1 to 100 mAZ cm 2 , preferably 2 to 300 mAZ cm 2 , It is preferably 3 to 5 OmA / cm 2 , particularly preferably 4 to 2 OmAZcm 2 .
  • the present invention it is possible to provide a gold plating solution having performance comparable to that of a cyan-based gold plating solution and having no toxicity of cyan. Also, when plating is performed using gold as the anode material, the gold on the anode dissolves in the plating solution, and the amount of gold reduced by plating can be supplied to the plating solution in a balanced amount. Stable plating can be performed for a long time. Furthermore, gold alloy plating, which has been difficult with gold sulfite plating liquid, can be performed easily.
  • gold used was 99.99% pure manufactured by Rare Metallic Co., Ltd.
  • iodine, potassium iodide, and ethylene glycol were reagent grades manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Using.
  • arptyrolactone a high-purity solvent manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd. was used.
  • a mixture of 1.1 g of ethylene glycol and 2.6 g of ethylene glycol, 2% by weight of gold and iodine A gold plating solution of 17% by weight of potassium iodide, 2% by weight of iodine, 9% by weight of water and 70% by weight of ethylene glycol was prepared.
  • the iodide ion content at the time of preparation in this gold plating solution was 13% by weight, and the iodine element content was 15% by weight in combination with the aforementioned iodine content.
  • plating was performed on a gold sputtering film (cathode) at a current density of 5 mAZcm 2 for 30 minutes using platinum as a counter electrode (anode). The plating was performed at a voltage of about 2 V.
  • the plating film was a film mainly composed of gold.
  • Example 1 As in Example 1, 1.2 g of a mixture of gold, potassium iodide, iodine, and water was used, except that 2.7 g of arptyrolactone was used instead of ethylene glycol. A gold plating solution was prepared in the same manner as in Example 1, and the plating was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the plating was performed at a voltage of about 2 V.
  • the iodide ion content at the time of preparation was 14% by weight, and the iodine element content was 16% by weight in combination with the iodine (12) content of 2% by weight.
  • the plating film was a film mainly composed of gold.
  • the time required for sputtering the entire gold film including the plating film and the underlayer was about four times that of the underlayer, and it was confirmed that the film thickness was sufficient.
  • Example 1 a gold plating solution was prepared and plated in the same manner as in Example 1 except that a gold sputtering film was used as a counter electrode (anode), and plating was performed at a voltage of about 2 V. Further, when the plating was continued for a long time, the gold sputtering film at the opposite electrode was completely dissolved, and the underlayer was exposed.
  • Example 2 The same as in Example 1, except that a mixture of gold, potassium iodide, iodine, and water was used at 1.0 Og, but 2.3 g of water was used instead of ethylene glycol. Similarly, a gold plating solution was prepared. Using the obtained gold plating solution, a platinum as the counter electrode (anode), a current density of 5 MAZ cm 2, were subjected to plated on the gold sputtered film (cathode electrode), the plated liquid following low voltage 1 V Decomposition occurred, and the crawl could not be performed.

