JPS58140077A - 4−ヒドロキシメチル−1−フタラゾン誘導体の製造法およびその中間体 - Google Patents
4−ヒドロキシメチル−1−フタラゾン誘導体の製造法およびその中間体Info
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- JPS58140077A JPS58140077A JP2068582A JP2068582A JPS58140077A JP S58140077 A JPS58140077 A JP S58140077A JP 2068582 A JP2068582 A JP 2068582A JP 2068582 A JP2068582 A JP 2068582A JP S58140077 A JPS58140077 A JP S58140077A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
- C07D307/88—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with one oxygen atom directly attached in position 1 or 3
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D237/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings
- C07D237/26—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazine or hydrogenated 1,2-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D237/30—Phthalazines
- C07D237/32—Phthalazines with oxygen atoms directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(I)
(式中Rは炭素数1個ないし6個の低級アルキル基を示
す。) で表わされる4−ヒドロキシメチル−1−フタラジン誘
導体の裂進法甚びにその中間体に関しより詳しくは。
す。) で表わされる4−ヒドロキシメチル−1−フタラジン誘
導体の裂進法甚びにその中間体に関しより詳しくは。
(al 一般式
(式中Rは前記に同じである。)
で表わされる4−アルコキシカルボニル−3,5−ジメ
チルフタル酸無水物(以下フタル酸無水物誘導体と略す
。)に四塩化炭素またはそれを含む溶媒中トリフェニル
ホスフィンを作用させて、一般式 C式中Rは前記に同じである。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−シメチルフタリド(以下3−ジクロル
メチルフタリド誘導体と略す。)を製造し、ついで (bl 上で得られた化合物(m)にヒドラジンを反
応させて、一般式 (式中Rは前記に同じである。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−4−ジクロル
メチル−6、8−ジメチル−1−フタラジン(以下4−
ジクロルメチル−1−7タラジン誘導体と略す。)を製
造し、ついで(C1上で得られた化合物(IV)を加水
分解して一般式M (式中Rは前記に同じである。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−6,8−ジメ
チル−4−ホルミル−1−7タラゾンとし、さらに得ら
れた化合物Mを還元することを特徴とする前記式(I)
で表わされる4−ヒドロキシメチル−1−7タラジン誘
導体の製造法並びに中間体である一般式(III)およ
び一般式石)で表わされる化合物に関する。
チルフタル酸無水物(以下フタル酸無水物誘導体と略す
。)に四塩化炭素またはそれを含む溶媒中トリフェニル
ホスフィンを作用させて、一般式 C式中Rは前記に同じである。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−シメチルフタリド(以下3−ジクロル
メチルフタリド誘導体と略す。)を製造し、ついで (bl 上で得られた化合物(m)にヒドラジンを反
応させて、一般式 (式中Rは前記に同じである。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−4−ジクロル
メチル−6、8−ジメチル−1−フタラジン(以下4−
ジクロルメチル−1−7タラジン誘導体と略す。)を製
造し、ついで(C1上で得られた化合物(IV)を加水
分解して一般式M (式中Rは前記に同じである。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−6,8−ジメ
チル−4−ホルミル−1−7タラゾンとし、さらに得ら
れた化合物Mを還元することを特徴とする前記式(I)
で表わされる4−ヒドロキシメチル−1−7タラジン誘
導体の製造法並びに中間体である一般式(III)およ
び一般式石)で表わされる化合物に関する。
本発明方法によって得られる一般式(I)の化合物のう
ちRがエチル基である化合物は一般名をフタラジノール
といい、環状AMPホスホジェステラーゼ阻害作用、血
小板凝集能抑制作用などの薬理作用を有し、脳卒中に伴
なう知覚異常および中枢性疼痛の治療薬として期待され
ている物質である。
ちRがエチル基である化合物は一般名をフタラジノール
といい、環状AMPホスホジェステラーゼ阻害作用、血
小板凝集能抑制作用などの薬理作用を有し、脳卒中に伴
なう知覚異常および中枢性疼痛の治療薬として期待され
ている物質である。
また1本発明によって得られる一般式皿)の3−ジクロ
ルメチル−1−フタリド誘導体および一般弐石)の4−
ジクロルメチル−1−7タラジン誘導体は文献未載の新
規化合物である。
ルメチル−1−フタリド誘導体および一般弐石)の4−
ジクロルメチル−1−7タラジン誘導体は文献未載の新
規化合物である。
本発明者らは7タラジノールの有利な製造法について種
々検討をおこない、先に前記式回の化合物産びトリフェ
ニルホスホラン誘導体とを原料として用いる方法を開発
した(%開昭56−36464.56−83478)。
々検討をおこない、先に前記式回の化合物産びトリフェ
ニルホスホラン誘導体とを原料として用いる方法を開発
した(%開昭56−36464.56−83478)。
さらに研究を重ねた結果、四塩化炭素中前記式Iで表わ
されるフタル酸無水物誘導体とトリフェニルホスフィン
とを反応させることにより、前記式(III)で表わさ
れる3−ジクロルメチルフタリド誘導体が1位置異性体
