WO2003032090A1 - Composition de resine photosensible - Google Patents

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WO2003032090A1
WO2003032090A1 PCT/JP2002/002429 JP0202429W WO03032090A1 WO 2003032090 A1 WO2003032090 A1 WO 2003032090A1 JP 0202429 W JP0202429 W JP 0202429W WO 03032090 A1 WO03032090 A1 WO 03032090A1
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WO
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epoxy resin
photosensitive resin
resin composition
bisphenol
type epoxy
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PCT/JP2002/002429
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Inventor
Hiroshi Uei
Kazuo Otani
Original Assignee
Showa Highpolymer Co., Ltd.
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • C08L63/10Epoxy resins modified by unsaturated compounds
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition. More specifically, in the field of electronic materials such as printed wiring board solder resist, high-density multilayer board interlayer insulation, solder resist for semiconductor packages, and resist ink for flexible printed wiring boards, it has excellent developability in dilute alkaline aqueous solution.
  • the cured coating film relates to a photosensitive resin composition having excellent flexibility, heat resistance, solder heat resistance, adhesion, water resistance, bending resistance, chemical resistance, and the like. Background art
  • Japanese Patent Publication No. 1-534390 discloses a liquid resist ink composition having excellent photocurability, thermosetting property, heat resistance, solvent resistance, and acid resistance and developable with an aqueous alkali solution.
  • a photocurable resin obtained by reacting a saturated or unsaturated polybasic anhydride with a reaction product of a nopolak epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid, a photopolymerization initiator, a diluent, and two or more
  • a liquid resist ink composition containing an epoxy compound having an epoxy group has been proposed and is currently mainstream.
  • an object of the present invention is to provide a coating film having excellent developability in a dilute alkaline aqueous solution, and having a cured film, in particular, having flexibility, heat resistance, solder heat resistance, adhesion, water resistance, bending resistance, and
  • An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition having excellent chemical properties and the like. Disclosure of the invention
  • the present invention relates to (A) a hydroxyl group of a reaction product (I) obtained by adding an unsaturated monobasic acid to an epoxy group of a phenol novolak and / or a cresol novolak-modified bisphenol type epoxy resin, Or a resin obtained by the addition reaction of an unsaturated polybasic anhydride,
  • a photosensitive resin composition comprising:
  • the present invention provides a phenol novolak and / or a cresol nopolak modified bisphenol type epoxy resin in the component (A), wherein the phenol novolak is based on 1 equivalent of the epoxy group of the bisphenol type epoxy resin.
  • the present invention provides the above photosensitive resin composition, characterized in that hydroxyl groups are reacted at a ratio of 0.05 to 0.5 equivalent.
  • the present invention provides the photosensitive composition, wherein the phenol novolak and / or cresol novolak modified bisphenol type epoxy resin in the component (A) is obtained by reacting with a phosphorus-based catalyst.
  • the present invention provides a conductive resin composition.
  • the bisphenol-type epoxy resin in the component (A) is an isocyanate-modified epoxy resin which is a reaction product of the bisphenol-type epoxy resin and a diisocyanate compound. It provides a composition.
  • the present invention also relates to a reaction product of the component (A), in which 0.1 to 0.8 equivalent of a saturated and Z or unsaturated polybasic anhydride is reacted with 1 equivalent of the hydroxyl group in the reaction product (I).
  • the present invention also provides the above-mentioned photosensitive resin composition.
  • the present invention also provides the above photosensitive resin composition, wherein (B) an epoxy resin is blended at 1 to 5% by weight with respect to the composition.
  • the present invention also provides the above photosensitive resin composition, wherein (C) a photopolymerization initiator is incorporated in an amount of 0.5 to 20% by weight based on the composition.
  • the present invention also provides the above-mentioned photosensitive resin composition, wherein (D) a polymerizable unsaturated compound and / or a solvent is blended in an amount of 5 to 80% by weight based on the composition.
  • the phenol novolak and / or cresol novolac modified bisphenol type epoxy resin in the component (A) is an epoxy resin obtained by reacting a phenol novolak with a bisphenol type epoxy resin.
  • the bisphenol-type epoxy resin to be used may be a known one.For example, it is obtained by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S and tetrabromobisphenol A with ephalohydrin. This refers to all epoxy resins containing a bisphenol skeleton, such as aliphatic bisphenol-type epoxy resins such as ether-type bisphenol-type epoxy resins and bisphenol A dipropoxy diglydyl ether. Further, a hydrogenated bisphenol epoxy resin may be used.
  • the isocyanate-modified epoxy resin ⁇ used in the present invention is a known epoxy resin having an oxazolidone ring structure in a skeleton obtained by reacting a diisocyanate compound with a bisphenol-type epoxy resin.
  • a product obtained by reacting a diisocyanate compound with a phenolic epoxy resin can be used.
  • known compounds can be used as the diisocyanate compound used in the reaction.
  • the isocyanate-modified epoxy resin is synthesized using the bisphenol-type epoxy resin and the diisocyanate compound in the presence of an oxazolidone-forming catalyst.
  • the details of the isocyanate-modified epoxy resin having an oxazolidone ring are described in, for example, JP-B-53-45757, JP-A-5-43657 and the like.
  • As commercial products of the isocyanate-modified epoxy resin having an oxazolidone ring XAC4151, XAC4152 (manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.) and the like may be used.
  • phenol novolak and cresol novolak used in the present invention known phenol resins such as novolak type and cresol type can be used. Specifically, phenol novolaks such as BRG-553, BRG-553B, BRG-556, BRG-557, BRG-558, BRG-5833Y, and CRMs manufactured by Showa Takanoshi Co., Ltd. -Use Cresol novolak such as -55 2, CRM-553.
  • the reaction between the bisphenol-type epoxy resin ⁇ - ⁇ and phenol and / or cresol novolac can be carried out according to a known method.
  • the addition reaction is carried out at a temperature of about 100 to 170 ° C. in the presence of an amine-based or phosphorus-based catalyst, in the absence of a solvent or in the presence of a solvent.
  • the amine-based catalyst include amines such as tertiary amines and quaternary ammonium salts
  • examples of the phosphorus-based catalyst include triphenylphosphine.
  • the reaction ratio is such that the hydroxyl group of the phenol novolak is reacted at a ratio of 0.05 to 0.5 equivalent, preferably 0.1 to 0.4 equivalent to 1 equivalent of the epoxy group of the bisphenol type epoxy resin. . If the phenol novolak is less than 0.05 equivalent, no improvement in developability is observed, the viscosity exceeding 0.5 equivalent is too high, and the toughness of the cured product is reduced.
  • the unsaturated monobasic acid in the component (A) of the present invention is a monobasic acid having one carboxyl group and one or more polymerizable unsaturated bonds, and specific examples thereof include acrylic acid and methyacrylic acid. Can be suitably used. Acrylic acid is particularly preferred for obtaining high activation energy photocurability.