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Description

明 細 書 金メッキ液および金メッキ方法 技術分野
本発明は、 金メッキ液に関し、 特に非シアン系の電解メツキ液に関する。 背景技術
金メッキ液として、 古くから、 シアン系のメツキ液が知られている。 シァ ン系の金メッキ液を用いると、 緻密で平滑といった優れた特性をもつ金メッ キ膜を析出させることができる。 しかも、 シアン系金メッキ液は安定で、 管 理が容易なため、広く用いられている。 しかしながら、 シアンは毒性が強く、 作業環境、 廃液処理などに多くの問題点があった。
そこで、 非シアンの低毒性金メッキ液が種々提案されている。 例えば、 亜 硫酸金を溶解した金メッキ液が広く用いられている (特許文献 1参照)。 しか しこの金メッキ液は、 その溶液中の亜硫酸イオンが溶存酸素や大気中の酸素 によって酸化されやすいので金メッキ液としての寿命が低下しやすい。 よつ て保管時ゃメツキ作業中に於いても窒素シール等による酸化防止手段を講ず る必要があり、 取り扱いにくいという問題があつた。
また、 チォスルファト金錯体、 亜硫酸塩、 ホウ酸およびエチレングリコー ルを溶解した金メッキ液も提案されている (特許文献 2参照)。 しかしこの金 メッキ液においても、 亜硫酸金を用いた金メッキ液と同様にメッキ液中の亜 硫酸イオンは酸化されやすいので、 同様な問題があった。
さらに、 ァセチルシスティン金錯体などの種々の金錯体からなる群から選 ばれた金化合物および錯化剤であるァセチルシスティンを溶解した金メッキ 液や、 アルカンスルホン酸またはアルカノールスルホン酸の 1種以上、 金ィ オン、 非イオン系界面活性剤を含有する金メッキ液等が提案されている (特 許文献 3、 4参照)。 しかしいずれも亜硫酸金を含む金メッキ液と同じく一価 の金イオンを含有しているので、 3 Au+→2 Au+Au3 +の反応による金の 不安定化の問題がある。
そこで、 三価金イオンであるエチレンジァミン金錯体を溶解した金メッキ 液が提案されている (特許文献 5〜8参照)。
特許文献 1 特開平 11一 61480号公報
特許文献 2 特開昭 51— 47539号公報
特許文献 3 特開平 10— 317183号公報
特許文献 4 特開平 8— 41676号公報
特許文献 5 特開平 11一 293487号公報
特許文献 6 特開 2000— 204496号公報
特許文献 7 特開 2000— 355792号公報
特許文献 8 特開 2001— 110832号公報)
しかしエチレンジァミンは経皮および吸入暴露による死亡事故例があるな ど (化学物質毒性ハンドブック第 II巻、 II一 84、 (1999 ) 丸善)、 有害 性の問題があり、 安定で取り扱いの容易な金メッキ液が求められている。 発明の開示
本発明者らは、 上記課題について鋭意検討を行った。 そして金をヨウ化金 錯イオンとして溶解する溶液として知られている、 ヨウ素 (12)およびヨウ 化物イオン (I— ) を含有する水溶液に着目した。 この水溶液に金を溶解させ て得られた金水溶液で電解金メッキ (以下、 単に 「金メッキ」 ということが ある。) を行う際、 非水溶媒の存在下で金メッキを行うことで、 水の電解を抑 制し、 良好な金メッキ膜が得られることを発見し、 本発明を完成した。
すなわち、 本発明の要旨は、 ヨウ化物イオン、 ヨウ化金錯イオンおよび非 水溶媒を含有することを特徴とする金メッキ液、 およびこれを用いた金メッ キ方法に存する。 発明を実施するための形態 以下、 本発明を詳細に説明する。
本発明の金メッキ液は、 ヨウ化物イオン (1—)、 ヨウ化金錯イオンおよび 非水溶媒を含有する。
本発明の金メッキ液におけるョゥ化物ィオンは、 ョゥ化物塩等を用いて調 製することが好ましい。 ヨウ化物塩のカチオンとしては、 金を安定して溶解 させ、 金メッキに悪影響与えないものであればよい。 具体的には、 アルカリ 金属イオン、 アンモニゥムイオン、 1, 2, 3または 4級アルキルアンモニ ゥムイオン、 ホスホニゥムイオンおよびスルホニゥムイオンなどが例示でき る。 好ましくは、 ナトリウムイオン、 カリウムイオンなどのアルカリ金属ィ オンであり、 特に好ましくは、 力リゥムイオンである。 これらのカチオンは 単独で使用しても、 2種類以上のカチオンを組み合わせて用いてもよい。 本発明の金メッキ液における、 ヨウ化金錯イオンは、 次式 (1) 又は (2) に従い、 調製することができる。 即ち、 ヨウ化物イオンおよび非水溶媒を含 有する溶液又はこれに酸化剤を加えた溶液による金を電解溶解により溶解さ せて調製する方法や、 ヨウ化物イオン、 非水溶媒及び酸化剤を含む溶液に金 を溶解させて調製する方法が挙げられる。
