WO1992017220A1 - Procede et dispositif de filtration du plasma - Google Patents

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WO1992017220A1
WO1992017220A1 PCT/JP1992/000353 JP9200353W WO9217220A1 WO 1992017220 A1 WO1992017220 A1 WO 1992017220A1 JP 9200353 W JP9200353 W JP 9200353W WO 9217220 A1 WO9217220 A1 WO 9217220A1
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WO
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plasma
secondary filter
filter
washing
inner chamber
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Application number
PCT/JP1992/000353
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French (fr)
Inventor
Akio Kawamura
Motoki Yonekawa
Eiji Sakashita
Hiroshi Kamogawa
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc.
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    • A61M1/3621—Extra-corporeal blood circuits
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    • A61M2205/75—General characteristics of the apparatus with filters
    • A61M2205/7554—General characteristics of the apparatus with filters with means for unclogging or regenerating filters

Definitions

  • the present invention relates to a plasma filtration method and an apparatus therefor, and more particularly, to a method for washing and regenerating a secondary filter portion in a plasma filtration method and an improvement of the apparatus.
  • the plasma filtration method includes a primary filter process that first separates blood collected from a patient into blood cells and plasma, and a secondary filter process that removes and purifies harmful high molecular weight substances from plasma.
  • This is a system in which purified plasma is remixed with blood cells from the primary filter and returned to the blood supply source (patient).
  • the above-mentioned plasma filtration methods are roughly classified into two types according to the mechanism of lactic acid regulation of high molecular weight substances in the secondary filter.
  • the method of selecting the substance to be removed based on the pore size of the secondary filter double (Filtration blood separation / exchange method), and plasma is cooled to about 4 at one end to produce a gel (so-called cryogel) containing high-molecular-weight substances, which are harmful components in plasma, and this is a relatively coarse secondary filter.
  • cryogel a gel containing high-molecular-weight substances, which are harmful components in plasma, and this is a relatively coarse secondary filter.
  • the plasma cold filtration method is almost the same as the double-filtration plasma separation and exchange method except that there is a plasma cooling means and the pore size of the secondary filter is different, and the method is explained based on Fig. 4. Then, the blood is supplied from the supply source to the primary filter 3 through the blood supply line 2 by operating the blood pump 1, where the blood is separated into blood cells and plasma. The blood is returned to the blood cell return line 4 for remixing with the purified plasma.
  • the negative plasma is sent to the secondary filter 8 from the plasma supply line 6 through the cooling coil unit 7 on the line 6 by operating the plasma pump 5 and is filtered there.
  • the plasma is cooled in the coil section 7 usually to 4 to 25, preferably to about 4 and the cryogel of a high molecular weight substance generated by this cooling is removed from the plasma by a filtration treatment with a secondary filter. .
  • the flow through the secondary filter, that is, the purified plasma is the purified plasma While being returned through the return line 9, it is remixed with the returned blood cells from the primary filter 3 and then returned to the supply source while being heated to the initial liquid temperature in the heating bag 10.
  • 11 is a drip chamber
  • 12 is a pressure detector
  • A is a cooling zone.
  • the secondary filter 8 gradually becomes clogged, and it is necessary to remove the clogging and to recover the function.
  • Japanese Patent Publication No. Sho 63-286266 discloses a method in which a plurality of secondary filters are connected in parallel, and when one is clogged, the other is switched to the other.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-12967 discloses that when clogging occurs, the inner chamber of the secondary filter is lowered to atmospheric pressure, and the cleaning liquid is supplied from the outer chamber side of the secondary filter to perform reverse cleaning. How to do is shown.
  • the entire amount of plasma remaining in the secondary filter for example, about 200 to 30 Om! is discarded by one washing operation.
  • Secondary filter Washing or replacing is performed in at least one plasma filtration operation.
  • the filtration efficiency is the lowest at the start of filtration, and the efficiency gradually increases as the cryogel accumulates. . Therefore, in the above method, there is also a problem that the filtering efficiency of the secondary filter is reduced at every switching or cleaning operation.
  • An object of the present invention is to provide a plasma filtration method and an apparatus therefor which can minimize the amount of plasma discarded outside the system when the secondary filtration for plasma filtration is purified and regenerated.
  • Another object of the present invention is to provide a plasma filter capable of reducing the time required for washing and regeneration of the secondary filter and the amount of washing solution used.
  • An object of the present invention is to provide a filtration method and an apparatus therefor.
  • Still another object of the present invention is to provide a plasma filtration method and a plasma filtration method capable of restarting plasma filtration after the washing and regeneration of the secondary filter with substantially the same filtration efficiency as before the washing and regeneration. To be.
  • blood is separated into blood cells and plasma by a primary filter
  • the separated plasma is led to a secondary filter via a supply line, and is passed through the filter from an inner chamber to an outer chamber.
  • a high molecular weight substance as a harmful component is separated from the plasma by filtration, and the purified plasma is returned as blood while being mixed with blood separated from the primary filter via a return line from the secondary filter.
  • the plasma filtration method every time a pressure rise limit value on the filter inlet side is detected based on the increase in the tendency of clogging of the secondary filter, the operation of opening the inner chamber of the secondary filter to the atmosphere and lowering the pressure is performed.
  • the secondary filter is washed from both the inside and outside chambers using the washing liquid, and the waste washing liquid is discharged from the inside chamber to the outside of the system.
  • the plasma filtration method of the present invention when the pressure on the inlet side of the secondary filter reaches the rising limit value, the inner chamber of the filter is opened to the atmosphere, and the pressure in the inner chamber is reduced to the atmospheric pressure by this opening. Descend to.
  • the purified plasma return line may be temporarily closed, preferably at the secondary filter side, before opening the inner chamber to the atmosphere. Good.
  • the filter part that separates the inner and outer chambers (2) is preliminarily backwashed by purified plasma that flows back from the outer chamber toward the inner chamber.
  • the cleaning liquid is supplied to the outer chamber side, the back-washing of the filter part is started, and the cleaning liquid is supplied also from the inner chamber side, and the filter inner chamber is supplied. Cleaning from the side is started.
  • the purification based on the pressure difference between the inner and outer chambers Preliminary backwashing with activated plasma and washing with the washing solution from both the inside and outside chambers can be used for a short period of time, for example, about 10 seconds, and use a small amount of washing solution.
  • cooling the cooling zone When the temperature is about 11 to 18, the secondary filter can be washed and regenerated with a usage of about 20 to 3 Oral, including the inside and outside rooms.
  • plasma equivalent to the amount of washing solution used for example, about 20 to 3 Oral, is discarded from the inside of the filter to the outside of the system.
  • the inside of the secondary filter is usually 200 to 3
  • the amount of plasma discarded outside the system for example, 20 to 3 Oral is only a small part of the total capacity, for example, 200 to 30 Oml, and the amount of plasma discarded is smaller than that of the conventional method in which the entire amount is discarded outside the system. Can be reduced.
  • the supply of plasma from the primary filter to the secondary filter is continued during the operation of washing the secondary filter. Good or you can interrupt.
  • the driving of the blood pump and the plasma pump can be continued during the washing operation, so that the trouble of stopping the driving of the pump for each washing operation is eliminated.
  • the entire amount of plasma supplied to the secondary filter during the washing operation is discarded outside the system, so that the amount of plasma discarded outside the system increases.
  • the amount of increase depends on the time required for the washing operation, for example, if the cleaning time is about 10 seconds, it will be about 4 to 6 ml as described below. .
