JPS6036415B2 - ２−ペンテン誘導体の製法 - Google Patents
２−ペンテン誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS6036415B2 JPS6036415B2 JP9718277A JP9718277A JPS6036415B2 JP S6036415 B2 JPS6036415 B2 JP S6036415B2 JP 9718277 A JP9718277 A JP 9718277A JP 9718277 A JP9718277 A JP 9718277A JP S6036415 B2 JPS6036415 B2 JP S6036415B2
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- Japan
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- compound
- reaction
- producing
- residue
- methoxycarbonylmethyl
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は２−ペンテン誘導体の製法に関する。
本発明の化合物は例えば次のような反応式に従い製造さ
れる。（式中Ｒ２は低級の直鎖若しくは分枝状のアルキ
ル基を示す）。
れる。（式中Ｒ２は低級の直鎖若しくは分枝状のアルキ
ル基を示す）。
本発明の上記化合物｛３丁のジャスミンオイル中の主要
芳香成分として有用であり，化合物‘２｝は化合物糊の
中間体として有用である。
芳香成分として有用であり，化合物‘２｝は化合物糊の
中間体として有用である。
化合物‘３’の従来の製法としては例えばＧ．Ｂｕｃｈ
ｉ，Ｂ，Ｈｇ繋ｒがＪ，０ｒｇ．Ｃｈｅｍ．３６，２０
２１（１９７１）に報告して方法が知られている、之を
反応式で示すと次の通りである。
ｉ，Ｂ，Ｈｇ繋ｒがＪ，０ｒｇ．Ｃｈｅｍ．３６，２０
２１（１９７１）に報告して方法が知られている、之を
反応式で示すと次の通りである。
上記従来法においては脱メトキシカルボニル工程が収率
１００％としても全体で３０％以下の収率となる。
１００％としても全体で３０％以下の収率となる。
更に出発物質が容易に得られないため、入手容易な出発
物質から計算すれば更に工程数が増加し、全体の収率は
更に低下する。またその他の方法も多く報告されている
が、上記方法と同程度又はそれ以下の収率であり、加え
て特殊な試薬、危険な試薬、公学の原因となる試薬を利
用する場合が多く、反応操作も複雑である。本発明は従
来法に比して極めて収率良く目的化合物を得る方法を提
供するものである。
物質から計算すれば更に工程数が増加し、全体の収率は
更に低下する。またその他の方法も多く報告されている
が、上記方法と同程度又はそれ以下の収率であり、加え
て特殊な試薬、危険な試薬、公学の原因となる試薬を利
用する場合が多く、反応操作も複雑である。本発明は従
来法に比して極めて収率良く目的化合物を得る方法を提
供するものである。
本発明において出発原料である化合物‘１雌新規化合物
であり、該化合物は公知の化合物から例えば次のように
して得られる。
であり、該化合物は公知の化合物から例えば次のように
して得られる。
（式中Ｒ，，Ｒ２及びＲ３はそれぞれ低級の直鎖若しく
は分枝状のアルキル基を示す）化合物‘小ま例えばフル
フリルアルコールの電解酸化等により容易に得られるシ
スー２−ブテン酸ェステル誘導体であり、之とアセト酢
酸ェステル‘５｝とを縮合させることにより化合物■が
得られる。
は分枝状のアルキル基を示す）化合物‘小ま例えばフル
フリルアルコールの電解酸化等により容易に得られるシ