Au + 2 1 - → [Au l 2]- + e — (1)
2 Au + I 2 + 2 1 - → 2 [Au I 2]" (2) 酸化剤としてはヨウ素 (12) を直接用い、 本発明の金メッキ液を調製して もよいし、 またメツキ液中のヨウ化物イオン (I— ) を酸化して 12とする酸 化剤を添加して調製してもよい。 この様な酸化剤としては、 メツキ液中のョ ゥ化物イオン (I— ) を酸化して I 2とするものであれば任意のものを使用で きる。 具体的には、 例えば、 ヨウ素 (12)、 ヨウ素酸 (H I 03)、 過ヨウ素 酸 (H I 04) やこれらの塩等が挙げられる。 なかでも、 溶液への溶解性及び 液中の安定性等を考慮して本発明の金メッキ液を調製する際は、ヨウ素(I 2) を用いることが好ましい。
本発明の金メッキ液におけるヨウ素元素の含有量は、 金メッキ液に含有さ せたいヨウ化金錯イオンの量によって、 適宜選択すればよい。 つまり、 本発 明の金メッキ液を調製するに際し、 金の所望溶解量に必要とされる、 1 2等の 酸化剤量を必要に応じて選択すればよい。
本発明の金メッキ液中におけるヨウ素元素含有量とは、 金メッキ液中のョ ゥ化物イオンやヨウ化金錯イオン、更には金を溶解させるために I 2を用いた 際にはその残存量等の合計量を、ヨウ素元素に換算した値を示す。この値は、 測定により求めることができるが、 本発明のメツキ液を調製する際に用いる 仕込み原料の量から計算して求めることもできる。 本発明の金メッキ液にお けるヨウ素元素の含有量は、 金メッキ液全体に対して、 通常 1重量%以 上、 好ましくは 0 . 5重量%以上、 さらに好ましくは 1重量%以上、 特に好 ましくは 5重量%以上である。 またこの含有量の上限は通常 7 5重量%以下、 好ましくは 5 0重量%以下、 さらに好ましくは 3 0重量%以下、 特に好まし くは 2 0重量%以下である。
また、 本発明の金メッキ液中にヨウ素 (I 2 ) とヨウ化物イオンの両方を含 有する際には、 ヨウ素 (1 2 ) とヨウ化物イオンの重量比 (ヨウ素 ( I 2 ):ョ ゥ化物イオン) は、 金を安定に溶解させることができ、 本発明の所期の効果 を損なわない限り、 特に制限はない。
但し、 本発明の金メッキ液におけるヨウ素 (1 2) 含有量が多すぎると、 例 えば金メッキをするに当たり金 (または金合金) 膜が積層されたものを陰極 として用いる際、 金メッキ液中のヨウ素 (1 2 ) による電極の溶解が著しく、 所望のメツキが行えない場合がある。 よって本発明の金メッキ液におけるョ ゥ素 (I 2)含有量は金めつき液としての性能を損なわない限りにおいて低い 方が好ましく、 金源として金、 ヨウ素源として、 ヨウ素およびヨウ化物ィォ ンを用いる場合は、 通常、 仕込み時の重量比として (ヨウ素 (1 2 ) :ヨウ化 物イオン) は、 1 : 2〜: 1 : 1 0 0 0、 好ましくは 1 : 3〜 1 : 1 0 0、 さ らに好ましくは 1 : 5〜 1 : 3 0である。
本発明の金メッキ液は、 更に非水溶媒を含有することを特徴とする。 非水 溶媒を含有していれば水を含有していてもよい。 非水溶媒の種類は、 良好に メツキができ、 溶質に対する十分な溶解度を持つものであれば特に制限はな いが、 アルコール性水酸基および Zまたはフエノール性水酸基を有する化合 物若しくは非プロトン性有機溶媒が好ましい。
アルコール性水酸基を有する化合物としては、 例えば、 メタノール、 エタ ノール、 プロパノール、 イソプロパノール等の 1価アルコール;エチレング リコール、 プロピレングリコール等の 2価アルコール; 3価以上の多価アル コ一ルを用いることができる。
なかでも、 2つ以上のアルコール性水酸基を有するもの、 例えば 2価アル コールや 3価アルコールが好ましく、 中でもエチレングリコールやプロピレ ングリコールが好ましく、 特にエチレングリコ一ルが好ましい。