  • such an increase in plasma waste can be eliminated by interrupting the supply of plasma to the secondary filter during the washing operation.
  • a blood collection operation can be performed.
  • the supply of the plasma to the secondary filter is interrupted, the washing liquid is supplied into the filter while the inner chamber is closed from the atmosphere, and the supply of the cleaning liquid to the secondary filter is performed.
  • the internal plasma is extruded and collected from the internal chamber via the external chamber, and into the purified plasma return line connected to the external chamber.
  • This plasma collection operation is performed by removing the plasma inside and outside the secondary filter.
  • the cleaning operation is completed when the entire amount is replaced with the cleaning liquid, that is, when the cleaning liquid corresponding to the inner volume of the secondary filter is supplied.After the completion, the above-described cleaning operation of the secondary filter is started. In this case, the amount of the purified liquid in the secondary filter may be increased to such an extent that the filtration efficiency of the secondary filter does not extremely decrease, for example, to about the internal capacity of the secondary filter.
  • the plasma collection operation is performed with the secondary filter clogged, but the washing solution, for example, physiological saline has a lower viscosity than plasma, so that it can easily pass through the filter.
  • the washing solution for example, physiological saline has a lower viscosity than plasma, so that it can easily pass through the filter.
  • the plasma may be circulated from the supply line to the return line side via the bypass line parallel to the secondary filter without stopping the operation of the blood pump and the plasma pump.
  • the inside of the secondary filter and the inside of the outer chamber are filled with the washing solution that has been replaced with plasma. Therefore, if the operation is immediately returned to the normal operation after the washing operation, the entire amount of the washing solution in the inner and outer rooms is obtained. Enters the return line as it is.
  • the inner chamber of the secondary filter To discharge the cleaning liquid, set the inner chamber of the secondary filter to the atmosphere. Plasma is drawn into the inner chamber of the film with the return line closed and the return line is closed, and the cleaning liquid in the inner chamber is discharged out of the system as the plasma is supplied. This draining operation is completed when the entire amount of the washing liquid in the inner chamber has been replaced with plasma, and after that, the operation is returned to the normal operation.
  • the amount of the cleaning liquid entering the return line side during normal operation is equivalent to the volume of the outer chamber of the filter, and is reduced by the volume of the inner chamber.
  • FIG. 1 is a flowchart showing an example of an apparatus used for performing the plasma filtration method of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the structure of the secondary filter in FIG.
  • FIG. 3 is a flowchart showing another example of the apparatus used for performing the plasma filtration method of the present invention.
  • Figure 4 is a flow chart for explaining the conventional method.
  • FIG. 1 is a flow chart showing an example of an apparatus applied to the implementation of the plasma filtration method of the present invention. Portions common to those of the conventional apparatus in FIG.
  • the device for carrying out the present invention shown in FIG. 1 has the same structure as that of the conventional device shown in FIG. 4, but also has a pressure detector 13 installed from the side of the secondary filter 8 on the plasma supply line 6.
  • One end is connected to the inner chamber at the lower end of the secondary filter 8, and the other end is open to the atmosphere.
  • Valve connected to line 6 and the other end connected to cleaning liquid supply source 18 via collecting line 17 5
  • Cleaning liquid supply line 15 with a and one end at the upper side wall of secondary filter 8 A valve connected to the outside chamber, the other end of which is connected to the cleaning liquid supply source 18 via the collecting line 17, a valve 16 a with cleaning liquid supply line 16, and a secondary filter on the purified plasma return line 9
  • the pressure detector 13 functions as a means for detecting the pressure rise limit value at the inlet of the secondary filter 8 based on the increase in clogging tendency, and detects the pressure drop limit value in the inner chamber of the secondary filter 8 Take as a means of doing. Such pressure detection may be performed by a pressure detector 12 provided in a drip chamber 11 on the supply line 6 instead of the detector 13.
  • the waste liquid line 14 with the valve 14a functions as a means for opening the inner chamber to the atmosphere and reducing the pressure, and as a means for discharging the washing waste liquid from the inner chamber to the outside of the system.
  • the cleaning liquid supply lines 15 and 16 with the valves 15a and 16a provide a means for simultaneously cleaning the inside of the secondary filter 8 from both the inside and outside chambers after the pressure drop in the inner chamber.
  • the valve 23 on the return line 9 of the purified plasma is used to perform the pressure drop operation in the secondary filter 8 with the line 9 closed, and is opened during normal operation. Maintain state.
  • FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the structure of the secondary filter 8.
  • the secondary filter 8 is usually a hollow fiber made of cellulose diacetate, polyvinyl alcohol, polyethylene, polypropylene, polysulfone, EVAL, PMMA (polymethyl methacrylate), PAN (polyacrylonitrile), etc. Thousands are built in, and in the figure, one hollow fiber 19 is enlarged and schematically shown for convenience.
  • the hole diameter of the hollow fiber 19 is not particularly limited and is usually selected from the range of 0.01 to 0.5 in consideration of the degree of blood cooling.
  • a hollow fiber is applied to the primary filter 3 in the same manner as the secondary filter, and the pore diameter of the fiber may be such that the blood cells can be distinguished.
  • a suitable value is about 0.2 to 0.6.
  • the plasma is removed from the primary filter (see FIG. 1).
  • the secondary filter 8 has a built-in hollow fiber 19 inside the inner space 19a, that is, in the inner chamber 8a of the filter 8, usually in total every second.
  • the flow rate is about 0.4 to 0.6 ml per flow.
  • a gel of a high molecular weight substance a so-called cryogel
  • this cryogel has a thickness of the fiber 19.
  • the plasma purified by passing through the thick portion 19b flows to the outside of the thick portion 19b, that is, from the outer chamber 8b of the secondary filter 8 to the return line 9 connected thereto, as usual. Outflow.
  • the cryogel trapped in the thick portion 19b of the fiber 19 accumulates over time on its side and the surface on the side of the lumen 19a, and this accumulation causes the lumen 19a of the fiber 19 and thus the filter.
  • the pressure in the chamber 8a gradually increases from 0 to 2 OmmHg during normal operation, and this pressure increase is detected by the detector 13.
  • the valve 14a on the waste liquid line 14 is opened and closed, so that the lumen 19a of the fiber 19 is closed.
  • the pressure in the filter inner chamber 8a drops to the atmospheric pressure. Due to this pressure drop, the pressure is applied between the inner cavity 19 a and the filter inner chamber 8 a and the filter outer chamber 8 b outside the thick wall 19 b that is clogging. Due to this pressure difference, the treated purified plasma filled in the outer chamber 8b tends to flow back toward the inner chamber 8a, and the thick portion 19b tends to flow back due to this tendency. Preliminarily backwashed.
  • the backflow of blood occurs at the purified blood return portion at the terminal side of the return line 9, which is not preferable.
  • Such a backflow tendency of blood can be prevented by opening and closing the valve 23 on the return line 9 before the valve 14a on the line 14 is closed to open.
  • the pressure drop in the inner cavity 19a, and thus in the filter inner chamber 8a, is detected by the detector 13 and, simultaneously with the pressure drop or with a slight time lag, the gun contacts the filter outer chamber 8b.
  • the valve 16a on the cleaning solution supply line 16 is closed ⁇ opened. Therefore, the cleaning liquid is supplied from the supply source 18 to the outer chamber 8b via the collecting line 17 and the supply line 16 in sequence, for example, by using a pump drive (not shown) or a head.
