WO1999012881A1

WO1999012881A1 - Procede de production de 3,4-dihydroxy-3-cyclobutene-1,2-dione

Info

Publication number: WO1999012881A1
Application number: PCT/JP1998/003989
Authority: WO
Inventors: Shoshiro Matsushita; Ikuo Shimizu; Hiroshi Toyoda; Asako Tanaka
Original assignee: Kyowa Yuka Co., Ltd.
Priority date: 1997-09-05
Filing date: 1998-09-07
Publication date: 1999-03-18
Also published as: CN1134393C; AU725903B2; KR20050106127A; JP4111673B2; EP1010684A1; CA2302381C; EP1676827A3; KR20050106126A; US6331653B1; CA2302381A1; EP1676827A2; AU8998198A; KR100540990B1; DE69839732D1; CN1258510C; KR20010023507A; ATE401293T1; CN1269778A; EP1010684A4; CN1515535A

Description

明細

3 , 4 —ジヒドロキシ一 3 —シクロブテン一 1 ， 2—ジオンの製造法技術分野

本発明は、 3 , 4—ジヒドロキシー 3 —シクロブテン一 1 , 2— ジオンを容易に収率よく製造する方法に関する。背景技術

3 , 4—ジヒドロキシー 3—シクロブテン一 1 , 2 —ジオン（慣用名 s q u a r i c a c i dニスクアリン酸）は、医薬品、または電子写真用感光体、追記型光ディスク用記録材料、光増感剤等の機能性材料の原料として有用であることが知られている [ケミカル - レビューズ（ C h e m. R e v . ) , 9 3 , 4 4 9 ( 1 9 9 3 年）；特開平 4一 1 0 6 4 0 0号公報；特開平 2— 3 0 6 2 4 7号公報；特開平 2 _ 4 8 6 6.5号公報；特開平 5 — 5 0 0 5号公報；特開平 5— 9 6 1 7 3号公報等] 。これまで、この 3 , 4—ジヒドロキシ一 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジオンに関して、多くの製造法が知られている。しかしながら、いずれの方法も、プロセスが長い、原料合成が困難、反応条件が厳しい、収率が低い、製造に特殊な設備を必要とする等の問題点を有している。

例えば、 ①トリケテンを原料とする方法 [ジャクソン（ Β . J a c k s o n ) ら、 E P 4 4 2 4 3 1等 ]、 ② 4 ーヒドロキシ一 3— シクロブテン一 1， 2 —ジオンを原料とする方法 [ベラス（D . B e 1 1 u s ) ら、ヘルべチカ · キミ力 ' ァク夕（ H e l v . C h i m. A c t a ) , 6 1 , 1 7 8 4 ( 1 9 7 8年） ]、 ③テトラアルコキシエチレンを原料とする方法 [ベラス（ D . B e l l u s ) 、ジャーナル ' ォブ ' オーガニック · ケミストリ一（ J . O r . C h e m. ) ， 4 4， 1 2 0 8 ( 1 9 7 9年） ] 、 ④ジアルコキシァセチレンを原料とする方法 [ペリカス（M . A . P e r i c a s ) 、テトラへドロン ' レターズ（ T e t r a h e d r o n L e t t e r s ) , 4 4 3 7 ( 1 9 7 7年） ] 、 ⑤テトラハロゲノエチレンを原料とする方法 [ジャーナル ' ォブ ' ジ · ァメリカン ' ケミカル . ソサイエティ（ J . A m e r . C h e m. S o c . ) , 8—1 , 3 4 8 0 ( 1 9 5 9年）等] 、 ⑥へキサクロ口ブタジエンを原料とする方法 [ハーゲンバーグ（ P . H a g e n b e r g ) ら、ドイツ公開特許公報（ G e r . 0 f f e n ) . 1 5 6 8 2 9 1号等 ]、 ⑦ 一酸化炭素を原料とする方法 [シルベストリ（ G . S i l v e s t r i ) ら、エレクト口キミ力 · ァク夕（ E l e c t r o c h i m. A c t a ) ， 2 3 , 4 1 3 ( 1 9 7 8年） ] 等が知られている。しかしながら、 ①の方法は、原料であるトリケテンがジケテン製造時の副生成物として得られるものであるため、多量の原料を確保するのが困難である、 ②の方法は、原料を得る方法が生産性の低い固体培養法あるいはプロセスの長い合成法である、 ③の方法は、原料合成が困難、かつ収率が低い、 ④の方法は、原料合成が困難、 ⑤ の方法は、原料合成が困難、かつプロセスが長い、 ⑥の方法は、収率が低い、 ⑦の方法は、製造に特殊な設備を必要とする等の問題点をそれぞれ有している。