である一般式(式中Rは前記に同じである。) で表わされる5−アルコキシカルボニル−4,6−シメ
チルフタリドを殆んど生成することなく高収率で得られ
ること、3−ジクロルメチルフタリド誘導体がヒドラジ
ンとの反応により容易かつ高収率で前記式(IV)で表
わされる4−ジクロルメチルフタラジン誘導体に導くこ
とができること、この4−ジクロルメチルフタラジン誘
導体を加水分解することにより容易に前記式■で表わさ
れる4−ホルミル−1−7タラジン誘導体が得られるこ
と、さらにこの4−ホルミル−1−7タラジン誘導体を
還元することによりフタラジノールに導きうろことを見
い出した。
されるフタル酸無水物誘導体とトリフェニルホスフィン
とを反応させることにより、前記式(III)で表わさ
れる3−ジクロルメチルフタリド誘導体が1位置異性体
である一般式(式中Rは前記に同じである。) で表わされる5−アルコキシカルボニル−4,6−シメ
チルフタリドを殆んど生成することなく高収率で得られ
ること、3−ジクロルメチルフタリド誘導体がヒドラジ
ンとの反応により容易かつ高収率で前記式(IV)で表
わされる4−ジクロルメチルフタラジン誘導体に導くこ
とができること、この4−ジクロルメチルフタラジン誘
導体を加水分解することにより容易に前記式■で表わさ
れる4−ホルミル−1−7タラジン誘導体が得られるこ
と、さらにこの4−ホルミル−1−7タラジン誘導体を
還元することによりフタラジノールに導きうろことを見
い出した。
本発明は上記知見に基づいて完成されたものである。
従来前記式Mで表わされる4−ホルミル−1−フタラジ
ン誘導体は前記式(I)で表わされる4−ヒドロキシメ
チル−1−フタラジン誘導体を酸化して合成されていた
ので(特開昭52−113986号公報参照)、フタラ
ジノールをはじめ一般式(I)の化合物を製造する際の
中間体としては全く価値を有していなかったが1本発明
によりはじめて中間体としての価値を有することとなっ
た。
ン誘導体は前記式(I)で表わされる4−ヒドロキシメ
チル−1−フタラジン誘導体を酸化して合成されていた
ので(特開昭52−113986号公報参照)、フタラ
ジノールをはじめ一般式(I)の化合物を製造する際の
中間体としては全く価値を有していなかったが1本発明
によりはじめて中間体としての価値を有することとなっ
た。
本発明′方法を反応式で示すと次のとおりである。
(ri) (2)■
(7) +11 本発明をさらに詳細に説明すると。
(7) +11 本発明をさらに詳細に説明すると。
本発明にか\わる一般式(IC,([D、 aID、
(IV)オ!びMの化合物におけるRとしては、炭素数
1個ないし6個の低級アルキル基であり、具体的には、
メチル基、エチル基、n−プロピル基%is。
(IV)オ!びMの化合物におけるRとしては、炭素数
1個ないし6個の低級アルキル基であり、具体的には、
メチル基、エチル基、n−プロピル基%is。
−プロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル基。
n−ペンチル基、1so−ペンチル基、n−へキシ本発
明の第1の反応は、四塩化炭素またはそれを含む溶媒中
一般式但のフタル酸無水物誘導体にトリフェニルホスフ
ィン、を作用させることによって行われる。
明の第1の反応は、四塩化炭素またはそれを含む溶媒中
一般式但のフタル酸無水物誘導体にトリフェニルホスフ
ィン、を作用させることによって行われる。
第1の反応の原料である一般式回のフタル酸無水物誘導
体の具体的な例としては。
体の具体的な例としては。
4−エトキシカルボニル−6,8−ジメチルフタル酸無
水物 4−メトキシカルボニル−6,8−ジメチルフタル酸無
水物 4− n −7’ロボキシヵルポニル−6,8−ジメチ
ルフタル酸無水物 4−1−ブトキシカルボニル−6,8−ジメチルフタル
酸無水物 などがあげられる。
水物 4−メトキシカルボニル−6,8−ジメチルフタル酸無
水物 4− n −7’ロボキシヵルポニル−6,8−ジメチ
ルフタル酸無水物 4−1−ブトキシカルボニル−6,8−ジメチルフタル
酸無水物 などがあげられる。
使用する溶媒としては、反応試薬でもある四塩化炭素を
用いるのが最も好ましいが、反応に関与しない有機溶媒
を使用してもよく、具体的な例とし一’Cは、キシレン
、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素類、ジエ
チルエーテル。
用いるのが最も好ましいが、反応に関与しない有機溶媒
を使用してもよく、具体的な例とし一’Cは、キシレン
、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭化水素類、ジエ
チルエーテル。
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、酢酸エチル。
サンのようなエーテル類、酢酸エチル。
酢酸ブチル、酢酸メチルのようなエステル類。
クロロホルム、ジクロルエタン、lJジクロルエタンテ
トラクロルエタン、トリクロルエチレンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルボルムアミド、ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドなど
があげられる。
トラクロルエタン、トリクロルエチレンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルボルムアミド、ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドなど
があげられる。
使用するトリフェニルホスフィンの量は、一般式■のフ
タル酸無水物誘導体に対して2当量以上であれば特に制
限はないが、2ないし4当して1当量以上であれば特に
制限はないが、5ないし100当量が好ましい。
タル酸無水物誘導体に対して2当量以上であれば特に制
限はないが、2ないし4当して1当量以上であれば特に
制限はないが、5ないし100当量が好ましい。
反応は室温ないし溶媒の沸点で行うことができるが、5
0Cないし溶媒の沸点で行うのが好1しく5反応は通常
3時間ないし24時間で完結する。
0Cないし溶媒の沸点で行うのが好1しく5反応は通常
3時間ないし24時間で完結する。
反応液から一般式個)の3−ジクロルメチルフタリド誘
導体の単離は1反応液を減圧で濃縮し、残渣を少量のベ
ンゼンとへキサンの混合溶媒に溶かし、シリカゲルを充
填したカラムにかけ、ベンゼンとヘキサンの混合溶媒で
溶出し。
導体の単離は1反応液を減圧で濃縮し、残渣を少量のベ
ンゼンとへキサンの混合溶媒に溶かし、シリカゲルを充
填したカラムにかけ、ベンゼンとヘキサンの混合溶媒で
溶出し。
目的物を含むフラクションを集め、減圧濃縮することに
より行われる。
より行われる。