  • a pump drive not shown
  • a head By supplying the cleaning liquid into the filter outer chamber 8b, the thick portion 19b is back-cleaned as indicated by an arrow 21.
  • Backwashing of the filter by the filter is usually performed while the supply of the separated plasma to the secondary filter 8 is continued, and during this backwash, the plasma sent from the line 6 into the secondary filter 8 is removed. Since the liquid is discharged out of the system through the waste liquid line 14, backwashing must be performed as quickly and as quickly as possible. Also, during the backwashing, the amount of plasma substantially equivalent to the amount of the washing solution is discharged from the lumen 9a (or the inner chamber 8a) to the outside through the waste line 14 so that the amount of the washing solution is used. It is necessary to reduce as much as possible.
  • Te is at, inter alia plasma cooling filtration method, Ru because who state somewhat Kuraiogeru the thick portion 1 9 b exist good filtration efficiency Phil evening, increasing the amount of the cleaning liquid Shisugi
  • the cryogel in the thick portion 19b is lost, and the filtration efficiency of the filter is reduced at once.
  • the amount of the washing solution used for back washing is reduced, the cryogel released from the thick portion 19b due to the back washing cannot be sufficiently washed away.
  • the plasma before treatment always flows in a total of 0.4 to 0.6 ml per second, but it is too small to wash out the cryogel.
  • the valve 16a on the washing liquid supply line 16 for back washing is closed and opened at the same time or for about 2 to 3 seconds.
  • the valve 15a of the cleaning liquid supply line 15 connected to the filter inner chamber 8a side is changed from closed to open, and during the reverse cleaning, approximately the same amount of cleaning liquid as for the reverse cleaning is used. Is supplied from the line 15 through the plasma supply line 6 into the inner chamber 8a, that is, into the inner cavity 19a.
  • the washing solution flowing into the inner cavity 19a cooperates with the unprocessed plasma constantly flowing through the inner cavity 19a as shown by the thick arrow 22 in FIG. It is discharged from the waste liquid line 14 outside the system while flowing from the inner wall of the 19a.
  • the preliminary backwashing of the treated plasma based on the pressure difference between the inner and outer chambers 8a and 8b, and the simultaneous washing with the washing solution from both the inner and outer chambers can be performed in a short time, for example, for 1 hour.
  • a washing operation of about 0 seconds the amount of washing liquid used is extremely small, and the clogging of the filter can be eliminated by using, for example, about 2 Oml of whiskers.
  • the on-off valves 14a, 15a, and 16a on the lines 14, 15, and 16 open and close, while the valve 23 on the line 9 closes and opens again, and Return to normal filtration operation.
  • Such operation for removing clogging of the filter is repeated using the pressure detector 13 as a main indicator, and in one operation of plasma filtration, Empirically, the clogging operation is performed about four times.
  • the amount of plasma discarded outside the system by one clogging operation is about 2 Oml corresponding to the total amount of the washing solution, and 4 to 6 l ⁇ ! (0.4 to 0.6 ⁇ 10 seconds), and the total amount is 24 to 26 ml, so that four repetitions will result in 96 to 104 ml.
  • This is far less than the conventional method of 400-60 On !, and the amount of plasma that is discarded outside the system can be reduced to about 1 Z5.
  • the same effect can be obtained by shortening the number of washings, even if the amount of the washing solution used for one washing and the time for one washing are shorter than the above, and the amount of the washing solution per washing can be reduced. If the number is slightly increased, the number of washings can be reduced accordingly.
  • the plasma supply to the secondary filter may be continued or interrupted.
  • the pumps 1 and 5 can be driven continuously during the cleaning and regenerating operation. Therefore, there is no difficulty in stopping the driving of the pumps 1 and 5 for each cleaning and regenerating operation.
  • the plasma is not supplied to the secondary filter 8 during the washing operation, so that the amount of loss of the plasma outside the system can be reduced.
  • an electromagnetic valve can be used as the valves 14 a, 15 a, 16 a, and 23 in order to perform the cleaning and regeneration operation of the secondary filter 8 under automatic control.
  • normal operation that is, the pressure detector 13 detects the pressure rise limit value with the valves 14a, 15a, and 16a closed and the valve 23 open Then, in response to this detection signal, the valve 23 is opened ⁇ closed, the valve 14a is closed ⁇ open, and the pressure is released.
  • the detector 13 detects the pressure drop limit value by this pressure release, receiving this detection signal, the valves 15a and 16a are changed from closed to open, and the washing is started.
  • the valves 14a, 15a, and 16a are opened ⁇ closed by the action of a timer, etc., while the valve 23 is closed ⁇ opened, and the operation returns to normal operation. .
  • FIG. 3 shows another example of an apparatus suitable for performing the plasma filtration method of the present invention.
  • the apparatus of the present invention shown in FIG. 3 employs, in addition to the depressurizing means and the washing means shown in FIG. 1, a plasma collecting means, a washing liquid discharging means and a plasma circulating means before treatment.
  • the plasma collecting means is for collecting the plasma in the inner and outer chambers of the secondary filter to the return line 9 side after depressurizing the inner chamber of the secondary filter 8 and before starting the legal purification operation.
  • the cleaning liquid This is for draining the cleaning solution in the inner chamber out of the system out of the cleaning solution remaining in the inner and outer chambers before returning to operation.
  • the pre-treatment plasma circulating means is for circulating the plasma from the supply line to the return line 9 while the supply of the plasma to the secondary filter 8 is interrupted in the above various operations.
  • a valve 24 installed on the plasma supply line 6 and an assembly line 17 are provided in addition to the configuration of the apparatus shown in FIG. 1, a valve 24 installed on the plasma supply line 6 and an assembly line 17 are provided.
  • the cleaning liquid pump 26 installed is provided with a bypass line 25 with a valve 25a connecting the supply line 6 to the return line 9 on the primary filter 3 side from the valve 24 above.
  • one cycle of the washing and regenerating operation of the secondary filter 8 is as follows.
  • valves 24, 23 (At the time of cleaning liquid discharge operation)
  • the plasma collection operation is performed with the valve 24 closed and the supply of the pre-processed plasma to the secondary filter 8 interrupted.
  • the bypass line 25 is opened, and the plasma is circulated to the supply line 6 ⁇ the bypass line 25 ⁇ the transfer line 9.
  • the cleaning liquid is supplied from the line 15 to the inner chamber of the secondary filter 8 by the drive of the pump 26, and as the cleaning liquid is supplied, the plasma in the inner and outer chambers comes into contact with the plasma from the outer chamber. It is pushed into 9 and collected.
  • the supply of the cleaning liquid into the inner chamber is performed while the secondary filter 8 is clogged.
  • the cleaning liquid is usually a physiological saline solution and has a lower viscosity than plasma, so the inside of the clogged filter is not cleaned. It can pass from the room to the outside room.
  • valve 14a is closed ⁇ opened. Depressurizing operation may be performed.
  • the supply of the washing solution to the inner chamber is continued until all plasma in the inner and outer chambers is replaced with the washing solution. Since the internal volume of the secondary filter 8 is known in advance, for example, by measuring the flow rate with a flow meter (not shown) provided on the line 15, the end point of the replacement can be known. When the replacement is completed, the washing operation is started as described above.
  • the amount of the cleaning liquid entering the return line 9 is as small as possible.
  • the cleaning liquid is discharged following the cleaning operation.