また、リービッヒス ' アナ一レン ' デァ · ケミ一（ L i e b i g s A n n . C h e m. ) , 6 8 6 , 5 5 ( 1 9 6 5年）には、 1 , 1 , 2， 3， 4， 4一へキサクロ口一 1 , 3 —ブタジエンより 3 , 4—ジヒドロキシ _ 3—シクロブテン一 1 , 2 —ジオンを製造する方法が開示されているが、この方法には最終目的物の収率が低いという問題点がある。

また、ジャーナル ' ォブ ' ジ · アメリカン，ケミカル ' ソサイエティ（ J . A m e r . C h e m. S o c . ) , 8 4 , 2 9 1 9 ( 1 9 6 2年）には、 2—クロ口一 3 —エトキシー 4 , 4—ジフルォ口 _ 2—シクロブテン一 1 一オンを経由して 3 , 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1 , 2—ジオンを製造する方法が開示されている力^ この方法には原料として用いる 1 一クロロー 2， 4， 4 - トリエトキシ— 3， 3 —ジフルォロシクロブテンの合成収率及び最終目的物の収率が低いという問題点がある。

また、本発明において 3， 4ージヒドロキシー 3 —シクロブテン一 1 , 2—ジオンを製造する際の中間体として用いられる 3—アルコキシ一 2—ハロゲノシクロブタノン誘導体の製造法が、 [ァブラモ一ノ ( N . M. A b r a m o v a ) ら、ィズべスチア ' ァカデミ一 ' ナウク ' エスエスエスアール ' セリャ ' キミケスカャ（ I z v . A k a d . N a u k S S S R , S e r . K h i m . ) 2 , 4 3 9 ( 1 9 8 1年） ] に開示されている。しかし、この方法では目的物の収率は 3 5 %と低く、実用上、満足のいくものではない。

本発明の目的は、容易に収率良く 3 , 4—ジヒドロキシ— 3—シクロブテン一 1 , 2—ジオンを製造する方法を提供することにある。発明の開示

本発明の方法は、下記一般式（ I ) で表される 3—アルコキシ一 2， 2 , 4， 4—テトラハロゲノシクロブタノン誘導体を脱ハロゲン化水素剤存在下に処理し、下記一般式（ II ) で表される 3 _アルコキシ一 2 , 4， 4— トリノヽロゲノー 2—シクロブテン一 1 —オン誘導体を得た後、これを加水分解することを特徴とする下記一般式 ( III ) で表される 3， 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン _ 1 , 2 —ジオンの製造法である。

(式中、 R¹ はアルキル基を表し、 R R³および Xは同一のもしくは異なるハロゲンを表す。 )

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ および Xは前記と同義である。）

上記一般式（ I ) で表される 3—アルコキシ一 2 , 2 , 4， 4 - テトラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体は、下記一般式（ IV ) で表される 3—アルコキシ一 2—ハロゲノシクロブ夕ノン誘導体をハロゲン化剤と反応させることによって得られる。

(式中、 R¹ および R² は前記と同義である < また、上記 -般式（IV) で ¾される 3 —アルコキシ一 2—ハロゲノシクロブ夕ノン誘導体は、下記般式（ V ) で ¾されるビニルェ一テル類と下記- 般式（ VI ) で表されるハロゲノアセチルハロゲン化物とを、 p K a約 6. 0〜約 8. 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のアミン化合物存在下に反応させることによって得られる。

(式中、 R¹ はアルキル基を表す。 )

(式中、 R² および R⁴ は伺一のもしくは異なるハロゲンを表す。）すなわち、上記一般式（ V ) で表されるビニルエーテル類と上記一般式（VI) で表されるハロゲノアセチルハロゲン化物を、 p K a 約 6. 0〜約 8 · 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のァミン化合物存在下に反応させ、上記一般式（IV) で表される 3—アルコキシ— 2—ハロゲノシクロブタノン誘導体を得、これをハロゲン化剤と反応させ、上記一般式（ I ) で表される 3—アルコキシ— 2 , 2 , 4 , 4—テトラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体を得、これを脱ハロゲン化水素剤存在下に処理し、上記一般式（ II ) で表される 3—アルコキシ—