フエノール性水酸基を有する化合物としては、例えば、 1つの水酸基を有す る無置換フエノ一ルや o— Zm— Z p—クレゾール類、 キシレノール類等の アルキルフエノール類、 また、 2つのフエノール性水酸基を有するものとし てはレソルシノール類が、 また 3つのフエノ一ル性水酸基を有するものとし てはピロガロ一ル類等を用いることができる。
分子内にアルコール性水酸基やフエノール性水酸基以外の官能基を有する 溶媒も、本発明の所期の効果を阻害しない限り用いることができる。例えば、 メチルセ口ソルブゃセ口ソルブ等のようにアルコール性水酸基とともにアル コキシ基を有する溶媒も用いることができる。
非プロトン性有機溶媒は、極性溶媒であっても非極性溶媒であってもよい。 極性溶媒としては、 ァープチロラクトン、 ァーバレロラクトン、 (5—バレ ロラクトンなどのラクトン系溶媒;エチレンカーボネ一ト、 プロピレン力一 ポネート、 ブチレン力一ポネートなどのカーボネ一卜系溶媒; N—メチルホ ルムアミド、 N—ェチルホルムアミド、 N , N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジェチルホルムアミド、 N—メチルァセトアミド、 N, N—ジメチルァ セトアミド、 N—メチルピロリジノンなどのアミド系溶媒; 3—メトキシプ 口ピオ二トリル、 グル夕ロニトリルなどの二トリル系溶媒; トリメチルホス フェート、 トリェチルホスフェートなどのリン酸エステル系溶媒を例示する ことができる。 非極性溶媒としては、 へキサン、 トルエン、 シリコンオイルなどを例示す ることができる。
これらの溶媒は、 1種を単独で使用しても、 2種以上を組み合わせて使用 してもよい。 本発明の金メッキ液において、 特に好ましい非水溶媒は、 ェチ レングリコールまたは T一プチロラクトンの単独、 あるいは上述したいずれ かの非水溶媒との混合物である。
本発明の金メツキ液における非水溶媒の含有量は、 金メツキ液全体に対し て、 通常 1 0重量%以上、 好ましくは 3 0重量%以上、 さらに好ましくは 5 0重量%以上、特に好ましくは 5 5重量%以上であり、通常 9 5重量%以下、 好ましくは 9 0重量%以下、 さらに好ましくは 8 5重量%以下、 特に好まし くは 8 0重量%以下である。
金メッキ液が水を含む場合、 その含有量は、 金メッキ液全体に対して、 通 常 1重量%以上、好ましくは 5重量%以上、さらに好ましくは 7重量%以上、 特に好ましくは 1 0重量%以上であり、 通常 8 5重量%以下、 好ましくは 5 0重量%以下、さらに好ましくは 4 0重量%以下、特に好ましくは 3 0重量% 以下である。
非水溶媒に対する水の割合は、 好ましくは 1重量%以上、 好ましくは 5重 量%以上、 さらに好ましくは 7重量%以上、 特に好ましくは 1 0重量%以上 であり、 通常 9 0重量%以下、 好ましくは 6 0重量%以下、 さらに好ましく は 5 0重量%以下、 特に好ましくは 4 0重量%以下である。
また本発明の金メッキ液は、 実質的にシアンを含有していないので、 安全 性に優れ、 且つ廃液処理も容易であり、 環境への負荷が低い、 優れた金メッ キ液である。 ここで 「実質的にシアンを含まない」 とは、 シアンを金メッキ の目的のために積極的に含有させない事を示し、 全く含有しないことが好ま しい。 例えば、 本発明の金メッキ液を調製する際に、 不純物としてシアンが 混入した場合にも、 当然、 シアンの含有量は低い方が好ましく、 具体的には 1重量%以下、 中でも 0 . 1重量%以下、 特に 0 . 0 1重量%以下とするこ とが好ましい。 金メツキ液に非水溶媒を含有させることにより金メツキが好適に行えるよ うになつた理由は明らかではないが、 非水溶媒の存在により、 陰極における 水の電解によるガス発生が抑制され、 金の還元析出効率が良好になったため と考えられる。
本発明の金メツキ液は、 メッキ膜の特性を向上させることが可能な添加剤 を含有していても良い。 添加剤としては、 本発明の所期の効果を妨げない限 り、 公知のシアン系あるいは亜硫酸系のメツキ液で用いられていた添加剤お よびそれ以外の物質の中から選択する一種以上の物質を添加して用いること ができる。 このとき、 添加剤の添加量には特段の制限はなく、 その効果とコ ストを勘案して適切な量とすればよい。