  • valves 24 and 14a are open, and all other valves are closed. Therefore, plasma collection operation and purification operation During this time, the plasma flowing into the bypass line 25 enters the inner chamber of the secondary filter 8 by opening the valve 24, and the washing liquid is discharged from the waste liquid line 14 instead. Since the supply amount of plasma per second to the secondary filter 8 is known, after a predetermined time has elapsed and all the washing liquid in the inner chamber has been replaced with plasma, the valve 14a is operated by, for example, a timer. Return to normal operation by opening and closing valve 23 and closing and opening valve 23.
  • an electromagnetic valve can be used as a valve to automatically control the opening and closing of the valve at each operation.

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Description

明 細 書
血漿濾過法及びその装置
技 術 分 野
本発明血漿濾過法及びその装置、 より詳しく は、 血漿 濾過法における 2次フィルタ部分の洗浄再生法及びその 装置の改良に関する。
背 景 技 術
慢性関節リゥマチや全身性エリテマトーデスなどのあ る種の疾患では、 患者の血液中にその病因となっている 高分子量物質が存在することが種々の研究により明らか になってきた。 そこで、 上記高分子量物質を患者の血液 から除去することによって、 疾患を治療し症状を軽減す ることが試みられ、 その手段の一つとして血漿濾過法が 採用されている。
血漿濾過法とは、 患者から採取した血液をまず血球と 血漿に分離する 1次フィルタ処理と、 血漿から有害高分 子量物質を除去し浄化する 2次フィルタ処理を含み、 2 次フィルタよりの浄化血漿を、 1次フィ ルタよりの血球 と再混合して血液供耠源 （患者） に戻すシステムである。 上記血漿濾過法は、 2次フィルタでの高分子量物質の 濂遏のしくみにより 2種に大別される。 即ち、 2次フィ ルタの孔径によって除去する物質を選択する方法 （二重 濾過血槳分離交換法） と、 血漿を一端 4で程度まで冷却 し、 血漿中の有害成分である高分子量物質を含むゲル (いわゆるクライオゲル） を生成させてこれを比較的目 の粗い 2次フィルタで篩い分ける方法 （血漿冷却濾過法） とがあり、 後者は有害高分子量物質が確実に除去できる 点で有利であるので、 近年注目されつつある （例えば特 公平 1— 3 4 6 2 6号公報参照） 。
血漿冷却濾過法は、 血漿の冷却手段があることと 2次 フィルタの孔径が異なることの他は二重濾過血漿分離交 換方法のしくみとほとんど共通しており、 その方法を図 4にもとづき説明すると、 血液はその供耠源から血液ポ ンプ 1の作動をして血液供耠ライン 2を通じ 1次フィル 夕 3に'送られ、 ここで血球と血漿とに分離され、 分離血 球は、 下記の浄化血漿と再混合するために、 血球返送ラ イン 4側に送られる。
—方血漿は血漿ポンプ 5の作動をして血漿供辁ライン 6から該ライン 6上の冷却コイル部 7をへて 2次フィル 夕 8内に送られ、 ここで濾過される。 血漿は上記コイル 部 7で通常 4で〜 2 5で、 好ましくは 4で付近まで冷却 され、 この冷却で生成した高分子量物質のクライオゲル は、 2次フィルタでの濾過処理により血漿中から除去さ れる。 2次フィルタよりの通液即ち浄化血漿は浄化血漿 返送ライン 9をへて返送されつつ先の 1次フィルタ 3よ りの返送血球と再混合され、 その後加温バッグ 1 0で当 初の液温まで加温されつつ、 供耠源に再び戻される。 そ の他図中、 1 1はドリ ップチャンバ、 1 2は圧力検知器、 Aは冷却ゾーンである。
ところが、 血漿濾遏を続けているうちに、 2次フィ ル タ 8は徐々に目詰り傾向となるので、 いずれ目詰りを解 消し、 機能回復を計ることが必要になる。
従来、 このような目詰り解消法として、
( a ) 2次フィルタを交換する、
(b) 2次フィルタ内を生理食塩水で洗浄する、
等の、 二重瀘過血漿交換法において採用されている方法 が応用されている。 例えば、 特公昭 63— 286 2 6号 公報には、 複数の 2次フィルタを並列に接続し、 一方が 目詰り したときに他方に切替えるという方法が開示され ている。 また、 特開昭 5 9 - 1 29067号公報には、 目詰り時に 2次フィルタの内室を大気圧まで降下させ、 更に洗浄液を 2次フィル夕の外室側から供耠して逆洗浄 を行う方法が示されている。
ところが、 これら （a ) 及び （b) の方法は、 1回の 洗浄操作で 2次フィルタ内に残存している血漿の全量、 例えば約 200〜 30 Om!が廃棄される。 2次フィルタ の洗浄または交換は、 一回の血漿濾過操作で少なく とも
2 0は必要であり、 トータルで少なく とも 4 0 0〜 6 0 O nlもの多量の血漿が系外に廃棄される。 その結果、 ァ ルブミ ン製剤等の高価な薬液の捕給が必要になり、 経済 的負担が増大すると共に、 補耠できない物質もあるので これらの欠乏を患者にきたすことになり、 副作用を生ず る危険性がある。 その上、 複数の 2次フィルタを使用す る方法では、 該フィルタは高価なことからその分、 治療 コス トが嵩むことになる。
特に、 血漿冷却瀘過法では、 2次フィルタとして孔径 の比較的大きいものを用いるので、 その濾過効率は濾過 開始時が最も低く、 クライオゲルが蓄積していく ことに より徐々に効率が上がっていく。 従って、 上記の方法で は、 切換え又は洗浄操作を行うたびに 2次フィルタの濾 過効率がいっぺんに下がってしまうという問題もある。
発明の開示
本発明の 1つの目的は、 血漿濾過を行なう 2次フィル 夕を法浄し再生するに際し、 系外に廃棄される血漿の量 を極力少なくできる血漿濾過法及びその装置を提供する にある。
