TWM572782U - Reaction liquid separation and purification device - Google Patents

Abstract

本創作公開一種反應液分離純化裝置，其包括座體、外槽體、內槽體、液體導入模組、動力模組以及液體導出模組。外槽體設置於座體上。內槽體設置於外槽體中，其包括主體部件及內套筒，內套筒可拆卸地套設在主體部件內部的內槽容室中，且內套筒自主體部件的上部沿其內壁向下延伸至內槽容室底部。液體導入模組將液體導入內槽容室。動力模組帶動內槽體及其中的液體旋轉。液體導出模組將液體導出內槽容室。藉此，只需要拆卸內套筒就能夠輕易地去除沉積物。

Description

反應液分離純化裝置

本創作涉及一種反應液分離純化裝置，尤指一種盛裝反應液的槽體具有可分離的內套筒，而能夠便於去除沉積物的反應液分離純化裝置。

隨著電子產業的高度發展，各種半導體製程以及電路板處理的技術也跟著高度發展。在電子產液的許多製程步驟中，經常都需要使用各種不同的化學藥液進行諸如鍍通孔、鍍銅、蝕刻、顯影、剝膜、鍍有機保護膜以及表面改性等反應，或者是藉由化學藥液對元件進行清洗。

以印刷電路板(Printed circuit board，以下簡稱PCB)的製程為例，其往往需要使用大量化學藥液與PCB表面進行反應，該等製程步驟一般被稱之為PCB的濕製程(Wet Process)，是完成PCB製作十分重要的環節之一。在前述濕製程中所採用的化學藥液，在與PCB表面進行反應過後，往往會產生一些殘留在藥液中的副產物，該等副產物的累積不但會影響藥液的酸鹼值等特性，而不利藥液的持續利用，倘若就此將使用過的藥液排放丟棄，也會造成環境嚴重的污染以及原物料資源的無謂浪費。

據此，一般針對反應過後的藥液，會設法去除副產物後循環再利用。在某些製程中，藥液溶劑在反應過後會形成固體的油墨雜質於混合液中，雖有部分的解決方案，採用過濾的方式處理反應後的混合液，期望能藉此分離混合液中的油墨與藥液溶劑。然而，前述做法在工業 上很難有效地利用。其原因在於，工業規模的藥液溶劑在反應過後會形成大量的固體油墨雜質，且油墨雜質會相互黏附積聚成較大的塊狀物，在此情形下，倘若僅僅依靠過濾的方式處理反應後的混合液，則過濾用的濾芯在極短的時間內便會被大量的油墨所堵塞，無法再針對細小油墨提供任何過濾效果。基於前述理由，此等做法運用在工業上時，需要非常頻繁地更換昂貴的濾芯，造成成本上非常巨大的負擔，十分不理想。

近來，有在單純的過濾之外，併採離心的方式分離油墨與藥液溶劑的做法問世，其作法是將大量混合液體盛裝在槽體中旋轉，使得固體的油墨能夠積聚在槽體底部，此時，再回收混合液的上清液並且進一步對上清液進行過濾。此種作法下能夠使大量的油墨先自混合液中分離，使得濾芯能夠專司細小油墨的分離工作，因而能夠大幅延長濾芯的使用壽命。然而，在這種離心與過濾分工的運作模式之下，油墨通過離心累積的速度仍然十分迅速，因此，需要持續清除沉積於離心機槽體底部的油墨，才能夠繼續使用分離槽。更甚者，由於在離心力的作用下，沉積的油墨往往在槽體的底部被壓地非常密實，因此其清除作業也顯得十分困難，常常要耗費大量的人力與時間以刮刀將該等油墨刨除，大大墊高了生產的成本。此外，在離心槽裝滿混合液的情況下，雖然部分固體油墨可以沉降到槽體底部，但其實也會有部分油墨漂浮於液面，這導致有許多懸浮在液面的油墨不能夠良好地被貼附到槽體壁面上。如此，不但降低了分離回收的效率，也更進一步加劇了混合液表面起泡的現象，使得相關業者不得不添加更多的化學消泡劑以緩和發泡現象。然而，添加過多的化學消泡劑難免影響藥液溶劑的性質，因此，這樣的作法其實對於高品質藥液溶劑的回收效率極易產生負面影響。又，在現有用於回收藥液的離心裝置中，其馬達等機構都是外露的，在工作中高速旋轉的傳動機構很容易產生工安意外，不可不慎。