また本発明においては、 金以外の一種以上の金属を本発明の金メッキ液に 溶解させることにより、合金メッキを行ってもよい。金以外の金属としては、 金合金としてよく知られている銅、 銀、 スズなどが挙げられるが (古藤田、 表面技術、 4 7 ( 2 )、 1 4 2 ( 1 9 9 6 ) )、 本発明の金メッキ液に溶解しう る限り、 それ以外の金属を用いることもできる。 このとき、 本発明の所期の 効果を妨げない限り、 金以外の金属を溶解させるためにヨウ化物イオン以外 の陰イオンを加えることもできる。
本発明の金メッキ液の製造方法は、特に制限されないが、金源、 ヨウ素源、 非水溶媒および必要に応じて他の成分を混合することにより得ることができ る。好ましくは、ヨウ素およびヨウ化物イオンおよび非水溶媒を含む溶液に、 室温で又は必要に応じて溶液を加熱し、 金または金合金を溶解する方法が用 いられる。
本発明の金メッキ液は、 金が次式 (2 ) に従いヨウ素およびヨウ化物ィォ ンを含有する溶液に室温で容易に溶解することからもわかるように、 非常に 安定であるので、 溶存酸素や大気中の酸素に接触しても、 金錯体は安定に存 在することができる。
2 A u + I 2 + 2 I一 → 2 [A u I 2] - ( 2 ) また、 本金メッキ液のヨウ化金錯イオンは液中のヨウ素 (1 2 ) 濃度に依存 した次式 (3 ) の平衡が存在し、 前出の不均化反応等による金の析出が起こ り難い。 そして本発明の金メッキ液中のヨウ素濃度及びヨウ化物イオン濃度 比より式 (3 ) の平衡は、 大きく左に偏っており、 金メッキ液中の金イオン としては主としてヨウ化金 (I ) 錯イオンとして存在しており、 少ない電気 量で効率的に電解金メツキを行うことが可能となる。
[A u I 2] ' + I 2 + I - [A u 1 4] - + I - ( 3 ) 金源としては、 金合金、 または単体の金などが挙げられるが、 メツキ液へ の不純物混入防止の点から単体の金またはヨウ化金などが好ましく用いられ るが、 入手のしゃすさから、 単体の金が望ましい。 単体の金は、 金メッキ液 製造方法に応じて、 塊、 箔、 板、 粒、 粉等、 いずれの形態でも差し支えない。 また、 同じく、 メツキ液組成に及ぼす影響から、 合金のメツキ液とする場合 は、 メッキ膜を得ようとする合金と同様の組成の単体の金属が好ましく用い られる。 この場合は、 溶解速度を考慮して、 合金組成をメツキ膜組成と若干 ずれた組成を用いることもある。
本発明の金メツキ液は、 好ましくはヨウ素とヨウ化物イオンとの両方を含 有しているため、 金の溶解能力が高い。 本発明の金メッキ液を用いた金メッ キ方法 (電解メツキ方法) では、 金が析出しメツキされる側の電極 (陰極) とは反対の電極 (陽極) の材料に、 金もしくは金合金を用いてメツキを行う と、 陰極でメツキを行いながら、 陽極から金あるいは金合金成分を補給する ことができ、 常に金メツキ液中の金濃度および合金成分濃度を一定にした安 定運転が可能となる。 このように、 陽極として金もしくは金合金を用いるこ とにより、 長時間のメツキが可能であり、 メツキ液の寿命の延長を図ること ができる。 陽極として金もしくは金合金を用いる場合は、 金メッキ液の分解 等を考慮して、 組成おょぴ形状を適宜調製することが好ましい。
本発明の金メッキ液を用いたメツキの方法としては、 公知のメッキ方法で 行うことができる。通常は、定電流メツキが行われるが、定電圧メツキでも、 P R法などのパルスメツキ法でもよい。 定電流メツキの場合の電流密度は、 通常 1〜1 0 0 0 mAZ c m 2、 好ましくは 2〜 3 0 0 mAZ c m2、 さらに 好ましくは 3〜5 OmA/cm2, 特に好ましくは 4〜2 OmAZcm2であ る。
本発明によれば、 シアン系金メッキ液に匹敵する性能を持ちながら、 シァ ンの毒性を持たない金メッキ液を提供することができる。 また、 陽極材料に 金を用いてメツキを行うと、 陽極の金がメツキ液中に溶解し、 メツキによつ て減少した金とバランスした量の金をメッキ液に供給することができるので、 安定したメツキを長期間行うことができる。 さらに、 亜硫酸金系メツキ液で は困難であつた金合金のメツキを容易に行うことができる。
実施例
本発明を実施例により具体的に説明する。 なお、 本願の実施例では、 金は (株) レアメタリック製の純度 99. 99 %のものを用い、 ヨウ素、 ヨウ化 カリウム、 およびエチレングリコールは、 和光純薬工業 (株) 製の試薬特級 を用いた。 また、 ァープチロラクトンはキシダ化学 (株) 製の高純度溶媒を 用いた。
