JPS58164542A - 光学活性な2,2―ジメチルシクロプロパンカルボン酸類の製造法 - Google Patents
光学活性な2,2―ジメチルシクロプロパンカルボン酸類の製造法Info
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- JPS58164542A JPS58164542A JP4765282A JP4765282A JPS58164542A JP S58164542 A JPS58164542 A JP S58164542A JP 4765282 A JP4765282 A JP 4765282A JP 4765282 A JP4765282 A JP 4765282A JP S58164542 A JPS58164542 A JP S58164542A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本a明社光学活性もしくはラセミの−9−−ジメチんレ
クaプロパンカルボン酸およびその鍵尋体の製造11K
IIするものでやる・さらに評しくけ一般式(4)で示
されるI (家中、Rは水*原子オたは低級アルキル基を表わす) 光学活性もしくはラセミの化合物を脱カルボニルする仁
とを輯像とする一般式(2) (式中、Rは前記と同じ意味を表わす)で示される光学
活性)シ〈はう*ミのコ、−一ジメチルレクロブロバν
カルボンW1およびそのWp尋体の製造法に調すゐもの
である・本尭明の対象である一、−−ジメチルレクロプ
ロパシカルボン酸シよびその誘導体は眼薬中間体として
重豐傘化合物であるも −例を挙けれにβ−ラクタム系抗ヰ物質の豐定剤の構威
威分として用いられるものであ為(化学と生物、71J
、−〇+(/91/) ) 6かかる用途には光学活性
体の使用が望重しい場合が多い・従来、J、、、2−ジ
メチルレクロプロパンヵルポン酸の光学活性体について
はラセミカルボン酸の光学分割による方法(+%開昭S
S−ダθ≦4?、特開昭5s−siθ−J、英aSS許
1a4ot*’y”)が知られているが、これらの方法
は光学分割の効率がよくないeこのため効率のよい光学
活性体の一造法がilすれていたものである・ 本尭−の方法によれば光学活性体の製造が客具な一般式
(4)の化合物を用い、その光a##ll!廖を損ねる
ことなく光学活性コ・、−−ジメチルレクロプロパンカ
ルボン酸およびその誘導体に蜜換すゐことかできる・従
って本l!明方法は従来法に比べ効率のよい光学活性−
、コージメチルレクロプロパンカルボン駿およびその誘
導体の製造法を提供するものである・ 本Wi&明で用いる一般式に)の化合物は例えば参tシ
ン分解等によって製造することかで自ゐ・一般式(4)
の化合物はトランス製でもシス駅でもあるいは両者の混
合物で4よい。一般式(4)の化合物のR−bi水素原
子でホルIL九基とカルボ率しル道がシスの関係にある
場合は閉環した異性体をとるが、この亀のは一般式(4
)の化合物と等価であ〕脱カルボニル反応の原料として
供し祷るものである・ 光学活性な一般式(4)の化合物は例えd光学活性壜菊
駿あゐいは菊酸エステルの側鎖イソブテニル基をオゾン
分解することによって得られる。
クaプロパンカルボン酸およびその鍵尋体の製造11K
IIするものでやる・さらに評しくけ一般式(4)で示
されるI (家中、Rは水*原子オたは低級アルキル基を表わす) 光学活性もしくはラセミの化合物を脱カルボニルする仁
とを輯像とする一般式(2) (式中、Rは前記と同じ意味を表わす)で示される光学
活性)シ〈はう*ミのコ、−一ジメチルレクロブロバν
カルボンW1およびそのWp尋体の製造法に調すゐもの
である・本尭明の対象である一、−−ジメチルレクロプ
ロパシカルボン酸シよびその誘導体は眼薬中間体として
重豐傘化合物であるも −例を挙けれにβ−ラクタム系抗ヰ物質の豐定剤の構威
威分として用いられるものであ為(化学と生物、71J
、−〇+(/91/) ) 6かかる用途には光学活性
体の使用が望重しい場合が多い・従来、J、、、2−ジ
メチルレクロプロパンヵルポン酸の光学活性体について
はラセミカルボン酸の光学分割による方法(+%開昭S
S−ダθ≦4?、特開昭5s−siθ−J、英aSS許
1a4ot*’y”)が知られているが、これらの方法
は光学分割の効率がよくないeこのため効率のよい光学