本発明の他の 1つの目的は、 上記 2次フィルタの洗浄 再生に要する時間並びに洗浄液使用量を低減し得る血漿 濾過法及びその装置を提供するにある。
本発明の更に他の 1つの目的は、 上記 2次フィルタの 洗浄再生後は、 洗浄再生前と殆んど変らない濾過効率の もとに血漿瀘過を再開できる血漿濾過法及びその装置を 提供するにある。
本発明のその他の特徴は以下の記載により明らかにす る o
本発明は血液を 1次フィルタにて血球と血漿とに分離 し、 分離血漿は供耠ラインを介し 2次フィルタに導き、 該フィルタ内を内室から外室に向け通過させることによ り、 該血漿中より有害成分としての高分子量物質を濾別 して浄化し、 浄化血漿は、 2次フィル夕より返送ライン を介し、 1次フィルタよりの分離血球と混合しつつ血液 と して返送する血漿滤過法において、 2次フィルタの目 詰り傾向増大にもとづく フィルタ入口側の圧力上昇限界 値を検知するごとに、 2次フィルタの内室内を大気中に 開放し圧力降下させる操作と、 内室内の圧力降下後に、 2次フィルタ内を、 内外両室側から洗浄液を用いて洗浄 しつつ洗浄廃液を内室から系外に排出する操作とを行な い、 これら操作によって 2次フィ ルタの洗浄再生を計つ た後に、 通常運転に戻すことを特徴とする血漿濾過法を 提供する。 本発明血漿濾過法によれば、 2次フ ィ ルタの入口側の 圧力が上昇限界値に達すると、 該フィルタの内室内が大 気中に開放され、 この開放で内室内の圧力が大気圧まで 降下する。
2次フィルタの内圧内の圧力降下により、 該フィルタ の内， 外室間に圧力差を生じ、 圧力の高い外室側の浄化 血漿が、 圧力の低い内室側に向けて逆流する傾向となる。 この場合、 浄化血漿の返送ラインが開いていると、 逆流 傾向は上記ラインの終端側の浄化血液返却部でも生じ、 血液返却部での逆流は好ましくない。 血液返却部での逆 流発生を防止するために、 内室内を大気中に開放する前 に、 浄化血漿返送ラインを、 好ましくは 2次フィルタ側 よりの部分で、 一時的に閉じるようにしてもよい。
2次フィルタの内， 外室問で生ずる逆流傾向により、 内， 外室閎を仕切っているフィルタ部分が外室側から内 室側に向けて逆流する浄化血漿により予備的に逆洗浄さ れる。
このような内室内の圧力降下操作に引き銃き、 外室側 に洗浄液が供耠され Γ' ィルタ部分の逆洗浄が開始され ると共に、 内室側からも洗浄液が供铪され、 フィルタ内 室側からの洗浄が開始される。
本発明によれば、 内， 外室間の圧力差にもとづく、 浄 化血漿による予備的逆洗浄と、 内， 外両室側からの洗浄 液による洗浄とにより、 短時間例えば 10秒程度の洗浄 操作で、 しかも洗浄液の使用量を少なく、 例えば冷却ゾ ーンの冷却温度が約 1 1〜18でである場合内， 外室を 合わせて 20〜3 Oral程度の使用量で、 2次フィ ルタの 洗浄再生を計ることができる。
2次フィルタの洗浄操作の間には、 フィルタ内室内か ら系外に、 洗浄液の使用量、 例えば 20〜3 Oral程度に 相当する血漿が廃棄される。
2次フィ ルタ内には通常内， 外室を合せて 200〜3
0 Oml程度の血漿が収容されている。 本発明において系 外に廃棄される血漿量例えば 20〜3 Oralは、 全収容量 例えば 200〜30 Omlの極く一部にすぎず、 全量を系 外へ廃棄する従来法よりも血漿廃棄量を少なくできる。
2次フィルタの洗浄再生は、 洗浄液の使用量少なく且 つ短時間で行なわれるので、 フィルタからは目詰り成分 (クライオゲル） は完全には除去されず、 一部がそのま ま残る。 従って 2次フィルタを新しいものと取換える場 合に見られるような通過効率の激減は発生せず、 濾過性 能を維持させた状態のままで血漿濾過を再開できる。
本発明において、 2次フィ ルタの洗浄操作の間、 1次 フィルタから 2次フィルタへの血漿供耠は、 継続しても よいし、 中断してもよい。 血漿供铪を継続する場合は、 洗浄操作の間も血液ポンプ及び血漿ポンプの駆動を継続 できるので、 之等ポンプを洗浄操作ごとに駆動停止させ るという煩しさがなくなる。 また継続すると、 洗浄操作 の間に 2次フィルタ内に供耠された血漿の全量は系外に 廃棄されるので、 系外への血漿廃棄量が増加する。 増加 量は洗浄操作に要する時間によっても異なるが、 例えば 1 0秒程度の法浄時間であれば、 下記に述べるように 4 〜6 m l程度であり、 この程度の増加であれば特に問題は ない。 勿論、 このような血漿廃棄量の増加は、 洗浄操作 の間、 2次フィルタへの血漿供耠を中断することによつ てなく し得る。
本発明に於ては、 2次フィルタの洗浄操作時に生ずる 血漿の系外への廃棄ロスをより一層少なくするために、 2次フィルタの内室内の圧力降下後、 洗浄操作を開始す る前に、 血槳回収操作を行なうことができる。
血漿回収操作は、 2次フィルタへの血漿供辁を中断し 且つ内室内を大気から閉じた状態で、 該フィルタ内に洗 浄液を供耠し、 诜浄液の供辁につれ、 2次フィルタ内の 血漿を内室から外室を経て、 該外室に接続する浄化血漿 返送ライン内に押出し回収することによって行なう。 こ の血漿回収操作は、 2次フィルタの内， 外室内の血漿の 全量が洗浄液で置換された時点、 即ち 2次フィルタの内 容量分の洗浄液を供耠した時点で終了し、 この終了に引 続き、 先に述べた 2次フィ ルタの洗浄操作が開始される, 尚、 この場合の 2次フィ ルタの^浄液量は、 2次フィ ルタの濾過効率が極端に下がらない程度、 例えば 2次フ ィルタの内容量程度まで増やしても差支えない。
血漿回収操作は、 2次フィ ルタの目詰り状態で行なわ れるが、 洗浄液例えば生理食塩水は血漿に比べ低粘性で あるので、 フィルタ内を容易に通過できる。
血漿回収操作の間、 血液ポンプ及び血漿ポンプの駆動 を停止させることなく、 血漿を供铪ラインから 2次フィ ル夕と並列するバイパスラインを介し返送ライン側に循 環させてもよい。
血滎回収操作を行なう場合、 2次フィルタの内， 外室 内には、 血漿と置換された洗浄液が充満し、 従って洗浄 操作後に、 直ちに通常運転に戻すと、 内， 外室内の全量 の洗浄液がそのまま返送ライン側に入る。
本発明に於ては、 返送ライン側に入る洗浄液量を少な くするために V 2次フィルタの洗浄操作後、 通常運転に 戻す前に、 洗浄液の系外への排出操作を行なうことがで さる o
洗浄液の排出操作は、 2次フィルタの内室を大気中に 開放し且つ返送ライ ンを閉じた状態で該フイルクの内室 内に血漿を供絵し、 血漿供耠につれ、 内室内の洗浄液を 系外に排出することによって行なう。 この排出操作は、 内室内の洗浄液の全量が血漿で置換された時点で終了し， この終了後に通常運転に戻される。 このような洗浄液の 排出操作を行なうことにより、 通常運転時に返送ライ ン 側に入る铣浄液量はフィルタの外室の容積相当分となり、 内室の容積相当分.だけ減ることになる。
図面の簡単な説明
図 1は本発明血漿濾過法の実施に使用される装置の 1 例を示すフローチヤ一 トである。