2， 4 , 4一トリノヽロゲノー 2 —シクロブテン一 1 —オン誘導体を得、これを加水分解することによって上記一般式（ m ) で表される

3 , 4—ジヒドロキシー 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジオンが得られる。また前記 P K a約 6. 0〜約 8. 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のアミン化合物として、 N—メチルモルホリン、 N—ェチルモルホリン、 N , N _ジェチルァニリン、および 2 , 4 , 6— トリメチルピリジンからなる群から選ばれる少なくとも 1種が好ましく用いられる。発明を実施するための最良の形態

上記一般式（ I ) 、（ Π ) 、 (IV) 、 ( V) および（VI) の各基の定義において、アルキル基は、直鎖または分枝状の炭素数 1〜 1 8のアルキル基であり、例えば、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t —ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、 2—ペンチル基、 3 _ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、ォクチル基、 2—ェチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ォクタデシル基等があげられる。ノヽロゲンは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子等を表す。

以下に、本発明の製造法を説明する。

一般式（III) で表される化合物（以下、化合物（ III) という。他の式番号の化合物についても同様に表記する）は、次の反応工程に従い製造することができる。

( I )

(III)

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ 、 R⁴ および Xは前記と同義である。）以下、上記の工程 1〜 4についてそれぞれ説明する。

工程 1 化合物（ W ) ( 3 —アルコキシ一 2—ハロゲノシクロブ夕ノン誘導体）の製造

原料である化合物（V) (ビニルエーテル類）および化合物

(VI) (ハロゲノアセチルハロゲン化物）は、市販品として購入することができる。まず、化合物（VI ) と、化合物（VI ) の 0 . 8 〜 2 当量、好ましくは 1 〜 1 . 5当量の化合物（ V ) と、反応溶媒との混合物中に、化合物（VI ) の 0 . 8 〜 1 . 2 当量、好ましくは 1 . 0 〜 1 . 2当量のアミン化合物を滴下して、反応を行うことにより化合物（IV ) を得る。ここで用いられるァミン化合物は p K a約 6 . 0〜約

8 . 0 ( 2 5 °C水溶液中）のものであり、必要であれば、上記反応溶媒と同一のまたは異なる溶媒で希釈して用いることができる。また必要であれば、ァミン化合物を滴下後、熟成する。

上記化合物（ VI ) であるハロゲノアセチルハロゲン化物としては、フルォロアセチリレフノレオリド、フノレオロアセチノレクロリド、フレオロアセチルブロミド、フルォロアセチルョージド、クロロアセチルフルオリド、クロロアセチルクロリド、クロロアセチルブロミド、クロロアセチルョージド、ブロモアセチルフルオリド、ブロモアセチルクロリド、ブロモアセチルブロミド、ブロモアセチルョージド、ョ一ドアセチゾレフノレオリド、ョ一ドアセチノレクロリド、ョ一ドアセチルブロミド、ョ一ドアセチルョージド等が例示される。

上記化合物（ V ) であるアルキルビニルエーテル類としては、メチルビ二ルェ一テル、ェチルビニルエーテル、プロピルビニルェ一テル、イソプロピルビニルエーテル、 n—ブチルビ二ルェ一テル、イソブチルビ二ルェ一テル、 s e c —ブチルビニルエーテル、 t e r t —ブチルビニルエーテル、ペンチルビ二ルェ一テル、イソアミルビニルエーテル、ネオペンチルビニルエーテル、 2 —ペンチルビニルエーテル、 3 —ペンチルビニルエーテル、へキシルビニルエーテル、ォクチルビ二ルェ一テル、 2 —ェチルへキシルビニルエーテル、ノニルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、ドデシルビ二ルエーテル、ペン夕デシルビ二ルェ一テル、ォク夕デシルビニルェ一テル等があげられる。

また上記 p K a約 6 · 0〜約 8 . 0のァミン化合物（ 2 5 °C水溶液中）としては、好ましくは、 N—メチルモルホリン、 N—ェチルモルホリン、 N , N— ジェチルァニリン、 2 , 4 , 6 — 卜リメチルピリジン等があげられ、これらは、 iii独または 2極以上混合して用レ、られる。