(実施例 1 )
金 2. 8 g、 ヨウ化カリウム 25. 3 g、 ヨウ素 2. 9 g、 水 12. 9 g を混合した液 1. 1 gにエチレングリコール 2. 6 gを混合し、金 2重量%、 ヨウ化カリウム 17重量%、 ヨウ素 2重量%、 水 9重量%、 エチレングリコ ール 70重量%の金メッキ液を調製した。 この金メッキ液における仕込み時 のヨウ化物イオン含有量は 13重量%であり、 先述のヨウ素含有量と合わせ てヨウ素元素含有量は 15重量%であった。
得られた金メッキ液を用い、 白金を対極 (陽極) として、 5mAZcm2の 電流密度で 30分、 金スパッ夕膜 (陰極) 上にメツキを行ったところ、 約 2 Vの電圧でメツキされた。
得られたメツキ膜と下地のスパッ夕膜をォ一ジェ電子分光法により深さ方向 の元素分布を分析した結果、 メツキ膜は金を主成分とする膜であった。
このとき、 メツキ膜と下地を合わせた金膜全体のスパッ夕に要した時間は、 下地に対し約 3倍であり、 十分な膜厚を有していることも確認された。 (実施例 2 )
実施例 1と同じ、 金、 ヨウ化カリウム、 ヨウ素、 および水の混合液を 1 . 2 gを使用するが、エチレングリコールの代わりに、ァープチロラクトン 2 . 7 gを用いた他は、 実施例 1と同様に金メッキ液を調製し、 実施例 1と同様 にメツキを行ったところ、 約 2 Vの電圧でメツキされた。 尚、 仕込み時のョ ゥ化物イオン含有量は 1 4重量%であり、 ヨウ素 (1 2 ) 含有量の 2重量% と合わせてヨウ素元素含有量は 1 6重量%であった。
得られたメツキ膜と下地のスパッ夕膜をォージェ電子分光法により深さ方 向の元素分布を分析した結果、 メツキ膜は金を主成分とする膜であった。 こ のとき、 メツキ膜と下地を合わせた金膜全体のスパッ夕に要した時間は、 下 地に対し約 4倍であり、 十分な膜厚を有していることも確認された。
(実施例 3 )
実施例 1において、 対極 (陽極) として金スパッ夕膜を用いた他は実施例 1と同様に金メッキ液を調製し、 メツキを行ったところ、 約 2 Vの電圧でメ ツキされた。 さらに、 メツキを長時間続けて行ったところ、 対極の金スパッ 夕膜が全て溶解し、 下地が露出した。
(比較例 1 )
実施例 1と同じ、 金、 ヨウ化カリウム、 ヨウ素、 および水の混合液を 1 . O gを使用するが、 エチレングリコールの代わりに、 水 2 . 3 gを用いた他 は、 実施例 1と同様に金メッキ液を調製した。 得られた金メッキ液を用い、 白金を対極 (陽極) として、 5 mAZ c m2の電流密度で、 金スパッタ膜 (陰 極) 上にメツキを行ったところ、 1 V以下の低い電圧でメツキ液の分解が起 こり、 メツキを行うことはできなかった。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . ヨウ化物イオン、 ヨウ化金錯イオンおよび非水溶媒を含有することを特 徴とする金メッキ液。
2 . ヨウ素元素含有量が 0 . 5〜5 0 [重量%] であることを特徴とする請 求項 1に記載の金メツキ液。
3 . 非水溶媒がアルコール性水酸基および Zまたはフエノール性水酸基を有 する化合物若しくは非プロトン性有機溶媒であることを特徴とする請求項 1 または 2に記載の金メッキ液。
4 . 非水溶媒が 2つ以上のアルコール性水酸基、 および Zまたはフエノール 性水酸基を有する化合物若しくは非プロトン性溶媒であることを特徴とする 請求項 3に記載の金メッキ液。
5 . 非水溶媒がエチレングリコールまたはァープチロラクトンであることを 特徴とする請求項 1乃至 4のいずれかに記載の金メッキ液。
6 . 金メツキ液がさらに水を含有することを特徴とする請求項 1乃至 5のい ずれかに記載の金メッキ液。
7 . 金メッキ液が実質的にシアンを含まないことを特徴とする請求項 1ない し 6のいずれかに記載の金メツキ液。
8 . 請求項 1乃至 7のいずれかに記載の金メツキ液を用いる金メツキ方法。
9 . 電解メツキ方法であることを特徴とする請求項 8に記載のメツキ方法。