図 2は図 1における 2次フィルタの構造説明のための 模式図である。
図 3は本発明血漿濾過法の実施に使用される装置の他 の 1例を示すフローチヤ一トである。
図 4は従来法の説明のためのフローチャー トである。
発明を実施するための最良の形態
以下に本発明血漿濾遏法を添附図面にもとづき説明す ると次の通りである。
図 1は本発明血漿濾遏法の実施に適用される装置の 1 例を示すフローチャー トであり、 図 4の従来装置と共通 する部分は共通の参照番号で示されている。 図 1に示す本発明実施のための装置は、 図 4に示す従 来装置の構成に加え、 血漿供耠ライ ン 6上の 2次フィ ル タ 8側よりに設置された圧力検知器 1 3と、 一端が 2次 フィルタ 8の下端でその内室に接铳し他端が大気中に開 口する弁 1 4 a付廃液ライン 1 4と、 一端が 2次フィル 夕 8の手前で血漿供耠ライン 6に接続し他端が集合ライ ン 1 7を介し洗浄液供給源 1 8に接続する弁 1 5 a付洗 浄液供耠ライン 1 5と、 一端が 2次フィルタ 8の側壁上 部でその外室に接続し他端が集合ライン 1 7を介し洗浄 液供耠源 1 8に接続する弁 1 6 a付洗浄液供耠ライン 1 6と、 浄化血漿返送ライ ン 9上の 2次フィ ルタ 8側より に設置された弁 2 3とが備えられている。
圧力検知器 1 3は、 目詰り傾向増大にもとづく 2次フ ィルタ 8の入口部の圧力上昇限界値を検知する手段とし ての働きと、 2次フィルタ 8の内室内の圧力降下限界値 を検知する手段としての攝きをする。 このような圧力検 知は、 上記検知器 1 3に代え、 供耠ライン 6上のドリ ッ プチヤンバー 1 1に備えられている圧力検知器 1 2で行 うようにして · よい。
弁 1 4 a付廃液ライン 1 4は、 内室内を大気中に開放 し圧力降下させる手段としての働きと、 内室内から洗浄 廃液を系外に排出する手段としての働きとする。 弁 1 5 a、 16 a付洗浄液供耠ライン 1 5、 16は、 内室内の圧力降下後に、 2次フィ ルタ 8内を内， 外両室 側から同時洗浄する手段としての勸きをする。
浄化血漿の返送ライ ン 9上の弁 23は、 2次フィ ルタ 8内の圧力降下操作を、 該ライン 9を閉じた状態で行な うために傭えたものであり、 通常運転時は、 開状態を保 持する。
図 2は 2次フィル夕 8の構造を説明するための模式図 である。 2次フィルタ 8は通常セルロースジアセテー ト、 ポリ ビニルアルコール、 ポリエチレン、 ポリプロピレン、 ポリスルホン、 EVAL、 PMMA (ポリメチルメタァ ク リ レート） 、 PAN (ポリァク リロニト リル） などに よって作られたホロ一ファイバ （中空糸） を数千本内蔵 し、 図では便宜上ホロ一ファイバ 19の一本を拡大し模 式化して示している。 上記ホロ一ファイバ 19の孔径は 特に制限はなく、 通常は 0. 01〜0. 5 の範囲から 血槳冷却の程度を考慮して選択される。 1次フィルタ 3 にも 2次フィルタと同様にホローフアイバが適用され、 該フアイバの孔径は血球を濂別できる程度であればよく、 0. 2〜0. 6 前後が適当である。
図 2に細線矢符 20で示すように通常の血漿濾過運転 時に於ては、 血漿は 1次フィルタ （図 1参照） から血漿 供铪ライン 6及び該ライン 6上の冷却コイル部 7を通つ て 2次フィルタ 8内蔵のホローフアイバ 19の内空部 1 9 a内、 即ち該フィルタ 8の内室 8 a内に通常トータル で毎秒当り 0. 4〜0. 6ml程度の流量で流入する。
内腔部 19 a内に流入した血漿中には冷却コイル部 7 及び 2次フィルタ 8における冷却で高分子量物質のゲル 化物、 所謂クライオゲルが発生しており、 このクライオ ゲルは上記フアイバ 19の肉厚部 19 bの通過時に該肉 厚部 1 9 bで捕捉され、 血漿成分だけが肉厚部 1 9 bを 通過する。 肉厚部 1 9 bの通過で浄化された血漿は、 常 法通り、 肉厚部 19 bの外側、 即ち 2次フィ ルタ 8の外 室 8 bからこれに接続している返送ライン 9に向け流出 していく。
上記フアイバ 19の肉厚部 19 bで捕捉されたクライ ォゲルは、 その內部及び内腔部 19 a側表面に経時的に 蓄積して行き、 この蓄積でファイバ 19の内腔部 19 a ひいてはフィルタ内室 8 a内の圧力は通常運転時の 0〜 2 OmmH gから徐々に上昇して行き、 この圧力上昇は 検知器 13により検知される。
検知器 13にて検知される圧力が限界値例えば約 30 0 mmH に達すると、 廃液ライン 14上の弁 14 a力、' 閉 開となり、 よってファイバ 19の内腔部 19 aひい てはフィルタ内室 8 a内の圧力は大気圧まで降下する。 この圧力降下で、 目詰りを生じている肉厚部 1 9 bを挟 んでその内側の内腔部 1 9 aひいてはフィルタ内室 8 a と、 その外側のフィルタ外室 8 bとの間に圧力差を生じ. この圧力差で外室 8 b内に充篛している処理済の浄化血 漿が内室 8 a側に向け逆流傾向となり、 よって肉厚部 1 9 bは、 この逆流傾向により予備的に逆洗浄される。
浄化血漿の逆流傾向が、 返送ライン 9の終端側まで波 及すると、 該ライ ン 9の終端側の浄化血液返却部分で血 液の逆流が起こることになり、 好ましくない。 このよう な血液の逆流傾向は、 上記ライン 1 4上の弁 1 4 aが閉 →開になる前に返送ライン 9上の弁 2 3を開→閉にする ことにより防止できる。
内腔部 1 9 aひいてはフィルタ内室 8 a内の圧力降下 は上記検知器 1 3により検知され、 圧力降下と同時に或 いは僅かの時間差をおいて、 フィルタ外室 8 b側に接銃 している洗浄液供耠ライン 1 6上の弁 1 6 aが閉→開と なる。 よって洗浄液がその供給源 1 8から集合ライン 1 7及び供辁ライン 1 6を順次経て外室 8 b内に例えばポ ンプ駆動 （図示せず） 又は落差を利用して供耠される。 このフィルタ外室 8 b内への洗浄液の供耠により矢符 2 1で示すように肉厚部 1 9 bは逆洗浄される。 洗浄液に よるフィルタの逆洗浄は、 通常 2次フィルタ 8への分離 血漿の供铪を継続した状態のまま行なわれ、 この逆洗浄 の間、 ライン 6より 2次フィルタ 8内に送られてく る血 漿は廃液ライ ン 1 4を通じ系外に排出されて行くので、 逆洗浄はできるだけ短時間で速やかに行なうことが必要 である。 また逆洗浄の間、 洗浄液の使用量に略々相当す る血漿量が内腔部 9 a (又は内室 8 a ) から廃液ライ ン 1 4を通じ系外に排出されるので、 洗浄液の使用量もで きるだけ少なくする必要が生じる。