上記反応溶媒としては、反応に不活性なものであればよく、例えば、ジェチルエーテル、ジイソプロピルェ一テル、テトラヒドロフラン、 1 ， 4— ジ才キサン、 t e r t — ブチルメチルエーテル等のエーテル類、クロ口ホルム、ジクロロメタン、 1 , 2—ジクロロェタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、 N , N—ジメチルホルムアミド、 N , N—ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシドがあげられ、単独または 2種類以上混合して用いられる。

この工程 1の反応は、通常、 0〜 1 0 0 °C、好ましくは 3 0〜 7 0 °Cで行われる。また、熟成は、 0〜 1 0 0 °Cの間の温度で、 3 0分〜 5時間行われる。

また、この反応で得られる化合物（IV) は、下記一般式（VI) および（ vm ) で表される 4種類のジァステレオマー化合物（ w ) および（珊）として生成する。

(VIM)

^R° (±) ^r

(式中、 R¹ および R² は前記と同義である。）これらのジァステレオマ一化合物（ VII ) および（ VIE ) は、どちらも次の工程 2における原料として使用することができる。また、ィ匕合物（ VI ) は、加熱処理、またはァミン化合物による処理により定量的に化合物（νπ ) となる。工程 2 化合物（ I ) ( 3 —アルコキシ— 2 , 2 , 4 , 4 —テトラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体）の製造

化合物（ IV ) を、必要により、 3〜 6 当量、好ましくは 3〜 4当量の塩基性化合物もしくは 1 〜 3 当量のりん化合物の存在下、反応溶媒中もしくは無溶媒で、化合物（ IV ) の 3〜 6 当量、好ましくは 3〜 4 当量のハロゲン化剤と反応させ、必要であれば、熟成することにより化合物（ I ) を得る。この反応は、原料化合物（ IV ) が上述した 2種類のジァステレオマーのうちどちらか一方であっても、もしくは混合物であっても同様に進行する。

上記ハロゲン化剤としては、塩素、臭素、ヨウ素、五塩化りん、塩化スルフリル、 Ν—ブロモスクシンイミド、 Ν — クロロスクシンィミド等があげられる。

上記塩基性化合物としては、ピリジン、トリェチルァミン、キノリン等の有機塩基性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化力リゥム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基性化合物、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の塩基性有機酸塩類があげられ、これらは単独または 2種類以上混合して使用される。

上記リン化合物としては、三臭化りん、三塩化りん等があげられる。

このリン化合物と上記塩基性化合物は、混合して使用してもよい。この工程 2で用いられる反応溶媒としては、この工程における反応に不活性なものが使用され、例えば前記工程 1 で用いられる反応溶媒と同様のもの、および水が挙げられ、これらは単独または 2種類以上混合して使用される。このェ程 2におけるハロゲン化剤添加峙の温度は、 0〜 1 0 0 °C、好ましくは 0〜 5 0 °Cであり、熟成は 0〜 1 0 0 °Cで、 1 0分〜 3 時間行う。工程 3 化合物（ II ) ( 3 —アルコキシ _ 2 , 4 , 4 — トリハロゲノー 2 —シクロブテン一 1 _オン誘導体）の製造

化合物（ I ) を、反応溶媒中または無溶媒で、脱ハロゲン化水素剤で処理することにより化合物（ II ) を得る。

この工程 3で用いられる反応溶媒としては、この工程における反応に不活性な溶媒が使用でき、例えば前記工程 1 で用いられる反応溶媒と同様のものに加えて、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、へキサン、ヘプタン、ォクタン、イソオクタン、シクロへキサン等の脂肪族炭化水素類、ァセトン、メチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン、ジイソプ口ピルケトン、ジェチルケトン等のケトン類、酢酸ェチル、酢酸メチル等のエステル類があげられ、これらは単独または 2種類以上混合して使用される。

上記脱ハロゲン化水素剤としては、トリェチルァミン、トリプチルァミン、ピリジン、キノリン等の有機塩基性化合物、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、酢酸リチウム、炭酸リチウム等の無機もしくは有機リチウム塩、 N , N —ジメチルホルムアミド、 N , N —ジメチルァセトアミド等の極性アミド系化合物等、があげられ、これらは単独または 2種類以上混合して使用される。この脱ハロゲン化水素剤の使用量は、化合物（ I ) に対して、好ましくは 0 . 5 当量以上、より好ましくは、 0 . 8 当量以上である。