1 0 . 陽極に金または金合金を用いることを特徴とする請求項 9に記載のメ ッキ方法。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006131926A (ja) * 2004-11-02 2006-05-25 Sharp Corp 微細孔に対するメッキ方法、及びこれを用いた金バンプ形成方法と半導体装置の製造方法、並びに半導体装置
KR20070083922A (ko) * 2004-11-02 2007-08-24 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 금도금액 및 금도금 방법
IL181126A0 (en) * 2006-11-01 2007-07-04 S B Biotechnologies Ltd Preparation of gold-containing nano-liposome particles and their use in medical therapy
DE102007008183A1 (de) 2007-02-12 2008-08-14 Wieland Dental + Technik Gmbh & Co. Kg Galvanische Abscheidung von Gold und Goldlegierungen
JP5336785B2 (ja) * 2007-08-07 2013-11-06 メタローテクノロジーズジャパン株式会社 バンプ形成用非シアン系電解金めっき浴及びバンプ形成方法
US8980460B2 (en) * 2012-02-07 2015-03-17 Battelle Memorial Institute Methods and electrolytes for electrodeposition of smooth films
JP6471688B2 (ja) * 2013-03-19 2019-02-20 ソニー株式会社 メッキ膜の製造方法
CA3028584A1 (en) 2016-06-24 2017-12-28 Enviroleach Technologies Inc. Methods, materials and techniques for precious metal recovery
US10526682B2 (en) 2017-07-17 2020-01-07 Enviroleach Technologies Inc. Methods, materials and techniques for precious metal recovery
CN108441901A (zh) * 2018-04-18 2018-08-24 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种无氰有机溶剂的电镀金溶液
WO2020168074A1 (en) * 2019-02-14 2020-08-20 Lam Research Corporation Gold through silicon mask plating

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4859293A (en) * 1986-07-16 1989-08-22 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Process for refining gold and apparatus employed therefor

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2445537A1 (de) 1974-09-20 1976-04-08 Schering Ag Bad zur galvanischen abscheidung von gold
US4375984A (en) * 1980-08-14 1983-03-08 Bahl Surinder K Recovery of gold from bromide etchants
JPS589060A (ja) 1981-07-09 1983-01-19 Kureha Chem Ind Co Ltd 電気泳動法による細胞の検査方法
US4557759A (en) * 1984-04-10 1985-12-10 In-Situ, Inc. Iodine leach for the dissolution of gold