本発明の第2の反応は、溶媒中筒1′の反応によって得
られた一般式(III)の3−ジクロルメチルフタリド
誘導体にヒドラジンを作用させることによって行われる
。
られた一般式(III)の3−ジクロルメチルフタリド
誘導体にヒドラジンを作用させることによって行われる
。
第2の反応の原料として用いる一般式(III)の化合
物の具体的な例としては、前述の通りであり、もう一方
の原料であるヒドラジンとしては。
物の具体的な例としては、前述の通りであり、もう一方
の原料であるヒドラジンとしては。
特に制限は′なく、ヒドラジン、ヒドラジンヒトラード
、含水ヒドラジンヒトラードのいずれでも使用すること
ができる。
、含水ヒドラジンヒトラードのいずれでも使用すること
ができる。
使用する溶媒としては、不活性溶媒であれば特に制限は
ないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類、クロロホルム。
ないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類、クロロホルム。
四塩化炭素、ジクロルエタン、トリクロルエタン、テト
ラクロルエタン、トリクロルエチレンのようなハロゲン
化炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチル、
酢酸n−ブチルのようなエステル類、アセトン、エチル
メチルケトン、イソブチルメチルケトンのようなケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル
などがあげられる。
ラクロルエタン、トリクロルエチレンのようなハロゲン
化炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸エチル、
酢酸n−ブチルのようなエステル類、アセトン、エチル
メチルケトン、イソブチルメチルケトンのようなケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル
などがあげられる。
使用するヒドラジンの量は、一般式(m)の3−ジクロ
ルメチルフタリド誘導体に対して1当量1以上であれば
特に制限はないが通常2ないし10当量が好ましい。
ルメチルフタリド誘導体に対して1当量1以上であれば
特に制限はないが通常2ないし10当量が好ましい。
反応は室温から溶媒の沸点の間で行うことができ、通常
沸点80C以上の溶媒を用い、沸点ないし沸点に近い温
度で行うのが好筐しく、反応は通例3時間ないし24時
間で完結する。
沸点80C以上の溶媒を用い、沸点ないし沸点に近い温
度で行うのが好筐しく、反応は通例3時間ないし24時
間で完結する。
反応液から一般式(IV)の4−ジクロルメチル−1−
フタラジン誘導体の単離は1反応液を減圧で濃縮し、残
渣をベンゼンと酢酸エチルの混合溶媒の少量に溶かし、
シリカゲルを充填したカラムにかけ、ベンゼンと酢酸エ
チルの混合溶媒で溶出し、目的物を含むフラクションを
集め。
フタラジン誘導体の単離は1反応液を減圧で濃縮し、残
渣をベンゼンと酢酸エチルの混合溶媒の少量に溶かし、
シリカゲルを充填したカラムにかけ、ベンゼンと酢酸エ
チルの混合溶媒で溶出し、目的物を含むフラクションを
集め。
減圧で濃縮することにより行われる。
かくして得られる一般式(IV)の4−ジクロルメチル
−1−フタラジン誘導体の代表的な例としては、 7−ニトキシカルボニルー4−ジクロルメチル−6,8
−ジメチル−1−7タラゾン7−メトキシカルボニルー
4−ジクロルメチル−6,8−ジメチル−1−フタラジ
ン7− n−プロポキシカルボニル−4−ジクロルメチ
ル−6,8−ジメチル−1−フタラジン7− n−ブト
キシカルボニル−4−ジクロルメチル−6,8−ジメチ
ル−1−7タラゾンなどがあげら・れる。
−1−フタラジン誘導体の代表的な例としては、 7−ニトキシカルボニルー4−ジクロルメチル−6,8
−ジメチル−1−7タラゾン7−メトキシカルボニルー
4−ジクロルメチル−6,8−ジメチル−1−フタラジ
ン7− n−プロポキシカルボニル−4−ジクロルメチ
ル−6,8−ジメチル−1−フタラジン7− n−ブト
キシカルボニル−4−ジクロルメチル−6,8−ジメチ
ル−1−7タラゾンなどがあげら・れる。
本発明の第3の反応である加水分解は、溶媒中筒2の反
応によって得られた一般式(IV)の4−ジクロルメチ
ル−1−7タラジン誘導体に酸または塩基を作用させる
ことによって行われる。
応によって得られた一般式(IV)の4−ジクロルメチ
ル−1−7タラジン誘導体に酸または塩基を作用させる
ことによって行われる。
第3の反応の原料である一般式(IV)の化合物の具体
的な例としては、前述の通りである。
的な例としては、前述の通りである。
使用する酸としては、無機酸、有機酸のいずれでもよく
、無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などがあ
げられ、有機酸としては。
、無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などがあ
げられ、有機酸としては。
ギ酸、酢酸、プロピオン酸のような低級脂肪酸。
ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸のよウナスルホン酸などがあ
げられる。
ホン酸、エタンスルホン酸のよウナスルホン酸などがあ
げられる。
使用する塩基も無機塩基、有機塩基のいずれでもよく、
無機塩基としては、ナトリウム、カリウムの水酸化物、
炭酸塩、水素炭酸塩、カルシウムの酸化物、水酸化物、
炭酸塩などがあげられ、有機塩基としては、トリエチル
アミン。
無機塩基としては、ナトリウム、カリウムの水酸化物、
炭酸塩、水素炭酸塩、カルシウムの酸化物、水酸化物、
炭酸塩などがあげられ、有機塩基としては、トリエチル
アミン。
ピリジン、N−メチルモルホリン、ギ酸ナトリウム、酢
酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム
のような低級脂肪酸のアルカリ金属塩などがあげられる
。
酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム
のような低級脂肪酸のアルカリ金属塩などがあげられる
。
使用する溶媒としては、一般式(IV)の化合物が少量
でも溶ける溶媒であれば特に制限はないが。
でも溶ける溶媒であれば特に制限はないが。
水、有機溶媒またはそれらの混合物が好ましく。
有機溶媒としては、水と混合する溶媒であれば特にその
種類を問わないが、メタノール、エタノール、グロパノ
ール%iso −フロノくノール、n−ブタノールのよ
うなアルコール類、アセトン。
種類を問わないが、メタノール、エタノール、グロパノ