更に :とりわけ血漿冷却瀘過法に於ては、 肉厚部 1 9 bに幾分クライォゲルが存在している状態の方がフィル 夕の濾過効率がよいので、 洗浄液の使用量を多く しすぎ ると肉厚部 1 9 bのクライオゲルが無くなってしまい、 フィルタの濾過効率が一挙に低下してしまう。 ところ力、' 逆洗浄用の洗浄液の使用量を少なくすると、 逆洗浄によ り肉厚部 1 9 bから遊離したクライオゲルを十分完全に 洗い流すことができなくなる。 ちなみに内腔部 1 9 a内 には、 常時処理前血漿がトータルで毎秒当り 0 . 4〜 0 . 6 m l流れているが、 あまりにも少量すぎるためクライオ ゲルを洗い流すには十分でない。
そこで本発明では、 逆洗浄用の洗浄液供耠ライン 1 6 上の弁 1 6 aが閉—開となると同時に或いは 2〜 3秒程 度の時間差をおいて、 フィルタ内室 8 a側に接続してい る洗浄液供铪ライン 1 5の弁 1 5 aが閉→開となり、 逆 洗浄の間、 逆洗浄用と略々同量の洗浄液を該ライン 1 5 から血漿供給ライン 6を通じ内室 8 a内即ち内腔部 1 9 a内に供耠している。
内腔部 1 9 a内に流入した洗浄液は図 2に太線矢符 2 2で示すように、 該部 1 9 a内を常時流通している処理 前血漿と協同して、 クライオゲルを内腔部 1 9 aの内壁 部分から^い流しつつ廃液ライン 14から系外に排出さ れる。
本発明によれば、 内外室 8 a , 8 b間の圧力差にもと づく処理済血漿の予備的逆洗浄と、 内外両室側からの洗 浄液による同時洗浄とにより、 短時間例えば 1 0秒程度 の洗浄操作で、 しかも洗浄液の使用量を極く少なく して、 例えば全量で 2 Oml程度の使用髯でフィルタの目詰りを 解消できる。
所定時間の 浄操作を終えた後は各ライン 14, 15, 1 6上の開閉弁 14 a, 1 5 a, 16 aが開—閉となり 一方ライン 9上の弁 23が閉→開となり再び適常の濾過 運転に戻る。
このようなフィルタの目詰り解消操作は圧力検知器 1 3を主指標として繰り返され、 1回の血漿濾遏操作で、 経験的には約 4回の目詰り解消操作が行なわれる。
本発明において、 1回の目詰り解消操作で系外に廃棄 される血漿量は、 洗浄液の全使用量に相当する約 2 Oml と、 連続的に送られてく る処理前血漿の 4〜6ιπ! ( 0. 4〜0. 6ηΐΧ 10秒） であり、 全体で 24〜26mlで あるので、 4回の籙返しでは 96〜104mlとなる。 こ れを従来法の 400〜60 On!と比較すると遥かに少な く、 血漿の系外への廃棄量を 1 Z5程度に低減し得る。 尚、 1回の洗浄に用いる洗浄液の量や 1回の洗浄時間 を、 上記より少なく した場合でも、 洗浄回数を增やすこ とによって、 同様の効果を得ることができ、 1回当たり の洗浄液量を若干増やした場合は、 その分洗浄回数を減 らすことにより対応できる。
2次フィルタ 8の洗浄再生の間、 2次フィ ルタへの血 漿供耠は継铳してもよいし、 中断してもよい。 既に述べ たように 2次フィル夕への血漿供耠を継銃する場合は洗 浄再生操作の間もポンプ 1及び 5の駆動を継続できる。 従って洗浄再生操作ごとにポンプ 1及び 5の駆動を停止 させるという ¾しさがなくなる。 一方血漿供耠を中断す る場合は、 洗浄操作の間、 2次フィ ルタ 8には血漿が供 耠されなくなるので、 その分系外への血漿の廃棄ロス量 を少なくできる。 本発明においては、 2次フィルタ 8の洗浄再生操作を 自動制御のもとに行うために、 弁 1 4 a , 1 5 a , 1 6 a , 2 3として、 電磁弁を用いることができる。 自動制 御の一例を簡単に述べると、 通常運転、 即ち弁 1 4 a , 1 5 a , 1 6 aは閉、 弁 2 3は開の状態で圧力検知器 1 3が圧力上昇限界値を検知すると、 この検知信号を受け て、 弁 2 3が開→閉、 弁 1 4 aが閉→開となり、 圧抜き が行なわれる。 この圧抜きで検知器 1 3が圧力降下限界 値を検知すると、 この検知信号を受けて、 弁 1 5 a , 1 6 aが閉→開となり、 洗浄が開始される。 洗浄開始後、 所定時.間が経過すると、 タイマーなどの働きで、 弁 1 4 a , 1 5 a , 1 6 aが開→閉となり、 一方弁 2 3が閉→ 開となり、 通常運転に戻る。
図 3は本発明血漿濾過法を実施するに適した装置の他 の 1例を示している。
図 3に示された本発明装置は、 図 1に示されている圧 抜き手段及び洗浄手段に加え、 血漿回収手段、 洗浄液排 出手段及び処理前血漿循琮手段とを傭えている。
血漿回収手段は、 2次フィルタ 8の内室の圧抜き後、 法浄操作に入る前に、 2次フィルタの内， 外室内の血漿 を返送ライン 9側に回収するためのものである。
洗浄液排出手段は、 2次フィルタ 8の洗浄後、 通常運 転に戻る前に、 内， 外室内に残っている洗浄液のうち、 内室内の洗浄液を系外に排出するためのものである。
処理前血漿循環手段は、 上記各種操作において、 2次 フィルタ 8への血漿供給が中断している間、 血漿を供給 ラインから返送ライン 9へ循環させるためのものである。 上記の各種手段を構成するために、 図 3に示す装置で は、 図 1に示す装置の構成に加え、 血漿供耠ライ ン 6上 に設置された弁 2 4、 集合ライ ン 1 7上に設置された洗 浄液ポンプ 2 6、 上記弁 2 4より 1次フィルタ 3側で供 給ライ ン 6を返送ライ ン 9に接続する弁 2 5 a付バイバ スライ ン 2 5を備えている。 各種手段の構成要素は一部 共用されている。
図 3に示された装置を適用して、 本発明血漿瀘過法を 実施するに際し、 2次フィルタ 8の洗浄再生操作の 1サ イクルを示すと次の通りである。
通 常 運 転
I
2次フィルタ 8の入口部圧力上昇限界値検知 2次フィルタ 8の内室内の圧抜き操作 上記内室内の圧力降下限界値検知 2次フィルタ 8の内， 外室内の血漿回収操作
1
2次フィルタ 8の洗浄操作
2次フィルタ 8の内室内の洗浄液排出操作
I ·
通 常 運 転
上記、 1サイクルの各操作時に於ける弁の開閉位 は 次の通りである。
〔通常運転時〕
開位置…弁 24、 23
閉位置…弁 14 a, 25 a, 1 5 a, 16 a
〔圧抜き操作時〕
開位置…弁 24、 14
閉位置…弁 23, 25 a, a , 16 a
〔血漿回収操作時〕
開位置 · "弁 23、 25 a, 5 a
閉位置…弁 24, 14 a, 6 a
〔铣浄操作時〕
開位置 弁 25 a, 15 a, 6 a, 14 a
閉位置…弁 24, 23 〔洗浄液排出操作時〕
開位置…弁 2 4 , 1 4 a
閉位置…弁 2 5 a , 1 5 a , 1 6 a , 2 3
上記各操作のうち、 圧抜き操作並びに洗浄操作は、 図 1の場合と実質的に同じである。
以下に血漿回収操作並びに洗浄液排出操作につき、 図 3を参照しつつ説明する。
血漿回収操作は弁 2 4を閉じ、 処理前血漿の 2次フィ ルタ 8への供給を中断した状態で行なわれる。 この中断 の間ポンプ 1及び 5の駆動を継続するために、 バイパス ライ ン 2 5が開き、 上記血漿は供耠ライン 6→バイパス ライ ン 2 5→¾送ライ ン 9へと循環される。