  • a carboxyl group-containing polyfunctional acrylate or methyl acrylate which is a reaction product of methyl acrylate with a dibasic acid among the polybasic acid anhydrides described below, may be mentioned. Two or more of these unsaturated monobasic acids may be used in combination.
  • the unsaturated monobasic acid When the unsaturated monobasic acid is reacted with the novolak and / or cresol novolak modified epoxy resin, the unsaturated monobasic acid is used in an amount of 0.8 to 1.2 mol per 1 equivalent of the epoxy group of the novolak modified epoxy resin.
  • the reaction is preferably carried out at a ratio of 0.9 to 1.1 mol. If the amount of the unsaturated monobasic acid is less than 0.8 mol, the storage stability will deteriorate, and there will be problems such as gelation during the synthesis.If it is more than 1.2 mol, odor or It causes a decrease in heat resistance.
  • ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, toluene, xylene, tetramethyl benzene and the like can be used.
  • Aromatic hydrocarbons such as dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol getyl ether, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, sorbitol acetate, and carbitol acetate
  • organic solvents such as petroleum-based solvents such as aliphatic hydrocarbons such as octane and decane, petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solpentnaphtha.
  • carbitol (meth) acrylate penyu erythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isosinurate tri (meth) acrylate, dipentyl erythritol hexa
  • reactive monomers such as (meth) acrylates.
  • reaction catalysts can be used, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, methyltriethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, Triphenyl stibine, chromium octoate, zirconium octoate and the like can be mentioned.
  • the amount of the catalyst used is preferably 0.01 to 5% by weight based on the total of the nopolak and z or cresol novolac modified epoxy resin and the unsaturated monobasic acid.
  • the reaction temperature is preferably from 60 to 150 ° C.
  • the reaction time is preferably 5 to 60 hours.
  • the reactant (I) can be obtained.
  • the saturated or unsaturated polybasic anhydride to be reacted with the reactant (I) includes maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, hydrofluoric anhydride, tetrahydrohydrofuranic anhydride.
  • Dibasic acid anhydrides such as acids, hexahydrofluoric anhydride, endmethylenetetrahydrofluoric anhydride, methyltetrahydrofluoric anhydride, and chlorendic anhydride; trimellitic anhydride, pyroanhydride
  • Polybasic anhydrides such as melitic acid, benzophenonetetracarboxylic anhydride, biphenyltetracarboxylic anhydride, etc., and in particular, tetrahydrofluoric anhydride, succinic anhydride, and hexaldehyde anhydride phthalic anhydride The use of is preferred.
  • the reaction amount of the saturated or unsaturated polybasic acid anhydride is preferably 0.1 to 0.8 equivalents, more preferably 1 to 0.8 equivalents of the saturated and / or unsaturated polybasic acid anhydride, per 1 equivalent of the hydroxyl group in the reaction product (I). Is from 0.3 to 0.7 equivalent. If the addition amount of the saturated and / or unsaturated polybasic acid anhydride is less than 0.1 equivalent, sufficient developability cannot be obtained.If the addition amount exceeds 0.8 equivalent, the electrical properties of the cured coating film may be reduced. Will drop.
  • the amount of the component (A) in the composition of the present invention is preferably from 10 to 80% by weight, more preferably from 15 to 60% by weight in the composition.
  • the epoxy resin is, for example, one having one or more epoxy groups in one molecule, such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol ⁇ type epoxy resin. , Phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, dicyclopentene phenol novolak epoxy resin, phenol-cresol novolak co-condensation epoxy resin, bisphenol A novolak epoxy resin, bisphenol F novo Epoxy chlorohydric compounds such as rack epoxy resins or their halogenated epoxy compounds, triphenyl-2-methyl epoxy resins, alkyl-substituted triphenyl monomethyl epoxy resins, tetraphenyl alcohol epoxy resins, etc.
  • Epoxy resin obtained by reacting polyfunctional hydroxynaphthylene with epichlorohydrin, silicone-modified epoxy resin, ⁇ -force prolactone-modified epoxy resin, epichlor Examples include glycidylamine type epoxy resins obtained by reacting hydrin with primary or secondary amines, and complex type epoxy resins such as triglycidyl isocyanate such as 1,3,5-triglycidyl isocyanurate. Can be One or more of these epoxy resins may be used in combination.
  • Epoxy resin is a thermosetting component, and its purpose of use is to improve various properties as a solder resist such as adhesion, heat resistance, and plating resistance.
  • the epoxy resin is used alone or as a mixture of two or more, and the amount of the epoxy resin contained in the composition of the present invention is 1 to 50% by weight, preferably 3 to 45% by weight in the composition. %.
  • an epoxy curing agent in combination with the epoxy resin (B).
  • examples of such an epoxy curing agent include imidazole derivatives, phenol derivatives, dicyandiamide, dicyandiamide derivatives, hydrazide derivatives, amines, acid anhydrides, and the like.
  • the above curing agents are used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the curing agent used is preferably such that the amount of active hydrogen of the curing agent is 0.5 to 1.2 equivalents per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (B).
  • photopolymerization initiator examples include benzoins, acetophenones, anthraquinones, thioxanthones, and benzophenones.
  • benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin isopropyl pyrether.
  • acetophenones include acetophenone and derivatives such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and anthraquinones include 2-methylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, and 2 -Derivatives such as 1-butylanthraquinone, thioxanthones include derivatives such as thioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone and 2,4-getylthioxanthone, and benzophenones include benzophenone and 41-methylbenzoyl sulfate.
  • Derivatives such as amides, 4,4, diclo-benzobenzophenone, ⁇ , ⁇ -dimethyleaminopenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -12-morpholinopropanone-1, etc., which can be used alone or in combination of two or more.
  • the photopolymerization initiator (C) a known photosensitizer may be used in combination.
  • the above photosensitizers may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the photopolymerization initiator is preferably added in an amount of 0.5 to 20% by weight based on the composition.
  • the polymerizable unsaturated compound and / or the solvent is used when a curable and active resin for active energy rays or a photosensitive resin composition is used as a resist ink. It is used for the purpose of improving the coatability of the film.
  • a monomer having an active energy ray-curing property is preferable.
  • examples of the solvent include ketones such as methylethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, carbitol such as ethylcellosolve, butylcebitol, carbitol and butyl carbitol. , Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl acetate sorb acetate, ethyl carbitol acetate and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the polymerizable unsaturated compound and / or the solvent to be used is 5 to 80% by weight, preferably 10 to 60% by weight, based on the composition.
  • the amount of the polymerizable unsaturated compound used is less than 5% by weight, the photosensitivity is too low.
  • the amount is more than 80% by weight, the viscosity becomes too low when the light-sensitive resin composition is used as a resist ink.
  • the resistance as a cured coating film becomes insufficient.
