TWM541270U - 烤盤結構 - Google Patents

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TWM541270U
TWM541270U TW105205771U TW105205771U TWM541270U TW M541270 U TWM541270 U TW M541270U TW 105205771 U TW105205771 U TW 105205771U TW 105205771 U TW105205771 U TW 105205771U TW M541270 U TWM541270 U TW M541270U
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Taiwan
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heat
baking tray
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baking
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TW105205771U
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Ming-Yuan Wu
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Ming-Yuan Wu
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  • Baking, Grill, Roasting (AREA)

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烤盤結構
本新型係關於一種烤盤結構;特別關於一種適於應用在烤箱之烤盤結構,特別是一種可省卻翻面烹調且易於清理的烤盤結構,適合使用於各式食物的烘烤烹調。
一般食物在烘烤時,若放置於平面烤盤上通常會產生上下兩面受熱不均的情況,由於平面烤盤沒有開孔無法讓熱能穿透,所以貼附烤盤面不是熟度不佳就是過度加熱產生焦黑,同時食物在加熱過程中所產生的油脂會滯留在烤盤內,長時間加熱後容易變質並影響食物,使用上並不方便,而且若是一次烘烤多樣食物時,油脂會汙染到其他不同的食物,既不衛生也影響食物風味。
如果烘烤時使用網格架來承托食物,雖然可使受熱較為均勻,但食物油脂會滴落到烘烤裝置中,容易產生危險且清潔也不方便,所以並不完全理想,而且在受熱不均勻的情況下,或許必須延長烘烤時間,或是將食物反覆翻面,浪費資源也不便利。
按坊間用於烘焙之烤盤,多為凹陷狀封閉式平面結構,當底部加熱管或熱源產生加熱溫度時,該些熱能或蒸汽無法直接穿透烤盤,導致熱效率降低,需要相當的時間才能完成烘焙,現代為分秒必爭的世代,瓦斯或電能等燃料費用不斷調漲,若無法有效提升烘焙之熱效率與縮短時間,勢必無法維持成本,商品競爭力將大打折扣,因此若能將烤盤 結構加以改良,實為一具有產業利用性之技術課題。
有鑒於習知技術的缺失之處,本新型提出一種烤盤結構,其目的在於使烤盤上的食物於烤箱內能均勻的受熱;本新型烤盤結構,其具有一熱穿透層結合至少一個承物架所組成,其中熱穿透層具有開口可將下方熱源引導向上直接烘烤食物,可使食物於烘烤時能均勻受熱,省卻將食物反覆翻面的程序,熱穿透層上更設置有容置槽,其另一目的在於可承接食物烘烤時滴下的油脂,進而可保持烤箱內的清潔。
10‧‧‧熱穿透層
11‧‧‧開口
12‧‧‧容置槽
13‧‧‧把手
14‧‧‧承托點
15‧‧‧凸件
20‧‧‧第一承物架
21‧‧‧斜導面
22‧‧‧承物架把手
30‧‧‧第二承物架
40‧‧‧烤箱
41‧‧‧卡架
42‧‧‧烤網
第1A圖係本新型烤盤結構第一實施例立體示意(1)圖。
第1B圖係本新型烤盤結構第一實施例分解示意(1)圖。
第2圖係本新型烤盤結構第一實施例剖面示意圖。
第3圖係本新型烤盤結構第二實施例剖面示意圖。
第4圖係本新型烤盤結構第三實施例剖面示意圖。
第5A圖係本新型烤盤結構第一實施例立體示意(2)圖。
第5B圖係本新型烤盤結構第一實施例分解示意(2)圖。
第6A圖係本新型烤盤結構使用示意(1)圖。
第6B圖係本新型烤盤結構使用示意(2)圖。
為求改善傳統的烤盤結構,本新型提出一種烤盤結構,請先參照第1A圖,係本新型烤盤結構第一實施例立體示意(1)圖。
本新型之烤盤結構,用以承托一物品加以烘烤,此烤盤結構更包含有熱穿透層10及第一承托架20,熱穿透層 10上適當位置設置有把手13及凸件15,內部則更設置有至少一開口11供熱源穿透對流,且熱穿透層10更設置有至少一容置槽12,容置槽12用於承接物品烘烤時滴落的油脂;第一承物架20搭設於熱穿透層10的上層,其適當位置亦設置有承物架把手22,第一承物架20用來承托被烘烤的物品,第一承物架20上更對應容置槽12設置有斜導面21,來引導油脂滴落於容置槽,其結構分解的態樣請參照第1B圖,係本新型烤盤結構第一實施例分解示意(1)圖。
接下來請繼續參照第2圖係本新型之烤盤結構第一實施例剖面示意圖。
圖中可看出本新型烤盤結構至少包含有熱穿透層10及第一承托架20相結合而成;當物品置於第一承托架20上時,上方的熱源可直接對物品加熱,而底下的熱源則可透過開口11向上,對物品的下方來做加熱,而物品烘烤時滴落的油脂則可透過斜導面21的引導,落入斜導面下方的容置槽12之中。
在不違反同一創作精神之下,本新型更可有以下實施的變化,請繼續參照第3圖,係本新型烤盤結構第二實施例剖面示意圖;圖中可以看出此實施例仍包含有熱穿透層10及第一承托架20,熱穿透層10內部則更設置有至少一開口11供熱源穿透對流,且熱穿透層10更設置有至少一容置槽12,容置槽12底部為方形結構易於平放,且可承接物品烘烤時滴落的油脂;第一承物架20搭設於熱穿透層10的上層,其適當位置亦設置有承物架把手,第一承物架20用來承托被烘烤的物品,第一承物架20上更對應容置槽12設置有錐型的斜導面21,同樣可以用來引導油脂滴落於容置槽。
除了前述的實施變化,本新型更可有另一的實施型態,請繼續參照第4圖,為本新型烤盤結構第三實施例剖面示意圖;圖中可以看出此實施例為一體化的結構,其中包 含有熱穿透層10,熱穿透層10內部更設置有至少一開口11供熱源穿透對流,且熱穿透層10更設置有至少一容置槽12,容置槽12用以承接物品烘烤時滴落的油脂;而熱穿透層10的頂緣設置有承托點14,此承托點14用來承托被烘烤的物品,承物點14延伸設置有斜導面21來對應容置槽12,並與容置槽12合為一體,可以用來引導油脂滴落於容置槽12。
請繼續參照第5A圖,係烤盤結構第一實施例立體示意(2)圖,此一實施例的結構同於第1圖,包含有熱穿透層10及第一承托架20,熱穿透層10上適當位置設置有把手13及凸件15,內部則更設置有至少一開口11及容置槽12,第一承物架20設置有斜導面21及承物架把手22,但第一承物架20上更可堆疊設置第二承物架30,圖中可看出第二承物架30為一細網格之烤架,可用於烘烤更小型的食材,其結構分解的態樣請參照第5B圖,係本新型烤盤結構第一實施例分解示意(1)圖。
最後請繼續參照第6A圖,係烤盤結構使用示意(1)圖;此圖面顯示出當烤盤置入烤箱40使用時,可直接利用熱穿透層10側緣的凸件15,來嵌合入烤箱40內壁的卡架41之中,將食物置於第一承物架20上即可正常使用,但若熱穿透層10的尺寸無法與烤箱40對應,使凸件15無法與烤箱40內壁的卡架41結合固定時,則可直接將烤盤結構置放於烤箱40內部的烤網42之上來使用,可具有同樣良好的烘烤效果,前述架構請參照第6B圖,係烤盤結構使用示意(2)圖。
藉由前述的烤盤結構,可以讓熱源能穿透烤盤來加熱食物使烘烤的過程能受熱均勻,同時可讓油脂與食物能完全分離,如此可以滿足使用者同時烘烤不同食物,不會互相的影響;而透過熱對流的烘烤則可免去食物翻面的麻煩,不需在爐邊等待並處理,增添烹調的便利性;除了前述的特點,容置槽更可作為放置薰香料槽,可以同步在烘烤的過程 裡,達成為食物增加特殊氣味的薰製過程;雖然本新型以前述之較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本創作,例如開口的數量或是斜導面的型態,又或是烤盤結構的材質,只要本新型之組件結構在不違反同一創作精神下並不以實施例為限,只要在不脫離本新型之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧熱穿透層
13‧‧‧把手
15‧‧‧凸件
20‧‧‧第一承物架
21‧‧‧斜導面
22‧‧‧承物架把手