ール%iso −フロノくノール、n−ブタノールのよ
うなアルコール類、アセトン。
エチルメチルケトン、イソブチルメチルケトンのような
ケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、′ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、ギ酸。
ケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、′ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、ギ酸。
酢酸、プロピオン酸のような低級脂肪酸、ビ1ノジンな
どがあげられる。
どがあげられる。
加水分解剤として脂肪酸のアルカリ金属塩を使用し、溶
媒として脂肪酸を使用する場合、加水分解の途中で、原
料である一般式GV)の4−ジクロルメチル−1−フタ
ラジン誘導体の一部分は、一般式 (式中R1は水素原子または低級アルキル基を示し、R
は前記に同じである。) で表わされる4−(ジアシルオキシ)メチル−7−アル
コキシカルボニル−6,8−ジメチル−1−7タラゾン
となり、ついで一般式Mの4−ホルミル−1−フタラジ
ン誘導体に転換する。
媒として脂肪酸を使用する場合、加水分解の途中で、原
料である一般式GV)の4−ジクロルメチル−1−フタ
ラジン誘導体の一部分は、一般式 (式中R1は水素原子または低級アルキル基を示し、R
は前記に同じである。) で表わされる4−(ジアシルオキシ)メチル−7−アル
コキシカルボニル−6,8−ジメチル−1−7タラゾン
となり、ついで一般式Mの4−ホルミル−1−フタラジ
ン誘導体に転換する。
使用する酸の量は、一般式(IV)の化合物に対して0
.1当量以上であれば特に制限はないが。
.1当量以上であれば特に制限はないが。
1当量以上が好ましい。
使用する塩基の量は、一般式(IV)の化合物に対して
2当量以上であれば特に制限はない。
2当量以上であれば特に制限はない。
反応は室温から溶媒の沸点の間で行うことができ1反応
は通常30分から24時間で完結する。
は通常30分から24時間で完結する。
反応液からの一般式Mの化合物の単離は1通例反応液中
に目的物の結晶が析出しているので結晶を炉取すること
により容易に行われる。
に目的物の結晶が析出しているので結晶を炉取すること
により容易に行われる。
かくして得られる一般式Mで表わされる4−ホルミル−
1−フタラジン誘導体の具体的な代表例としては。
1−フタラジン誘導体の具体的な代表例としては。
7−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチル−4−ホル
ミル−1−フタラジン 7−メトキシカルボニル−6,8−ジメチル−4−ホル
ミル−1−フタラジン 7− n −7”ロポキシ力ルボニル−6,s−シメf
A/ −4−7f、、ルミルー1−フタラジン7−
n−ブトキシカルボニル−6,8−ジメチル−4−ホル
ミル−1−フタラジン などがあけられる。
ミル−1−フタラジン 7−メトキシカルボニル−6,8−ジメチル−4−ホル
ミル−1−フタラジン 7− n −7”ロポキシ力ルボニル−6,s−シメf
A/ −4−7f、、ルミルー1−フタラジン7−
n−ブトキシカルボニル−6,8−ジメチル−4−ホル
ミル−1−フタラジン などがあけられる。
本発明の第4の反応である還元はアルデヒドをアルコー
ルにする一般的な方法即ち、金属触媒による接触還元、
金属水素化物による還元。
ルにする一般的な方法即ち、金属触媒による接触還元、
金属水素化物による還元。
酸と金属による還元などの方法を用いることができる。
例えば一般式Mの4−ホルミル−1−7タラジン誘導体
のうち、Rがエチル基の化合物は水素化ホウ素ナトリウ
ムによる還元、ラネーニッケルを用いる接触還元により
容易にフタ2シノールへ導くことができる。
のうち、Rがエチル基の化合物は水素化ホウ素ナトリウ
ムによる還元、ラネーニッケルを用いる接触還元により
容易にフタ2シノールへ導くことができる。
なお1本発明の原料である一般式Iのフタル酸無水物誘
導体は、公知化合物であり(特開昭55−27153号
公報参照)、イソデヒドロ酢酸エチルエステルとジクロ
ルマレイン無水物から容易に合成することができる。
導体は、公知化合物であり(特開昭55−27153号
公報参照)、イソデヒドロ酢酸エチルエステルとジクロ
ルマレイン無水物から容易に合成することができる。
以下本発明を実施例において具体的に説明する。
実施例1゜
4−エトキシカルボニル−3,5−ジメチルフタル酸無
水物1,00 f (4,03mmol)とトリフェニ
ルホスフ(ン3.38 f (12,1mmol)に四
塩化炭素20 mlを加え、加熱還流を15時間行う。
水物1,00 f (4,03mmol)とトリフェニ
ルホスフ(ン3.38 f (12,1mmol)に四
塩化炭素20 mlを加え、加熱還流を15時間行う。
反応後減圧濃縮して四塩化炭素を留去すると、粗生成物
が得られる。これをシリカゲル70?および展開溶媒と
してヘキサン−ベンゼンの混合溶媒を用いるカラムクロ
マトグラフィーを行い、目的物を含むフラクションを集
め減圧濃縮すると、3−ジクロルメチル−6−ニトキシ
カルボニルー5.7− ジメチルフタリド1.1lsl
−(収率87%)が得られる。
が得られる。これをシリカゲル70?および展開溶媒と
してヘキサン−ベンゼンの混合溶媒を用いるカラムクロ
マトグラフィーを行い、目的物を含むフラクションを集
め減圧濃縮すると、3−ジクロルメチル−6−ニトキシ
カルボニルー5.7− ジメチルフタリド1.1lsl
−(収率87%)が得られる。
Mp、115−116C
IRスペクトル
Br
νmax crIr”=2980.1760,1725
,1600゜1280.1185,1150,1020
.94ONMR,スペクトル(CDCI、) δ”” 1.42 (3H,t、 J=7H1,0CH
2CH3)、 2.48゜2−67 (3L 3 L
S T S 、 pheny l CH3) 伊4.
46 (2H,q、 J=7Hz、 0CH2CH3)
、 7.82(I H,s 、 phenyl −H)
MSスペクトル m/e=315 (M ) 実施例2゜ 4−エトキシカルボニル−3,5−ジメチルフタル酸無
水物1.00 S’ (4,03mmol)とトリフェ
ニルホスフィン2.64 f (10,1mmol)に
四塩化炭素1.24flC8,06mmol)、 ト
ルエ:y 10mlを加え。
,1600゜1280.1185,1150,1020
.94ONMR,スペクトル(CDCI、) δ”” 1.42 (3H,t、 J=7H1,0CH
2CH3)、 2.48゜2−67 (3L 3 L
S T S 、 pheny l CH3) 伊4.