  • inorganic fillers such as silica, calcium carbonate, barium sulfate, clay, and talc, phthalocyanine green, and phthalocyanine blue
  • Acid Coloring pigments such as titanium and power pump black, and various additives such as antifoaming agents and leveling agents, as well as hydroquinone, resorcinol, catechol, viloganol, hide mouth quinone monomethyl ether, t-butyl catechol Polymerization inhibitors such as phenothiazine and phenothiazine may be used.
  • an isocyanate-modified epoxy resin XAC4152 having the following general formula, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 3
  • Cresol novolak type epoxy resin [Epototo YDCN-704, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 210, softening point 90 ° C] 210 parts, acrylic acid 72 parts (1 mol), methylhydroquinone 0.28 parts, Carbitol acetate 14 Charge 99.5 parts and heat to 95 ° C. After confirming that the above mixture is uniformly dissolved, add 1.4 parts of triphenylphosphine and heat to 100 ° C for about 30 hours. The reaction was carried out to obtain a reaction product having an acid value of 0.1 SmgKOH / g.
  • Bisphenol A type epoxy resin (epikoto 1001, oily shell epoxy
  • Epoxy equivalent 473 manufactured by Co., Ltd.] 473 parts, 72 parts (1 mol) of acrylic acid, 0.54 parts of methylhydroquinone, 234 parts of carbitol acetate are charged, and the mixture is heated to 95 ° C., and the mixture is homogeneous. After confirming that it was dissolved in water, 1.4 parts of triphenylphosphine was charged, heated to 100 ° C., and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 mg KOH / g. In addition, 127.7 parts of tetrahydrofluoric anhydride
  • photosensitive resin-4 having an acid value of 70 mgKOH / g and a solid concentration of 60%.
  • Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 [0202] The photosensitive resin obtained from the above Synthesis Examples and Comparative Synthesis Examples was kneaded with a three-roll mill according to the mixing ratio shown in Table 1 to prepare a photosensitive resin composition. Next, the photosensitive resin composition is applied to a pre-degreased printed circuit board by a screen printing method so as to have a dry film thickness of 30 to 40, and is pre-dried at 80 ° C for 20 minutes, and then to room temperature. After cooling, a dried coating film was obtained.
  • a negative film having a resist pattern is brought into close contact with this coating film, and exposed to 350 mJ / cm 3 using an ultraviolet exposure apparatus. After removing the negative film, a spray pressure of 2.Okgf is applied using a 1% aqueous sodium carbonate solution. / cm 2 for 60 seconds to dissolve and remove unexposed portions. Then, it was heated and cured at 150 ° C for 30 minutes using a hot air drier to obtain test specimens. The obtained coating film was evaluated for various physical properties according to the test methods described below. Table 2 shows the evaluation results of these tests. Examples 1 and 2 were confirmed to have physical properties having both heat resistance, which is an advantage of the cresol nopolak system, and flexibility, which is an advantage of the bisphenol type.
  • the pre-drying time 20 min, 40 min, 60 min, 80 min, the dry coating film was 100 minutes, using 1% sodium carbonate aqueous solution, a spray pressure of 2.0 / (: 111 2 for 60 seconds development, The presence or absence of the coating film after development was observed and evaluated according to the following criteria.
  • the coating film was cross-cut in a grid pattern, and then the peeling state after a billing test using a cellophane tape was visually judged.
  • the evaluation was performed based on the following criteria.
  • the coating film has peeling.