この工程 3における反応は、室温〜 1 2 0 °Cで、 3 0分〜 1 2時間行う。工程 4 化合物（ III ) ( 3， 4 —ジヒドロキシー 3 —シクロブテン — 1 , 2 —ジオン）の製造

工程 4では、化合物（ II ) を、反応溶媒中もしくは無溶媒で、酸性水溶液と共に加熱して加水分解することにより化合物（ m ) を得る。

この工程 4で用いられる反応溶媒としては、この工程における反応に不活性な溶媒が使用でき、例えば前記工程 1 で用いられる反応溶媒と同様のものに加えて、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、および酢酸があげられ、これらは単独または 2種類以上混合して使用される。

上記酸性水溶液としては、硫酸水溶液、塩化水素水溶液、酢酸水溶液、硝酸水溶液、りん酸水溶液等、あるいはこれらの混合物等があげられる。酸性水溶液濃度は 1 〜 9 0重量％、好ましくは 1 0〜 6 0重量％とされる。酸性水溶液の使用量は、特には限定されないが、好ましくは、酸として化合物（ II ) の 1倍モル以上になるように使用される。

この工程における反応温度は、 8 0〜 1 2 0 °C、好ましくは 9 0 〜 1 1 0 °Cであり、反応時間は好ましくは 1 〜 4 8時間の範囲とされる。なお、上記工程 1 〜 4で得られる中間体（化合物（ I ) 、 ( II ) 、 ( IV ) ) および目的化合物（化合物（ III ) ) は、有機合成化学で常用される精製法、例えば、蒸留、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等によって単離精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく、次の反応に供することもできる。

また化合物（ I ) 、化合物（ II ) 、化合物（ III ) および化合物 ( IV) は、水あるいは各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明の概念に包含される。実施例

以下に、本発明の実施例を示すが、本 ¾明は、これらの実施例に限定されるものではない。

実施例 1 ； 2— クロロー 3 — イソブトキシシクロブタノン（化合物 (IV)) の合成（工程 1 )

t e r t —ブチルメチルエーテル 1 3 5 m lに、ィ匕合物（ V ) としてイソプチルビニルエーテル 3 0. 0 g ( 0. 3 m o 1 ) および化合物（VI) としてクロロアセチルクロライド 3 4. 9 g ( 0. 3 m 0 1 ) を溶解した溶液を攪拌しながら 5 0〜 5 5 °Cに加熱し、その中に N—メチルモルホリン（ p K a 7 . 4 ) 3 0. 3 g ( 0. 3 m o 1 ) を t e r t 一ブチルメチルエーテル 4 5 m 1に溶解した溶液を 2時間かけて滴下した。滴下が終了してから 4時間後に、水 4 0 m lを加え分液し、水層を除去した。有機層を下記の分析条件でガスクロマトグラフィー分析した結果、化合物（ IV ) である 2—クロロ一 3 _イッブトキシシクロブ夕ノンの収率は 7 5. 8 %であつた。さらに、上記有機層を濃縮後、蒸留により分析用のサンプルを得て、これを元素分析、 NMR (核磁気共鳴）で分析した。

(ガスクロマトグラフィ一分析条件）

以下の実施例、比較例についても同様の条件で分析した。

カラム： T C一 1 7 ( G Lサイエンス社製）、内径 0. 2 5 mmx 長さ 3 0 m

温度条件： 5 0 °Cで 0. 5分保持後、 1 0 °C/分で昇温し、 2 4 0 °Cで 4分保持する。

キャリアーガス：窒素ガス

検出器： F I D ( Flame Ionization Detector；水素炎イオン化検出器）

元素分析値：（組成式 C₈H₁₃0₂C1) H C

計算値（％) 7. 4 2 5 4. 4 0

実測値（％) 7. 4 5 5 3. 4 4

沸点： 6 1〜 66 44 °°CC // 11 . 66 1 . 7 m m H g

N M R分析値：

lH— N M R ( C D C 1₃) δ (ppm) 0.94(3Η, dd，J=1.0, 6.6Hz), 0.96(3H, dd, J=1.0, 6.6Hz), 1.92(1H, septet, J = 6.6Hz),