46 (2H,q、 J=7Hz、 0CH2CH3)
、 7.82(I H,s 、 phenyl −H)
MSスペクトル m/e=315 (M ) 実施例2゜ 4−エトキシカルボニル−3,5−ジメチルフタル酸無
水物1.00 S’ (4,03mmol)とトリフェ
ニルホスフィン2.64 f (10,1mmol)に
四塩化炭素1.24flC8,06mmol)、 ト
ルエ:y 10mlを加え。
加熱還流を15時間行う。以下反応液を実施例1と同様
に処理することにより、3−ジクロルメチル−6−正ト
キシカルポニル−5,7−ジメチルフタリド1.015
I収率85%)が得られる。このものは実施例1で得ら
れたものとMp、IFLスペクトル、 NMRスペクト
ル、 MSスペクトルが完全に一致した。
に処理することにより、3−ジクロルメチル−6−正ト
キシカルポニル−5,7−ジメチルフタリド1.015
I収率85%)が得られる。このものは実施例1で得ら
れたものとMp、IFLスペクトル、 NMRスペクト
ル、 MSスペクトルが完全に一致した。
実施例3゜
4−エトキシカルボニル−3,5−ジメチルフタル酸無
水物1.00 f (4,03mmol)とトリフェニ
ルホスフィン2.32 P (8,87mmol)に四
塩化炭素3.10 ?(20,2mmol)とジオキサ
ン10m1を加え加熱還流を15時間行う。反応液を実
施例1と同様に処理することにより、3−ジクロルメチ
ル−6−ニトキシカルボニルー5,7−シメチルフタリ
ド1.05P(収率83曝)が得られる。このものは実
施例1で得られたものとMp、IRスペクトル。
水物1.00 f (4,03mmol)とトリフェニ
ルホスフィン2.32 P (8,87mmol)に四
塩化炭素3.10 ?(20,2mmol)とジオキサ
ン10m1を加え加熱還流を15時間行う。反応液を実
施例1と同様に処理することにより、3−ジクロルメチ
ル−6−ニトキシカルボニルー5,7−シメチルフタリ
ド1.05P(収率83曝)が得られる。このものは実
施例1で得られたものとMp、IRスペクトル。
NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全に一致した
。
。
実施例4゜
4−メトキシカルボニル−3,5−ジメチルフタル酸無
水物1.0 Of−(4,27mmol)とトリフ エ
ニ/l/ホスフィン2.79 F (10,68mmo
l)に四塩化炭素3.28 f (21,4mmol)
とクロロホルム10m1を加例1と同様に処理すること
により、3−ジクロルメチル−6−メドキシカルポニル
ー5,7−シメチルフタリド1.14P(収率89%)
が得られる。
水物1.0 Of−(4,27mmol)とトリフ エ
ニ/l/ホスフィン2.79 F (10,68mmo
l)に四塩化炭素3.28 f (21,4mmol)
とクロロホルム10m1を加例1と同様に処理すること
により、3−ジクロルメチル−6−メドキシカルポニル
ー5,7−シメチルフタリド1.14P(収率89%)
が得られる。
Mp、 137−139t:’
IRスペクトル
シKBrcrtr’=1770.1725,1600,
1285゜ax 1170.1010.945 NMRスペクトル(CDCl、 ) δ” 2−46 g 2.63 (3H93L Sl
s + pheny l CHs ) +3.97
(3H,s、 OCH3)、 7.77 (IH,s。
1285゜ax 1170.1010.945 NMRスペクトル(CDCl、 ) δ” 2−46 g 2.63 (3H93L Sl
s + pheny l CHs ) +3.97
(3H,s、 OCH3)、 7.77 (IH,s。
phenyl −H)
MSスペクトル
m/e=301 (M”)
実施例5゜
a−ジクロルメチル−6−ニトキシカルボニルー5,7
−ジメチルフタリド200 Q (0,64mmol)
をキシレン20m1に溶かし、これに80係ヒドラジン
ヒトラード溶液80 N (1,3mmol )を加え
。
−ジメチルフタリド200 Q (0,64mmol)
をキシレン20m1に溶かし、これに80係ヒドラジン
ヒトラード溶液80 N (1,3mmol )を加え
。
加熱還流を12時間行う。反応後反応液を減圧濃縮して
キシレンを留去すると粗生成物が得られる。
キシレンを留去すると粗生成物が得られる。
これをシリカゲル20デおよび展開溶媒としてベンゼン
酢酸エチルの混合溶媒を用いるカラムクロマトグラフィ
ーな行い、目的物を含むフラクションを集め減圧濃縮す
ると、4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルボニルー
6.8−ジメチル−1−フタラジン173■(収率82
.0%)が得られる。
酢酸エチルの混合溶媒を用いるカラムクロマトグラフィ
ーな行い、目的物を含むフラクションを集め減圧濃縮す
ると、4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルボニルー
6.8−ジメチル−1−フタラジン173■(収率82
.0%)が得られる。
Mp、187−189C
ITLスペクトル
KBr −1−
νmax crn−3150,2920,1740,
1660゜1596.1270,1156,1119,
1035゜45 NMRスペクトル(CDCIり δ−1,41(3H,L、 J=7H2,0CH2CH
3)、 2.52゜2−90 (3H+ 3HI
S、 s、 phenyl CHa)−4,47
(2H,q、 J=7Hz、 0CHzCHs)、 6
.83(IH,s、 CHCl2)、 8.13 (I
H,81phenyl−H)、 11.04 (IH,
s、 NH)MSスペクトル m/e=329 (M”) 実施例6゜ 3−ジクロルメチル−6′−エトキシカルボニル−5,
7−ジメチルフタリド200111f (0,64mm
ol)をn−グロパノール29m1に溶かし、これに8
0%ヒドラジンヒトラード水溶液80■(1゜3 mm
ol )を加え、加熱還流を20時間行う。以下反応液
を実施例5と同様に処理することにより、4−ジクロル
メチル−7−ニドキシカルボニルー6、 s −ジメチ
ル−1−フタラジン168■(収率80%)が得られる
。このものは実施例5で得られたものトMp、 IRス
ペクトル、NMRスペクトル、MSスペクトルが完全に
一致した。
1660゜1596.1270,1156,1119,
1035゜45 NMRスペクトル(CDCIり δ−1,41(3H,L、 J=7H2,0CH2CH
3)、 2.52゜2−90 (3H+ 3HI
S、 s、 phenyl CHa)−4,47
(2H,q、 J=7Hz、 0CHzCHs)、 6
.83(IH,s、 CHCl2)、 8.13 (I
H,81phenyl−H)、 11.04 (IH,
s、 NH)MSスペクトル m/e=329 (M”) 実施例6゜ 3−ジクロルメチル−6′−エトキシカルボニル−5,
7−ジメチルフタリド200111f (0,64mm
ol)をn−グロパノール29m1に溶かし、これに8
0%ヒドラジンヒトラード水溶液80■(1゜3 mm
ol )を加え、加熱還流を20時間行う。以下反応液
を実施例5と同様に処理することにより、4−ジクロル
メチル−7−ニドキシカルボニルー6、 s −ジメチ
ル−1−フタラジン168■(収率80%)が得られる
。このものは実施例5で得られたものトMp、 IRス
ペクトル、NMRスペクトル、MSスペクトルが完全に
一致した。
実施例7゜
3−ジクロルメチル−6−ニトキシカルポニルー5,7
−ジメチルフタリド200 q(0,64mmol)を
、ジオキサン20m1に溶かし、これに80%ヒドラジ