  • test piece was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds three times according to the test method of JIS C 6481, taken out, and observed for external appearance.
  • the evaluation was performed based on the following criteria.
  • X Floating, peeling, and solder latent of the cured film.
  • the test piece was left standing at 121 ° C, 2 atm, in a saturated steam atmosphere for 100 hours, and the appearance of the coating film was judged.
  • the evaluation was performed based on the following criteria.
  • The film has no blistering or peeling.
  • the coating film after curing is particularly excellent in dilute alkaline aqueous solution, and the cured film is particularly flexible, heat-resistant, solder-heat-resistant, adhesive, water-resistant, flex-resistant, and chemical-resistant.
  • a photosensitive resin composition excellent in such properties is provided.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is suitable for electronic material fields such as solder resist for printed wiring boards, interlayer insulating films for high-density multilayer boards, solder resists for semiconductor packages, and resist inks for flexible printed wiring boards.

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Description

明 細 書 感光性樹脂組成物 技術分野
本発明は、 感光性樹脂組成物に関する。 さらに詳しくは、 プリント配線板ソル ダーレジスト、高密度多層板層間絶縁月莫、半導体パッケージ用ソルダーレジスト、 フレキシブルプリント配線板用レジストインキ等の電子材料分野において、 希ァ ルカリ水溶液での現像性に優れ、 且つ硬化後の塗膜は、 特に可撓性、 耐熱性、 半 田耐熱性、 密着性、 耐水性、 耐屈曲性、 耐薬品性等に優れた感光性樹脂組成物に 関する。 背景技術
従来、 プリント配線板製造における永久マスクレジストは、 熱あるいは紫外線 硬化型レジストインキをスクリーン印刷する方法で製造されてきたが、 現在は生 産性の面からアル力リ現像型の液状ソルダーフォトレジストへと移行している。 例えば、 特公平 1— 5 4 3 9 0号公報には、 光硬化性、 熱硬化性、 耐熱性、 耐溶 剤性、 耐酸性に優れ、 アルカリ水溶液で現像可能な液状レジストインキ組成物と して、 ノポラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物に、 飽和 または不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる光硬化性樹脂、光重合開始剤、 希釈剤および、 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を含んでなる液状 レジストインキ組成物が提案され、 現在主流となっている。
しかしながら、 近年、 電子機器の小型化、 軽量化、 高性能化に伴い、 半導体パ ッケージの小型化、 多ピン化が実用化され、 量産化が進んでいる。 例えば、 B G A (ボールグリッドアレイ)、 C S P (チップサイズパッケージ) 等の半導体パ ッケージにおいて、 高信頼性の点から特に耐 P C T性が必要である。 しかし、 こ のような厳しい条件下において、 従来の液状感光性レジストは数時間〜数十時間 程度しか持たないのが現状である。 さらに、 半導体パッケージの実装方法は、 全 体を赤外線で加熱し、 半田をリフローして固定するので、 特公平 1— 5 4 3 9 0 号公報のような従来のソルダーレジストと塗膜では熱衝撃で塗膜にクラックが発 生したり、基盤から剥離してしまうという、いわゆる耐リフロー性の低下があり、 その改善が求められている。
これらの問題点を解決するには、 Tgを大きく低下させずに塗膜の伸びを大きく する必要があり、 そのためエポキシァクリレートの骨格の検討やエポキシァクリ レート合成時に導入する不飽和一塩基酸の一部を飽和一塩基酸等に置き換えて架 橋密度を調整する方法、 ゴム成分を導入する方法が検討されてきたが、 十分では なかった。
この中でエポキシァクリレートの骨格の検討では、 ビスフエノール型のェポキ シァクリレートの検討がなされているが、 特に炭酸ナトリゥム水溶液では現像性 が不十分で、 現像性の改良が望まれていた。
したがって、 本発明の目的は、 希アルカリ水溶液での現像性に特に優れ、 且つ 硬化後の塗膜が、 特に可撓性、 耐熱性、 半田耐熱性、 密着性、 耐水性、 耐屈曲性、 耐薬品性等に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。 発明の開示
本発明は、 (A) フエノールノボラヅクおよび/またはクレゾ一ルノボラック 変性ビスフヱノール型エポキシ樹脂のエポキシ基に、 不飽和一塩基酸を付加反応 させた反応物 (I ) の水酸基に、 さらに飽和および/または不飽和多塩基酸無水 物を付加反応させた樹脂、
( B ) エポキシ樹脂、
( C) 光重合開始剤、 および '
(D ) 重合性不飽和化合物および/または溶剤
を含有してなる感光性樹脂組成物を提供するものである。
また本発明は、 (A) 成分におけるフエノールノボラヅクおよび/またはクレ ゾ一ルノポラック変性ビスフエノ一ル型エポキシ樹脂が、 ビスフエノール型ェポ キシ樹脂のエポキシ基 1当量に対してフエノールノボラヅクの水酸基を 0 . 0 5 〜 0 . 5当量の割合で反応させたものであることを特徴とする前記の感光性樹脂 組成物を提供するものである。 また本発明は、 (A) 成分におけるフエノールノボラヅクおよび/またはクレ ゾールノボラック変性ビスフエノ一ル型エポキシ樹脂が、 リン系触媒で反応させ て得られたものであることを特徴とする前記の感光性樹脂組成物を提供するもの である。
また本発明は、 (A) 成分におけるビスフエノール型エポキシ樹脂が、 ビスフ ェノール型エポキシ樹脂とジィソシァネ一ト化合物の反応物であるィソシァネ一 ト変性エポキシ樹脂であることを特徴とする前記の感光性樹脂組成物を提供する ものである。
また本発明は、 (A) 成分において、 反応物 (I ) 中の水酸基 1当量に対して、 飽和および Zまたは不飽和多塩基酸無水物を 0 . 1 ~ 0 . 8当量反応させたもの であることを特徴とする前記の感光性樹脂組成物を提供するものである。
また本発明は、 (B ) エポキシ樹脂が、 組成物に対して 1〜5◦重量%配合さ れる前記の感光性樹脂組成物を提供するものである。
また本発明は、 (C ) 光重合開始剤が、 組成物に対して 0 . 5〜2 0重量%配 合される前記の感光性樹脂組成物を提供するものである。
また本発明は、 (D ) 重合性不飽和化合物および/または溶剤が、 組成物に対 して 5〜8 0重量%配合される前記の感光性樹脂組成物を提供するものである。 発明の詳細な説明
(A) 成分における、 フエノールノボラックおよび/またはクレゾ一ルノボラ ック変性ビスフエノール型エポキシ樹脂は、 ビスフエノール型エポキシ樹脂にフ エノ一ルノポラックを反応させて得たェポキシ樹脂である。