スー２−ブテン酸ェステル誘導体であり、之とアセト酢
酸ェステル‘５｝とを縮合させることにより化合物■が
得られる。
化合物■をハロゲン化ベンチニルと反応させると化合物
【７｝が得られ、之を直接或いは加水分解した後に閉環
することにより化合物側が得られる。化合物‘９｝を脱
カルボキシレート化し、次いで選択還元することにより
、本発明出発原料である化合物‘１｝が得られる。化合
物０１の化合物■へのシース還元はリソドラー触媒の存
在下に行なわれる。
【７｝が得られ、之を直接或いは加水分解した後に閉環
することにより化合物側が得られる。化合物‘９｝を脱
カルボキシレート化し、次いで選択還元することにより
、本発明出発原料である化合物‘１｝が得られる。化合
物０１の化合物■へのシース還元はリソドラー触媒の存
在下に行なわれる。
リモドラー触媒の代表的なものはパラジウム−炭酸カル
シウム触媒を酢酸鉛とキノリンで被毒したものである。
リンドラ触媒の使用量は特に限定されず適宜選択決定で
きるが、一般には化合物【１｝の対して１〜５０の重量
％、好ましくは１０〜１０の重量％の量を使用すればよ
い。該反応は有機溶媒中で行なうのが望ましく、斯かる
有機溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノー
ル等の脂肪族アルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン、テトラ
ハイドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等の脂肪
族ェーナル、ｎヘキサン、ｎーヘプタン等の脂肪族炭化
水素、ジクロルメタン、ジクロルェタン等のハロゲン化
炭化水素等及びこれらの混合溶媒を例示できる。また該
反応は常圧、加圧下のいずれで行っても良い。反応温度
は特に限定されないが一般には１０〜６０ｑｏ、好まし
くは２０〜４０ｏｏで行なうのが良い。化合物■の化合
物‘３｝への酸化反応は溶媒及び酸化剤の存在下有利に
行なわれらる。
シウム触媒を酢酸鉛とキノリンで被毒したものである。
リンドラ触媒の使用量は特に限定されず適宜選択決定で
きるが、一般には化合物【１｝の対して１〜５０の重量
％、好ましくは１０〜１０の重量％の量を使用すればよ
い。該反応は有機溶媒中で行なうのが望ましく、斯かる
有機溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノー
ル等の脂肪族アルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン、テトラ
ハイドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等の脂肪
族ェーナル、ｎヘキサン、ｎーヘプタン等の脂肪族炭化
水素、ジクロルメタン、ジクロルェタン等のハロゲン化
炭化水素等及びこれらの混合溶媒を例示できる。また該
反応は常圧、加圧下のいずれで行っても良い。反応温度
は特に限定されないが一般には１０〜６０ｑｏ、好まし
くは２０〜４０ｏｏで行なうのが良い。化合物■の化合
物‘３｝への酸化反応は溶媒及び酸化剤の存在下有利に
行なわれらる。
溶媒としては例えばジクロルメタン、ジクロルェタン等
のハロゲン化炭化水素、テトラハイドロフラン、ジオキ
サン、エチルエーテル等の脂肪族エーテル、ｎーヘキサ
ン、ｎーヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トル
ェン等の芳香族炭化水素等の不活性溶媒が用いられる。
酸化剤としてはクロム酸−硫酸の組合せ（ジョンズ試薬
）、ＫＭｎ０４、重クロム酸カリ、４酢酸鉛、酸化鉛、
パーオキサィド、硝酸等を例示できる。酸化剤の使用量