ンヒトラード水溶液200■(3,2mmol )を加
え、加熱還流を20時間行う。以下反応液を実施例5と
同様に処理することにより、4−ジクロルメチlv−6
−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチル−1−フタラ
ジン164■(収率78%)が得られる。このものは実
施例5で得られたものとMp、 IRスペクトル−NM
Rスペクトル−MSスペクトルが完全に一致した。
−ジメチルフタリド200 q(0,64mmol)を
、ジオキサン20m1に溶かし、これに80%ヒドラジ
ンヒトラード水溶液200■(3,2mmol )を加
え、加熱還流を20時間行う。以下反応液を実施例5と
同様に処理することにより、4−ジクロルメチlv−6
−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチル−1−フタラ
ジン164■(収率78%)が得られる。このものは実
施例5で得られたものとMp、 IRスペクトル−NM
Rスペクトル−MSスペクトルが完全に一致した。
実施例8゜
3−ジクロルメチル−6−メドキシカルボニルー5,7
−ジメチA/7タリド200rr@(0,66mmoり
をキシレン20m1に溶かし、これに8(lヒドラジン
ヒトラード水溶液83 mg (1,32mmol)を
加え。
−ジメチA/7タリド200rr@(0,66mmoり
をキシレン20m1に溶かし、これに8(lヒドラジン
ヒトラード水溶液83 mg (1,32mmol)を
加え。
加熱還流を12時間行う。以下反応液を実施例5と同様
に処理することにより、4−ジクロルメチル−7−メド
キシカルボニルー6、8−ジメチル−1−7タラゾン1
75■(収率83%)か得られる。
に処理することにより、4−ジクロルメチル−7−メド
キシカルボニルー6、8−ジメチル−1−7タラゾン1
75■(収率83%)か得られる。
Mp、226−228C
IRスペクトル
KBr −s
νmax ”=3150.30001,1730,16
55゜1600.1280,1235,1150,11
10゜1030.73O NMRスペクトル(CDC13) δ=2.50.2.88(3H,3H,s、 s、 p
henyl−CI−13)。
55゜1600.1280,1235,1150,11
10゜1030.73O NMRスペクトル(CDC13) δ=2.50.2.88(3H,3H,s、 s、 p
henyl−CI−13)。
4.0 (3H,s、 0CH3)、 6.85 (I
H,s、 CHCl2)。
H,s、 CHCl2)。
8.15 (IH,s、 phenyl−H)、 10
.73(IH。
.73(IH。
s、NH)
MSスペクトル
m/e=315 (M勺
実施例9゜
4− ジクロルメチル−7−エトキシカルボニル2時間
行う。反応終了後反応液を冷却し、析出した結晶を戸数
し、水洗し、乾燥することにより。
行う。反応終了後反応液を冷却し、析出した結晶を戸数
し、水洗し、乾燥することにより。
4− ホA/ ミル−7−ニドキシカルボニルー6.8
−ジメチル−1−フタラジン400■(収率96%)が
得られる。
−ジメチル−1−フタラジン400■(収率96%)が
得られる。
Mp・ 219−223C
IRスペクトル
KBr −1
1/maX crn =2900,1725,1700
,1655゜1590.1260.1220.111O
NMR,スペクトル(CDC1,) δ=1.43 (3H,t 、 J−7H2,QC)J
2 CHs)、 2.53゜2.90 (3H,3H,
s、 s、 phenyl−CH3)14.48
(2H,q、 J=7Hz、 0CR2CH3)、 8
.83(IH,s、 phenyl−H)、 9.
87 (IH,s、 CHO)。
,1655゜1590.1260.1220.111O
NMR,スペクトル(CDC1,) δ=1.43 (3H,t 、 J−7H2,QC)J
2 CHs)、 2.53゜2.90 (3H,3H,
s、 s、 phenyl−CH3)14.48
(2H,q、 J=7Hz、 0CR2CH3)、 8
.83(IH,s、 phenyl−H)、 9.
87 (IH,s、 CHO)。
10.7 (I H,s、 NH)
MSスペクトル
m/e=274 (M )
実施例10゜
4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルボニルー6.8
−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304mm
ol)にメタ/−ル8.OmlとIN塩酸2、Qmlを
加え、加熱還流を24時間行う。反応後減圧濃縮して溶
媒を留去すると粗生成物が得られる。これをシリカゲル
10y−および展開溶媒として、ベンゼン−酢酸エチル
の混合溶媒を用イルカラムクロマトグラフィーを行い。
−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304mm
ol)にメタ/−ル8.OmlとIN塩酸2、Qmlを
加え、加熱還流を24時間行う。反応後減圧濃縮して溶
媒を留去すると粗生成物が得られる。これをシリカゲル
10y−および展開溶媒として、ベンゼン−酢酸エチル
の混合溶媒を用イルカラムクロマトグラフィーを行い。
目的物を含む7ラクシヨンを集め減圧濃縮すると、4〜
ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6、8− ジメチ
ル−1−フタラジン41.7■(収率50%)が得られ
る。
ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6、8− ジメチ
ル−1−フタラジン41.7■(収率50%)が得られ
る。
このものは実施例9で得られたものとMp、IRスペク
トル、NMRスペクトル+ MSスペクトルが完全に一
致した。
トル、NMRスペクトル+ MSスペクトルが完全に一
致した。
実施例11゜
4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルボニルー6.8
−ジメチル−1−7タラゾン100■(0,304rr
!mol )にメタノ−k 8.0 mlとIN水酸化
す) IJウム水溶液2 mlを加え、加熱還流を15
時間行う。以下反応液を実施例10と同様に処理するこ
とにより、4−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6
.8−ジメチル−1−フタラジン29.2nv(収率3
5%)が得られる。このものは実施例9で得られたもの
とMp、IRスペクトル、NMRスペクトル、 MSス
ペクトルが完全に一致した。
−ジメチル−1−7タラゾン100■(0,304rr
!mol )にメタノ−k 8.0 mlとIN水酸化
す) IJウム水溶液2 mlを加え、加熱還流を15
時間行う。以下反応液を実施例10と同様に処理するこ
とにより、4−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6
.8−ジメチル−1−フタラジン29.2nv(収率3
5%)が得られる。このものは実施例9で得られたもの
とMp、IRスペクトル、NMRスペクトル、 MSス
ペクトルが完全に一致した。
実施例12゜
4−ジクロルメチル−7−メドキシカルボニルー6.8
−ジメチル−1−7タラジン100mg(0,317m
mol )に酢酸4 mlと水4mlを加え、加熱還流
を2時間行う。以下実施例9と同様に処理することによ
り、4−ホルミル−7−メドキシカルボニルー6.8−
ジメチル−1−フタラゾン78.4■(収率95%)が
得られる。
−ジメチル−1−7タラジン100mg(0,317m