3.13(1H, ddd, J=3.7, 6.6, 18.0Hz), 3.28(1H, ddd, J=2.2, 7.8, 18.0Hz), 3.33(1H, dd， J=6.6, 9.0Hz), 3.41(1H, dd, J = 6.6, 9.0Hz),

4.17(1H, ddd, J=5.1, 6.6, 7.8Hz), 4.79(1H, ddd, J=2.2, 3.7， 5.1Hz) ¹³ C- N M R ( C D Cl₃) ： δ (ppm) 19.2, 28.4, 49.4, 66.7, 73.4, 77.3, 196.9

異性体（ジァステレオマ一：化合物（ VI ) に相当）の N M R分析値

Ή- N M R ( C D C 1₃) ： δ (ppm) 0.93(3H, dd, J=2.3, 6.6Hz), ().95(3H, dd, J=2.3, 6.6Hz), 1.93(1H, septet, J=6.6Hz)，

3.06(1H, ddd, J=1.9, 3.6, 17.8Hz), 3.31(1H, ddd, J=4.5, 6.6， 17.8Hz), 3.41(1H, dd, J=6.6, 8.8Hz), 3.48(1H, dd, J=6.6, 8.8Hz), 4.37(1H, dt, J=3.6, 6.6Hz), 4.87(1H, ddd, J=1.9, 4.5, 6.6Hz) 実施例 2、 3、 4、比較例 1〜 8

N—メチルモルホリン 3 0. 3 g ( 0. 3 m o 1 ) の代わりに、下記表 1に示したァミン化合物を等モル使用し、実施例 1 と同様に反応を行った。反応終了後の 2 —クロロー 3—イソブトキシシクロブ夕ノンの収率をガスクロマトグラフィ一で分析した。その結果を下記表 1に示す。表 1 実施例比 ¾例ァミン化合物 pKa値化合物 (IV)の

収率 (%)

N-メチルル木リン 7.4 758

2 N-ェチルモルホリン 77

3 246-卜リメチリレ ¹卜ジン 7.4 J,

4 N N-ジェ千ルァニリン 6.6 43.0

1 卜リ丁-チルァソ 10.8 19.0

2 Nl_メチノレビ口りジソ 10.5 14.0

3 N-メチゾレベリン 10.1 25.2

4 卜リブチルァミン 9.9 4.7

5 α-ビコリン 5.9 7.8

6 ピリジン 5.2 0.5

7 ΝΝ-ジメチルァニリン 5.2 18.7

8 キノリン 4.8 7.9

実施例 5 ; 2 , 2 4 , 4 テトラクロ口一 3 イソブトキシシクロブタノン（化合物（ 1 )) の合成（工程 2 )

2 0 °C以下の温度に保たれた 2 クロロー 3 イソブトキシシクロブタノン（化合物（IV)) 1 . 8 gと 2 0重量％酢酸ナトリウム水溶液 6 . 2 gとピリジン 1 . 2 gの混合物に、塩素ガス 6 7 2 m 1 を 4 5分かけて吹きこんだ。塩素ガスの吹きこみ終了後、反応液の温度を 4 0 5 0 °Cに昇温し、 2時間熟成した。その後、室温まで冷却し 1 0重量％チォ硫酸ナトリウム 2 m l とジクロロメタン 1 0 m 1 を加え攪拌し、分液した。有機層をガスクロマトグラフィー分祈したところ、化合物（ I ) である 2 , 2 4 4 —テトラクロ口 — 3 —イッブトキシシクロブタノンの収率は 9 2 . 5 %であった。上記の有機層を濃縮後、蒸留により分析用のサンプルを得た。分析結果を下記に示す。

元素分析値：（組成式 C₈H₁₍₎0₂C1₄)

H C

計算値（％) 3. 6 0 3 4. 3 2

実測値（％ ) 3. 6 4 3 4. 2 3

沸点： 5 0〜 6 0 °C/ 3 0〜 4 0 mmH g

N M R分析値：

Ή- N M R ( C D C 1₃) ： δ (ppm) 1.03(6H, d, J=6.6),

2.08(1H, quintet, J=6.6), 3.64(2H, d, J=6.6)， 4.64(1H， s)