由以上說明可知，現行藥液溶劑的回收處理仍有許多不理想之 處，諸多的難題還有待克服，因此，實有進一步改進之必要。

本創作所要解決的技術問題在於，針對現有技術的不足提供一種反應液分離純化裝置，以針對使用者對不同問題選擇的選項資訊，通過電腦輔助自動化地進行分析，增進使用者對自我的認識。

為了解決上述的技術問題，本創作所採用的其中一技術方案是，提供一種反應液分離純化裝置，其包括一座體、一外槽體、一內槽體、一液體導入模組、一動力模組以及一液體導出模組。該外槽體設置於該座體上，其內部空間形成一外槽容室。該內槽體設置於該外槽容室中，其包括一主體部件以及一內套筒，該主體部件的內部空間形成一內槽容室，該內套筒可拆卸地套設在該主體部件的內部，且該內套筒自該主體部件的上部沿著該主體部件的內壁向下延伸至該內槽容室底部。該液體導入模組用以將液體導入該內槽容室。該動力模組設置於該座體且與該內槽體連接，其用以帶動該內槽體以及該內槽容室中的液體旋轉。該液體導出模組用以將液體導出該內槽容室。

較佳地，該反應液分離純化裝置還包括一外罩殼體，該外罩殼體、該外槽體以及該動力模組設置於該座體的同側，且該外罩殼體包覆該外槽體以及該動力模組。

較佳地，該動力模組進一步包括一驅動單元、一傳動系統以及一從動軸。該驅動單元設置於該外槽體的一側；該傳動系統與該驅動單元連接；該從動軸穿過該外槽體與該內槽體連接，該從動軸通過該傳動系統被該驅動單元帶動旋轉。

較佳地，該內套筒進一步包括一頂板以及一延伸部，該頂板抵靠於該主體部件上方開口的周緣，該延伸部自該頂板的底面向下延伸。

較佳地，該內槽體還包括一內槽柱，其凸設於該主體部件底面的中心部，且該內槽柱的外壁形成一傾斜面。

較佳地，該液體導入模組進一步包括一導管以及一罩體，該導管 的一端連接至一反應液供應端，該罩體設置於該導管的另一端，且設置在該內槽容室內正對該內槽柱的位置。

較佳地，該反應液分離純化裝置還包括多個避震模組，該外槽體通過該等避震模組與該座體連接。

較佳地，該反應液分離純化裝置還包括多個遮蔽罩，各該遮蔽罩分別設置於各該避震模組的外側。

較佳地，該液體導出模組延伸至該內槽容室的一端形成一導引開口，該導引開口與液體在該內槽容室中轉動的方向相切，其中，該內槽容室中的液體量是通過調整該導引開口與該內槽體的內壁之間的距離進行控制。

較佳地，該反應液分離純化裝置還包括一物理消泡模組，其與該液體導出模組相連接，以接收該液體導出模組自該內槽容室導出的液體。

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的反應液分離純化裝置，其能通過“該液體導入模組用以將液體導入該內槽容室”、“該動力模組帶動該內槽體以及該內槽容室中的液體旋轉”、“該內槽體包括該主體部件以及該內套筒”以及“該內套筒可拆卸地套設在該主體部件的內部”等技術特徵所組成的技術方案，以使反應液中的固體因為離心力的作用而沉積於內槽容室底部，且只需要將該內套筒自該主體部件卸下，即可使沉積物與該主體部件的內壁間產生縫隙，而能夠輕易地去除硬化沉積於該主體部件底部的沉積物，大幅降低維修、養護該裝置所要花費的時間以及人力成本。