mol )に酢酸4 mlと水4mlを加え、加熱還流
を2時間行う。以下実施例9と同様に処理することによ
り、4−ホルミル−7−メドキシカルボニルー6.8−
ジメチル−1−フタラゾン78.4■(収率95%)が
得られる。
Mp、 237−241t:’
IRスペクトル
KBr −+
νmax crn−3400,300o、292o、1
71o。
71o。
1660.1590,1270,1225,1110゜
1030.82O NMRスペクトル(CDCl5) δ−2,48,2,85(3H,3H,s、 s、
phenyl −CN3)、 3.98 (3H,
s、 0CHs)、 8.88 (I H。
1030.82O NMRスペクトル(CDCl5) δ−2,48,2,85(3H,3H,s、 s、
phenyl −CN3)、 3.98 (3H,
s、 0CHs)、 8.88 (I H。
s、 phenyl −H)、 9.88 (I
H,s、 CHO)。
H,s、 CHO)。
10.7(IH,s、NH)
MSスペクトル
m/e=260(M )
実施例13゜
4− ジクロルメチル−7−ニドキシカルボニルー6.
8−ジメチル−1−フタラジン10100l110.3
04 mmol)に酢酸ナトリウム250111g(3
,04mmo+)と酢酸IQmlを加え、加熱還流を2
時間行う。反応終了後反応液に水10m1を加え、析出
した結晶を戸数し、水洗し、乾燥することにより。
8−ジメチル−1−フタラジン10100l110.3
04 mmol)に酢酸ナトリウム250111g(3
,04mmo+)と酢酸IQmlを加え、加熱還流を2
時間行う。反応終了後反応液に水10m1を加え、析出
した結晶を戸数し、水洗し、乾燥することにより。
4−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6、8−ジメ
チル−1−フタラジン80■(収率96%)が得られる
。このものは実施例9で得られたものトMp、 IRス
ヘクトル、NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全
に一致した。
チル−1−フタラジン80■(収率96%)が得られる
。このものは実施例9で得られたものトMp、 IRス
ヘクトル、NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全
に一致した。
実施例14゜
4−ジクoルメチル−7−エトキシ力ルポニル“−6,
8−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304m
mol)にギ酸ナトリウム206■(3,04mmol
)とギ酸10m1を加え、室温にて3時間攪拌を行う。
8−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304m
mol)にギ酸ナトリウム206■(3,04mmol
)とギ酸10m1を加え、室温にて3時間攪拌を行う。
反応終了後、実施例13と同様に処理することにより、
4−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6、8− ジ
メチル−1−7タラゾン80■(収率96係)が得られ
る。このものは実施例9で得られたものとMp、Iii
スペクトル、NMRスペクトル11 MSスペクトル、
が完全に一致した。
4−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6、8− ジ
メチル−1−7タラゾン80■(収率96係)が得られ
る。このものは実施例9で得られたものとMp、Iii
スペクトル、NMRスペクトル11 MSスペクトル、
が完全に一致した。
実施例15゜
4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルポニルー6.8
−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304kn
moりにプロピオン酸ナトリ幹ム292mg (3,0
4mmol )とプロオン酸10 ml ヲjllll
、t、 室温にて3時間攪拌を行う。反応終了後、実
施例13と同様に処理することにより、4−ポルミル−
7−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチル−1−フタ
ラジン78■(収率94%)が得られる。このものは実
施例9で得られたものとMp、IRスペクトル、NMR
スペクトル+ MSスペクトルが完全に一致した。
−ジメチル−1−フタラジン100■(0,304kn
moりにプロピオン酸ナトリ幹ム292mg (3,0
4mmol )とプロオン酸10 ml ヲjllll
、t、 室温にて3時間攪拌を行う。反応終了後、実
施例13と同様に処理することにより、4−ポルミル−
7−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチル−1−フタ
ラジン78■(収率94%)が得られる。このものは実
施例9で得られたものとMp、IRスペクトル、NMR
スペクトル+ MSスペクトルが完全に一致した。
実施例16゜
4−ジクロルメチル−7−ニドキシカルポニルー6.8
−ジメチル−1−フタラジン100Ir@(0,304
mmoりに酢酸ナトリウム250■(3o4mmo I
)とジメチルホルムアミド10m1を加え、室温にて
2時間攪拌を行う。反応終了後減圧濃縮して溶媒を留去
し、水20 mlを加え30分間攪拌後析出した結晶を
戸数し、水洗し、乾燥することにより、4−ホルミル−
7゛−エトキシカルボニル−6,8−ジメチル−1−7
タラゾン76■(収率91%)が得られる。このものは
実施例9で得られたものとMp、IRスペクトル−NM
Rスペクトル。
−ジメチル−1−フタラジン100Ir@(0,304
mmoりに酢酸ナトリウム250■(3o4mmo I
)とジメチルホルムアミド10m1を加え、室温にて
2時間攪拌を行う。反応終了後減圧濃縮して溶媒を留去
し、水20 mlを加え30分間攪拌後析出した結晶を
戸数し、水洗し、乾燥することにより、4−ホルミル−
7゛−エトキシカルボニル−6,8−ジメチル−1−7
タラゾン76■(収率91%)が得られる。このものは
実施例9で得られたものとMp、IRスペクトル−NM
Rスペクトル。
MSスペクトルが完全に一致した。
実施例17゜
実施例16において、ジメチルホルムアミドのかわりに
テトラヒドロフラン10m1を用い、加熱還流を2時間
行い、以後実施例16と同様に処理することにより、4
−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチ
λ−1−フタラゾン75■(収率90%)が得られる。
テトラヒドロフラン10m1を用い、加熱還流を2時間
行い、以後実施例16と同様に処理することにより、4
−ホルミル−7−ニドキシカルボニルー6.8−ジメチ
λ−1−フタラゾン75■(収率90%)が得られる。
このものは実施例9で得られたものとMp、IRスペク
トル’:NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全に
一致した。
トル’:NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全に
一致した。
実施例18゜
実施例16において、酢酸ナトリウム250■およびジ
メチルホルムアミド10m1のかわりにプロピオン酸’
60H1g(0,79mmol)およびピリジン10m
1を用いて行うと、4−ホルミル−7−ニドキシカルボ