は化合物■に対して約０．５〜３倍モル、好ましくは約
１〜１．５倍モルとするのが良い。反応温度は特に限定
されないが通常−２０〜５０００、好ましくは５〜３０
ｏｏとするのが良い。以上の方法により本発明の化合物
■及び糊が得られる。
のハロゲン化炭化水素、テトラハイドロフラン、ジオキ
サン、エチルエーテル等の脂肪族エーテル、ｎーヘキサ
ン、ｎーヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トル
ェン等の芳香族炭化水素等の不活性溶媒が用いられる。
酸化剤としてはクロム酸−硫酸の組合せ（ジョンズ試薬
）、ＫＭｎ０４、重クロム酸カリ、４酢酸鉛、酸化鉛、
パーオキサィド、硝酸等を例示できる。酸化剤の使用量
は化合物■に対して約０．５〜３倍モル、好ましくは約
１〜１．５倍モルとするのが良い。反応温度は特に限定
されないが通常−２０〜５０００、好ましくは５〜３０
ｏｏとするのが良い。以上の方法により本発明の化合物
■及び糊が得られる。
化合物■及び｛３｝はそれぞれ単離された化合物‘１｝
及び（２｝より得ることもできるが、勿論単離しないで
反応混合物をそのまま原料として使用することによって
も得られる。またそれぞれの化合物は抽出、蒸留、クロ
マトグラフィー、再結晶等の公知の手段により容易に精
製することが可能である。以下本発明の参考例及び実施
例を挙げる。
及び（２｝より得ることもできるが、勿論単離しないで
反応混合物をそのまま原料として使用することによって
も得られる。またそれぞれの化合物は抽出、蒸留、クロ
マトグラフィー、再結晶等の公知の手段により容易に精
製することが可能である。以下本発明の参考例及び実施
例を挙げる。
参考例 １
５００の‘の反応容器に弗化カリウム４０夕、乾燥にｒ
ｔーブタノール４０地、シス−４，４−ジメトキシ−２
−ブテン酸メチル１２３夕及びアセト酢酸にｒｔ−ブチ
ルェステル３６夕を入れ、油浴中で２日間凝梓下１００
ｏｏに加熱する。
ｔーブタノール４０地、シス−４，４−ジメトキシ−２
−ブテン酸メチル１２３夕及びアセト酢酸にｒｔ−ブチ
ルェステル３６夕を入れ、油浴中で２日間凝梓下１００
ｏｏに加熱する。
反応終了後にｒｔ−ブタノールを蟹去する。残湾を酢酸
エチルに溶解し食塩水で洗浄し次いで乾燥する。溶媒を
除去して残隣をシリカゲルカラムで精製し、減圧下蒸留
してｂ．ｐ．７２〜７が○／０．０１４ｍｍＨｇのメチ
ル４一ｔｅｒｔーブトキシカルボニル一３ージメトキシ
メチルー５一オキソヘキサノヱート〔化合物側，Ｒ，：
ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＨ８〕を収率９５．４％で得
る。元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ５６．６５８．１３ 理論値（％） ５６．６９８．２３ ＩＲ２８５１伽‐１（ＣＨ３０）， １７３６肌‐１（＞Ｃニ。
エチルに溶解し食塩水で洗浄し次いで乾燥する。溶媒を
除去して残隣をシリカゲルカラムで精製し、減圧下蒸留
してｂ．ｐ．７２〜７が○／０．０１４ｍｍＨｇのメチ
ル４一ｔｅｒｔーブトキシカルボニル一３ージメトキシ
メチルー５一オキソヘキサノヱート〔化合物側，Ｒ，：
ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＨ８〕を収率９５．４％で得
る。元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ５６．６５８．１３ 理論値（％） ５６．６９８．２３ ＩＲ２８５１伽‐１（ＣＨ３０）， １７３６肌‐１（＞Ｃニ。
）１７１５肌‐１（＞Ｃニ。
）ＮＭＲ（ＣＣ１４）
１．４３（広９，Ｃは）
３．１９〜３．斑（ｍＯＣは０）
３．５８〜３．７２（ｍ３，ＣＱＯＣＯ）３．１９〜３