為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與圖式，然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明，並非用來對本創作加以限制。

M‧‧‧反應液分離純化裝置

1‧‧‧座體

2‧‧‧外槽體

21‧‧‧外槽容室

22‧‧‧槽蓋

3‧‧‧內槽體

31‧‧‧主體部件

311‧‧‧內槽柱

312‧‧‧通孔

32‧‧‧內套筒

321‧‧‧頂板

322‧‧‧延伸部

33‧‧‧內槽容室

4‧‧‧液體導入模組

41‧‧‧導管

42‧‧‧罩體

5‧‧‧動力模組

51‧‧‧驅動單元

52‧‧‧傳動系統

53‧‧‧從動軸

6‧‧‧液體導出模組

7‧‧‧外罩殼體

8‧‧‧避震模組

81‧‧‧遮蔽罩

9‧‧‧物理消泡模組

D‧‧‧距離

L‧‧‧液體

P‧‧‧沉澱物

圖1為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置的立體示意圖。

圖2為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置去除外罩殼體的立體示意圖。

圖3為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置的側剖面示意圖。

圖4為本創作較佳實施例中液體初導入內槽容室時的轉動狀態示意圖。

圖5為本創作較佳實施例中內槽容室高速轉動下液體與固體尚未分離的狀態示意圖。

圖6為本創作較佳實施例中內槽容室高速轉動下固體自混合溶液中析出的狀態示意圖。

圖7為本創作較佳實施例其中一角度的槽體結構立體分解示意圖。

圖8為本創作較佳實施例另外一角度的槽體結構立體分解示意圖。

圖9為圖6標示IX處的液體導出模組的局部放大示意圖。

圖10為圖6標示X處的內套筒套設於主體部件時的內槽容室底部局部放大示意圖。

圖11為圖10的內套筒自主體部件抽離時的內槽容室底部局部放大示意圖。

以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“反應液分離純化裝置”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外，本創作的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非 用以限制本創作的保護範圍。

應理解，雖然本文中可能使用術語第一、第二、第三等來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

首先，請參閱圖1至圖3所示，圖1為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置的立體示意圖；圖2為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置去除外罩殼體的立體示意圖；圖3為本創作較佳實施例的反應液分離純化裝置的側剖面示意圖。由上述圖中可知，本創作較佳實施例提供一種反應液分離純化裝置M，其包括座體1、外槽體2、內槽體3、液體導入模組4、動力模組5以及液體導出模組6。在本實施例中，外槽體2、內槽體3以及動力模組5都是設置在座體1上，且液體導入模組4能將使用過的藥液溶劑導入內槽體3中，在動力模組5的帶動下，使得內槽體3以及盛裝於其中的藥液溶劑共同旋轉，並且在成功分離雜質後，使得藥液溶劑能夠被液體導出模組6回收。

承上所述，更具體地說，在本實施例中，外槽體2、內槽體3以及動力模組5共同被設置在座體1的同一側(上方)，且外槽體2、內槽體3以及動力模組5都被外罩殼體7所包覆。此外，座體1上還設置有多個避震模組8(如穩定彈簧組，但本創作並不以此為限)，外槽體2通過該等避震模組8與座體1連接，以降低工作過程中可能發生的晃動現象。

請再參閱圖1至圖3所示，本實施例的動力模組5包括驅動單元51(馬達)、傳動系統52(如傳動皮帶，但本創作並不以此為限，也可以是齒輪組等具有等效或類似傳動效果的系統)以及從動軸53，從動軸53穿過外槽體2與內槽體3相互連接。在本實施例中，驅動單元51設置於外槽體2的一側，更具體地說，是固設於外槽體2上。傳動系統52連接驅動單元51以及從動軸53，以使得從動軸53以及與其 連接的內槽體3能夠被驅動單元51所帶動，進而能相對外槽體2旋轉。本創作通過將驅動單元51設置於外槽體2的一側的方式，使得驅動單元51及其所構成的整套動力模組5都能夠被充分地包覆於外罩殼體7中，避免在反應液分離純化裝置M工作的過程中，因操作者一時不慎觸碰到高速運作的動力模組5而受傷。