使用するビスフエノ一ル型エポキシ樹脂は公知のものが使用でき、 例えばビス フエノール A、 ビスフエノール F、 ビスフエノール Sおよびテトラプロモビスフ エノ一ル Aなどのビスフ ノール類とェピハロヒドリンとを反応して得られるェ 一テル型のビスフエノ一ル型ェポキシ樹脂やビスフエノール Aジプロボキシジグ リシジルエーテル等の脂肪族型のビスフエノ一ル型エポキシ樹脂等、 ビスフエノ —ル骨格が含まれる全てのエポキシ樹脂を指す。 また、 水素添加のビスフヱノー ル型エポキシ樹脂を使用してもよい。 本発明で使用されるイソシァネート変性ェポキシ樹 β旨とは、 ビスフエノール型 エポキシ樹脂にジイソシァネ一ト化合物を反応して得られる骨格中にォキサゾリ ドン環構造を有する公知のエポキシ樹脂であり、 上述のビスフエノール型ェポキ シ樹脂にジイソシァネート化合物を反応させたものを使用することができる。 反応に使用するジイソシァネート化合物としては公知のものが使用でき、 例え ばメン夕ンジイソシァネート、 ブタン一 1, 1—ジイソシァネート、 ェ夕ン一 1, 2 —ジイソシァネート、 プロパン一 1, 3—ジイソシァネート、 ブタン一 1, 2—ジィ ソシァネート、 2—メチルブタン一 1, 4ージイソシァネート、 ペンタン一1, 5- ジイソシァネート、 ω,ω'— 1, 3—ジメチルベンゼンジイソシァネート、 ω,ω' — 1, 4—ジメチルナフタレンジイソシァネート、 シクロへキサン一 1, 4—ジイソ シァネート、 ジシクロへキシルメタン一 4, 4,ージイソシァネート、 1, 3—フエ 二レンジィソシァネート、 1一メチルベンゼン一 2, 4—ジィソシァネ一ト、 ジフ ェニルェ一テル一4, 4'ージイソシァネート、 ナフ夕レン一 1, 4ージイソシァネ —ト、 ビフエニル 4, 4'—ジイソシァネート、 3, 3'—ジメチルビスフェニル一4, 4'—ジイソシァネート、 ジフエニルメタン一 4, 4'—ジイソシァネート、 3, 3,一 ジメ トキシジフエニルメタン一 4, 4,ージイソシァネート、 ジフエニルスルホン —4, 4'—ジイソシァネート等を挙げることができる。 これらの物は単独使用で も 2種以上の併用でもよい。
イソシァネート変性ェポキシ樹脂は、 上記のビスフエノ一ル型ェポキシ樹脂と ジィソシァネ一ト化合物を使用し、ォキサゾリ ドン形成触媒を存在させ合成する。 ォキサゾリ ドン環を有するイソシァネート変性エポキシ樹脂の詳細は、 例えば特 公昭 53-45757号公報、特開平 5— 43657号公報等に記載されている'。 また、 ォキサゾリ ドン環を有するイソシァネート変性エポキシ樹脂の市販品と して、 商品名 XAC4 15 1、 XAC4152 (旭化成エポキシ (株) 製) 等を 使用してもよい。
本発明に使用するフエノールノボラック、 クレゾールノボラックは公知のノボ ラック系、 クレゾ一ル系等のフエノール樹脂が使用できる。 具体的には昭和高分 子 (株) 製の BRG— 553、 BRG—553 B、 BRG— 556、 BRG-5 57、 BRG— 558、 B R G— 5833 Y等のフエノールノボラックや CRM - 5 5 2 , C RM- 5 5 3等のクレゾ一ルノボラックを使用する。
ビスフエノール型エポキシ樹 β旨とフエノ一ルぉよび/またはクレゾ一ルノボラ ックとの反応は公知の方法にしたがって行うことができる。 例えば、 アミン系、 リン系の触媒の存在下、 無溶剤または溶剤存在下で、 1 0 0〜 1 7 0 °C程度の温 度で付加反応させる。 ァミン系の触媒としては 3級ァミン、 4級アンモニゥム塩 などのァミン類が挙げられ、 リン系の触媒としてはトリフエニルホスフィンなど が挙げられる。
反応の比率は、 ビスフエノール型エポキシ樹脂のエポキシ基 1当量に対してフ エノ一ルノボラックの水酸基を 0 . 0 5〜0 . 5当量、 好ましくは 0 . 1〜0 . 4当量の割合で反応させる。 フエノールノボラックが 0 . 0 5当量未満では現像 性の向上は見られず、 0 . 5当量を越える粘度が高くなりすぎ、 硬化物の靭性も 低下する。
本発明の (A) 成分における不飽和一塩基酸は、 1個のカルボキシル基と 1個 以上の重合性不飽和結合を有する一塩基酸であり、 具体例としては、 アクリル酸 またはメ夕クリル酸を好適に使用することができる。 とくに高い活性エネルギー 光硬化性を得るためには、 アクリル酸が好ましい。 その他、 クロトン酸,桂皮酸, ソルビ夕ン酸, アクリル酸ダイマ一、 モノメチルマレ一ト、 モノプロピルマレ一 ト、 モノブチルマレ一ト、 1個のヒドロキシル基と 1個以上のァクリロイル基を 有する多官能ァクリレートまたはメ夕クリレートと後述の多塩基酸無水物のうち 二塩基酸との反応物であるカルボキシル基含有多官能ァクリレ一トまたはメ夕ク リレートが挙げられる。 これら不飽和一塩基酸は、 2種以上を併用してもよい。 ノボラヅクおよび/またはクレゾールノボラヅク変性エポキシ樹脂に不飽和一 塩基酸を反応させる場合、 ノボラヅク変性エポキシ樹脂のエポキシ基 1当量に対 して、 不飽和一塩基酸が 0 . 8〜1 . 2モル、 好ましくは、 0 . 9〜1 . 1モル となる割合で反応させるのがよい。 不飽和一塩基酸が 0 . 8モルより少ない場合 は、 保存安定性が悪くなり、 また、 合成時にゲル化などの問題があり、 1 . 2モ ルより多い場合は、 臭気が発生したり、 耐熱性の低下の原因となる。
反応時に、 使用する溶剤は公知のものが使用でき、 メチルェチルケトン、 シク 口へキサノン等のケトン類、 トルエン、 キシレン、 テトラメチルベンゼンなどの 芳香族炭化水素類、 ジプロピレングリコールジメチルェ一テル、 ジプロピレング リコールジメチルエーテル、 ジプロピレングリコールジメチルエーテル、 ジプロ ピレングリコールジェチルエーテル等のグリコールエーテル類、 酢酸ェチル、 ブ チルセ口ソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエステル類、オクタン、 デカンなどの脂肪族炭化水素、 石油エーテル、 石油ナフサ、 水添石油ナフサ、 ソ ルペントナフサなどの石油系溶剤等の有機溶剤類を挙げることができる。 また、 カルビトール (メタ) ァクリレート、 ペン夕エリスリ トールテトラ (メタ) ァク リレート、 トリメチロールプロパン (メタ) ァクリレート、 トリス (ヒドロキシ ェチル) イソシヌレートトリ (メタ) ァクリレート、 ジペン夕エリスリ トールへ キサ (メタ) ァクリレートなどの反応性単量体類を使用することも可能である。 反応触媒としては公知のものが使用でき、 例えば、 トリェチルァミン、 ベンジル ジメチルァミン、 メチルトリェチルアンモニゥムクロライ ド、 ベンジルトリメチ ルアンモニゥムブロマイド、 ペンジルトリメチルアンモニゥムアイオダイド、 ト リフエニルホスフィン、 トリフエニルスチビン、 オクタン酸クロム、 オクタン酸 ジルコニゥム等を挙げることができる。 該触媒の使用量はノポラックおよび zま たはクレゾ一ルノボラック変性エポキシ樹脂と不飽和一塩基酸との合計に対して、 好ましくは 0 . 0 1〜 5重量%である。 反応温度は、 好ましくは 6 0〜 1 5 0 °C である。 また、 反応時間は、 好ましくは 5〜6 0時間である。 このようにして、 反応物 (I ) を得ることができる。
本発明において反応物 (I ) に反応させる飽和または不飽和多塩基酸無水物と しては、 無水マレイン酸、 無水コハク酸、 無水ィタコン酸、 無水フ夕ル酸、 テト ラハイ ドロ無水フ夕ル酸、 へキサハイ ドロ無水フ夕ル酸、 エンドメチレンテトラ ハイ ドロ無水フ夕ル酸、 メチルテトラハイ ドロ無水フ夕ル酸、 無水クロレンド酸 等の 2塩基酸無水物、 無水トリメリット酸、 無水ピロメリット酸、 ペンゾフエノ ンテトラカルボン酸無水物、 ビフエ二ルテトラカルボン酸無水物等の多塩基酸無 水物が挙げられ、 とくにテトラヒドロ無水フ夕ル酸、 無水コハク酸、 へキサハイ ド口無水フタル酸の使用が好ましい。 飽和または不飽和多塩基酸無水物の反応量 は、 反応物 (I ) 中の水酸基 1当量に対して、 飽和および/または不飽和多塩基 酸無水物を 0 . 1〜0 . 8当量、 好ましくは 0 . 3〜0 . 7当量である。 飽和および/または不飽和多塩基酸無水物の付加量が 0 . 1当量未満であると 十分なアル力リ現像性が得られず、 0 . 8当量を超えると、 硬化塗膜の電気特性 が低下してしまう。