活性体の一造法がilすれていたものである・ 本尭−の方法によれば光学活性体の製造が客具な一般式
(4)の化合物を用い、その光a##ll!廖を損ねる
ことなく光学活性コ・、−−ジメチルレクロプロパンカ
ルボン酸およびその誘導体に蜜換すゐことかできる・従
って本l!明方法は従来法に比べ効率のよい光学活性−
、コージメチルレクロプロパンカルボン駿およびその誘
導体の製造法を提供するものである・ 本Wi&明で用いる一般式に)の化合物は例えば参tシ
ン分解等によって製造することかで自ゐ・一般式(4)
の化合物はトランス製でもシス駅でもあるいは両者の混
合物で4よい。一般式(4)の化合物のR−bi水素原
子でホルIL九基とカルボ率しル道がシスの関係にある
場合は閉環した異性体をとるが、この亀のは一般式(4
)の化合物と等価であ〕脱カルボニル反応の原料として
供し祷るものである・ 光学活性な一般式(4)の化合物は例えd光学活性壜菊
駿あゐいは菊酸エステルの側鎖イソブテニル基をオゾン
分解することによって得られる。
この場合例えば(へ)菊酸を用いる場合←)トランス原
単独あるい祉0シス型単独で用いてもよいが0トランス
創と0シス型の混合物を用いてもよい。
単独あるい祉0シス型単独で用いてもよいが0トランス
創と0シス型の混合物を用いてもよい。
辷れは本発明の対象化合物である−1−一ジメチルレク
ロプロパンカルボン酸及びその誘導体の絶対立体配置は
式(4)で示されるシクロプロパン環の1位の炭素の立
体配置によって一義的に決壕ゐからであるe ラセ厳の菊酸を用いれば9セミの一般式(4)の化合物
が得られるり 次に本尭−で用いゐ脱カルボニル剤としてはクロロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(!)等の/価
ロジウム錯体、#1化パラジウム。
ロプロパンカルボン酸及びその誘導体の絶対立体配置は
式(4)で示されるシクロプロパン環の1位の炭素の立
体配置によって一義的に決壕ゐからであるe ラセ厳の菊酸を用いれば9セミの一般式(4)の化合物
が得られるり 次に本尭−で用いゐ脱カルボニル剤としてはクロロトリ
ス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(!)等の/価
ロジウム錯体、#1化パラジウム。
クロロビス(トリフェニル本スフィン)パラジウム(鳳
)、パラジウム・カーボン、パラジウム・硫酸バリウム
等のl族遷移金属類およびそれらの塩壜らびに―体を挙
けゐととかで!ゐ・溶媒はベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族膨化水素を用いるか、あゐいは無溶媒で反
−応を行ってもよい。
)、パラジウム・カーボン、パラジウム・硫酸バリウム
等のl族遷移金属類およびそれらの塩壜らびに―体を挙
けゐととかで!ゐ・溶媒はベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族膨化水素を用いるか、あゐいは無溶媒で反
−応を行ってもよい。
反応−1は用いる脱カルボニル剤によ墨が通常!σ℃か
ら一!θ℃好唾しくは10℃から100℃が採用される
@ 反応時間も用いる脱カルボニル剤によシ変わるが通常J
5分から7一時間の間であ)1反応の終了はガスクロマ
トグラフ等によシ確認でき為。
ら一!θ℃好唾しくは10℃から100℃が採用される
@ 反応時間も用いる脱カルボニル剤によシ変わるが通常J
5分から7一時間の間であ)1反応の終了はガスクロマ
トグラフ等によシ確認でき為。
反応が終了した螢は脱カルボニル剤を一過。
−着、lll1出等によシ除去し、蒸留すゐことKよ−
て精−できる。脱カルボニル剤によっては特KJI資し
なくとも純1の高い一、−−ジメチルレクロプロパンカ
ルボン酸あるいはその誘導体を得ゐことがで暑る・ 本発明方法の#―である一般式(4)で示される化合物
においてRが水素原子の化合物あるいは一般式(0)の
化合物を用い大場合は前述の説カルボニル反応によって
コ、−−ジメチルレクロプロパンカルボン酸を取得する
ことができる。一般式(11のRがアルキ九の化合物を
用いる場合轄東はメチル、エチル、プロピル、ブチA岬
の低級アル牟ル道を示し、これより本発−の方法に従り
て一赦式−)のRがフルキルの化合物であゐ一、−−ジ
メチルレクロプロパンカルボン1lIIフル牟ルエステ