值得一提的是，在本實施例中，反應液分離純化裝置M還包括多個遮蔽罩81，各該遮蔽罩81分別設置於各該避震模組8的外側。通過在各該避震模組8的外側分別設置各該遮蔽罩81，一方面，能避免灰塵積聚在各該避震模組8的軸心與彈簧之間，以致其避震效能受到影響；另一方面，也能避免液體噴濺到各該避震模組8的軸心，導致腐蝕性的液體損壞軸心。

復請參閱圖1至圖3所示，在本創作的較佳實施例中，外槽體2內部空間形成外槽容室21，且其上覆蓋有槽蓋22。在本實施例中，液體導入模組4以及液體導出模組6都是設置在槽蓋22上，且液體導入模組4以及液體導出模組6的一端都伸入至外槽容室21內，甚至伸入至內槽體3中。在本創作的較佳實施方式中，可於槽蓋22上設置一感應模組(圖式未標示)以檢測槽蓋22是否被開啟或是反應液分離純化裝置M工作的過程中產生的震動是否過大。具體地說，通過前述感應模組的設置，當槽蓋22被開啟時，會強制切斷使反應液分離純化裝置M的動力模組5運轉的工作電路，以避免反應液分離純化裝置M在槽蓋22開啟的狀態下運轉，肇生工安意外；此外，除了強制斷電之外，也能夠藉此觸發預先設定的通知機制(例如亮起警示燈、通過蜂鳴器播放警示音或者將警示訊息顯示在人機介面的顯示面板上)，以便操作者掌握反應液分離純化裝置M的槽蓋22啟閉狀態。另一方面，也可以通過前述感應模組的設置，偵測反應液分離純化裝置M的機體晃動情形。進一步言，當機台由於內部平衡不佳或任何原因，導致運轉狀態下的離心軸心偏移，而發生高於閾值的震動現象，也可以通過前述感應模組強制切斷動力模組5的工作電路，以避免反應液分離純化裝 置M在不安全的狀態下運行。通過前述機制，能夠確保機台安全地運作，且在必要時通過停機進行檢查，因此，除了能夠大幅提高機台使用上的安全性，也能夠避免機器損壞，大幅降低養護以及維修的成本。

承上所述，本創作的反應液分離純化裝置M通過液體導入模組4將藥液溶劑導入內槽體3以進行離心，並且藉由離心使藥液溶劑中的固體與液體分離，而液體導出模組6則將藥液溶劑導出。在本實施例中，反應液分離純化裝置M還包括物理消泡模組9，其與液體導出模組6相連接，以接收液體導出模組6自內槽容室33導出的液體L(即藥液溶劑)。具體地說，當藥液溶劑自內槽體3的內槽容室33被液體導出模組6導出後，可以在物理消泡模組9的內部進行高溫和低溫消泡法、聲波消泡法、液體噴散消泡法或機械振動法等消泡流程，本創作不具體限定其用於執行物理消泡的手法，因此其細節在此不贅述。經過消泡的藥液溶劑可以直接重複利用(直接導入供應反應液的母槽中，或者進一步經過過濾再回流到母槽，其技術細節並非本創作重點，在此不贅述)或者視回收的狀況返回內槽容室33中繼續進行離心純化，以使得藥液溶劑中的固體與液體充分分離。