Claims (10)

  1. 一種烤盤結構,用以承托一物品加以烘烤,該烤盤結構更包含有:一熱穿透層,該熱穿透層更設置有至少一開口供熱源穿透對流,且該熱穿透層更設置有至少一容置槽,該容置槽用以承接該物品烘烤時滴落的油脂;及一第一承物架,該第一承物架設置於該熱穿透層之上,該第一承物架用以承托該物品。
  2. 根據申請專利範圍第1項之烤盤結構,其中該第一承物架上更對應該容置槽設置有至少一個斜導面,該斜導面更用以引導該物品烘烤時滴落的油脂至該容置槽。
  3. 根據申請專利範圍第1項之烤盤結構,其中該熱穿透層側緣更設置有至少一個把手。
  4. 根據申請專利範圍第1項之烤盤結構,其中該熱穿透層側緣更設置有至少一個凸件。
  5. 根據申請專利範圍第1項之烤盤結構,其中該第一承物架之上更可設置有第二承物架。
  6. 一種烤盤結構,用以承托一物品加以烘烤,該烤盤結構更包含有一熱穿透層,該熱穿透層更設置有至少一開口供熱源穿透對流,且該熱穿透層底緣更設置有至少一容置槽,該容置槽用以承接該物品烘烤時滴落的油脂;而該熱穿透層頂緣則設置有承托點,該承托點用以承托該物品。
  7. 根據申請專利範圍第6項之烤盤結構,其中該承托點上更對應該容置槽延伸設置有一斜導面,該斜導面更用以引導該物品烘烤時滴落的油脂至該容置槽。
  8. 根據申請專利範圍第6項之烤盤結構,其中該熱穿透層側緣更設置有至少一個把手。
  9. 根據申請專利範圍第6項之烤盤結構,其中該熱穿透層側緣更設置有至少一個凸件。
  10. 根據申請專利範圍第6項之烤盤結構,其中該承托點之上更可設置有第二承物架。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111657752A (zh) * 2019-03-06 2020-09-15 爱烙达股份有限公司 烤肉炉及其烤盘

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