ルが得られる・これは所望にょうっては加水分解するこ
とによって−9,2−ジメチルシクロプロパンカルポン
酸とすることができる。この場合の加水分解は常法に従
えばよい〇光学活性コ、コージメチルシクロプロパンカ
ルボン酸エステルを用いても通常の加水分解◆件ではそ
の光学純度を損ねることなく、−、コージメチルシクロ
ブロバンカルボン酸へ導くことができる。
て精−できる。脱カルボニル剤によっては特KJI資し
なくとも純1の高い一、−−ジメチルレクロプロパンカ
ルボン酸あるいはその誘導体を得ゐことがで暑る・ 本発明方法の#―である一般式(4)で示される化合物
においてRが水素原子の化合物あるいは一般式(0)の
化合物を用い大場合は前述の説カルボニル反応によって
コ、−−ジメチルレクロプロパンカルボン酸を取得する
ことができる。一般式(11のRがアルキ九の化合物を
用いる場合轄東はメチル、エチル、プロピル、ブチA岬
の低級アル牟ル道を示し、これより本発−の方法に従り
て一赦式−)のRがフルキルの化合物であゐ一、−−ジ
メチルレクロプロパンカルボン1lIIフル牟ルエステ
ルが得られる・これは所望にょうっては加水分解するこ
とによって−9,2−ジメチルシクロプロパンカルポン
酸とすることができる。この場合の加水分解は常法に従
えばよい〇光学活性コ、コージメチルシクロプロパンカ
ルボン酸エステルを用いても通常の加水分解◆件ではそ
の光学純度を損ねることなく、−、コージメチルシクロ
ブロバンカルボン酸へ導くことができる。
以下の参考例、実施例で本発明の詳細な説明をする。
参考例1
(ハ)菊酸エチb(・光学純jli−?7.O嗟シス/
トラフXs=/ ? To/l / Is) 0.64
9 (J、41m1)を酢酸エチル/jWdに溶解し、
−75℃に冷却した。オゾンを吹き込み、オゾンが飽和
になったら、−7t’Cでジメチルスルフィド!−を加
え徐々に室温まで昇温し、室温で3θ分攪拌した。減圧
下溶媒を留去した後、シリカゲルカラムで精製しθJJ
jF (J、/ woo)、9/−)の(/8)−J
、J−ジメチルーコーホル斑ルシクロプロパンー/−カ
ルボン酸エチルを得九〇 NMEt (C!Do稲)δ(号=)=八ぷ(JH,t
)、ム!(JR,、)、八33(JR,@)、a2.1
Lt3(,211,m)。
トラフXs=/ ? To/l / Is) 0.64
9 (J、41m1)を酢酸エチル/jWdに溶解し、
−75℃に冷却した。オゾンを吹き込み、オゾンが飽和
になったら、−7t’Cでジメチルスルフィド!−を加
え徐々に室温まで昇温し、室温で3θ分攪拌した。減圧
下溶媒を留去した後、シリカゲルカラムで精製しθJJ
jF (J、/ woo)、9/−)の(/8)−J
、J−ジメチルーコーホル斑ルシクロプロパンー/−カ
ルボン酸エチルを得九〇 NMEt (C!Do稲)δ(号=)=八ぷ(JH,t
)、ム!(JR,、)、八33(JR,@)、a2.1
Lt3(,211,m)。
ゲ、/j(2Lq)、
9.53と9JI(in、一つのd)
参考例コ
(ハ)菊酸(光学純度−?7.θ悌シス/トランス=
/ ? ’fs / I / % ) J、/7 F(
/1.9 mol )を酢酸エチルJOdに溶解し、−
77r’Cに冷却しオゾンを吹き込んだ0オゾンが飽和
になったら一71T:でジメチルスルフィドj−を加え
徐々に室温まで昇温し、室温で3時間攪拌した。水で洗
浄後、溶媒を留去しコ、61 fの(7g)−3,J−
ジメチルーコーホル!ルシクロプロパンカルボン酸を得
た。
/ ? ’fs / I / % ) J、/7 F(
/1.9 mol )を酢酸エチルJOdに溶解し、−
77r’Cに冷却しオゾンを吹き込んだ0オゾンが飽和
になったら一71T:でジメチルスルフィドj−を加え
徐々に室温まで昇温し、室温で3時間攪拌した。水で洗
浄後、溶媒を留去しコ、61 fの(7g)−3,J−
ジメチルーコーホル!ルシクロプロパンカルボン酸を得
た。
NMR(aDOjl、) a (ppm戸q、JJ(J
H,s)、/、jF (JH、@ )、−、w(/as
s)、JJ?7(/il、り、 iりJf(/H
,a) 実施例/ 参考例/で得られ九(/8)−J、J−ジメチルーー一
本ルミルシクロプロパンーl−カルボン酸エチル4Is
o岬(J、u amn )とクロロトリス(トリフェニ
ルホスフィン)ロジウム(1) 、2.59をトルエン