．７２（ｍｌ，ＣＨ） ４．３１（ｔｌ，５Ｈｚ，ＯＣＨＯ） 参考例 ２ 反応容器に炭酸カリウム１．３８９、ョゥ化カリウム３
０８の９を入れ、アセトン３０叫とメチル４一把ｒｔー
ブトキシカルポニル−３ージメトキシメチルー５一オキ
ソヘキサノェート４５０の９を溶解したアセトン１０の
‘を加える。
．７２（ｍｌ，ＣＨ） ４．３１（ｔｌ，５Ｈｚ，ＯＣＨＯ） 参考例 ２ 反応容器に炭酸カリウム１．３８９、ョゥ化カリウム３
０８の９を入れ、アセトン３０叫とメチル４一把ｒｔー
ブトキシカルポニル−３ージメトキシメチルー５一オキ
ソヘキサノェート４５０の９を溶解したアセトン１０の
‘を加える。
次いでベンチニルフロマイド２７０の９を加え、室温下
１時間燈拝し、次いで１３時間７０ｑｏで還流する。反
応終了後室溢まで冷却し固形分を分離する。減圧下濃縮
し、残澄をシリカゲルカラムで精製して、収率９１％で
メチル４ーアセチル−４一ｔｅれ−ブトキシカルボニル
ー３ージメトキシメチルー６ーノニノェート〔化合物｛
７｝，Ｒ，＝ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＨ３〕を得る。
元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ６２．５４８．３５ 理論値（％） ６２．５０８．３９ ＩＲ ２８３７弧‐１（ＣＨ３０）， １７２９弧‐１（＞Ｃ＝０）， Ｉ７１０弧‐１（＞Ｃニ０）， １４３０伽‐１（Ｃ母）， １３５４肌‐１（Ｃは○） ＮＭＲ（ＣＣ１４）（６値） １．１１（３日，Ｃ比−Ｃ） ２．２６〜２．５５（２日，ＣＨ２ＣＯＯ）２．５５〜
２．８５（幻，ＣＨ２‐Ｃ三）３．６１，３．６５（斑
，ＣＨ３０ＣＯ）４．１８〜４．３９ 参考例 ３ メチル４ーアセチル−４一ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル−３ージメトキシメチルー６ーノニノエ−ト５４６の
９をテトラハイドロフラン３０叫に溶解し、１．５％過
塩素酸水溶液２５叫を加えて２がｏで１幼時間蝿拝する
。
１時間燈拝し、次いで１３時間７０ｑｏで還流する。反
応終了後室溢まで冷却し固形分を分離する。減圧下濃縮
し、残澄をシリカゲルカラムで精製して、収率９１％で
メチル４ーアセチル−４一ｔｅれ−ブトキシカルボニル
ー３ージメトキシメチルー６ーノニノェート〔化合物｛
７｝，Ｒ，＝ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＨ３〕を得る。
元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ６２．５４８．３５ 理論値（％） ６２．５０８．３９ ＩＲ ２８３７弧‐１（ＣＨ３０）， １７２９弧‐１（＞Ｃ＝０）， Ｉ７１０弧‐１（＞Ｃニ０）， １４３０伽‐１（Ｃ母）， １３５４肌‐１（Ｃは○） ＮＭＲ（ＣＣ１４）（６値） １．１１（３日，Ｃ比−Ｃ） ２．２６〜２．５５（２日，ＣＨ２ＣＯＯ）２．５５〜
２．８５（幻，ＣＨ２‐Ｃ三）３．６１，３．６５（斑
，ＣＨ３０ＣＯ）４．１８〜４．３９ 参考例 ３ メチル４ーアセチル−４一ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル−３ージメトキシメチルー６ーノニノエ−ト５４６の
９をテトラハイドロフラン３０叫に溶解し、１．５％過
塩素酸水溶液２５叫を加えて２がｏで１幼時間蝿拝する
。
次いで反応溶液を重炭酸ナトリウムで中和し減圧下濃縮
する。残笹を酢酸エチルで抽出し、乾燥後濃縮してメチ
ル４ーアセチル−４一把ｒｔ−ブトキシカルボニル−３
ーホルミルー６ーノニノェート〔化合物【８’，Ｒ，＝
ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｃ比〕を得る。粗収率斑％ＮＭＲ（Ｃ
Ｃ１４）９．６５（ＣＨＯ） ＩＲ（Ｍａｔ）２８４１伽‐１（ＣＨ。
する。残笹を酢酸エチルで抽出し、乾燥後濃縮してメチ
ル４ーアセチル−４一把ｒｔ−ブトキシカルボニル−３
ーホルミルー６ーノニノェート〔化合物【８’，Ｒ，＝
ｔ−Ｂｕ，Ｒ２＝Ｃ比〕を得る。粗収率斑％ＮＭＲ（Ｃ
Ｃ１４）９．６５（ＣＨＯ） ＩＲ（Ｍａｔ）２８４１伽‐１（ＣＨ。
）１７３３，１７１６肌‐１（＞Ｃニ。
）上記で得られた化合物■の７９０の９を酢酸１泌、ピ
ベリジン１の‘を含むベンゼン５０泌に溶解し４時間還
流する。
ベリジン１の‘を含むベンゼン５０泌に溶解し４時間還
流する。
反応終了後、溶媒を除去し残簿を酢酸エチルに溶解する
。水、重炭酸ナトリウムで洗浄後乾燥する。残澄を減圧
下蒸留すると５一にｒｔーブトキシカルボニル一４−メ
トキシカルボニルメチルー５−（２−ベンチニル）−２
ーシクロベンテノン〔化合物側，Ｒ，＝ｔ−Ｂｕ Ｒ２
＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．８２〜８６こ○／０．００
６肌Ｈｇ，収率７８％。元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ６７．３６７．７０ 理論値（％） ６７．４８７．５５ ＮＭＲ（ＣＣ１４） １．０２（ｔ３，Ｃ比） １．３７（戊９，ＣＨ３） １．７６〜２．７３（ｍ．６，ＣＨ２Ｃ＝Ｃ，ＣＱＣＯ
）３．３３〜３．５８（ｍ．１，ＣＨ）３．６６（ｓ３
，ＣＨ３０） ６．１０（ｄｄｌ，５ＨＺ，２ＨＺ，Ｃ＝ＣＨＣＯ）７
．５０（ｄｄｌ，５ＨＺ，２ＨＺ，ＨＣ＝ＣＣＯ）参考
例 ４５一世ｒｔーブトキシカルボニル一４−メトキシ
カルボニルメチルー５−（２ーベンチニル）一２−シク
ロベンテノン８００の９を５０の‘のベンゼンに溶解し
、ｐ−トルェンスルホン酸２５の９を添加してて３０分
間還流する。
。水、重炭酸ナトリウムで洗浄後乾燥する。残澄を減圧
下蒸留すると５一にｒｔーブトキシカルボニル一４−メ
トキシカルボニルメチルー５−（２−ベンチニル）−２
ーシクロベンテノン〔化合物側，Ｒ，＝ｔ−Ｂｕ Ｒ２
＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．８２〜８６こ○／０．００
６肌Ｈｇ，収率７８％。元素分析値Ｃ 日 実測値（％） ６７．３６７．７０ 理論値（％） ６７．４８７．５５ ＮＭＲ（ＣＣ１４） １．０２（ｔ３，Ｃ比） １．３７（戊９，ＣＨ３） １．７６〜２．７３（ｍ．６，ＣＨ２Ｃ＝Ｃ，ＣＱＣＯ
）３．３３〜３．５８（ｍ．１，ＣＨ）３．６６（ｓ３
，ＣＨ３０） ６．１０（ｄｄｌ，５ＨＺ，２ＨＺ，Ｃ＝ＣＨＣＯ）７
．５０（ｄｄｌ，５ＨＺ，２ＨＺ，ＨＣ＝ＣＣＯ）参考
例 ４５一世ｒｔーブトキシカルボニル一４−メトキシ
カルボニルメチルー５−（２ーベンチニル）一２−シク
ロベンテノン８００の９を５０の‘のベンゼンに溶解し
、ｐ−トルェンスルホン酸２５の９を添加してて３０分
間還流する。
反応後重炭酸ナトリウムで中和し溶媒を除去する。残糟
をシリカゲルカラムで精製し、減圧下蒸留して４ーメト
キシカルボニルメチル一５一（２ーベンチニル）−２ー
シクロベンテノン〔化合物【１０，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得
る。ｂ．ｐ．１０２〜１０３ｑｏ／３側Ｈｇ，収率９３
％。ＩＲ２２３０伽‐１（Ｃ三Ｃ） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） １．０６（ｔ．７，２ＨＺ，班，Ｃは） １．４４〜３．０２（ｍ．１２Ｈ） ３．７０（ｓ．３日，ＣＨ３０） 参考例 ５ ４ーメトキシカルボニルメチル一５−（２ーベンチニル