接下來，請參閱圖4至圖6所示，圖4為本創作較佳實施例中液體L初導入內槽容室33時的轉動狀態示意圖；圖5為本創作較佳實施例中內槽容室33高速轉動下液體L與固體尚未分離的狀態示意圖；圖6為本創作較佳實施例中內槽容室33高速轉動下固體自混合溶液中析出的狀態示意圖。由上述圖中可知，本實施例的內槽體3具有內槽柱311，其凸設於內槽體3底面的中心部，且該內槽柱311的外壁形成一傾斜面，通過該傾斜面的配置，可以使得進入內槽容室33的液體L順勢流向外徑(即朝向內槽容室33的內壁面流動)，以利後續離心的過程中內槽容室33的液體L能盡早穩定地貼附於內槽容室33的內壁面。此外，本實施例的液體導入模組4進一步包括導管41以及罩體42，其中，導管41的一端連接至反應液供應端(例如儲存母槽或接到反應廢液的排出部等)，而罩體42則設置於導管41的另一端。具體地 說，導管41的該另一端延伸至內槽體3中，且使罩體42能夠被設置在內槽容室33內正對內槽柱311的位置。當液體L自導管41被導入內槽容室33，液體L會順著內槽柱311向下、向內槽容室33的外周緣流動，而罩體42能夠避免液體L在內槽柱311的頂部噴濺，而能夠避免導入液體L時各部位的瞬間液體L量不均勻而影響配重，進而能夠降低離心時發生晃動的機率。

首先，請先參閱圖4所示，液體L初導入內槽容室33時，液體L因為該內槽柱311的傾斜配置順勢流向內槽容室33的內壁面，且在相對低速的轉動(由於剛啟動)下，逐漸貼附於貼附於內槽容室33的內壁面。在此低速運轉(例如1750RPM，但不以此為限)的過程中，由於內部尚未達成平衡狀態，一定程度上會有晃動現象，而在本創作的較佳實施例中，通過三個避震模組8的設置，對於機台的穩地起到了重要的作用，使得轉速可以隨著電流拉高逐漸提升，穩定地達到平衡的狀態。

接下來，請參閱圖5所示，在反應液分離純化裝置M運作一段時間後，動力模組5的轉速達到目標工作轉速(例如2100RPM，但不以此為限)，並穩定地運轉。然而，剛達到目標工作轉速時，大部分的油墨可能仍混合於液體L中，沒有明顯的固體析出，而在內槽體3被驅動單元51帶動並相對外槽體2持續旋轉下，液體L則會貼靠並累積在內槽體3的內壁面上，且隨著進液量而越積越厚，在持續添加液體L的過程中，過多的液體L會從液體導出模組6被排出。在本實施例中，液體導出模組6可以是一般俗稱的刮水刀或這具備相同或類似功效的任何流體導引機構。

最終，請參閱圖6所示，液體L導入內槽容室33轉動一段時間後，固體油墨漸漸累積在內槽體3的底部，並逐漸形成沉澱物P(pellet)。藉此，在離心的過程中，逐步使液體L中的固體析出並與液體L分離，進而達到純化的效果。

接下來，請參閱圖7以及圖8所示，圖7為本創作較佳實施例其 中一角度的槽體結構立體分解示意圖；圖8為本創作較佳實施例另外一角度的槽體結構立體分解示意圖。由上述圖中可知，本創作的內槽體3設置於外槽容室21中，其包括主體部件31以及內套筒32，主體部件31的內部空間形成內槽容室33，且前文述及的內槽柱311凸設於主體部件31底面的中心部。內套筒32可拆卸地套設在主體部件31的內部，且內套筒32自主體部件31的上部沿著主體部件31的內壁向下延伸至內槽容室33底部。更具體地說，在本實施例中，內套筒32進一步包括頂板321以及延伸部322，其中，頂板321抵靠(工作狀態下可相互鎖固)於主體部件31上方開口的周緣，延伸部322則是自頂板321的底面向下延伸至內槽容室33的底部。

值得一提的是，在本創作的較佳實施例中，主體部件31底面還開設有多個通孔312，在本實施例中，各該通孔312為外徑12mm的圓孔，但本創作的通孔312形狀或尺寸並不以此為限。通過在主體部件31底面開設該等通孔312，可以在反應液分離純化裝置M停機時，讓內槽容室33中的液體L排出，以便進行維修保養。