−θdに溶解し、5時間加熱還流し九。冷却後ロジウム
錯体をシリカゲルで吸着除去し、トルエンを留去して3
θ/岬(−1/コ直1tθ−)の(8)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸エチルを得た。
H,s)、/、jF (JH、@ )、−、w(/as
s)、JJ?7(/il、り、 iりJf(/H
,a) 実施例/ 参考例/で得られ九(/8)−J、J−ジメチルーー一
本ルミルシクロプロパンーl−カルボン酸エチル4Is
o岬(J、u amn )とクロロトリス(トリフェニ
ルホスフィン)ロジウム(1) 、2.59をトルエン
−θdに溶解し、5時間加熱還流し九。冷却後ロジウム
錯体をシリカゲルで吸着除去し、トルエンを留去して3
θ/岬(−1/コ直1tθ−)の(8)−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸エチルを得た。
このものの光学純度を欄定するため/規定水酸化ナトリ
ウム水溶液で加水分解し、(8)−一、−−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸とし、さらに常法により1−メ
ンチルエステルに誘導した0このメンチルエステルはガ
スクロマトグラフィーによる分析より光学純度91、、
A 116であった。
ウム水溶液で加水分解し、(8)−一、−−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸とし、さらに常法により1−メ
ンチルエステルに誘導した0このメンチルエステルはガ
スクロマトグラフィーによる分析より光学純度91、、
A 116であった。
実施例−
参考側御で得られた(/8)−J、J−ジメチルーーー
ホルミルシクロブロバンー/−カルボン酸/416q(
/、03m1)とクロロトリス(トリフェニルホスフィ
ン)ロジウム(1)i、ootをトルエン−〇−に溶解
し、5時間加熱還流した0冷却後j−水酸化ナトリウム
水溶液で抽出した。水層をトルエンで洗浄後、塩酸で酸
析し塩化メチレンで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、芒
硝で乾燥後溶媒を留去しisキ(θ、7j閣17コ嗟)
の(8)−コ、−−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
を得た0このものは常法によりL−メンチルエステルに
誘導し、ガスクロマトグラフィーで分析した結果、光学
純度は?6.4tチであり九。
ホルミルシクロブロバンー/−カルボン酸/416q(
/、03m1)とクロロトリス(トリフェニルホスフィ
ン)ロジウム(1)i、ootをトルエン−〇−に溶解
し、5時間加熱還流した0冷却後j−水酸化ナトリウム
水溶液で抽出した。水層をトルエンで洗浄後、塩酸で酸
析し塩化メチレンで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、芒
硝で乾燥後溶媒を留去しisキ(θ、7j閣17コ嗟)
の(8)−コ、−−ジメチルシクロプロパンカルボン酸
を得た0このものは常法によりL−メンチルエステルに
誘導し、ガスクロマトグラフィーで分析した結果、光学
純度は?6.4tチであり九。
実施例J
(/R)−4,6−シメチルーダーヒドロキシー3−オ
キャビシクロ(J、/、01ヘキサンーコーオン(一般
式(0)の化合物、光学純197.0チ)/−θ岬(θ
、ざj−1)とクロロトリス(トリフェニルホスフィン
)cIロジウム1)り3ダ岬(/、θ/ 無1 )をト
ルエン−〇d中に加え−3時間加熱還流した。冷却波j
−水酸化ナトリウム水溶液で抽出し九・0水層をトルエ
ンで洗浄後、塩酸で酸析し、塩化メチレンで抽出した。
キャビシクロ(J、/、01ヘキサンーコーオン(一般
式(0)の化合物、光学純197.0チ)/−θ岬(θ
、ざj−1)とクロロトリス(トリフェニルホスフィン
)cIロジウム1)り3ダ岬(/、θ/ 無1 )をト
ルエン−〇d中に加え−3時間加熱還流した。冷却波j
−水酸化ナトリウム水溶液で抽出し九・0水層をトルエ
ンで洗浄後、塩酸で酸析し、塩化メチレンで抽出した。
飽和食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後溶媒を留去し、72