）一２ーシクロベンテノン８９０雌とソジウムボロハイ
ドライド３５０柵をメタノール２０の【に溶解し１時間
３０ｑｏで還流する。
をシリカゲルカラムで精製し、減圧下蒸留して４ーメト
キシカルボニルメチル一５一（２ーベンチニル）−２ー
シクロベンテノン〔化合物【１０，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得
る。ｂ．ｐ．１０２〜１０３ｑｏ／３側Ｈｇ，収率９３
％。ＩＲ２２３０伽‐１（Ｃ三Ｃ） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） １．０６（ｔ．７，２ＨＺ，班，Ｃは） １．４４〜３．０２（ｍ．１２Ｈ） ３．７０（ｓ．３日，ＣＨ３０） 参考例 ５ ４ーメトキシカルボニルメチル一５−（２ーベンチニル
）一２ーシクロベンテノン８９０雌とソジウムボロハイ
ドライド３５０柵をメタノール２０の【に溶解し１時間
３０ｑｏで還流する。
反応後室温まで冷却し、酢酸を６０の‘加え３０分間燈
梓後、減圧下濃縮する。残澄をシリカゲルカラムで精製
し、残澄して３−メトキシカルボニルメチル−２一（２
ーベンチニル）シクロベンタノール〔化合物‘１｝，Ｒ
２＝Ｃは〕を得る。ｂ．ｐ．６５〜６９ｑｏ／０．０１
５側Ｈｇ，収率９４％。
梓後、減圧下濃縮する。残澄をシリカゲルカラムで精製
し、残澄して３−メトキシカルボニルメチル−２一（２
ーベンチニル）シクロベンタノール〔化合物‘１｝，Ｒ
２＝Ｃは〕を得る。ｂ．ｐ．６５〜６９ｑｏ／０．０１
５側Ｈｇ，収率９４％。
ＮＭＲ（ＣＣ１４）０．９９（ｔ．３，ＣＨ３），１．
２２〜２．８８（ｍ．１３）３．６１（ｓ．３，ＣＨ３
０），２．５５〜２．８５（斑，ＣＨ２Ｃニ） 実施例 １ ３ーメトキシカルボニルメチル−２−（２−ベンチニル
）シクロベンタノール６７０の夕をｎーヘキサン２０泌
とアセトン２の‘の溶媒に溶解し、リンドラー触媒１．
５夕を加える。
２２〜２．８８（ｍ．１３）３．６１（ｓ．３，ＣＨ３
０），２．５５〜２．８５（斑，ＣＨ２Ｃニ） 実施例 １ ３ーメトキシカルボニルメチル−２−（２−ベンチニル
）シクロベンタノール６７０の夕をｎーヘキサン２０泌
とアセトン２の‘の溶媒に溶解し、リンドラー触媒１．
５夕を加える。
室温で常圧還元して理論量の水素の吸収で反応を停止す
る。触媒を炉別し次いで減圧下濃縮する。残澄をベンゼ
ン−酢酸エチルに溶解しシリカゲルカラムで精製し、減
圧下蒸留により３−メトキシカルボニルメチルー２一（
シスー２ーベンテニル）シクロベンタノール〔化合物■
，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．６３〜６７午０／０
．０１柳Ｈｇ，収率９６％。ＮＭＲ（ＣＣ１４） ０．９９（ｔ．３，ＣＨ３），１．２２〜２．斑（ｍ１
３）３．６１（ｓ３，ＣＨ３０），３．６７〜４．２２
（ｍｌ，ＣＨＯ） ５．２０〜５．５２（ｍ２，ＨＣ＝ＣＨ）実施例 ２ ３−メトキシカルボニルメチルー２一（シス−２−ペン
テニル）シクロベンタノール１５０の９を塩化メチレン
１０の‘に溶解し、２Ｍ濃度のクロム酸溶液２の‘を滴
下する。
る。触媒を炉別し次いで減圧下濃縮する。残澄をベンゼ
ン−酢酸エチルに溶解しシリカゲルカラムで精製し、減
圧下蒸留により３−メトキシカルボニルメチルー２一（
シスー２ーベンテニル）シクロベンタノール〔化合物■
，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．６３〜６７午０／０
．０１柳Ｈｇ，収率９６％。ＮＭＲ（ＣＣ１４） ０．９９（ｔ．３，ＣＨ３），１．２２〜２．斑（ｍ１
３）３．６１（ｓ３，ＣＨ３０），３．６７〜４．２２