本発明の組成物における (A) 成分の量は組成物中 1 0〜 8 0重量%が好まし く、 特に 1 5〜6 0重量%が好ましい。
( B ) エポキシ樹脂としては、 例えば 1分子中にエポキシ基を 1個以上有する ものであって、 ビスフエノール A型エポキシ樹 θ旨、 ビスフエノール F型エポキシ 樹脂、 水添ビスフエノ一ル Α型エポキシ樹脂、 フエノールノボラック型エポキシ 樹脂、 クレゾ一ルノボラヅク型エポキシ樹脂、 ジシクロペン夕ジェン一フエノー ルノボラック型ェポキシ樹脂、 フエノールークレゾ一ルノボラック共縮合型ェポ キシ樹脂、 ビスフエノール Aノボラック型エポキシ樹脂、 ビスフエノール Fノボ ラック型エポキシ樹脂あるいはそれらのハロゲン化エポキシ化合物、 トリフエ二 ロールメ夕ン型エポキシ樹脂、 アルキル置換トリフェニ口一ルメ夕ン型エポキシ 樹脂、 テトラフエ二ロールェ夕ン型エポキシ樹脂等の多官能フエノールにェピク ロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、 多官能ヒドロキシナフ夕レン 類にェピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、 シリコーン変性ェ ポキシ樹脂、 ε—力プロラクトン変性エポキシ樹脂、 ェピクロルヒドリンと一級 または二級ァミンとの反応によって得られるグリシジルァミン型エポキシ樹脂、 1 , 3, 5 —トリグリシジルイソシァヌレートのようなトリグリシジルイソシァ ネート等の複素璟式エポキシ樹脂等が挙げられる。 これらエポキシ樹脂の 1種も しくは 2種以上を併用してもよい。
また、 Tgを確保した上で靱性を向上させる目的からイソシァネート変性ェポキ シ樹脂の使用や難燃性付与の観点からリン含有エポキシ樹脂などを使用すること も有効である。
( B ) エポキシ樹脂は、 熱硬化成分であり、 その使用目的は、 密着性、 耐熱性、 耐メツキ性等のソルダーレジストとしての諸特性を向上させるものである。
(B ) エポキシ樹脂は、 単独または 2種以上の混合物として用いられ、 本発明 の組成物に含まれるエポキシ樹脂の量は、 組成物中の 1〜5 0重量%、 好ましく は 3〜4 5重量%である。 また、 密着性、 耐薬品、 耐熱性等の特性をより一層向上するために、 (B ) ェ ポキシ樹脂と併用してエポキシ硬化剤を併用することが望ましい。 このようなェ ポキシ硬化剤としては、 イミダゾール誘導体、 フエノール誘導体、 ジシアンジァ ミド、 ジシアンジアミ ド誘導体、 ヒドラジド誘導体、 アミン類、 酸無水物等が挙 げられる。 上記硬化剤は 1種類または 2種類以上混合して使用する。 上記硬化剤 の使用量は (B ) エポキシ樹脂のエポキシ基 1当量に対し硬化剤の活性水素量が 0 . 5〜1 . 2当量になる割合が好ましい。
( C ) 光重合開始剤の具体例としては、 ペンゾイン類、 ァセトフエノン類、 ァ ントラキノン類、 チォキサントン類、 ベンゾフエノン類等が挙げられ、 例えば、 ベンゾイン類では、 ベンゾイン、 ベンゾインメチルエーテル、 ベンゾインイソプ 口ピルエーテル等の誘導体、 ァセトフエノン類では、 ァセトフエノン、 2 , 2 -ジ メトキシ- 2 -フエニルァセトフエノン等の誘導体、 アントラキノン類では、 2 - メチルアントラキノン、 2 -クロ口アントラキノン、 2 -ェチルアントラキノン、 2 - 1 -プチルアントラキノン等の誘導体、 チォキサントン類では、 チォキサント ン、 2 , 4 -ジメチルチオキサントン、 2 , 4—ジェチルチオキサントン等の誘導 体、 ベンゾフエノン類では、 ベンゾフエノン、 4一ペンゾィルー 4 ' ーメチルジ フエ二ルサルファイ ド、 4, 4, ージクロ口べンゾフエノン、 Ν , Ν-ジメチレア ミノペンゾフエノン等の誘導体、 2, 4, 6—トリメチルベンゾィルジフエニル ホスフィンオキサイ ド等、 2—メチルー 1— 〔4— (メチルチオ) フエニル〕 一 2—モルホリノプロパノン— 1等があり、 単独あるいは 2種類以上を組み合わせ て用いることができる。 さらに、 (C ) 光重合開始剤は、 公知の光増感剤を併用 してもよい。 具体的には、 トリェ夕ノ一ルァミン、 トリプロパノ一ルァミン、 ト リエチルァミン、 Ν, Ν—ジメチルアミノ酸安息香酸ェチルエステル、 Ν, Ν— ジメチルァミノ安息香酸ィソァミルエステル、 ペンチル一 4ージメチルァミノべ ンゾェ一ト等が挙げられる。 上記の光増感剤は 1種類または 2種類以上混合して 使用する。 (C ) 光重合開始剤は、 組成物に対して 0 . 5〜2 0重量%配合する のが好ましい。
(D ) 重合性不飽和化合物および/または溶剤は、 活性エネルギー光線に対す る硬化性およびノまたは感光性樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合 の塗工性を向上させる目的で使用するものである。
重合性不飽和化合物としては、 活性エネルギー光線硬化性のあるモノマー類が 好ましく、 2 -ヒドロキシェチルァクリレート, 2 -ヒドロキシプロピルァクリレ —ト, N-ピロリ ドン, N-ァクリロイルモルフォリン, Ν , Ν-ジメチルアクリル アミ ド, Ν,Ν-ジェチルアクリルアミ ド, Ν, Ν-ジメチルアミノエチルァクリレ —ト, Ν,Ν-ジメチルァミノプロピルァクリレート, メトキシポリエチレングリ コールァクリレート, エトキシポリエチレングリコールァクリレート, メラミン ァクリレート, フエノキシェチルァクリレート, フエノキシプロピルァクリレー ト, エチレングリコ一ルジァクリレート, ジプロピレングリコールジァクリレー ト, ポリジプロピレングリコールジァクリレート, トリメチロールプロパントリ ァクリレート, ペン夕エリスリ トールトリアクリレート, ペン夕エリスリ トール テトラァクリレート, ジペン夕エリスリ トールへキサァクリレート, グリセリン ジァクリレート, イソボロニルァクリレート, ジシクロペンテニルォキシェチル ァクリレートおよびこれらに対応する各種メタクリレートが挙げられる。 これら (D ) 重合性不飽和化合物は 1種もしくは 2種以上を併用してもよい。
一方溶剤としては、 メチルェチルケトン, メチルイソプチルケトン, シクロへ キサノン等のケトン類, トルエン, キシレン等の芳香族炭化水素, ェチルセロソ ルブ, ブチルセ口ソルブ, カルビトール, ブチルカルビトール等のカルビトール 類, 酢酸ェチル, 酢酸プチル, セロソルブアセテート, ブチルセ口ソルプアセテ ート, ェチルカルビトールアセテート等が挙げられる。 これらの溶剤は 1種もし くは 2種以上を併用してもよい。
(D ) 重合性不飽和化合物および/または溶剤の使用量は、 組成物に対して 5 〜8 0重量%、 好ましくは 1 0 ~ 6 0重量%がよい。 中でも重合性不飽和化合物 の使用量が、 5重量%未満では、 光感度が低すぎ、 一方 8 0重量%を超えると感 光性樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合に粘度が低くなりすぎ、 硬 化塗膜としての耐性が不十分になる。
この他、 本発明の感光性樹脂組成物を液状レジストインキとして使用する場合 には、 さらに必要に応じて、 シリカ, 炭酸カルシウム, 硫酸バリウム, クレー, タルク等の無機充填剤、 フタロシアニングリーン, フタロシアニンブルー, 酸ィ匕 チタン, 力一ポンプラヅク等の着色顔料、 消泡剤、 レべリング剤等の各種添加剤 の他、 ハイ ドロキノン, レゾルシノ一ル, カテコール, ビロガノ一ル, ハイ ド口 キノンモノメチルエーテル, t-プチルカテコール, フエノチアジン等の重合防 止剤を使用してもよい。 発明を実施するための最良の形態
以下、 実施例、 比較例により本発明の内容を詳細にするが、 各例中の 「部」 は 重量基準を示す。 本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
合成例 1 (感光性樹脂一 1の合成例)
攪拌機、 還流管を備えたフラスコ内にビスフヱノ一ル A型エポキシ樹脂 〔ェピ コート 828、 油化シェルエポキシ (株)製、 エポキシ当量 186〕 186部( 1.