BC— NMR ( C D C 1₃) :(5 (ppm) 19.1, 28 7, 79.2, 84.3, 90.3, 184.3 実施例 6 ; 2 , 4 , 4 _ トリクロ口一 3—イソブトキシ _ 2—シクロブテン _ 1 一オン（化合物（II)) の合成（工程 3 )

2 , 2， 4 , 4—テトラクロ口一 3—イソブトキシシクロブ夕ノン (化合物（1 )) 5. 0 gとトリエチルァミン 3. 6 gを t e r t — プチルメチルェ一テル 5 0 m 1に溶解した溶液を 4時間還流した。室温まで冷却後、 1 N塩酸 5 0 m 1で洗浄し、有機層を濃縮した。濃縮残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィ一により分離（展開液組成： n—へキサン/酢酸ェチル = 1 0 0 / 1 ) し、化合物 ( II ) である 2 , 4 , 4— トリクロ口一 3—イソブトキシ一 2—シクロブテン一 1 一オン 3. 3 gを得た（収率 7 7 %) o 実施例 7 ； 3， 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1 , 2—ジオン（化合物（III)) の合成（工程 4 )

2 , 4 , 4一トリクロロー 3—イソブトキシー 2 —シクロブテン _ 1 —オン（化合物（Π)) 2. 5 4 gを 3 3重量％硫酸水溶液 3. 8 9 gとイソプロノ¹?ノール 8 gの混合溶液に加え、 6時間還流した。常圧加熱により揮発分を留去した後、析出物を濾過することにより、 3 , 4 —ジヒドロキシ一 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジォン（化合物（ΠΙ)) 1 . 0 gを得た（収率 8 8 %) 。実施例 8 ；イソブチルビニルエーテル（化合物（ V )) とクロロアセチルクロライド（化合物（VI )) から 3， 4 —ジヒドロキシ一 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジオン（化合物（III )) の合成

t e r t —ブチルメチルエーテル 1 0 8 0 m 1にイソブチルビ二ルェ一テル（化合物（V )) 3 6 0 . 6 g ( 3 . 6 m o 1 ) およびク口ロアセチルクロライド（化合物（VI)) 2 7 1 . 3 g ( 2 . 4 m 0 1 ) を溶解した溶液を攪拌しながら 4 0〜 4 5 °Cに加熱し、その中に N—メチルモルホリン 2 4 2 . 8 g ( 2 . 4 m o 1 ) を t e r t —プチルメチルエーテル 3 6 0 m 1に溶解した溶液を 2時間かけて滴下した。滴下が終了してから 1時間後に、 5 %炭酸水素ナトリゥム水溶液 3 0 0 m 1 を加え分液し、水層を除去した。これにより得られた有機層から、 t e r t —プチルメチルエーテルを含む揮発分を減圧除去し、得られた残さと 2 0重量％酢酸ナトリゥム水溶液 1 3 8 7 . 5 gとピリジン 2 6 7 . 6 gの混合物に、反応温度 5 °C で塩素ガス 1 3 3 · 7 1 を 7 . 5時間かけて吹きこんだ。塩素ガスの吹きこみ終了後、反応液の温度を 2 0〜 2 5 °Cに昇温し、 1時間熟成した。その後、トルェン 1 1 と 1 0重量％チォ硫酸ナトリウム 4 0 0 m l を加え分液し、有機層をさらに 6重量％塩酸 2 0 0 m l で洗浄し、分液した。得られた有機層に N , N—ジメチルホルムァミド 4 8 3 m 1 と塩化リチウム 7 3 . 3 gを加え、 3 . 5時間、 8 0〜 1 0 0 °Cに加熱した。反応終了後、冷却し、 4 0重量％硫酸水溶液 1 9 3 4 gを加え、 5 . 5時間、 8 0 〜： L 0 0 °Cに加熱した反応終了後 1 0 °Cまで冷却し、ろ過により 3 , 4 —ジヒドロキシ一 3 —シクロブテン一 1， 2 —ジオン（化合物（III)) 1 6 6 . 2 gを得た。産業上の利用可能性

本発明の製造法は、原料の入手が容易であること、汎用合成設備を使用することができること、工程数が少ないこと、反応条件が穏和であること、および目的物を収率良く得られることを特徴とし、工業的生産に適した方法である。したがって医薬品、または電子写真用感光体、追記型光ディスク用記録材料、光増感剤等の機能性材料の原料として有用な 3 , 4 —ジヒドロキシー 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジオン（慣用名；スクアリン酸）を製造する方法として有効である。