（ｍｌ，ＣＨＯ） ５．２０〜５．５２（ｍ２，ＨＣ＝ＣＨ）実施例 ２ ３−メトキシカルボニルメチルー２一（シス−２−ペン
テニル）シクロベンタノール１５０の９を塩化メチレン
１０の‘に溶解し、２Ｍ濃度のクロム酸溶液２の‘を滴
下する。
約１８℃で１幼時間頚拝した後、酢酸エチルで抽出する
。食塩水で洗浄後乾燥し濃縮する。残経をシリカゲルカ
ラムで精製し減圧下蒸留して３ーメトキシカルボニルメ
チル−２−（シス−２−ペンテニル）シクロベンタノン
〔化合物‘３｝，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．９２
〜９がＣ／２．７肋Ｈｇ，収率８９％。ＮＭＲ（ＣＤＣ
１３） ０．９５（ｔ３，Ｃは），１．４０〜２．９０（ｍ１２
）３．６８（ｓ３，Ｃは０），５．３５（ｍ２，ＨＣ＝
ＣＨ）ｍ（肥ａｔ） １７４２肌‐１（Ｃニ。
。食塩水で洗浄後乾燥し濃縮する。残経をシリカゲルカ
ラムで精製し減圧下蒸留して３ーメトキシカルボニルメ
チル−２−（シス−２−ペンテニル）シクロベンタノン
〔化合物‘３｝，Ｒ２＝ＣＨ３〕を得る。ｂ．ｐ．９２
〜９がＣ／２．７肋Ｈｇ，収率８９％。ＮＭＲ（ＣＤＣ
１３） ０．９５（ｔ３，Ｃは），１．４０〜２．９０（ｍ１２
）３．６８（ｓ３，Ｃは０），５．３５（ｍ２，ＨＣ＝
ＣＨ）ｍ（肥ａｔ） １７４２肌‐１（Ｃニ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿２は低級の直鎖若しくは分枝状のアルキル
基を示す）で表わされる化合物をシス還元することも特
徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿２は上記に同じ）で表わされる２−ペンテ
ン誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9718277A JPS6036415B2 (ja) | 1977-08-12 | 1977-08-12 | ２−ペンテン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9718277A JPS6036415B2 (ja) | 1977-08-12 | 1977-08-12 | ２−ペンテン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5432453A JPS5432453A (en) | 1979-03-09 |
| JPS6036415B2 true JPS6036415B2 (ja) | 1985-08-20 |
Family
ID=14185431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9718277A Expired JPS6036415B2 (ja) | 1977-08-12 | 1977-08-12 | ２−ペンテン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036415B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2534541B2 (ja) * | 1988-06-09 | 1996-09-18 | 三菱電線工業株式会社 | 樹脂組成物の製法 |
-
1977
- 1977-08-12 JP JP9718277A patent/JPS6036415B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5432453A (en) | 1979-03-09 |
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