0当量) 、 クレゾ一ルノボラヅク 〔CRM— 552、 昭和高分子 (株) 製、 重量 平均分子量 550、 水酸基当量 122. 2〕 36. 7部 (0. 3当量) を仕込み、
100°Cに加熱、 攪拌し、 上記混合物を均一に溶解させた。 次に系内にトリフエ ニルホスフィン 1. 1部を仕込み、 150 °Cで 1時間反応させ、 重量平均分子量
2500のクレゾ一ルノボラック変性ビスフエノール A型エポキシ樹脂 (ェポキ シ当量 318) を得た。
次に、 温度を 100°Cまで下げ、 ェチルカルビトールァセテ一ト 141部を仕 込み、 アクリル酸 50. 4部 (0. 7モル) 、 メチルハイ ドロキノン 0. 08部 を仕込み、 110°Cに加温して 6時間反応を続け、 酸価 0. 5mgKOH/gの 反応物 (I) を得た。 これに、 テトラヒドロ無水フタル酸 56. 2部 (0. 37 モル) を仕込み、 90°Cでさらに 6時間反応させ、 重量平均分子量 3600、 固 形分酸価 63mgKOH/g、 固形分濃度 70%の感光性樹脂一 1を得た。 合成例 2 (感光性樹脂— 2の合成例)
攪拌機、 還流管を備えたフラスコ内に、 下記一般式を有するイソシァネート変 性エポキシ樹脂 XAC4152、 旭化成エポキシ (株) 社製、 エポキシ当量 3
38、 軟化点 76°C〕 338部 (1. 0当量) 、 フエノールノボラック 〔BRG — 553、 昭和高分子 (株) 製、 重量平均分子量 1950、 水酸基当量 103. 7〕 20. 7部 (0. 2当量) を仕込み、 100°Cに加熱、 攪拌し、 上記混合物 を均一に溶解させた。 次に系内にトリエチルアミン 1. 1部を仕込み、 150°C で 1時間反応させ、 重量平均分子量 4300のフエノールノボラック変性ビスフ ェノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 448) を得た。
Figure imgf000013_0001
次に、 温度を 100°Cまで下げ、 ェチルカルビトールアセテート 218部を仕 込み、 アクリル酸 57. 6部 (0. 8モル) 、 メチルハイ ドロキノン 0. 08部 を仕込み、 110°Cに加温して 6時間反応を続け、 酸価 0. 5mgKOH/gの 反応物 (I) を得た。 これに、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸 91. 2部 (0. 6モ ル) を仕込み、 9 (TCでさらに 6時間反応させ、 重量平均分子量 6200、 固形 分酸価 66mgKOH/g 固形分濃度 70 %の感光性樹脂— 2を得た。 比較合成例 1 (感光性樹脂— 3の合成例)
クレゾ一ルノボラヅク型エポキシ樹脂 〔ェポトート YDCN— 704、 東都化 成 (株) 社製、 エポキシ当量 210、 軟化点 90°C〕 210部、 ァクリル酸 72 部 (1モル) 、 メチルハイ ドロキノン 0. 28部、 カルビトールアセテート 14 9. 5部を仕込み、 95°Cに加熱し、上記混合物が均一に溶解したことを確認後、 トリフエニルホスフィン 1. 4部を仕込み、 100°Cに加熱し、 約 30時間反応 させ、 酸価 0. SmgKOH/gの反応物を得た。 これに、 テトラヒドロ無水フ タル酸 66. 9部 (0. 44モル) を仕込み、 90°Cに加熱し約 6時間反応させ、 固形分酸価 70mgKOHZg、 固形分濃度 60%の感光性樹脂 (A— 3) を得 た。 比較合成例 2 (感光性樹脂一 4の合成例)
ビスフエノール A型エポキシ樹旨〔ェピコ一ト 1001、 油化シェルエポキシ
(株) 社製、 エポキシ当量 473〕 473部、 アクリル酸 72部 ( 1モル) 、 メ チルハイ ドロキノン 0. 54部、 カルビトールアセテート 234部を仕込み、 9 5°Cに加熱し、 上記混合物が均一に溶解したことを確認後、 トリフエニルホスフ イン 1. 4部を仕込み、 100°Cに加熱し、 約 30時間反応させ、 酸価 0. 5m gKOH/gの反応物を得た。 これに、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸 127. 7部
(0. 84モル) を仕込み、 90°Cに加熱し約 6時間反応させ、 固形分酸価 70 mgKOH/g, 固形分濃度 60%の感光性樹脂— 4を得た。 実施例 1〜 2および比較例 1〜 2 0202429 前記の合成例および比較合成例より得られた感光性樹脂を用い、 表 1に示す配 合比率に従って、 3本ロールミルにて混練し感光性樹脂組成物を調製した。 次い で上記感光性樹脂組成物を予め脱脂を行なったプリント回路基板に、 乾燥膜厚で 30から 40 になるようにスクリーン印刷法により塗布し、 80°Cで 20分間 予備乾燥後、 室温まで冷却し乾燥塗膜を得た。 この塗膜にレジストパターンを有 するネガフィルムを密着させ、 紫外線露光装置を用いて、 350mJ/cm3露 光し、 ネガフィルムをはずした後、 1%炭酸ナトリウム水溶液を用い、 スプレー 圧 2. Okgf /cm2で 60秒間現像し、 未露光部分を溶解除去した。 その後、 熱風乾燥機を用い、 150°Cで 30分間加熱硬化を行い、 試験片を得た。得られ た塗膜は、 以下に示す試験方法に従って、 各種物性評価を行った。 これらの試験 の評価結果を表 2に示す。 実施例 1および 2は、 クレゾ一ルノポラック系の長所 である耐熱性とビスフエノール型の長所である可撓性を兼ね備えた物性であるこ とを確認した。
表 1
Figure imgf000016_0001
*1 : 1, 3, 5—トリグリシジルイソシァヌレート 〔日産化学 (株) 製〕
*2 :ィルガキュア 907、 2—メチルー 1一 〔4一 (メチルチオ) フエニル〕 一2—モル ホリノプロパノン一 1 〔チパ ' ·ガイギ一社製〕
* 3 :カャキュア DETX— S、 2, 4—ジェチルチオキサントン 〔日本化薬 (株)製〕
* 4: ライ トァクリレート TMP— A、 トリメチロールプロパントリアクリレート 〔共栄社 化学 (株)製〕
* 5 :ァエロジル 300、 〔日本ァエロジル (株)製〕 (現像性)
予備乾燥時間を 20分、 40分、 60分、 80分、 100分とした乾燥塗膜を、 1%炭酸ナトリウム水溶液を用い、 スプレー圧 2. 0 /(:1112で60秒間 現像を行い、 現像後の塗膜の有無を観察し、 以下の基準で評価した。
〇:現像時、 完全にインキが除去され、 現像できたもの。
X :現像時、 少しでも現像できない部分があるもの。
(密着性) J I S D 0 2 0 2の試験方法に従って塗膜に碁盤目状にクロスカットを入 れ、 次いでセロハンテープによるによるビ一リングテスト後の剥れの状態を目視 判定した。 評価は、 以下の基準で行った。
〇:全く剥がれの無いもの。
△:クロスカット部が少し剥がれたもの。
X :塗膜に剥がれがあるもの。
(半田耐熱性)
J I S C 6 4 8 1の試験方法に従って、 試験片を 2 6 0 °Cの半田浴に 1 0 秒間、 3回浸漬を行ない、 取り出した後、 外観の変ィ匕を観察した。 評価は、 以下 の基準で行った。
〇:外観変化なしのもの。
△:硬化膜の変色が認められたもの。
X :硬化膜の浮き、 剥れ、 半田潜ありのもの。
(無電解金メッキ耐性) .