ニルー6.8−ジメチル−1−7タラゾン75■(収率
90%)が得られる。このものは実施例9で得られたも
のとMp、IRスペクトル。
メチルホルムアミド10m1のかわりにプロピオン酸’
60H1g(0,79mmol)およびピリジン10m
1を用いて行うと、4−ホルミル−7−ニドキシカルボ
ニルー6.8−ジメチル−1−7タラゾン75■(収率
90%)が得られる。このものは実施例9で得られたも
のとMp、IRスペクトル。
NMRスペクトル、 MSスペクトルが完全に一致した
。
。
実施例19゜
4−ホルミル−7−ニドキシカルポニルー6.8−ジメ
チル−1−フタラジン100■(0,365mmoりを
メタノール20m1に懸濁させ、水冷下水素化ホウ素ナ
トリウム27.6 mg (0,730mmol)を添
加し、室温にて2時間攪拌する。反応終了後。
チル−1−フタラジン100■(0,365mmoりを
メタノール20m1に懸濁させ、水冷下水素化ホウ素ナ
トリウム27.6 mg (0,730mmol)を添
加し、室温にて2時間攪拌する。反応終了後。
メタノールを減圧濃縮して留去し、残渣に水20m1を
加え溶解させ、酢酸にてpH4,5〜5.0に調整する
。析出した結晶を戸数し、水洗し、乾燥すると、4−ヒ
ドロキシメチル−7−ニドキシカルボニルー6、F3−
ジメチル−1−7タラゾン96.2fj[t(収率95
%)が得られる。
加え溶解させ、酢酸にてpH4,5〜5.0に調整する
。析出した結晶を戸数し、水洗し、乾燥すると、4−ヒ
ドロキシメチル−7−ニドキシカルボニルー6、F3−
ジメチル−1−7タラゾン96.2fj[t(収率95
%)が得られる。
Mp、171−173C
IRスペクトル、 NMRスペクトルにおいて別途合成
した標準品と完全に一致した。
した標準品と完全に一致した。
特許出願人 日本化薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11(a) 一般式 (式中Rは炭素数1個ないし6個の低級アルキル基を示
す。) で表わされる4−アルコキシカルボニル−3,5−ジメ
チル7タル酸無水物に四塩化炭素またはそれを含む溶媒
中トリフェニルホスフィンを作用させて、一般式 (式中Rは前記に同じ′である。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−シメチルフタリドを製造し、ついで (bl 上で得られた化合物にヒドラジンを反応させ
て、一般式 (式中Rは前記に同じである。) で表ワされる7−アルコキシカルボニル−4−ジクロル
メチル−6、8−ジメチル−1−フタラジンを製造し、
その後 (C) 得られた化合物を加水分解して、一般式(式
中Rは前記に同じである。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−6,8−ジメ
チル−4−ホルミル−1−フタラジンとし、さらに (dl 得られた化合物を還元することを特徴とする
一般式 (式中Rは前記に同じである。) で表わされる4−ヒドロキシメチル−1−7クラジン誘
導体の製造法。 (2) 一般式 (式中Rは炭素数1個ないし6個の低級アルキル基を示
す。) で表わされる7−アルコキシカルボニル−4−ジクロル
メチル−6,8−ジメチル−1−フタラジン ルキル基を示す。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−シメチルフタリドにヒドラジンを反応
させることを特徴とする(式中Rは前記に同じである。 ) で表わされる7−アルコキシカルボニル−4−ジクロル
メチル−6,8−ジメチル−1−7タラゾンの製造法 (4)一般式 (式中Rは炭素数1個ないし6個の低級アルキル基を示
す。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−シメチルフタリド(5)一般式 (式中Rは炭素数1個ないし6個の低級アルキル基を示
す。) で表わされる4−アルコキシカルボニル−3,5−ジメ
チルフタル酸無水物に四塩化炭素またはそれを含む溶媒
中トリフェニルホスフィンを作用させることを特徴とす
る。一般式(式中Rは前記に同じである。) で表わされる6−アルコキシカルボニル−3−ジクロル
メチル−5,7−ジメチルフタ1ノドの製造法
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068582A JPS58140077A (ja) | 1982-02-13 | 1982-02-13 | 4−ヒドロキシメチル−1−フタラゾン誘導体の製造法およびその中間体 |
EP83101163A EP0086438A1 (en) | 1982-02-13 | 1983-02-08 | Process and intermediates for preparing 4-hydroxymethyl-1-phthalazone derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2068582A JPS58140077A (ja) | 1982-02-13 | 1982-02-13 | 4−ヒドロキシメチル−1−フタラゾン誘導体の製造法およびその中間体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58140077A true JPS58140077A (ja) | 1983-08-19 |
Family
ID=12034016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2068582A Pending JPS58140077A (ja) | 1982-02-13 | 1982-02-13 | 4−ヒドロキシメチル−1−フタラゾン誘導体の製造法およびその中間体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0086438A1 (ja) |
JP (1) | JPS58140077A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006131230A2 (de) | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Bayer Cropscience Ag | Wirkstoffkombinationen |
DE102005026482A1 (de) | 2005-06-09 | 2006-12-14 | Bayer Cropscience Ag | Wirkstoffkombinationen |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1143733A (en) * | 1979-07-31 | 1983-03-29 | Masao Yoshida | Producing 7-alkoxycarbonyl-6,8-dimethyl-4- hydroxymethyl-1-phthalazone and intermediates |
-
1982
- 1982-02-13 JP JP2068582A patent/JPS58140077A/ja active Pending
-
1983
- 1983-02-08 EP EP83101163A patent/EP0086438A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0086438A1 (en) | 1983-08-24 |
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