接下來，請一併參閱圖8以及圖9所示，圖9為圖6標示IX處的液體導出模組6的局部放大示意圖。如同先前所述，液體導出模組6設置在槽蓋22上，且液體導出模組6的一端伸入至內槽體3中。在本實施例中，液體導出模組6為一般俗稱的刮水刀，其延伸至內槽容室33的一端形成一導引開口，導引開口與液體L在內槽容室33中轉動的方向相切，因此，在內槽體3被驅動單元51帶動並相對外槽體2持續旋轉下，高速旋轉的液體L可以順著導引開口進入液體導出模組6的管路之內，並且被排出。值得特別一提的是，在本創作的較佳實施例中，內槽容室33中液體L的量是通過調整導引開口與內槽體3的內壁之間的距離D進行控制的。具體地說，當導引開口與內槽體3的內壁之間的距離D越小，則僅需在內槽體3中累積少量的液體L，便會使液面超過液體導出模組6的導引開口，而使多餘的液體L被排出；反之，倘若導引開口與內槽體3的內壁之間的距離D越大，則內 槽體3中必須累積更大量的液體L，超過的部分才會經由液體導出模組6的導引開口被排出。因此，無論是基於配重的考量，或有任何需要調整內槽容室33中的液體L量的情形，則僅需調整導引開口與內槽體3的內壁之間的距離D，即可簡便地進行調控。由於可以控制液體L的量在適當的範圍內，因此可以避免在超高速離心之下，由於承載過重的液體而對槽體內壁造成過大的負擔，藉此，可降低槽體變形的風險。

接下來，請參閱圖10以及圖11所示，圖10為圖6標示X處的內套筒32套設於主體部件31時的內槽容室33底部局部放大示意圖；圖11為圖10的內套筒32自主體部件31抽離時的內槽容室33底部局部放大示意圖。有別於現有的其他離心槽，本創作的內套筒32是可拆卸地套設在主體部件31的內部，且內套筒32自主體部件31的上部沿著主體部件31的內壁向下延伸至內槽容室33底部。因此，當內槽體3被驅動單元51帶動而相對外槽體2持續旋轉，固體油墨漸漸累積在內槽體3的底部並形成沉澱物P。此時，僅需將在內套筒32自主體部件31卸下，即可使沉積物P與主體部件31的內壁間產生縫隙(如圖11所示)，輕易地破壞沉澱物P與槽體內壁的附著關係，在這之後，只要持硬物伸入縫隙中，即可輕鬆地將累積於底部的沉澱物P去除，大大節省了維修、養護反應液分離純化裝置M所要花費的時間以及人力成本。

值得一提的是，在本創作的較佳實施例中，主體部件31的內壁與內套筒32的外壁之間可以預留一些間隙，舉例而言，可以在兩者間預留3mm的間隙(亦即，主體部件31的內圈直徑與內套筒32的外圈直徑相差6mm)。在前述配置之下，在將在內套筒32自主體部件31卸下的過程中，有利於作業的進行，也更便利後續清除沉澱物P的作業進行。

[實施例的有益效果]

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的反應液分離純化裝置M，其能通過“液體導入模組4用以將液體L導入內槽容室33”、“動力模組5帶動內槽體3以及內槽容室33中的液體L旋轉”、“內槽體3包括主體部件31以及內套筒32”以及“內套筒32可拆卸地套設在主體部件31的內部”等技術特徵所組成的技術方案，以使反應液中的固體因為離心力的作用而沉積於內槽容室33底部，且只需要將內套筒32自主體部件31卸下，即可使沉積物P與主體部件31的內壁間產生縫隙，而能夠輕易地去除硬化沉積於主體部件31底部的沉積物P，大幅降低維修、養護反應液分離純化裝置M所要花費的時間以及人力成本。此外，當藥液溶劑中較大的固體在內槽體3中被充分分離，則針對後續的上清液進行過濾時，就只需要濾除非常細小而不能通過離心分離的油墨固體，因此，能夠有效延長濾芯的使用壽命，這也有效降低了回收使用藥液溶劑所需的成本。據此，本創作所提供的反應液分離純化裝置M能在整體上大幅節省所需花費的成本。