試験片の前処理として、 3 0 °Cの酸性脱脂液に浸漬→浸漬水洗 ソフトエッチ ング処理→浸漬水洗 触媒を付与 (3 0 °Cのニッケルメツキ触媒液に 7分間浸 漬) ">浸漬水洗工程を行なった。 次に無電解ニッケルメツキ工程として、 試験片 をニヅケルメツキ液( 8 5 °C、 P H = 4 . 6 )に 2 0分間浸漬 1分間酸浸漬(室 温で 1 0 V o 1 %硫酸水溶液) 浸漬水洗を行ない、 最後に無電解金メツキ工程 として試験片を金メッキ液 (9 5 °C、 P H = 6、 シアン化金カリウム 3 v o 1 % 水溶液) に 1 0分間浸漬 浸漬水洗→ 6 0 °Cの温水で浸漬湯洗 十分に水洗後→ 水を良く切る" ^乾燥の工程で無電解金メヅキを行ない、 その試験片について外観 の変化およびセロハンテープを用いたビ一リング試験を行ない塗膜を観察した。 評価は、 以下の基準で行った。
〇:外観変化もなく、 レジストの剥離も全くないもの。
△:外観の変化はないが、 レジス卜の剥離がわずかに見られるもの。
X : レジストの浮きゃメツキ潜りが見られ、 ピーリング試験でレジストの剥がれ 02429 が大きいもの。
(PCT試験)
試験片を 121 °C、 2 a t m、 飽和蒸気雰囲気下で 100時間放置後の塗膜の 外観で判断した。 評価は、 以下の基準で行った。
〇:塗膜にふくれ、 剥れがないもの。
X :ふくれ、 剥れのあるもの。
(可撓性試験)
J I S K5400に準じて J IS B 7729 A法に規定するエリクセン 試験機を用いて、 前記感光性樹脂組成物をボンデ鋼板上に塗布" 乾燥 露光 "^現 像→加熱し、 得られた試験片の裏面から剛球を押し出して、 試験片を変形させた 時に塗膜の割れおよび剥れを生じるまでの押し出し距離を測定した。 評価は、 以 下の基準で行った。
◎:剛球を押し出した距離が、 6 mm以上で塗膜の割れおよび剥がれが生じな かったもの。
〇:剛球を押し出した距離が、 4mm以上で塗膜の割れおよび剥がれが生じな かったもの。
X :剛球を押し出した距離が、 4 mm未満で塗膜の割れおよび剥がれが生じた もの。 表 2 現像性
80 °C乾燥時間 (分) 実施例 1 実施例 2 比較例 1 比較例 2
20 〇 〇 〇 X
40 〇 〇 〇 X
60 〇 〇 〇 X
80 〇 〇 〇 X
100 〇 〇 〇 X 表 3
Figure imgf000019_0001
産業上の利用の可能性
本発明によれば、 希アルカリ水溶液での現像性に特に優れ、 且つ硬化後の塗膜 が、 特に可撓性、 耐熱性、 半田耐熱性、 密着性、 耐水性、 耐屈曲性、 耐薬品性等 に優れた感光性樹脂組成物が提供される。
本発明の感光性樹脂組成物は、 プリント配線板ソルダーレジスト、 高密度多層 板層間絶縁膜、 半導体パッケージ用ソルダ一レジスト、 フレキシブルプリント配 線板用レジストインキ等の電子材料分野に好適である。

Claims

請 求 の 範 囲
1. (A) フエノ一ルノボラヅクおよび/またはクレゾ一ルノボラック変性 ビスフエノ一ル型エポキシ樹脂のエポキシ基に、 不飽和一塩基酸を付加反応させ た反応物 (I) の水酸基に、 さらに飽和および/または不飽和多塩基酸無水物を 付加反応させた樹脂、
(B) エポキシ樹脂、
(C)光重合開始剤、 および
(D)重合性不飽和化合物および/または溶剤
を含有してなる感光性樹脂組成物。
2. (A)成分におけるフエノールノボラヅクおよび/またはクレゾール ノボラック変性ビスフエノール型エポキシ樹脂が、 ビスフエノール型エポキシ樹 脂のエポキシ基 1当量に対してフエノールノボラックの水酸基を 0. 05〜0.
5当量の割合で反応させたものであることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載 の感光性樹脂組成物。
3. (A)成分におけるフエノ一ルノボラックおよび/またはクレゾ一ル ノボラック変性ビスフエノール型エポキシ樹脂が、 リン系触媒で反応させて得ら れたものであることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物。
4. (A)成分におけるビスフエノール型エポキシ樹脂が、 ビスフエノー ル型エポキシ樹脂とジィソシァネ一ト化合物の反応物であるィソシァネート変性 エポキシ樹脂であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成 物。
5. (A)成分において、 反応物 (I) 中の水酸基 1当量に対して、 飽和 および/または不飽和多塩基酸無水物を 0. 1〜0. 8当量反応させたものであ ることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物。
6. (B) エポキシ樹脂が、 組成物に対して 1〜50重量%配合される請 求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物。
7. (C) 光重合開始剤が、 組成物に対して 0. 5〜20重量%配合され る請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物。
8. (D) 重合性不飽和化合物および/または溶剤が、 組成物に対して 5 〜 80重量%配合される請求の範囲第 1項に記載の感光性樹脂組成物。
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