W (OJ、3 rrm174’ fb )の幹)−
一、−−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を得た。
W (OJ、3 rrm174’ fb )の幹)−
一、−−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を得た。
Claims (1)
- (1)一般式(A) (式中、只は水素原子または低級アルキル基を表わす。 ) で示される光学活性もしくはうセミの化合物を脱カルボ
ニル反応することを特徴とする一般式(B)で示される (式中、Rは前記と同じ意味を表わす。)光学活性もし
くはラセミの−9−−ジメチルシクロプロパンカルポン
酸およびその誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4765282A JPS58164542A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 光学活性な2,2―ジメチルシクロプロパンカルボン酸類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4765282A JPS58164542A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 光学活性な2,2―ジメチルシクロプロパンカルボン酸類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58164542A true JPS58164542A (ja) | 1983-09-29 |
JPH0371420B2 JPH0371420B2 (ja) | 1991-11-13 |
Family
ID=12781178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4765282A Granted JPS58164542A (ja) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | 光学活性な2,2―ジメチルシクロプロパンカルボン酸類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58164542A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005306859A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | (2−ホルミル−1−アルケニル)シクロプロパン化合物の製造方法 |
-
1982
- 1982-03-24 JP JP4765282A patent/JPS58164542A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005306859A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | (2−ホルミル−1−アルケニル)シクロプロパン化合物の製造方法 |
EP1728781A4 (en) * | 2004-03-22 | 2008-03-26 | Sumitomo Chemical Co | PROCESS FOR PREPARING (1-ALKENYL) CYCLOPROPANES |
US7498459B2 (en) | 2004-03-22 | 2009-03-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing (1-alkenyl)cyclopropane compound |
US7700799B2 (en) | 2004-03-22 | 2010-04-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing (2-formyl-1-alkenyl) cyclopropane compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0371420B2 (ja) | 1991-11-13 |
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