更進一步來說，本創作所提供的反應液分離純化裝置M，還能通過物理消泡模組9對藥液溶劑進行消泡，而能夠避免因為添加過多的化學消泡劑影響到藥液溶劑的性質。據此，能有利回收品質穩定的藥液溶劑。

此外，本創作所提供的反應液分離純化裝置M，還能通過“該外罩殼體7包覆該外槽體2以及該動力模組5”的技術特徵所組成的技術方案，提升反應液分離純化裝置M在使用上的安全性。在本創作的較佳實施例中，甚至可以進一步於槽蓋22上設置感應模組，藉以在檢測到槽蓋22被開啟時，或是偵測到反應液分離純化裝置M的機體晃動過於劇烈的情況下，強制切斷動力模組5的工作電路。通過前述感應模組的配置方式，除了能夠更進一步提高機台使用上的安全性，也能夠避免機器損壞，大幅降低養護以及維修的成本。

以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例，並非因此侷限 本創作的申請專利範圍，所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本創作的申請專利範圍內。

Claims (10)

1. 一種反應液分離純化裝置，其包括：一座體；一外槽體，其設置於該座體上，該外槽體的內部空間形成一外槽容室；一內槽體，其設置於該外槽容室中，該內槽體包括一主體部件以及一內套筒，該主體部件的內部空間形成一內槽容室，該內套筒可拆卸地套設在該主體部件的內部，且該內套筒自該主體部件的上部沿著該主體部件的內壁向下延伸至該內槽容室底部；一液體導入模組，其用以將液體導入該內槽容室；一動力模組，其設置於該座體且與該內槽體連接，以帶動該內槽體以及該內槽容室中的液體旋轉；以及一液體導出模組，其用以將液體導出該內槽容室。
2. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該反應液分離純化裝置還包括一外罩殼體，該外罩殼體、該外槽體以及該動力模組設置於該座體的同側，且該外罩殼體包覆該外槽體以及該動力模組。
3. 如請求項2所述的反應液分離純化裝置，其中，該動力模組進一步包括：一驅動單元，其設置於該外槽體的一側；一傳動系統，其與該驅動單元連接；以及一從動軸，其穿過該外槽體與該內槽體連接，該從動軸通過該傳動系統被該驅動單元帶動旋轉。
4. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該內套筒進一步包括一頂板以及一延伸部，該頂板抵靠於該主體部件上方開 口的周緣，該延伸部自該頂板的底面向下延伸。
5. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該內槽體還包括一內槽柱，其凸設於該主體部件底面的中心部，且該內槽柱的外壁形成一傾斜面。
6. 如請求項5所述的反應液分離純化裝置，其中，該液體導入模組進一步包括一導管以及一罩體，該導管的一端連接至一反應液供應端，該罩體設置於該導管的另一端，且設置在該內槽容室內正對該內槽柱的位置。
7. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該反應液分離純化裝置還包括多個避震模組，該外槽體通過該等避震模組與該座體連接。
8. 如請求項7所述的反應液分離純化裝置，其中，該反應液分離純化裝置還包括多個遮蔽罩，各該遮蔽罩分別設置於各該避震模組的外側。
9. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該液體導出模組延伸至該內槽容室的一端形成一導引開口，該導引開口與液體在該內槽容室中轉動的方向相切，其中，該內槽容室中的液體量是通過調整該導引開口與該內槽體的內壁之間的距離進行控制。
10. 如請求項1所述的反應液分離純化裝置，其中，該反應液分離純化裝置還包括一物理消泡模組，其與該液體導出模組相連接，以接收該液體導出模組自該內槽容室導出的液體。