US4734171A (en) * 1984-04-10 1988-03-29 In-Situ, Inc. Electrolytic process for the simultaneous deposition of gold and replenishment of elemental iodine
JPS60245797A (ja) * 1984-05-18 1985-12-05 Nippon Steel Corp 非水溶媒系電気メツキ液およびその製造法
US4832743A (en) * 1986-12-19 1989-05-23 Lamerie, N.V. Gold plating solutions, creams and baths
US4999054A (en) * 1986-12-19 1991-03-12 Lamerie, N.V. Gold plating solutions, creams and baths
JP2739495B2 (ja) * 1989-05-12 1998-04-15 日鉱金属株式会社 金含有ヨウ素浸出貴液の浄液方法
FR2671558B1 (fr) * 1991-01-10 1993-04-23 Corning Inc Materiau electrolytique pour la modulation de la lumiere et dispositifs electro-optiques utilisant ce materiau.
JP3365866B2 (ja) 1994-08-01 2003-01-14 荏原ユージライト株式会社 非シアン性貴金属めっき浴
JP3671102B2 (ja) 1997-05-16 2005-07-13 株式会社大和化成研究所 非シアンの電気金めっき浴
US6833275B1 (en) * 1997-07-22 2004-12-21 Roche Diagnostics Gmbh Gold conjugates containing detergent
JP3692454B2 (ja) 1997-08-08 2005-09-07 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液
US5897695A (en) * 1997-09-02 1999-04-27 Xerox Corporation Ink compositions
EP0940652B1 (en) * 1998-03-05 2004-12-22 Nippon Telegraph and Telephone Corporation Surface shape recognition sensor and method of fabricating the same
JP4220053B2 (ja) 1999-01-14 2009-02-04 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 金メッキ液及びその金メッキ液を用いたメッキ方法
JP3898334B2 (ja) 1998-04-15 2007-03-28 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 金メッキ液及びその金メッキ液を用いたメッキ方法
JP4256994B2 (ja) 1999-10-05 2009-04-22 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 回路基板の実装方法及び金めっき液並びに金めっき方法
JP3181571B2 (ja) 2000-01-27 2001-07-03 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 金メッキ液及びそれを用いた金メッキ方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4859293A (en) * 1986-07-16 1989-08-22 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Process for refining gold and apparatus employed therefor

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Publication number Publication date
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