一方ポンプ 2 6の駆動で洗浄液がライン 1 5から 2次 フィルタ 8の内室内に供給され、 この洗浄液の供給につ れ、 内， 外室内の血漿が外室からこれに接銃する返送ラ イン 9内に押し出されて行き、 回収される。
内室内への洗浄液の供耠は 2次フィルタ 8の目詰り状 態で行なわれるが、 洗浄液は通常生理食塩水であり、 血 漿に比べ低粘性であるので、 目詰り状態のフィルタ内を 内室から外室に向け通通できる。
内室内への洗浄液の供給の間、 圧力検出器 1 3が圧力 上昇限界値を検知した時は、 洗浄液の供耠を一時的に中 靳し又は中断することなしに、 弁 1 4 aを閉→開となし. 圧抜き操作を行えばよい。
内室内への洗浄液の供耠は、 内， 外室内への全血漿が 洗浄液と置換されるまで継続される。 2次フィルタ 8の 内容積は予め判っているので、 例えば上記ライン 1 5上 に備えた流量計 （図示せず） で流量を計ることにより、 置換終了時点が判る。 置換が終了すると、 先に述べたよ うに洗浄操作に入る。
洗浄操作に入る前に、 内， 外室内の全血漿を洗浄液と 置換し返送ライン 9側に回収しておく ことにより、 洗浄 操作時に於ける系外への血漿廃棄ロスを実質的になく し ■f守る。
^浄操作後に、 2次フィルタ 8の内外室内に残る液は、 実質的に全てが 浄液である。 これは洗浄操作前に内外 室内から全血漿が洗浄液との置換で回収されているから である。 従って洗浄操作後にすぐに通常運転に戻ると、 内， 外室内の全ての洗浄液が返送ライン 9内に入る。
返送ライン 9内に入る洗浄液量はできるだけ少ない方 がよく、 この目的で、 洗浄操作に引続き、 洗浄液の排出 操作が行なわれる。
洗浄液排出操作畤は、 弁 2 4 , 1 4 aが開き、 他の弁 は全て閉じている。 従って血漿回収操作並びに铣浄操作 の間、 バイパスライン 2 5側に流れていた血漿は、 弁 2 4開により 2次フィルタ 8の内室内に入り、 これに代つ て廃液ライン 1 4からは洗浄液が排出されて行く。 2次 フィルタ 8への血漿の毎秒当りの供給量は判っているの で、 所定時間が経過し、 内室内の全洗浄液が血漿と置換 された後、 例えばタイマーなどの働きで、 弁 1 4 aを開 —閉、 弁 2 3を閉—開にすることにより、 通常運転に戻 る ο
図 3に示された装置においても、 図 1の場合と同様に, 各操作時に於ける弁の開閉を自動制御するために、 弁と して電磁弁を用いることができる。

Claims

請 求 の 範 囲
① 血液を 1次フィルタにて血球と血漿とに分離し、 分 離血漿は供耠ラインを介し 2次フィル夕に導き、 該フ ィルタ内を内室から外室に向け通過させることにより , 該血漿中より有害成分としての高分子量物質を瀘別し て浄化し、 浄化血漿は 2次フィルタより返送ラインを 介し、 1次フィルタよりの分離血球と混合しつつ血液 として返送する血漿濾過法において、 2次フィルタの 目詰り傾向増大にもとづく フィルタ内室内の圧力上昇 限界値を検知するごとに、 2次フィ ルタの内室内を大 気中に開放し圧力降下させる操作と、 内室内の圧力降 下後に、 2次フィルタ内を、 内外両室側から洗浄液を 用いて洗浄しつつ洗浄廃液を内室から系外に排出する 操作とを行い、 之等操作によって 2次フィルタの洗浄 再生を計った後に、 通常運転に戻すことを特徴とする 血漿濾過法。
② 2次フィルタでの血漿の濾過を冷温状態で行うこと を特徵とする請求の範囲第 1項記載の血漿濾過法。
③ 内室内の圧力降下操作の前に、 浄化血漿の返送ライ ンを閉じることを特徵とする請求の範囲第 1項又は第
2項記載の血漿濾過法。
④ 2次フィルタの洗浄を、 該フィルタへの血漿供耠を 継続しつつ行うことを特徴とする請求の範囲第 1 〜 3 項のいずれか 1つに記載の血漿濾過法。
⑤ 2次フィルタの洗浄を、 該フィルタへの血漿供給を 中断した状態で行なうことを特徴とする請求の範囲第 1 〜 3項のいずれか 1つに記載の血漿濂過法。
⑥ 2次フィルタの内室内の圧力降下後、 該フィ ルタの 洗浄を行なう前に、 2次フィルタへの血漿供耠を中断 した状態で、 2次フィルタ内に内室側から外室側に向 け洗浄液を供給し、 内， 外室内に残存している血漿を 上記洗浄液の供耠につれ、 内， 外室からこれに接続す る浄化血漿の返送ライン側に押出し回収することを特 徴とする請求の範囲第 1項記載の血漿濂過法。
⑦ 2次フィルタの洗浄後、 通常運転に戻す前に、 浄化 血漿の返送ライ ンを閉じた状態で、 2次フィルタの内 室内に供耠ラインを通じ血漿を供耠し、 この血漿供給 につれ、 内室内の全洗浄液を系外に排出し、 その後通 常運転に戻すことを特徴とする請求の範囲第 6項記載 の血漿瀘過法。
⑧ 2次フィ ルタへの処理前血漿供耠の中断中は、 処理 前血漿を血漿供耠ライン—バイパスライン→返送ライ ン間に循環させることを特徵とする諳求の範囲笫 6項 又は第 7項に記載の血漿通過法。 ⑨ 血液を 1次フィルタにて血球と血漿とに分離し、 分 離血漿は供耠ラインを介し 2次フィルタに導き、 該フ ィルタ内を内室から外室に向け通過させることにより， 該血漿中より有害成分としての高分子量物質を濾別し て浄化し、 浄化血漿は 2次フィルタより返送ラインを 介し、 1次フィルタよりの分離血球と混合しつつ血液 として返送する血漿濾過装置に於て、 2次フィ ルタの 入口部内の圧力上昇限界値を検知する手段と、 同内室 内の圧力降下限界値を検知する手段と、 上記手段が圧 力上昇限界値を検知するごとに内室内を大気中に開放 し内室内の圧力を降下させる手段と、 上記手段が内室 内の圧力降下限界値を検知するごとに、 2次フィルタ 内に内， 外両室側から洗浄液を供給する手段とを備え ていることを特徴とする血漿濾過装置。
⑩ 2次フィ ルタでの血漿の濾過を冷温状態で行なうた . めの冷却ゾーンが設置されていることを特徵とする請 求の範囲第 9項記載の血漿璩過装置。
⑪ 浄化血漿の返送ライン上に、 2次フィルタの内室内 の圧力降下時に閉じ、 通常運転に戻ると開く、 弁が備 えられていることを特徵とする請求の範囲第 9項又は 第 1 0項記載の濾過装置。
© 2次フィルタの内室内の圧力降下後、 該フィルタの 洗浄前に、 該フィルタの內， 外室内に残存している血 漿を洗浄液と置換して返送ライン側に回収するための 手段を備えていることを特徴とする請求の範囲第 9〜 1 1項のいずれか 1つに記載の血漿濾過装匿。
⑬ 2次フィ ルタの洗浄後、 通常運転に戻る前に、 2次 フィルタの内室内の洗浄液を供給ライン側から送られ てく る血漿と置換して系外へ排出するための手段を備 えていることを特徵とする請求の範囲第 1 2項記載の 血漿濾過装置。
⑭ 2次フィルタへの処理前血漿の供耠が中断している 間、 該血漿をその供耠ラインから返送ラインに直接戻 す めのバイパスラインを備えていることを特徴とす る請求の範囲第 1 2項記.載の血漿濾過装置。
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