Claims

謊求の範囲

1 - 下記一般式（ I ) で表される 3 —アルコキシ一 2 , 2 , 4 , 4 ーテトラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体を脱ハロゲン化水素剤存在下に処理し、下記一般式（ II ) で表される 3 —アルコキシ一 2 ， 4 , 4 — トリハロゲノ一 2 —シクロブテン一 1 一オン誘導体を得た後、これを加水分解することを特徴とする下記一般式（ 111 ) で表される 3 ， 4 ージヒドロキシー 3 —シクロブテン一 1 , 2 —ジオンの製造法。

(式中、 R¹ はアルキル基を表し、 R²、 R ^Jおよび Xは同一のもしくは異なるハロゲンを表す。 )

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ および Xは前記と同義である。）

HO O

(III)

HO O

2. 記一般式（IV) で衷される 3—アルコキシ一 2—ハロゲノシクロブタノン誘導体をハロゲン化剂と反応させることを特徴とする下記一般式（ I ) で表される 3—アルコキシ一 2， 2 , 4 , 4一テ卜ラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体の製造法。

(式中、 R¹ はアルキル基を表し、 R² はハロゲンを表す。 )

X

O

X

( I )

RO R、

(式中、 R¹ はアルキル基を表し、 R R³および Xは同一のもしくは異なるハロゲンを表す。）

3. 下記一般式（ V ) で表されるビニルエーテル類と下記一般 (VI) で表されるハロゲノアセチルハロゲン化物を、 p K a 6. 0 〜 8. 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のァミン化合物存在下に反応させることを特徴とする下記一般式（IV) で表される 3—アルコキシ一 2 —ハロゲノシクロブタノン誘導体の製造法。

(式中、 R¹ はアルキル基を表す。）

(式中、 R² および R⁴ は同一のもしくは異なるハロゲンを表す。）

(式中、 R¹ および R² は前記と同義である。）

4 . 前記 p K a 6 · 0〜 8 . 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のァミン化合物が、 N —メチルモルホリン、 N —ェチルモルホリン、 N , N— ジェチルァニリン、および 2 , 4， 6 — トリメチルピリジンからなる群から選ばれる少なくとも 1種であることを特徴とする請求項 3 記載の 3 —アルコキシ一 2 —八ロゲノシクロブ夕ノン誘導体の製造法。

5. 下記一般式（ V ) で表されるビニルエーテル類と下記一般式

(VI) で表されるハロゲノアセチルハロゲン化物を、 p K a 6. 0 〜8. 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のァミン化合物存在下に反応させ、下記一般式（ IV ) で表される 3 —アルコキシ一 2 —ハロゲノシクロブ夕ノン誘導体を得、これをハロゲン化剤と反応させ、下記一般式

( I ) で表される 3—アルコキシ一 2 , 2， 4 , 4ーテトラハロゲノシクロブ夕ノン誘導体を得、これを脱ハロゲン化水素剤存在下に処理し、下記一般式（ Π ) で表される 3—アルコキシ一 2 , 4， 4 一トリノヽロゲノ _ 2—シクロブテン一 1 —オン誘導体を得、これを加水分解することを特徴とする、下記一般式（ III ) で表される 3 ,

4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1 , 2—ジオンの製造法。

(式中、 R¹ はアルキル基を表す。）

(式中、および R⁴ は同一のもしくは異なるハロゲンを表す。）

(式中、 R¹ および R² は前記と同義である。）

(式中、 R¹ はアルキル基を表し、 R²、 R³および Xは同一のもしくは異なるハロゲンを表す。）

X o

RO R、

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ および Xは前記と同義である。）

HO O

(III)

HO

6 - 前記 p K a 6. 0〜 8. 0 ( 2 5 °Cの水溶液中）のァミン化 ^物が、 N—メチルモルホリン、 N—ェチルモルホリン、 N， N - ジェチルァニリン、および 2 , 4， 6— トリメチルピリジンからなる？洋から選ばれる少なくとも 1種であることを特徴とする請求項 5 記載の 3， 4ージヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1， 2—ジオンの製造法。